JPH093327A - Polyarylene sulfide resin composition for low-temperature molding and its molding method - Google Patents

Polyarylene sulfide resin composition for low-temperature molding and its molding method

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JPH093327A
JPH093327A JP15604795A JP15604795A JPH093327A JP H093327 A JPH093327 A JP H093327A JP 15604795 A JP15604795 A JP 15604795A JP 15604795 A JP15604795 A JP 15604795A JP H093327 A JPH093327 A JP H093327A
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JP
Japan
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molding
temperature
polyarylene sulfide
sulfide resin
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JP15604795A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kawamura
孝 川村
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain a polyarylene sulfide resin compsn. for low-temp. molding which exhibits a sufficient degree of crystallization even when molded at a low mold temp. by adding a specific piperidine compd. to a polyarylene sulfide resin. CONSTITUTION: This compsn. comprises a polyarylene sulfide resin and a solid or liq. piperidine compd. which has at least one tetramethylpiperidyl group represented by the formula I [R1 is H, an alkyl, or acyl; and X is a group represented by the formula II or III (R2 is a lower alkyl)] at the molecular end and has an m.p. of 100 deg.C or lower. Pref. this compsn. further contains a nucleating agent (e.g. talc or silica).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は結晶化速度が速く、12
0℃未満と低い金型温度での成形でも十分な結晶化度を
有する、低温成形用に適したポリアリーレンスルフィド
樹脂組成物及びかかる組成物を120℃未満の金型温度
で射出成形する当該樹脂組成物の成形方法に関するもの
である。
The present invention has a high crystallization rate,
A polyarylene sulfide resin composition suitable for low-temperature molding, which has a sufficient crystallinity even at a mold temperature as low as 0 ° C., and a resin for injection molding the composition at a mold temperature of less than 120 ° C. The present invention relates to a method for molding a composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリフェニレンスルフィド(以下、PP
Sと略す)樹脂に代表されるポリアリ−レンスルフィド
(以下、PASと略す)樹脂はそれ自体優れた耐熱性、
耐薬品性を有しており中でもガラス繊維などの強化材で
強化した成形材料は、自動車部品やエレクトロニクス関
連部品等の分野に於いて金属代替用に使用されつつあ
り、近年、需要を大きく伸ばしている。
2. Description of the Related Art Polyphenylene sulfide (hereinafter referred to as PP)
Polyarylene sulfide (hereinafter abbreviated as PAS) resin represented by a resin (S) is excellent in heat resistance itself,
Molding materials, which have chemical resistance and are reinforced with reinforcing materials such as glass fiber, are being used as metal substitutes in the fields of automobile parts, electronics-related parts, etc. There is.

【0003】しかし、PPS樹脂に代表されるPAS樹
脂は本来結晶性樹脂であるが、結晶化速度が非常に遅い
ことが欠点になっていた。このため、ポリエチレン、ポ
ロプロピレン、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリアミド等の他の熱可塑性樹脂が室温〜10
0℃の金型温度で成形できるのに対して、PAS樹脂は
120℃以上の金型温度、一般的には150℃以上でな
いと十分結晶化が進んだ成形品が得られず、また、たと
え低温の金型温度で成形できたとしても、その成形品外
観、金型そのものからの離型性等が著しく悪く、成形品
が変形したり、クラックが発生している状態でしか成形
品が得られない場合が多かった。また低温の金型温度で
成形して得られた成形品は耐熱性が劣り、結晶化度を高
めるためにはガラス転移温度以上の雰囲気下で熱処理す
る必要があった。しかし、ガラス転移温度以上の雰囲気
下に放置すると成形品形状または成形品の大きさによっ
ては変形する場合もあった。また150℃以上と金型温
度が高いために、特にインサート成形時等には作業員が
火傷を負い易く、また、金型温度の昇温時間が通常より
長く必要となる、あるいは金型の寿命が短い等の作業性
の悪さ等も問題となっていた。さらにまた例えばバリの
発生を極端に嫌い、かつハンダ耐熱性等の耐熱性が必要
な精密成形品などでは、バリの発生が抑えられ、かつ離
型が可能となる90℃未満の金型温度で成形した後に、
120℃以上でアニーリングを行い、結晶化度を充分に
あげて、PPS樹脂本来の耐熱性を失わない状態で使用
するなどの後処理も必要であった。
However, the PAS resin represented by the PPS resin is originally a crystalline resin, but it has a drawback that the crystallization rate is very slow. For this reason, other thermoplastic resins such as polyethylene, polypropylene, polyacetal, polybutylene terephthalate, and polyamide may be used at room temperature to 10
In contrast to molding at a mold temperature of 0 ° C, PAS resin cannot be molded into a sufficiently crystallized mold unless the mold temperature is 120 ° C or higher, generally 150 ° C or higher. Even if molding can be performed at a low mold temperature, the appearance of the molded product, the releasability from the mold itself, etc. are extremely poor, and the molded product can be obtained only when the molded product is deformed or cracked. It was often not possible. Further, the molded product obtained by molding at a low mold temperature has poor heat resistance, and it is necessary to perform heat treatment in an atmosphere having a glass transition temperature or higher in order to increase the crystallinity. However, when left in an atmosphere having a glass transition temperature or higher, it may be deformed depending on the shape of the molded product or the size of the molded product. In addition, since the mold temperature is high at 150 ° C or higher, workers are liable to be burned, especially during insert molding, and the mold temperature rise time is longer than usual, or the mold life is longer. There was also a problem of poor workability such as short length. Furthermore, for example, in precision moldings that extremely dislike the generation of burrs and require heat resistance such as solder heat resistance, burrs are suppressed and mold release is possible at a mold temperature of less than 90 ° C. After molding,
It was also necessary to perform post-treatment such as annealing at 120 ° C. or higher to sufficiently raise the crystallinity and use the PPS resin in a state where the original heat resistance was not lost.

【0004】これらの問題点を解決するため、比較的低
温の金型を用い、高速結晶化させる方法として次のよう
な方法が提案されている。 特開昭62ー45654号公報記載のオリゴマー状
エステルを添加する方法、 特開昭62ー230849号公報記載の他のチオエ
ーテルを添加する方法、 特開昭62ー230848号公報記載のカルボン酸
エステルを添加する方法、 特開昭62ー230850号公報、特開平1ー22
5660号公報、特開平3ー91563号公報記載のリ
ン酸エステルを添加する方法、 特開平2ー225565号公報記載のメルカプト基
を含有するある種の珪素化合物を添加する方法、 特開平6ー192473号公報記載の1,2,3,
4−ブタンテトラカルボン酸系イミド化合物を添加する
方法等。
In order to solve these problems, the following method has been proposed as a method for high speed crystallization using a die at a relatively low temperature. The method of adding an oligomeric ester described in JP-A-62-45654, the method of adding another thioether described in JP-A-62-230849, and the carboxylic acid ester described in JP-A-62-230848 Method of addition, JP-A-62-230850, JP-A 1-22
5660, a method of adding a phosphoric acid ester described in JP-A-3-91563, a method of adding a certain silicon compound containing a mercapto group described in JP-A-2-225565, JP-A-6-192473. 1, 2, 3, described in Japanese Patent Publication
A method of adding a 4-butanetetracarboxylic acid imide compound and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
方法の中で〜は、結晶化促進効果が充分ではなかっ
たり、効果を上げるため多量に添加すると成形加工時ま
たは使用時に配合剤叉は樹脂の発生ガス或いは分解ガス
が発生して金型等に付着汚染したり環境を悪化させる等
の不都合を生じたり、物性にも悪影響をもたらす等、実
用上問題があった。また、の方法は比較的効果が大き
いものの、当該化合物は吸湿性が大きく、これを多量に
添加するとPPS成形品の吸水性が大きくなり、高湿度
雰囲気下の電気特性あるいは機械的特性等の物性を低下
させる欠点があった。また、発生ガスについても十分改
良されているとは言えず、またエポキシシラン等のエポ
キシ系の化合物を同時に配合すると結晶化促進効果が得
られないという欠点があった。
However, among these methods, ~ is not sufficient in the effect of promoting crystallization, or if a large amount is added to increase the effect, the compound or resin is generated during molding or use. There is a practical problem that gas or decomposed gas is generated to cause inconvenience such as adhesion to a mold or the like for contamination, deterioration of the environment, and adverse effects on physical properties. Although the method (1) is relatively effective, the compound has a large hygroscopicity, and if a large amount of this compound is added, the water absorption of the PPS molded article becomes large, and the physical properties such as electrical characteristics or mechanical characteristics in a high humidity atmosphere are increased. There was a drawback that lowered. Further, it cannot be said that the generated gas has been sufficiently improved, and there is a drawback that the crystallization promoting effect cannot be obtained when an epoxy compound such as epoxysilane is simultaneously mixed.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来、PA
S樹脂組成物を成形するの欠点とされていた、特に射出
成形する際の欠点とされていた高い金型温度の必要性を
なくし、低い金型温度での成形でも十分な結晶化度を有
する上に、諸物性にも悪影響を及ぼさない低価格なPA
S樹脂成形品を得るべく鋭意検討した結果、特定構造の
ピペリジン系化合物は、これをPAS樹脂に少量添加し
た組成物において溶融固化する際の結晶化速度が速く、
従来よりも低い金型温度でも高い結晶化度を示し、また
耐熱性も良好に保たれたPAS樹脂成形品が成形できる
ことを見い出し、本発明を完成するに至った。
The present inventor has been
It eliminates the need for a high mold temperature, which has been a drawback of molding an S resin composition, particularly a defect in injection molding, and has a sufficient crystallinity even at a low mold temperature. In addition, low-priced PA that does not adversely affect physical properties
As a result of extensive studies to obtain an S resin molded product, a piperidine compound having a specific structure has a high crystallization rate when melted and solidified in a composition obtained by adding a small amount of this to a PAS resin,
The inventors have found that a PAS resin molded product that exhibits a high degree of crystallinity even at a mold temperature lower than that of a conventional one and has good heat resistance can be molded, and has completed the present invention.

