JPH09306808A - Mask blank conductive structure - Google Patents
Mask blank conductive structureInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置において、マスクブランクのチャージアップを防止す
るために、マスクブランクを試料ステージにセットする
際に、マスクブランクにアースを接続するために使用さ
れるマスクブランク導通機構に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used in an electron beam drawing apparatus for connecting a ground to a mask blank when setting the mask blank on a sample stage in order to prevent charge up of the mask blank. Mask blank conduction mechanism.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子ビーム描画装置においてマスクブラ
ンクにアースを接続する場合、一般的には、アースに接
続されたナイフエッジを使用して、このナイフエッジを
マスクブランクの縁部付近でマスクブランクの表面側に
形成された金属薄膜蒸着面に押し当てることによって、
アースを取っていた。2. Description of the Related Art When an earth is connected to a mask blank in an electron beam writer, a knife edge connected to the earth is generally used, and this knife edge is placed near the edge of the mask blank. By pressing against the metal thin film deposition surface formed on the surface side,
It was grounded.
【0003】マスクホルダを使用せずに、マスクブラン
クを直接、試料ステージの上にセットする場合には、ナ
イフエッジの刃の部分が試料ステージに対向する様にナ
イフエッジを試料ステージの上に配置し、マスクブラン
クを裏面側から押し上げて、マスクブランクを固定する
と同時に、アースを取っていた。When the mask blank is set directly on the sample stage without using the mask holder, the knife edge is placed on the sample stage so that the blade edge portion of the knife edge faces the sample stage. Then, the mask blank was pushed up from the back side to fix the mask blank, and at the same time grounded.
【0004】また、マスクホルダを使用してマスクブラ
ンクを試料ステージの上にセットする場合には、マスク
ホルダ上に旋回可能に取り付けられたナイフエッジと、
バネの力によって押し上げられるマスクホルダの上面と
の間に、マスクブランクの縁部を挟み込んで、アースを
取っていた。なお、マスクブランクをマスクホルダにセ
ットする際は、マスクブランクをマスクホルダの上面と
平行に滑らせて、アースをマスクブランクの縁部付近の
表面に接触させていた。When the mask blank is set on the sample stage using the mask holder, a knife edge pivotally mounted on the mask holder,
The edge of the mask blank is sandwiched between the upper surface of the mask holder and the upper surface of the mask holder, which is pushed up by the force of the spring, and grounded. When setting the mask blank on the mask holder, the mask blank was slid parallel to the upper surface of the mask holder to bring the ground into contact with the surface of the mask blank near the edge.
【0005】以上の様に、従来のマスクブランク導通機
構では、マスクブランクの裏面をその縁部付近で、試料
ステージ、マスクホルダ、あるいはマスクホルダの上面
に設けられた基準面などに押し付けることになるので、
マスクブランクの裏面とマスクホルダとの間に隙間があ
ると、マスクブランクにアースを取る際にその表面側か
ら加えられる押し付け力によって、マスクブランクに撓
みが生ずると言う問題があった。As described above, in the conventional mask blank conduction mechanism, the back surface of the mask blank is pressed near the edge thereof against the sample stage, the mask holder, or the reference surface provided on the upper surface of the mask holder. So
If there is a gap between the back surface of the mask blank and the mask holder, there is a problem that the mask blank is bent by the pressing force applied from the front surface side when grounding the mask blank.
【0006】例えば、マスクブランクが裏面側で間隔L
で支持され、支点の中間部においてマスクブランクの裏
面とマスクホルダの上面との間に隙間δがある場合、そ
の中間部をナイフエッジで押し付けて、δの撓みを与え
たと仮定すると、マスクブランクの厚みをtとして、マ
スクブランクの表面の歪みΔは、 Δ=4tδ/L で与えられる。ここで、t=5mm、δ=1μm、L=
100mmとすると、Δ=0.2μmとなり、マスクブ
ランクの表面に0.2μmの歪みを生ずることになる。For example, the mask blank has an interval L on the back surface side.
