JPH0934110A - Photopolymerizable composition, method for generating radical, photosensitive material for producing planographic printing plate, and production of planographic printing plate using the same - Google Patents

Photopolymerizable composition, method for generating radical, photosensitive material for producing planographic printing plate, and production of planographic printing plate using the same

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JPH0934110A
JPH0934110A JP7180086A JP18008695A JPH0934110A JP H0934110 A JPH0934110 A JP H0934110A JP 7180086 A JP7180086 A JP 7180086A JP 18008695 A JP18008695 A JP 18008695A JP H0934110 A JPH0934110 A JP H0934110A
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printing plate
photosensitive material
lithographic printing
photopolymerizable composition
resin
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Noritaka Nakayama
憲卓 中山
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Konica Minolta Inc
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photopolymerizable compsn. having satisfactory preservability, capable of writing with IR and capable of forming an image having satisfactory resolution and sensitivity, to provide a method for generating radicals with IR highly sensitively, to obtain a photosensitive material having high photosensitivity in a near IR region as the oscillation wavelength region of semiconductor laser and excellent in shelf stability and to produce a planographic printing plate using the photosensitive material. SOLUTION: This photopolymerizable compsn. contains a polymerizable compd., at least one of onium salts represented by general formulae I-IV, a photothermic conversion element and a radical generating agent on a substrate. In the formulae I-IV, each of R1 -R4 and R10 -R13 is alkyl, aryl or aralkyl, R1 -R4 may bond to one another to form a ring, R10 -R13 may bond to one another to form a ring, each of R5 -R7 is alkyl or aryl, R5 -R7 may bond to one another to form a ring, each of R8 and R9 is aryl and X<-> is a counter anion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規なラジカル発生剤
を用いた光重合性組成物及びラジカル発生方法に関し、
更に詳しくは、オニウム塩(ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩)、光熱変換
素子及びラジカル発生剤を利用した光重合性組成物、ラ
ジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを
用いた平版印刷版の作成方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a photopolymerizable composition and a radical generating method using a novel radical generator,
More specifically, a photopolymerizable composition utilizing an onium salt (phosphonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, ammonium salt), a photothermal conversion element and a radical generator, a radical generating method, a photosensitive material for preparing a lithographic printing plate, and the same. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate used.

【0002】[0002]

【従来の技術】重合性化合物、光重合開始剤、着色剤及
び必要に応じて有機高分子バインダーから成る光重合性
組成物を用いる画像形成媒体は、カラープルーフ等の着
色画像の作成用として、例えば特開昭61−18853
7号、同61−286858号に開示されている。これ
らは一般に、感光性層を画像様に露光した後、未露光部
を液体で溶出して露光部より成る画像を形成するもので
あり、光重合開始剤は色素と組み合わせることにより紫
外から可視の分光感度を有する。
2. Description of the Related Art An image forming medium using a photopolymerizable composition comprising a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a colorant and, if necessary, an organic polymer binder is used for producing a colored image such as a color proof. For example, JP-A-61-18853
No. 7, 61-286858. These are generally those in which the photosensitive layer is imagewise exposed and then the unexposed area is eluted with a liquid to form an image consisting of the exposed area. Has spectral sensitivity.

【0003】又、特開平3−111402号、同4−1
46905号、同4−362935号には、近赤外染料
と硼素塩の組合せによる光重合開始剤が知られている。
これらの組合せでは、感度は高いものの感度の経時変動
が大きく、保存安定性に問題がある。
Further, JP-A-3-111402 and 4-1.
46905 and 4-362935 disclose photopolymerization initiators comprising a combination of a near infrared dye and a boron salt.
With these combinations, although the sensitivity is high, there is a large change in sensitivity over time, and there is a problem with storage stability.

【0004】更に、特公昭43−19161号には、ビ
スイミダゾールに紫外線を照射してラジカルを発生さ
せ、ロイコ色素を発色させた後、可視光線により画像を
定着させる方式が開示されている。この方法に示された
ように、ビスイミダゾールは一般に紫外線により開裂し
てラジカルを発生することが知られているが、単に赤外
色素と組み合わせただけではラジカルを発生しない。
Further, Japanese Patent Publication No. 43-19161 discloses a method in which bisimidazole is irradiated with ultraviolet rays to generate radicals to develop a leuco dye, and then an image is fixed with visible light. As shown in this method, bisimidazole is generally known to be cleaved by ultraviolet rays to generate a radical, but a radical is not generated simply by combining with an infrared dye.

【0005】別の形態として、オニウム塩の光又は熱分
解によるラジカルを用いて画像を得ようとする方法も報
告されている。例えばBull.Chem.Soc.J
apan(ブルティン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエテ
ィ・オブ・ジャパン)43,567(1970)には、
オニウム塩の熱分解で生成するラジカルを用いてモノマ
ーを重合することにより画像を得る方法が開示されてい
るが、光熱変換材料(本発明で言う光熱変換素子)と組
み合わせて用いた記載はない。
As another form, there has been reported a method of obtaining an image by using radicals generated by photolysis or thermal decomposition of an onium salt. For example, Bull. Chem. Soc. J
apan (Burtin of the Chemical Society of Japan) 43,567 (1970)
Although a method of obtaining an image by polymerizing a monomer using a radical generated by thermal decomposition of an onium salt is disclosed, there is no description of using it in combination with a photothermal conversion material (photothermal conversion element in the present invention).

【0006】又、光重合系を利用した感光性平版印刷版
材料、及びそれを利用する平版印刷版の作成方法は多数
知られている。
A large number of photosensitive lithographic printing plate materials using a photopolymerization system and methods of preparing lithographic printing plates using the same are known.

【0007】従来、これらの平版印刷版形成方法に利用
される光重合性組成物の光重合開始剤としては、ベンゾ
フェノン、チオキサントン、キノン、チオアクリドン等
の芳香族ケトン類、ベンゾイン、ベンジル、ベンジルケ
タール等が用いられている。これらの光重合開始剤は、
その感光波長が紫外線領域にあるため、マスク材料を密
着し、水銀灯などの紫外光源で露光した後、未露光部を
溶出現像するものである。
Conventionally, as the photopolymerization initiator of the photopolymerizable composition used in these lithographic printing plate forming methods, aromatic ketones such as benzophenone, thioxanthone, quinone and thioacridone, benzoin, benzyl, benzyl ketal, etc. Is used. These photopolymerization initiators,
Since the photosensitive wavelength is in the ultraviolet region, the mask material is brought into close contact with it, exposed to an ultraviolet light source such as a mercury lamp, and then the unexposed portion is eluted and developed.