【0007】即ち本発明は、ポリアリーレンスルフィド
樹脂(A)と、下記ー般式(1)
That is, the present invention relates to a polyarylene sulfide resin (A) and the following general formula (1)

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】(上記式中、R1は水素原子、アルキル基
またはアシル基を示し、Xは、
(In the above formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group, and X is

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】またはOr

【0012】[0012]

【化6】 [Chemical 6]

【0013】を示し、ここでR2は低級アルキル基を示
す。)で表されるテトラメチルピペリジル基を分子末端
に少なくとも1個以上有する化合物であって、かつその
融点が100℃以下の固状もしくは液状のピペリジン系
化合物(B)を含んでなることを特徴とする低温成形用
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、及びかかる組成
物を120℃未満の金型温度で射出成形する当該樹脂組
成物の成形方法に関するものである。
Wherein R2 represents a lower alkyl group. ) A compound having at least one tetramethylpiperidyl group represented by the formula (1) at the terminal of the molecule, and comprising a solid or liquid piperidine compound (B) having a melting point of 100 ° C. or lower. The present invention relates to a polyarylene sulfide resin composition for low temperature molding, and a method for molding the resin composition by injection molding the composition at a mold temperature of less than 120 ° C.

【0014】本発明において用いる、前記一般式(1)
で示されるテトラメチルピペリジル基を分子末端に有す
るピペリジン系化合物(B)は、例えば特公昭56ー5
431号、特公昭57ー26306号、特公昭60ー2
3716号、特公昭60ー23717号、特公昭61−
16775号公報、同61−58492号、特開平3−
229748号、特開平4−230364号、特開平5
−112686号等の各公報にヒンダートアミン系光安
定剤として記載された、多数のピペリジン系化合物中の
一部に含まれており、すでに公知の化合物である。また
市販されている多数のヒンダートアミン系の耐光性安定
剤あるいは紫外線吸収剤等の中にも本発明において用い
るピペリジン系化合物(B)と同じものは含まれうる。
The above-mentioned general formula (1) used in the present invention
The piperidine compound (B) having a tetramethylpiperidyl group represented by
431, Japanese Patent Publication No. 57-26306, Japanese Patent Publication No. 60-2
No. 3716, Japanese Patent Publication No. 60-23717, Japanese Patent Publication No. 61-
16775, 61-58492, JP-A-3-
229748, JP-A-4-230364, JP-A-5
It is contained in a part of a large number of piperidine-based compounds described as a hindered amine-based light stabilizer in each publication such as -112686 and is a known compound. In addition, the same as the piperidine compound (B) used in the present invention may be included in many commercially available hindered amine-based light resistance stabilizers or ultraviolet absorbers.

【0015】本発明は、従来のPAS樹脂組成物では困
難であった低い金型温度での成形を可能とし、即ち低温
成形用に適したPAS樹脂組成物を提供することをその
目的とするものであり、このような本発明の目的は、P
AS樹脂に前記した特定構造のピペリジン基を有する化
合物であって、かつその融点も特定の範囲にあるピペリ
ジン系化合物を含有させたPAS樹脂組成物ではこれを
溶融固化した際、その結晶化速度が速く、しかも従来よ
りも低い金型温度での成形でも十分な結晶化度を有し、
諸物性が良好なPAS樹脂成形品の製造が可能であるこ
とによって達成されたものである。
An object of the present invention is to provide a PAS resin composition suitable for low-temperature molding, which enables molding at a low mold temperature, which has been difficult with conventional PAS resin compositions. And the object of the present invention is P
In a PAS resin composition containing a piperidine-based compound having a specific structure described above in an AS resin and having a melting point within a specific range, the crystallization rate of the PAS resin composition when melted and solidified is It has a high degree of crystallinity even at high speed and even at a lower mold temperature than before.
This was achieved by being able to manufacture a PAS resin molded product having excellent physical properties.

【0016】本発明に於いて基体となるPAS樹脂は、
ー般式〔−Ar−S−〕(式中、−Ar−は少なくとも
1つの炭素6員環を含む2価の芳香族基を示す。)で示
される繰り返し単位を70モル%以上含有する重合体
で、その代表的物質は構造式〔−φ−S−〕(ただし、
−φ−はp−フェニレン基)で示される繰り返し単位を
70モル%以上含有するポリマーである。
In the present invention, the base PAS resin is
A polymer containing 70 mol% or more of a repeating unit represented by the general formula [-Ar-S-] (wherein, -Ar- represents a divalent aromatic group containing at least one 6-carbon carbon ring). In the combination, the representative substance is structural formula [-φ-S-] (however,
-Φ- is a polymer containing 70 mol% or more of the repeating unit represented by p-phenylene group).

【0017】PAS樹脂は、ー般にその製造法により実
質上線状で分岐、架橋構造を有しない分子構造のもの
と、分岐や架橋を有する構造のものが知られているが、
本発明に於いてはその何れのタイプのものにも有効であ
る。また、本発明に使用するPPS樹脂は、その製造時
において例えば特開平2ー200415号公報に記載さ
れているような熱水洗、有機溶媒洗浄、酸洗浄等の洗浄
処理を行ったものは、本発明の目的達成に対しより有効
な効果が現れる。従って成形加工前のPAS樹脂、例え
ば製造時、製造後のPPS樹脂に対して前記のような洗
浄処理を行うことは結晶化特性の改善の点からも望まし
い。また、ナトリウム含有量が2000ppm以下のP
PS樹脂を用いるのが好ましい。
PAS resins are generally known to have a substantially linear molecular structure having no branched or crosslinked structure and one having a branched or crosslinked structure depending on the production method.
In the present invention, both types are effective. Further, the PPS resin used in the present invention is the one which is washed with hot water, organic solvent, acid or the like as described in JP-A-2-200415 at the time of its production. A more effective effect appears for achieving the object of the invention. Therefore, it is desirable to perform the above-mentioned cleaning treatment on the PAS resin before the molding process, for example, the PPS resin after the production, from the viewpoint of improving the crystallization characteristics. In addition, P with a sodium content of 2000 ppm or less
It is preferable to use PS resin.

【0018】本発明において用いるのに好ましいPAS
樹脂(a)は、前記した繰り返し単位〔−φ−S−〕
(ただし、−φ−はp−フェニレン基)を70モル%以
上含有するPPS樹脂である。この繰り返し単位が70
モル%以上であると結晶性ポリマ−としての特徴である
結晶化度が高く、十分な強度が得られるし、靱性、耐薬
品性にも優れる。
PAS preferred for use in the present invention
The resin (a) has the repeating unit [-φ-S-] described above.
(However, -φ- is a p-phenylene group) is a PPS resin containing 70 mol% or more. This repeating unit is 70
When it is at least mol%, the crystallinity, which is a characteristic of the crystalline polymer, is high, sufficient strength is obtained, and the toughness and chemical resistance are excellent.

【0019】このようなPPS樹脂中には50モル%未
満、好ましくは30モル%未満の下記に示す他の共重合
構成単位を含んでいてもよい。
Such a PPS resin may contain less than 50 mol%, preferably less than 30 mol%, of the other copolymerization structural unit shown below.

