JPH09282726A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH09282726A
JPH09282726A JP8964096A JP8964096A JPH09282726A JP H09282726 A JPH09282726 A JP H09282726A JP 8964096 A JP8964096 A JP 8964096A JP 8964096 A JP8964096 A JP 8964096A JP H09282726 A JPH09282726 A JP H09282726A
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Japan
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layer
temperature
memory layer
film
recording medium
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JP8964096A
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Yasushi Hozumi
靖 穂積
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-sensitivity magneto-optical recording medium which is expanded in an erasing power region (PL margin) by compressing an insufficiently erased power region. SOLUTION: Exchange bond films are so constituted as to have a two-layered structure composed of a memory layer consisting of a first perpendicularly magnetized film which exhibits ferrimagnetism an exhibits relatively high coercive force and low Curie temp. at room temp. and a writing layer consisting of a second perpendicularly magnetized film which exhibits relatively low coercive force and high Curie temp. at room temp. The recording medium of this case is so constituted that the compensation temp. of the memory layer of such exchange bond films is made approximately the same as the temp. (erasing temp.) at which the information of the writing layer is transferred to the memory layer by heating of the medium irradiated with the laser beam.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱磁気的に記録を
行い磁気カー効果を利用して読み出しすることのできる
光磁気記録媒体を利用した、重ね書き可能な光磁気記録
媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an overwritable magneto-optical recording medium using a magneto-optical recording medium which can be recorded thermomagnetically and can be read out by utilizing the Kerr effect.

【0002】[0002]

【従来の技術】消去可能な大容量光記録媒体の一つとし
て光磁気記録媒体が知られている。光磁気記録媒体は、
従来の磁気ヘッドを使った磁気記録媒体と比べ、高密度
記録媒体でありながら可搬性を有すること、非接触な記
録再生系による優れた耐久性があること等の長所があ
る。反面、記録前に一度記録部分を消去しなければなら
ず(一方向に着磁しなければならない)、データ転送速
度が遅くなってしまうという欠点も有する。
2. Description of the Related Art A magneto-optical recording medium is known as one of large-capacity erasable optical recording media. The magneto-optical recording medium is
Compared with a magnetic recording medium using a conventional magnetic head, it has advantages such as high density recording medium, portability, and excellent durability due to a non-contact recording / reproducing system. On the other hand, it has a drawback that the recorded portion must be erased once before recording (it must be magnetized in one direction), and the data transfer rate becomes slow.

【0003】この欠点を補うために、記録再生ヘッドと
消去用ヘッドを別々に設ける方式、、或いはレーザーの
連続ビームを照射すると同時に磁界を変調しながら印加
して記録する方式等が提案されている。しかし、これら
の方法は、装置が大がかりとなりコストが嵩むという欠
点、或いは、高速回転数によるデータ転送ができない等
の欠点を有する。
In order to compensate for this drawback, a method of separately providing a recording / reproducing head and an erasing head, or a method of irradiating a continuous laser beam and simultaneously applying while modulating a magnetic field for recording is proposed. . However, these methods have a drawback that the device becomes large in size and the cost increases, or that data cannot be transferred at a high rotation speed.

【0004】そこで、特開昭62−175948号、同
63−52354号、同63−153752号等で提案
されているような、相対的に室温において高い保磁力及
び低いキュリー温度を示す第一の垂直磁化膜からなるメ
モリ層と、相対的に室温において低い保磁力及び高いキ
ュリー温度を示す第二の垂直磁化膜からなる書き込み層
の少なくとも二層構造を有する交換結合膜を用いて、或
いは、特開昭63−268103号、WO90/024
00号、特開平3−219449号等で提案されている
ような、情報ビットの保存が可能な第一の垂直磁化膜か
らなるメモリ層と、該メモリ層よりも高いキュリー温度
を有し、情報ビットの書き込みが可能な第二の垂直磁化
膜からなる書き込み層と、該メモリ層のキュリー温度よ
りも低く室温よりも高いキュリー温度を有する第三の磁
性膜からなるスイッチ層と、該書き込み層よりも高いキ
ュリー温度を有する第四の垂直磁化膜からなる初期化層
との少なくとも4層の希土類−遷移金属磁性薄膜からな
る磁性層が互いに交換結合して順次積層されている光磁
気記録媒体を用いて、レーザービームのパワーを変化さ
せることにより、重ね書きを行う方法(光変調オーバー
ライト方式)が開示されている。
Therefore, as proposed in JP-A-62-175948, JP-A-63-52354, JP-A-63-153752 and the like, the first one showing a high coercive force and a low Curie temperature at a relatively room temperature. An exchange coupling film having at least a two-layer structure of a memory layer made of a perpendicular magnetization film and a writing layer made of a second perpendicular magnetization film showing a low coercive force and a high Curie temperature at room temperature is used. Kaisho 63-268103, WO90 / 024
No. 00, JP-A-3-219449, etc., a memory layer formed of a first perpendicular magnetization film capable of storing information bits, and a Curie temperature higher than that of the memory layer. A write layer made of a second perpendicularly magnetizable film in which bits can be written, a switch layer made of a third magnetic film having a Curie temperature lower than the Curie temperature of the memory layer and higher than room temperature, and the write layer Using a magneto-optical recording medium in which at least four magnetic layers made of a rare earth-transition metal magnetic thin film and an initialization layer made of a fourth perpendicularly magnetized film having a high Curie temperature are exchange-coupled to each other and sequentially laminated Then, a method of performing overwriting by changing the power of the laser beam (light modulation overwrite method) is disclosed.

【0005】上記の光磁気記録媒体による光変調オーバ
ーライト方式の基本プロセスを説明する。メモリ層と書
き込み層の二層構造を有する交換結合膜では、レーザー
照射による昇降温過程で書き込み層に記録された情報ビ
ット(磁区)がメモリ層に転写される。レーザーは記録
しようとする情報に応じて、書き込み層への記録を行う
高温レベルとメモリ層への転写を行う低温レベルとのそ
れぞれの温度状態を形成可能な2種類のレーザーパワー
で変調する。
The basic process of the optical modulation overwrite method using the above magneto-optical recording medium will be described. In the exchange coupling film having a two-layer structure of a memory layer and a writing layer, the information bit (magnetic domain) recorded in the writing layer is transferred to the memory layer during the temperature rising / falling process by laser irradiation. The laser modulates with two kinds of laser power capable of forming respective temperature states of a high temperature level for recording on the writing layer and a low temperature level for transferring to the memory layer according to the information to be recorded.

【0006】レーザーの照射後は、媒体温度が室温に戻
るとともに、所要の初期化磁界が印加されて書き込み層
が初期化される。メモリ層に転写された情報ビットは、
この層の室温での保磁力が大きいので初期化磁界で消去
されることなく保持される。この結果、記録前のメモリ
層の状態に関わらず、常に新しく書き込み層に記録され
た情報が、メモリ層に記録され且つ保持されることとな
り、オーバーライトが成立する。
After the laser irradiation, the medium temperature returns to room temperature, and a required initialization magnetic field is applied to initialize the writing layer. The information bits transferred to the memory layer are
Since this layer has a large coercive force at room temperature, it is retained without being erased by the initializing magnetic field. As a result, regardless of the state of the memory layer before recording, the information newly recorded in the write layer is always recorded and held in the memory layer, and overwrite is established.