【0008】近年、画像処理、光源、画像形成技術の進
歩に伴い、従来よりも長波の光に感度を有する感光材料
が要望されている。1例を挙げると、通信回線により伝
送される画像信号、電子製版システムや画像処理システ
ムからの出力信号で、光源を変調し、感光材料に直接走
査露光をして、印刷版を形成する所謂ダイレクト製版シ
ステムである。この時の光源としてはレーザーが適して
いる。特に、小型で低コストの、半導体レーザーの走査
露光を用い、高解像度で印刷版を直接形成できる感光性
平版印刷版材料の開発が望まれていた。
With the recent advances in image processing, light sources, and image forming techniques, there has been a demand for a photosensitive material that is more sensitive to long-wave light than before. For example, a so-called direct for forming a printing plate by modulating a light source and directly scanning and exposing a light-sensitive material with an image signal transmitted through a communication line and an output signal from an electronic plate making system or an image processing system. It is a plate making system. A laser is suitable as a light source at this time. In particular, there has been a demand for the development of a photosensitive lithographic printing plate material that is small in size and low in cost and can directly form a printing plate with high resolution by using scanning exposure of a semiconductor laser.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の問
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第1の目的は、赤外光で書込ができ、解像度、感度の良
好な画像を形成できる光重合性組成物を提供することに
ある。第2の目的は、保存性の良好な光重合性組成物の
提供にある。第3の目的は、赤外光により高感度にラジ
カルを発生するラジカル発生方法の提供にある。第4の
目的は、半導体レーザーの発振波長域である近赤外線領
域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印
刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成
方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the prior art. That is, a first object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition capable of writing with infrared light and forming an image with good resolution and sensitivity. The second purpose is to provide a photopolymerizable composition having good storage stability. A third object is to provide a radical generating method for generating radicals with high sensitivity by infrared light. A fourth object is a photosensitive material for preparing a lithographic printing plate having high photosensitivity in the near infrared region which is an oscillation wavelength region of a semiconductor laser and excellent in storage stability, and a method for preparing a lithographic printing plate using the same. To provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、光熱変換素子、オニウム塩及びラジカル発生剤の
組合せにより、高感度でラジカル発生が可能であるとい
う予期せざる結果を見い出し本発明を完成するに至っ
た。
Means for Solving the Problems As a result of earnest studies, the present inventors have found that the combination of a photothermal conversion element, an onium salt and a radical generator enables radical generation with high sensitivity, and an unexpected result. The invention was completed.

【0011】即ち、本発明の上記目的は下記の構成によ
って達成される。
That is, the above object of the present invention is achieved by the following constitution.

【0012】(1)支持体上に、重合性化合物、下記一
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する光重合性組成物。
(1) On a support, a polymerizable compound, at least one of onium salts represented by the following general formulas (I), (II), (III) or (IV), a photothermal conversion element and radical generation A photopolymerizable composition containing an agent.

【0013】[0013]

【化2】 Embedded image

【0014】式中、R1〜R4及びR10〜R13は各々、ア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、 R1
4及びR10〜R13が各々、互いに結合して環を形成し
てもよい。R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はア
リール基を表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成し
てもよい。R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-
は対アニオンを表す。
In the formula, R 1 to R 4 and R 10 to R 13 each represent an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and R 1 to R 4
R 4 and R 10 to R 13 may combine with each other to form a ring. R 5 , R 6 and R 7 each represent an alkyl group or an aryl group, and R 5 to R 7 may combine with each other to form a ring. R 8 and R 9 each represent an aryl group, and X
Represents a counter anion.

【0015】(2)ラジカル発生剤がビスイミダゾール
誘導体である(1)に記載の光重合性組成物。
(2) The photopolymerizable composition according to (1), wherein the radical generator is a bisimidazole derivative.

【0016】(3)前記オニウム塩のX-で表される対
アニオンがハロゲンイオンである(1)に記載の光重合
性組成物。
(3) The photopolymerizable composition according to (1), wherein the counter anion represented by X of the onium salt is a halogen ion.

【0017】(4)ハロゲンイオンが塩素イオン又は臭
素イオンである(3)に記載の画像形成材料。
(4) The image-forming material as described in (3), wherein the halogen ion is chlorine ion or bromine ion.

【0018】(5)(2)に記載の光重合性組成物を赤
外光で露光するラジカル発生方法。
(5) A radical generating method in which the photopolymerizable composition according to (2) is exposed to infrared light.

【0019】(6)親水性支持体上に、少なくとも感光
層及び保護層をこの順に設けて成る平版印刷版作成用感
光材料において、前記感光層がエチレン性不飽和結合を
少なくとも一つ有する化合物、バインダー成分、前記一
般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオ
ニウム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル
発生剤を含有する平版印刷版作成用感光材料。
(6) A photosensitive material for preparing a lithographic printing plate comprising at least a photosensitive layer and a protective layer provided in this order on a hydrophilic support, wherein the photosensitive layer has at least one ethylenically unsaturated bond, A photosensitive material for preparing a lithographic printing plate comprising a binder component, at least one of the onium salts represented by the general formula (I), (II), (III) or (IV), a photothermal conversion element and a radical generator.

【0020】(7)(6)に記載の平版印刷版作成用感
光材料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感
光材料の感光層に半導体レーザーで像様に走査露光を行
った後、保護層及び感光層の未露光部を溶出除去する平
版印刷版の作成方法。
(7) In the method for preparing a lithographic printing plate using the photographic material for preparing a lithographic printing plate according to (6), the photosensitive layer of the photosensitive material is imagewise scanned and exposed with a semiconductor laser and then protected. A method for preparing a lithographic printing plate, which comprises eluting and removing the unexposed areas of the layer and the photosensitive layer.

【0021】以下、本発明をより具体的に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0022】まず、一般式(I)で表されるホスホニウ
ム塩化合物(以下、本発明のホスホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
First, the phosphonium salt compound represented by the general formula (I) (hereinafter referred to as the phosphonium salt of the present invention) will be described in detail.

【0023】R1〜R4で表される置換基の具体例として
は以下の如くである。
Specific examples of the substituents represented by R 1 to R 4 are as follows.

【0024】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチ
ル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられ
る。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好
ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基
は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル
基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、
シクロヘキシル基等)が好ましい。
The alkyl group includes linear and branched alkyl groups, and examples thereof include methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl and stearyl groups. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable from the viewpoint of color density, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may combine with each other to form a ring, and the cycloalkyl group has a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl,
A cyclohexyl group) is preferred.

【0025】アリール基としてはフェニル、ナフチル基
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.

【0026】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基としてハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アル
キル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アル
キル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイ
ル基、−COOR基、−OCOR基(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
These groups may be further substituted,
As a substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an amino group (including an alkyl-substituted amino group), an alkoxy group, a carbamoyl group, a -COOR group, a -OCOR group (R is an alkyl group. ,
Organic groups such as aryl groups).

【0027】X-で表される対アニオンとしては、1価
のアニオンであれば特に制約されないが、好ましくはハ
ロゲンイオンであり、更に塩素及び臭素アニオンが発色
濃度の点で望ましい。対アニオンの具体例としては、ブ
ロマイド、クロライド、アイオダイド、フルオライド、
パークロレート、ベンゾエート、チオシアナート、アセ
テート、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロホス
フェート、ナイトレート、サリシネート等が挙げられ
る。
[0027] X - include counter anion represented by, but not particularly limited as long as it is a monovalent anion, preferably a halogen ion, further chlorine and bromine anion is preferable in terms of color density. Specific examples of the counter anion include bromide, chloride, iodide, fluoride,
Examples thereof include perchlorate, benzoate, thiocyanate, acetate, trifluoroacetate, hexafluorophosphate, nitrate and salicinate.

【0028】次に、一般式(II)で表されるスルホニウ
ム塩化合物(以下、本発明のスルホニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
Next, the sulfonium salt compound represented by the general formula (II) (hereinafter referred to as the sulfonium salt of the present invention) will be described in detail.

【0029】R5〜R7で表される置換基の具体例として
は以下の如くである。
Specific examples of the substituents represented by R 5 to R 7 are as follows.

