JPH09274716A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents
Magnetic recording medium and its productionInfo
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- JPH09274716A JPH09274716A JP8116096A JP8116096A JPH09274716A JP H09274716 A JPH09274716 A JP H09274716A JP 8116096 A JP8116096 A JP 8116096A JP 8116096 A JP8116096 A JP 8116096A JP H09274716 A JPH09274716 A JP H09274716A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
する。[0001] The present invention relates to a magnetic recording medium.
【0002】[0002]
【発明が解決しようとする課題】磁気テープなどの磁気
記録媒体においては、高密度記録化の要請から、支持体
上に設けられる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗
布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜
型のものが提案されている。すなわち、無電解メッキな
どの湿式メッキ手段、真空蒸着、スパッタリングあるい
はイオンプレーティングなどの乾式メッキ手段により磁
性膜を形成した磁気記録媒体が提案されている。そし
て、この種の磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高く、
高密度記録に適したものである。尚、磁性膜の材料とし
ては、例えばCo,Co−Ni合金などのCo系材料が
有る。In a magnetic recording medium such as a magnetic tape, a magnetic layer provided on a support is not a coating type using a binder resin, but a binder. A metal thin film type using no resin has been proposed. That is, a magnetic recording medium in which a magnetic film is formed by wet plating such as electroless plating or dry plating such as vacuum deposition, sputtering or ion plating has been proposed. And this kind of magnetic recording medium has a high packing density of a magnetic material,
This is suitable for high-density recording. Incidentally, examples of the material of the magnetic film include Co-based materials such as Co and Co—Ni alloys.
【0003】しかし、金属薄膜型の磁性膜は耐蝕性に劣
る。この為、表面酸化が行われている。例えば、Coを
主体とする磁性薄膜を有し、該磁性薄膜の少なくとも表
面部にCo3 O4 が存在する磁気記録媒体が提案(特開
昭60−160027号公報)されている。又、磁性膜
の表面近傍を除き、支持体から遠ざかるにつれて磁性膜
中の酸素原子量が漸増する磁気記録媒体が提案(特開昭
58−83327号公報)されている。又、磁性薄膜の
表面からその近傍では磁性金属の酸化物結晶が形成さ
れ、該層の膜厚方向に連続して、前記金属および金属酸
化物が混在している層が形成され、該混在している層で
は各膜厚深さにおいて金属および金属酸化物を形成する
全金属原子に対する酸化物形成金属原子の割合αが磁性
薄膜の表面から膜厚方向に連続的に減少している磁気記
録媒体が提案(特開昭60−171622号公報)され
ている。又、Co系合金と酸素よりなる磁性薄膜を有
し、前記薄膜の厚み方向に対し磁性薄膜表面部に最も酸
素の多い部分を設けると共に、前記薄膜の表面部と支持
体と接触する面との間に酸素の成分比が高くなる部分を
設けた磁気記録媒体が提案(特公平5−3048号公
報)されている。However, the metal thin film type magnetic film is inferior in corrosion resistance. For this reason, surface oxidation is performed. For example, a magnetic recording medium having a magnetic thin film containing Co as a main component and Co 3 O 4 being present on at least the surface portion of the magnetic thin film has been proposed (JP-A-60-160027). Further, a magnetic recording medium has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 58-83327) in which the amount of oxygen atoms in the magnetic film gradually increases as the distance from the support is increased, except in the vicinity of the surface of the magnetic film. In addition, an oxide crystal of a magnetic metal is formed in the vicinity of the surface of the magnetic thin film, and a layer in which the metal and the metal oxide are mixed is formed continuously in the film thickness direction of the layer. In the layer, the magnetic recording medium in which the ratio α of the metal atoms forming the oxide to the total metal atoms forming the metal and the metal oxide is continuously decreased in the film thickness direction from the surface of the magnetic thin film at each film thickness depth Has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 60-171622). Further, it has a magnetic thin film composed of a Co-based alloy and oxygen, and a portion having the largest amount of oxygen is provided on the magnetic thin film surface portion in the thickness direction of the thin film, and the surface portion of the thin film and the surface in contact with the support are A magnetic recording medium has been proposed (Japanese Patent Publication No. 5-3048) in which a portion having a high oxygen component ratio is provided.
【0004】上記提案の磁気記録媒体は耐蝕性の向上が
謳われている。しかし、磁気記録媒体として必要な条件
は、耐蝕性のみでなく、ヘッドタッチ、即ち記録再生特
性も良いことが必要不可欠である。そして、上記提案の
ものは、ヘッドタッチが充分なものでない。従って、本
発明が解決しようとする課題は、耐蝕性、及びヘッドタ
ッチ(記録再生特性)に優れた磁気記録媒体を提供する
ことである。The proposed magnetic recording medium is said to have improved corrosion resistance. However, not only the corrosion resistance but also the head touch, that is, the recording / reproducing characteristics are essential conditions required for the magnetic recording medium. The above-mentioned proposal does not have sufficient head touch. Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a magnetic recording medium excellent in corrosion resistance and head touch (recording / reproducing characteristics).
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】前記本発明の課題は、支
持体上に金属薄膜型の磁性膜が設けられてなる磁気記録
媒体であって、前記磁性膜中にCo2 O3 が存在するこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって解決される。The object of the present invention is a magnetic recording medium comprising a metal thin film type magnetic film provided on a support, wherein Co 2 O 3 is present in the magnetic film. This is solved by a magnetic recording medium characterized by the above.
【0006】特に、支持体上に金属薄膜型の磁性膜が設
けられてなる磁気記録媒体であって、前記磁性膜中にC
o2 O3 が存在すると共に、前記磁性膜の上層部にCo
3 O 4 が存在することを特徴とする磁気記録媒体によっ
て解決される。尚、上記の磁気記録媒体において、Co
2 O3 は磁性膜の上層部以外の部分に存在するのが好ま
しい。特に、磁性膜の下層部に主として存在するものが
好ましい。そして、磁性膜中におけるCo2 O3 の割合
が4〜50%であるものが好ましい。より具体的には、
全磁性膜中におけるCo2 O3 の割合が5〜15%であ
り、かつ、磁性膜の厚さの7/20の深さから下面まで
の部分において全Co2O3 の50%以上が存在するも
のが好ましい。In particular, a metal thin film type magnetic film is provided on the support.
A magnetic recording medium obtained by removing C from the magnetic film.
oTwoOThreeIs present and Co is present in the upper layer of the magnetic film.
ThreeO FourA magnetic recording medium characterized by the presence of
Is resolved. In the above magnetic recording medium, Co
TwoOThreeIs preferably present in a portion other than the upper layer of the magnetic film.
New In particular, what is mainly present in the lower layer of the magnetic film
preferable. Then, Co in the magnetic filmTwoOThreeOf
Is preferably 4 to 50%. More specifically,
Co in the all-magnetic filmTwoOThreeIs 5 to 15%
And from the depth of 7/20 of the magnetic film thickness to the bottom surface
All Co in the part ofTwoOThreeMore than 50% of
Is preferred.
【0007】又、磁性膜の上面から磁性膜の厚さの1/
20の深さまでの部分におけるCo 3 O4 の割合が30
〜100%であるものが好ましい。特に、全磁性膜中に
おけるCo3 O4 の割合が10〜50%であり、かつ、
磁性膜の上面から磁性膜の厚さの1/20の深さまでの
部分におけるCo3 O4 の割合が30〜100%である
ものが好ましい。Also, from the top surface of the magnetic film,
Co in parts up to a depth of 20 ThreeOFourIs 30
What is -100% is preferable. Especially in the all-magnetic film
Co inThreeOFourIs 10 to 50%, and
From the top surface of the magnetic film to a depth of 1/20 of the thickness of the magnetic film
Co in partThreeOFourIs 30 to 100%
Are preferred.
【0008】上記Co2 O3 の結晶粒子は、その粒径が
50〜150Å、特に70〜100Åであるものが好ま
しく、又、Co3 O4 の結晶粒子は、その粒径が50〜
150Å、特に70〜100Åであるものが好ましい。
すなわち、上記のように構成させていると、Co2 O3
結晶粒子は空隙率が大きなものである為、クッション効
果を発揮することから、金属薄膜型の磁性膜の場合にあ
っては、ヘッドタッチを向上させるようになる。そし
て、磁気ヘッドに対する当たりが良いことから、例えば
再生波形が綺麗であり、再生特性が良いものとなる。The above Co 2 O 3 crystal particles preferably have a particle size of 50 to 150Å, particularly 70 to 100Å, and the Co 3 O 4 crystal particles have a particle size of 50 to 150Å.
It is preferably 150 Å, especially 70 to 100 Å.
That is, when configured as described above, Co 2 O 3
Since the crystal particles have a large porosity and exhibit a cushioning effect, the head touch is improved in the case of a metal thin film type magnetic film. Since the magnetic head hits well, the reproduced waveform is beautiful and the reproduction characteristics are good.
【0009】又、酸化によって耐蝕性も向上する。特
に、磁性膜の上層部にCo3 O4 結晶粒子が存在(従っ
て、Co2 O3 結晶粒子は磁性膜の上層部以外の部分に
主として存在)するタイプのものは、Co3 O4 が耐蝕
性に富むことから、耐蝕性も向上する。又、前記本発明
の課題は、支持体上にCo系粒子を堆積させる工程と、
支持体上にCo系粒子が堆積し始める初期段階において
冷却した酸化性ガスを供給する工程と、支持体上にCo
系粒子が堆積し終わる終期段階において加熱した酸化性
ガスを供給する工程とを具備することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法によって解決される。Also, the corrosion resistance is improved by the oxidation. In particular, in the type in which Co 3 O 4 crystal grains are present in the upper layer portion of the magnetic film (therefore, the Co 2 O 3 crystal grains are mainly present in the portion other than the upper layer portion of the magnetic film), the Co 3 O 4 is resistant to corrosion. Since it is rich in corrosion resistance, its corrosion resistance is also improved. Further, the object of the present invention is to deposit Co-based particles on a support,
A step of supplying a cooled oxidizing gas in the initial stage where Co-based particles start to deposit on the support, and
And a step of supplying a heated oxidizing gas in the final stage of the deposition of the system particles.
【0010】尚、冷却した酸化性ガスは−150〜5℃
に冷却されたものであり、加熱した酸化性ガスが80〜
200℃に加熱されたものが好ましい。そして、冷却し
た酸化性ガスの供給量は10〜500sccmであり、
加熱した酸化性ガスの供給量が10〜500sccmで
あるのが好ましい。このようにして金属薄膜型Co系磁
性膜を成膜することにより、上記特徴の磁性膜が得られ
る。The cooled oxidizing gas is -150 to 5 ° C.
The heated oxidizing gas is 80-
Those heated to 200 ° C. are preferred. And, the supply amount of the cooled oxidizing gas is 10 to 500 sccm,
The supply amount of the heated oxidizing gas is preferably 10 to 500 sccm. By thus forming the metal thin film type Co-based magnetic film, the magnetic film having the above characteristics can be obtained.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、支持体
上に金属薄膜型の磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体
であって、前記磁性膜中にCo2 O3 が存在する。特
に、支持体上に金属薄膜型の磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体であって、前記磁性膜中にCo2 O3 が存在
すると共に、前記磁性膜の上層部にCo3 O4 が存在す
る。尚、上記の磁気記録媒体において、Co2 O3 は磁
性膜の上層部以外の部分に存在する。特に、磁性膜の下
層部に主として存在する。磁性膜中におけるCo2 O3
の割合は4〜50%(特に、5〜20%)である。特
に、全磁性膜中におけるCo 2 O3 の割合が4〜50%
(特に、5〜20%)であり、かつ、磁性膜の厚さの7
/20の深さから下面までの部分において全Co2 O3
の50%以上(特に、70〜100%)が存在する。
又、磁性膜の上面から磁性膜の厚さの1/20の深さま
での部分におけるCo3 O4 の割合が30〜100%で
ある。特に、全磁性膜中におけるCo3 O4 の割合が1
0〜50%(特に、15〜30%)であり、かつ、磁性
膜の上面から磁性膜の厚さの1/20の深さまでの部分
におけるCo3 O4 の割合が30〜100%(特に、6
0〜100%)である。特に、支持体上にCo系磁性膜
が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Co系磁
性膜の上面からCo系磁性膜の厚さの1/20の深さま
での部分にあってはCo3 O 4 の割合が65〜100%
(特に、75〜100%)であり、前記Co系磁性膜の
厚さの1/20の深さから2/20の深さまでの部分に
あってはCo3 O4 の割合が50〜90%(特に、60
〜80%)であり、前記Co系磁性膜の厚さの2/20
の深さから4/20の深さまでの部分にあってはCo3
O4 の割合が30〜80%(特に、40〜55%)であ
り、前記Co系磁性膜の厚さの4/20の深さから16
/20の深さまでの部分にあっては金属Coの割合が3
0〜70%(特に、40〜60%)であり、前記Co系
磁性膜の厚さの16/20の深さから18/20の深さ
までの部分にあってはCo2 O3 の割合が30〜80%
(特に、40〜55%)であり、前記Co系磁性膜の厚
さの18/20の深さから19/20の深さまでの部分
にあってはCo2 O3 の割合が50〜90%(特に、6
0〜80%)であり、前記Co系磁性膜の厚さの19/
20の深さから下面までの部分にあってはCo2 O3 の
割合が65〜100%(特に、75〜100%)であ
り、そして全磁性膜中の金属Coの割合が46〜86%
(特に、50〜70%)、全磁性膜中のCo2 O3 の割
合が4〜50%(特に、15〜20%)、全磁性膜中の
Co3 O4 の割合が4〜50%(特に、15〜30%)
である。Co2 O3 の結晶粒子は、その粒径が50〜1
50Å、特に70〜100Åである。又、Co3 O4 の
結晶粒子は、その粒径が50〜150Å、特に70〜1
00Åである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The magnetic recording medium of the present invention comprises a support
Magnetic recording medium having a metal thin film type magnetic film provided thereon
In the magnetic film, CoTwoOThreeExists. Special
A magnetic thin film type magnetic film provided on the support.
A magnetic recording medium, wherein Co is contained in the magnetic film.TwoOThreeexist
In addition, CoThreeOFourExists
You. In the above magnetic recording medium, CoTwoOThreeIs a magnet
It exists in the part other than the upper layer part of the elastic film. Especially under the magnetic film
It is mainly present in the layer part. Co in the magnetic filmTwoOThree
Is 4 to 50% (particularly 5 to 20%). Special
In addition, Co in the all-magnetic film TwoOThreeOf 4 to 50%
(Especially 5 to 20%) and 7 times the thickness of the magnetic film.
All Co from the depth of / 20 to the bottom surfaceTwoOThree
Of 50% or more (particularly 70 to 100%) is present.
Also, from the top surface of the magnetic film to a depth of 1/20 of the thickness of the magnetic film
In the part ofThreeOFourIs 30 to 100%
is there. In particular, Co in the all-magnetic filmThreeOFourIs 1
0 to 50% (particularly 15 to 30%) and magnetic
The part from the upper surface of the film to the depth of 1/20 of the thickness of the magnetic film
At CoThreeOFourOf 30 to 100% (especially 6
0-100%). In particular, a Co-based magnetic film on the support
A magnetic recording medium comprising:
From the upper surface of the magnetic film to a depth of 1/20 of the thickness of the Co-based magnetic film
In the part ofThreeO FourOf 65 to 100%
(Especially 75 to 100%) of the Co-based magnetic film
From the depth of 1/20 of the thickness to the depth of 2/20
There is CoThreeOFourOf 50 to 90% (particularly 60%
˜80%), which is 2/20 of the thickness of the Co-based magnetic film.
From the depth of 4/20 to the depth of CoThree
OFourIs 30 to 80% (particularly 40 to 55%).
From the depth of 4/20 of the thickness of the Co-based magnetic film to 16
In the portion up to the depth of / 20, the proportion of metallic Co is 3
0 to 70% (particularly 40 to 60%), and the Co-based
Depth of 16/20 to 18/20 of magnetic film thickness
For parts up to CoTwoOThreeIs 30-80%
(Especially 40 to 55%), and the thickness of the Co-based magnetic film
From the depth of 18/20 to the depth of 19/20
Then CoTwoOThreeOf 50 to 90% (especially 6
0-80%), which is 19 / of the thickness of the Co-based magnetic film.
Co from the depth of 20 to the bottom surfaceTwoOThreeof
The ratio is 65 to 100% (particularly 75 to 100%).
And the proportion of metallic Co in the total magnetic film is 46 to 86%.
(Especially 50 to 70%), Co in the total magnetic filmTwoOThreePercent of
4 to 50% (especially 15 to 20%) in the total magnetic film
CoThreeOFourOf 4 to 50% (especially 15 to 30%)
It is. CoTwoOThreeThe crystal particles of are 50 to 1 in particle size.
It is 50Å, especially 70 to 100Å. Also, CoThreeOFourof
The crystal particles have a particle size of 50 to 150Å, especially 70 to 1
It is 00Å.
【0012】尚、本明細書において、Co2 O3 の割合
とは、断面TEM切片にプローブ径を30Åに集束して
任意の数点に照射し、得られた電子線回折像からCo2
O3の結晶と判定された点の全点に対する割合である。
Co3 O4 の割合とは、断面TEM切片にプローブ径を
30Åに集束して任意の数点に照射し、得られた電子線
回折像からCo3 O4 の結晶と判定された点の全点に対
する割合である。Coの割合とは、断面TEM切片にプ
ローブ径を30Åに集束して任意の数点に照射し、得ら
れた電子線回折像からCoの結晶と判定された点の全点
に対する割合である。[0012] In this specification, Co 2 The O 3 ratio of the cross section is irradiated to an arbitrary number points to focus the probe diameter 30Å to TEM sections, Co from the resulting electron beam diffraction image 2
It is the ratio of the points determined to be O 3 crystals to all the points.
The proportion of Co 3 O 4 means the total of all the points determined to be Co 3 O 4 crystals from the electron beam diffraction image obtained by focusing a probe diameter of 30 Å on a cross-sectional TEM slice and irradiating it at arbitrary points. It is a ratio to points. The proportion of Co is the proportion of all the points determined to be Co crystals from the electron diffraction image obtained by focusing a probe diameter of 30 Å on a cross-sectional TEM slice and irradiating it at arbitrary points.
【0013】磁気記録媒体、特に上記特徴の磁気記録媒
体は、支持体上にCo系粒子を堆積させる工程と、支持
体上にCo系粒子が堆積し始める初期段階において冷却
した酸化性ガスを供給する工程と、支持体上にCo系粒
子が堆積し終わる終期段階において加熱した酸化性ガス
を供給する工程とを具備する。冷却した酸化性ガスは−
150〜5℃に冷却されたものであり、加熱した酸化性
ガスは80〜200℃に加熱されたものである。又、冷
却した酸化性ガスの供給量は10〜500sccmであ
り、加熱した酸化性ガスの供給量は10〜500scc
mである。The magnetic recording medium, especially the magnetic recording medium having the above characteristics, is provided with a cooled oxidizing gas in the step of depositing Co-based particles on a support and in the initial stage of starting the deposition of Co-based particles on the support. And a step of supplying a heated oxidizing gas in the final stage of the deposition of Co-based particles on the support. The cooled oxidizing gas is
It was cooled to 150 to 5 ° C, and the heated oxidizing gas was heated to 80 to 200 ° C. Further, the supply amount of the cooled oxidizing gas is 10 to 500 sccm, and the supply amount of the heated oxidizing gas is 10 to 500 sccc.
m.
【0014】すなわち、図1に示す装置によって得られ
る。図1中、1は支持体、2aは支持体1の供給側ロー
ル、2bは支持体1の巻取側ロール、3は冷却キャンロ
ール、4はルツボ(容器)、5は容器4内に充填された
Co系金属材料、6は電子銃、7は遮蔽板、8は真空槽
である。尚、この蒸着装置、特に斜め蒸着装置は従来か
らも知られているから、詳細は省略する。本装置の特徴
は、ノズル9a,9bに有る。ノズル9aは、容器4内
に充填されたCo系金属材料から蒸発したCo系粒子が
冷却キャンロール3に案内される支持体1に蒸着し始め
る位置に向けて設置されており、蒸着し始めたCo系粒
子(蒸着初期のCo系蒸着膜、Co系磁性膜の下層部)
に向けて冷却された酸素ガス等の酸化性ガスが供給され
る。ノズル9bは、容器4内に充填されたCo系金属材
料から蒸発したCo系粒子が冷却キャンロール3に案内
される支持体1に蒸着し終わる位置に向けて設置されて
おり、蒸着し終わるCo系粒子(蒸着終期のCo系蒸着
膜、Co系磁性膜の上層部)に向けて加熱された酸素ガ
ス等の酸化性ガスが供給される。この装置を用いて、支
持体上にCo系粒子を堆積させると共に、支持体上にC
o系粒子が堆積し始める初期段階において冷却酸素ガス
を供給し、かつ、Co系粒子が堆積し終わる終期段階に
おいて加熱酸素ガスを供給することにより、上記した特
徴の磁気記録媒体が得られる。That is, it is obtained by the apparatus shown in FIG. In FIG. 1, 1 is a support, 2a is a supply side roll of the support 1, 2b is a winding side roll of the support 1, 3 is a cooling can roll, 4 is a crucible (container), 5 is a container 4 filled 6 is an electron gun, 7 is a shield plate, and 8 is a vacuum chamber. Since this vapor deposition apparatus, particularly the oblique vapor deposition apparatus, has been known in the past, its details are omitted. The characteristic of this device lies in the nozzles 9a and 9b. The nozzle 9a is installed toward the position where Co-based particles evaporated from the Co-based metallic material with which the container 4 is filled start vapor deposition on the support body 1 guided by the cooling can roll 3, and vapor deposition has started. Co-based particles (Co-based deposited film at the initial stage of deposition, lower layer of Co-based magnetic film)
Oxidizing gas such as oxygen gas that has been cooled toward is supplied. The nozzle 9b is installed toward the position where the Co-based particles evaporated from the Co-based metallic material filled in the container 4 are vapor-deposited on the support 1 guided by the cooling can roll 3, and the vapor deposition is completed. Oxidizing gas such as heated oxygen gas is supplied toward the system-based particles (the Co-based deposited film at the final stage of the deposition, the upper layer of the Co-based magnetic film). By using this apparatus, Co-based particles are deposited on the support, and C-based particles are deposited on the support.
The cooling oxygen gas is supplied in the initial stage where the o-based particles start to be deposited, and the heated oxygen gas is supplied in the final stage when the Co-based particles are deposited, whereby the magnetic recording medium having the above-mentioned characteristics can be obtained.
【0015】本発明における磁気記録媒体の支持体1と
しては、磁性を有するものでも、非磁性のものでも良
い。代表的なものとして、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレンビスフェノキシカルボキシレ
ート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロ
ース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の
ビニル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート等の非磁
性のプラスチック材料が挙げられる。勿論、これらに限
定されるものではない。又、各種の処理が行われること
が有る。例えば、コロナ放電、あるいはその他適宜な手
段による表面処理がなされる。又、接着性向上の為のポ
リエステルやポリウレタンあるいはオリゴマー等が塗布
されても良い。The magnetic recording medium support 1 of the present invention may be magnetic or non-magnetic. Representative examples are polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycyclohexylene dimethylene terephthalate, and polyethylene bisphenoxycarboxylate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cellulose acetate butyrate; Examples include cellulose derivatives such as cellulose acetate propionate, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, and non-magnetic plastic materials such as polyamide and polycarbonate. Of course, it is not limited to these. Also, various kinds of processing may be performed. For example, surface treatment is performed by corona discharge or other appropriate means. Further, polyester, polyurethane or oligomer for improving the adhesiveness may be applied.
【0016】この支持体1上に斜め蒸着法により金属薄
膜型の磁性膜が設けられる。尚、磁性膜は一層であって
も、二層以上であっても良い。しかし、少なくとも一層
に上記特徴の磁性膜が有る。尚、二層以上の磁性膜があ
る場合、上層側に本発明の特徴の磁性膜が有るのが好ま
しい。本発明の磁性膜を構成する材料としては、例えば
Co,Co−Ni合金、Co−Pt合金、Co−Ni−
Pt合金、Co−Ni−Fe−B合金、Co−Cr合金
等が用いられる。磁性膜は、その厚さ(平均厚さ)が6
00〜5000Åである。従って、所謂、バインダ樹脂
を用いない金属薄膜型のものである。A metal thin film type magnetic film is provided on the support 1 by an oblique deposition method. The magnetic film may have a single layer or two or more layers. However, at least one layer has the magnetic film having the above characteristics. When there are two or more magnetic films, it is preferable that the magnetic film having the characteristics of the present invention is provided on the upper layer side. Examples of the material forming the magnetic film of the present invention include Co, