JPH09297399A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

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JPH09297399A
JPH09297399A JP10946196A JP10946196A JPH09297399A JP H09297399 A JPH09297399 A JP H09297399A JP 10946196 A JP10946196 A JP 10946196A JP 10946196 A JP10946196 A JP 10946196A JP H09297399 A JPH09297399 A JP H09297399A
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JP
Japan
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group
compound
embedded image
substituted
bis
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Pending
Application number
JP10946196A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumihiko Sasaki
文彦 佐々木
Yasuo Okamoto
安男 岡本
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09297399A publication Critical patent/JPH09297399A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high sensitivity photopolymerizable compsn. by incorporating an addition polymerizable compd. having an ethylenic unsatd. double bond, a specified compd. and a titanocene compd. SOLUTION: This photopolymerizable compd. contains an addition polymerizable compd. having at least one ethylenic unsatd. double bond, a compd. (pyrylium salt dye or thiapyrylium salt dye) represented by formula I or II and a titanocene compd. In the formulae I, II, each of X<1> and X<3> is a cation of O or S, X<2> is O or S, Y<1> -Y<3> are groups forming 6- or 10-membered hereto rings in combination with X<1> -X<3> , respectively, each of R<1> -R<3> is H, halogen, cyano, etc., each of R<4> -R<6> is H, 1-12C optionally substd. alkyl, etc., Z<-> is a counter anion and (n) is an integer of 0-3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光重合性組成物に関
するものである。特に可視光領域の光線に対して極めて
高感度であり、例えばAr+ レーザー光、YAG−SH
Gレーザー光に対しても良好な感応性を示す光重合性組
成物に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photopolymerizable composition. In particular, it has extremely high sensitivity to light rays in the visible light region. For example, Ar + laser light, YAG-SH
The present invention relates to a photopolymerizable composition exhibiting good sensitivity to G laser light.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られており、印刷版、プリント回路、塗料、イン
キ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分野に用いら
れている。例えば、付加重合可能なエチレン性二重結合
を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望により用いら
れる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤等からなる光重合
性組成物を、支持体上に皮膜層として設け、所望画像を
像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を溶解
除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法、
少なくとも一方が透明である2枚の支持体間に上述の光
重合性組成物の層を設け、透明支持体側より像露光し光
による接着強度の変化を誘起させた後、支持体を剥離す
ることにより画像を形成する方法、光重合性組成物およ
びロイコ色素等の色材料を内容物に有するマイクロカプ
セル層を設けた感光材料を作成し、この感光材料を画像
露光して露光部分のカプセルを光硬化させ、未露光部分
のカプセルを加圧処理、あるいは加熱処理により破壊
し、色材料顕色剤と接触させることにより発色させ、着
色画像を形成する方法、その他、光重合性組成物の光に
よるトナー付着性の変化を利用した画像形成法、光重合
性組成物の光による屈折率の変化を利用した画像形成法
等が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, many image forming methods using a photopolymerization system are known, and are used in a wide range of fields such as printing plates, printed circuits, paints, inks, hologram recording, and three-dimensional modeling. For example, a photopolymerizable composition comprising a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond and a photopolymerization initiator, an organic polymer binder used as desired, a thermal polymerization inhibitor, and the like is coated on a support. A method of forming a cured relief image by providing as a layer, polymerizing and exposing an exposed portion by image exposure of a desired image, and dissolving and removing an unexposed portion,
Providing a layer of the above-described photopolymerizable composition between two supports, at least one of which is transparent, exposing the support after image exposure from the transparent support side to induce a change in adhesive strength by light; A method of forming an image by the method, a photosensitive material provided with a microcapsule layer having a color material such as a photopolymerizable composition and a leuco dye in the content is prepared, and the photosensitive material is image-exposed to expose the exposed portion capsule to light. Curing, breaking the unexposed portions of the capsules by pressure treatment or heat treatment, developing the color by contacting with a color material developer, forming a colored image, etc., by the light of the photopolymerizable composition An image forming method using a change in toner adhesion, an image forming method using a change in refractive index of a photopolymerizable composition by light, and the like are known.

【0003】これらの方法に応用されている光重合組成
物の多くは、光重合開始剤として、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が用いられてき
た。しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以
下の紫外光に対する光重合開始能力に比較し、400nm
以上の可視光に対する光重合開始能力が顕著に低く、そ
の結果その応用範囲が著しく限定されていた。
In many of the photopolymerizable compositions applied to these methods, benzyl, benzoin ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone and the like have been used as photopolymerization initiators. However, these photopolymerization initiators, compared with the photopolymerization initiation ability for ultraviolet light of 400 nm or less, 400 nm
The photopolymerization initiation ability with respect to the visible light described above was remarkably low, and as a result, its application range was significantly limited.

【0004】近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領
域の光線に対し高い感応性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料である。こ
のような可視光レーザーとしてはAr+ レーザーの48
8nm光、YAG−SHGレーザーの532nm光などが、
有望視されている。
In recent years, with the development of image forming technology, there has been a demand for a photopolymer having high sensitivity to light rays in the visible region. It is a photosensitive material suitable for non-contact type projection exposure plate making, visible light laser plate making, and the like. As such a visible light laser, Ar + laser 48
8nm light, 532nm light of YAG-SHG laser, etc.
Promising.

【0005】可視光領域の光線に感応することのできる
光重合開始系については、従来、多くの提案がなされて
きた。例えば、米国特許2,850,445号に記載のある
種の感応性染料、染料とアミンの複合開始系(特公昭4
4−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
ラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−373
77号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアル
キルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−25
28号、特開昭54−155292号)、環状シス−α
−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−841
83号)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(特
開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性
剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−1
5503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオ
ールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号)等が挙げられる。また、(チア)
ピリリウム塩色素の開始剤への適応は、単独系(特公昭
40−28499号)、ボレート塩との併用系(特開平
1−100536号)、トリアジンとの併用系(特公平
2−30322号)等がある。
[0005] Many proposals have been made for photopolymerization initiation systems capable of responding to light rays in the visible light region. For example, certain sensitive dyes described in U.S. Pat. No. 2,850,445, a complex initiation system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. Sho.
4-2189), a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (JP-B-45-373).
No. 77), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-25).
28, JP-A-54-155292), cyclic cis-α.
A system of a dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-841)
No. 83), a system of a substituted triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-115024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (JP-A-52-112681, JP-A-58-1).
5503), a system of biimidazole, a styrene derivative and a thiol (JP-A-59-140203), and a system of an organic peroxide and a dye (JP-A-59-140203, JP-A-5-140203).
9-189340) and the like. Also (Cheer)
The pyrylium salt dye can be applied to the initiator as a single system (Japanese Patent Publication No. 4028499), a combination system with a borate salt (JP-A-1-100536), and a combination system with triazine (Japanese Patent Publication No. 30322). Etc.

【0006】また、チタノセンが光重合開始剤として有
効であることは、特開昭59−152396号、特開昭
61−151197号、特開昭63−10602号、特
開昭63−41484号、特開平3−12403号、特
開平6−41170号に記載されており、併用系として
の使用例としては、チタノセンと3−ケトクマリン色素
の系(特開昭63−221110号)、チタノセンとキ
サンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む
付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた
系(特開平4−221958号、特開平4−21975
6号)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特
開平6−295061号)等を挙げることができる。
The effectiveness of titanocene as a photopolymerization initiator is disclosed in JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-10602, JP-A-63-41484, It is described in JP-A-3-12403 and JP-A-6-41170. Examples of use as a combined system include titanocene and 3-ketocoumarin dyes (JP-A-63-221110), titanocene and xanthene dyes. Further, a system in which an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group is combined (JP-A-4-221958, JP-A-4-21975)
No. 6) and a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061).

【0007】しかしながら、これらの従来技術は確かに
可視光線に対し有効であるが、感度が十分でない、ある
いは高感度を示すが、保存安定性が乏しい等の問題があ
り、実用に供することができなかった。
However, although these prior arts are certainly effective for visible light, they have insufficient sensitivity or exhibit high sensitivity, but have problems such as poor storage stability and can be put to practical use. Did not.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高感度
の光重合性組成物を提供することである。特に、400
nm以上の可視光線、Ar+ レーザー、YAG−SHGレ
ーザーの出力に対応する488nm、532nmのような光
に対し、感度の高い光重合性組成物を提供することにあ
る。さらに別の目的は、保存安定性に優れた光重合性組
成物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a highly sensitive photopolymerizable composition. Especially 400
An object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition having high sensitivity to light such as 488 nm and 532 nm corresponding to the output of visible light of at least nm, an Ar + laser, and a YAG-SHG laser. Still another object is to provide a photopolymerizable composition having excellent storage stability.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ピリリウム
塩色素またはチアピリリウム塩色素との共存下で光照射
時に活性ラジカルを発生しうるチタノセン化合物の併用
系が、400nm以上の可視光線に対し極めて感度が高
く、且つ、保存安定性に優れることを見出し、本発明に
到達したものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have found that a combination system of titanocene compounds capable of generating active radicals upon irradiation with light in the presence of a pyrylium salt dye or a thiapyrylium salt dye is extremely effective for visible light of 400 nm or more. The present invention has been achieved by finding that the sensitivity is high and the storage stability is excellent.

