JPH09285471A - 角質除去装置 - Google Patents
角質除去装置Info
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- JPH09285471A JPH09285471A JP8105611A JP10561196A JPH09285471A JP H09285471 A JPH09285471 A JP H09285471A JP 8105611 A JP8105611 A JP 8105611A JP 10561196 A JP10561196 A JP 10561196A JP H09285471 A JPH09285471 A JP H09285471A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 角質除去結果を自動的に判断し、動作を停止
でる角質除去装置を提供する。 【解決手段】 角質除去装置は、レーザ光１７が照射さ
れたことにより皮膚表面１４から発生する蛍光の強度を
測定するための蛍光強度測定部１５と、初期の蛍光強度
を記憶し、記憶した初期の蛍光強度と測定した現在の蛍
光強度とを比較する蛍光強度処理部１６とを有してい
る。蛍光強度処理部１６は、レーザ制御部１１からの測
定開始信号に応答して、蛍光強度を測定し処理する。レ
ーザ制御部１１は、波長１９３ｎｍのレーザ光を出力す
るＡｒＦエキシマレーザ１２の出力、繰返し周波数を設
定すとともに、蛍光強度処理部１６からの発振停止信号
に応答して、ＡｒＦエキシマレーザ１２の発振を停止さ
せる。照明光学系１３は、ＡｒＦエキシマレーザ１２か
ら出力されたレーザ光１７を整形し、皮膚表面１４に照
射する。
でる角質除去装置を提供する。 【解決手段】 角質除去装置は、レーザ光１７が照射さ
れたことにより皮膚表面１４から発生する蛍光の強度を
測定するための蛍光強度測定部１５と、初期の蛍光強度
を記憶し、記憶した初期の蛍光強度と測定した現在の蛍
光強度とを比較する蛍光強度処理部１６とを有してい
る。蛍光強度処理部１６は、レーザ制御部１１からの測
定開始信号に応答して、蛍光強度を測定し処理する。レ
ーザ制御部１１は、波長１９３ｎｍのレーザ光を出力す
るＡｒＦエキシマレーザ１２の出力、繰返し周波数を設
定すとともに、蛍光強度処理部１６からの発振停止信号
に応答して、ＡｒＦエキシマレーザ１２の発振を停止さ
せる。照明光学系１３は、ＡｒＦエキシマレーザ１２か
ら出力されたレーザ光１７を整形し、皮膚表面１４に照
射する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、皮膚表面の角質層
を除去するための角質除去装置に関し、特に、角質の除
去状態をモニターできる角質除去装置に関する。
を除去するための角質除去装置に関し、特に、角質の除
去状態をモニターできる角質除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の角質除去装置は、生体の
電気的な計測のために電気的なバリアとして働く皮膚表
面の角質を除去することや、角質層を除去した皮膚の部
分を減圧吸引して得られる微量の液体である吸引浸出液
を得ること等を目的として用いられている。
電気的な計測のために電気的なバリアとして働く皮膚表
面の角質を除去することや、角質層を除去した皮膚の部
分を減圧吸引して得られる微量の液体である吸引浸出液
を得ること等を目的として用いられている。
【０００３】たとえば、特開平３−１５１９５１号公報
には、皮膚表面への粘着テープの付着、剥離を繰り返し
て皮膚の角質部分を除去する技術が開示されている。こ
の公報は、粘着テープを皮膚表面に付着させる際に、化
学処理または水蒸気噴霧処理を行って角質部の角質細胞
を膨潤もしくは融解させることにより、」ストリッピン
グ処理に要する処理時間の短縮と被検者の苦痛の軽減を
図った「皮膚角層の除去方法と除去器具」を開示してい
る。すなわち、角層部の除去を行うには、粘着テープロ
ーラを皮膚表面に接触させて転がすことによって角層を
除去する。薬品含有粘着テープは減菌処理が施され、か
つ皮膚角質細胞を膨潤もしくは融解させる作用を有する
物質、例えばセリチル酸や尿素系軟膏、ケラチナーゼ等
の酵素が含有されている。これらの薬品で常に新しい層
の角質細胞を処理することによって簡便に角層を除去で
きる。また、ローラに巻回した粘着テープと水蒸気噴霧
手段とを有し、粘着テープの付着に先立って、ノズルか
ら水蒸気を皮膚に噴霧して、皮膚角質細胞に水分を与え
て角質細胞を膨潤させ、次いで粘着テープを付着・剥離
させることにより、角層除去を行ってもよい。この方法
は、簡便であるとの特徴を持つが、熟練を要する、時間
がかかる、除去する量を制御するのが困難である等の欠
点がある。
には、皮膚表面への粘着テープの付着、剥離を繰り返し
て皮膚の角質部分を除去する技術が開示されている。こ
の公報は、粘着テープを皮膚表面に付着させる際に、化
学処理または水蒸気噴霧処理を行って角質部の角質細胞
を膨潤もしくは融解させることにより、」ストリッピン
グ処理に要する処理時間の短縮と被検者の苦痛の軽減を
図った「皮膚角層の除去方法と除去器具」を開示してい
る。すなわち、角層部の除去を行うには、粘着テープロ
ーラを皮膚表面に接触させて転がすことによって角層を
除去する。薬品含有粘着テープは減菌処理が施され、か
つ皮膚角質細胞を膨潤もしくは融解させる作用を有する
物質、例えばセリチル酸や尿素系軟膏、ケラチナーゼ等
の酵素が含有されている。これらの薬品で常に新しい層
の角質細胞を処理することによって簡便に角層を除去で
きる。また、ローラに巻回した粘着テープと水蒸気噴霧
手段とを有し、粘着テープの付着に先立って、ノズルか
ら水蒸気を皮膚に噴霧して、皮膚角質細胞に水分を与え
て角質細胞を膨潤させ、次いで粘着テープを付着・剥離
させることにより、角層除去を行ってもよい。この方法
は、簡便であるとの特徴を持つが、熟練を要する、時間
がかかる、除去する量を制御するのが困難である等の欠
点がある。
【０００４】これに対し、レーザのアブレーションを利
用した角質除去装置も提案されている。例えば、「１９
８７年１月、ザ・ジャーナル・オブ・インベスティゲイ
ティヴ・ディマトロジー、第８８巻（THE JOURNAL OF I
NVESTIGATIVE DERMATOROLOGY, VOL.88, JANUARY 198
7）」に示された角質除去装置は、１μｍの精度、数１
０」パルス（数秒）の照射により角質層を除去すること
ができる。
用した角質除去装置も提案されている。例えば、「１９
８７年１月、ザ・ジャーナル・オブ・インベスティゲイ
ティヴ・ディマトロジー、第８８巻（THE JOURNAL OF I
NVESTIGATIVE DERMATOROLOGY, VOL.88, JANUARY 198
7）」に示された角質除去装置は、１μｍの精度、数１
