JPH09302480A - Removing solution of tin or tin alloy and peeling method - Google Patents

Removing solution of tin or tin alloy and peeling method

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JPH09302480A
JPH09302480A JP11928896A JP11928896A JPH09302480A JP H09302480 A JPH09302480 A JP H09302480A JP 11928896 A JP11928896 A JP 11928896A JP 11928896 A JP11928896 A JP 11928896A JP H09302480 A JPH09302480 A JP H09302480A
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Japan
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tin
copper
alloy
tin alloy
stripping
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Application number
JP11928896A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoki Takeu
朋記 竹生
Yoshiaki Tsuchitani
与志明 槌谷
Sho Okada
祥 岡田
Yasuo Mori
康夫 森
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NIKKO METAL PUREETEINGU KK
Original Assignee
NIKKO METAL PUREETEINGU KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a removing solution which allows peeling to be stably and safely performed without damaging a copper circuit of a substrate and a peeling method in the peeling of a metallic resist consisting of tin or a tin alloy. SOLUTION: The removing solution of tin or a tin alloy contains a base material constituted of copper or a copper alloy, and an inorganic acid or an organic acid, an oxidizing agent, an stabilizer and a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on a heterocycle or its delivative. The method for peeling tin or a tin alloy is executed by immersing the base material constituted of copper or a copper alloy into this removing solution of tin or a tin alloy, or distributing or spraying the removing solution on the base material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板等
の銅または銅合金から成る基材上から錫または錫合金を
剥離するための剥離液または剥離方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a stripping solution or stripping method for stripping tin or a tin alloy from a substrate made of copper or a copper alloy such as a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板製造での高密度化の要求
に対して、銅スルーホールめっき法が広く採用されてい
る。このスルーホールめっきの製造方法としては、スル
ーホールの部分を有機系のドライフィルム等で保護する
テンティング法と錫または錫合金(主に半田)剥離法が
あるが、コストや信頼性等の点で主に錫または錫合金剥
離法が採用されている。錫または錫合金剥離法は、銅張
積層板上の必要な回路部分を錫または錫合金からなる金
属レジストで保護し、不要な銅をエッチングで除去する
ものであり、その後に必要な銅のみとするため、錫また
は錫合金である金属レジストの剥離が行われる。
2. Description of the Related Art Copper through-hole plating is widely used to meet the demand for higher density in the production of printed wiring boards. As the method of manufacturing this through-hole plating, there are a tenting method for protecting the through-hole portion with an organic dry film or the like and a tin or tin alloy (mainly solder) stripping method. The tin or tin alloy stripping method is mainly used in. The tin or tin alloy stripping method protects the necessary circuit parts on the copper clad laminate with a metal resist made of tin or a tin alloy and removes unnecessary copper by etching. Therefore, the metal resist, which is tin or a tin alloy, is stripped.

【0003】しかし、この金属レジストの剥離におい
て、従来は、錫または錫合金の除去と下地の銅回路の保
護(溶解、変色等の防止)の両方を十分満足することは
困難であった。
However, it has been difficult in the past to sufficiently satisfy both the removal of tin or a tin alloy and the protection of the underlying copper circuit (prevention of dissolution, discoloration, etc.) in the stripping of the metal resist.

【0004】すなわち、従来から錫または錫合金の剥離
液には銅素材の溶解を防止するために銅インヒビターを
添加することが行われている。例えば、以下のような公
知技術( 特許公報 )がある。
That is, conventionally, a copper or copper alloy is added to a stripping solution for tin or a tin alloy in order to prevent the copper material from being dissolved. For example, there are the following known technologies (patent publications).

【0005】特公昭64−469号:チオ尿素 特公平1−51548号:ピロール、ピラゾール、イミ
ダゾール、トリアゾール 特開平2−250986号:ベンゾトリアゾール 特開平7−197279号:フタラジン 特開平7−207465号:ピロリジン、ピロリドン、
ピペラジン これらは錫または錫合金剥離液に、上記銅インヒビター
を加えたものである。
Japanese Patent Publication No. 64-469: Thiourea Japanese Patent Publication No. 1-51548: Pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole JP-A-2-250986: Benzotriazole JP-A-7-197279: Phthalazine JP-A-7-207465: Pyrrolidine, pyrrolidone,
Piperazine These are tin or tin alloy stripping solutions to which the above copper inhibitors have been added.

【0006】しかし、これらを大きく2つに分けると、
銅に吸着するインヒビターが錫または錫合金にも吸着し
て剥離を抑制する場合と、剥離を抑制しないが銅インヒ
ビターの効果が弱い場合のいずれかであった。
However, if these are roughly divided into two,
There were cases where the inhibitor adsorbed on copper also adsorbed on tin or a tin alloy to suppress peeling, and where the inhibitor was not suppressed but the effect of the copper inhibitor was weak.