【0010】すなわち、本発明は下記(1)の構成によ
って達成される。そして、好ましい構成は下記(2)で
ある。
That is, the present invention is achieved by the following constitution (1). And a preferable structure is the following (2).

【0011】(1)エチレン性不飽和二重結合を少なく
とも1個有する付加重合可能な化合物、下記一般式
(I)または(II)で表される化合物(ピリリウム塩色
素またはチアピリリウム塩色素)、およびチタノセン化
合物を含有する光重合性組成物。
(1) An addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a compound represented by the following general formula (I) or (II) (pyrylium salt dye or thiapyrylium salt dye), and A photopolymerizable composition containing a titanocene compound.

【0012】[0012]

【化2】 Embedded image

【0013】上記式中X1 及びX3 は、それぞれ酸素原
子もしくは硫黄原子のカチオンを表す。X2 は、酸素原
子もしくは硫黄原子を表す。Y1 、Y2 及びY3 は、同
一でも異なっていてもよく、それぞれ上記X1 〜X3
共に6又は10員環の複素環を形成する基を表す。
In the above formula, X 1 and X 3 each represent a cation of an oxygen atom or a sulfur atom. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Y 1 , Y 2 and Y 3 may be the same or different and each represents a group forming a 6- or 10-membered heterocycle with X 1 to X 3 .

【0014】R1 、R2 及びR3 は、同一でも異なって
いてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、炭素数が1から6個の置換もしくは無置
換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表
す。
R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, It represents a substituted or unsubstituted aryl group.

【0015】R4 、R5 及びR6 は、同一でも異なって
いてもよく、それぞれ水素原子、炭素数が1から12個
の置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置
換のアリール基、置換アルケニル基を表す。
R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted group. Represents an alkenyl group.

【0016】Z- は、対アニオンを表す。nは、0、
1、2、3の整数を表す。
[0016] Z - represents a counter anion. n is 0,
Represents an integer of 1, 2, and 3.

【0017】(2)前記(チア)ピリリウム塩色素およ
びチタノセン化合物を含有する光重合性開始系が、さら
に下記(イ)〜(チ)からなる群から選ばれた少なくと
も1種の化合物を含有する上記(1)の光重合性組成
物。
(2) The photopolymerizable initiation system containing the (thia) pyrylium salt dye and the titanocene compound further contains at least one compound selected from the group consisting of the following (a) to (h). The photopolymerizable composition according to (1) above.

【0018】(イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物 (ロ)下記(IX)で示されるケトン化合物(A) Compound having carbon-halogen bond (b) Ketone compound represented by the following (IX)

【0019】[0019]

【化3】 Embedded image

【0020】(化3中、Ar は下記化4の一つから選ば
れた芳香族基を表し、R13およびR 14は各々水素原子ま
たはアルキル基を表し、また、R13とR14とは互いに結
合して炭素原子とともに炭素環を形成してもよい。
(In Chemical formula 3, Ar is selected from one of the following Chemical formulas 4.
Represents an aromatic group represented by R13And R 14Are hydrogen atoms or
Or an alkyl group, and R13And R14Is tied to each other
May combine with each other to form a carbocycle with a carbon atom.

【0021】[0021]

【化4】 Embedded image

【0022】化4中、R15〜R19は互いに同一でも異な
っていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、−S−R21基、−SO−R21基、−SO2 −R21
を表す。但しR15〜R19の少なくとも一つは−S−R21
基または−SO−R21基を表し、ここでR21は水素原
子、アルキル基、アシル基、アリール基またはアルケニ
ル基を表す。R20は水素原子、アルキル基またはアシル
基を表す。Y4 は水素原子または下記化5の基を表す。
化5中のR13およびR14は各々化3中のものと同義であ
る。)
In Chemical Formula 4, R 15 to R 19 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a —S—R 21 group, It represents a —SO—R 21 group or a —SO 2 —R 21 group. Provided that at least one of R 15 to R 19 is -S-R 21
Or a —SO—R 21 group, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group, an aryl group or an alkenyl group. R 20 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group. Y 4 represents a hydrogen atom or a group of the following chemical formula 5.
R 13 and R 14 in Chemical formula 5 are the same as those in Chemical formula 3. )

【0023】[0023]

【化5】 Embedded image

【0024】(ハ)下記化6で示されるケトオキシム化
合物
(C) a ketoxime compound represented by the following chemical formula 6

【0025】[0025]

【化6】 [Chemical 6]

【0026】(化6中、R22およびR23は互いに同一で
も異なっていてもよく、各々不飽和結合を含んでいても
良い炭化水素基またはヘテロ環基を表す。
(In the formula 6, R 22 and R 23 may be the same or different from each other and each represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group which may contain an unsaturated bond.

【0027】R24およびR25は互いに同一でも異なって
いてもよく、各々水素原子、不飽和結合を含んでいても
良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オ
キシ基、メルカプト基または置換チオ基を表す。また、
26およびR27は各々水素原子、不飽和結合を含んでい
ても良い炭化水素基または置換カルボニル基を表す。R
26とR27とは互いに結合して環を形成し、下記化7から
選ばれた基
R 24 and R 25 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a substituted oxy group, a mercapto group or a substituted group. Represents a thio group. Also,
R 26 and R 27 each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. R
26 and R 27 are bonded to each other to form a ring, and a group selected from the following Chemical formula 7

【0028】[0028]

【化7】 [Chemical 7]

【0029】を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素数
2〜8のアルキレン基となってもよい。)
May be an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms which may be contained in the linking main chain of the ring. )

【0030】(ニ)有機過酸化物 (ホ)下記化8で示されるチオ化合物(D) Organic peroxide (e) Thio compound represented by the following chemical formula 8

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】(化8中、R28はアルキル基またはアリー
ル基を表し、R29は水素原子またはアルキル基を表す。
また、R28とR29とは互いに結合して酸素、硫黄および
窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでいてもよい5
員ないし7員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
す。
(In Chemical Formula 8, R 28 represents an alkyl group or an aryl group, and R 29 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R 28 and R 29 may be bonded to each other to contain a hetero atom selected from oxygen, sulfur and nitrogen atoms.
Represents a group of non-metal atoms necessary to form a 7-membered ring.

【0033】(ヘ)ヘキサアリールビイミダゾール (ト)芳香族オニウム塩 (チ)ケトオキシムエステル(F) hexaarylbiimidazole (to) aromatic onium salt (h) ketoxime ester

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described.

【0035】本発明の光重合性組成物は、付加重合可能
な化合物および光重合開始系を含むものである。
The photopolymerizable composition of the present invention contains a compound capable of addition polymerization and a photopolymerization initiation system.

【0036】本発明に使用される第1の必須成分である
付加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物は、末
端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは
2個以上有する化合物から選ばれる。
The polymerizable compound having an addition-polymerizable unsaturated bond, which is the first essential component used in the present invention, is selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Be done.

【0037】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。モノマーおよびその共重合体の例としては、
不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等があげられる。
It has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. Examples of monomers and their copolymers include:
Esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, and unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amine compounds Amides and the like.

【0038】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate , 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate , So Bi penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0039】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0040】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
As the itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0041】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0042】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate and sorbitol tetraisocrotonate.

【0043】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbitol tetramaleate.

【0044】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
もあげることができる。
Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.

【0045】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0046】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニ
ル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
Other examples include Japanese Examined Patent Publication No. 48-417.
JP-A-08-0838, in which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule. And vinyl urethane compounds containing at least two polymerizable vinyl groups.

【0047】 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3 を示す。)CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (A) (wherein R and R ′ represent H or CH 3 ).

【0048】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜70
重量%(以下%と省略する。)、好ましくは10〜60
%である。
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-A-48-
64183, JP-B-49-43191, JP-B-52
Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A-30490. In addition, Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, No. 7, 300-30
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 8 (1984) can also be used. The amount of these used is 5 to 70 with respect to all components.
% By weight (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 60
%.