【0007】この方法は、所要の初期化磁界を印加する
手段を必要とするため、記録装置が大型化、複雑化する
という欠点がある。この問題を解決するための方法が、
前記の交換結合積層膜の書き込み層上に、メモリ層のキ
ュリー温度よりも低く室温よりも高いキュリー温度を有
するスイッチ層と、書き込み層よりも高いキュリー温度
を有する初期化層とを付加した構造の媒体を用いる。初
期化層は予め初期化された状態にしておく。レーザーの
照射後、媒体温度が室温に戻る過程で、スイッチ層のキ
ュリー温度以下になると、書き込み層と初期化層との間
に交換結合力が作用して書き込み層が初期化される。こ
の他は、前述のプロセスと同様にしてオーバーライトが
成立する。
This method requires a means for applying a required initializing magnetic field, and therefore has a drawback that the recording apparatus becomes large and complicated. The way to solve this problem is
A switch layer having a Curie temperature lower than the Curie temperature of the memory layer and higher than room temperature, and an initialization layer having a Curie temperature higher than the write layer are added on the write layer of the exchange-coupling laminated film. Use medium. The initialization layer is preliminarily initialized. After the laser irradiation, if the medium temperature returns to room temperature and the temperature becomes equal to or lower than the Curie temperature of the switch layer, the exchange coupling force acts between the writing layer and the initialization layer to initialize the writing layer. Other than this, the overwrite is established in the same manner as the above-mentioned process.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記光変調オーバーラ
イト方式は、再生パワーよりも高い高低2レベルのパワ
ー(PH ,PL )間でレーザー光強度を変調することに
よって、媒体を周囲温度よりも高温の高低2レベルの温
度に加熱し、各々の温度レベルに応じて2つの異なる磁
化状態を形成させて、情報の重ね書きを行う。従って、
図2に示すように記録・消去・再生の3段階のパワーレ
ベルに所定のマージンを割り振った場合、記録と消去を
同一温度レベルで行う通常の記録方式に比べて、記録に
要するレーザー出力が原理的に大きくなってしまう。こ
の問題を解決するためには、図2に領域A、Bとして示
したような消去・記録が不十分なパワー領域をできるだ
け圧縮した上で、PH を下げるように媒体を形成するこ
とが重要である。
The above-mentioned optical modulation overwrite method modulates the laser light intensity between two levels of high and low levels (P H , P L ) higher than the reproduction power, so that the medium is kept above ambient temperature. Is also heated to two high and low temperature levels, and two different magnetization states are formed in accordance with each temperature level, and information is overwritten. Therefore,
As shown in Fig. 2, when a predetermined margin is allocated to the three power levels of recording, erasing, and reproducing, the laser output required for recording is the principle compared to the normal recording method in which recording and erasing are performed at the same temperature level. Will grow large. In order to solve this problem, it is important to form the medium so as to lower P H after compressing the power region where erasure / recording is insufficient as shown as regions A and B in FIG. 2 as much as possible. Is.

【0009】更に、消去・記録不十分なパワー領域(図
中領域A、B)に関して図3を用いて詳述する。図3
に、媒体にレーザー光を照射したときに生じる温度分布
を示す。PRmax(P Wth )のレーザーパワーを照射した
ときの温度分布が点線で表されている。このような形状
の温度分布が生じるのは、レーザー光の光強度分布がガ
ウス分布を示すことに起因している。このレーザーパワ
ーPRmax(PWth )を記録媒体に投入すると、始めて消
去温度TE (記録温度TW )に達する部分が現れ、その
領域で消去(記録)を開始する。また、P
Lmin(PWopt)のレーザーパワーを照射したときの温度
分布が実線で示されている。このときは丁度記録マーク
幅全体を消去温度(記録温度)まで加熱することがで
き、情報を完全に消去(記録)することができる。P
Rmax(PWth )からPLmin(PWopt)までのパワー範囲
が消去(記録)不十分な領域として残る。
Further, a power area where erasure / recording is insufficient (see FIG.
The middle regions A and B) will be described in detail with reference to FIG. FIG.
Temperature distribution that occurs when the medium is irradiated with laser light
Is shown. PRmax(P Wth ) Laser power
The temperature distribution at that time is represented by the dotted line. Such a shape
This temperature distribution occurs because the laser light intensity distribution is
This is due to the fact that it exhibits a Usus distribution. This laser power
ー PRmax(PWth ) On the recording medium for the first time
Leaving temperature TE (Recording temperature TW ) Appears and the part
Start erasing (recording) in the area. Also, P
Lmin(PWopt) Temperature when irradiated with laser power
The distribution is shown by the solid line. At this time, just the recording mark
The entire width can be heated to the erase temperature (recording temperature).
Information can be completely erased (recorded). P
Rmax(PWth ) To PLmin(PWopt) Power range up to
Remains as an area where erasure (recording) is insufficient.

【0010】光変調オーバーライト方式による光磁気記
録媒体では、記録・消去・再生の3段階のパワーレベル
に所定のマージンを割り振る必要性があり、原理的に記
録レーザーパワーが大きくなる光変調オーバーライト方
式において、上述のような消去(記録)不十分なパワー
領域の存在は、記録光の高感度化を更に妨げる障害とな
っていた。
In the magneto-optical recording medium of the optical modulation overwrite system, it is necessary to allocate a predetermined margin to three power levels of recording, erasing and reproduction, and in principle, the optical modulation overwrite in which the recording laser power becomes large. In the system, the existence of a power region in which erasing (recording) is insufficient as described above has been an obstacle to further increasing the sensitivity of recording light.

【0011】本発明は、上記のような問題点を解消し
て、特に消去不十分なパワー領域を圧縮し、消去パワー
領域(PL マージン)の拡張された、高感度光磁気記録
媒体の提供を目的とするものである。
The present invention solves the above problems and provides a high-sensitivity magneto-optical recording medium in which the power region where erasure is insufficient is compressed and the erase power region (P L margin) is expanded. The purpose is.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】高感度光磁気記録媒体作
製の上で消去・記録不十分なパワー領域を縮小するため
には、レーザー光照射により生じる温度分布の形状を最
適化することが重要になる。この温度分布の形状は記録
媒体の熱構造の影響を受けることが分かっており、これ
までにも、熱構造を検討することにより温度分布の最適
化が図られてきた。
It is important to optimize the shape of the temperature distribution generated by laser light irradiation in order to reduce the power region where erasure / recording is insufficient when manufacturing a high-sensitivity magneto-optical recording medium. become. It has been known that the shape of this temperature distribution is influenced by the thermal structure of the recording medium, and the temperature distribution has been optimized by studying the thermal structure.

【0013】しかしながら、同一熱構造(同一温度分
布)を有する媒体においても、記録磁性膜の磁気特性の
変化に伴い消去・記録不十分なパワー領域も変化するこ
とが実験的に確認されている。これは、ディスク上の場
所による組成ムラ、膜厚ムラ等に起因する磁気特性の不
均一性が原因と考えられる。
However, it has been experimentally confirmed that even in a medium having the same thermal structure (same temperature distribution), the power region in which erasing / recording is insufficient changes as the magnetic characteristics of the recording magnetic film change. This is considered to be due to the non-uniformity of the magnetic characteristics caused by the composition unevenness, the film thickness unevenness, etc. depending on the location on the disk.