If there is a gap δ between the back surface of the mask blank and the upper surface of the mask holder in the middle part of the fulcrum, it is assumed that the middle part is pressed with a knife edge and a deflection of δ is given. The strain Δ of the surface of the mask blank is given by Δ = 4tδ / L 2 where t is the thickness. Here, t = 5 mm, δ = 1 μm, L =
If it is 100 mm, Δ = 0.2 μm, and 0.2 μm of strain is generated on the surface of the mask blank.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の様な
問題点に鑑みてなされたもので、本発明は、マスクブラ
ンクに撓みを生じさせることなく,マスクブランクにア
ースを接続するマスクブランク導通機構を提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and the present invention is a mask blank for connecting the ground to the mask blank without causing bending of the mask blank. It is intended to provide a conduction mechanism.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明のマスクブランク
導通機構は、マスクブランクを電子ビーム描画装置の試
料ステージにセットする際に、マスクブランクの表面側
に形成された金属薄膜蒸着面にアースを接続するために
使用されるものであって、上部クランプ片と下部クラン
プ片とを備え、マスクブランクの縁部付近を表面及び裏
面から挟むことによりマスクブランクに固定されるクラ
ンプと、前記上部クランプ片に隣接し、かつ前記下部ク
ランプ片に対向して揺動可能に取り付けられ、バネによ
りマスクブランクの縁部の表面側の面取り部に食い込む
様に配置されたナイフエッジと、を備えたことを特徴と
する。According to the mask blank conduction mechanism of the present invention, when the mask blank is set on the sample stage of the electron beam drawing apparatus, the metal thin film deposition surface formed on the surface side of the mask blank is grounded. A clamp used for connecting, comprising an upper clamp piece and a lower clamp piece, the clamp being fixed to the mask blank by sandwiching the vicinity of the edge of the mask blank from the front surface and the back surface, and the upper clamp piece. A knife edge which is adjacent to the lower clamp piece and is swingably attached so as to face the lower clamp piece, and is arranged so as to bite into the chamfered portion on the surface side of the edge portion of the mask blank by a spring. And
【0009】本発明のマスクブランク導通機構では、マ
スクブランクの端面付近を上部及び下部クランプ片によ
って挟み込むとともに、下部クランプ片に対向するナイ
フエッジがマスクブランクの縁部の表面側の面取り部に
食い込んで、アースが取られる様になっているので、ア
ースを接触させる際の力によって、マスクブランクに撓
みを生じさせることはない。In the mask blank conducting mechanism of the present invention, the vicinity of the end face of the mask blank is sandwiched by the upper and lower clamp pieces, and the knife edge facing the lower clamp piece bites into the chamfered portion on the surface side of the edge of the mask blank. Since the ground is provided, the mask blank is not bent by the force when the ground is brought into contact with the mask blank.
【0010】また、ナイフエッジを上部クランプ片とナ
イフエッジとの間に設けたバネにより、面取り部に食い
込む付勢力を与えるようにすれば、マスクブランクの厚
さが変化しても、食い込み力をほぼ一定にすることがで
きる。Further, if a spring provided on the knife edge between the upper clamp piece and the knife edge is used to apply an urging force that bites into the chamfered portion, the biting force is maintained even if the thickness of the mask blank changes. It can be almost constant.
【0011】また、前記クランプを、マスクブランクの
表面に平行な面内で旋回可能な旋回アームの先端に接続
することによって、マスクブランクをマスクホルダにセ
ットする際、前記クランプをマスクブランクの端部の外
側に逃がしておくことができるので、マスクブランクを
上方からマスクホルダに近付けることが可能になり、作
業性が向上するとともに、マスクブランクの裏面を傷付
ける危険を減らすことができる。この場合には、マスク
ブランクの表面に垂直な方向の旋回軸を、マスクブラン
クがセットされるマスクホルダで支持して、この旋回軸
に前記旋回アームの基部を取り付ける。When the mask blank is set on the mask holder by connecting the clamp to the tip of a swivel arm that can swivel in a plane parallel to the surface of the mask blank, the clamp is attached to the end portion of the mask blank. Since it can be released to the outside of the mask blank, the mask blank can be brought closer to the mask holder from above, workability is improved, and the risk of scratching the back surface of the mask blank can be reduced. In this case, the swivel axis perpendicular to the surface of the mask blank is supported by the mask holder on which the mask blank is set, and the swivel arm is attached to the swivel base.
【0012】また、前記クランプを、マスクブランクの
表面に垂直な方向の軸を介して前記旋回アームの先端部
に取り付けて、マスクブランクの表面に対して垂直方向
の位置の調整が可能な様に構成すれば、マスクブランク
の厚みのバラツキに起因してマスクブランクに変形が生
ずることを防止することができる。なお、前記クランプ
を、前記アームの先端部に対して着脱可能に構成すれ
ば、マスクブランクのサイズの変化に応じて前記クラン
プを交換することが可能になる。Further, the clamp is attached to the tip of the revolving arm via an axis in a direction perpendicular to the surface of the mask blank so that the position in the direction perpendicular to the surface of the mask blank can be adjusted. With this structure, it is possible to prevent the mask blank from being deformed due to the variation in the thickness of the mask blank. If the clamp is configured to be attachable to and detachable from the tip of the arm, the clamp can be replaced according to the change in size of the mask blank.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の一例を図1
から図6を用いて説明する。図1は、本発明に基くマス
クブランク導通機構を備えた電子ビーム描画装置の試料
ステージの平面図であり、図2は、図1のA−A部断面
図である。図中、10は試料ステージ、20はマスクホ
ルダ、1はマスクブランク、11はマスクブランク1を
所定高さに支持するための高さ基準部材、30は本発明
に基くマスクブランク導通機構を表す。FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention.
From now on, description will be made with reference to FIG. 1 is a plan view of a sample stage of an electron beam drawing apparatus equipped with a mask blank conduction mechanism according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. In the figure, 10 is a sample stage, 20 is a mask holder, 1 is a mask blank, 11 is a height reference member for supporting the mask blank 1 at a predetermined height, and 30 is a mask blank conducting mechanism based on the present invention.