【0049】次に本発明の光重合性組成物の第2の必須
成分である光重合開始系について説明する。本発明の光
重合開始系は少なくとも2種成分の組み合わせからなっ
ており、その第一の成分a)ピリリウム塩色素またはチ
アピリリウム塩色素について説明する。
Next, the photopolymerization initiation system which is the second essential component of the photopolymerizable composition of the present invention will be described. The photopolymerization initiation system of the present invention comprises a combination of at least two components, and the first component a) pyrylium salt dye or thiapyrylium salt dye will be described.

【0050】一般式(I)で示される化合物の好ましい態
様としては、R1 、R2 及びR3 が各々独立に水素原
子、ハロゲン原子、炭素数が1から6個の置換または無
置換のアルキル基、炭素数が6から12個の置換もしく
は無置換のアリール基であり、Y1 を含む複素環が下記
一般式(III)または(IV)の何れかで表させる基であり、
また、Y2 を含む複素環が下記一般式(V)または(VI)の
何れかで表させる基である。
In a preferred embodiment of the compound represented by the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. A group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a heterocycle containing Y 1 is a group represented by any one of the following general formulas (III) or (IV),
Further, the heterocycle containing Y 2 is a group represented by the following general formula (V) or (VI).

【0051】[0051]

【化9】 Embedded image

【0052】R1 、R2 及びR3 は、好ましくは水素原
子、ハロゲン原子、炭素数が1から4個の置換されたま
たは無置換のアルキル基、炭素数が6から10個の置換
もしくは無置換のフェニル基、アルコキシフェニル基で
あり、より好ましくは、H、F、Cl、Br、メチル
基、エチル基、フェニル基、置換フェニル基である。
R 1 , R 2 and R 3 are preferably hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, substituted or unsubstituted group having 6 to 10 carbon atoms. It is a substituted phenyl group or an alkoxyphenyl group, more preferably H, F, Cl, Br, a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group.

【0053】一般式(II)で示される化合物の好ましい態
様としては、R4 、R5 及びR6 が各々独立に水素原
子、炭素数が1から12個の置換もしくは無置換のアル
キル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換アルケ
ニル基であり、Y3 を含む複素環が下記一般式(VII)ま
たは(VIII)の何れかで表させる基である。
In a preferred embodiment of the compound represented by the general formula (II), R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkyl group. Alternatively, it is an unsubstituted aryl group or a substituted alkenyl group, and the heterocycle containing Y 3 is a group represented by the following general formula (VII) or (VIII).

【0054】[0054]

【化10】 Embedded image

【0055】R4 、R5 及びR6 は、好ましくは水素原
子、炭素数が1から12個の置換もしくは無置換のアル
キル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換アルケ
ニル基を表す。より好ましくは、水素原子、炭素数が1
から10個の置換もしくは無置換のアルキル基、フェニ
ル基、アルキル基が置換したフェニル基、アルコキシフ
ェニル基、アミノフェニル基、ジアルキルアミノフェニ
ル基、アルキル基が置換したスチリル基、ジアルキルア
ミノスチリル基、アルコキシスチリル基である。
R 4 , R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted alkenyl group. More preferably, a hydrogen atom and a carbon number of 1
To 10 substituted or unsubstituted alkyl groups, phenyl groups, phenyl groups substituted with alkyl groups, alkoxyphenyl groups, aminophenyl groups, dialkylaminophenyl groups, styryl groups substituted with alkyl groups, dialkylaminostyryl groups, alkoxy It is a styryl group.

【0056】さらに好ましくは、R4 、R5 、R6 の少
なくとも1つがアルコキシフェニル基、ジアルキルアミ
ノフェニル基等の置換又は無置換のアリール基、スチリ
ル基等の置換アルケニル基である。
More preferably, at least one of R 4 , R 5 and R 6 is a substituted or unsubstituted aryl group such as an alkoxyphenyl group or a dialkylaminophenyl group, or a substituted alkenyl group such as a styryl group.

【0057】R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12は、
各々独立に水素原子、炭素数が1から12個の置換もし
くは無置換のされたアルキル基、置換もしくは無置換の
アリール基、置換アルケニル基、または隣接した核炭素
原子に結合している任意の基が一緒になってアリール基
を形成するのに必要な原子群を表す。
R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are
Each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted alkenyl group, or any group bonded to an adjacent nuclear carbon atom. Together represent an atomic group necessary for forming an aryl group.

【0058】R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12は好
ましくは、水素原子、炭素数が1から10個の置換もし
くは無置換のアルキル基、フェニル基、アルキル基が置
換したフェニル基、アルコキシフェニル基、アミノフェ
ニル基、ジアルキルアミノフェニル基、アルキル基が置
換したスチリル基、ジアルキルアミノスチリル基、アル
コキシスチリル基、または、一般式(XII)、(XII
I)、で表せる基である。
R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are preferably hydrogen atoms, substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, phenyl groups and alkyl groups. A phenyl group, an alkoxyphenyl group, an aminophenyl group, a dialkylaminophenyl group, a styryl group substituted with an alkyl group, a dialkylaminostyryl group, an alkoxystyryl group, or a compound represented by the general formula (XII) or (XII
I), is a group that can be represented by.

【0059】[0059]

【化11】 Embedded image

【0060】式中R30、R31、R32、R33、R34
35、R36、R37は、R4 、R5 、R6で述べたと同様
の置換基を表す。
In the formula, R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 ,
R 35 , R 36 , and R 37 represent the same substituents as described for R 4 , R 5 , and R 6 .

【0061】Z-は、対アニオンを表す。具体的には、
Cl-、Br-、I-、CIO4 - 、BF4 - 、PF6 - 、S
bF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、SnCl6 - 、R−
COO-、R−SO3 - 等がある。Rは、水素原子、アル
キル基、アリール基または複素環基を表す。好ましく
は、Cl-、Br-、ClO4 -、BF4 - 、PF6 - 、R−OO-
R−SO3 - である。
[0061] Z - represents a counter anion. In particular,
Cl , Br , I , CIO 4 , BF 4 , PF 6 , S
bF 6 -, AsF 6 -, SbCl 6 -, SnCl 6 -, R-
COO , R—SO 3 − and the like. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Preferably, Cl , Br , ClO 4 , BF 4 , PF 6 , R—OO ,
R-SO 3 - it is.

【0062】式(I)、(II)で表される化合物の具体例を
下記に示す。本発明はこれらの化合物に限定されるもの
ではない。
Specific examples of the compounds represented by the formulas (I) and (II) are shown below. The present invention is not limited to these compounds.

【0063】[0063]

【化12】 [Chemical 12]

【0064】[0064]

【化13】 Embedded image

【0065】[0065]

【化14】 Embedded image

【0066】[0066]

【化15】 Embedded image

【0067】[0067]

【化16】 Embedded image

【0068】これらピリリウム塩色素またはチアピリリ
ウム塩色素は、既に知られている方法によって製造が可
能である。製造法の例としては、特開昭54-14974号、米
国特許3,586,500号明細書に記載の方法、あるいはTetra
hedron 29巻795ページ(1973年)等に記載されている。
These pyrylium salt dyes or thiapyrylium salt dyes can be produced by a known method. Examples of the production method include the method described in JP-A-54-14974, U.S. Pat. No. 3,586,500, or Tetra.
hedron 29, page 795 (1973).

【0069】本発明の光重合性組成物に用いられるピリ
リウム塩色素またはチアピリリウム塩色素は、単独でま
たは2種以上を併用して好適に使用することができる。
The pyrylium salt dye or thiapyrylium salt dye used in the photopolymerizable composition of the present invention can be preferably used alone or in combination of two or more kinds.

【0070】次に本発明の光開始系で第二の成分となっ
ているb)チタノセン化合物について説明する。本発明
のチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存下で
光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノセン
化合物であればどれでも良い。例えば、特開昭59−1
52396号、特開昭61−151197号、特開平6
−41170号公報に記載されている公知の化合物を適
宜に選択して用いることができる。
The b) titanocene compound which is the second component in the photoinitiating system of the present invention will be described below. The titanocene compound of the present invention may be any titanocene compound that can generate an active radical when irradiated with light in the presence of the above-described sensitizing dye. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
52396, JP-A-61-151197, JP-A-6-151197
Known compounds described in JP-A-41170 can be appropriately selected and used.

【0071】具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−
1−イル(以下A−1と記す)、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフ
ェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオ
ロフエニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフエニ−1−イル(以下A−2
と記す)、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,5,6−テトラフルオロフエニ−1−イ
ル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ビス(シクロペ
ンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピ
リ−1−イル)フェニル)チタニウム(以下(A−3と
記す)等を挙げることができる。
Specifically, di-cyclopentadienyl-
Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-T
i-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-
1-yl (hereinafter referred to as A-1), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis- 2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, di-
Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,
5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter A-2
Di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4-difluorophenyl-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter referred to as A-3) and the like Can be mentioned.