【0030】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、メチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃
度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特
にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結
合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては
5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル基等)が好ましい。
The alkyl group includes straight chain and branched alkyl groups, and examples thereof include methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl and stearyl groups. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable from the viewpoint of color density, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may combine with each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (eg, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

【0031】アリール基としてはフェニル、ナフチル等
が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl.

【0032】R5〜R7が互いに結合してS+と共に形成
する環としては、ベンゾチアチオピリリウム環などが挙
げられる。
Examples of the ring formed by R 5 to R 7 together with S + include a benzothiathiopyrylium ring.

【0033】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の
基が挙げられる。
These groups may be further substituted,
Examples of the substituent include the same groups as those described in the general formula (I).

【0034】X-で表される対アニオンは、一般式
(I)のX-と同義である。
[0034] X - counter anion represented by the general formula (I) X - as synonymous.

【0035】更に、一般式(III)で表されるヨードニ
ウム塩化合物(以下、本発明のヨードニウム塩と記す)
について詳述する。
Further, the iodonium salt compound represented by the general formula (III) (hereinafter referred to as the iodonium salt of the present invention)
Will be described in detail.

【0036】R8及びR9で表されるアリール基としては
フェニル、ナフチル基等が挙げられるが、これらの基は
更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般
式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。
Examples of the aryl group represented by R 8 and R 9 include a phenyl group and a naphthyl group. These groups may be further substituted, and the substituent is represented by the above formula (I). The same groups as those mentioned above can be mentioned.

【0037】X-で表される対アニオンは、一般式
(I)のX-と同義である。
[0037] X - counter anion represented by the general formula (I) X - as synonymous.

【0038】次に、一般式(IV)で表されるアンモニウ
ム塩化合物(以下、本発明のアンモニウム塩と記す)に
ついて詳述する。
Next, the ammonium salt compound represented by the general formula (IV) (hereinafter referred to as the ammonium salt of the present invention) will be described in detail.

【0039】R10〜R13で表される置換基の具体例とし
ては以下の如くである。
Specific examples of the substituents represented by R 10 to R 13 are as follows.

【0040】アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基
が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i-ブチル、
ヘキシル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。発色
濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、
特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに
結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基として
は5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘ
キシル基等)が好ましい。
Alkyl groups include straight chain and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, butyl, i-butyl,
Hexyl, octyl, stearyl and the like can be mentioned. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable,
A butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may combine with each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (eg, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

【0041】アリール基としてはフェニル、ナフチル基
等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネ
チル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.

【0042】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(ア
ルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモ
イル基、−COOR基、−OCOR(Rはアルキル基、
アリール基等の有機基)が挙げられる。
These groups may be further substituted,
As the substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an amino group (including an alkyl-substituted amino group), an alkoxy group, a carbamoyl group, a -COOR group, a -OCOR (R is an alkyl group. ,
Organic groups such as aryl groups).

【0043】以下に、本発明のオニウム塩の代表的具体
例を挙げるが、これらに限定されない。
Typical representative examples of the onium salt of the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0044】[0044]

【化3】 Embedded image

【0045】[0045]

【化4】 Embedded image

【0046】[0046]

【化5】 Embedded image

【0047】[0047]

【化6】 [Chemical 6]

【0048】[0048]

【化7】 [Chemical 7]

【0049】[0049]

【化8】 Embedded image

【0050】本発明のオニウム塩の添加量は、オニウム
塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料1
2当たり0.2〜5gが好ましい。
The addition amount of the onium salt of the present invention varies depending on the type and usage of the onium salt.
0.2-5g is preferable per m < 2 >.

【0051】次に、光熱変換素子について詳述する。Next, the photothermal conversion element will be described in detail.

【0052】本発明に用いる光熱変換素子は、光を吸収
し効率良く熱に変換する物質であればよく、半導体レー
ザーを光源として使用する場合には、近赤外に吸収を持
つものが好ましい。例えば、カーボンブラックや磁性粉
や黒色染料を初め、赤外染料として、各種シアニン色
素、アントラキノン系、インドアニリン金属錯体系、ア
ズレニウム系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ジ
チオール金属錯体系、キレート系、ナフタロシアニン金
属錯体系、分子間CT系色素等を用いることができる。
これらの色素は勿論、公知の方法によって合成すること
ができるが、下記のような市販品を用いることもでき
る。
The photothermal conversion element used in the present invention may be any substance that absorbs light and efficiently converts it into heat. When a semiconductor laser is used as a light source, one having absorption in the near infrared is preferable. For example, carbon black, magnetic powder, and black dye, as infrared dye, various cyanine dyes, anthraquinone-based, indoaniline metal complex-based, azurenium-based, croconium-based, squarylium-based, dithiol metal complex-based, chelate-based, naphthalocyanine A metal complex type, an intermolecular CT type dye or the like can be used.
These dyes can of course be synthesized by a known method, but the following commercial products can also be used.

【0053】日本化薬:IR750(アントラキノン
系);IR002,IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022,IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2,CY−4,CY−
9,CY−20、三井東圧;KIR103,SIR10
3(フタロシアニン系);KIR101,SIR114
(アントラキノン系);PA1001,PA1005,
PA1006,SIR128(金属錯体系)、大日本イ
ンキ化学;Fastogen blue8120、みど
り化学;MIR−101,1011,1021。
Nippon Kayaku: IR750 (anthraquinone type); IR002, IR003 (aluminum type); I
R820 (polymethine type); IRG022, IRG03
3 (diimmonium type); CY-2, CY-4, CY-
9, CY-20, Mitsui Toatsu; KIR103, SIR10
3 (phthalocyanine); KIR101, SIR114
(Anthraquinone type); PA1001, PA1005
PA1006, SIR128 (metal complex type), Dainippon Ink and Chemicals; Fastogen blue 8120, Midori Kagaku; MIR-101, 1011, 1021.

【0054】以下に好ましく用いられる光熱変換素子の
代表的化合物例を挙げる。
Typical examples of the photothermal conversion element preferably used are shown below.

【0055】[0055]

【化9】 Embedded image

【0056】[0056]

【化10】 Embedded image

【0057】[0057]

【化11】 Embedded image

【0058】[0058]

【化12】 [Chemical 12]

【0059】[0059]

【化13】 Embedded image

【0060】光熱変換素子の添加量は、通常、固形分組
成の2〜80重量%、好ましくは20〜70重量%であ
り、ラジカル開始剤と同層に添加することが好ましい
が、複数の層で構成される場合には別層に添加してもよ
い。
The addition amount of the photothermal conversion element is usually 2 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight based on the solid content composition, and it is preferable to add it to the same layer as the radical initiator, but a plurality of layers may be added. When it is composed of, it may be added to another layer.

【0061】次にラジカル発生剤について説明する。Next, the radical generator will be described.

【0062】本発明の様式に従えば、赤外光によって光
熱変換素子から熱が発生し、熱によって本発明の特徴で
あるオニウム塩とラジカル発生剤の相互作用によりラジ
カルを発生すると考えている。
According to the mode of the present invention, it is considered that heat is generated from the photothermal conversion element by infrared light, and the heat causes a radical by the interaction between the onium salt and the radical generator, which is a feature of the present invention.

【0063】ラジカル発生剤としては、具体的にハロゲ
ン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物などが挙げられるが、好ましくはビ
スイミダゾール誘導体である。具体例を以下に示すが、
これらに限られるものではない。
Specific examples of the radical generator include halides (α-haloacetophenones, trichloromethyltriazines, etc.), azo compounds, aromatic carbonyl compounds (benzoin esters, ketals, acetophenones, o-acyloxyimino). Examples thereof include ketones, acylphosphine oxides, etc.), hexaarylbisimidazole compounds, peroxides, etc., among which bisimidazole derivatives are preferable. A specific example is shown below,
It is not limited to these.