【0014】マスクブランク1は、マスクホルダ20に
セットされ、マスクホルダ20は、試料ステージ10の
上にセットされる。マスクブランク1は、試料ステージ
10に隣接して配置されたマスクセット位置(図示せ
ず)において、後述する様にマスクホルダ20にセット
され、試料ステージ10の上に搬入される。The mask blank 1 is set on the mask holder 20, and the mask holder 20 is set on the sample stage 10. The mask blank 1 is set in a mask holder 20 as described later at a mask setting position (not shown) arranged adjacent to the sample stage 10, and is carried onto the sample stage 10.
【0015】試料ステージ10の上面には、複数の高さ
基準部材11が配列されている。これらの高さ基準部材
11は、マスクホルダ20に設けられたスリット状の開
口部21を貫通して、マスクブランク1の下面に接触
し、マスクブランク1を支持する。なお、この例では、
高さ基準部材11としてピン形状の部材を用いている
が、マスクブランクの裏面を支持するものであれば、他
の形状でもかまわない。この他、マスクホルダ20に
は、マスクブランク1をセットする際のガイドを兼ねた
ローラ状の支持部材22が配置されている。A plurality of height reference members 11 are arranged on the upper surface of the sample stage 10. These height reference members 11 penetrate the slit-shaped openings 21 provided in the mask holder 20, contact the lower surface of the mask blank 1, and support the mask blank 1. In this example,
Although a pin-shaped member is used as the height reference member 11, any other shape may be used as long as it supports the back surface of the mask blank. In addition, the mask holder 20 is provided with a roller-shaped support member 22 that also serves as a guide when setting the mask blank 1.
【0016】また、マスクホルダ20の表面の、マスク
ブランク1の端面に該当する位置には、マスクブランク
1をマスクホルダ20の表面に平行な面上の所定位置に
位置決めする3本の基準ピン23、24、25と、マス
クブランク1をこれらの基準ピン23、24、25に対
して押し付ける一対のクランパ26とが配置されてい
る。更に、マスクホルダ20の表面の、マスクブランク
1の端面近傍に該当する位置には、本発明に基くマスク
ブランク導通機構30が取り付けられている。At the position corresponding to the end face of the mask blank 1 on the surface of the mask holder 20, three reference pins 23 for positioning the mask blank 1 at a predetermined position on a plane parallel to the surface of the mask holder 20. , 24, 25 and a pair of clampers 26 for pressing the mask blank 1 against these reference pins 23, 24, 25. Further, a mask blank conduction mechanism 30 according to the present invention is attached to the surface of the mask holder 20 at a position corresponding to the vicinity of the end surface of the mask blank 1.
【0017】図3及び図4に、このマスクブランク導通
機構30の拡大図を示す。図3は平面図であり、図4は
図3のB−B部断面図である。図3及び図4に示す様
に、このマスクブランク導通機構30は、旋回アーム3
2、下部クランプ片37A及び上部クランプ片37Bか
らなるクランプ31、及びナイフエッジ38などにより
構成されている。3 and 4 are enlarged views of the mask blank conducting mechanism 30. As shown in FIG. 3 is a plan view, and FIG. 4 is a sectional view taken along line BB in FIG. As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the mask blank conduction mechanism 30 includes the swivel arm 3
2, a clamp 31 including a lower clamp piece 37A and an upper clamp piece 37B, a knife edge 38, and the like.
【0018】旋回アーム32の基部は、マスクホルダ2
0の上面に平行な横軸33を介して、マスクホルダ20
の上面に垂直な旋回軸34に取り付けられ、この旋回軸
34は、マスクホルダ20に設けられた軸受に支持され
ている。これにより、旋回アーム32は、マスクホルダ
20の上面に垂直な面内及びマスクホルダ20の上面に
平行な面内で、旋回可能である。The base of the swing arm 32 is a mask holder 2
0 through the horizontal axis 33 parallel to the upper surface of the mask holder 20
Is attached to a rotary shaft 34 that is perpendicular to the upper surface of the mask holder 20, and the rotary shaft 34 is supported by a bearing provided in the mask holder 20. Thereby, the swivel arm 32 can swivel in a plane perpendicular to the upper surface of the mask holder 20 and in a plane parallel to the upper surface of the mask holder 20.
【0019】旋回アーム32の先端部には、軸35を介
して、クランプ31が上下移動及び回転自在に取り付け
られている。更に、旋回アーム32の先端部には、軸3
5の抜け止めネジ35Aが設けられ、この抜け止めネジ
35Aを緩めることにより、クランプ31をアーム32
の先端部から取り外して、交換できる様になっている。A clamp 31 is attached to the tip of the revolving arm 32 via a shaft 35 so as to be vertically movable and rotatable. Further, at the tip of the swing arm 32, the shaft 3
5 is provided with a retaining screw 35A, and by loosening the retaining screw 35A, the clamp 31 is attached to the arm 32.
It can be removed from the tip of the and replaced.