【0007】上記の中で、ピロール、ピラゾール、イミ
ダゾール、トリアゾール、フタラジン、ピロリジン等は
銅の防錆効果が弱く、一方、ベンゾトリアゾールは逆に
吸着はある程度強いが、黒色皮膜を形成してハンダ付け
性が弱いという問題があった。これは吸着速度が遅いた
め、酸化剤により銅表面が酸化しているためと考えられ
る。
Among the above, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, phthalazine, pyrrolidine and the like have a weak anticorrosive effect on copper, while benzotriazole has a strong adsorption to the contrary, but forms a black film to be soldered. There was a problem of weakness. This is probably because the adsorption rate is slow and the copper surface is oxidized by the oxidizing agent.

【0008】また、エッチング液に例えば硝酸などを使
用すると、錫または錫合金の溶解時に黄褐色のNOxガ
スが発生して環境の悪化を招くという別の問題もあっ
た。
Further, when nitric acid or the like is used as an etching solution, there is another problem that a yellowish brown NOx gas is generated when tin or a tin alloy is dissolved, which causes deterioration of the environment.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、錫ま
たは錫合金からなる金属レジストの剥離において、下地
の銅回路を痛めることなく安定にかつ安全な剥離を行う
ための剥離液および剥離方法を開発することである。
An object of the present invention is to provide a stripping solution and a stripping method for stripping a metal resist made of tin or a tin alloy for stable and safe stripping without damaging the underlying copper circuit. Is to develop.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、錫または錫合金
の剥離液に銅インヒビターとして複素環上に4個の窒素
原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体を添加する
ことにより、剥離液としての性能を維持しつつ銅素材へ
の悪影響を排除することが可能であることを見いだし
た。さらに、安定剤として酸アミド、オキサミドまたは
尿素を添加することにより、錫または錫合金の溶解時の
NOxガス発生の問題を解決することが可能であること
も見いだした。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that four nitrogen atoms on a heterocyclic ring are used as copper inhibitors in a tin or tin alloy stripping solution. It was found that it is possible to eliminate the adverse effect on the copper material while maintaining the performance as a stripping solution by adding the heterocyclic compound or its derivative. Furthermore, they have also found that it is possible to solve the problem of NOx gas generation during the dissolution of tin or tin alloy by adding acid amide, oxamide or urea as a stabilizer.

【0011】すなわち、本発明は 1. 無機酸または有機酸、酸化剤、安定剤、および複
素環上に4個の窒素原子をもつ複素環状化合物またはそ
の誘導体を含有することを特徴とする錫または錫合金の
剥離液。
That is, the present invention is: A stripping solution for tin or a tin alloy, which comprises an inorganic or organic acid, an oxidizing agent, a stabilizer, and a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or a derivative thereof.

【0012】2. 無機酸または有機酸の濃度が50〜
300g/l、酸化剤の濃度が0.1〜200g/l、
安定剤の濃度が0.1〜50g/l、複素環上に4個の
窒素原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体の濃度
が0.01〜50g/lであることを特徴とする上記1
に記載の錫または錫合金の剥離液。
2. The concentration of inorganic or organic acid is 50 ~
300 g / l, the concentration of the oxidant is 0.1-200 g / l,
The concentration of the stabilizer is 0.1 to 50 g / l, and the concentration of the heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or its derivative is 0.01 to 50 g / l.
The stripping solution for tin or tin alloy according to.

【0013】3. 複素環上に4個の窒素原子をもつ複
素環状化合物が、プリン、プテリジン、テトラゾール、
ヘキサメチレンテトラミン、またはこれらの誘導体から
選択された1種以上であることを特徴とする上記1また
は2に記載の錫または錫合金の剥離液。
3. Heterocyclic compounds having 4 nitrogen atoms on the heterocycle are purine, pteridine, tetrazole,
The stripping solution for tin or tin alloy according to the above 1 or 2, which is one or more selected from hexamethylenetetramine or a derivative thereof.

【0014】4. 安定剤が、酸アミドRCONH
2(ここでRはアルキル基、アリル基またはアシル
基)、オキサミドNH2COCONH2または尿素CO
(NH22から選択された1種以上であることを特徴と
する上記1〜3に記載の錫または錫合金の剥離液。
4. Stabilizer is acid amide RCONH
2 (where R is an alkyl group, an allyl group or an acyl group), oxamide NH 2 COCONH 2 or urea CO
The stripping solution for tin or tin alloy according to any one of 1 to 3 above, which is one or more selected from (NH 2 ) 2 .