【0064】[0064]

【化14】 Embedded image

【0065】本発明のラジカル発生剤の添加量は、ラジ
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、画像形
成材料1m2当たり0.1〜10gが好ましい。
The addition amount of the radical generator of the present invention varies depending on the type and usage of the radical generator, but is preferably 0.1 to 10 g per 1 m 2 of the image forming material.

【0066】感光層は、オニウム塩、ラジカル発生剤及
び光熱変換素子をバインダーと共に溶剤中に溶解、又は
溶媒中に微粒子状に分散させ調製した感光層塗布液を、
支持体上に塗布し適宜に乾燥して形成する。感光層の厚
さは、乾燥膜厚で5〜100μmが好ましい。
The photosensitive layer is prepared by dissolving an onium salt, a radical generator and a photothermal conversion element in a solvent together with a binder, or dispersing a fine particle in the solvent to prepare a photosensitive layer coating solution.
It is formed by coating on a support and appropriately drying. The thickness of the photosensitive layer is preferably 5 to 100 μm as a dry film thickness.

【0067】支持体としては、紙、合成紙(例えばポリ
プロピレンを主成分とする合成紙)、樹脂のフィルム又
はシ−ト、更には樹脂を2層以上積層してなるプラスチ
ックフィルム又はシート、あるいは各種高分子材料、金
属、セラミックもしくは木材パルプやセルロースパル
プ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等に、樹脂
層を積層したフィルム又はシートなどを挙げることがで
きる。このような樹脂のフィルム又はシ−トを構成する
樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステ
ル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン、芳香族
ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
イミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン酸、フェノ
キシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹
脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、弗素樹脂、シリ
コーン樹脂などが挙げられる。
As the support, paper, synthetic paper (for example, synthetic paper containing polypropylene as a main component), resin film or sheet, plastic film or sheet formed by laminating two or more layers of resin, or various kinds Examples thereof include a film or sheet in which a resin layer is laminated on a paper made of a polymer material, metal, ceramic or wood pulp, cellulose pulp, sulfite pulp, or the like. Examples of the resin constituting the film or sheet of such a resin include acrylic resins such as acrylic acid ester and methacrylic acid ester, polyethylene terephthalate,
Polyester resins such as polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate and polyarylate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polystyrene, polyamides such as nylon and aromatic polyamide Resins, polyether ether ketone, polysulfone, polyether sulfone, polyimide, polyetherimide, polyparabanic acid, phenoxy resin, epoxy resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, fluorine resin, silicone resin, etc. .

【0068】平版印刷版作成用として用いる場合の感光
層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、
プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの
内、好ましいのは、アルミニウム板である。
The support provided with the photosensitive layer when used for preparing a lithographic printing plate includes aluminum, zinc, copper,
Metal plates such as steel, as well as metal plates or paper plated or deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc.
Examples thereof include a plastic film and a glass plate, a resin-coated paper, a paper covered with a metal foil such as aluminum, a plastic film subjected to a hydrophilic treatment, and the like. Of these, an aluminum plate is preferable.

【0069】本発明の支持体としては、砂目立て処理、
陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が
施されたアルミニウム板を用いることがより好ましい。
The support of the present invention includes a graining treatment,
It is more preferable to use an aluminum plate that has been subjected to anodizing treatment and, if necessary, surface treatment such as sealing treatment.

【0070】これらの処理には公知の方法を用いること
ができる。砂目立て処理の方法としては、例えば機械的
方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。機
械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が挙げら
れる。
Known methods can be used for these treatments. Examples of the graining method include a mechanical method and an electrolytic etching method. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a brush polishing method, a polishing method using liquid honing, and a buff polishing method.

【0071】アルミニウム材の組成等に応じて上述の各
種方法を単独あるいは組み合わせて用いることができ
る。好ましいのは、電解エッチングによる方法である。
The above-mentioned various methods can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material. Preferred is a method by electrolytic etching.

【0072】電解エッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸等の酸の単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ又は酸の水溶
液によってデスマット処理を行い、中和して水洗する。
陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、クロム酸、蓚
酸、燐酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶液を用
いアルミニウム板を陽極として電解して行われる。形成
された陽極酸化皮膜量は1〜50mg/dm2が適当で
あり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極
酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶
液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重
量変化測定等から求められる。
The electrolytic etching is carried out in a bath of an acid such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid or a mixture of two or more kinds thereof.
After the graining treatment, if necessary, desmut treatment is performed with an aqueous solution of alkali or acid, neutralization and washing with water.
The anodic oxidation treatment is performed by using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid and the like as an electrolytic solution, and electrolytically using an aluminum plate as an anode. The amount of anodized film formed is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , and preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The amount of the anodic oxide film is obtained, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic acid phosphoric acid solution, dissolving the oxide film, and measuring the weight change of the plate before and after the film is dissolved.

【0073】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪
酸ナトリウム処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体
例として挙げられる。この他に、アルミニウム板支持体
に対して、水溶性高分子化合物や弗化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition to this, the aluminum plate support may be subjected to an undercoating treatment with an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as zircon fluoride.

【0074】支持体の厚さは通常3〜1000μmが好
ましく、8〜300μmがより好ましい。
The thickness of the support is usually 3 to 1000 μm, preferably 8 to 300 μm.

【0075】感光層に用いられるバインダー樹脂として
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許4,072,52
7号に記載されており、より好ましくは特開昭54−9
8613号に記載されている如き芳香族性水酸基を有す
る単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、o−、m−又はp−ヒドロキシスチレン、o
−、m−又はp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等
と他の単量体との共重合物、米国特許4,123,27
6号中に記載されるようなヒドロキシエチルアクリレー
ト単位又はヒドロキシエチルメタクリレートを含むポリ
マー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルア
ルコール、米国特許3,751,257号中に記載され
るようなポリアミド樹脂、米国特許3,660,097
号中に記載されるような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールA
とエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢
酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセ
ルロース樹脂などが挙げられる。
As the binder resin used in the photosensitive layer, various known polymers can be used. Details of specific binders are described in U.S. Pat. No. 4,072,52.
No. 7, and more preferably described in JP-A-54-9.
No. 8613, a monomer having an aromatic hydroxyl group, such as N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m- or p-hydroxystyrene. , O
Copolymers of-, m- or p-hydroxyphenyl methacrylate with other monomers, U.S. Pat. No. 4,123,27
Polymers containing hydroxyethyl acrylate units or hydroxyethyl methacrylate as described in US Pat. No. 6, natural resins such as shellac, rosin, polyvinyl alcohol, polyamide resins as described in US Pat. No. 3,751,257, US Patent 3,660,097
Linear polyurethane resin, phthalated resin of polyvinyl alcohol, bisphenol A, etc.
And epoxy resins condensed from epichlorohydrin, cellulose resins such as cellulose acetate, cellulose acetate phthalate, and the like.

【0076】バインダー樹脂としては、これら樹脂の中
から1種又は2種以上のものを組み合わせて用いること
ができる。中でも塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリロ
ニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロース、
エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好ましい。
As the binder resin, one kind or a combination of two or more kinds of these resins can be used. Among them, vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, methacrylic resin, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyvinyl butyral, styrene-acrylonitrile, polyvinyl acetal, nitrocellulose,
Solvent-soluble polymers such as ethyl cellulose are preferred.