【0020】[0020]

【化7】 [Chemical 7]

【0021】[0021]

【化8】 Embedded image

【0022】[0022]

【化9】 Embedded image

【0023】[0023]

【化10】 Embedded image

【0024】[0024]

【化11】 Embedded image

【0025】[0025]

【化12】 [Chemical 12]

【0026】[0026]

【化13】 Embedded image

【0027】[0027]

【化14】 Embedded image

【0028】[0028]

【化15】 Embedded image

【0029】等が挙げられる。このうち三官能単位は1
モル%以下であることが結晶性を低下させない意味から
も好ましい。
And the like. Of these, the trifunctional unit is 1
It is also preferable that the content is mol% or less from the viewpoint of not lowering the crystallinity.

【0030】一方、本発明組成物において用いるピペリ
ジン系化合物(B)は、先に述べたように、前記一般式
(1)で示されるテトラメチルピペリジル基を分子末端
に少なくとも1個以上有する化合物であって、かつその
融点が100℃以下の固状もしくは液状のピペリジン系
化合物、好ましくは90℃以下の固状もしくは液状のピ
ペリジン系化合物である。当該化合物の融点がかかる範
囲を超える場合は120℃未満の低い金型温度での成形
で十分結晶化が進んだ成形品が得られず、諸性能に劣る
成形品しか得られない。使用するピペリジン系化合物の
融点が、用いるPAS樹脂(A)のガラス転移点(T
g)よりも低いことが特に好ましい。
On the other hand, the piperidine compound (B) used in the composition of the present invention is a compound having at least one tetramethylpiperidyl group represented by the general formula (1) at the molecular end, as described above. And a solid or liquid piperidine compound having a melting point of 100 ° C. or lower, preferably 90 ° C. or lower. If the melting point of the compound exceeds the above range, a molded product having sufficiently advanced crystallization cannot be obtained by molding at a low mold temperature of less than 120 ° C., and only a molded product having inferior performances can be obtained. The melting point of the piperidine compound used is the glass transition point (T) of the PAS resin (A) used.
Particularly preferably lower than g).

【0031】前記した一般式(A)で示されたテトラメ
チルピペルジル基を分子末端に有するピペリジン系化合
物として、本発明において用いるに好適なものの例を以
下に示すと、まず、下記一般式(2)で示されるテトラ
メチルピペリジル基含有有機化合物の単独、或いは一般
式(3)で示されるテトラメチルピペリジル基含有有機
化合物との混合物が挙げられる。なお、これらが混合し
ている場合の混合比は、下記ー般式(2)で表される化
合物10〜100重量%および次の一般式(3)で表さ
れる化合物0〜90重量%からなる。
Examples of piperidine compounds having the tetramethylpiperdyl group represented by the general formula (A) at the molecular end and suitable for use in the present invention are shown below. The tetramethylpiperidyl group-containing organic compound represented by (2) may be used alone or as a mixture with the tetramethylpiperidyl group-containing organic compound represented by the general formula (3). The mixing ratio when these are mixed is from 10 to 100% by weight of the compound represented by the following general formula (2) and 0 to 90% by weight of the compound represented by the following general formula (3). Become.

【0032】[0032]

【化16】 Embedded image

【0033】[0033]

【化17】 Embedded image

【0034】上記一般式(2)、(3)中において、R
1、Xは、前記一般式(1)で示したものと同じ意味を
有し、nは3〜6を示し、mは1〜6を示し、ただしn
>mであり、Rは水酸基、アシロキシ基あるいはハロゲ
ン原子で置換されることのあるn価の炭化水素基または
In the above general formulas (2) and (3), R
1 and X have the same meanings as shown in the general formula (1), n is 3 to 6, m is 1 to 6, and n is
> M, R is a hydroxyl group, an acyloxy group, or an n-valent hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom, or

【0035】[0035]

【化18】 Embedded image

【0036】を示し、ここでpは1〜5を示し、R3は
炭素原子8〜30のアルキル基またはアルケニル基を示
し、Yは−O−または
Wherein p is 1 to 5, R3 is an alkyl or alkenyl group having 8 to 30 carbon atoms, Y is --O-- or

【0037】[0037]

【化19】 Embedded image

【0038】を示し、R4は水素原子またはR3を示
す。)
And R4 represents a hydrogen atom or R3. )

【0039】前記一般式(1)で表されるテトラメチル
ピペリジル基において、或いは前記一般式(2)、
(3)で表される化合物において、R1で表されるアル
キル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソブチ
ル、第2ブチル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、ベン
ジル、2ーヒドロキシルエチル、2ーヒドロキシプロピ
ル、2ーヒドリキシブチル、アセトキシエチル、ポロピ
オニルエチル、2・3ーエポキシプロピル等が挙げら
れ、これらの中で好ましく用いられるアルキル基として
はメチル、エチル、プロピル等が挙げられる。また、ア
シル基としてはアセチル、プロピオニル、メタクリロイ
ル、ベンゾイル等が挙げられる。R1には水素原子、メ
チル基が好ましく用いられる。
In the tetramethylpiperidyl group represented by the general formula (1), or in the general formula (2),
In the compound represented by (3), the alkyl group represented by R1 is methyl, ethyl, propyl, isobutyl, sec-butyl, heptyl, octyl, dodecyl, benzyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2 -Hydroxybutyl, acetoxyethyl, propionylethyl, 2.3-epoxypropyl, etc., and the alkyl group preferably used among these includes methyl, ethyl, propyl and the like. Examples of the acyl group include acetyl, propionyl, methacryloyl, benzoyl and the like. R1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0040】R2で表される低級アルキル基としては、
メチル、プロピル、エチル、イソプロピル、ブチル等が
挙げられる。
The lower alkyl group represented by R2 is
Methyl, propyl, ethyl, isopropyl, butyl and the like can be mentioned.

【0041】R3で表されるアルキル基としては、オク
チル、2ーエチルヘキシル、イソオクチル、ノニル、イ
ソノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、2ーメチル
ウンデシル、トリデシル、2ーメチルードデシル、テト
ラデシル、2ーメチルートリデシル、ヘキサデシル、2
ーヘキシルデシル、オクタデシル、エイコシル、ドコシ
ル、テトラコシル、2ーデシルテトラデシル、2ーデシ
ルペンタデシル、2ーウンデシルテトラデシル、2ーウ
ンデシルペンタデシル、トリアコンチル等の各基が挙げ
られ、アルケニル基としてはデセニル、ドデセニル、テ
トラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル等が挙
げられる。好ましくはノニル、イソノニルである。
Examples of the alkyl group represented by R3 are octyl, 2-ethylhexyl, isooctyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, dodecyl, 2-methylundecyl, tridecyl, 2-methyldodecyl, tetradecyl, 2-methyl. Root lydecyl, hexadecyl, 2
-Hexyldecyl, octadecyl, eicosyl, docosyl, tetracosyl, 2-decyltetradecyl, 2-decylpentadecyl, 2-undecyltetradecyl, 2-undecylpentadecyl, triacontyl and the like, and the alkenyl group is decenyl. , Dodecenyl, tetradecenyl, hexadecenyl, octadecenyl and the like. Nonyl and isononyl are preferred.

【0042】一般式(2)、(3)で表される化合物に
おいて、Rで表される炭化水素基は
In the compounds represented by the general formulas (2) and (3), the hydrocarbon group represented by R is

【0043】[0043]

【化20】 Embedded image

【0044】(式中、nは前記と同じ。)で表されるポ
リカルボン酸の残基である。当該カルボン酸としては次
に示されるものが含まれる。トリカルバリル酸、クエン
酸、アセチルクエン酸、ブタンー1・2・3ートリカル
ボン酸、3ーブテンー1・2・3ートリカルボン酸、ト
リメリット酸、ブタンー1・2・3・4ーテトラカルボ
ン酸、1・1・2・2ーエテンテトラカルボン酸、7ー
ビシクロ(2・2・2)オクテンー2・3・5・6ーテ
トラカルボン酸、1・1・2・3ープロパンテトラカル
ボン酸、ピロメリット酸、1・6・7・8・9・14ー
テトラデカンヘキサカルボン酸、1・6・8・14ーテ
トラデカンテトラカルボン酸、ニトロトリ酢酸、ニトリ
ロトリプロピオン酸等が挙げられ、好ましくはブタンー
1・2・3・4ーテトラカルボン酸が用いられる。
(In the formula, n is the same as the above) and is the residue of the polycarboxylic acid. The carboxylic acid includes those shown below. Tricarballylic acid, citric acid, acetylcitric acid, butane-1,2,3-tricarboxylic acid, 3-butene-1,2,3-tricarboxylic acid, trimellitic acid, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, 1,1.2・ 2-Ethene tetracarboxylic acid, 7-bicyclo (2.2.2) octene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 1,1,2,3-propanetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, 1.6.7・ 8,9,14-tetradecanehexacarboxylic acid, 1,6,8,14-tetradecanetetracarboxylic acid, nitrotriacetic acid, nitrilotripropionic acid and the like can be mentioned, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid is preferably used. To be

【0045】前記一般式(1)および(2)の化合物の
具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。なお
以下で、Z1とは、
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) include the following. In the following, Z1 is

【0046】[0046]

【化21】 を示し、Z2とは[Chemical 21] And Z2 is

【0047】[0047]

【化22】 Embedded image

【0048】を示し、またRXとはAnd RX is

【0049】[0049]

【化23】 Embedded image

【0050】を示す。Is shown.