【0014】本発明は上記の課題を解決すべくなされた
ものであって、上記の目的は以下に示す本発明によって
達成される。すなわち本発明は、フェリ磁性を示し、相
対的に室温において高い保磁力及び低いキュリー温度を
示す第一の垂直磁化膜からなるメモリ層と、相対的に室
温において低い保持力及び高いキュリー温度を示す第二
の垂直磁化膜からなる書き込み層の少なくとも二層構造
を有する交換結合膜において、前記メモリ層の補償温度
がレーザー照射による媒体の加熱により書き込み層の情
報がメモリ層に転写される温度(消去温度)と略同一に
なるようにしてなることを特徴とする光磁気記録媒体を
開示するものである。
The present invention has been made to solve the above problems, and the above objects can be achieved by the present invention described below. That is, the present invention shows a ferrimagnetism, a memory layer formed of a first perpendicular magnetization film having a high coercive force and a low Curie temperature at room temperature, and a low coercive force and a high Curie temperature at room temperature. In an exchange coupling film having at least a two-layer structure of a writing layer made of a second perpendicular magnetization film, the compensation temperature of the memory layer is a temperature at which information of the writing layer is transferred to the memory layer by heating the medium by laser irradiation (erasing). The present invention discloses a magneto-optical recording medium, which is characterized in that the temperature is approximately the same.

【0015】また本発明は、フェリ磁性を示し、情報ビ
ットの保存が可能な第一の垂直磁化膜からなるメモリ層
と、該メモリ層よりも高いキュリー温度を有し、情報ビ
ットの書き込みが可能な第二の垂直磁化膜からなる書き
込み層と、該メモリ層のキュリー温度よりも低く室温よ
りも高いキュリー温度を有する第三の磁性膜からなるス
イッチ層と、該書き込み層よりも高いキュリー温度を有
する第四の垂直磁化膜からなる初期化層との少なくとも
4層構造を有する交換結合膜において、前記メモリ層の
補償温度がレーザー照射による媒体の加熱により書き込
み層の情報がメモリ層に転写される温度(消去温度)と
略同一になるようにしてなることを特徴とする光磁気記
録媒体をも開示するものである。
Further, according to the present invention, it is possible to write the information bit by exhibiting the ferrimagnetism and having the memory layer formed of the first perpendicular magnetization film capable of storing the information bit and the Curie temperature higher than that of the memory layer. A write layer made of a second perpendicular magnetization film, a switch layer made of a third magnetic film having a Curie temperature lower than the Curie temperature of the memory layer and higher than room temperature, and a Curie temperature higher than the write layer. In the exchange coupling film having at least a four-layer structure with the initialization layer made of the fourth perpendicular magnetization film, the compensation temperature of the memory layer is transferred to the memory layer by heating the medium by laser irradiation. The present invention also discloses a magneto-optical recording medium characterized in that the temperature is substantially the same as the erasing temperature.

【0016】そして前記メモリ層の補償温度(T
comp. )が、30〜180℃の範囲にあることを特徴と
するものであり、また前記メモリ層の組成が、組成式T
x Fe10 0-x-y Coy からなり、且つ20≦x≦26
(at%),2≦y≦12(at%)であることを特徴
とするものである。
Then, the compensation temperature (T
comp. ) is in the range of 30 to 180 ° C., and the composition of the memory layer has a composition formula T
b x Fe 100 -xy Co y , and 20 ≦ x ≦ 26
(At%) and 2 ≦ y ≦ 12 (at%).

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の詳細に関して以下に説明
する。まず、最初に図を用いて、光変調オーバーライト
方式における消去原理を説明する。2層の構成を有する
光変調オーバーライト方式光磁気記録媒体の記録に関し
て、メモリ層、書き込み層がフェロ磁性からなる場合、
メモリ層と書き込み層の磁化がお互いに逆方向を向き、
両層間に界面磁壁が存在するような状態を記録状態と
し、2層の磁化が平行で界面磁壁が存在しない状態を消
去状態とする。特に、2層とも希土類遷移金属の場合は
両層の遷移金属(或いは希土類)副格子磁化がお互いに
逆方向を向き、両層間に界面磁壁が存在するときを記録
状態として、2層の遷移金属(或いは希土類)副格子磁
化が平行で界面磁壁が存在しない状態を消去状態とす
る。以下の説明においては、メモリ層、書き込み層が希
土類遷移金属の場合は「磁化」とは、「遷移金属(或い
は希土類)副格子磁化」を意味する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The details of the present invention will be described below. First, the principle of erasing in the light modulation overwrite method will be described with reference to the drawings. Regarding recording on an optical modulation overwrite type magneto-optical recording medium having a two-layer structure, when the memory layer and the writing layer are made of ferromagnetism,
The magnetizations of the memory layer and the writing layer face in opposite directions,
The state in which the interface domain wall exists between both layers is the recording state, and the state in which the magnetizations of the two layers are parallel and the interface domain wall does not exist is the erase state. In particular, when the two layers are rare earth transition metals, the transition metal (or rare earth) sublattice magnetizations of both layers are directed in opposite directions to each other, and an interface domain wall exists between the two layers as a recording state. (Or rare earth) A state in which the sublattice magnetization is parallel and the interface domain wall does not exist is defined as an erased state. In the following description, “magnetization” means “transition metal (or rare earth) sublattice magnetization” when the memory layer and the writing layer are rare earth transition metals.

【0018】界面磁壁を説明した模式図が図4である。
すなわち、界面磁壁はメモリ層の磁化方向から書き込み
層の磁化方向へと徐々に変化する磁化遷移領域である。
この界面磁壁には2層の磁化を平行に揃えようとする方
向に作用する界面磁壁エネルギーが存在する。一方、メ
モリ層、書き込み層にも各々の磁化方向を維持しようと
する方向に作用する保磁力エネルギーが働く。上記のメ
モリ層、書き込み層の各保磁力エネルギーが、両層間の
界面磁壁エネルギーを上まわり、界面磁壁を形成すると
きの状態が記録状態であり、情報が記録されたというこ
とになる。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating the interface domain wall.
That is, the interface domain wall is a magnetization transition region that gradually changes from the magnetization direction of the memory layer to the magnetization direction of the write layer.
In this interface domain wall, there exists interface domain wall energy that acts in a direction in which the magnetizations of the two layers are aligned in parallel. On the other hand, coercive force energy that acts in a direction to maintain the respective magnetization directions also acts on the memory layer and the writing layer. The coercive force energies of the memory layer and the writing layer exceed the interfacial domain wall energy between the two layers, and the state when the interfacial domain wall is formed is the recorded state, which means that information is recorded.

【0019】このような記録状態からレーザー光照射に
より媒体を加熱した場合のメモリ層の保磁力エネルギー
(E)、及び界面磁壁エネルギー(σW )の温度特性を
図5に示す。室温(TR )においてはメモリ層の保磁力
エネルギーは界面磁壁エネルギーよりも大きく記録状態
を維持する。この状態からレーザー光照射による媒体温
度の昇温に伴い保磁力エネルギーは単調に減少する。消
去温度(TE )以上においてはメモリ層の保磁力エネル
ギーは界面磁壁エネルギーよりも小さくなり、メモリ層
の磁化は記録磁化の方向を維持できなくなり、反転し、
2層の磁化方向は平行に揃う。そして、その状態のまま
室温まで冷却され、消去状態となり消去が完了する。従
って、光変調オーバーライト方式光磁気記録媒体におけ
る消去過程においては、メモリ層の保磁力エネルギーと
メモリ層と書き込み層間に存在する界面磁壁エネルギー
との関係を把握することが特に重要となる。
FIG. 5 shows the temperature characteristics of the coercive force energy (E) of the memory layer and the interfacial domain wall energy (σ W ) when the medium is heated by laser light irradiation from such a recorded state. At room temperature (T R ), the coercive force energy of the memory layer is larger than the interface wall energy and the recording state is maintained. From this state, the coercive force energy monotonously decreases as the medium temperature rises due to laser light irradiation. At the erasing temperature (T E ) or higher, the coercive force energy of the memory layer becomes smaller than the interfacial domain wall energy, and the magnetization of the memory layer cannot maintain the direction of the recording magnetization and is reversed.
The magnetization directions of the two layers are aligned in parallel. Then, in that state, it is cooled down to room temperature and becomes an erased state, and the erase is completed. Therefore, in the erasing process in the optical modulation overwrite type magneto-optical recording medium, it is particularly important to understand the relationship between the coercive force energy of the memory layer and the interfacial domain wall energy existing between the memory layer and the write layer.

【0020】上記のことを念頭に図6を用いて、消去不
十分なパワー領域と磁気特性との相関について説明す
る。ここで、メモリ層の保磁力エネルギー、及びメモリ
層と書き込み層間の界面磁壁エネルギーに特性の不均一
性が生じた場合を仮定する。このとき、両エネルギーの
温度特性において交わる温度、すなわち消去温度TE
も、ばらつきΔTE が生じる。このような場合、図6に
示されているように、記録マークを消去し始めるパワー
Rmaxは理想的な場合に比べ低い値を示し、逆に、記録
マークを完全に消去するパワーPLminは高い値を示し、
RmaxからPLminまでのパワー範囲は理想的な場合に比
べ拡大することになる。言い換えれば、この消去温度の
ばらつきΔTE が小さいものほど消去不十分なパワー領
域を縮小できることである。
With the above in mind, the correlation between the insufficiently erased power region and the magnetic characteristics will be described with reference to FIG. Here, it is assumed that the coercive force energy of the memory layer and the interfacial domain wall energy between the memory layer and the write layer have nonuniform characteristics. At this time, variation ΔT E also occurs in the temperature at which the temperature characteristics of both energies intersect, that is, the erasing temperature T E. In such a case, as shown in FIG. 6, the power P Rmax for starting to erase the recording mark is lower than that in the ideal case, and conversely, the power P Lmin for completely erasing the recording mark is Shows a high value,
The power range from P Rmax to P Lmin is expanded compared to the ideal case. In other words, the smaller the erase temperature variation ΔT E , the smaller the power region where erasure is insufficient.

【0021】消去温度のばらつきを縮小する一つの方法
として図7に示されているように、メモリ層と書き込み
層間の界面磁壁エネルギーが同じである場合、消去温度
付近においてメモリ層の保磁力エネルギーの温度特性の
変化が急激なものほど消去温度のばらつきΔTE を圧縮
することができる。
As shown in FIG. 7, as one method for reducing the variation in erase temperature, when the interfacial domain wall energy between the memory layer and the write layer is the same, the coercive force energy of the memory layer near the erase temperature is reduced. The variation ΔT E of the erasing temperature can be reduced as the temperature characteristic changes more rapidly.

【0022】一方、フェリ磁性であるメモリ層の補償温
度が、レーザー照射による媒体の加熱により書き込み層
の情報がメモリ層に転写される温度(消去温度)と略同
一になるようにしてメモリ層を選択したとき、消去温度
付近で補償温度とするメモリ層の見かけ上の磁化、及び
反磁界エネルギーは消失する。このとき、角形ヒステリ
シスループを示すメモリ層の保磁力エネルギーEcは、
下記一般式、 Ec=MsHc−NMs2 (但しMsはメモリ層の飽和磁化、Hcは保磁力、Nは
反磁界係数を表す)で表されることから、上記のように
して選択したメモリ層の保磁力エネルギーの温度特性の
方が、消去温度付近において反磁界エネルギーが小さい
分だけ、他に比べ急激に変化する(図10参照)。した
がって、メモリ層の補償温度が、レーザー照射による媒
体の加熱により書き込み層の情報がメモリ層に転写され
る温度(消去温度)と略同一になるようにしてメモリ層
を選択し、形成することにより、消去温度のばらつきを
縮小し、従来の光磁気記録媒体と比べ、その消去不十分
なパワー領域を圧縮することを可能にし、それに伴う、
L マージンの拡張、記録パワーの低減を可能にした。
On the other hand, the compensation temperature of the memory layer, which is ferrimagnetic, is made substantially the same as the temperature (erasing temperature) at which the information of the writing layer is transferred to the memory layer by heating the medium by laser irradiation. When selected, the apparent magnetization and diamagnetic field energy of the memory layer, which has a compensation temperature near the erase temperature, disappears. At this time, the coercive force energy Ec of the memory layer showing a square hysteresis loop is
Since it is represented by the following general formula, Ec = MsHc-NMs 2 (where Ms is the saturation magnetization of the memory layer, Hc is the coercive force, and N is the demagnetizing factor), the memory layer selected as described above The temperature characteristic of the coercive force energy changes sharply in comparison with the other because the demagnetizing field energy is small in the vicinity of the erasing temperature (see FIG. 10). Therefore, by selecting and forming the memory layer such that the compensation temperature of the memory layer is substantially the same as the temperature (erasing temperature) at which the information of the writing layer is transferred to the memory layer by heating the medium by laser irradiation. , It is possible to reduce the variation of the erasing temperature and to compress the power region where the erasure is insufficient compared with the conventional magneto-optical recording medium, and accordingly,
It is possible to extend the P L margin and reduce the recording power.

【0023】本発明に用いるような光磁気記録媒体の基
本構成は、図1に示すような透光性基板上に、少なくと
も第一磁性層(メモリ層)と第二磁性層(書き込み層)
を順次積層したものである。メモリ層は、室温以上の温
度で補償温度を有するフェリ磁性体であり、室温におい
て高い保磁力及び比較的低いキュリー温度を示し、書き
込み層は、室温において比較的低い保磁力及び高いキュ
リー温度を示す。ここでの「高い」・「低い」という表
現は、両磁性層を比較した場合の相対的な関係を表す。
具体的には第一磁性層であるメモリ層の保磁力は7kO
e以上、補償温度は60〜180℃、キュリー温度は1
20〜200℃が好ましい。また、第二磁性層である書
き込み層の保磁力は2〜5kOe、キュリー温度は16
0〜280℃が好ましい。
The basic structure of a magneto-optical recording medium used in the present invention is such that at least a first magnetic layer (memory layer) and a second magnetic layer (writing layer) are formed on a transparent substrate as shown in FIG.
Are sequentially laminated. The memory layer is a ferrimagnetic material having a compensation temperature above room temperature and exhibits a high coercive force and a relatively low Curie temperature at room temperature, and the write layer exhibits a relatively low coercive force and a high Curie temperature at room temperature. . The expressions “high” and “low” here indicate a relative relationship when the two magnetic layers are compared.
Specifically, the coercive force of the memory layer, which is the first magnetic layer, is 7 kO.
e or higher, compensation temperature is 60 to 180 ° C, Curie temperature is 1
20-200 degreeC is preferable. The coercive force of the writing layer, which is the second magnetic layer, is 2 to 5 kOe, and the Curie temperature is 16.
0-280 degreeC is preferable.

【0024】各磁性層の材料には、垂直磁気異方性を示
し且つ比較的大きな磁気光学効果を呈するものが利用で
きるが、メモリ層としては、Tb−Fe,Tb−Dy−
Fe,Dy−Fe,Tb−Fe−Co,Tb−Dy−F
e−Co,Dy−Fe−Co,Gd−Tb−Fe,Gd
−Dy−Fe等、また書き込み層は,Tb−Fe,Tb
−Dy−Fe,Dy−Fe,Tb−Fe−Co,Tb−
Dy−Fe−Co,Dy−Fe−Co,Gd−Tb−F
e,Gd−Tb−Dy−Fe,Gd−Dy−Fe,Gd
−Tb−Fe−Co,Gd−Tb−Dy−Fe−Co,
Gd−Dy−Fe−Co等の希土類元素と鉄族元素との
非晶質磁性合金が好ましい。
As the material of each magnetic layer, a material exhibiting perpendicular magnetic anisotropy and exhibiting a relatively large magneto-optical effect can be used, but for the memory layer, Tb-Fe, Tb-Dy-.
Fe, Dy-Fe, Tb-Fe-Co, Tb-Dy-F
e-Co, Dy-Fe-Co, Gd-Tb-Fe, Gd
-Dy-Fe, etc., and the writing layer is Tb-Fe, Tb
-Dy-Fe, Dy-Fe, Tb-Fe-Co, Tb-
Dy-Fe-Co, Dy-Fe-Co, Gd-Tb-F
e, Gd-Tb-Dy-Fe, Gd-Dy-Fe, Gd
-Tb-Fe-Co, Gd-Tb-Dy-Fe-Co,
An amorphous magnetic alloy of a rare earth element such as Gd-Dy-Fe-Co and an iron group element is preferable.

【0025】また、メモリ層の情報を読み出す側に再生
特性の良い磁性層(再生層)を積層したり、メモリ層と
書き込み層の間に交換結合の大きさを制御するための適
当な磁性層や非磁性層(調整層)を挟んでもよい。
Further, a magnetic layer having good reproduction characteristics (reproduction layer) is laminated on the information reading side of the memory layer, or a suitable magnetic layer for controlling the magnitude of exchange coupling between the memory layer and the writing layer. Alternatively, a non-magnetic layer (adjustment layer) may be sandwiched.

【0026】更に、書き込み層よりも大きなキュリー温
度を有する、初期化磁石の役割を果す磁性層(初期化
層)と、その初期化層と書き込み層との間に位置し、メ
モリ層よりも低いキュリー温度を有し、室温において書
き込み層と初期化層とを磁気的に結合させる磁性層(ス
イッチ層)を、書き込み層積層後に、スイッチ層、初期
化層の順で積層してもよい。具体的には、調整層のキュ
リー温度は170〜250℃、スイッチ層のキュリー温
度は100〜150℃、初期化層は300℃以上が好ま
しい。
Further, it is located between the magnetic layer (initialization layer) having a Curie temperature higher than that of the writing layer and playing the role of the initializing magnet (initialization layer), and lower than the memory layer. A magnetic layer (switch layer) having a Curie temperature and magnetically coupling the writing layer and the initialization layer at room temperature may be laminated in the order of the switching layer and the initialization layer after the writing layer is laminated. Specifically, the Curie temperature of the adjustment layer is preferably 170 to 250 ° C., the Curie temperature of the switch layer is preferably 100 to 150 ° C., and the initialization layer is preferably 300 ° C. or higher.

【0027】なお、透光性の基板と磁性層の間や磁性層
の該基板と反対側に、耐久性を向上させるための、或い
は、記録消去感度と磁気光学効果を向上させるための適
当な誘電体層、或いは、反射層を設けてもよい。誘電体
層の材料として、SiN,SiO,SiC,SiAlO
N,ZnS等が用いられる。
It is to be noted that between the translucent substrate and the magnetic layer or on the side of the magnetic layer opposite to the substrate, suitable for improving durability, or for improving recording / erasing sensitivity and magneto-optical effect. A dielectric layer or a reflective layer may be provided. As the material of the dielectric layer, SiN, SiO, SiC, SiAlO
N, ZnS or the like is used.

【0028】[0028]

【実施例】以下、図面に基き、実施例により本発明を詳
細に説明するが本発明がこれらによって何ら限定される
ものではない。
The present invention will be described in detail below with reference to the examples, but the present invention is not limited thereto.

【0029】[実施例1]本発明の第一の実施例を図面
を参照しながら説明する。図8に示すように、プリグル
ーヴ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネー
ト製の透光性ディスク形状基板上に、第一の誘電体層、
磁性層、第二の誘電体層、反射層の順に、スパッタ法に
より成膜した。磁性層は3層構造をなしており、第一の
誘電体層上に、メモリ層、調整層、書き込み層の順に積
層した。
[First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 8, a first dielectric layer is formed on a translucent disc-shaped substrate made of polycarbonate with pregrooves and preformatted signals,
The magnetic layer, the second dielectric layer, and the reflective layer were formed in this order by a sputtering method. The magnetic layer has a three-layer structure, and the memory layer, the adjustment layer, and the writing layer were laminated in this order on the first dielectric layer.

【0030】第一の誘電体層は、透光性基板上にAr,
2 混合ガス雰囲気中でSiをターゲットに用いて、ス
パッタ法により、SiN膜を膜厚90nmに形成した。
その後、第一の誘電体膜上に三層構造からなる磁性層を
作製した。
The first dielectric layer is made of Ar,
A SiN film having a film thickness of 90 nm was formed by sputtering using Si as a target in an N 2 mixed gas atmosphere.
Then, a magnetic layer having a three-layer structure was formed on the first dielectric film.

【0031】第一の磁性層として、Tb,Fe,Coの
3個のターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.5
9Paの雰囲気中で、膜組成Tb25.5Fe65.5Co9
膜厚25nmのメモリ層を形成した。メモリ層の補償温
度は150℃であり、キュリー温度は165℃である。
As the first magnetic layer, three targets of Tb, Fe, and Co were used, and the sputtering Ar gas pressure was 0.5.
In an atmosphere of 9 Pa, the film composition Tb 25.5 Fe 65.5 Co 9 ,
A memory layer having a film thickness of 25 nm was formed. The compensation temperature of the memory layer is 150 ° C and the Curie temperature is 165 ° C.

【0032】第二の磁性層としては、Gd,Fe,Fe
Co30の3個のターゲットを用いて、スパッタArガス
圧0.21Paの雰囲気中で、膜組成Gd32Fe58Co
10、膜厚20nmの調整層を形成した。
As the second magnetic layer, Gd, Fe, Fe
Film composition Gd 32 Fe 58 Co was used in an atmosphere of sputtered Ar gas pressure of 0.21 Pa using three Co 30 targets.
10, to form an adjusting layer having a thickness of 20 nm.