【0072】本発明の光重合性組成物に用いられるチタ
ノセン化合物は単独でまたは2種以上併用して用いるこ
とができる。
The titanocene compound used in the photopolymerizable composition of the present invention can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0073】以上述べた本発明の光重合性組成物に用い
られる光重合開始系を構成する増感色素、およびチタノ
セン化合物の使用量はエチレン性不飽和二重結合を有す
る化合物100重量部に対し、増感色素が0.05〜3
0重量部、好ましくは0.1〜20重量部、更に好まし
くは0.2〜10重量部の範囲で、チタノセン化合物が
0.5〜100重量部、好ましくは1〜80重量部、更
に好ましくは2〜50重量部の範囲で用いることができ
る。
The amount of the sensitizing dye constituting the photopolymerization initiation system used in the photopolymerizable composition of the present invention and the titanocene compound used is 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond. , Sensitizing dye 0.05 to 3
0 parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.2 to 10 parts by weight, the titanocene compound is 0.5 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably It can be used in the range of 2 to 50 parts by weight.

【0074】本発明の光重合性組成物では、前記の増感
色素とチタノセン化合物の他に、感度向上の目的で以下
に説明する(イ)〜(チ)の化合物を添加することがで
きる。
In the photopolymerizable composition of the present invention, in addition to the above-mentioned sensitizing dye and titanocene compound, the following compounds (a) to (h) can be added for the purpose of improving sensitivity.

【0075】(イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物
としては、下記(XIV)〜(XX)で示される化合物が好ま
しい。なお、式(XIV)については化18、式(XV)に
ついては化19、式(XVII)については化21、式(XV
III)のトリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチ
レン複素環式化合物については化22、式(XIX)の4
−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オキ
サゾール誘導体については化23、式(XX)の2−(ハ
ロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ−オキサゾー
ル誘導体については化24に示す。
As the compound (a) having a carbon-halogen bond, compounds represented by the following (XIV) to (XX) are preferable. Formula (XIV) is represented by Formula 18, formula (XV) is represented by Formula 19, XVII is represented by Formula 21, and Formula (XV) is represented by Formula 21.
For the carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group of III), a compound of formula 22,
It is shown in Chemical formula 23 for the -halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivative, and in Chemical formula 24 for the 2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivative of formula (XX).

【0076】[0076]

【化17】 Embedded image

【0077】化17中、Xはハロゲン原子を表わす。Y
5 は−CX3 、−NH2 、−NHR39 、−N(R39)2 、−O
39を表わす。ここでR39はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。またR38
−CX3 (Xはハロゲン)、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を
表わす。
In Chemical formula 17, X represents a halogen atom. Y
5 -CX 3, -NH 2, -NHR 39 , -N (R 39) 2, -O
Represents R 39 . Here, R 39 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. R 38 represents —CX 3 (X is halogen), an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a substituted alkenyl group.

【0078】[0078]

【化18】 Embedded image

【0079】化18中、R40は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、ニトロ基またはシアノ基であり、Xは
ハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。
Embedded image R 40 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a nitro group or a cyano group, X is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3.

【0080】R41−E−CH2-m m −R42 (XVI) 式(XVI)中、R41は、アリール基または置換アリール
基であり、R42は−CO−NR43=R44、下記化19の
R 41 -E-CH 2-m X m -R 42 (XVI) In the formula (XVI), R 41 is an aryl group or a substituted aryl group, and R 42 is -CO-NR 43 = R 44. , The following formula 19

【0081】[0081]

【化19】 Embedded image

【0082】またはハロゲンであり、Eは−CO−、−
CS−または−SO2−であり、R43、R44はアルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アリール基または置換アリール基であり、R45は化
17中の式(XIV)中のR38と同じであり、Xはハロゲ
ン、mは1または2である。
Or halogen, E is --CO--,-
CS- or -SO 2 - and is, R 43, R 44 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group or a substituted aryl group, wherein in R 45 is of 17 (XIV) Is the same as R 38 in the formula, X is halogen, and m is 1 or 2.

【0083】[0083]

【化20】 Embedded image

【0084】化20中、R46は置換されていてもよいア
リール基または複素環式基であり、R47は炭素原子1〜
3個を有するトリハロアルキル基またはトリハロアルケ
ニル基であり、pは1、2または3である。
Embedded image R 46 is an optionally substituted aryl group or heterocyclic group, and R 47 is a carbon atom of 1 to 1
A trihaloalkyl group or a trihaloalkenyl group having 3 and p is 1, 2 or 3.

【0085】[0085]

【化21】 [Chemical 21]

【0086】化21中、Lは水素原子または式:CO-(R
48)n (CX3)m の置換基であり、Mは置換または非置換
のアルキレン基であり、Qは硫黄、セレンまたは酸素原
子、ジアルキルメチレン基、アルケン−1,2−イレン
基、1,2−フェニレン基またはN−R49基であり、M
+Qは一緒になって3または4のヘテロ環を形成し、R
48は炭素環式または複素環式の芳香族基であり、R49
アルキル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基
であり、Xは塩素、臭素またはヨウ素原子であり、q=
0およびr=1であるかまたはq=1およびr=1もし
くは2である。
In formula 21, L is a hydrogen atom or a formula: CO- (R
48 ) n (CX 3 ) m is a substituent, M is a substituted or unsubstituted alkylene group, Q is a sulfur, selenium or oxygen atom, a dialkylmethylene group, an alkene-1,2-ylene group, 1, 2-phenylene group or NR 49 group, M
+ Q together form a 3 or 4 heterocycle,
48 is a carbocyclic or heterocyclic aromatic group, R 49 is an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group, X is a chlorine, bromine or iodine atom, and q =
0 and r = 1 or q = 1 and r = 1 or 2.

【0087】[0087]

【化22】 Embedded image

【0088】化22中、Xはハロゲン原子であり、tは
1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R50
水素原子またはCH3-t t 基であり、R51はs価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。
In Chemical Formula 22, X is a halogen atom, t is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, R 50 is a hydrogen atom or a CH 3 -t X t group, R 51 is an s-valent optionally substituted unsaturated organic group.

【0089】[0089]

【化23】 Embedded image

【0090】化23中、Xはハロゲン原子であり、vは
1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R52
水素原子またはCH3-v v 基であり、R53はu価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。
In the chemical formula 23, X is a halogen atom, v is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, R 52 is a hydrogen atom or a CH 3-v X v group, R 53 is a u-valent unsaturated organic group which may be substituted.

【0091】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、例えば、若林ら著、Bull. Chem. Soc. J
apan, 42、2924(1969)記載の化合物、例え
ば、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン(以下C−2と記す)、2−(p−ク
ロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−メチル−4,6−ヒス(トリクロルメ
チル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,
α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、
英国特許1388492 号明細書記載の化合物、例えば、2−
スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4
−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、
特開昭53−133428号記載の化合物、例えば、2
−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス
−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4−エト
キシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロル
メチル−S−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエ
チル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ
−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチ
ル−S−トリアジン、2−(アセナフト−5−イル)−
4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン等、
独国特許3337024 号明細書記載の化合物、例えば下記の
化合物を挙げることができる。
Examples of such a compound having a carbon-halogen bond include those described by Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. J.
apan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine (hereinafter referred to as C-2), 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)-
S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-
Triazine, 2-methyl-4,6-his (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α,
α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and the like. Other,
Compounds described in GB 1388492, for example 2-
Styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4, 6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4
-Amino-6-trichloromethyl-S-triazine and the like,
Compounds described in JP-A-53-133428, for example, 2
-(4-Methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S -Triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (acenaphth-5-yl)-
4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine and the like,
The compounds described in German Patent No. 3337024, for example, the following compounds may be mentioned.

【0092】[0092]

【化24】 Embedded image

【0093】[0093]

【化25】 Embedded image

【0094】また、F. C. Schaefer等による J. Org. C
hem.,29、1527(1964)記載の化合物、例え
ば2−メチル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S
−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロムメチ
ル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロム
メチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−
6−トリブロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ
−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン
等を挙げることができる。
Also, J. Org. C by FC Schaefer et al.
hem., 29, 1527 (1964), for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S
-Triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4-methyl-
Examples thereof include 6-tribromomethyl-S-triazine and 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-triazine.

【0095】さらに特開昭62−58241号記載の化
合物、例えば下記の化合物を挙げることができる。
Further, the compounds described in JP-A-62-58241, for example, the following compounds can be mentioned.

【0096】[0096]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0097】[0097]

【化27】 Embedded image

【0098】更に特開平5−281728号記載の化合
物、例えば下記化28に示される化合物等を挙げること
ができる。
Further, compounds described in JP-A-5-281728, for example, compounds represented by the following chemical formula 28 can be mentioned.