０」パルス（数秒）の照射により角質層を除去すること
ができる。
【０００５】図１０に従来の角質除去装置の一例を示
す。図示の角質除去装置は、レーザ制御部１１と、Ａｒ
Ｆエキシマレーザ１２と、照明光学系１３とを有する。
レーザ制御部１１は、ＡｒＦエキシマレーザ１２の出
力、パルス数（照射時間）を設定する。ＡｒＦエキシマ
レーザ１２は、波長１９３ｎｍの紫外レーザであり、レ
ーザ制御部１１からの入力に応じたレーザ光１７を出力
する。照明光学系１３は、反射鏡１３１、マスク１３
２、および集光レンズ１３３より構成され、ＡｒＦエキ
シマレーザ１２より出力されたレーザ光１７を、皮膚表
面１４に集光、照射するためのものである。
す。図示の角質除去装置は、レーザ制御部１１と、Ａｒ
Ｆエキシマレーザ１２と、照明光学系１３とを有する。
レーザ制御部１１は、ＡｒＦエキシマレーザ１２の出
力、パルス数（照射時間）を設定する。ＡｒＦエキシマ
レーザ１２は、波長１９３ｎｍの紫外レーザであり、レ
ーザ制御部１１からの入力に応じたレーザ光１７を出力
する。照明光学系１３は、反射鏡１３１、マスク１３
２、および集光レンズ１３３より構成され、ＡｒＦエキ
シマレーザ１２より出力されたレーザ光１７を、皮膚表
面１４に集光、照射するためのものである。
【０００６】次に、図１０を参照して従来の角質除去装
置の動作について説明する。レーザ制御部１１より、レ
ーザ光１７の出力、パルス数（照射時間）を設定する。
ＡｒＦエキシマレーザ１２は、レーザ制御部１１からの
出力開始の信号を受け、レーザ光１７を出力する。レー
ザ光１７は、照明光学系１３を通過することにより、整
形、集光され、皮膚表面１４上に、所望の形状及びエネ
ルギー密度で照射される。レーザ制御部１１は、予め入
力されたパルス数（照射時間）後、ＡｒＦエキシマレー
ザ１２に停止命令を送り、ＡｒＦエキシマレーザ１２は
レーザ光１７の出力を停止する。人の角質層の厚さは、
１５μｍ程度あるので、１００ｍＪ／ｃｍ2 の照射強度
で、約３０パルスで角質層が除去される。
置の動作について説明する。レーザ制御部１１より、レ
ーザ光１７の出力、パルス数（照射時間）を設定する。
ＡｒＦエキシマレーザ１２は、レーザ制御部１１からの
出力開始の信号を受け、レーザ光１７を出力する。レー
ザ光１７は、照明光学系１３を通過することにより、整
形、集光され、皮膚表面１４上に、所望の形状及びエネ
ルギー密度で照射される。レーザ制御部１１は、予め入
力されたパルス数（照射時間）後、ＡｒＦエキシマレー
ザ１２に停止命令を送り、ＡｒＦエキシマレーザ１２は
レーザ光１７の出力を停止する。人の角質層の厚さは、
１５μｍ程度あるので、１００ｍＪ／ｃｍ2 の照射強度
で、約３０パルスで角質層が除去される。
【０００７】尚、本発明に関連する先行技術として、特
開平６−２５４１７０号公報には、皮膚表面の広域にレ
ーザ光を効率よく照射でき、安全機能も備えた「レーザ
治療装置用プローブ」が開示されている。この公報で
は、レーザ光照射口を有するケース内に複数の半導体レ
ーザ素子を直線状に配列している。レーザ光照射口は複
数の半導体レーザ素子の近傍にあって、複数の半導体レ
ーザ素子の配列に沿った細長形状をしている。複数の半
導体レーザ素子への給電を制御する１対のフォトセンサ
が、レーザ光照射口の長手方向両端部近傍に置かれてい
る。複数の半導体レーザ素子から発せられたレーザ光
が、細長のレーザ光照射口を通じて皮膚表面に帯状に照
射される。皮膚炎の治療に適する。レーザ光照射口の片
側だけが皮膚表面から離れた場合にもレーザ光は発せら
れず、レーザ光の誤射による危険が激減する。
開平６−２５４１７０号公報には、皮膚表面の広域にレ
ーザ光を効率よく照射でき、安全機能も備えた「レーザ
治療装置用プローブ」が開示されている。この公報で
は、レーザ光照射口を有するケース内に複数の半導体レ
ーザ素子を直線状に配列している。レーザ光照射口は複
数の半導体レーザ素子の近傍にあって、複数の半導体レ
ーザ素子の配列に沿った細長形状をしている。複数の半
導体レーザ素子への給電を制御する１対のフォトセンサ
が、レーザ光照射口の長手方向両端部近傍に置かれてい
る。複数の半導体レーザ素子から発せられたレーザ光
が、細長のレーザ光照射口を通じて皮膚表面に帯状に照
射される。皮膚炎の治療に適する。レーザ光照射口の片
側だけが皮膚表面から離れた場合にもレーザ光は発せら
れず、レーザ光の誤射による危険が激減する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の角質除去装置には次に述べるような問題点あ
る。すなわち、パルス当たりの角質の除去量は、照射エ
ネルギー密度により決まり、角質層が厚さが明確であれ
ば、パルス数（照射時間）により、角質の除去終了を判
断できる。しかしながら、除去部位の場所の違い、個人
差により角質層の厚さが異なるため、パルス数のみで
は、角質層の除去終了を判断できない。この結果、除去
量が大きすぎた場合、出血が生じる等の問題が発生す
る。このため、常時目視により、角質層の除去結果を確
認する必要がある。
た従来の角質除去装置には次に述べるような問題点あ
る。すなわち、パルス当たりの角質の除去量は、照射エ
ネルギー密度により決まり、角質層が厚さが明確であれ
ば、パルス数（照射時間）により、角質の除去終了を判
断できる。しかしながら、除去部位の場所の違い、個人
差により角質層の厚さが異なるため、パルス数のみで
は、角質層の除去終了を判断できない。この結果、除去
量が大きすぎた場合、出血が生じる等の問題が発生す
る。このため、常時目視により、角質層の除去結果を確
認する必要がある。
【０００９】本発明の課題は、角質除去結果を自動的に
判断し、動作を停止できる角質除去装置を提供すること
にある。
判断し、動作を停止できる角質除去装置を提供すること
にある。
【００１０】尚、特開平６−２５４１７０号公報に開示
されたレーザ治療装置用プローブは、レーザ光の誤射に
よる危険が激減するための安全機能も備えたものあっ
て、角質層の除去終了を判断できるようしたものとは全
く技術思想が異なる。
されたレーザ治療装置用プローブは、レーザ光の誤射に
よる危険が激減するための安全機能も備えたものあっ
て、角質層の除去終了を判断できるようしたものとは全
く技術思想が異なる。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明が適用される角質
除去装置は、皮膚表面の角質層をレーザ光の照射によっ
て除去する角質除去装置であって、レーザ光を出力する
レーザ発振器と、このレーザ発振器の出力を制御するレ
ーザ制御部と、レーザ光を角質除去部に照射するための
照明光学系とを有する。
除去装置は、皮膚表面の角質層をレーザ光の照射によっ
て除去する角質除去装置であって、レーザ光を出力する
レーザ発振器と、このレーザ発振器の出力を制御するレ
ーザ制御部と、レーザ光を角質除去部に照射するための