【0051】[0051]

【化24】 Embedded image

【0052】[0052]

【化25】 Embedded image

【0053】[0053]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0054】[0054]

【化27】 Embedded image

【0055】[0055]

【化28】 Embedded image

【0056】[0056]

【化29】 [Chemical 29]

【0057】[0057]

【化30】 Embedded image

【0058】[0058]

【化31】 [Chemical 31]

【0059】[0059]

【化32】 Embedded image

【0060】等が挙げられる。And the like.

【0061】これらの中で好ましくは、Of these, preferably

【0062】[0062]

【化33】 [Chemical 33]

【0063】[0063]

【化34】 Embedded image

【0064】が挙げられる。And the like.

【0065】本発明で用いるピペリジン系化合物(B)
として、好適なものの次の例としては、下記一般式
(4)で示されるピペリジン系化合物がある。
Piperidine compound (B) used in the present invention
As the next preferable examples, there are piperidine compounds represented by the following general formula (4).

【0066】[0066]

【化35】 Embedded image

【0067】(式中、R5は3〜6価のポリカルボン酸
の残基を示し、aは1〜4を示し、Y1は、−O− ま
たは
(In the formula, R5 represents a residue of a polycarboxylic acid having a valence of 3 to 6, a represents 1 to 4, and Y1 represents -O- or

【0068】[0068]

【化36】 Embedded image

【0069】を示し、ここでR7は水素原子、アルキル
基またはアリール基を示し、この際2個のR7が互いに
結合してアルキレン基を示しても良く、Aは2価のアル
コ−ルの残基または2価のアミンの残基を示し、bは1
〜10を示し、R6は
Wherein R7 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, in which two R7's may be bonded to each other to represent an alkylene group, and A represents the remaining divalent alcohol. Group or a divalent amine residue, and b is 1
-10, and R6 is

【0070】[0070]

【化37】−Y1−A−Y1−H (ここで、Y1、Aは前記と同じ。) またはEmbedded image -Y1-A-Y1-H (wherein Y1 and A are the same as above) or

【0071】[0071]

【化38】 Embedded image

【0072】を示し、またX、R1、R2は既に前記に記
したと同じ意味を示す。一般式(4)で表される化合物
においてR5で表される基は
And X, R1 and R2 have the same meanings as described above. In the compound represented by the general formula (4), the group represented by R5 is

【0073】[0073]

【化39】 Embedded image

【0074】で表される3〜6価のポリカルボン酸の残
基であり、該カルボン酸としては、トリカルバリル酸、
クエン酸、アセチルクエン酸、ブタンー1・2・3ート
リカルボン酸、3ーブテンー1・2・3ートリカルボン
酸、トリメリット酸、ブタンー1・2・3・4ーテトラ
カルボン酸、1・1・2・2ーエテンテトラカルボン
酸、7ービシクロ(2・2・2)オクテンー2・3・5
・6ーテトラカルボン酸、1・1・2・3ープロパンテ
トラカルボン酸、ピロメリット酸、1・6・7・8・9
・14ーテトラデカンヘキサカルボン酸、1・6・8・
14ーテトラデカンテトラカルボン酸、ニトロトリ酢
酸、ニトリロトリプロピオン酸等が挙げられ、好ましく
はブタンー1・2・3・4ーテトラカルボン酸が用いら
れる。
Residues of polycarboxylic acids having a valence of 3 to 6 represented by: carboxylic acids such as tricarballylic acid,
Citric acid, acetylcitric acid, butane-1,2,3-tricarboxylic acid, 3-butene-1,2,3-tricarboxylic acid, trimellitic acid, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, 1,1,2,2-ethene Tetracarboxylic acid, 7-bicyclo (2.2.2) octene-2.3.5
・ 6-Tetracarboxylic acid, 1,1.2,3-Propanetetracarboxylic acid, Pyromellitic acid, 1,6,7,8,9
・ 14-Tetradecane hexacarboxylic acid, 1 ・ 6 ・ 8 ・
14-tetradecanetetracarboxylic acid, nitrotriacetic acid, nitrilotripropionic acid and the like can be mentioned, and butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid is preferably used.

【0075】R7で表されるアルキル基としてはメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ブ
チル、アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、2−エチル
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニ
ル、デシル、ドデシル、オクタデシル、テトラデシル等
があげられる。アリール基としてはフェニル、ナフチ
ル、トリル、キシリル、第3ブチルフェニル、オクチル
フェニル、2,4−ジ−第3ブチルフェニル、ノニルフ
ェニル、ジノニルフェニル等があげられる。また、2個
のR7が互いに結合してアルキレン基を示すときはメチ
レン、エチレン、1,2−プロピレン、1,3−プロピ
レンであっても良い。
The alkyl group represented by R7 is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, isobutyl, butyl, amyl, hexyl, cyclohexyl, 2-ethylhexyl, heptyl, octyl, isooctyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, tetradecyl, etc. Can be given. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, tert-butylphenyl, octylphenyl, 2,4-di-tert-butylphenyl, nonylphenyl and dinonylphenyl. When two R7's are bonded to each other to represent an alkylene group, they may be methylene, ethylene, 1,2-propylene or 1,3-propylene.

【0076】Aで表される基は2価アルコ−ルの残基ま
たは2価のアミン基である。2価のアルコ−ルとしては
例えばエチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ト
リエチレングリコール、1,2−プロピレングリコ−
ル、1,4−ブチレングリコール、1,2−プロピレン
グリコ−ル、チオジエタ−ル、1.6−ヘキサンジオー
ル、3ーメチルペンタン、ネオペンチルグリコール、
1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオー
ル、シクロヘキサンメタノール、水添ビスフェノール
A、2−ブテン、−1,4−ジオ−ル、3、9−ビス
(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシルエチル−2,
4,8,10−テトラオキサスピロ(5,6)ウンデカ
ンなどがあげられる。また、2価のアミンとしては例え
ばエチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、
1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,10−デカメチ
レンジアミン、1,11−ウンデカンメチレンジアミ
ン、キシリレンジアミン、ビス(アモノメチル)シクロ
ヘキサン、イソフオロンジアミン、ビス(アミノシクロ
ヘキサン)メタン、3,9−ビス(3−アモノプロピ
ル)ー2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,
5)ウンデカン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラ
ジン等があげられる。
The group represented by A is a divalent alcohol residue or a divalent amine group. Examples of the divalent alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and 1,2-propylene glycol.
1,4-butylene glycol, 1,2-propylene glycol, thiodiether, 1.6-hexanediol, 3-methylpentane, neopentyl glycol,
1,10-decanediol, 1,12-dodecanediol, cyclohexanemethanol, hydrogenated bisphenol A, 2-butene, -1,4-diol, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyl Ethyl-2,
Examples include 4,8,10-tetraoxaspiro (5,6) undecane. Examples of the divalent amine include ethylenediamine, 1,3-propylenediamine,
1,6-hexamethylenediamine, 1,10-decamethylenediamine, 1,11-undecanemethylenediamine, xylylenediamine, bis (amonomethyl) cyclohexane, isofluoronediamine, bis (aminocyclohexane) methane, 3,9-bis (3-Amonopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5
5) Examples include undecane, piperazine, and 2,5-dimethylpiperazine.

【0077】本発明で用いる、前記一般式(4)で示さ
れるピペリジン系化合物の具体例としては以下のものが
示される。なお、以下でZ1、Z3、REとは一般式
(2)(3)で示されるピペリジン系化合物の例示の際
に示した基と同じ基をそれぞれ示す。即ちZ1とは
Specific examples of the piperidine compound represented by the general formula (4) used in the present invention are as follows. In the following, Z1, Z3 and RE are the same as the groups shown in the examples of the piperidine compounds represented by the general formulas (2) and (3). That is, what is Z1

【0078】[0078]

【化40】 Embedded image

【0079】を示し、Z2とはAnd Z2 is

【0080】[0080]

【化41】 Embedded image

【0081】を示し、RXとは、And RX is

【0082】[0082]

【化42】 Embedded image

【0083】を示す。Is shown.