【0099】[0099]

【化28】 Embedded image

【0100】あるいはさらに M. P. Hutt, E. F. Elsla
ger および L. M. Werbel 著 Journal of Heterocyclic
chemistry第7巻(No. 3)、第511頁以降(197
0年)に記載されている合成方法に準じて当業者が容易
に合成することができる次のような化合物群を挙げるこ
とができる。
Or even MP Hutt, EF Elsla
Ger and LM Werbel Journal of Heterocyclic
Chemistry Volume 7 (No. 3), pp. 511 et seq. (197
The following group of compounds that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described in (0).

【0101】[0101]

【化29】 [Chemical 29]

【0102】[0102]

【化30】 Embedded image

【0103】[0103]

【化31】 [Chemical 31]

【0104】[0104]

【化32】 Embedded image

【0105】[0105]

【化33】 [Chemical 33]

【0106】[0106]

【化34】 Embedded image

【0107】[0107]

【化35】 Embedded image

【0108】[0108]

【化36】 Embedded image

【0109】[0109]

【化37】 Embedded image

【0110】あるいは、ドイツ特許第2641100 号に記載
されているような化合物、例えば、4−(4−メトキシ
−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプロペニ
ル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリメトキ
シ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピロン、
あるいはドイツ特許第3333450 号に記載されている化合
物、例えば下記化38で示される化合物において、化3
9のR49等の組み合わせで示されるものが挙げられる。
なお、化38の化合物は化21の化合物に包含されるも
のである。
Alternatively, compounds such as those described in German Patent No. 2641100, such as 4- (4-methoxy-styryl) -6- (3,3,3-trichloropropenyl) -2-pyrone and 4- (3,4,5-trimethoxy-styryl) -6-trichloromethyl-2-pyrone,
Alternatively, a compound described in German Patent No. 3333450, for example, a compound represented by the following chemical formula 38:
Examples thereof include those represented by the combination of R 49 of 9 and the like.
The compound of Chemical formula 38 is included in the compound of Chemical formula 21.

【0111】[0111]

【化38】 Embedded image

【0112】[0112]

【化39】 Embedded image

【0113】あるいはドイツ特許第3021590 号に記載の
化合物群、例えば下記のものが挙げられる。
Alternatively, the compound group described in German Patent No. 3021590, for example, the following may be mentioned.

【0114】[0114]

【化40】 Embedded image

【0115】あるいはドイツ特許第3021599 号に記載の
化合物群、例えば下記のものが挙げられる。
Alternatively, the compound group described in German Patent No. 3021599, for example, the following may be mentioned.

【0116】[0116]

【化41】 Embedded image

【0117】次に(ロ)化3で示されるケトン化合物に
ついて説明する。ここで、Arは化4の一つから選ばれ
た芳香族基を表し、R13、R14は水素原子もしくは炭素
数1〜8のアルキル基を示し、R13とR14とは互いに結
合してCとともに炭素環(シクロヘキサン、ベンゼン環
等)を形成してもよい。化4中、R15〜R19は、互いに
独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜1
2のアルキル基、炭素原子数3〜12のアルケニル基、
アリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、水酸基、
−S−R21基、−SO−R21基、−SO2 −R21基を表
し、R21は水素原子、または炭素原子数1〜12のアル
キル基、または炭素原子数2〜13のアシル基、アルケ
ニル基、アリール基(フェニル基等)を示す。これらの
アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基は更
に炭素原子数1〜6の置換基で置換されても良い。R20
は水素原子、アルキル基またはアシル基を表す。Yは水
素原子または化5の基を表し、化5中のR13およびR14
は各々化3中のものと同義である。
Next, the ketone compound represented by (b) Formula 3 will be described. Here, Ar represents an aromatic group selected from one of Chemical formula 4, R 13 and R 14 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 13 and R 14 are bonded to each other. And C may form a carbon ring (cyclohexane, benzene ring, etc.). In Chemical formula 4, R 15 to R 19 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number of 1 to 1.
2 alkyl groups, C 3-12 alkenyl groups,
An aryl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group,
-S-R 21 group, -SO-R 21 group represents a --SO2 -R 21 group, R 21 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an acyl group having a carbon number of 2 to 13, , Alkenyl group, aryl group (phenyl group, etc.). These alkyl group, aryl group, alkenyl group and acyl group may be further substituted with a substituent having 1 to 6 carbon atoms. R 20
Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group. Y represents a hydrogen atom or a group of Chemical formula 5, and R 13 and R 14 in Chemical formula 5 are represented.
Are synonymous with those in Chemical formula 3, respectively.

【0118】具体的な例としては、米国特許4,318,7
91号、欧州特許0284561A号に記載の下記化合
物を挙げることができる。
As a concrete example, US Pat. No. 4,318,7
The following compounds described in No. 91 and European Patent No. 0284561A can be mentioned.

【0119】[0119]

【化42】 Embedded image

【0120】[0120]

【化43】 Embedded image

【0121】[0121]

【化44】 Embedded image

【0122】次に(ハ)化6で示されるケトオキシム化
合物について説明する。
Next, the ketoxime compound represented by Chemical formula 6 will be described.

【0123】化6中、R22、R23は同一であっても異な
るものであってもよく、置換基を有していても良く不飽
和結合を含んでいても良い炭化水素基、あるいはヘテロ
環基を表す。
In Chemical Formula 6, R 22 and R 23 may be the same or different, and may be a hydrocarbon group which may have a substituent or may contain an unsaturated bond, or a hetero group. Represents a ring group.

【0124】R24、R25は同一であっても異なるもので
あってもよく、水素原子、置換基を有していても良く不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、
ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チ
オ基を表す。R26、R27は水素原子、置換基を有してい
ても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、あ
るいは置換カルボニル基を表す。また、R26、R27は互
いに結合して環を形成し、化7から選ばれた基を環の連
結主鎖に含んでいても良い炭素数2から8のアルキレン
基を表す。
R 24 and R 25 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent or may contain an unsaturated bond, or a heterocyclic group. ,
It represents a hydroxyl group, a substituted oxy group, a mercapto group or a substituted thio group. R 26 and R 27 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent or may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. Further, R 26 and R 27 represent an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, which may be bonded to each other to form a ring, and the group selected from Chemical formula 7 may be contained in the linking main chain of the ring.

【0125】具体的な化合物として、以下のものをあげ
ることができるが、これに限定されるものではない。
The following compounds can be mentioned as specific compounds, but the compounds are not limited to these.

【0126】[0126]

【化45】 Embedded image

【0127】[0127]

【化46】 Embedded image

【0128】[0128]

【化47】 Embedded image

【0129】[0129]

【化48】 Embedded image

【0130】(ニ)有機過酸化物としては、分子中に酸
素−酸素結合を有する化合物をあげることができる。例
えばメチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサ
ノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパー
オキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1
−ビス(ターシャリィブチルパーオキシ)−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャ
リィブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス
(ターシャリィブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリ
ィブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパー
オキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキ
サイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−
ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイ
ド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパー
オキサイド、ジターシャリィブチルパーオキサイド、タ
ーシャリィブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド、ビス(ターシャリィブチルパーオシイソプ
ロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(タ
ーシャリィブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(ターシャリィブチルパーオキシ)ヘ
キシン−3、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパ
ーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイ
ルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,
5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、過酸
化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベン
ゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2
−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシ
イソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル
−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、タ
ーシャリィブチルパーオキシアセテート、ターシャリィ
ブチルパーオキシピバレート、ターシャリィブチルパー
オキシネオデカノエート、ターシャリィブチルパーオキ
シオクタノエート、ターシャリィブチルパーオキシ−
3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリィ
ブチルパーオキシラウレート、ターシャリィブチルパー
オキシベンゾエート、ジターシャリィブチルパーオキシ
イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベン
ゾイルパーオキシ)ヘキサン、ターシャリィブチル過酸
化マレイン酸、ターシャリィブチルパーオキシイソプロ
ピルカーボネート、3,3′,4,4′−テトラ−(t
−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン(以下
C−8と記す)、3,3′,4,4′−テトラ−(t−
アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,
3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ
(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テト
ラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二
水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパー
オキシ二水素二フタレート)等がある。
Examples of the organic peroxide (d) include compounds having an oxygen-oxygen bond in the molecule. For example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1
-Bis (tert-butylperoxy) -3,3,5
-Trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiarybutylhydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, Paramethane hydroperoxide, 2,5-
Dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiary butyl) Peroxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexyne-3, acetyl per Oxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,
5,5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic acid peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropylperoxydicarbonate, di-2
-Ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-
Ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropylperoxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tertiary butylperoxyacetate, tertiary butylperoxypivalate, tertiary butylperoxyneo Decanoate, tertiary butyl peroxyoctanoate, tertiary butyl peroxy
3,5,5-trimethylhexanoate, tertiary butyl peroxy laurate, tertiary butyl peroxy benzoate, ditertiary butyl peroxy isophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoyl peroxy) Hexane, tertiary butyl peroxide maleic acid, tertiary butyl peroxyisopropyl carbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t
-Butylperoxycarbonyl) benzophenone (hereinafter referred to as C-8), 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-
Amyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,
3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'- Tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (t- Hexyl peroxy dihydrogen diphthalate) and the like.