照明光学系とを有する。
【００１２】本発明の第１の態様による角質除去装置
は、レーザ光の皮膚表面の照射により発生する蛍光強度
の強さに応じて角質の除去終了を判断し、レ−ザ発振器
の発振を停止させる。より具体的には、本発明の第１の
態様による角質除去装置は、レーザ光を皮膚表面に照射
したことにより発生する蛍光強度を測定するための蛍光
強度測定部と、蛍光強度に応じて、レーザ制御部にレー
ザ発振器の発振を停止させる発振停止信号を送る蛍光強
度処理部とを有する。
は、レーザ光の皮膚表面の照射により発生する蛍光強度
の強さに応じて角質の除去終了を判断し、レ−ザ発振器
の発振を停止させる。より具体的には、本発明の第１の
態様による角質除去装置は、レーザ光を皮膚表面に照射
したことにより発生する蛍光強度を測定するための蛍光
強度測定部と、蛍光強度に応じて、レーザ制御部にレー
ザ発振器の発振を停止させる発振停止信号を送る蛍光強
度処理部とを有する。
【００１３】本発明の第２の態様による角質除去装置
は、角質除去部に照射したプローブレーザ光の反射光の
強度の強さに応じて角質の除去終了を判断し、レ−ザ発
振器の発振を停止させる。より具体的には、本発明の第
２の態様による角質除去装置は、角質除去部にプローブ
レーザ光を照射するためのプローブレーザと、角質除去
部からのプローブレーザ光の反射光強度を測定する反射
光強度測定部と、反射光強度の低下によりレーザ制御部
にレーザ発振器の発振を停止させる発振停止信号を送る
反射光強度処理部とを有する。
は、角質除去部に照射したプローブレーザ光の反射光の
強度の強さに応じて角質の除去終了を判断し、レ−ザ発
振器の発振を停止させる。より具体的には、本発明の第
２の態様による角質除去装置は、角質除去部にプローブ
レーザ光を照射するためのプローブレーザと、角質除去
部からのプローブレーザ光の反射光強度を測定する反射
光強度測定部と、反射光強度の低下によりレーザ制御部
にレーザ発振器の発振を停止させる発振停止信号を送る
反射光強度処理部とを有する。
【００１４】
【作用】本発明の第１の態様による角質除去装置は、角
質の除去結果をレーザ光の皮膚表面の照射により発生す
る蛍光強度を測定することにより、自動的にレーザ発振
器の発振を停止する。このため、除去部位の違い、個人
差により角質層の厚さが異なっても、正確に角質層を除
去することができる。
質の除去結果をレーザ光の皮膚表面の照射により発生す
る蛍光強度を測定することにより、自動的にレーザ発振
器の発振を停止する。このため、除去部位の違い、個人
差により角質層の厚さが異なっても、正確に角質層を除
去することができる。
【００１５】本発明の第２の態様による角質除去装置
は、角質の除去結果をプローブレーザ光の反射光強度を
測定することにより、自動的にレーザ発振器の発振を停
止する。このため、除去部位の違い、個人差により角質
層の厚さが異なっても、正確に角質層を除去することが
できる。
は、角質の除去結果をプローブレーザ光の反射光強度を
測定することにより、自動的にレーザ発振器の発振を停
止する。このため、除去部位の違い、個人差により角質
層の厚さが異なっても、正確に角質層を除去することが
できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】図１に本発明の第１の実施の形態による角
質除去装置を示す。図示の角質除去装置は、レーザ制御
部１１、ＡｒＦエキシマレーザ１２、および照明光学系
１３の他に、さらに蛍光強度測定部１５と蛍光強度処理
部１６とを有する。
質除去装置を示す。図示の角質除去装置は、レーザ制御
部１１、ＡｒＦエキシマレーザ１２、および照明光学系
１３の他に、さらに蛍光強度測定部１５と蛍光強度処理
部１６とを有する。
【００１８】蛍光強度測定部１５は、レーザ光１７が照
射された皮膚表面１４から発生する蛍光１８を測定す
る。蛍光強度処理部１６は後述するように初期の蛍光強
度を記憶し、この記憶した蛍光強度と現在の蛍光強度と
を比較して、レーザ制御部１１へ発振停止信号を送出す
る。蛍光強度処理部１６はレーザ制御部１１と接続さ
れ、レーザ制御部１１からの測定開始信号により上記蛍
光強度の比較を行う。レーザ制御部１１は、波長１９３
ｎｍのレーザ光を発振するＡｒＦエキシマレーザ１２の
出力、繰返し周波数を設定すると共に、蛍光強度処理部
１６からの発振停止信号に応答してＡｒＦｓエキシマレ
ーザ１２の発振を停止する。照明光学系１３は、ＡｒＦ
エキシマレーザ１２より出力されたレーザ光１７を整形
し、皮膚表面１４に照射する。
射された皮膚表面１４から発生する蛍光１８を測定す
る。蛍光強度処理部１６は後述するように初期の蛍光強
度を記憶し、この記憶した蛍光強度と現在の蛍光強度と
を比較して、レーザ制御部１１へ発振停止信号を送出す
る。蛍光強度処理部１６はレーザ制御部１１と接続さ
れ、レーザ制御部１１からの測定開始信号により上記蛍
光強度の比較を行う。レーザ制御部１１は、波長１９３
ｎｍのレーザ光を発振するＡｒＦエキシマレーザ１２の
出力、繰返し周波数を設定すると共に、蛍光強度処理部
１６からの発振停止信号に応答してＡｒＦｓエキシマレ
ーザ１２の発振を停止する。照明光学系１３は、ＡｒＦ
エキシマレーザ１２より出力されたレーザ光１７を整形
し、皮膚表面１４に照射する。
【００１９】次に、図２を参照して、蛍光強度測定部１
５と蛍光強度処理部１６の詳細に構成について説明す
る。蛍光強度測定部１５は、検知器１９、集光レンズ２
０、およびフィルター２１から構成される。蛍光１８は
フィルター２１を通過し、集光レンズ２０で集光された
後、検知器１９で蛍光１８の強度が測定される。検知器
１９は、例えば、水の発光波長である遠赤外線に感度を
持つ熱電対で構成できる。フィルター２１は、遠赤外線
を透過し、遠赤外線より短波長の可視、紫外領域の光を
カットするためのもので、例えば、ＢｅＯとＺｎＯのイ
オン結晶の粉末をポリエチレンに練りこんだ粉末フィル
ターにより構成できる。
５と蛍光強度処理部１６の詳細に構成について説明す
る。蛍光強度測定部１５は、検知器１９、集光レンズ２
０、およびフィルター２１から構成される。蛍光１８は
フィルター２１を通過し、集光レンズ２０で集光された
後、検知器１９で蛍光１８の強度が測定される。検知器
１９は、例えば、水の発光波長である遠赤外線に感度を
持つ熱電対で構成できる。フィルター２１は、遠赤外線
を透過し、遠赤外線より短波長の可視、紫外領域の光を
カットするためのもので、例えば、ＢｅＯとＺｎＯのイ
オン結晶の粉末をポリエチレンに練りこんだ粉末フィル
ターにより構成できる。
【００２０】蛍光強度処理部１６は、演算部２２、Ａ／
Ｄ変換部２３、データ記憶部２４、および遅延回路２５
から構成され、蛍光強度測定部１５及びレーザ制御部１
１と信号ケーブルにより接続されている。Ａ／Ｄ変換部
２３は、検知器１９で測定された蛍光１８の強度をＡ／