【0084】[0084]

【化43】 Embedded image

【0085】[0085]

【化44】 Embedded image

【0086】[0086]

【化45】 Embedded image

【0087】[0087]

【化46】 Embedded image

【0088】[0088]

【化47】 Embedded image

【0089】[0089]

【化48】 Embedded image

【0090】[0090]

【化49】 Embedded image

【0091】[0091]

【化50】 Embedded image

【0092】更にまた前記したピペリジン系化合物以外
にも、本発明におけるピペリジン系化合物(B)として
好適に用いることのできる化合物として例えば、ビス
(2,2,6,6ーテトラメチルー4ーピペリジル)セ
バケート、
Further, in addition to the above-mentioned piperidine compounds, compounds which can be preferably used as the piperidine compound (B) in the present invention include, for example, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate,

【0093】[0093]

【化51】 [Chemical 51]

【0094】ビス(2,2,6,6ーペンタメチルー4
ーピペリジル)セバケート、
Bis (2,2,6,6-pentamethyl-4
-Piperidyl) sebacate,

【0095】[0095]

【化52】 Embedded image

【0096】4ーベンゾイルオキシー2,2,6,6ー
テトラメチルピペリジン、
4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine,

【0097】[0097]

【化53】 Embedded image

【0098】1,2,2,6,6ーペンタメチルー4ー
ピペリジルメタクリレート、
1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate,

【0099】[0099]

【化54】 Embedded image

【0100】2,2,6,6ーテトラメチルー4ーピペ
リジルメタクリレート
2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate

【0101】[0101]

【化55】 Embedded image

【0102】等や、前記一般式(1)で示されたテトラ
メチルピペリジル基が隣接した基との間でスピロ環を形
成した、8ーアセチルー3ードデシルー7,7,9,9
ーテトラメチルー1,3,8ートリアザスピロ(4.
5)デカンー2,4ージオン、
In addition, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9 in which a tetramethylpiperidyl group represented by the general formula (1) forms a spiro ring between adjacent groups.
-Tetramethyl-1,3,8-triazaspiro (4.
5) Decane-2,4-dione,

【0103】[0103]

【化56】 Embedded image

【0104】が挙げられる。And the like.

【0105】本発明において用いるピペリジン系化合物
(B)を得る方法としては、特公昭56ー5431号、
特公昭60ー23716号、特公昭61ー16775
号、特公昭61ー58492号等の各公報に記載の公知
の方法が例示できるが、本発明は特にこれに限定するも
のではない。
The method for obtaining the piperidine compound (B) used in the present invention is described in JP-B-56-5431.
Japanese Patent Publication No. 60-23716, Japanese Patent Publication No. 61-16775
Known methods described in Japanese Patent Publication No. 61-58492 and Japanese Patent Publication No. 61-58492 can be exemplified, but the present invention is not limited thereto.

【0106】ピペリジン系化合物(B)の使用量は、P
AS樹脂100重量部に対し、0.1〜5重量部であ
り、好ましくは0.3〜2重量部である。0.1重量部
未満では効果がなく、5重量部を越えると物性が極端に
低下する傾向がある。
The amount of the piperidine compound (B) used is P
The amount is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.3 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the AS resin. If it is less than 0.1 part by weight, the effect is not obtained, and if it exceeds 5 parts by weight, the physical properties tend to be extremely deteriorated.

【0107】本発明組成物においては、前記したPAS
樹脂(A)とピペリジン系化合物(B)からなる組成系
に対して必要によっては結晶核剤(C)を加え、より低
温成形用に適した樹脂組成物とすることもできる。必要
に応じて用いることのできる結晶核剤(C)としてはー
般的に知られている公知の結晶核剤が例示できる。具体
的には、タルク、マイカ、シリカ、カオリン、クレイ、
アタパルシャイト、ロマイト粉、石英粉、亜鉛華、ケイ
ソウ土、モンモリナイト、バーキュライト、無定形シリ
カ、結晶シリカ、ガラス粉末、アルミナーシリカ、ウォ
ラストナイト、ハイトロン、ボロンナイトライト、カー
ボンブラック、ピロフェライト、グラファイト、硫化亜
鉛、窒化ホウ素、シリコン樹脂粉末、カルシウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、リチウム、バリウム、チタン
等の珪酸塩、硫酸塩、燐酸塩、アルミン酸塩、酸化物等
の無機系核剤、脂肪族カルボン酸塩、安息香酸、テレフ
タル酸等の芳香族カルボン酸金属塩、芳香族ホスホン酸
及びその金属塩、芳香族燐酸エステル金属塩、ベンゼン
スルホン酸、ナフタリンスルホン酸等の芳香族スルホン
酸の金属塩、βージケトン類の金属塩、カルボキシル基
の金属塩を有する高分子化合物、4,6ナイロン、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリス
ルフィドケトン等のPAS樹脂の融点より高い融点を持
つ高分子化合物及びこれらの粉末状物等が挙げられる。
これらの中で好ましい結晶核剤としてはタルク、シリ
カ、窒化ホウ素、芳香族燐酸エステル金属塩が挙げられ
る。
In the composition of the present invention, the PAS described above is used.
If necessary, a crystal nucleating agent (C) may be added to the composition system comprising the resin (A) and the piperidine compound (B) to give a resin composition suitable for lower temperature molding. Examples of the crystal nucleating agent (C) that can be used as necessary include commonly known crystal nucleating agents. Specifically, talc, mica, silica, kaolin, clay,
Attapulgite, romite powder, quartz powder, zinc white, diatomaceous earth, montmorillonite, verculite, amorphous silica, crystalline silica, glass powder, alumina silica, wollastonite, hytron, boron nitrite, carbon black, pyro Inorganic nucleating agents such as ferrite, graphite, zinc sulfide, boron nitride, silicon resin powder, calcium, magnesium, aluminum, lithium, barium, titanium silicates, sulfates, phosphates, aluminates, oxides, etc., fats Aromatic carboxylic acid, benzoic acid, terephthalic acid and other aromatic carboxylic acid metal salts, aromatic phosphonic acid and its metal salts, aromatic phosphoric acid ester metal salts, benzene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid and other aromatic sulfonic acid metals Salt, metal salt of β-diketones, metal salt of carboxyl group Molecular compound, 4,6 nylon, polyether ether ketone, polyether ketone, polysulfide polymer compound having a melting point higher than the melting point of the PAS resin, such as sulfide ketones and these powdery substance, and the like.
Among these, preferable crystal nucleating agents include talc, silica, boron nitride, and aromatic phosphoric acid ester metal salts.

【0108】本発明の結晶核剤の使用量はPAS樹脂1
00重量部に対し、0.05〜10重量部であり、好ま
しくは0.1〜5重量部である。少量の添加ではあまり
効果がなく、また必要以上に多量に添加すると物性が極
端に低下する傾向がある。
The amount of the crystal nucleating agent used in the present invention is PAS resin 1
The amount is 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 00 parts by weight. Addition of a small amount is not very effective, and addition of a larger amount than necessary tends to extremely deteriorate the physical properties.

【0109】また、本発明の組成物には必要に応じて、
以下に示す強化材および/または充填材を配合すること
もできる。これら強化材および/または充填材として
は、粉粒状、平板状、鱗片状、針状、球状または中空状
および繊維状が挙げられる。具体的には硫酸カルシウ
ム、珪酸カルシウム、クレー、タルク、アルミナ、珪
砂、ガラス粉、金属粉、グラファイト、炭化珪素、チッ
化珪素、シリカ、チッ化ホウ素、チッ化アルミニウム、
カーボンブラックなどの粉粒状充填材、雲母、ガラス
板、セリサイト、アルミフレークなどの金属箔、黒鉛な
どの平板状もしくは鱗片状充填材、シラスバルーン、金
属バルーン、ガラスバルーンなどの中空状充填材、ガラ
ス繊維、炭素繊維、グラファイト繊維、ウィスカー、金
属繊維、アスベスト、ウォスナイト、繊維状充填材、芳
香族ポリアミド繊維等の有機繊維状充填材を挙げること
が出来る。
The composition of the present invention may optionally contain
It is also possible to blend the reinforcing material and / or the filler material shown below. Examples of these reinforcing materials and / or fillers include powdery, flat, scale-like, needle-like, spherical or hollow and fibrous forms. Specifically, calcium sulfate, calcium silicate, clay, talc, alumina, silica sand, glass powder, metal powder, graphite, silicon carbide, silicon nitride, silica, boron nitride, aluminum nitride,
Granular filler such as carbon black, mica, glass plate, sericite, metal foil such as aluminum flake, flat or scale-like filler such as graphite, shirasu balloon, metal balloon, hollow filler such as glass balloon, Examples thereof include organic fibrous fillers such as glass fibers, carbon fibers, graphite fibers, whiskers, metal fibers, asbestos, wosnite, fibrous fillers and aromatic polyamide fibers.