【0020】旋回アーム32を、旋回量規制手段(図示
せず)により制限された範囲内で、マスクホルダ20の
上面に平行な面内で旋回させることによって、図3の中
で、それぞれ実線及び二点鎖線で示される様に、クラン
プ31がマスクブランク1の縁部の外側に逃げる待機位
置と、クランプ31の先端部分がマスクブランク1の端
部に所定量入り込む作動位置とに、交互に切替え可能な
様になっている。By rotating the revolving arm 32 in a plane parallel to the upper surface of the mask holder 20 within a range limited by revolving amount regulating means (not shown), a solid line and a solid line in FIG. 3 respectively. As indicated by the chain double-dashed line, the clamp 31 is alternately switched between a standby position in which the clamp 31 escapes to the outside of the edge of the mask blank 1 and an operating position in which the tip of the clamp 31 enters a predetermined amount into the end of the mask blank 1. It's possible.
【0021】次に、クランプ31及びナイフエッジ38
の構造について説明する。下部クランプ片37Aの上側
には、マスクブランク1の縁部に平行な軸36が取り付
けられ、軸36の後方(マスクブランク1の縁部から離
れる方向、図4において左方)には、同様にマスクブラ
ンク1の縁部に平行な軸39が取り付けられている。上
部クランプ片37B、及び上部クランプ片37Bの左右
に配置された2つのナイフエッジ38は、この軸36を
介してそれぞれ下部クランプ片37Aに対向するよう
に、下部クランプ片37Aに取り付けられており、軸3
6を支点にして上下方向に揺動可能である。更に、上部
クランプ片37Bは、軸39に係合されたネジリバネ4
0により、クランプの先端側を閉じる方向の付勢力が与
えられるとともに、上部クランプ片37Bの下側に一体
的に設けられたストッパ部41により、図4に示す様
に、閉じ限界位置が規制されるようになっている。Next, the clamp 31 and the knife edge 38.
The structure of will be described. A shaft 36 parallel to the edge of the mask blank 1 is attached to the upper side of the lower clamp piece 37A, and similarly behind the shaft 36 (in the direction away from the edge of the mask blank 1, left in FIG. 4). A shaft 39 parallel to the edge of the mask blank 1 is attached. The upper clamp piece 37B and the two knife edges 38 arranged on the left and right of the upper clamp piece 37B are attached to the lower clamp piece 37A so as to face the lower clamp piece 37A via the shaft 36, respectively. Axis 3
It is possible to swing up and down with 6 as a fulcrum. Further, the upper clamp piece 37B is provided with the torsion spring 4 engaged with the shaft 39.
0 exerts an urging force in the direction of closing the tip end of the clamp, and the closing limit position is regulated by the stopper portion 41 integrally provided on the lower side of the upper clamp piece 37B as shown in FIG. It has become so.
【0022】また、ナイフエッジ38は、軸36に係合
され、両端をナイフエッジ38と上部クランプ片37B
に、それぞれ係止されたネジリバネ42により、クラン
プ31の先端側を閉じる方向と同じ方向(図4において
時計回り方向)の付勢力が与えられている。また、この
付勢力によるナイフエッジ38の回転は、ナイフエッジ
38に設けられたストッパ部43が上部クランプ片37
Bに当接することにより規制される。なお、このネジリ
バネ42の付勢力は、上部クランプ片37Bのネジリバ
ネ40の付勢力よりも小さく設定されている。Further, the knife edge 38 is engaged with the shaft 36, and both ends thereof are provided with the knife edge 38 and the upper clamp piece 37B.
In addition, the biasing force in the same direction as the direction in which the tip end side of the clamp 31 is closed (clockwise direction in FIG. 4) is applied by the respectively locked torsion springs 42. The rotation of the knife edge 38 due to this urging force causes the stopper portion 43 provided on the knife edge 38 to move the upper clamp piece 37.
It is regulated by contacting B. The biasing force of the torsion spring 42 is set to be smaller than the biasing force of the torsion spring 40 of the upper clamp piece 37B.
【0023】図5及び図6に示したクランプ部分の断面
図を用いて、このマスクブランク導通機構の使い方につ
いて説明する。なお、図5は、クランプ31によって、
マスクブランク1の縁部を挟み込む直前の状態、図6
は、クランプ31によって、マスクブランク1の縁部を
挟み込んで、ナイフエッジ38を同縁部の面取り部1a
に食い込ませて、アースを接続した状態を表す。図中、
10は試料ステージ、20はマスクホルダ、1はマスク
ブランク、2はマスクブランク表面に施されたクロム蒸
着膜、3はクロム蒸着膜の上に施されたレジスト膜を表
す。How to use the mask blank conducting mechanism will be described with reference to the sectional views of the clamp portion shown in FIGS. In addition, in FIG.
The state immediately before the edge of the mask blank 1 is sandwiched, FIG.
Clamps the edge portion of the mask blank 1 with the clamp 31 and inserts the knife edge 38 into the chamfered portion 1a of the same edge portion.
It shows the state that it is bitten into and grounded. In the figure,
Reference numeral 10 is a sample stage, 20 is a mask holder, 1 is a mask blank, 2 is a chromium vapor deposition film applied on the surface of the mask blank, and 3 is a resist film applied on the chromium vapor deposition film.