【0015】5. 銅または銅合金から成る基材を無機
酸または有機酸、酸化剤、安定剤、および複素環上に4
個の窒素原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体を
含有する錫または錫合金の剥離液に浸漬するかまたは該
剥離液を基材に散布もしくはスプレーすることを特徴と
する錫または錫合金の剥離方法。
5. Substrates made of copper or copper alloys on inorganic or organic acids, oxidants, stabilizers, and heterocycles
Method of stripping tin or tin alloy, characterized by immersing in a stripping solution of tin or tin alloy containing a heterocyclic compound having one nitrogen atom or a derivative thereof, or spraying or spraying the stripping solution on a substrate. .

【0016】6. 無機酸または有機酸の濃度が50〜
300g/l、酸化剤の濃度が0.1〜200g/l、
安定剤の濃度が0.1〜50g/l、複素環上に4個の
窒素原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体の濃度
が0.01〜50g/lである錫または錫合金の剥離液
を用いることを特徴とする上記5に記載の錫または錫合
金の剥離方法。
6. The concentration of inorganic or organic acid is 50 ~
300 g / l, the concentration of the oxidant is 0.1-200 g / l,
A tin or tin alloy stripper having a stabilizer concentration of 0.1 to 50 g / l and a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or a derivative thereof of 0.01 to 50 g / l is used. 6. The method for stripping tin or tin alloy according to the above 5, which is used.

【0017】7. 複素環上に4個の窒素原子をもつ複
素環状化合物が、プリン、プテリジン、テトラゾール、
ヘキサメチレンテトラミン、またはこれらの誘導体から
選択された1種以上である錫または錫合金の剥離液を用
いることを特徴とする上記5または6に記載の錫または
錫合金の剥離方法。
7. Heterocyclic compounds having 4 nitrogen atoms on the heterocycle are purine, pteridine, tetrazole,
7. The method for stripping tin or a tin alloy as described in 5 or 6 above, wherein a stripping solution for tin or a tin alloy, which is one or more selected from hexamethylenetetramine or a derivative thereof, is used.

【0018】8. 安定剤が、酸アミドRCONH
2(ここでRはアルキル基、アリル基またはアシル
基)、オキサミドNH2COCONH2または尿素CO
(NH22から選択された1種以上である錫または錫合
金の剥離液を用いることを特徴とする上記5〜7に記載
の錫または錫合金の剥離方法。
[8] Stabilizer is acid amide RCONH
2 (where R is an alkyl group, an allyl group or an acyl group), oxamide NH 2 COCONH 2 or urea CO
The method for stripping tin or tin alloy according to any one of 5 to 7 above, wherein a stripping solution for tin or tin alloy, which is at least one selected from (NH 2 ) 2 , is used.

【0019】を提供する。It provides.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明の錫または錫合金の剥離液
において、剥離した金属の溶解性及び安定性を高めるた
めに無機酸または有機酸を1種以上を使用する。用途に
合わせ各種の酸を使用することが可能である。例えば、
硝酸、硫酸、リン酸、メタンスルフォン酸、ギ酸、シュ
ウ酸、グリコール酸、クエン酸、乳酸等を使用すること
ができるが、無機酸としては溶解性に優れ同時に酸化性
も有する硝酸が多く使用されるが、さらに安全性を増す
ために有機酸を併用することが好ましい。無機酸または
有機酸の濃度は50〜300g/lとすれば良い。50
g/l未満では剥離した金属の溶解が不十分であり、一
方、300g/lを越えても金属溶解の効果は飽和しそ
れ以上の効果を期待できない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the tin or tin alloy stripping solution of the present invention, one or more inorganic acids or organic acids are used in order to enhance the solubility and stability of the stripped metal. It is possible to use various acids according to the application. For example,
Nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, methanesulfonic acid, formic acid, oxalic acid, glycolic acid, citric acid, lactic acid and the like can be used, but as the inorganic acid, nitric acid which has excellent solubility and at the same time has an oxidizing property is often used. However, it is preferable to use an organic acid together in order to further increase safety. The concentration of the inorganic acid or the organic acid may be 50 to 300 g / l. 50
If it is less than g / l, the exfoliated metal is insufficiently dissolved, while if it exceeds 300 g / l, the effect of dissolving the metal is saturated and no further effect can be expected.