【0110】更に本発明の組成物には本発明の要旨を逸
脱しない範囲であればその他の熱可塑性樹脂を添加して
も差し支えない。その他の熱可塑性樹脂としてはポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、イミド変性ポ
リスチレン、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンテレフタレ−ト、、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリ
ブチレンナフタレ−ト、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ABS樹脂、イミド変性ABS樹脂、AES樹脂、
ポリサルホン、ポリフェニレンエ−テル、ポリフェニレ
ンエ−テルとポリスチレンとの共重合体および/または
混合物、ポリエ−テルサルホン、ポリスルフィドケト
ン、ポリスルフィドサルホン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアミドイミド等の熱可塑性樹脂、ポリエステ
ル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン
系、ポリスチレン系等の熱可塑性エラストマ−、および
これら熱可塑性エラストマーをグリシジル基、カルボン
酸及びその酸無水物、アミノ基、イソシアネート基、メ
ルカプト基、オキサゾリン基等の有機官能基を含む有機
化合物により変性された変性体等が挙げられる。好まし
くは、ポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレ−ト、
ポリアミド、ポリフェニレンエ−テル、ポリフェニレン
エ−テルとポリスチレンとの共重合体および/または混
合物である。
Further, other thermoplastic resins may be added to the composition of the present invention within a range not departing from the gist of the present invention. Other thermoplastic resins include polyethylene, polypropylene, polystyrene, imide-modified polystyrene, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polyamide, polycarbonate, ABS resin. , Imide-modified ABS resin, AES resin,
Polysulfone, polyphenylene ether, copolymer and / or mixture of polyphenylene ether and polystyrene, thermoplastic resin such as polyethersulfone, polysulfide ketone, polysulfide sulfone, polyetheretherketone, polyamideimide, polyester system, Polyamide-based, polyurethane-based, polyolefin-based, polystyrene-based, etc. thermoplastic elastomers, and these thermoplastic elastomers, glycidyl groups, carboxylic acids and acid anhydrides thereof, amino groups, isocyanate groups, mercapto groups, oxazoline groups and other organic functional Examples include modified products modified with an organic compound containing a group. Preferably, polypropylene, polybutylene terephthalate,
Polyamide, polyphenylene ether, copolymer and / or mixture of polyphenylene ether and polystyrene.

【0111】また本発明では従来PAS樹脂の結晶化促
進効果のあるイミド基含有有機化合物および/または他
のピペリジン系化合物と本発明とを併用しても差し支え
ない。
In the present invention, the imide group-containing organic compound and / or another piperidine compound having a crystallization promoting effect on the PAS resin may be used together with the present invention.

【0112】本発明では、更にまた本発明の要旨を逸脱
しない範囲に於て水酸化マグネシウム、水酸化アルミニ
ウム、三酸化アンチモン等の無機難燃剤、ハロゲン系、
リン系等の有機難燃剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、滑
剤、分散剤、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤、発泡剤、架橋剤、着色剤、可塑剤等の添加剤を添
加することができる。
In the present invention, an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide or antimony trioxide, a halogen-based compound, a halogen-based compound,
Add additives such as phosphorus-based organic flame retardants, antioxidants, UV inhibitors, lubricants, dispersants, silane coupling agents, titanium coupling agents, foaming agents, crosslinking agents, colorants, plasticizers, etc. You can

【0113】本発明のPAS樹脂組成物から成形品を製
造する方法としては一般的な製造方法が用いられる。最
も一般的な方法は配合物を適当な混合機例えばタンブラ
ー、ヘンシェルミキサー、タンブラー等で均一に混合
し、押出機に供給して溶融混練し、ストランド状に押し
出したものを冷却し、切断し、成形材料用の製品(例え
ばペレット)とした後、これを金型表面温度が120℃
未満、好ましくは90℃以上120℃未満で、シリンダ
ー温度がPAS樹脂の融点に対して−30℃〜100℃
の範囲に設定した成形機に供給し、溶融混練し、射出成
形する方法がある。簡単には、押出工程を省略して、本
発明の配合物を金型表面温度が120℃未満好ましくは
90℃以上120℃未満でかつシリンダー温度がPAS
樹脂の融点に対して−30℃〜100℃の範囲に設定し
た射出成形機に供給し、溶融混練し、射出成形する方法
もとることも出来るが、特にこれに規定するものではな
い。
As a method for producing a molded article from the PAS resin composition of the present invention, a general production method is used. The most common method is to uniformly mix the blend with a suitable mixer such as a tumbler, a Henschel mixer, a tumbler, etc., supply to an extruder, melt-knead, and extrude into a strand, cool and cut, After forming a product for molding material (for example, pellets), the mold surface temperature is 120 ° C.
Below 90 ° C, preferably below 120 ° C, and the cylinder temperature is -30 ° C to 100 ° C with respect to the melting point of the PAS resin.
There is a method of supplying to a molding machine set in the above range, melt-kneading, and injection molding. Briefly, omitting the extrusion step, the formulation of the present invention has a mold surface temperature of less than 120 ° C, preferably 90 ° C or more and less than 120 ° C and a cylinder temperature of PAS.
A method in which the resin is supplied to an injection molding machine set in the range of −30 ° C. to 100 ° C. with respect to the melting point of the resin, melt-kneaded, and injection-molded may be used, but is not particularly limited thereto.

【0114】既に述べたように本発明組成物では、90
℃以上、120℃未満の比較的低温の金型表面温度でも
成形後に120℃以上でアニーリングを行う必要はなく
そのままで結晶化が充分進んだ成形品が得られる。
As described above, in the composition of the present invention, 90
It is not necessary to anneal at 120 ° C. or more after molding even at a relatively low mold surface temperature of ℃ or more and less than 120 ° C., and a molded product in which crystallization is sufficiently advanced can be obtained as it is.

【0115】本発明組成物は、従来のPAS樹脂組成物
に比べて低温の金型温度で成形可能であり、機械的特
性、耐熱性を損なわない。従って従来のPAS樹脂と同
様に各種機能部品としての用途に使用可能であり、例え
ば射出成形品としては自動車部品、電機、電子部品、封
止用材料、また押し出し成形品としてはー般的に行われ
る異形押出、チューブ、ホース、パイプ、繊維、フィル
ム、電線被覆等の押し出し用材料、ブロー成形、回転成
形用材料として有用である。
The composition of the present invention can be molded at a mold temperature lower than that of the conventional PAS resin composition and does not impair mechanical properties and heat resistance. Therefore, it can be used for various functional parts like conventional PAS resins. For example, injection molded products are generally used as automobile parts, electric machines, electronic parts, sealing materials, and extrusion molded products. It is useful as a profile extrusion, tube, hose, pipe, fiber, film, extrusion material such as wire coating, blow molding, and rotational molding material.

【0116】[0116]

【実施例】さらに実施例により本発明を説明する。The present invention will be further described with reference to examples.

【0117】(1)PAS樹脂のメルトインデックス
(MI)の測定 約6gのサンプルを120℃/3時間乾燥した後、直径
2.096mm、長さ8.001mmのオリフィスを用
いて所定の温度(315.6 ℃ )に設定したメルトイ
ンデクサ−(東洋精機製 T01型)に投入し、気泡を
取り除いた後、所定の荷重(5000g)をかけ、5分
間予熱した後、測定する。
(1) Melt index of PAS resin
(MI) Measurement After drying about 6 g of the sample at 120 ° C. for 3 hours, the melt indexer () was set to a predetermined temperature (315.6 ° C.) using an orifice having a diameter of 2.096 mm and a length of 8.001 mm. Toyo Seiki Co., Ltd. T01 type), after removing air bubbles, applying a predetermined load (5000 g) and preheating for 5 minutes, and then measuring.