【0131】これらの中で、3,3′,4,4′−テト
ラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ−(t−アミルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オクチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。
Among these, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and 3,3', 4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) Benzophenone, 3,3 ', 4,4'
-Tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3',
4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone,
Peroxide ester systems such as di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.

【0132】本発明で使用される成分(ホ)としてのチ
オ化合物は、化8で示される。
The thio compound as the component (e) used in the present invention is shown in Chemical formula 8.

【0133】化8におけるR28、R29のアルキル基とし
ては炭素原子数1〜4個のものが好ましい。またR28
アリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原
子数6〜10個のものが好ましく、置換アリール基とし
ては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロ
ゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、
エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含
まれる。
The alkyl group of R 28 and R 29 in Chemical formula 8 is preferably one having 1 to 4 carbon atoms. Further, the aryl group of R 28 is preferably one having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, and the substituted aryl group is preferably a halogen atom such as chlorine atom or a methyl group as the above aryl group. Such as an alkyl group, a methoxy group,
Those substituted with an alkoxy group such as an ethoxy group are included.

【0134】化8で示されるチオ化合物の具体例として
は、化8において下記に示すようなR28、R29の組み合
わせの化合物が挙げられる。
Specific examples of the thio compound represented by Chemical formula 8 include compounds having a combination of R 28 and R 29 as shown below in Chemical formula 8.

【0135】[0135]

【化49】 Embedded image

【0136】[0136]

【化50】 Embedded image

【0137】[0137]

【化51】 [Chemical 51]

【0138】(ヘ)ヘキサアリールビイミダゾールとし
ては、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール(以下
C−11と記す)、2,2′−ビス(o−ブロモフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ケトオキシムエステルとしては、3−ベンゾイロキシイ
ミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−
2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−
オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−
アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、
2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1
−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。
Examples of (f) hexaarylbiimidazole include 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (hereinafter referred to as C-11), 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, , 2'-Bis (o, p-dichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole and the like.
Examples of the ketoxime ester include 3-benzoyloximinobtan-2-one and 3-acetoxyiminobutan-
2-one, 3-propionyloxy iminobutan-2-
On, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-
Acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one,
2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1
-One, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-
1-phenylpropan-1-one and the like.

【0139】また、(ト)芳香族オニウム塩としては、
周期表の15(5B)、16(6B)、17(7B)族
の元素、具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、
Te、またはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このよう
な芳香族オニウム塩は、特公昭52−14277号、特
公昭52−14278号、特公昭52−14279号に
示されている化合物を挙げることができる。
Further, as the (g) aromatic onium salt,
Elements of groups 15 (5B), 16 (6B), and 17 (7B) of the periodic table, specifically, N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se,
Te or I aromatic onium salts are included. Such aromatic onium salts include the compounds disclosed in JP-B-52-14277, JP-B-52-14278, and JP-B-52-14279.

【0140】具体的には、以下の化合物を挙げることが
できる。
Specifically, the following compounds can be mentioned.

【0141】[0141]

【化52】 Embedded image

【0142】[0142]

【化53】 Embedded image

【0143】[0143]

【化54】 Embedded image

【0144】[0144]

【化55】 Embedded image

【0145】[0145]

【化56】 Embedded image

【0146】[0146]

【化57】 Embedded image

【0147】[0147]

【化58】 Embedded image

【0148】これらの中で好ましいものは、BF4 塩、
またはPF6 塩の化合物さらに好ましくは芳香族ヨード
ニウム塩のBF4 塩、またはPF6 塩である。
Preferred among these are BF 4 salts,
Or a compound of a PF 6 salt, more preferably a BF 4 salt of an aromatic iodonium salt, or a PF 6 salt.

【0149】(チ)ケトオキシムエステルとしては3−
ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキ
シイミノブタン−2−オン(以下C−12と記す)、3
−ブロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−ア
セトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイ
ミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイ
ロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−
p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オ
ン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニ
ルプロパン−1−オン等が挙げられる。
As (h) ketoxime ester, 3-
Benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one (hereinafter referred to as C-12), 3
-Bropionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1- ON, 3-
p-Toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like.

【0150】これらの(イ)〜(チ)の添加剤は、単独
でまたは2種以上併用して用いることができる。使用量
はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物100重量
部に対し0.05〜100重量部、好ましくは1〜80
重量部、更に好ましくは3〜50重量部の範囲で使用さ
れる。
These additives (a) to (h) can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, per 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.
Parts by weight, more preferably in the range of 3 to 50 parts by weight.

【0151】本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤
系の含有濃度は通常わずかなものである。また、不適当
に多い場合には有効光線の遮断等好ましくない結果を生
じる。本発明における光重合開始剤系の量は、光重合可
能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と必要に
応じて添加される線状有機高分子重合体との合計に対し
て0.01%から60%の範囲で使用するのが好まし
い。より好ましくは、1%から30%で良好な結果を得
る。
The content concentration of these photoinitiator systems in the composition of the present invention is usually low. In addition, when the number is inappropriately large, undesired results such as blocking of the effective light beam occur. The amount of the photopolymerization initiator system in the present invention is 0.01 to the total of the compound having a photopolymerizable ethylenically unsaturated double bond and the linear organic high molecular weight polymer added as necessary. % To 60%. More preferably, good results are obtained at 1% to 30%.

【0152】本発明の光重合性組成物には、バインダー
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現
像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨
潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有
機高分子重合体は、この組成物の皮膜形成剤としてだけ
でなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤とし
ての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。このよ
うな線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸
基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615
号、特公昭54−34327号、特公昭58−1257
7号、特公昭54−25957号、特開昭54−927
23号、特開昭59−53836号、特開昭59−71
048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アルカリ酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベ
ンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必
要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合
体および〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー〕共重合体が好適である。さらにこの他に水溶性線状
有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレ
ンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあ
げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒ
ドリンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有
機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させること
ができる。しかし90重量%を超える場合には形成され
る画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましく
は30〜85%である。また光重合可能なエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物と線状有機高分子重合体
は、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は3/7〜5/5である。
The photopolymerizable composition of the present invention preferably contains a linear organic high molecular polymer as a binder. As such a "linear organic high molecular polymer",
Any linear organic high molecular polymer having compatibility with the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound may be used. A linear organic polymer which is soluble or swellable in water or weak alkaline water, which enables water development or weak alkaline water development, is preferably selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film forming agent of the composition but also as a water, weakly alkaline water or organic solvent developing agent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include an addition polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, JP-A-59-44615.
No. 54-34327, Sho 58-1257
7, JP-B-54-25957, JP-A-54-927
No. 23, JP-A-59-53836, JP-A-59-71
048, that is, methacrylic acid copolymer, alkali acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc. There is. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain.
In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally And other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymers. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. To increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon or 2,2-bis-
Polyethers of (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the whole composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably it is 30 to 85%. The weight ratio of the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferred range is 3/7 to 5/5.

【0153】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要
な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加す
ることが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニト
ロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩等が
あげられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量
に対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
5%〜約10%が好ましい。さらに、感光層の着色を目
的として染料もしくは顔料を添加してもよい。
In the present invention, in addition to the above basic components, in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated double bond during production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add a small amount of thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-
p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-
6-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxyamine, ammonium N-nitrosophenylhydroxylamine, and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative to be added is about 0.1% of the total composition.
5% to about 10% is preferred. Further, a dye or a pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer.

【0154】このような着色剤としては例えばフタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チ
タンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイ
オレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニ
ン系染料がある。
Examples of such colorants include phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes.

【0155】染料および顔料の添加量は全組成物の約
0.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性
を改良するために無機充填剤や、その他可塑剤等の公知
の添加剤を加えてもよい。
The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 5% of the total composition. In addition, known additives such as inorganic fillers and other plasticizers may be added to improve the physical properties of the cured film.