【0077】これらのバインダーは、1種又は2種以上
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体1
2当たり1.0〜20gが好ましい。
These binders may be used by dissolving one or more kinds in an organic solvent and using them in the form of latex dispersion. The amount of the binder used varies depending on the purpose of the image forming material of the present invention and depends on whether it has a single-layer structure or a multi-layer structure.
1.0 to 20 g per m 2 is preferred.

【0078】次に重合性化合物について詳述する。Next, the polymerizable compound will be described in detail.

【0079】重合可能な化合物としては公知のモノマー
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及び
その誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレ
ート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代
えた化合物;ポリエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノール
Aジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチル
グリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体あるい
はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネー
ト、クロトネート、マレエート等に代えた化合物;ある
いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロール
トリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びそ
の誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代え
た化合物等を挙げることができる。又、適当な分子量の
オリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、
光重合性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも
好適に使用できる。
As the polymerizable compound, known monomers can be used without particular limitation. Specific monomers include, for example, 2-ethylhexyl acrylate,
Monofunctional acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate and their derivatives or compounds in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc .; polyethylene glycol diacrylate,
Difunctional acrylates such as pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of neopentyl glycol hydroxypivalate ε-caprolactone adduct, and their derivatives or these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc. Compounds; or polyfunctional acrylic acid esters such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol triacrylate and their derivatives, or acrylates of these, methacrylates, itaconates, crotonates, and maleates. And the like. Also, by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight,
A so-called prepolymer having photopolymerizability can be preferably used.

【0080】この他に、特開昭58−212994号、
同61−6649号、同62−46688号、同62−
48589号、同62−173295号、同62−18
7092号、同63−67189号、特開平1−244
891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更
に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜
294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブッ
ク(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化
合物なども好適に用いることができる。
In addition to this, JP-A-58-212994,
Nos. 61-6649, 62-46688 and 62-
No. 48589, No. 62-173295, No. 62-18
Nos. 7092 and 63-67189, JP-A-1-244
Compounds described in No. 891 and the like can be mentioned, and further, “11290 chemical products”, Chemical Industry Daily, 286-
The compounds described on page 294, the compounds described on pages 11 to 65 of "UV / EB curing handbook (raw material edition)", Kobunshi Kogyo Kai, etc. can also be preferably used.

【0081】これらの中で、分子内に2個以上のアクリ
ル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明において
は好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ま
しくは5,000以下のものが望ましい。又、本発明で
は、これらのモノマー又はプレポリマーの内、1種又は
2種以上を混合して用いることができる。
Of these, compounds having two or more acryl groups or methacryl groups in the molecule are preferable in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are desirable. In the present invention, among these monomers or prepolymers, one kind or a mixture of two or more kinds can be used.

【0082】エチレン性不飽和基を有する化合物は、感
光層中に好ましくは20〜80重量%、より好ましくは
30〜60重量%含有される。
The compound having an ethylenically unsaturated group is contained in the photosensitive layer in an amount of preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 60% by weight.

【0083】平版印刷版作成用感光材料(以下、単に感
光材料とも称す)は、光熱変換材料を含む感光層の他
に、中間層、保護層、下引層等の補助層を有してもよ
い。
The photosensitive material for preparing a lithographic printing plate (hereinafter also simply referred to as a photosensitive material) may have an auxiliary layer such as an intermediate layer, a protective layer and an undercoat layer in addition to the photosensitive layer containing the photothermal conversion material. Good.

【0084】次に、本発明の感光材料を用いた画像形成
方法について説明する。感光材料を画像様に露光すると
露光量に応じて光熱変換材料により熱が発生し、この熱
によりラジカル発生剤とオニウム塩が相互作用してラジ
カルが生成する。ラジカル重合により画像形成をする材
料に用いた場合には、生成したラジカルにより重合が起
こり画像が形成される。感光材料に対する露光には、太
陽光、タングステン光、水銀ランプ、ハロゲンランプ、
キセノンランプ、レーザー光、発光ダイオード、CRT
等を用いることができる。上記のラジカル重合により画
像形成をする材料としては感光性層に少なくともエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、及び必要に
応じて着色剤を含有している。このようなエチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物としては、架橋可能
な公知のモノマーが特に制限なく使用することができ
る。具体的モノマーとしては、例えば、2−エチルヘキ
シルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能ア
クリル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン
付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル
及びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等
に代えた化合物、あるいはトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル及びその誘導体あるいはこれらのアクリレ
ートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、
マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。
又、エチレン性不飽和結合を有する樹脂は、適当な分子
量のオリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入
し、光重合性を付与した、所謂プレポリマーと呼ばれる
ものも好適に使用できる。この他に、特開昭58−21
2994号、同61−6649号、同62−46688
号、同62−48589号、同62−173295号、
同62−187092号、同63−67189号、特開
平1−244891号等に記載の化合物などを挙げるこ
とができ、更に「11290の化学商品」(前出),2
86〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハン
ドブック(原料編)」(前出),11〜65頁に記載の
化合物なども本発明においては好適に用いることができ
る。これらの中で、分子内に2個以上のアクリル又はメ
タクリル基を有する化合物が本発明においては好まし
く、更に分子量が10,000以下、より好ましくは
5,000以下のものが好ましい。又、本発明では、こ
れらのモノマーあるいはプレポリマーのうち1種又は2
種以上を混合して用いることができる。
Next, an image forming method using the light-sensitive material of the present invention will be described. When the photosensitive material is imagewise exposed, heat is generated by the photothermal conversion material according to the exposure amount, and the heat causes the radical generator and the onium salt to interact with each other to generate radicals. When it is used as a material for forming an image by radical polymerization, the generated radicals cause polymerization to form an image. For exposure of photosensitive material, sunlight, tungsten light, mercury lamp, halogen lamp,
Xenon lamp, laser light, light emitting diode, CRT
Etc. can be used. As a material for forming an image by the above radical polymerization, the photosensitive layer contains a polymerizable compound having at least an ethylenically unsaturated bond and, if necessary, a colorant. As such a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a known crosslinkable monomer can be used without particular limitation. Specific monomers include, for example, monofunctional acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxypropyl acrylate, and their derivatives, or these acrylates replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate and the like. Compounds, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate, etc., and bifunctional acrylic acid esters and their derivatives, or their acrylates, methacrylates and itaconates. , Crotonate, compounds substituted for maleate, etc., or trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Pentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyfunctional acrylic acid esters and derivatives thereof or methacrylate these acrylates such as pyrogallol triacrylate, itaconate, crotonate,
Examples thereof include compounds substituted for maleate and the like.
As the resin having an ethylenically unsaturated bond, a so-called prepolymer obtained by introducing photopolymerizability by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight can be preferably used. In addition to this, JP-A-58-21
No. 2994, No. 61-6649, No. 62-46688
No. 62-48589, No. 62-173295,
Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 62-187092, 63-67189, JP-A-1-244891, and the like, and “Chemical products of 11290” (supra), 2
The compounds described on pages 86 to 294, the "UV / EB curing handbook (raw material edition)" (supra), and the compounds described on pages 11 to 65 can be preferably used in the present invention. Among these, compounds having two or more acryl or methacryl groups in the molecule are preferable in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferable. In the present invention, one or two of these monomers or prepolymers are used.
A mixture of more than one species can be used.