Ｄ変換し、Ａ／Ｄ変換された蛍光強度は演算部２２へ供
給される。遅延回路２５は、レーザ制御部１１からの蛍
光測定開始信号を受け、設定遅延時間後に取り込み信号
を演算部２２に送る。演算部２２は、この取り込み信号
に応答して、Ａ／Ｄ変換部２３でＡ／Ｄ変換された蛍光
強度を取り込む。なお、上記設定遅延時間は、検知器１
９の応答時間により決定すればよい。
Ｄ変換部２３、データ記憶部２４、および遅延回路２５
から構成され、蛍光強度測定部１５及びレーザ制御部１
１と信号ケーブルにより接続されている。Ａ／Ｄ変換部
２３は、検知器１９で測定された蛍光１８の強度をＡ／
Ｄ変換し、Ａ／Ｄ変換された蛍光強度は演算部２２へ供
給される。遅延回路２５は、レーザ制御部１１からの蛍
光測定開始信号を受け、設定遅延時間後に取り込み信号
を演算部２２に送る。演算部２２は、この取り込み信号
に応答して、Ａ／Ｄ変換部２３でＡ／Ｄ変換された蛍光
強度を取り込む。なお、上記設定遅延時間は、検知器１
９の応答時間により決定すればよい。
【００２１】次に、図１及び図２に加えて図３を参照し
て、本発明の第１の実施形態による角質除去装置の動作
について説明する。
て、本発明の第１の実施形態による角質除去装置の動作
について説明する。
【００２２】レーザ制御部１１からの出力開始信号に応
答して、ＡｒＦエキシマレーザ１２は、予め設定された
出力、繰返し周波数にてレーザ光を出力する。レーザ光
１７は、照明光学系１３を通して、皮膚表面１４に集
光、照射される。
答して、ＡｒＦエキシマレーザ１２は、予め設定された
出力、繰返し周波数にてレーザ光を出力する。レーザ光
１７は、照明光学系１３を通して、皮膚表面１４に集
光、照射される。
【００２３】蛍光強度測定部１５を構成する検知器１９
には、皮膚表面１４から発生した遠赤外領域の光が、フ
ィルター１９、集光レンズ２０を通して入射する。蛍光
強度処理部１６において、レーザ制御部１１からの測定
開始信号を受け、遅延回路２５で設定された遅延時間後
に、演算部２２は蛍光強度を取り込み、データ記憶部２
４にデータを記憶する。
には、皮膚表面１４から発生した遠赤外領域の光が、フ
ィルター１９、集光レンズ２０を通して入射する。蛍光
強度処理部１６において、レーザ制御部１１からの測定
開始信号を受け、遅延回路２５で設定された遅延時間後
に、演算部２２は蛍光強度を取り込み、データ記憶部２
４にデータを記憶する。
【００２４】図３にレーザパルス数と蛍光強度の関係を
示す。データ記憶部２４には、パルス毎の相対蛍光強度
測定値２６が記憶される。人体の組織の約７０％が水分
であるが、皮膚表面の角質層は、水分量が１０％以下で
ある。角質層の除去とともに、水分の含有量の多い透明
層、顆粒層が現われ、相対蛍光強度測定値２６が増加す
す。角質層が除去されると、蛍光強度が数倍以上に増加
する。本発明の第１の実施の形態では、蛍光強度が初期
蛍光強度の５倍以上に増加した時点のレーザパルス数を
角質除去終了点２７とし、蛍光強度処理部１６は、レー
ザ制御部１１に発振停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレ
ーザ１２の発振を自動的に停止させる。
示す。データ記憶部２４には、パルス毎の相対蛍光強度
測定値２６が記憶される。人体の組織の約７０％が水分
であるが、皮膚表面の角質層は、水分量が１０％以下で
ある。角質層の除去とともに、水分の含有量の多い透明
層、顆粒層が現われ、相対蛍光強度測定値２６が増加す
す。角質層が除去されると、蛍光強度が数倍以上に増加
する。本発明の第１の実施の形態では、蛍光強度が初期
蛍光強度の５倍以上に増加した時点のレーザパルス数を
角質除去終了点２７とし、蛍光強度処理部１６は、レー
ザ制御部１１に発振停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレ
ーザ１２の発振を自動的に停止させる。
【００２５】次に、本発明の第１の実施の形態の効果に
ついて説明する。本発明の第１の実施の形態では、角質
層の除去結果を、皮膚表面のアブレーションの結果とし
て発生する蛍光強度を測定することにより判定してい
る。このため、角質層の除去終了とともに自動的にＡｒ
Ｆエキシマレーザの発振を停止できる。この結果、装置
の全自動化が可能となるとともに、除去量過多による出
血等の問題が生じることがない。
ついて説明する。本発明の第１の実施の形態では、角質
層の除去結果を、皮膚表面のアブレーションの結果とし
て発生する蛍光強度を測定することにより判定してい
る。このため、角質層の除去終了とともに自動的にＡｒ
Ｆエキシマレーザの発振を停止できる。この結果、装置
の全自動化が可能となるとともに、除去量過多による出
血等の問題が生じることがない。
【００２６】本発明の第１の実施の形態では、角質層の
み除去する場合について説明したが、除去終了を判定す
る蛍光強度の設定値を変えることにより、角質層の下層
にある透明層の除去に適用することも可能である。
み除去する場合について説明したが、除去終了を判定す
る蛍光強度の設定値を変えることにより、角質層の下層
にある透明層の除去に適用することも可能である。
【００２７】図４を参照して、本発明の第２の実施の形
態による角質除去装置は、除去する皮膚表面１４に、角
質層のみに吸着される蛍光色素を塗布した蛍光色素塗布
部２８を形成して点を除いて、図１に示したものと同様
の構成を有する。蛍光色素としては、例えば、ダンシル
クロライド等が適用できる。
態による角質除去装置は、除去する皮膚表面１４に、角
質層のみに吸着される蛍光色素を塗布した蛍光色素塗布
部２８を形成して点を除いて、図１に示したものと同様
の構成を有する。蛍光色素としては、例えば、ダンシル
クロライド等が適用できる。
【００２８】蛍光強度測定部１５において、検知器１９
は、ダンシルクロライドの発光波長である５２０ｎｍに
感度を持つシリコンフォトダイオードにより構成でき、
フィルター２１は、波長５２０ｎｍの蛍光を透過し、Ａ
ｒＦエクシマレーザ光の散乱光である紫外光をカットす
るためのもので、例えば、ガラスフィルター、誘電体多
層膜フィルター等により構成できる。
は、ダンシルクロライドの発光波長である５２０ｎｍに
感度を持つシリコンフォトダイオードにより構成でき、
フィルター２１は、波長５２０ｎｍの蛍光を透過し、Ａ
ｒＦエクシマレーザ光の散乱光である紫外光をカットす
るためのもので、例えば、ガラスフィルター、誘電体多
層膜フィルター等により構成できる。
【００２９】次に、図４に加えて図５を参照して、本発
明の第２の実施形態による角質除去装置の動作について
説明する。
明の第２の実施形態による角質除去装置の動作について
説明する。
【００３０】図５にレーザパルス数と蛍光強度の関係を
示す。蛍光強度測定部１５により測定される蛍光強度測
定値２６は、角質層が除去されるとともに減少する。蛍
光色素は、角質層にのみ吸着されているために、角質層