【0156】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジベート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し10%以下添加するこ
とができる。
Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adibate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. In this case, 10% or less can be added to the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

【0157】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールモエチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、
メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロ
ピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、
乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは
混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の
固形分の濃度は、2〜50%が適当である。
When the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a support, it is dissolved in various organic solvents before use.
As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether,
Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol moethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol,
Methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ -Butyrolactone, methyl lactate,
Ethyl lactate and the like. These solvents can be used alone or as a mixture. And, the concentration of the solid content in the coating solution is appropriately 2 to 50%.

【0158】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/
m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは
0.5〜5g/m2である。
The coating amount is about 0.1 g / dry weight.
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. It is more preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

【0159】上記支持体としては、寸度的に安定な板状
物が用いられる。この寸度的に安定な板状物としては、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、
例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜
鉛、銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどがあげられる。こ
れらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく
安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭48−18327号に記載されているような
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウム
シートが結合された複合体シートも好ましい。
As the support, a dimensionally stable plate-like material is used. As this dimensionally stable plate,
Paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper,
For example, a metal plate such as aluminum (including an aluminum alloy), zinc, copper, etc., and further, for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene And plastic films such as polystyrene, polypropylene, polycarbonate and polyvinyl acetal, and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Among these supports, the aluminum plate is particularly preferable because it is extremely dimensionally stable and inexpensive. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable.

【0160】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
In the case of a support having a surface of metal, especially aluminum, surface treatment such as graining treatment, dipping treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodization treatment. It is preferable that

【0161】さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウ
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭47−5125号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶
液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。
Further, an aluminum plate which has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution can be preferably used. As described in JP-B-47-5125, an aluminum plate which is anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment may be, for example, an aqueous solution or an aqueous solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or a salt thereof, or an electrolytic solution obtained by combining two or more types. It is carried out by passing a current through an aluminum plate as an anode.

【0162】また、米国特許第3,658,662号に
記載されているようなシリケート電着も有効である。
Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective.

【0163】更に、特公昭46−27481号、特開昭
52−58602号、特開昭52−30503号に開示
されているような電解グレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理
も有用である。
Further, a support which has been subjected to electrolytic graining as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602 and JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and sodium silicate Surface treatments that combine treatments are also useful.

【0164】また、特開昭56−28893号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
Further, it is also preferable to use mechanical graining, chemical etching, electrolytic graining, anodic oxidation and sodium silicate treatment in that order, as disclosed in JP-A-56-28893.

【0165】更に、これらの処理を行った後に、水溶性
の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を
側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、
水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、
アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
Furthermore, after these treatments are carried out, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid,
A water-soluble metal salt (eg, zinc borate) or a yellow dye,
A primer coated with an amine salt or the like is also suitable.

【0166】更に特願平5−304358号に開示され
ているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能
基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いら
れる。
Further, a sol-gel treated substrate to which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical is covalently bonded, as disclosed in Japanese Patent Application No. 5-304358, is also preferably used.

【0167】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。
These hydrophilization treatments are carried out not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reaction of the photopolymerizable composition provided thereon, and to adhere the photosensitive layer. It is given to improve the sex.

【0168】支持体上に設けられた光重合性組成物の層
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度95
%以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。この様な保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−4
9729号に詳しく記載されている。
On the layer of the photopolymerizable composition provided on the support, for example, polyvinyl alcohol, particularly saponification degree of 95, is used in order to prevent the polymerization inhibiting action of oxygen in the air.
% Or more of a protective layer made of a polymer having excellent oxygen barrier properties such as polyvinyl alcohol and acidic celluloses. Regarding the application method of such a protective layer,
For example, U.S. Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-4
9729.

【0169】また本発明の光重合性組成物は通常の光重
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+ レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
The photopolymerizable composition of the present invention can be used in ordinary photopolymerization reactions. Further, the present invention can be applied to various fields such as a photoresist for producing a printing plate, a printed board, and the like. Particularly, due to the high sensitivity and the wide spectral sensitivity characteristic up to the visible light region, which are characteristics of the photopolymerizable composition of the present invention,
When applied to a photosensitive material for a visible light laser such as an Ar + laser and a YAG-SHG laser, a good effect can be obtained.

【0170】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
は、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除
去し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷
版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液があ
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10
%、好ましくは0.5〜5%になるように添加される。
The photosensitive material using the photopolymerizable composition of the present invention is subjected to imagewise exposure, and then the unexposed portion of the photosensitive layer is removed with a developing solution to obtain an image. Preferred developers for using these photopolymerizable compositions for preparing a lithographic printing plate include those described in JP-B-57-7427, such as sodium silicate and potassium silicate. Like sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. An aqueous solution of a suitable inorganic alkali agent or an organic alkali agent such as monoethanolamine or diethanolamine is suitable. When the concentration of such an alkaline solution is 0.1 to 10
%, Preferably 0.5 to 5%.

【0171】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3,375,171号および同第3,615,480号に記載さ
れているものを挙げることができる。
Further, in such an alkaline aqueous solution,
If necessary, a small amount of a surfactant or an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol or 2-butoxyethanol can be contained. For example, U.S. Patent No.
Examples thereof include those described in No. 3,375,171 and No. 3,615,480.

【0172】更に、特開昭50−26601号、同58
−54341号、特公昭56−39464号、同56−
42860号の各公報に記載されている現像液も優れて
いる。
Further, JP-A-50-26601 and 58.
No. 54341, JP-B-56-39464, 56-
The developing solutions described in JP-A-42860 are also excellent.

【0173】本発明に用いられる活性光線用の光源とし
ては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルラ
ンプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド
灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タ
ングステン灯、および太陽光等が使用できる。
Examples of the light source for actinic rays used in the present invention include ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure, and low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, and fluorescent lamps. Lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can be used.

【0174】[0174]

【実施例】以下、比較例とともに示す実施例をもって本
発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples shown together with comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0175】実施例1〜7、比較例1〜8 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クローン/
dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、0.6μm (Ra表示)であ
った。引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃
で2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流
密度2A/dm2 において陽極酸化皮膜の厚さが2.7g
/m2になるように2分間陽極酸化処理した。
Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 8 An aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a nylon brush 4 were used.
The surface was sand-grained with an aqueous suspension of pumicestone of 00 mesh, and then thoroughly washed with water. After etching by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, the substrate was washed with running water, neutralized and washed with 20% nitric acid, and then washed with water. This was subjected to 160 clones / in 1% nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating current under the condition of VA = 12.7V.
The electrolytic surface-roughening treatment was performed with the amount of electricity at the anode time of dm 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.6 μm (Ra indication). Subsequent immersion in 30% sulfuric acid solution at 55 ° C
After desmutting for 2 minutes in a 20% aqueous sulfuric acid solution, the thickness of the anodic oxide film is 2.7 g at a current density of 2 A / dm 2 .
/ M 2 for 2 minutes.

【0176】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布重量が1.4g
/m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させ感光層
を形成した。
On the aluminum plate thus treated, a photosensitive composition having the following composition was applied in a dry coating weight of 1.4 g.
/ M 2 and dried at 80 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer.

【0177】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g 増感色素化合物 x g チタノセン化合物 y g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20gPentaerythritol tetraacrylate 1.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0 g Sensitizing dye compound x g Titanocene compound y g Fluorine-based nonionic surfactant 0.03 g Methyl ethyl ketone 20g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20g

【0178】この感光層上にポリビニルアルコール(ケ
ン化度98モル%、重合度550)の3重量%の水溶液
を乾燥塗布重量が2g/m2となるように塗布し、100
℃で2分間乾燥した。
A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree: 98 mol%, polymerization degree: 550) was coated on the photosensitive layer so that the dry coating weight was 2 g / m 2.
Dry at 2 ° C. for 2 minutes.

【0179】感光性試験は可視光により行った。可視光
としてはキセノンランプを光源とし、ケンコー光学フィ
ルターBP−49を通して得た単色光を用いた。
The photosensitivity test was conducted with visible light. As the visible light, a monochromatic light obtained through a Kenko optical filter BP-49 using a xenon lamp as a light source was used.

【0180】感光測定には富士PSステップガイド(富
士写真フイルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0.
05で順次0.15増えていき15段まであるステップ
タブレット)を使用して行った。PSステップガイド面
でのエネルギーが0.25mJ/cm2になるように露光し
た。感度は、現像後のPSステップガイドのクリアー段
数で示した。
Fuji PS step guide (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the first stage had a transmission optical density of 0.
05, using a step tablet (up to 15 steps in increments of 0.15). Exposure was performed so that the energy on the PS step guide surface was 0.25 mJ / cm 2 . The sensitivity was indicated by the number of clear steps of the PS step guide after development.

【0181】その後、120℃で20秒間加熱を行い、
下記の現像液に25℃、30秒間浸漬して現像した。
Thereafter, heating is performed at 120 ° C. for 20 seconds,
It was developed by immersing it in the following developer at 25 ° C. for 30 seconds.