【0118】(2)HDT(熱歪み温度)測定方法 測定はASTM D648に準じて行う。 試験片 : 長さ125mmx幅12.5mmx厚み3.0mm(射出成形
品) 測定器 : (株)東洋精機製作所製 HDTテスター S3FH
型 荷重 : 4.6kgf/cm2
(2) HDT (Heat Strain Temperature) Measuring Method The measurement is carried out according to ASTM D648. Test piece: length 125 mm x width 12.5 mm x thickness 3.0 mm (injection molded product) Measuring instrument: HDT tester S3FH manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.
Mold load: 4.6kgf / cm 2

【0119】(3)PAS樹脂のガラス転移温度、結晶
化温度(TC1、TC2)、融点の測定 本発明の組成物を金型表面温度30℃±10℃に設定
し、シリンダー温度がPAS樹脂の融点に対して−30
℃〜100℃に設定した射出成形機に供給し、厚さ約
0.5mmのシ−トを成形する。このシ−トはほぼ非晶
状態で透明性を有する。ガラス転移温度、結晶化温度、
および融点は、このシート約6mgをDSCにて50℃
から20℃/minの昇温速度で350℃まで昇温し、
350℃で3分間保持した後、20℃/minの冷却速
度で150℃まで冷却する。Journal of Polymer Scien
nce;Part B;Polymer Physics ,Vol.30,163-176(1992)に
従い、昇温時にあらわれるガラス転移温度(Tg)、お
よび結晶化発熱ピークのピーク温度を昇温結晶化温度
(TC1)として、また、吸熱ピークを融点(Tm)とし
て測定した。また、冷却時にあらわれる発熱ピークを降
温結晶化温度(T C2)として測定した。
[0119](3) Glass transition temperature and crystal of PAS resin
Temperature (T C1 , T C2 ) and melting point The composition of the present invention was set to a mold surface temperature of 30 ° C. ± 10 ° C.
However, the cylinder temperature is -30 with respect to the melting point of the PAS resin.
Supply to the injection molding machine set to ℃ ~ 100 ℃, thickness
A 0.5 mm sheet is molded. This sheet is almost amorphous
It has transparency in the state. Glass transition temperature, crystallization temperature,
And the melting point is about 6 mg of this sheet by DSC at 50 ° C.
To 20 ° C / min to 350 ° C,
After holding at 350 ° C for 3 minutes, cooling rate of 20 ° C / min
Cool down to 150 ° C. Journal of Polymer Scien
nce; Part B; Polymer Physics, Vol.30, 163-176 (1992)
Therefore, the glass transition temperature (Tg) that appears when the temperature rises,
And the peak temperature of the crystallization exothermic peak is raised.
(TC1), And the endothermic peak as the melting point (Tm)
Measured. Also, the exothermic peak that appears during cooling is reduced.
Warm crystallization temperature (T C2) Was measured.

【0120】通常、特開昭55ー139448号公報、
プラスチックエージ Vol.28,No.9,106-113(1982),Jour
nal of Polymer Sciennce;Part B;Polymer Physics ,Vo
l.30,163-176(1992)等にも述べられているように、Tg
が低く、TC1が低い方が比較的低温の金型で成形可能と
なり、TC2が高い方が成形サイクルが速いと言われ、射
出成形にはTC1とTC2の両方を満足する必要がある。
Usually, JP-A-55-139448,
Plastic Age Vol.28, No.9, 106-113 (1982), Jour
nal of Polymer Sciennce; Part B; Polymer Physics, Vo
As described in l.30, 163-176 (1992), Tg
It is said that a mold having a low T c1 and a low T c1 can be molded by a relatively low temperature mold, and a mold having a high T c2 has a faster molding cycle. Therefore, it is necessary for injection molding to satisfy both T c1 and t c2. is there.

【0121】 測定器 : パーキンエルマー社製 DSC7 雰囲気 : 窒素雰囲気中Measuring instrument: Perkin-Elmer DSC7 atmosphere: In nitrogen atmosphere

【0122】(4)有機化合物(B)の融点 本発明で言うピペリジン系化合物(B)の融点とは光学
顕微鏡を用いて測定されるもので具体的には、固体のピ
ペリジン系化合物(B)0.5〜10mgを市販のスラ
イドガラスに取り、市販のカバーガラス加熱ステージ
(メトラー社製FP82)にセットし、これをそのまま
光学顕微鏡(Nikon製、MicrophotoーF
X)のステージにのせる。顕微鏡の倍率を100倍に
し、白色光を用い、透過方式で観察する。加熱ステージ
を30℃から温度調節器(メトラー社製 FP800
0)を用いて昇温速度 20℃/minで昇温し、白色光
が完全に透過する温度を融点とした。
(4) Melting Point of Organic Compound (B) The melting point of the piperidine compound (B) referred to in the present invention is measured by using an optical microscope, and specifically, it is a solid piperidine compound (B). 0.5 to 10 mg was taken on a commercially available slide glass and set on a commercially available cover glass heating stage (FP82 manufactured by METTLER CORPORATION), which was directly used as an optical microscope (manufactured by Nikon, Microphoto-F).
X) on the stage. The magnification of the microscope is set to 100 times, and observation is performed by a transmission method using white light. From the heating stage from 30 ℃ to temperature controller (FP800 manufactured by METTLER CORPORATION)
0) was used to raise the temperature at a rate of 20 ° C./min, and the temperature at which white light was completely transmitted was taken as the melting point.

【0123】実施例1〜3、比較例1 PPS樹脂(A)としてMIが300g/10分、ナト
リウム含有量356ppmの熱水洗したリニアー型PP
S樹脂を、ピペリジン系化合物(B)として、下記構造
Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 As the PPS resin (A), linear type PP washed with hot water having MI of 300 g / 10 min and sodium content of 356 ppm.
S resin as a piperidine compound (B), the following structural formula

【0124】[0124]

【化57】 Embedded image

【0125】で示される、j=0:29wt%、j=
1:58wt%、j=2:13wt%、j=3:0wt
%の組成からなる混合物であって23℃で液状のピペリ
ジン系化合物(B)をそれぞれ用い、表ー1に示す配合
でタンブラーを用いてブレンドし、バレル温度290℃
に設定した二軸押し出し機(TEM−35B 東芝機械
製)で混練りし、押し出したストランドを冷却固化後、
ペレット化した。得られたペレットを120℃で4時間
乾燥した後、射出成形機(IS−50AM:東芝機械
製)でシリンダ−温度 290℃、金型表面温度 10
0℃および 150℃で成形し、HDT測定用試験片を
得た。また、前述した方法に従って、Tg、TC 1
C2、Tmを測定した。
J = 0: 29 wt%, j =
1:58 wt%, j = 2: 13 wt%, j = 3: 0 wt
% Of each of the piperidine compounds (B) which are liquid at 23 ° C. and blended by using a tumbler with the composition shown in Table 1 and a barrel temperature of 290 ° C.
After kneading with a twin-screw extruder (TEM-35B made by Toshiba Machine) set to, the extruded strand is cooled and solidified,
Pelletized. After drying the obtained pellets at 120 ° C. for 4 hours, the cylinder temperature was 290 ° C. and the mold surface temperature was 10 ° C. with an injection molding machine (IS-50AM: manufactured by Toshiba Machine).
Molding was performed at 0 ° C. and 150 ° C. to obtain HDT measurement test pieces. In addition, according to the method described above, Tg, T C 1 ,
T C2 and Tm were measured.

【0126】また、比較例としてPPS樹脂単独(比較
例1)について同様に試験(金型表面温度 100℃お
よび150℃)した。結果を表−1に示す。
As a comparative example, the PPS resin alone (Comparative Example 1) was similarly tested (mold surface temperature: 100 ° C. and 150 ° C.). The results are shown in Table 1.

【0127】[0127]

【表1】 [Table 1]

【0128】結果から明らかなように本発明では融点を
低下させること無く、結晶化速度が速くなり、120℃
以下の金型温度で充分成形可能であり、また高温金型に
よる成形品と同等の耐熱性を持つ成形品が得られる。
As is clear from the results, in the present invention, the crystallization rate is increased without lowering the melting point, and
Molding is possible at the following mold temperatures, and a molded product having heat resistance equivalent to that of a molded product using a high temperature mold is obtained.

【0129】実施例4〜6、比較例2 PPS樹脂(A)としてMIが160g/10分、ナト
リウム含有量450ppmの熱水洗したリニアー型PP
S樹脂を、ピペリジン系化合物(B)として、下記構造
Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 As the PPS resin (A), linear type PP washed with hot water having an MI of 160 g / 10 min and a sodium content of 450 ppm.
S resin as a piperidine compound (B), the following structural formula

【0130】[0130]

【化58】 Embedded image

【0131】で示され、かつ、融点50℃のピペリジン
系化合物(B)をそれぞれ用い、表ー2に示す配合でタ
ンブラーを用いてブレンドし、バレル温度290℃に設
定した二軸押し出し機(TEM−35B 東芝機械製)
で混練りし、押し出したストランドを冷却固化後、ペレ
ット化した。得られたペレットを120℃で4時間乾燥
した後、射出成形機(IS−50AM:東芝機械製)で
シリンダ−温度 290℃、金型表面温度 100℃お
よび 150℃で成形し、HDT測定用試験片を得た。
また、前述した方法に従って、Tg、TC1、TC2、Tmを
測定した。
Each of the piperidine-based compounds (B) having the melting point of 50 ° C. and the blending ratio shown in Table 2 was blended using a tumbler, and a twin-screw extruder (TEM) set at a barrel temperature of 290 ° C. -35B made by Toshiba Machine)
Was kneaded, and the extruded strand was cooled and solidified, and then pelletized. After drying the obtained pellets at 120 ° C. for 4 hours, the pellets were molded with an injection molding machine (IS-50AM: manufactured by Toshiba Machine) at a cylinder temperature of 290 ° C., a mold surface temperature of 100 ° C. and 150 ° C., and an HDT measurement test. Got a piece.
Also, Tg, T C1 , T C2 , and Tm were measured according to the method described above.