【0085】エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物は、感光性層形成組成物中、通常5重量%以上、
より好ましくは15重量%以上にするのが好ましい。
The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond is usually contained in the photosensitive layer forming composition in an amount of 5% by weight or more,
More preferably, it is set to 15% by weight or more.

【0086】感光層には必要に応じてバインダー樹脂が
用いられる。バインダー樹脂としては、ポリエステル系
樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは、前述のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好
適に用いることができる。バインダー樹脂としては前述
の樹脂の中から、1種又は2種以上のものを組み合わせ
て用いることができる。
A binder resin is used in the photosensitive layer if necessary. As the binder resin, polyester resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyamide resin, cellulose resin, olefin resin, vinyl chloride resin, (meth) acrylic resin,
Examples thereof include styrene resin, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polysulfone, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin and rubber resin. Further, a resin having an unsaturated bond in the resin, for example, a diallyl phthalate resin and its derivative, chlorinated polypropylene, etc., can be polymerized with the above-mentioned compound having an ethylenically unsaturated bond, so that it is suitably used depending on the application. Can be used. As the binder resin, one or more of the above resins can be used in combination.

【0087】これらのバインダー樹脂は、前記エチレン
性不飽和結合を有する重合可能な化合物100重量部に
対して500重量部以下、より好ましくは200重量部
以下の範囲で使用するのが好ましい。
These binder resins are preferably used in an amount of 500 parts by weight or less, more preferably 200 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.

【0088】本発明の1形態として着色剤により着色し
てもよい。着色剤は、少なくとも350〜700nmの
波長範囲において任意の点の吸光度(本発明において吸
光度とは透過濃度を意味する)が3.0以上になるよう
構成されている。この着色剤は感光層内に含まれる。
As one form of the present invention, it may be colored with a coloring agent. The colorant is configured so that the absorbance at any point (absorption in the present invention means transmission density) is 3.0 or more in at least the wavelength range of 350 to 700 nm. This colorant is contained in the photosensitive layer.

【0089】着色剤としては、カーボンブラック、酸化
チタン、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料や、クリス
タルバイオレット、メチレンブルー、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、シアニン系染料等の公知の顔料及び
/又は染料を上記吸光度を満足するように1種又は2種
以上を組み合わせて感光層に含有させる。
As the coloring agent, carbon black, titanium oxide, iron oxide, phthalocyanine pigment, azo pigment,
Anthraquinone pigments, quinacridone pigments, and known pigments and / or dyes such as crystal violet, methylene blue, azo dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, etc., are used alone or in combination of two or more so as to satisfy the above absorbance. It is contained in the photosensitive layer.

【0090】着色剤の添加量としては、感光層又は色材
層形成組成物中10〜80重量%が好ましく、より好ま
しくは15〜70重量%である。
The addition amount of the colorant is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 15 to 70% by weight in the composition for forming the photosensitive layer or the color material layer.

【0091】感光層又は色材層内へ着色剤を添加せしめ
るためには、着色剤以外の感光層組成物内に、着色剤を
サンドミル、ボールミル、アトライター、超音波分散
機、ジェットミル、ホモジナイザー、遊星ミル等公用の
装置を用いて分散・混合し、更に必要に応じて塗工液を
濾過して使用すればよい。
In order to add the colorant into the photosensitive layer or the color material layer, the colorant is added to the photosensitive layer composition other than the colorant, such as a sand mill, a ball mill, an attritor, an ultrasonic disperser, a jet mill or a homogenizer. It is possible to disperse and mix using a publicly-used device such as a planetary mill, and further filter the coating solution as needed before use.

【0092】本発明に係る感光層には、目的を損なわな
い範囲で増感剤、熱重合禁止剤、熱溶融性化合物、酸素
補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せしめることは任意
である。
The photosensitive layer according to the present invention may optionally contain other components such as a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a heat-fusible compound, an oxygen scavenger and a plasticizer as long as the purpose is not impaired. is there.

【0093】増感剤としては、特開昭64−13140
号に記載のトリアジン系化合物、特開昭64−1314
1号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、
特開昭64−13143号に記載の有機過酸化物、特公
昭45−37377号や米国特許3,652,275号
に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙げ
られる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を有
する重合可能な化合物とバインダーの合計量100重量
部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜5重
量部程度添加される。
As a sensitizer, Japanese Patent Laid-Open No. 64-13140 is used.
Compounds described in JP-A-64-1314
1, an aromatic onium salt, an aromatic halonium salt,
Examples thereof include organic peroxides described in JP-A 64-13143, bisimidazole compounds and thiols described in JP-B-45-37377 and US Pat. No. 3,652,275. The sensitizer is added in an amount of 10 parts by weight or less, preferably about 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond and the binder.

【0094】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えばハイド
ロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、カ
テコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−
p−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量100
重量部に対して10重量部以下、好ましくは0.01〜
5重量部程度添加される。
As the thermal polymerization inhibitor, compounds such as quinone type and phenol type are preferably used. For example, hydroquinone, pyrogallol, p-methoxyphenol, catechol, β-naphthol, 2,6-di-t-butyl-
p-cresol and the like. Total amount of polymerizable compound having ethylenically unsaturated bond and binder 100
10 parts by weight or less based on parts by weight, preferably 0.01 to
About 5 parts by weight are added.

【0095】酸素クエンチャーとしてはN,N−ジアル
キルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,7
72,541号の11カラム58行目〜12カラム35
行目に記載の化合物が挙げられる。
As the oxygen quencher, N, N-dialkylaniline derivatives are preferable, for example, US Pat.
72, 541 11th column 58th line-12th column 35
The compounds mentioned in the row are mentioned.

【0096】可塑剤としてはフタル酸エステル類、トリ
メリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他
飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エス
テル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステ
アリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステ
ル類、グリコールエステル類などが挙げられる。
Examples of the plasticizer include phthalic acid esters, trimellitic acid esters, adipic acid esters, other saturated or unsaturated carboxylic acid esters, oxalic acid esters, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil and stearin. Examples thereof include acid epoxies, orthophosphoric acid esters, phosphite esters, and glycol esters.

【0097】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類;アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類;クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステル類;ジフェ
ニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類;カン
ファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類;バニ
リン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類;
ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類;マルガリン
酸等の高級脂肪酸;エイコサノール等の高級アルコー
ル;パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル;ステ
アリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド;ベヘニルアミン
等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜蝋、
キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エステル
ワックス、モンタン蝋、カルナバワックス、アミドワッ
クス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワ
ックスなどのワックス類、エステルガム、ロジンマレイ
ン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フ
ェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタ
ジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロラクト
ン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表さ
れる高分子化合物などを挙げることができる。
As the heat-fusible compound, a compound which is solid at room temperature and reversibly becomes liquid when heated is used.
Examples of the heat-fusible substance include alcohols such as terpineol, menthol, 1,4-cyclohexanediol and phenol; amides such as acetamide and benzamide; esters such as coumarin and benzyl cinnamate; ethers such as diphenyl ether and crown ether. Ketones such as camphor and p-methylacetophenone; Aldehydes such as vanillin and dimethoxybenzaldehyde;
Typical examples are hydrocarbons such as norbornene and stilbene; higher fatty acids such as margaric acid; higher alcohols such as eicosanol; higher fatty acid esters such as cetyl palmitate; higher fatty acid amides such as stearic acid amide; higher amines such as behenylamine. Monomolecular compound, beeswax,
Waxes such as candelilla wax, paraffin wax, ester wax, montan wax, carnauba wax, amide wax, polyethylene wax, microcrystalline wax, ester gum, rosin maleic acid resin, rosin phenol resin and other rosin derivatives, phenolic resin, ketone Resins, epoxy resins, diallyl phthalate resins, terpene hydrocarbon resins, cyclopentadiene resins, polyolefin resins, polycaprolactone resins, polyethylene glycol, polypropylene glycol and other polymer compounds represented by polyolefin oxide it can.

【0098】更に、感光性層には、必要に応じて酸化防
止剤、フィラー、帯電防止剤などをを添加してもよい。
Further, if necessary, an antioxidant, a filler, an antistatic agent, etc. may be added to the photosensitive layer.

【0099】酸化防止剤としては、クロマン系化合物、
クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノ
ン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系
化合物、硫黄系化合物、燐系化合物などが挙げられ、特
開昭59−182785号、同60−130735号、
同61−159644号、特開平1−127387号、
「11290の化学商品」(前出),862〜868頁
等に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料に耐
久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることが
できる。
As the antioxidant, a chroman compound,
Claman-based compounds, phenol-based compounds, hydroquinone derivatives, hindered amine derivatives, spiroindane-based compounds, sulfur-based compounds, phosphorus-based compounds and the like are mentioned, and JP-A-59-182785 and 60-130735,
61-159644, JP-A-1-127387,
The compounds described in “Chemical products of 11290” (supra), pages 862 to 868, etc., and compounds known to improve durability in photographs and other image recording materials can be mentioned.

【0100】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができる。無機微粒子としては、シリ
カゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性
白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子とし
ては、弗素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹
脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止剤と
しては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性
微粒子などの他、「11290の化学商品」(前出),
875〜876頁などに記載の化合物も好適に用いるこ
とができる。
Examples of the filler include inorganic fine particles and organic resin particles. Examples of the inorganic fine particles include silica gel, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, talc, clay, kaolin, acid clay, activated clay, alumina and the like, and organic fine particles include fluorine resin particles and guanamine resin. Particles, resin particles such as acrylic resin particles and silicone resin particles, and antistatic agents include cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, polymeric antistatic agents, conductive fine particles, etc. Others, "11290 chemical products" (above),
The compounds described on pages 875 to 876 can also be preferably used.

【0101】本発明において、感光層は単層で形成され
てもよいし、2層以上の複数層で構成されてもよい。
又、複数層で構成する場合は、組成の異なる感光性層で
構成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光層
を含んでいてもよい。
In the present invention, the photosensitive layer may be formed of a single layer or a plurality of layers of two or more layers.
When it is composed of a plurality of layers, it may be composed of photosensitive layers having different compositions, and in this case, a photosensitive layer containing no colorant may be contained.

【0102】感光層の厚みは0.2〜10μmが好まし
く、より好ましくは0.5〜5μmである。
The thickness of the photosensitive layer is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm.

【0103】感光層は、形成成分を溶媒に分散あるいは
溶解して塗工液を調製し、前記中間層上に直接積層塗布
し乾燥するか、又は後述するカバーシート上に塗布し乾
燥して形成される。
The photosensitive layer is formed by dispersing or dissolving the forming components in a solvent to prepare a coating solution and directly laminating and coating on the intermediate layer and drying, or by coating and drying on a cover sheet described later. To be done.

【0104】塗工法に用いる溶媒としては、水、アルコ
ール類(エタノール、プロパノール等)、セロソルブ類
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、芳香族類
(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系溶剤
(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等)、塩素系溶剤(クロロホル
ム、トリクロルエチレン等)、アミド系溶剤(ジメチル
ホルムアミド、N−メチルピロリドン等)、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。
Solvents used in the coating method include water, alcohols (ethanol, propanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), aromatics (toluene, xylene, chlorobenzene, etc.), ketones (acetone). , Methyl ethyl ketone, etc.), ester solvents (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (tetrahydrofuran, dioxane, etc.), chlorine solvents (chloroform, trichloroethylene, etc.), amide solvents (dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, etc.) , Dimethyl sulfoxide and the like.

【0105】塗工には、従来から公知のグラビアロール
による面順次塗別け塗布法、押出し塗布法、ワイヤーバ
ー塗布法、ロール塗布法等を採用することができる。
For coating, a conventionally known surface sequential coating method using a gravure roll, an extrusion coating method, a wire bar coating method, a roll coating method and the like can be adopted.

【0106】[0106]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0107】(支持体A及びBの作成)厚さ0.24m
mのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を6
5℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、
1分間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したア
ルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中
に1分間浸漬して中和した後、水洗した。
(Preparation of Supports A and B) Thickness 0.24 m
6 m aluminum plate (material 1050, temper H16)
Immerse in a 5% sodium hydroxide aqueous solution kept at 5 ° C,
After performing degreasing treatment for 1 minute, it was washed with water. The degreased aluminum plate was immersed in a 10% hydrochloric acid aqueous solution kept at 25 ° C. for 1 minute for neutralization, and then washed with water.

【0108】次いで、このアルミニウム板を1.0重量
%の塩酸水溶液中、25℃・100A/dm2の条件で
交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃
に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間の
デスマット処理を行った。この粗面化アルミニウム板を
40%燐酸溶液中で、30℃・4A/dm2の条件で6
分間陽極酸化処理を行い、更に硅酸ナトリウムで封孔処
理を行って支持体を作成した。
Then, this aluminum plate was electrolytically surface-roughened for 60 seconds with an alternating current in a 1.0 wt% hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. and 100 A / dm 2 and then at 60 ° C.
Desmutting treatment was carried out for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at. This roughened aluminum plate is placed in a 40% phosphoric acid solution under the conditions of 30 ° C. and 4 A / dm 2 for 6 hours.
Anodizing treatment was performed for a minute, and then a sealing treatment was further performed with sodium silicate to prepare a support.

【0109】(平版印刷版用感光材料の作成)上記支持
体上に、下記組成の光重合性組成物塗布液をワイヤーバ
ーを用いて、乾燥膜厚2.0μmとなるように塗布し感
光層を形成した。
(Preparation of Photosensitive Material for Lithographic Printing Plate) A photopolymerizable composition coating solution having the following composition was applied onto the above support using a wire bar so that a dry film thickness was 2.0 μm. Was formed.

【0110】光重合性組成物 バインダー樹脂(ヒドロキシエチルメタクリレート/メチルメタクリレート/ ブチルアクリレート/アクリル酸=30/50/5/15) 50重量部 モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサクリレート) 50重量部 ラジカル発生剤(A−1) 5重量部 光熱変換材料(IR−5) 10重量部 オニウム塩(Q−1) 5重量部 メチルエチルケトン 400重量部 感光層上に、ポリビニルアルコール(日本合成化学社
製:ゴーセノールGL−05)の10%水溶液を乾燥膜
厚2.0μmとなるようにワイヤーバーで塗布・乾燥し
て保護層を設けた。得られた感光材料を遮光下で80℃
・2分熱処理して評価用感光材料1とした。
Photopolymerizable composition Binder resin (hydroxyethyl methacrylate / methyl methacrylate / butyl acrylate / acrylic acid = 30/50/5/15) 50 parts by weight Monomer (dipentaerythritol hexaacrylate) 50 parts by weight Radical generator (A-1) 5 parts by weight Photothermal conversion material (IR-5) 10 parts by weight Onium salt (Q-1) 5 parts by weight Methyl ethyl ketone 400 parts by weight Polyvinyl alcohol (Nippon Gosei Kagaku GL- A 10% aqueous solution of (05) was applied and dried with a wire bar to a dry film thickness of 2.0 μm to form a protective layer. The obtained photosensitive material is protected from light at 80 ° C.
-Photosensitive material 1 for evaluation was obtained by heat treatment for 2 minutes.