【0182】 DP−4(富士写真フイルム(株)製) 66.5g 水 881.4g リポミンLA(20%溶液) (ライオン株式会社製) 52.1gDP-4 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 66.5 g Water 881.4 g Lipomin LA (20% solution) (manufactured by Lion Corporation) 52.1 g

【0183】光重合開始剤として、下記の化合物を用
い、その組合せを変えた時の感度の結果を表1、表2に
示す。
Tables 1 and 2 show the results of sensitivity when the following compounds were used as the photopolymerization initiator and the combinations thereof were changed.

【0184】[0184]

【表1】 [Table 1]

【0185】[0185]

【表2】 [Table 2]

【0186】実施例8〜15、比較例9〜14 実施例1の光開始剤を表3に記載の化合物に替えた他
は、全く実施例1と同様に試料を作成し、同様の感光性
試験を行った。
Examples 8 to 15 and Comparative Examples 9 to 14 Samples were prepared in the same manner as in Example 1 except that the photoinitiator of Example 1 was replaced with the compounds shown in Table 3, and the same photosensitivity was obtained. The test was conducted.

【0187】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g チタノセン化合物 y g 増感色素化合物 x g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g 下記組成の顔料分散物 2.0gPentaerythritol tetraacrylate 1.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0 g Titanocene compound y g Sensitizing dye compound x g Fluorine-based nonionic surfactant 0.03 g Methyl ethyl ketone 20 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20 g Pigment dispersion having the following composition 2.0 g

【0188】 顔料分散物組成 Pigment Blue 15:6 30部 アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 20部 (共重合比 83/17) シクロヘキサノン 35部 メトキシプロピルアセテート 35部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 80部Pigment Dispersion Composition Pigment Blue 15: 6 30 parts Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 20 parts (Copolymerization ratio 83/17) Cyclohexanone 35 parts Methoxypropyl acetate 35 parts Propylene glycol monomethyl ether 80 parts

【0189】光重合開始剤の組合せを変えた時の感度の
結果を表3に示す。
Table 3 shows the results of sensitivity when the combination of photopolymerization initiators was changed.

【0190】[0190]

【表3】 [Table 3]

【0191】実施例16〜22、比較例15〜22 実施例1と同様に試料を作成し、光源に、ケンコー光学
フィルターBP−49の代わりにBP−53を通して得
た単色光を用い、感度試験を行った。
Examples 16 to 22 and Comparative Examples 15 to 22 Samples were prepared in the same manner as in Example 1, and a monochromatic light obtained through BP-53 instead of the Kenko optical filter BP-49 was used as a light source, and a sensitivity test was conducted. I went.

【0192】光重合開始剤の組合せを変えた時の結果を
表4、表5に示す。
The results when changing the combination of the photopolymerization initiators are shown in Tables 4 and 5.

【0193】[0193]

【表4】 [Table 4]

【0194】[0194]

【表5】 [Table 5]

【0195】実施例23〜30、比較例23〜28 実施例8と同様に試料を作成し、光源に、ケンコー光学
フィルターBP−49の代わりにBP−53を通して得
た単色光を用い、感度試験を行った。
Examples 23 to 30 and Comparative Examples 23 to 28 Samples were prepared in the same manner as in Example 8, and a monochromatic light obtained through BP-53 instead of the Kenko optical filter BP-49 was used as a light source, and a sensitivity test was conducted. I went.

【0196】光重合開始剤の組合せを変えた時の結果を
表6に示す。
Table 6 shows the results when the combination of photopolymerization initiators was changed.

【0197】[0197]

【表6】 [Table 6]

【0198】実施例31〜39、比較例29 実施例8の光開始系を表7に記載の化合物に替えた他
は、全く実施例8と同様に試料を作成し、感光性試験を
行った。その結果を表7に示す。
Examples 31 to 39, Comparative Example 29 A sample was prepared and a photosensitivity test was carried out in the same manner as in Example 8 except that the photoinitiating system in Example 8 was replaced with the compounds shown in Table 7. . The results are shown in Table 7.

【0199】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g 増感色素化合物 x g チタノセン化合物 y g (イ)〜(チ)の化合物 z g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g 下記組成の顔料分散物 2.0gPentaerythritol tetraacrylate 1.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0 g Sensitizing dye compound x g Titanocene compound y g (i) to (h) compounds z g Fluorine-based nonionic surfactant 0.03 g Methyl ethyl ketone 20 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20 g Pigment dispersion of the following composition 2.0 g

【0200】 顔料分散物組成 Pigment Blue 15:6 30部 アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 20部 (共重合比 83/17) シクロヘキサノン 35部 メトキシプロピルアセテート 35部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 80部Pigment Dispersion Composition Pigment Blue 15: 6 30 parts Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 20 parts (Copolymerization ratio 83/17) Cyclohexanone 35 parts Methoxypropyl acetate 35 parts Propylene glycol monomethyl ether 80 parts

【0201】[0201]

【表7】 [Table 7]

【0202】実施例40〜50、比較例30 実施例31と同様に試料を作成し、光源に、ケンコー光
学フィルターBP−49の代わりにBP−53を通して
得た単色光を用い、感度試験を行った。
Examples 40 to 50, Comparative Example 30 A sample was prepared in the same manner as in Example 31, and a monochromatic light obtained through BP-53 instead of the Kenko optical filter BP-49 was used as a light source, and a sensitivity test was conducted. It was

【0203】光重合開始剤の組合せを変えた時の結果を
表8に示す。
Table 8 shows the results when the combination of photopolymerization initiators was changed.

【0204】[0204]

【表8】 [Table 8]

【0205】表1〜表8に示された結果から、本発明の
光重合性組成物において、光重合開始系として本発明の
増感色素およびチタノセン化合物を含むものは、高感度
であることが明白である。また、保存安定性に優れてい
ることも明白である。
From the results shown in Tables 1 to 8, the photopolymerizable composition of the present invention containing the sensitizing dye of the present invention and the titanocene compound as the photopolymerization initiation system has high sensitivity. It's obvious. It is also clear that it has excellent storage stability.

【0206】そして、さらに(イ)〜(チ)の化合物を
併用することで、さらに高感度になることがわかる。こ
れに対し、光重合開始系が増感色素およびチタノセン化
合物のうちのいずれか一方のみしか含まないものとなっ
たり、また含まれていても類似の化合物では、本発明の
効果は得られない。
Further, it can be seen that by further using the compounds of (a) to (h) in combination, the sensitivity becomes higher. On the other hand, the effects of the present invention cannot be obtained if the photopolymerization initiation system contains only one of the sensitizing dye and the titanocene compound.

【0207】[0207]

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は紫外光から可
視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する。
従って光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀
灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、
メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーラン
プ、蛍光灯、タングステン灯、および太陽光等が使用で
きる。
The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to actinic rays in a wide range from ultraviolet light to visible light.
Therefore, as the light source, ultra high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, carbon arc lamp, xenon lamp,
Metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight and the like can be used.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する付加重合可能な化合物、下記一般式(I)ま
たは一般式(II)で示される化合物、およびチタノセン
化合物を含有する光重合性組成物。 【化1】 (式中、X1 及びX3 は、それぞれ酸素原子もしくは硫
黄原子のカチオンを表す。X2 は、酸素原子もしくは硫
黄原子を表す。Y1 、Y2 及びY3 は、同一でも異なっ
ていてもよく、それぞれ上記X1 〜X3 と共に6又は1
0員環の複素環を形成する基を表す。R1 、R2 及びR
3 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数が1か
ら6個のアルキル基もしくはアリール基を表す。R4
5 及びR6 は、同一でも異なっていてもよく、それぞ
れ水素原子、炭素数が1から12個のアルキル基、アリ
ール基もしくはアルケニル基を表す。Z- は、対アニオ
ンを表す。nは、0、1、2、3の整数を表す。)
1. A photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a compound represented by the following general formula (I) or general formula (II), and a titanocene compound. Stuff. Embedded image (In the formula, X 1 and X 3 each represent a cation of an oxygen atom or a sulfur atom. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Y 1 , Y 2 and Y 3 may be the same or different. Well, each of the above X 1 to X 3 is 6 or 1
It represents a group forming a 0-membered heterocycle. R 1 , R 2 and R
3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or an alkyl group or aryl group having 1 to 6 carbon atoms. R 4 ,
R 5 and R 6, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group or an alkenyl group. Z represents a counter anion. n represents an integer of 0, 1, 2, 3. )
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100892392B1 (en) * 2009-01-19 2009-04-10 (주)유로시스템 An automatic toner refiller for cartridge

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