【0024】先ず、試料ステージ10に隣接したマスク
ブランクセット位置(図示せず)に於いて、マスクホル
ダ20のクランパ26(図1)をアンクランプ位置にセ
ットし、且つ、マスクブランク導通機構30を図3中の
実線で示される待機位置とした状態で、マスクブランク
1をローラ状の支持部材22上に置く。次いで、クラン
パ26をクランプ位置に切り換えて、マスクブランク1
を基準ピン23、24、25に対して押し付けた状態で
保持する。First, at a mask blank setting position (not shown) adjacent to the sample stage 10, the clamper 26 (FIG. 1) of the mask holder 20 is set to the unclamp position, and the mask blank conducting mechanism 30 is set. The mask blank 1 is placed on the roller-shaped support member 22 in the standby position shown by the solid line in FIG. Next, the clamper 26 is switched to the clamp position, and the mask blank 1
Is held against the reference pins 23, 24, 25.
【0025】次に、上部クランプ片37Bの元端側(図
4において左端側)を上から押圧して、上部クランプ片
37Bの先端側をネジリバネ40に抗して開く。この上
部クランプ片37Bの動きに伴って、ナイフエッジ38
はその先端側を開く方向(図4において反時計回り方
向)に動く。この様に、上部クランプ片37B及びナイ
フエッジ38の先端側が開いた状態にして、クランプ3
1を、図3中で二点鎖線で示される作動位置まで移動さ
せる。図5は、この時の状態を示している。Next, the base end side (the left end side in FIG. 4) of the upper clamp piece 37B is pressed from above to open the front end side of the upper clamp piece 37B against the torsion spring 40. Along with the movement of the upper clamp piece 37B, the knife edge 38
Moves in the direction of opening the tip side (counterclockwise direction in FIG. 4). In this way, with the upper clamp piece 37B and the tip side of the knife edge 38 open, the clamp 3
1 is moved to the operating position indicated by the chain double-dashed line in FIG. FIG. 5 shows the state at this time.
【0026】この位置において、上部クランプ片37B
の先端を解放する方向の力を弱め、ネジリバネ40の付
勢力によって、上部クランプ片37Bの先端を静かに閉
じる。この上部クランプ片37Bの動きに伴って、ナイ
フエッジ38はその先端側を閉じる方向(図4において
時計回り方向)に動いて、ナイフエッジ38がマスクブ
ランク1の縁部に接触する。更に、上部クランプ片37
Bを閉じると、ナイフエッジ38は、ネジリバネ42の
付勢力を受けて、マスクブランク1の縁部の上面側の面
取り部1aに食い込む。この時、下部クランプ片37A
の先端部分は、マスクブランク1の下面側に当接して、
ナイフエッジ38による押し付け力を受け止める。At this position, the upper clamp piece 37B
The force in the direction of releasing the tip of the upper clamp piece 37B is weakened, and the tip of the upper clamp piece 37B is gently closed by the biasing force of the torsion spring 40. With the movement of the upper clamp piece 37B, the knife edge 38 moves in the direction of closing the tip side thereof (clockwise direction in FIG. 4), and the knife edge 38 contacts the edge portion of the mask blank 1. Furthermore, the upper clamp piece 37
When B is closed, the knife edge 38 receives the biasing force of the torsion spring 42 and bites into the chamfered portion 1a on the upper surface side of the edge portion of the mask blank 1. At this time, the lower clamp piece 37A
Of the mask blank 1 contacts the lower surface side of the mask blank 1,
The pressing force of the knife edge 38 is received.
【0027】更に、上部クランプ片37Bを閉じること
により、ナイフエッジ38の押し付け力は増加するが、
これは、上部クランプ片37Bの先端部分がマスクブラ
ンク1の表面に到達するまでであり、ナイフエッジ38
の上部クランプ片37Bに対する相対的な移動量は、マ
スクブランク1の厚さにほとんど影響されず、ほぼ一定
に維持される。従って、マスクブランク1の厚さが多少
変化しても、ナイフエッジ38は、予め設定された所定
の押し付け力でマスクブランク1に押し付けられる。こ
の結果、ナイフエッジ38は、マスクブランク1の表面
に施されたレジスト膜3を突き破ってクロム蒸着膜2に
到達し、このクロム蒸着膜2にアースを導通させる。図
6は、この時の状態を示している。Further, by closing the upper clamp piece 37B, the pressing force of the knife edge 38 is increased,
This is until the tip portion of the upper clamp piece 37B reaches the surface of the mask blank 1, and the knife edge 38
The amount of relative movement of the above with respect to the upper clamp piece 37B is hardly affected by the thickness of the mask blank 1 and is maintained substantially constant. Therefore, even if the thickness of the mask blank 1 changes to some extent, the knife edge 38 is pressed against the mask blank 1 with a preset pressing force. As a result, the knife edge 38 penetrates the resist film 3 formed on the surface of the mask blank 1 to reach the chromium vapor deposition film 2, and electrically connects the chromium vapor deposition film 2 to the ground. FIG. 6 shows the state at this time.