の除去とともに、蛍光色素の吸着の少ない透明層、顆粒
層が現われ、蛍光強度測定部２６が減少する。角質層が
除去されると、蛍光強度が数分の１以下に減少する。本
発明の第２の実施の形態では、蛍光強度が初期蛍光強度
の１／２倍以下に減少した時点のレーザパルス数を角質
除去終了点２７とし、蛍光強度処理部１６は、レーザ制
御部１１に発振停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレーザ
１２の発振を自動的に停止させる。
示す。蛍光強度測定部１５により測定される蛍光強度測
定値２６は、角質層が除去されるとともに減少する。蛍
光色素は、角質層にのみ吸着されているために、角質層
の除去とともに、蛍光色素の吸着の少ない透明層、顆粒
層が現われ、蛍光強度測定部２６が減少する。角質層が
除去されると、蛍光強度が数分の１以下に減少する。本
発明の第２の実施の形態では、蛍光強度が初期蛍光強度
の１／２倍以下に減少した時点のレーザパルス数を角質
除去終了点２７とし、蛍光強度処理部１６は、レーザ制
御部１１に発振停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレーザ
１２の発振を自動的に停止させる。
【００３１】本発明の第２の実施の形態は、上記第１の
実施の形態の効果に加えて、測定する蛍光強度が大き
い、より高速に応答する検知器を使用できるという効果
をも奏する。
実施の形態の効果に加えて、測定する蛍光強度が大き
い、より高速に応答する検知器を使用できるという効果
をも奏する。
【００３２】図６に本発明の第３の実施の形態による角
質除去装置を示す。図示の角質除去装置は、レーザ制御
部１１、ＡｒＦエキシマレーザ１２、および照明光学系
１３の他に、さらにプローブレーザ２９、反射光強度測
定部３１、および反射光強度処理部３３とを有する。
質除去装置を示す。図示の角質除去装置は、レーザ制御
部１１、ＡｒＦエキシマレーザ１２、および照明光学系
１３の他に、さらにプローブレーザ２９、反射光強度測
定部３１、および反射光強度処理部３３とを有する。
【００３３】プローブレーザ２９は角質除去面にプロー
ブレーザ光を照射する。反射光強度測定部３１は、角質
除去面より反射したプローブレーザ反射光を測定する。
反射光強度処理部３３は反射光強度測定部３１で測定さ
れた反射光強度を処理して、後述するように発振停止信
号をレーザ制御部１１へ送出する。反射光強度処理部３
３は、レーザ制御部１１と接続され、レーザ制御部１１
からの測定開始信号に応答して反射光強度を処理する。
レーザ制御部１１は、波長１９３ｎｍのレーザ光を発振
するＡｒＦエキシマレーザ１２の出力、繰返し周波数を
設定すると共に、反射光強度処理部３３からの発振停止
信号に応答してＡｒＦｓエキシマレーザ１２の発振を停
止する。照明光学系１３は、ＡｒＦエキシマレーザ１２
より出力されたレーザ光１７を整形し、皮膚表面１４に
照射する。
ブレーザ光を照射する。反射光強度測定部３１は、角質
除去面より反射したプローブレーザ反射光を測定する。
反射光強度処理部３３は反射光強度測定部３１で測定さ
れた反射光強度を処理して、後述するように発振停止信
号をレーザ制御部１１へ送出する。反射光強度処理部３
３は、レーザ制御部１１と接続され、レーザ制御部１１
からの測定開始信号に応答して反射光強度を処理する。
レーザ制御部１１は、波長１９３ｎｍのレーザ光を発振
するＡｒＦエキシマレーザ１２の出力、繰返し周波数を
設定すると共に、反射光強度処理部３３からの発振停止
信号に応答してＡｒＦｓエキシマレーザ１２の発振を停
止する。照明光学系１３は、ＡｒＦエキシマレーザ１２
より出力されたレーザ光１７を整形し、皮膚表面１４に
照射する。
【００３４】次に、プローブレーザ２９、反射光強度測
定部３１、および反射光強度処理部３３の詳細な構成に
ついて説明する。プローブレーザ２９は、水の吸収の大
きい領域のレーザ光を出力するレーザ、例えば、波長
１．５５μｍの半導体レーザを用いればよい。反射光強
度測定部３１および反射光強度処理部３３の構成は、本
発明の第１の実施の形態の蛍光強度測定部１５および蛍
光強度処理部１６と同様である。反射光測定部３１にお
いて、検知器１９は、例えば、波長１．５５μｍに感度
を持つシリコンフォトダイオードにより構成でき、フォ
ルター２１は、波長１．５５μｍの光を透過し、これよ
り短波長の可視、紫外領域の光をカットするためのもの
で、例えば、誘電体多層膜フィルター等により構成でき
る。
定部３１、および反射光強度処理部３３の詳細な構成に
ついて説明する。プローブレーザ２９は、水の吸収の大
きい領域のレーザ光を出力するレーザ、例えば、波長
１．５５μｍの半導体レーザを用いればよい。反射光強
度測定部３１および反射光強度処理部３３の構成は、本
発明の第１の実施の形態の蛍光強度測定部１５および蛍
光強度処理部１６と同様である。反射光測定部３１にお
いて、検知器１９は、例えば、波長１．５５μｍに感度
を持つシリコンフォトダイオードにより構成でき、フォ
ルター２１は、波長１．５５μｍの光を透過し、これよ
り短波長の可視、紫外領域の光をカットするためのもの
で、例えば、誘電体多層膜フィルター等により構成でき
る。
【００３５】次に、図６に加えて図７をも参照して、本
発明の第３の実施の形態による角質除去装置の動作につ
いて説明する。
発明の第３の実施の形態による角質除去装置の動作につ
いて説明する。
【００３６】図７にレーザパルス数と反射光強度の関係
を示す。反射光強度測定部３１により測定される反射光
強度は、角質層が除去されるとともに減少する。プロー
ブレーザ２９から出力されるプローブレーザ光は、水に
吸収されるため水分の含有量の少ない角質層にはあまり
吸収されない。しかし、水分の含有量の多い透明層、顆
粒層が現われるにつれ、プローブレーザ光は吸収され、
反射光強度測定値３４が減少する。角質層が除去される
と、反射強度測定値３４が初期反射光強度の数分の１以
下に減少する。本発明の第３の実施の形態では、反射光
光強度測定値３４が初期反射光強度の１／２倍以下に減
少した時点のレーザパルス数を角質除去終了点２７と
し、反射光強度処理部３３は、レーザ制御部１１に発振
停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレーザ１２の発振を自
動的に停止させる。
を示す。反射光強度測定部３１により測定される反射光
強度は、角質層が除去されるとともに減少する。プロー
ブレーザ２９から出力されるプローブレーザ光は、水に
吸収されるため水分の含有量の少ない角質層にはあまり
吸収されない。しかし、水分の含有量の多い透明層、顆
粒層が現われるにつれ、プローブレーザ光は吸収され、
反射光強度測定値３４が減少する。角質層が除去される
と、反射強度測定値３４が初期反射光強度の数分の１以
下に減少する。本発明の第３の実施の形態では、反射光