【0021】酸化剤としては、金属のエッチングに一般
的に用いられる硝酸第二鉄などの第二鉄塩や酸化性を有
する硝酸や過酸化水素などを使用することが可能である
が、金属の溶解性および安定性の面で第二鉄塩が好まし
い。酸化剤の濃度は、0.1〜200g/lとすれば良
い。0.1g/l未満では効果が見られず、一方、20
0g/lを越えても効果が飽和しそれ以上の効果は期待
できない。
As the oxidizer, ferric salts such as ferric nitrate generally used for etching metals, nitric acid having an oxidizing property, hydrogen peroxide and the like can be used. A ferric salt is preferred in terms of solubility and stability. The concentration of the oxidizing agent may be 0.1 to 200 g / l. If less than 0.1 g / l, no effect is seen, while on the other hand,
Even if it exceeds 0 g / l, the effect is saturated and no further effect can be expected.

【0022】本発明の剥離液に使用される安定剤とし
て、例えば酸として硝酸を用いた場合に硝酸の自己分解
によるNOxガスが発生するのを防止するための物質が
添加される。従来、このような安定剤としてはスルファ
ミン酸NH2SO3H等が効果があるとして用いられてい
たが、実際にはその効果が小さかった。そこで、研究を
重ねた結果、酸アミドRCONH2(ここでRはアルキ
ル基、アリル基、またはアシル基)、オキサミドNH2
COCONH2または尿素CO(NH22から選択され
た1種以上が最も効果があることがわかった。具体的に
は、アセトアミドCH3CONH2、オキサミドNH2
OCONH2、プロピオンアミドC25CONH2,尿素
CO(NH22,ブチロアミドC37CONH2などを
用いることができる。
As the stabilizer used in the stripping solution of the present invention, for example, when nitric acid is used as an acid, a substance for preventing generation of NOx gas due to self-decomposition of nitric acid is added. Conventionally, as such a stabilizer, NH 2 SO 3 H sulfamate and the like have been used as effective, but the effect was actually small. Therefore, as a result of repeated research, acid amide RCONH 2 (where R is an alkyl group, an allyl group, or an acyl group), oxamide NH 2
It has been found that one or more selected from COCONH 2 or urea CO (NH 2 ) 2 is most effective. Specifically, acetamide CH 3 CONH 2 , oxamide NH 2 C
OCONH 2 , propionamide C 2 H 5 CONH 2 , urea CO (NH 2 ) 2 , butyroamide C 3 H 7 CONH 2, and the like can be used.

【0023】これは、下記のような反応によって、亜硝
酸が無害化されているものと考えられる。すなわち、例
えば安定剤として酸アミドRCONH2を用いた場合に
は、 RCONH2+HNO2 → RCOOH+N2+H2O のように亜硝酸が分解され窒素ガスになるものと思われ
る。上記のように安定化剤としてスルファミン酸をもち
いた場合には、硫酸が生成し、錫−鉛合金(ハンダ)剥
離では硫酸鉛が沈殿するため問題が生じ、効果が期待で
きない結果となる。 なお、安定剤の濃度は、0.1〜
50g/lとすれば良い。
It is considered that the nitrite is rendered harmless by the following reaction. That is, for example, when the acid amide RCONH 2 is used as the stabilizer, it is considered that nitrous acid is decomposed into nitrogen gas like RCONH 2 + HNO 2 → RCOOH + N 2 + H 2 O. As described above, when sulfamic acid is used as a stabilizer, sulfuric acid is generated, and lead sulfate is precipitated in the tin-lead alloy (solder) peeling, which causes a problem and results cannot be expected. In addition, the concentration of the stabilizer is 0.1 to
It may be 50 g / l.

【0024】本発明の剥離液の開発において、剥離液に
添加する銅インヒビターの効果は、強すぎても弱すぎて
も製品性能の低下を招くこと、および錫(または錫合
金)を溶解する際に錫(または錫合金)と下地の銅との
境界に存在する銅−錫合金層も完全に溶解することが必
要であることがわかった。また、溶解時の活性錫面の一
部に銅が置換析出することを確認し、これを防止するこ
とも必要であると考えられた。
In the development of the stripping solution of the present invention, the effect of the copper inhibitor added to the stripping solution causes deterioration of product performance when it is too strong or too weak, and when tin (or tin alloy) is dissolved. It has been found that the copper-tin alloy layer existing at the boundary between tin (or tin alloy) and the underlying copper also needs to be completely dissolved. It was also considered necessary to confirm that copper was deposited by displacement on a part of the active tin surface during dissolution and prevent this.