【0028】上部クランプ片37Bの先端部分がマスク
ブランク1の表面に接触すると、これと下部クランプ片
37Aの先端部分とによりマスクブランク1を把持し
て、クランプ31がマスクブランク1に固定される。こ
の固定力は、ネジリバネ40による付勢力とネジリバネ
42による付勢力とが、上部クランプ片37Bに対して
逆向きに作用するため、両者の付勢力の差で決定され
る。そこで、ネジリバネ40による付勢力は、ネジリバ
ネ42による付勢力との関係から、クランプ31をマス
クブランク1に固定するのに適した把持力が得られるよ
うに設定されている。When the tip portion of the upper clamp piece 37B comes into contact with the surface of the mask blank 1, the mask blank 1 is gripped by the tip portion of the lower clamp piece 37A and the clamp 31 is fixed to the mask blank 1. This fixing force is determined by the difference between the urging forces of the torsion spring 40 and the urging force of the torsion spring 42, because the urging force of the torsion spring 42 acts in the opposite direction to the upper clamp piece 37B. Therefore, the biasing force of the torsion spring 40 is set so that a gripping force suitable for fixing the clamp 31 to the mask blank 1 is obtained from the relationship with the biasing force of the torsion spring 42.
【0029】なお、マスクブランク1の厚さが大きく変
わる場合には、上記把持力が適正値から外れると共に、
ナイフエッジ38の接触角度も変化するので、マスクブ
ランク1の厚さに適した寸法に製作された別のクランプ
部分と交換する必要がある。この場合、旋回アーム32
の先端部に取り付けられている抜け止めネジ35Aを緩
めて、下部クランプ片37Aの下に取り付けられた軸3
5を旋回アーム32の先端部から取り外して、クランプ
部分の交換を行う。When the thickness of the mask blank 1 changes greatly, the gripping force deviates from an appropriate value and
Since the contact angle of the knife edge 38 also changes, it is necessary to replace it with another clamp portion that is dimensioned to the thickness of the mask blank 1. In this case, the swing arm 32
Loosen the retaining screw 35A attached to the tip of the shaft 3 attached to the bottom of the lower clamp piece 37A
5 is removed from the tip of the swivel arm 32, and the clamp part is replaced.
【0030】以上の様にして、マスクブランク1をマス
クホルダ20にセットした後、搬送装置(図示せず)を
用いて試料ステージ10の上へ搬送し、図1及び図2に
示した様に、マスクホルダ20と試料ステージ10の上
に配列された高さ基準部材11とが干渉しない様にし
て、マスクホルダ20を試料ステージ10上の所定位置
に降ろす。この時、マスクホルダ20の支持部材22に
よって支持されていたマスクブランク1は、スリット状
の開口部21を通して突き出て来る高さ基準部材11に
よって、図6に示す様に、僅かに押し上げられ、それ以
降、この高さ基準部材11によって支持される。この
時、マスクブランク導通機構30は、軸35の摺動によ
り下部クランプ片37Aが旋回アーム32の先端部に対
して高さ方向に移動するか、あるいは旋回アーム32が
横軸33により上方へ僅かに旋回することによってマス
クブランク1とともに高さ方向に移動する。After the mask blank 1 is set on the mask holder 20 as described above, it is carried onto the sample stage 10 by using a carrying device (not shown), and as shown in FIGS. The mask holder 20 is lowered to a predetermined position on the sample stage 10 so that the mask holder 20 and the height reference member 11 arranged on the sample stage 10 do not interfere with each other. At this time, the mask blank 1 supported by the supporting member 22 of the mask holder 20 is slightly pushed up by the height reference member 11 protruding through the slit-shaped opening 21, as shown in FIG. After that, it is supported by the height reference member 11. At this time, in the mask blank conduction mechanism 30, the lower clamp piece 37A moves in the height direction with respect to the tip end portion of the revolving arm 32 by the sliding of the shaft 35, or the revolving arm 32 slightly moves upward by the horizontal shaft 33. It moves in the height direction together with the mask blank 1 by turning to.
【0031】以上の例では、マスクホルダ20にセット
されたマスクブランク1が、試料ステージ10上に配置
された基準部材11によって、マスクホルダ20の上面
から僅かに持ち上げられた状態で、試料ステージ10の
上にセットされる方式のマスクホルダを例に取って、こ
の様なマスクホルダ20にマスクブランク導通機構30
を取り付ける例を示したが、マスクホルダにセットされ
たマスクブランク1が、マスクホルダ上に固定されてマ
スクホルダから持ち上げられない方式のマスクホルダの
場合には、クランプ31を上下移動可能に取り付ける必
要はない。また、マスクブランク1をマスクホルダの上
面と平行に移動させてマスクホルダにセットする方式の
マスクホルダの場合には、クランプ31を待機位置へ移
動させる必要はなく、作動位置に固定的に配置してもよ
い。In the above example, the mask blank 1 set on the mask holder 20 is slightly lifted from the upper surface of the mask holder 20 by the reference member 11 arranged on the sample stage 10, and the sample stage 10 is held. Taking a mask holder of the type set on the above as an example, the mask blank conducting mechanism 30 is attached to such a mask holder 20.
However, in the case of a mask holder in which the mask blank 1 set in the mask holder is fixed on the mask holder and cannot be lifted from the mask holder, the clamp 31 needs to be vertically movable. There is no. Further, in the case of the mask holder of the type in which the mask blank 1 is moved in parallel to the upper surface of the mask holder and set in the mask holder, it is not necessary to move the clamp 31 to the standby position, and the clamp 31 is fixedly arranged at the operating position. May be.
【0032】また、マスクホルダを使用しない場合に
は、マスクブランク導通機構30を試料ステージ10の
上に直接、取り付けてもよい。更に、以上では、マスク
ブランク1の厚さが多少変化しても、ナイフエッジ38
の押し付け力がほぼ一定に保たれる様に、ナイフエッジ
38と上部クランプ37Bとの間にネジリバネ42を取
り付ける例を示したが、ネジリバネ42は下部クランプ
片37Aとナイフエッジ38との間で付勢力を生じさせ
る様に取り付けてもよい。When the mask holder is not used, the mask blank conduction mechanism 30 may be directly attached on the sample stage 10. Furthermore, even if the thickness of the mask blank 1 changes to some extent, the knife edge 38
Although an example in which a torsion spring 42 is attached between the knife edge 38 and the upper clamp 37B is shown so that the pressing force of the screw is kept substantially constant, the torsion spring 42 is attached between the lower clamp piece 37A and the knife edge 38. It may be attached so as to generate a force.
【0033】[0033]
【発明の効果】本発明のマスクブランク導通機構は、マ
スクブランクにアースを接続するためのナイフエッジ
を、上部クランプ片に隣接して下部クランプ片に対向す
るように配置し、クランプでマスクブランクの縁部を把
持するとともに、ナイフエッジがマスクブランクの縁部
の表面側の面取り部に食い込む様に構成した結果、マス
クブランクにアースを接続させる力に起因して生ずるマ
スクブランクの撓みを大幅に減少させることができ、マ
スクブランクに形成されるマスクパターンの精度向上に
効果がある。According to the mask blank conducting mechanism of the present invention, the knife edge for connecting the ground to the mask blank is arranged so as to be adjacent to the upper clamp piece and to face the lower clamp piece, and the mask blank is clamped. The grip of the edge and the knife edge bite into the chamfer on the surface side of the edge of the mask blank, resulting in a significant reduction in mask blank deflection due to the force connecting the mask blank to ground. It is possible to improve the accuracy of the mask pattern formed on the mask blank.
【0034】また、ナイフエッジを上部クランプ片とナ
イフエッジとの間に設けたバネによって付勢力を与える
ようにしたため、マスクブランクの厚さが変化しても食
い込み力をほぼ所定の値に設定することができ、的確な
アース接続が可能となった。Since the knife edge is provided with a biasing force by a spring provided between the upper clamp piece and the knife edge, the biting force is set to a substantially predetermined value even if the thickness of the mask blank changes. It was possible to make an accurate ground connection.
【0035】また、上記のクランプを旋回アームを介し
てマスクホルダに取り付けるとともに、この旋回アーム
をマスクホルダの表面に垂直な軸の回りに回転可能な様
に構成した結果、マスクホルダにマスクブランクにセッ
トする際、マスクブランクをマスクホルダの上で滑らせ
ることなく、マスクホルダの上方からマスクホルダにセ
ットすることが可能になるので、マスクブランクを傷つ
ける危険が減少し、同時に、発塵の原因を除去すること
ができる。Further, the above clamp is attached to the mask holder via the swivel arm, and the swivel arm is configured to be rotatable about an axis perpendicular to the surface of the mask holder. When setting the mask blank, it is possible to set the mask blank from above the mask holder without sliding on the mask holder, reducing the risk of scratching the mask blank and at the same time, causing dust generation. Can be removed.
【図1】本発明に基くマスクブランク導通機構を備えた
電子ビーム描画装置の試料ステージの平面図。FIG. 1 is a plan view of a sample stage of an electron beam drawing apparatus equipped with a mask blank conduction mechanism according to the present invention.
【図2】図1のA−A部断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG.
【図3】本発明に基くマスクブランク導通機構を拡大し
た平面図。FIG. 3 is an enlarged plan view of a mask blank conduction mechanism based on the present invention.
【図4】図3のB−B部断面図。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB in FIG.
【図5】マスクブランク導通機構の動作を示すクランプ
部分の断面図。FIG. 5 is a sectional view of a clamp portion showing the operation of the mask blank conduction mechanism.
【図6】マスクブランク導通機構の動作を示すクランプ
部分の断面図。FIG. 6 is a sectional view of a clamp portion showing the operation of the mask blank conduction mechanism.