光強度測定値３４が初期反射光強度の１／２倍以下に減
少した時点のレーザパルス数を角質除去終了点２７と
し、反射光強度処理部３３は、レーザ制御部１１に発振
停止信号を送り、ＡｒＦエキシマレーザ１２の発振を自
動的に停止させる。
【００３７】本発明の第３の実施の形態は、上記第１の
実施の形態の効果に加えて、測定するレーザプローブ反
射光強度が大きい、より高速に応答する検知器を使用で
きるという効果をも奏する。更に、プローブレーザ光と
して連続発振（ＣＷ）レーザ光を出力するＣＷレーザを
使用できるため、反射光を測定するタイミングを自由に
変えることができるという利点を持つ。このため、蛍光
が全く発生しないタイミングで反射光の測定ができるた
め、反射光測定部３１のフィルター２１を省くことが可
能である。
実施の形態の効果に加えて、測定するレーザプローブ反
射光強度が大きい、より高速に応答する検知器を使用で
きるという効果をも奏する。更に、プローブレーザ光と
して連続発振（ＣＷ）レーザ光を出力するＣＷレーザを
使用できるため、反射光を測定するタイミングを自由に
変えることができるという利点を持つ。このため、蛍光
が全く発生しないタイミングで反射光の測定ができるた
め、反射光測定部３１のフィルター２１を省くことが可
能である。
【００３８】本発明の第３の実施の形態では、角質層の
み除去する場合について説明したが、除去終了を判定す
る反射光強度の設定値を変えることにより、角質層の下
層にある透明層の除去に適用することも可能である。
み除去する場合について説明したが、除去終了を判定す
る反射光強度の設定値を変えることにより、角質層の下
層にある透明層の除去に適用することも可能である。
【００３９】図８を参照して、本発明の第４の実施の形
態による角質除去装置は、レーザ制御部１１と、レーザ
制御部１１の制御下でレーザ光１７を出力するＡｒＦエ
キシマレーザ１２と、プローブレーザ光３０を出力する
プローブレーザ２９と、レーザ光１７とプローブレーザ
光３０とを同一の光軸にあわせるためのビーム合成ミラ
ー３５と、反射光強度測定部３１と、反射光強度処理部
３３と、レーザ光１７とプローブレーザ光３０とを角質
除去部４４に照射するための第１の折り返しミラー３６
および照明光学系１３Ａと、Ｘ方向走査ステージ４０
と、Ｙ方向走査ステージ４１と、走査ステージ台４２
と、走査ステージ制御部４３とを有している。照明光学
系１３Ａは、第２の折り返しミラー３７と、ハーフミラ
ー３８と、集光レンズ３９とを有している。
態による角質除去装置は、レーザ制御部１１と、レーザ
制御部１１の制御下でレーザ光１７を出力するＡｒＦエ
キシマレーザ１２と、プローブレーザ光３０を出力する
プローブレーザ２９と、レーザ光１７とプローブレーザ
光３０とを同一の光軸にあわせるためのビーム合成ミラ
ー３５と、反射光強度測定部３１と、反射光強度処理部
３３と、レーザ光１７とプローブレーザ光３０とを角質
除去部４４に照射するための第１の折り返しミラー３６
および照明光学系１３Ａと、Ｘ方向走査ステージ４０
と、Ｙ方向走査ステージ４１と、走査ステージ台４２
と、走査ステージ制御部４３とを有している。照明光学
系１３Ａは、第２の折り返しミラー３７と、ハーフミラ
ー３８と、集光レンズ３９とを有している。
【００４０】第１の折り返しミラー３６、照明光学系１
３Ａ、および反射光強度測定部３１は、Ｘ方向走査ステ
ージ４０によりＸ方向へ走査される。照明光学系１３Ａ
および反射光強度測定部３１は、Ｙ方向走査ステージ４
１によりＹ方向へ走査される。Ｘ方向走査ステージ４０
およびＹ方向走査ステージ４１は、走査ステージ制御部
４３からの信号を受けＸＹ方向へ移動する。ＡｒＦエキ
シマレーザ１２から出力されるレーザ光１７およびプロ
ーブレーザ２９から出力されるプローブレーザ光３０
は、Ｘ方向走査ステージ４０およびＹ方向走査ステージ
４１により角質除去部４４内の角質層初期除去部４５か
ら角質層最終除去部４６へ走査される。
３Ａ、および反射光強度測定部３１は、Ｘ方向走査ステ
ージ４０によりＸ方向へ走査される。照明光学系１３Ａ
および反射光強度測定部３１は、Ｙ方向走査ステージ４
１によりＹ方向へ走査される。Ｘ方向走査ステージ４０
およびＹ方向走査ステージ４１は、走査ステージ制御部
４３からの信号を受けＸＹ方向へ移動する。ＡｒＦエキ
シマレーザ１２から出力されるレーザ光１７およびプロ
ーブレーザ２９から出力されるプローブレーザ光３０
は、Ｘ方向走査ステージ４０およびＹ方向走査ステージ
４１により角質除去部４４内の角質層初期除去部４５か
ら角質層最終除去部４６へ走査される。
【００４１】次に、図８に加えて図９をも参照して、本
発明の第４の実施の形態による角質除去装置の動作につ
いて説明する。
発明の第４の実施の形態による角質除去装置の動作につ
いて説明する。
【００４２】ＡｒＦエキシマレーザ１２は、レーザ制御
部１１からの出力開始信号を受けると、レーザ光１７を
出力する（ステップＡ１）。レーザ光１７およびプロー
ブレーザ光３０は、走査ステージ制御部４３により設定
された皮膚表面１４の角質層初期除去部４５に、ビーム
合成ミラー３５、第１の折り返しミラー３６および照明
光学系１３Ａを通して照射される。反射光強度測定部３
１を構成する検知器１９には、角質層初期除去部４５か
ら反射してプローブレーザ反射光３２が、ハーフミラー
３８により折り返され、フィルター２１、集光レンズ２
０を通して入射する。反射光強度処理部３３は、レーザ
制御部１１からの測定開始信号を受け、反射光強度を測
定する（ステップＡ２）。反射光強度処理部３３は、測
定した反射光強度が基準強度以下に低下したか否かを判
定する（ステップＡ３）。測定した反射光強度が基準強
度以上の場合（ステップＡ３のノー）、ステップＡ１と
アステップＡ２を繰り返す。測定した反射光強度が基準
強度以下に低下した場合（ステップＡ３のイエス）、Ｘ
方向走査ステージ４０およびＹ方向走査ステージ４１に
よりレーザ光の照射位置を移動する（ステップＡ４）。
走査ステージ制御部４３は、移動した位置が設定した最
終位置に達したか否かを判断する（ステップＡ５）。移
動した位置が設定した最終位置に達していない場合、
（ステップＡ５のノー）、ステップＡ１からステップＡ
４を繰り返す。ステップＡ５において、移動した位置が
設定した角質層最終除去部４６に達したと判断された場
合、レーザ制御部１１は、反射光強度処理部３３からの
発振停止信号を受け、ＡｒＦエキシマレーザ１２を停止
させる（ステップＡ６）。
部１１からの出力開始信号を受けると、レーザ光１７を
出力する（ステップＡ１）。レーザ光１７およびプロー
ブレーザ光３０は、走査ステージ制御部４３により設定
された皮膚表面１４の角質層初期除去部４５に、ビーム
合成ミラー３５、第１の折り返しミラー３６および照明
光学系１３Ａを通して照射される。反射光強度測定部３
１を構成する検知器１９には、角質層初期除去部４５か
ら反射してプローブレーザ反射光３２が、ハーフミラー
３８により折り返され、フィルター２１、集光レンズ２
０を通して入射する。反射光強度処理部３３は、レーザ
制御部１１からの測定開始信号を受け、反射光強度を測
定する（ステップＡ２）。反射光強度処理部３３は、測
定した反射光強度が基準強度以下に低下したか否かを判
定する（ステップＡ３）。測定した反射光強度が基準強
度以上の場合（ステップＡ３のノー）、ステップＡ１と
アステップＡ２を繰り返す。測定した反射光強度が基準
強度以下に低下した場合（ステップＡ３のイエス）、Ｘ
方向走査ステージ４０およびＹ方向走査ステージ４１に
よりレーザ光の照射位置を移動する（ステップＡ４）。
走査ステージ制御部４３は、移動した位置が設定した最
終位置に達したか否かを判断する（ステップＡ５）。移
動した位置が設定した最終位置に達していない場合、
（ステップＡ５のノー）、ステップＡ１からステップＡ
４を繰り返す。ステップＡ５において、移動した位置が
設定した角質層最終除去部４６に達したと判断された場
合、レーザ制御部１１は、反射光強度処理部３３からの
発振停止信号を受け、ＡｒＦエキシマレーザ１２を停止
させる（ステップＡ６）。
【００４３】本発明の第４の実施の形態は、上述した第
３の実施の形態に加えて、レーザ光を走査するために、
より広い領域の角質層を除去することが可能になる。
３の実施の形態に加えて、レーザ光を走査するために、
より広い領域の角質層を除去することが可能になる。
【００４４】本発明の第４の実施の形態では、一部の角
質層の除去終了後に走査ステージを移動する方式につい
て説明したが、パルス毎にステージを移動し、角質層の
除去を行ってもよい。また、本発明の第４の実施の形態
では、照明光学系および蛍光強度測定部を２次元方向に
走査する例について述べているが、３次元方向に走査す
るようにしても良い。
質層の除去終了後に走査ステージを移動する方式につい
て説明したが、パルス毎にステージを移動し、角質層の
除去を行ってもよい。また、本発明の第４の実施の形態
では、照明光学系および蛍光強度測定部を２次元方向に
走査する例について述べているが、３次元方向に走査す
るようにしても良い。
【００４５】本発明は上述した実施形態に限定せず、本
発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更・変形が可
能である。
発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更・変形が可
能である。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、自動的
に角質除去結果を判断して、装置の動作を停止できると
いう効果がある。このため、個人差、除去部位の相違に
より角質層の厚さが異なっても、正確に角質層のみを除
去することができる。その理由は、角質層の除去結果
を、レーザ照射により発生する蛍光強度、または、皮膚
表面に照射するプローブレーザ反射光強度により検出し
ているからである。
に角質除去結果を判断して、装置の動作を停止できると
いう効果がある。このため、個人差、除去部位の相違に
より角質層の厚さが異なっても、正確に角質層のみを除
去することができる。その理由は、角質層の除去結果
を、レーザ照射により発生する蛍光強度、または、皮膚
表面に照射するプローブレーザ反射光強度により検出し
ているからである。
【図１】本発明の第１の実施形態による角質除去装置の
全体構成を示すブロック図である。
全体構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示した角質除去装置に使用される蛍光強
度測定部および蛍光強度処理部の構成を示すブロック図
である。
度測定部および蛍光強度処理部の構成を示すブロック図
である。
【図３】図１に示した角質除去装置の蛍光強度測定部に
より測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
より測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施形態による角質除去装置の
全体構成を示すブロック図である。
全体構成を示すブロック図である。
【図５】図４に示した角質除去装置の蛍光強度測定部に
より測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
より測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
【図６】本発明の第３の実施形態による角質除去装置の
全体構成を示すブロック図である。
全体構成を示すブロック図である。
【図７】図６に示した角質除去装置の反射光強度測定部
により測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
により測定された蛍光強度の測定結果を示す図である。
【図８】本発明の第４の実施形態による角質除去装置の
全体構成を示すブロック図である。
全体構成を示すブロック図である。
【図９】図８に示した角質除去装置の動作を説明するた
めのフローチャートである。
めのフローチャートである。
【図１０】従来の角質除去装置の全体構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
１１ レーザ制御部 １２ ＡｒＦエキシマレーザ １３，１３Ａ 照明光学系 １４ 皮膚表面 １５ 蛍光強度測定部 １６ 蛍光強度処理部 ２８ 蛍光色素塗布部 ２９ プローブレーザ ３１ 反射光強度測定部 ３３ 反射光強度処理部 ３５ ビーム合成ミラー ３６ 第１の折り返しミラー ４０ Ｘ方向走査ステージ ４１ Ｙ方向走査ステージ ４２ 走査ステージ台 ４３ 走査ステージ制御部
Claims (11)
- 【請求項１】 皮膚表面の角質層をレーザ光の照射によ
って除去する角質除去装置であって、前記レーザ光を出
力するレーザ発振器と、該レーザ発振器の出力を制御す
るレーザ制御部と、前記レーザ光を角質除去部に照射す
るための照明光学系とを有する前記角質除去装置におい
て、 前記レーザ光を皮膚表面に照射したことにより発生する
蛍光の強度を測定するための蛍光強度測定部と、前記蛍
光の強度に応じて、前記レーザ制御部に前記レーザ発振
器の発振を停止させる発振停止信号を送る蛍光強度処理
部とを有すること、を特徴とする角質除去装置。 - 【請求項２】 前記蛍光強度測定部は、水の発光の強度
を測定する手段を有すること、を特徴とする請求項１に
記載の角質除去装置。 - 【請求項３】 前記蛍光強度処理部は、前記蛍光強度測
定部により測定した初期の蛍光強度を記憶する手段と、
記憶した初期の蛍光強度と前記蛍光測定部により測定し
た現在の蛍光強度とを比較する手段とを有し、蛍光強度
が一定レベル以上に増加したことにより前記レーザ制御
部に前記発振停止信号を送ること、を特徴とする請求項
２に記載の角質除去装置。 - 【請求項４】 前記蛍光強度測定部は、皮膚表面の角質
層にのみ吸着される蛍光色素の発光の強度を測定する手
段を有すること、を特徴とする請求項１に記載の角質除
去装置。 - 【請求項５】 前記蛍光強度処理部は、前記蛍光強度測
定部により測定した初期の蛍光強度を記憶する手段と、
記憶した初期の蛍光強度と前記蛍光測定部により測定し
た現在の蛍光強度とを比較する手段とを有し、蛍光強度
が一定レベル以下に低下したことにより前記レーザ制御
部に前記発振停止信号を送ること、を特徴とする請求項
４に記載の角質除去装置。 - 【請求項６】 前記照明光学系および前記蛍光強度測定
部は、２次元方向に走査する駆動手段によって走査され
ること、を特徴とする請求項１に記載の角質除去装置。 - 【請求項７】 前記照明光学系および前記蛍光強度測定
部は、３次元方向に走査する駆動手段によって走査され
ること、を特徴とする請求項１に記載の角質除去装置。 - 【請求項８】 皮膚表面の角質層をレーザ光の照射によ
って除去する角質除去装置であって、前記レーザ光を出
力するレーザ発振器と、該レーザ発振器の出力を制御す
るレーザ制御部と、前記レーザ光を角質除去部に照射す
るための照明光学系とを有する前記角質除去装置におい
て、 前記角質除去部にプローブレーザ光を照射するためのプ
ローブレーザと、前記角質除去部からの前記プローブレ
ーザ光の反射光の強度を測定する反射光強度測定部と、
前記反射光の強度の低下により前記レーザ制御部に前記
レーザ発振器の発振を停止させる発振停止信号を送る反
射光強度処理部とを有すること、を特徴とする角質除去
装置。 - 【請求項９】 前記反射光強度処理部は、前記反射光強
度測定部により測定した初期の反射光強度を記憶する手
段と、記憶した初期の反射光強度と前記蛍光測定部によ
り測定した現在の反射光強度とを比較する手段とを有
し、反射光強度が一定レベル以下に低下したことにより
前記レーザ制御部に前記発振停止信号を送ること、を特
徴とする請求項８に記載の角質除去装置。 - 【請求項１０】 前記照明光学系および前記反射光強度
測定部は、２次元方向に走査する駆動手段によって走査
されること、を特徴とする請求項８に記載の角質除去装
置。 - 【請求項１１】 前記照明光学系および前記反射光強度
測定部は、３次元方向に走査する駆動手段によって走査
されること、を特徴とする請求項８に記載の角質除去装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8105611A JP2918026B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 角質除去装置 |
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| JP8105611A JP2918026B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 角質除去装置 |
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ID=14412305
Family Applications (1)
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| JP8105611A Expired - Fee Related JP2918026B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 角質除去装置 |
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| JP (1) | JP2918026B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003505177A (ja) * | 1999-07-28 | 2003-02-12 | ヴィスクス・インコーポレイテッド | レーザー切除のための水和及び地形計測 |
| USRE43881E1 (en) | 1998-10-16 | 2012-12-25 | Reliant Technologies, Inc. | Tissue cooling rod for laser surgery |
| JP2017535753A (ja) * | 2014-10-01 | 2017-11-30 | ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー | 蛍光ベースのレーザーアブレーションのためのシステム及び方法 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP8105611A patent/JP2918026B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE43881E1 (en) | 1998-10-16 | 2012-12-25 | Reliant Technologies, Inc. | Tissue cooling rod for laser surgery |
| USRE46208E1 (en) | 1998-10-16 | 2016-11-22 | Reliant Technologies, Llc | Method for cryogenically treating tissue below the skin surface |
| JP2003505177A (ja) * | 1999-07-28 | 2003-02-12 | ヴィスクス・インコーポレイテッド | レーザー切除のための水和及び地形計測 |
| JP4651253B2 (ja) * | 1999-07-28 | 2011-03-16 | ヴィスクス インコーポレイテッド | レーザー切除のための水和及び地形計測 |
| JP2017535753A (ja) * | 2014-10-01 | 2017-11-30 | ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー | 蛍光ベースのレーザーアブレーションのためのシステム及び方法 |
| JP2019000679A (ja) * | 2014-10-01 | 2019-01-10 | ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー | 蛍光ベースのレーザーアブレーションのためのシステム及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2918026B2 (ja) | 1999-07-12 |
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