【0025】そして、このような問題を解決するため
に、銅インヒビターとして複素環上に4個の窒素原子を
もつ複素環状化合物またはその誘導体を添加すれば、上
記の課題をいずれも解決できることが分かった。具体的
には、プリン、プテリジン、テトラゾール、ヘキサメチ
レンテトラミン、またはこれらの誘導体から選択された
1種以上を用いる。
In order to solve such problems, it was found that any of the above problems can be solved by adding a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or a derivative thereof as a copper inhibitor. It was Specifically, one or more selected from purine, pteridine, tetrazole, hexamethylenetetramine, or derivatives thereof are used.

【0026】これらの銅インヒビターは、下地の銅の溶
解を防止するだけでなく、厚みの異なるめっき皮膜、特
にそのバラツキの大きいレベラー皮膜を溶解する際に、
銅−錫合金層まできれいに溶解した際に、下地の純銅層
が溶解されずに均一に残ることに特徴がある。これは、
本発明の銅インヒビターの吸着特性として、純銅層への
吸着とその他の錫、銅−錫合金層への吸着が異なること
を意味する。これは実際の操業において重要な特性と考
えられる。
These copper inhibitors not only prevent the dissolution of the underlying copper, but also dissolve the plating films having different thicknesses, especially the leveler film having large variations.
It is characterized in that when the copper-tin alloy layer is completely dissolved, the underlying pure copper layer is not dissolved and remains uniformly. this is,
As the adsorption characteristics of the copper inhibitor of the present invention, it means that the adsorption to the pure copper layer is different from the adsorption to other tin or copper-tin alloy layer. This is considered to be an important characteristic in actual operation.

【0027】これらの銅インヒビターの濃度は、0.0
1〜50g/lとすれば良い。0.01g/l未満では
銅インヒビター効果が見られず、一方、50g/lを越
えてもそれ以上の効果を期待できない。
The concentration of these copper inhibitors is 0.0
It may be 1 to 50 g / l. If it is less than 0.01 g / l, no copper inhibitor effect is observed, while if it exceeds 50 g / l, no further effect can be expected.

【0028】なお、剥離液の安定性を高めるためにpH
緩衝剤を添加することも効果がある。例えば、硝酸アン
モニウム等のアンモニウム塩を加えれば良い。
In order to enhance the stability of the stripping solution, pH
Adding a buffer is also effective. For example, ammonium salt such as ammonium nitrate may be added.

【0029】また、塩素イオンは銅の防錆効果を弱め、
腐食の原因ともなるため通常は避けるべきであるが、一
方、ハンダの溶解度を高める働きもあるため、このよう
な特徴を生かして、欠点をカバーするよう配慮した場合
には、塩素の添加を拒むものではない。
Chloride ions weaken the anticorrosive effect of copper,
Although it usually causes corrosion, it should be avoided. On the other hand, it also has the function of increasing the solubility of solder, so refusing the addition of chlorine when considering such characteristics and covering the defects. Not a thing.

【0030】さらにまた、本発明の銅インヒビターと従
来一般に用いられているベンゾトリアゾールなどの他の
銅インヒビターを併用することもできる。そして、この
ような添加剤または補助剤は本発明の範囲を逸脱しない
限り、本発明に含まれるものである。
Furthermore, the copper inhibitor of the present invention can be used in combination with other copper inhibitors such as benzotriazole which have been generally used conventionally. And, such additives or auxiliary agents are included in the present invention as long as they do not depart from the scope of the present invention.

【0031】本発明の剥離液の剥離対象は、錫または錫
合金である。錫合金としては、錫−鉛合金(ハンダ)、
錫−亜鉛合金、錫−ニッケル合金等を挙げることができ
る。
The stripping target of the stripping solution of the present invention is tin or a tin alloy. As a tin alloy, a tin-lead alloy (solder),
Examples thereof include a tin-zinc alloy and a tin-nickel alloy.

【0032】また、本発明において溶解・浸食を抑制す
ることのできる基材としては、銅または銅合金である。
実際に錫または錫合金の剥離を行う場合には、銅または
銅合金からなる基材を上記の剥離液に浸漬するかあるい
は剥離液を基材に散布またはスプレーすることにより剥
離をおこなう。処理温度を高温にすることにより剥離速
度は増大するが、同時に基材に対する浸食性も大きくな
るため、一般的には15〜35℃で剥離を行うことが好
ましい。
In the present invention, the base material capable of suppressing dissolution / erosion is copper or copper alloy.
When actually peeling off tin or a tin alloy, the peeling is carried out by immersing a base material made of copper or a copper alloy in the above-mentioned peeling liquid, or by spraying or spraying the peeling liquid on the base material. Although the peeling rate is increased by increasing the treatment temperature, the corrosiveness with respect to the base material is also increased at the same time, and therefore it is generally preferable to perform the peeling at 15 to 35 ° C.