【0033】第三の磁性層としては、Tb,Fe,Co
の3個のターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.
22Paの雰囲気中で、膜組成Td16Fe72Co12、膜
厚40nmの書き込み層を形成した。書き込み層のキュ
リー温度は260℃である。更に第二の誘電体層とし
て、前記膜上にAr,N2 混合ガス雰囲気中でSiをタ
ーゲットに用いて、スパッタ法により、SiN膜を膜厚
10nmで形成した。最後は、反射層として、前記膜上
にArガス雰囲気中でAlのターゲットを用いて、スパ
ッタ法により、膜厚40nmで作製した。
As the third magnetic layer, Tb, Fe, Co
Sputtered Ar gas pressure of 0.
A writing layer having a film composition of Td 16 Fe 72 Co 12 and a film thickness of 40 nm was formed in an atmosphere of 22 Pa. The Curie temperature of the writing layer is 260 ° C. Further, as a second dielectric layer, a SiN film having a film thickness of 10 nm was formed on the film by a sputtering method using Si as a target in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 . Finally, as the reflective layer, a film having a thickness of 40 nm was formed on the film by a sputtering method using an Al target in an Ar gas atmosphere.

【0034】以上のようにして、作製された光磁気記録
媒体を光磁気記録再生装置にセットし、消去不十分なパ
ワー領域を測定した。測定は、線速9.04m/sで回
転させ、スポット径約1μmに集光させた波長780n
mのレーザービームを用いて行った。最初に、レーザー
パワー10mWの連続光を照射しつつ、バイアス磁界−
500Oeの磁界発生部に光磁気記録媒体が通過するこ
とにより記録媒体の消去を行った。その後、バイアス磁
界350Oeを印加しつつ、33%デューティ比、5.
8MHzの周波数で変調させたピークパワー12mWの
レーザー光で記録を行った。この記録部分に記録方向の
バイアス磁界350Oeを印加しつつ連続光を照射し、
記録データを完全に消去する最小のパワーをPLmin、記
録部に連続光を照射したときデータを破壊することなく
再生可能な最大再生パワーをPRm axとしてPRmax/P
Lminの比を求めることにより、媒体の消去不十分なパワ
ー領域の指標とした。上記の媒体においては、表1に示
すようにPRmax/PLmin=0.62であった。
The magneto-optical recording medium produced as described above was set in a magneto-optical recording / reproducing apparatus, and the power region where erasure was insufficient was measured. The measurement was carried out by rotating at a linear velocity of 9.04 m / s and collecting a wavelength of 780 n at a spot diameter of about 1 μm.
m laser beam. First, while irradiating continuous light with a laser power of 10 mW,
The recording medium was erased by passing the magneto-optical recording medium through the magnetic field generating portion of 500 Oe. After that, while applying a bias magnetic field of 350 Oe, a 33% duty ratio, 5.
Recording was performed with a laser beam having a peak power of 12 mW modulated at a frequency of 8 MHz. Irradiating continuous light while applying a bias magnetic field 350 Oe in the recording direction to this recording portion,
The minimum power of P Lmin to erase the recorded data completely, P Rmax / P the maximum reproduction power playable without destroying the data when irradiated with continuous light in the recording unit as P Rm ax
By obtaining the ratio of Lmin , it was used as an index of the power region in which the medium was not sufficiently erased. In the above medium, as shown in Table 1, P Rmax / P Lmin = 0.62.

【0035】[比較例1]第一の磁性層として、Tb,
Fe,Coの3個のターゲットを用いて、スパッタAr
ガス圧0.59Paの雰囲気中で、膜組成Tb17.5Fe
76.5Co6 、膜厚25nmのメモリ層を形成した。メモ
リ層のキュリー温度は165℃である。その他は実施例
1と全く同様の構成の光磁気記録媒体であり、実施例1
と同じ条件で消去不十分なパワー領域の測定を行った。
表1に示すようにPRmax/PLmin=0.51であった。
Comparative Example 1 As the first magnetic layer, Tb,
Sputtering Ar using three targets of Fe and Co
Film composition Tb 17.5 Fe in an atmosphere with a gas pressure of 0.59 Pa
A memory layer having a thickness of 76.5 Co 6 and a film thickness of 25 nm was formed. The Curie temperature of the memory layer is 165 ° C. Other than that, the magneto-optical recording medium has the same configuration as that of the first embodiment.
Under the same conditions as above, the power region where erasure was insufficient was measured.
As shown in Table 1, P Rmax / P Lmin = 0.51.

【0036】[0036]

【表1】 表1に示す結果から、本発明の実施例1は比較例1に比
してPRmax/PLminの値が1により近く、消去不十分な
パワー領域が圧縮されており、良好な特性を示している
ことが分かる。本発明の実施例1、及び、比較例1のメ
モリ層の保磁力エネルギーの温度特性を図10に示す。
実施例1の方が比較例1のメモリ層の保磁力エネルギー
の温度に対する変化が高温側で急俊であることが分か
る。また、本発明の実施例1、及び比較例1におけるメ
モリ層と書き込み層間に生じる界面磁壁エネルギーの温
度特性は図11のようになる。界面磁壁エネルギーの温
度特性に関しては、実施例1と比較例1との間で差は見
られなかった。以上の保磁力エネルギー、及び界面磁壁
エネルギーの温度特性とPRmax/PLminの動特性の結果
から、補償温度が室温よりも高温側にある消去温度付近
であるメモリ層を有する媒体ほど、保磁力エネルギーの
温度に対する変化が消去温度付近で急俊となり、PRmax
/PLminの値は1に近づき、消去不十分な領域が縮小さ
れていることが分かる。
[Table 1] From the results shown in Table 1, the value of P Rmax / P Lmin of Example 1 of the present invention was closer to 1 than that of Comparative Example 1, and the power region in which erasure was insufficient was compressed, showing good characteristics. I understand that. FIG. 10 shows the temperature characteristics of the coercive force energy of the memory layers of Example 1 of the present invention and Comparative Example 1.
It can be seen that in Example 1, the change in coercive force energy of the memory layer of Comparative Example 1 with respect to temperature is more rapid on the high temperature side. Further, the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy generated between the memory layer and the write layer in Example 1 of the present invention and Comparative Example 1 are as shown in FIG. Regarding the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy, no difference was observed between Example 1 and Comparative Example 1. From the above results of the coercive force energy, the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy, and the dynamic characteristics of P Rmax / P Lmin , the coercive force of a medium having a memory layer whose compensation temperature is higher than room temperature and near the erase temperature is higher. The change in energy with temperature becomes sharp near the erasing temperature, and P Rmax
It can be seen that the value of / P Lmin approaches 1 and the area of insufficient erasure is reduced.

【0037】[実施例2]次に、本発明の実施例2を図
面を参照しながら説明する。図9に示すようにプリグル
ーヴ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネー
ト製の透光性ディスク形状基板上に、第一の誘電体層、
磁性層、第二の誘電体層、反射層の順に、スパッタ法に
より成膜した。磁性層は5層構造をなしており、第一の
誘電体層上に、メモリ層、調整層、書き込み層、スイッ
チ層、初期化層の順に積層した。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 9, a first dielectric layer is formed on a translucent disk-shaped substrate made of polycarbonate with pregrooves and preformatted signals,
The magnetic layer, the second dielectric layer, and the reflective layer were formed in this order by a sputtering method. The magnetic layer has a five-layer structure, and a memory layer, an adjustment layer, a writing layer, a switch layer, and an initialization layer were laminated in this order on the first dielectric layer.

【0038】第一の誘電体層は、透光性基板上にAr,
2 混合ガス雰囲気中でSiをターゲットに用いて、ス
パッタ法により、SiN膜を膜厚90nmに形成した。
その後、第一の誘電体膜上に5層構造からなる磁性層を
作製した。
The first dielectric layer is made of Ar,
A SiN film having a film thickness of 90 nm was formed by sputtering using Si as a target in an N 2 mixed gas atmosphere.
Then, a magnetic layer having a five-layer structure was formed on the first dielectric film.

【0039】第一の磁性層として、Tb,Fe,Coの
3個のターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.5
9Paの雰囲気中で、膜組成Tb25.5Fe65.5Co9
膜厚25nmのメモリ層を形成した。メモリ層の補償温
度は150℃であり、キュリー温度は165℃である。
As the first magnetic layer, three targets of Tb, Fe, and Co were used, and the sputtering Ar gas pressure was 0.5.
In an atmosphere of 9 Pa, the film composition Tb 25.5 Fe 65.5 Co 9 ,
A memory layer having a film thickness of 25 nm was formed. The compensation temperature of the memory layer is 150 ° C and the Curie temperature is 165 ° C.

【0040】第二の磁性層としては、Gd,Fe,Fe
Co30の3個のターゲットを用いて、スパッタArガス
圧0.21Paの雰囲気中で、膜組成Gd32Fe58Co
10、膜厚20nmの調整層を形成した。
As the second magnetic layer, Gd, Fe, Fe
Film composition Gd 32 Fe 58 Co was used in an atmosphere of sputtered Ar gas pressure of 0.21 Pa using three Co 30 targets.
10, to form an adjusting layer having a thickness of 20 nm.

【0041】第三の磁性層としては、Tb,Fe,Co
の3個のターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.
22Paの雰囲気中で、膜組成Td16Fe72Co12、膜
厚15nmの書き込み層を形成した。書き込み層のキュ
リー温度は260℃である。
As the third magnetic layer, Tb, Fe, Co
Sputtered Ar gas pressure of 0.
A writing layer having a film composition of Td 16 Fe 72 Co 12 and a film thickness of 15 nm was formed in an atmosphere of 22 Pa. The Curie temperature of the writing layer is 260 ° C.

【0042】第四の磁性層として、Tb,Feの2個の
ターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.22Pa
の雰囲気中で、膜組成Tb25Fe75、膜厚10nmのス
イッチ層を形成した。スイッチ層のキュリー温度は13
0℃である。
As the fourth magnetic layer, two targets of Tb and Fe were used, and the sputtering Ar gas pressure was 0.22 Pa.
In the atmosphere, a switch layer having a film composition of Tb 25 Fe 75 and a film thickness of 10 nm was formed. The Curie temperature of the switch layer is 13
0 ° C.

【0043】第五の磁性層として、Tb,Fe,Coの
3個のターゲットを用いて、スパッタArガス圧0.2
2Paの雰囲気中で、膜組成Tb24Fe15Co61、膜圧
30nmの初期化層を形成した。初期化層のキュリー温
度は300℃以上である。第四、第五磁性層により、記
録の際に初期化磁界装置を必要としない。
As the fifth magnetic layer, three targets of Tb, Fe, and Co were used, and the sputtering Ar gas pressure was 0.2.
In an atmosphere of 2 Pa, an initialization layer having a film composition of Tb 24 Fe 15 Co 61 and a film pressure of 30 nm was formed. The Curie temperature of the initialization layer is 300 ° C. or higher. Due to the fourth and fifth magnetic layers, no initialization magnetic field device is required for recording.

【0044】更に第二の誘電体層として、前記膜上にA
r,N2 混合ガス雰囲気中でSiをターゲットに用い
て、スパッタ法により、SiN膜を膜厚10nmで形成
した。最後は、反射層として、前記膜上にArガス雰囲
気中でAlのターゲットを用いて、スパッタ法により、
膜厚40nmで作製した。消去不十分なパワー領域の測
定は、実施例1と同じ条件で行った。その結果、表2に
示すようにPRmax/PLmin=0.61であった。
Further, as a second dielectric layer, A is formed on the film.
A SiN film having a film thickness of 10 nm was formed by a sputtering method using Si as a target in an r, N 2 mixed gas atmosphere. Finally, as a reflective layer, an Al target is used on the film in an Ar gas atmosphere by a sputtering method,
It was manufactured with a film thickness of 40 nm. The power region where erasure was insufficient was measured under the same conditions as in Example 1. As a result, as shown in Table 2, P Rmax / P Lmin = 0.61.

【0045】[比較例2]第一の磁性層として、Tb,
Fe,Coの3個のターゲットを用いて、スパッタAr
ガス圧0.59Paの雰囲気中で、膜組成Tb17.5Fe
76.5Co6 、膜厚25nmのメモリ層を形成した。メモ
リ層のキュリー温度は165℃である。その他は実施例
2と全く同様の構成の光磁気記録媒体であり実施例1と
同じ条件で消去不十分なパワー領域の測定を行った。表
2に示すようにPRmax/PLmin=0.52であった。
[Comparative Example 2] As the first magnetic layer, Tb,
Sputtering Ar using three targets of Fe and Co
Film composition Tb 17.5 Fe in an atmosphere with a gas pressure of 0.59 Pa
A memory layer having a thickness of 76.5 Co 6 and a film thickness of 25 nm was formed. The Curie temperature of the memory layer is 165 ° C. Other than that, the magneto-optical recording medium having the same structure as in Example 2 was used. Under the same conditions as in Example 1, the power region where erasure was insufficient was measured. As shown in Table 2, P Rmax / P Lmin = 0.52.

【0046】[0046]

【表2】 表2に示す結果から、本発明の実施例2は比較例2に比
してPRmax/PLminの値が1に近く、消去不十分なパワ
ー領域が圧縮されており、良好な特性を示していること
が分かる。本発明の実施例2、及び、比較例2のメモリ
層の保磁力エネルギーの温度特性を図10に示す。実施
例2の方が比較例2のメモリ層の保磁力エネルギーの温
度に対する変化が高温側で急俊であることが分かる。ま
た、本発明の実施例2、及び比較例2におけるメモリ層
と書き込み層間に生じる界面磁壁エネルギーの温度特性
は図11のようになる。
[Table 2] From the results shown in Table 2, Example 2 of the present invention has a value of P Rmax / P Lmin close to 1 as compared with Comparative Example 2, and the power region in which erasure is insufficient is compressed, showing good characteristics. I understand that. FIG. 10 shows temperature characteristics of coercive force energy of the memory layers of Example 2 of the present invention and Comparative Example 2. It can be seen that in Example 2, the change in coercive force energy of the memory layer of Comparative Example 2 with respect to temperature is more rapid on the high temperature side. Further, the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy generated between the memory layer and the write layer in Example 2 of the present invention and Comparative Example 2 are as shown in FIG.

【0047】界面磁壁エネルギーの温度特性に関して
は、実施例2と比較例2との間で差は見られなかった。
以上の保磁力エネルギー、及び界面磁壁エネルギーの温
度特性とPRmax/PLminの動特性の結果から、補償温度
が室温よりも高温側にある消去温度付近であるメモリ層
を有する媒体ほど、保磁力エネルギーの温度に対する変
化が消去温度付近で急俊となり、PRmax/PLminの値は
1に近づき、消去不十分な領域が縮小されていることが
分かる。
Regarding the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy, no difference was observed between Example 2 and Comparative Example 2.
From the above results of the coercive force energy, the temperature characteristics of the interfacial domain wall energy, and the dynamic characteristics of P Rmax / P Lmin , the coercive force of a medium having a memory layer whose compensation temperature is higher than room temperature and near the erase temperature is higher. It can be seen that the change of energy with respect to temperature becomes sharp near the erasing temperature, the value of P Rmax / P Lmin approaches 1, and the insufficient erasing area is reduced.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、交換結合膜
による光変調オーバーライト可能な光磁気記録媒体にお
いて、メモリ層の補償温度が、レーザー照射による媒体
の加熱により書き込み層の情報がメモリ層に転写される
温度(消去温度)と略同一になるようにしてメモリ層を
選択し、構成せしめることにより、消去温度のばらつき
を小さくし、消去不十分なパワー領域を圧縮し、PL
ージンを拡張して、記録パワーPH を低減することが可
能になる。
As described above in detail, in the magneto-optical recording medium capable of optical modulation overwriting by the exchange coupling film, the compensation temperature of the memory layer is the information of the writing layer due to the heating of the medium by the laser irradiation. By selecting and configuring the memory layer so that the temperature is almost the same as the temperature transferred to the memory (erasing temperature), the variation in the erasing temperature is reduced, the power region where erasure is insufficient is compressed, and the P L margin is reduced. It becomes possible to expand and reduce the recording power P H.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における光磁気記録媒体の基本構成を示
す模式断面図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図2】光変調オーバーライト方式光磁気記録媒体の一
般的な光感度特性を示す概略説明図。
FIG. 2 is a schematic explanatory view showing general photosensitivity characteristics of a light modulation overwrite type magneto-optical recording medium.

【図3】記録、及び消去不十分な領域に関する概略説明
図。
FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of an area where recording and erasing are insufficient.

【図4】界面磁壁を示す概略説明図。FIG. 4 is a schematic explanatory view showing an interface domain wall.

【図5】光変調オーバーライト方式光磁気記録媒体にお
ける消去原理説明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram of an erasing principle in an optical modulation overwrite type magneto-optical recording medium.

【図6】消去不十分な領域と磁気特性との相関を示す概
略説明図。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing a correlation between an insufficiently erased region and magnetic characteristics.

【図7】消去温度のばらつきと磁気特性との相関を示す
概略説明図。
FIG. 7 is a schematic explanatory diagram showing a correlation between variations in erase temperature and magnetic characteristics.

【図8】実施例1、比較例1に用いた光磁気記録媒体を
示す構成説明図。
FIG. 8 is a structural explanatory view showing a magneto-optical recording medium used in Example 1 and Comparative Example 1.

【図9】実施例2、比較例2に用いた光磁気記録媒体を
示す構成説明図。
9 is a structural explanatory view showing a magneto-optical recording medium used in Example 2 and Comparative Example 2. FIG.

【図10】実施例、比較例におけるメモリ層の保磁力エ
ネルギーの温度特性を示すグラフ図。
FIG. 10 is a graph showing the temperature characteristics of coercive force energy of memory layers in Examples and Comparative Examples.

【図11】実施例、比較例におけるメモリ層と書き込み
層間の界面磁壁エネルギーの温度特性を示すグラフ図。
FIG. 11 is a graph showing temperature characteristics of interfacial domain wall energy between the memory layer and the write layer in the example and the comparative example.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フェリ磁性を示し、相対的に室温におい
て高い保磁力及び低いキュリー温度を示す第一の垂直磁
化膜からなるメモリ層と、相対的に室温において低い保
持力及び高いキュリー温度を示す第二の垂直磁化膜から
なる書き込み層の少なくとも二層構造を有する交換結合
膜において、前記メモリ層の補償温度がレーザー照射に
よる媒体の加熱により書き込み層の情報がメモリ層に転
写される温度(消去温度)と略同一になるようにしてな
ることを特徴とする光磁気記録媒体。
1. A memory layer composed of a first perpendicularly magnetized film which exhibits ferrimagnetism and has a high coercive force and a low Curie temperature at room temperature, and a low coercive force and a high Curie temperature at room temperature. In an exchange coupling film having at least a two-layer structure of a writing layer made of a second perpendicular magnetization film, the compensation temperature of the memory layer is a temperature at which information of the writing layer is transferred to the memory layer by heating the medium by laser irradiation (erasing). The magneto-optical recording medium is characterized in that the temperature is substantially the same as the temperature.
【請求項2】 フェリ磁性を示し、情報ビットの保存が
可能な第一の垂直磁化膜からなるメモリ層と、該メモリ
層よりも高いキュリー温度を有し、情報ビットの書き込
みが可能な第二の垂直磁化膜からなる書き込み層と、該
メモリ層のキュリー温度よりも低く室温よりも高いキュ
リー温度を有する第三の磁性膜からなるスイッチ層と、
該書き込み層よりも高いキュリー温度を有する第四の垂
直磁化膜からなる初期化層との少なくとも4層構造を有
する交換結合膜において、前記メモリ層の補償温度がレ
ーザー照射による媒体の加熱により書き込み層の情報が
メモリ層に転写される温度(消去温度)と略同一になる
ようにしてなることを特徴とする光磁気記録媒体。
2. A memory layer which exhibits ferrimagnetism and is composed of a first perpendicular magnetization film capable of storing information bits, and a second memory layer having a Curie temperature higher than that of the memory layer and capable of writing information bits. A write layer made of a perpendicularly magnetized film, and a switch layer made of a third magnetic film having a Curie temperature lower than the Curie temperature of the memory layer and higher than room temperature,
In an exchange coupling film having at least a four-layer structure with an initialization layer composed of a fourth perpendicularly magnetized film having a Curie temperature higher than that of the writing layer, the writing layer is obtained by heating the medium by compensation of the memory layer with laser irradiation. A magnetic-optical recording medium, characterized in that the temperature is substantially the same as the temperature (erasing temperature) at which the information is transferred to the memory layer.
【請求項3】 前記メモリ層の補償温度(Tcomp.
が、30〜180℃の範囲にあることを特徴とする、請
求項1又は2記載の光磁気記録媒体。
3. The compensation temperature (T comp. ) Of the memory layer
Is in the range of 30 to 180 ° C. 3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項4】 前記メモリ層の組成が、組成式Tbx
100-x-y Coy からなり、且つ20≦x≦26(at
%),2≦y≦12(at%)であることを特徴とす
る、請求項1又は2記載の光磁気記録媒体。
4. The composition of the memory layer has a composition formula Tb x F.
e 100-xy Co y , and 20 ≦ x ≦ 26 (at
%), 2 ≦ y ≦ 12 (at%), The magneto-optical recording medium according to claim 1 or 2, characterized in that
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008269789A (en) * 2008-08-12 2008-11-06 Hitachi Ltd Thermomagnetic recording medium

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