【0111】(画像作成と評価)作成した感光材料を以
下の条件で画像露光した。
(Image formation and evaluation) The formed light-sensitive material was image-exposed under the following conditions.

【0112】光源:LT090MD(シャープ製,出力
100mW,主波長830nm) 光学効率:67% 露光ビーム径:1/e2=10μm(パワー密度:85
307W/cm2) 露光ピッチ:6μm 露光後の感光材料を、以下の組成の現像液中に25℃、
45秒浸漬して、保護層及び未露光部の感光層を溶出し
たものを水洗後、乾燥して画像を得た。
Light source: LT090MD (manufactured by Sharp, output 100 mW, main wavelength 830 nm) Optical efficiency: 67% Exposure beam diameter: 1 / e 2 = 10 μm (power density: 85
307 W / cm 2 ) Exposure pitch: 6 μm The exposed light-sensitive material was placed in a developing solution having the following composition at 25 ° C.
After immersion for 45 seconds, the protective layer and the unexposed portion of the photosensitive layer were eluted, washed with water, and dried to obtain an image.

【0113】現像液組成 ベンジルアルコール 360重量部 ジエタノールアミン 210重量部 ペレックスNBL 180重量部 (花王製:t−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム) 亜硫酸カリウム 90重量部 水 3000重量部 感度と保存性を以下のように評価した。 Developer composition Benzyl alcohol 360 parts by weight Diethanolamine 210 parts by weight Perex NBL 180 parts by weight (Kao: sodium t-butylnaphthalene sulfonate) Potassium sulfite 90 parts by weight Water 3000 parts by weight Sensitivity and storability are as follows. evaluated.

【0114】<感度>画像形成に必要な最低露光エネル
ギー(10μmの線幅が再現できる露光量)を測定し
た。値が小さい程、高感度である。
<Sensitivity> The minimum exposure energy required for image formation (exposure amount capable of reproducing a line width of 10 μm) was measured. The smaller the value, the higher the sensitivity.

【0115】<保存性>55℃・20%RHに7日間保
存後の感度を測定した。保存前の感度との差が少ない
程、保存性が良好である。
<Preservability> The sensitivity after storage at 55 ° C. and 20% RH for 7 days was measured. The smaller the difference from the sensitivity before storage, the better the storage stability.

【0116】次に感光層の組成を表1に示すように変更
した以外は感光材料1と同様に感光材料2〜20を作成
し、同様に画像を作成し評価した。
Next, photosensitive materials 2 to 20 were prepared in the same manner as photosensitive material 1 except that the composition of the photosensitive layer was changed as shown in Table 1, and images were similarly prepared and evaluated.

【0117】[0117]

【表1】 [Table 1]

【0118】[0118]

【化15】 Embedded image

【0119】表の結果から、ラジカル発生剤とオニウム
塩が組み合わされることにより、初めて感度が良好で保
存後の変動も少ないことが解る。
From the results shown in the table, it is understood that the combination of the radical generator and the onium salt provides good sensitivity and little fluctuation after storage for the first time.

【0120】[0120]

【発明の効果】本発明により、近赤外線領域に高い感度
を有し、かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成用感光
材料を用いて平版印刷版を提供できた。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a lithographic printing plate can be provided using a photographic material for preparing a lithographic printing plate which has high sensitivity in the near infrared region and is excellent in storage stability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/031 G03F 7/031 7/20 505 7/20 505 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03F 7/031 G03F 7/031 7/20 505 7/20 505

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、重合性化合物、下記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有する光重合性組成物。 【化1】 〔式中、R1〜R4及びR10〜R13は各々、アルキル基、
アリール基又はアラルキル基を表し、 R1〜R4及びR
10〜R13が各々、互いに結合して環を形成してもよい。
5、R6及びR7は各々、アルキル基又はアリール基を
表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成してもよい。
8及びR9は各々、アリール基を表し、X-は対アニオ
ンを表す。〕
1. A polymerizable compound, at least one of onium salts represented by the following general formula (I), (II), (III) or (IV), a photothermal conversion element and a radical generator on a support. A photopolymerizable composition containing: Embedded image [In the formula, R 1 to R 4 and R 10 to R 13 are each an alkyl group,
Represents an aryl group or an aralkyl group, R 1 to R 4 and R
10 to R 13 may be bonded to each other to form a ring.
R 5 , R 6 and R 7 each represent an alkyl group or an aryl group, and R 5 to R 7 may combine with each other to form a ring.
R 8 and R 9 each represent an aryl group, and X represents a counter anion. ]
【請求項2】 ラジカル発生剤がビスイミダゾール誘導
体であることを特徴とする請求項1記載の光重合性組成
物。
2. The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the radical generator is a bisimidazole derivative.
【請求項3】 前記オニウム塩のX-で表される対アニ
オンがハロゲンイオンであることを特徴とする請求項1
記載の光重合性組成物。
3. The counter anion represented by X of the onium salt is a halogen ion.
The photopolymerizable composition as described in the above.
【請求項4】 ハロゲンイオンが塩素イオン又は臭素イ
オンであることを特徴とする請求項3記載の画像形成材
料。
4. The image forming material according to claim 3, wherein the halogen ion is chlorine ion or bromine ion.
【請求項5】 請求項2に記載の光重合性組成物を赤外
光で露光することを特徴とするラジカル発生方法。
5. A method of generating radicals, which comprises exposing the photopolymerizable composition according to claim 2 to infrared light.
【請求項6】 親水性支持体上に、少なくとも感光層及
び保護層をこの順に設けて成る平版印刷版作成用感光材
料において、前記感光層がエチレン性不飽和結合を少な
くとも一つ有する化合物、バインダー成分、前記一般式
(I)、(II)、(III)又は(IV)で表されるオニウ
ム塩の少なくとも一つ、光熱変換素子及びラジカル発生
剤を含有することを特徴とする平版印刷版作成用感光材
料。
6. A photosensitive material for preparing a lithographic printing plate comprising at least a photosensitive layer and a protective layer provided in this order on a hydrophilic support, wherein the photosensitive layer has at least one ethylenically unsaturated bond, and a binder. A lithographic printing plate comprising: a component, at least one of the onium salts represented by the general formula (I), (II), (III) or (IV), a photothermal conversion element and a radical generator. Photosensitive material.
【請求項7】 請求項6に記載の平版印刷版作成用感光
材料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感光
材料の感光層に半導体レーザーで像様に走査露光を行っ
た後、保護層及び感光層の未露光部を溶出除去すること
を特徴とする平版印刷版の作成方法。
7. A method of preparing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate-forming photosensitive material according to claim 6, wherein the photosensitive layer of the photosensitive material is subjected to imagewise scanning exposure with a semiconductor laser, and then the protective layer. And a method for producing a lithographic printing plate, which comprises eluting and removing an unexposed portion of the photosensitive layer.
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