【0033】以下、実施例に基づいて説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
The present invention will be described below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0034】[0034]

【実施例】剥離液の基本組成として、下記の組成液を準
備した。
Example The following composition liquid was prepared as the basic composition of the stripping solution.

【0035】 無機酸: 硝酸(62%) 300ml/l 酸化剤: 硝酸第二鉄・6水塩 100g/l 有機酸: グリコール酸 50g/l この基本液に、アセトアミド、オキサミド、尿素などの
安定剤2g/l、および銅インヒビターとして表1に示
す複素環上に4個の窒素原子をもつ複素環状化合物また
はその誘導体2g/lをそれぞれ添加した剥離液を調整
した。液温を25℃として、この剥離液に銅張積層板の
両面に錫60%鉛40%組成のハンダを約5μmめっき
した基板を浸漬し、ハンダめっき皮膜が完全に溶解し、
基材の銅面が露出するまで剥離を行った。剥離に要する
時間からハンダ溶解性を、剥離後の基板の外観(色)を
目視でそれぞれ評価した。さらに、ハンダ剥離後の基板
のハンダ濡れ性について、目視で評価した。
Inorganic acid: Nitric acid (62%) 300 ml / l Oxidizing agent: Ferric nitrate hexahydrate 100 g / l Organic acid: Glycolic acid 50 g / l Stabilizers such as acetamide, oxamide and urea in this basic solution A stripping solution was prepared by adding 2 g / l, and 2 g / l of a heterocyclic compound having 4 nitrogen atoms on the heterocycle shown in Table 1 or a derivative thereof as a copper inhibitor, respectively. The temperature of the solution was set to 25 ° C., and the stripping solution was dipped in a substrate in which solder of 60% tin 40% lead composition of about 5 μm was dipped on both surfaces of the copper clad laminate to completely dissolve the solder plating film.
Peeling was performed until the copper surface of the base material was exposed. Solder solubility was visually evaluated from the time required for peeling, and the appearance (color) of the substrate after peeling was visually evaluated. Furthermore, the solder wettability of the substrate after peeling the solder was evaluated visually.

【0036】一方、銅溶解抑制効果を調べるために、ハ
ンダめっきを施さない基板を剥離液に浸漬し、銅の溶解
量を測定した。 これらの結果を表1に示す。ハンダ溶
解性(いずれの試験結果においても、5μmのハンダの
溶解に要する時間は30秒以内であった)、基材の外
観、剥離後のハンダ濡れ性ともに、いずれの場合でも良
好であった。また、銅の溶解量はいずれの場合でも0.
1μm/分未満と十分に小さく、銅溶解抑制効果に優れ
ていた。また、剥離中のNOxガスの発生は検出されな
かった。 また、複素環上に4個の窒素原子を有する複
素環状化合物を2種以上添加した場合(実施例10およ
び11)には、銅溶解抑制効果および外観だけでなくハ
ンダあるいは錫を溶解する場合の限界濃度の向上も見ら
れる。これは、分子の大きさや形状その他の特性が異な
る2種以上を添加することにより、銅面への吸着特性お
よび金属の溶解性が高まり、液の安定効果が維持できる
ようになったためと考えられる。 (比較例)実施例と同様に、剥離液の基本組成として、
下記の組成液を準備した。
On the other hand, in order to investigate the effect of suppressing copper dissolution, a substrate not subjected to solder plating was immersed in a stripping solution and the amount of copper dissolved was measured. Table 1 shows the results. The solder solubility (in all test results, the time required to dissolve 5 μm solder was within 30 seconds), the appearance of the substrate, and the solder wettability after peeling were good in all cases. Further, the amount of copper dissolved is 0.
It was sufficiently small as less than 1 μm / min, and was excellent in the copper dissolution inhibiting effect. In addition, generation of NOx gas during stripping was not detected. Further, when two or more kinds of heterocyclic compounds having four nitrogen atoms on the heterocycle are added (Examples 10 and 11), not only copper dissolution suppressing effect and appearance but also solder or tin dissolution There is also an increase in the limit concentration. It is considered that this is because by adding two or more kinds having different molecular size, shape and other properties, the adsorption property on the copper surface and the solubility of the metal were improved, and the liquid stabilizing effect could be maintained. . (Comparative Example) Similar to the example, as the basic composition of the stripping solution,
The following composition liquid was prepared.