1・・・マスクブランク、1a・・・面取り部、2・・
・クロム蒸着膜、3・・・レジスト膜、10・・・試料
ステージ、11・・・高さ基準部材、20・・・マスク
ホルダ、21・・・スリット状の開口部、22・・・ロ
ーラ状の支持部材、23、24、25・・・基準ピン、
26・・・クランパ、30・・・マスクブランク導通機
構、31・・・クランプ、32・・・旋回アーム、33
・・・横軸、34・・・旋回軸、35・・・軸、35A
・・・抜け止めネジ、36・・・軸、37A・・・下部
クランプ片、37B・・・上部クランプ片、38・・・
ナイフエッジ、39・・・軸、40・・・ネジリバネ、
41・・・ストッパ部、42・・・ネジリバネ、43・
・・ストッパ部。1 ... Mask blank, 1a ... Chamfered part, 2 ...
・ Chromium vapor deposition film, 3 ... Resist film, 10 ... Sample stage, 11 ... Height reference member, 20 ... Mask holder, 21 ... Slit-shaped opening, 22 ... Roller -Shaped support member, 23, 24, 25 ... Reference pin,
26 ... Clamper, 30 ... Mask blank conduction mechanism, 31 ... Clamp, 32 ... Swivel arm, 33
... horizontal axis, 34 ... swivel axis, 35 ... axis, 35A
... Prevention screw, 36 ... shaft, 37A ... lower clamp piece, 37B ... upper clamp piece, 38 ...
Knife edge, 39 ... Shaft, 40 ... Torsion spring,
41 ... Stopper part, 42 ... Torsion spring, 43 ...
..Stoppers
Claims (5)
試料ステージにセットする際に、マスクブランクの表面
側に形成された金属薄膜蒸着面にアースを接続するマス
クブランク導通機構において、 上部クランプ片と下部クランプ片とを備え、マスクブラ
ンクの縁部付近を表面及び裏面から挟むことによりマス
クブランクに固定されるクランプと、 前記上部クランプ片に隣接し、かつ前記下部クランプ片
に対向して揺動可能に取り付けられ、バネによりマスク
ブランクの縁部の表面側の面取り部に食い込む様に配置
されたナイフエッジと、 を備えたことを特徴とするマスクブランク導通機構。1. In a mask blank conduction mechanism for connecting a ground to a metal thin film deposition surface formed on the surface side of the mask blank when setting the mask blank on a sample stage of an electron beam drawing apparatus, an upper clamp piece and a lower portion. A clamp that is fixed to the mask blank by sandwiching the vicinity of the edge of the mask blank from the front surface and the back surface; and a swing piece that is adjacent to the upper clamp piece and faces the lower clamp piece. A mask blank conducting mechanism comprising: a knife edge attached to the chamfered portion on the front side of the edge of the mask blank by a spring, and a knife edge.
片と前記ナイフエッジとの間に設けられたバネにより、
前記面取り部に食い込む付勢力を与えられるように構成
されていることを特徴とする請求項1に記載のマスクブ
ランク導通機構。2. The knife edge is formed by a spring provided between the upper clamp piece and the knife edge,
The mask blank conduction mechanism according to claim 1, wherein the chamfered portion is configured to be provided with an urging force that bites into the chamfered portion.
スクブランクの表面に垂直な方向の旋回軸と、 この旋回軸にその基部が取り付けられ、マスクブランク
の表面に平行な面内で旋回可能な旋回アームとを備え、 前記クランプは、この旋回アームの先端部に取り付けら
れていることを特徴とする請求項1に記載のマスクブラ
ンク導通機構。3. The mask blank conduction mechanism is supported by a mask holder that holds the mask blank, and has a swivel axis in a direction perpendicular to the surface of the mask blank, and a base portion of the swivel axis is attached to the swivel axis. 2. The mask blank conduction mechanism according to claim 1, further comprising: a swivel arm that can swivel in a plane parallel to the swivel arm, wherein the clamp is attached to a tip end portion of the swivel arm.
に垂直な方向の軸を備え、この軸を介して前記旋回アー
ムの先端部に取り付けられ、マスクブランクの表面に対
して垂直方向の位置調整が可能であることを特徴とする
請求項3に記載のマスクブランク導通機構。4. The clamp is provided with an axis in a direction perpendicular to the surface of the mask blank, and is attached to the tip end portion of the pivot arm via the axis to adjust the position in the direction perpendicular to the surface of the mask blank. The mask blank conduction mechanism according to claim 3, which is possible.
部に対して着脱可能であることを特徴とする請求項4に
記載のマスクブランク導通機構。5. The mask blank conduction mechanism according to claim 4, wherein the clamp is attachable to and detachable from a tip end portion of the revolving arm.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11915096A JPH09306808A (en) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | Mask blank conductive structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11915096A JPH09306808A (en) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | Mask blank conductive structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09306808A true JPH09306808A (en) | 1997-11-28 |
Family
ID=14754163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11915096A Pending JPH09306808A (en) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | Mask blank conductive structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09306808A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006049910A (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Schott Ag | Method of producing mask blank for photolithographic application and the mask blank |
JP2007266361A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | Grounding mechanism of substrate, and charged particle beam drawing apparatus |
-
1996
- 1996-05-14 JP JP11915096A patent/JPH09306808A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006049910A (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Schott Ag | Method of producing mask blank for photolithographic application and the mask blank |
JP2007266361A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nuflare Technology Inc | Grounding mechanism of substrate, and charged particle beam drawing apparatus |
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