【0132】また、比較例としてPPS樹脂単独(比較
例2)について同様に試験(金型表面温度 100℃お
よび150℃)した。結果を表−2に示す。
As a comparative example, the PPS resin alone (Comparative Example 2) was similarly tested (mold surface temperature: 100 ° C. and 150 ° C.). Table 2 shows the results.

【0133】[0133]

【表2】 [Table 2]

【0134】結果から明らかなように本発明では融点を
低下させること無く、結晶化速度が速くなり、120℃
以下の金型温度で充分成形可能であり、また高温金型に
よる成形品と同等の耐熱性を持つ成形品が得られる。
As is apparent from the results, in the present invention, the crystallization rate is increased without lowering the melting point, and
Molding is possible at the following mold temperatures, and a molded product having heat resistance equivalent to that of a molded product using a high temperature mold is obtained.

【0135】実施例7〜9 PPS樹脂(A)としてMIが450g/10分、ナト
リウム含有量650ppmのN−メチルピロリドンで溶
媒洗浄したリニアー型PPS樹脂を、ピペリジン系化合
物(B)として、下記構造式
Examples 7 to 9 Linear PPS resins solvent-washed with N-methylpyrrolidone having an MI of 450 g / 10 minutes and a sodium content of 650 ppm as PPS resins (A) were used as piperidine-based compounds (B) and had the following structures. formula

【0136】[0136]

【化59】 Embedded image

【0137】で示され、かつ、j=0:29wt%、j
=1:58wt%、j=2:13wt%、j=3:0w
t%の組成からなる混合物であって23℃で液状のピペ
リジン系化合物(B)を、結晶核剤としてタルク(ミク
ロンホワイト 5000 林化成)、芳香族リン系化合
物のナトリウム塩(NAー11 旭電化工業製)をそれ
ぞれ用い、表ー3に示す配合でタンブラーを用いてブレ
ンドし、バレル温度290℃に設定した二軸押し出し機
(TEM−35B 東芝機械製)で混練りし、押し出し
たストランドを冷却固化後、ペレット化した。得られた
ペレットを120℃で4時間乾燥した後、射出成形機
(IS−50AM:東芝機械製)でシリンダ−温度 2
90℃、金型表面温度 100℃および 150℃で成
形し、HDT測定用試験片を得た。また、前述した方法
に従って、Tg、TC1、TC2、Tmを測定した。結果を表
−3に示す。
And j = 0: 29 wt%, j
= 1: 58 wt%, j = 2: 13 wt%, j = 3: 0w
a mixture of t% and a liquid of piperidine compound (B) at 23 ° C., talc (Micron White 5000 Hayashi Kasei) as a crystal nucleating agent, sodium salt of aromatic phosphorus compound (NA-11 Asahi Denka Co., Ltd.) (Manufactured by Kogyo Co., Ltd.) and blended by using a tumbler with the composition shown in Table 3, and kneaded by a twin-screw extruder (TEM-35B manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) having a barrel temperature of 290 ° C. After solidification, it was pelletized. After drying the obtained pellets at 120 ° C. for 4 hours, the cylinder temperature was 2 using an injection molding machine (IS-50AM: manufactured by Toshiba Machine).
Molding was performed at 90 ° C., mold surface temperature of 100 ° C. and 150 ° C. to obtain a HDT measurement test piece. Also, Tg, T C1 , T C2 , and Tm were measured according to the method described above. The results are shown in Table-3.

【0138】[0138]

【表3】 [Table 3]

【0139】結果から明らかなように本発明では融点を
低下させること無く、結晶化速度が速くなり、120℃
以下の金型温度で充分成形可能であり、また高温金型に
よる成形品と同等の耐熱性を持つ成形品が得られる。
As is clear from the results, in the present invention, the crystallization rate is increased without lowering the melting point, and
Molding is possible at the following mold temperatures, and a molded product having heat resistance equivalent to that of a molded product using a high temperature mold is obtained.

【0140】実施例10〜14 ピペリジン系化合物(B)として下記に示す化合物を用
いた以外は実施例1と同様にPPS樹脂を用い、表ー4
に示す配合で実施例1と同様に実験を行った。結果を表
ー4に示す。
Examples 10 to 14 PPS resins were used in the same manner as in Example 1 except that the following compounds were used as the piperidine compound (B).
An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in. The results are shown in Table-4.

【0141】・ピペリジン系化合物(B−1) 4ーベンゾイルオキシー2,2,6,6ーテトラメチル
ピペリジン、 ・ピペリジン系化合物(B−2) 8ーアセチルー3ードデシルー7,7,9,9ーテトラ
メチルー1,3,8ートリアザスピロ(4.5)デカン
ー2,4ージオン、 ・ピペリジン系化合物(B−3) 1,2,2,6,6ーペンタメチルー4ーピペリジルメ
タクリレート、 ・ピペリジン系化合物(B−4) 2,2,6,6ーテトラメチルー4ーピペリジルメタク
リレート
Piperidine compound (B-1) 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, piperidine compound (B-2) 8-acetyl-3dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1 , 3,8-Triazaspiro (4.5) decane-2,4-dione, piperidine compound (B-3) 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate, piperidine compound (B-4) 2 , 2,6,6-Tetramethyl-4-piperidyl methacrylate

【0142】[0142]

【表4】 [Table 4]

【0143】結果から明らかなように本発明組成物は1
00℃の金型温度で十分成形可能である。
As is clear from the results, the composition of the present invention was 1
It can be sufficiently molded at a mold temperature of 00 ° C.

【0144】[0144]

【発明の効果】結晶化速度が速く、金型温度が120℃
未満の成形機により成形した成形品でも、金型温度が1
50℃の成形機で成形した成形品と同等の耐熱性、成形
品外観を持っている。従って本発明組成物を用いれば低
温成形加工が可能であり、成形作業性が向上し、作業員
の安全性にも有利である。
The crystallization rate is high and the mold temperature is 120 ° C.
Mold temperature is less than 1
It has the same heat resistance and molded product appearance as a molded product molded by a molding machine at 50 ° C. Therefore, when the composition of the present invention is used, low-temperature molding can be performed, the molding workability is improved, and it is advantageous for the safety of workers.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)
と、下記ー般式(1)で表されるテトラメチルピペリジ
ル基を分子末端に少なくとも1個以上有する化合物であ
って、かつその融点が100℃以下の固状もしくは液状
のピペリジン系化合物(B)とを含んでなることを特徴
とする低温成形用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成
物。 【化1】 (上記式中、R1は水素原子、アルキル基またはアシル
基を示し、Xは、 【化2】 または 【化3】 を示し、ここでR2は低級アルキル基を示す。)
1. A polyarylene sulfide resin (A)
And a compound having at least one tetramethylpiperidyl group represented by the following general formula (1) at the molecular end and having a melting point of 100 ° C. or lower, which is a solid or liquid piperidine compound (B) A polyarylene sulfide resin composition for low-temperature molding, comprising: Embedded image (In the above formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group, and X represents Or Wherein R2 represents a lower alkyl group. )
【請求項2】 請求項1記載のポリアリーレンスルフィ
ド樹脂(A)、ピペリジン系化合物(B)に加えて、更
に結晶核剤(C)を含んでなることを特徴とする低温成
形用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物。
2. A polyarylene sulfide for low-temperature molding, which further comprises a crystal nucleating agent (C) in addition to the polyarylene sulfide resin (A) and the piperidine compound (B) according to claim 1. Resin composition.
【請求項3】 請求項1または2記載のポリアリーレン
スルフィド樹脂組成物を120℃未満の金型温度で射出
成形することを特徴とするポリアリーレンスルフィド樹
脂組成物の成形方法。
3. A method for molding a polyarylene sulfide resin composition, which comprises subjecting the polyarylene sulfide resin composition according to claim 1 or 2 to injection molding at a mold temperature of less than 120 ° C.
【請求項4】 請求項3記載の成形方法によって得られ
たポリアリーレンスルフィド樹脂成形品。
4. A polyarylene sulfide resin molded product obtained by the molding method according to claim 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH1199546A (en) * 1997-09-29 1999-04-13 Kureha Chem Ind Co Ltd Manufacture of polyallylene sulfide molding
JP2018065966A (en) * 2016-10-21 2018-04-26 Dic株式会社 Polyarylene sulfide resin composition, molded article and method for producing them

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JP2018065966A (en) * 2016-10-21 2018-04-26 Dic株式会社 Polyarylene sulfide resin composition, molded article and method for producing them

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