【0037】 無機酸: 硝酸(62%) 300ml/l 酸化剤: 硝酸第二鉄・6水塩 100g/l 有機酸: グリコール酸 50g/l この基本液に、アセトアミド、オキサミド、尿素などの
安定剤2g/l、および従来から知られている銅インヒ
ビターを添加した剥離液を調整した。この剥離液を用い
て、実施例と同様の評価試験を行った。
Inorganic acid: Nitric acid (62%) 300 ml / l Oxidizing agent: Ferric nitrate hexahydrate 100 g / l Organic acid: Glycolic acid 50 g / l Stabilizers such as acetamide, oxamide and urea in this basic solution A stripping solution containing 2 g / l and a conventionally known copper inhibitor was prepared. Using this stripping solution, the same evaluation test as in the example was conducted.

【0038】これらの結果を表2に示す。ベンゾチアゾ
ール、チオバルビツル酸を添加した場合には、5μmの
ハンダの溶解に要する時間が2分以上かかり、ハンダの
溶解が悪かった。ピロリジン、フタラジン、イミダゾー
ル、トリアゾール、ベンゾトリアゾールを用いた場合に
は、5μmのハンダの溶解に要する時間が30秒以内で
ハンダ溶解性は良好であったが、剥離後の基材は赤黒く
変色しており、その後のハンダ濡れ性も悪かった。赤黒
いのは、インヒビターの吸着が遅く銅表面が酸化したた
めと考えられる。また、銅の溶解量も実施例の場合より
も大きく、特にピロリジン、フタラジン、イミダゾール
の場合には銅溶解抑制効果が不十分であった。
The results are shown in Table 2. When benzothiazole and thiobarbituric acid were added, it took 2 minutes or more to dissolve the solder of 5 μm, and the dissolution of the solder was poor. When pyrrolidine, phthalazine, imidazole, triazole, and benzotriazole were used, the solder solubility was good within 30 seconds for dissolving 5 μm solder, but the base material after peeling turned reddish black. However, the solder wettability after that was also poor. The reddish black color is considered to be due to the slow adsorption of the inhibitor and the oxidation of the copper surface. Further, the amount of copper dissolved was larger than in the case of the examples, and particularly in the case of pyrrolidine, phthalazine and imidazole, the effect of suppressing copper dissolution was insufficient.

【0039】さらに、安定剤としてアセトアミド、オキ
サミド、尿素、プロピオンアミド、ブチロアミドを用い
た場合には、カルボン酸が生成し、窒素ガスがでるが、
NOxガスは検出されなかった。しかし、安定剤として従
来のスルファミン酸を用いた場合には、NOxガスの発
生が検出され、剥離液中に硫酸鉛の沈殿が観察された。
When acetamide, oxamide, urea, propionamide or butyroamide is used as a stabilizer, carboxylic acid is produced and nitrogen gas is emitted.
NOx gas was not detected. However, when conventional sulfamic acid was used as the stabilizer, generation of NOx gas was detected, and precipitation of lead sulfate was observed in the stripping solution.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の錫または錫合金剥離液は、銅基
材の溶解性が小さく、錫または錫合金の溶解性に優れ、
剥離後の基材の変色等も見られず、その後のハンダ濡れ
性に優れる。また、硝酸を用いた場合でも有害な亜硝酸
ガスの発生を発生させることがない。そのため、銅スル
ーホールめっきを行うための錫または錫合金からなる金
属レジストの剥離において、下地の銅回路を痛めること
なく安定にかつ安全な剥離を行う剥離液として極めて有
用である。
EFFECT OF THE INVENTION The tin or tin alloy stripper of the present invention has a low solubility of a copper base material and an excellent solubility of tin or a tin alloy,
No discoloration of the substrate after peeling is observed, and the solder wettability after that is excellent. Further, even when nitric acid is used, generation of harmful nitrous acid gas does not occur. Therefore, in stripping a metal resist made of tin or a tin alloy for performing copper through-hole plating, it is extremely useful as a stripping solution for performing stable and safe stripping without damaging the underlying copper circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 祥 大阪府高槻市辻子三丁目2番1号 日鉱メ タルプレーティング株式会社内 (72)発明者 森 康夫 大阪府高槻市辻子三丁目2番1号 日鉱メ タルプレーティング株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Sho Okada 3-2-1 Tsujiko, Takatsuki City, Osaka Prefecture Nikko Metal Plating Co., Ltd. (72) Inventor Yasuo Mori 3-2-1 Tsujiko, Takatsuki City, Osaka Prefecture No. Nikko Metal Plating Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機酸または有機酸、酸化剤、安定剤、
および複素環上に4個の窒素原子をもつ複素環状化合物
またはその誘導体を含有することを特徴とする錫または
錫合金の剥離液。
1. An inorganic or organic acid, an oxidizing agent, a stabilizer,
And a stripping solution for tin or a tin alloy, which contains a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or a derivative thereof.
【請求項2】 無機酸または有機酸の濃度が50〜30
0g/l、酸化剤の濃度が0.1〜200g/l、安定
剤の濃度が0.1〜50g/l、複素環上に4個の窒素
原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体の濃度が
0.01〜50g/lであることを特徴とする請求項1
に記載の錫または錫合金の剥離液。
2. The concentration of the inorganic or organic acid is 50 to 30.
0 g / l, the concentration of the oxidant is 0.1 to 200 g / l, the concentration of the stabilizer is 0.1 to 50 g / l, and the concentration of the heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or its derivative is It is 0.01-50g / l, It is characterized by the above-mentioned.
The stripping solution for tin or tin alloy according to.
【請求項3】 複素環上に4個の窒素原子をもつ複素環
状化合物が、プリン、プテリジン、テトラゾール、ヘキ
サメチレンテトラミン、またはこれらの誘導体から選択
された1種以上であることを特徴とする請求項1または
請求項2に記載の錫または錫合金の剥離液。
3. The heterocyclic compound having 4 nitrogen atoms on the heterocycle is one or more selected from purine, pteridine, tetrazole, hexamethylenetetramine, or derivatives thereof. The stripping solution for tin or tin alloy according to claim 1 or 2.
【請求項4】 安定剤が、酸アミドRCONH2(ここ
でRはアルキル基、アリル基またはアシル基)、オキサ
ミドNH2COCONH2または尿素CO(NH22から
選択された1種以上であることを特徴とする請求項1〜
3に記載の錫または錫合金の剥離液。
4. The stabilizer is one or more selected from acid amide RCONH 2 (where R is an alkyl group, an allyl group or an acyl group), oxamide NH 2 COCONH 2 or urea CO (NH 2 ) 2. Claims 1 to 1 characterized in that
The tin or tin alloy stripping solution according to item 3.
【請求項5】 銅または銅合金から成る基材を無機酸ま
たは有機酸、酸化剤、安定剤、および複素環上に4個の
窒素原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体を含有
する錫または錫合金の剥離液に浸漬するかまたは該剥離
液を基材に散布もしくはスプレーすることを特徴とする
錫または錫合金の剥離方法。
5. Tin or tin containing a base material made of copper or a copper alloy containing an inorganic or organic acid, an oxidizing agent, a stabilizer, and a heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or a derivative thereof. A method for stripping tin or tin alloy, which comprises immersing in a stripping solution for alloy or spraying or spraying the stripping solution on a substrate.
【請求項6】 無機酸または有機酸の濃度が50〜30
0g/l、酸化剤の濃度が0.1〜200g/l、安定
剤の濃度が0.1〜50g/l、複素環上に4個の窒素
原子をもつ複素環状化合物またはその誘導体の濃度が
0.01〜50g/lである錫または錫合金の剥離液を
用いることを特徴とする請求項5に記載の錫または錫合
金の剥離方法。
6. The concentration of an inorganic acid or an organic acid is 50 to 30.
0 g / l, the concentration of the oxidant is 0.1 to 200 g / l, the concentration of the stabilizer is 0.1 to 50 g / l, and the concentration of the heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle or its derivative is The tin or tin alloy stripping method according to claim 5, wherein a tin or tin alloy stripping solution of 0.01 to 50 g / l is used.
【請求項7】 複素環上に4個の窒素原子をもつ複素環
状化合物が、プリン、プテリジン、テトラゾール、ヘキ
サメチレンテトラミン、またはこれらの誘導体から選択
された1種以上である錫または錫合金の剥離液を用いる
ことを特徴とする請求項5または6に記載の錫または錫
合金の剥離方法。
7. The exfoliation of tin or a tin alloy, wherein the heterocyclic compound having four nitrogen atoms on the heterocycle is at least one selected from purine, pteridine, tetrazole, hexamethylenetetramine, or derivatives thereof. A method of stripping tin or a tin alloy according to claim 5, wherein a liquid is used.
【請求項8】 安定剤が、酸アミドRCONH2(ここ
でRはアルキル基、アリル基またはアシル基)、オキサ
ミドNH2COCONH2または尿素CO(NH22から
選択された1種以上である錫または錫合金の剥離液を用
いることを特徴とする請求項5〜7に記載の錫または錫
合金の剥離方法。
8. The stabilizer is one or more selected from acid amide RCONH 2 (where R is an alkyl group, an allyl group or an acyl group), oxamide NH 2 COCONH 2 or urea CO (NH 2 ) 2. The method for stripping tin or a tin alloy according to claim 5, wherein a stripping solution for tin or a tin alloy is used.
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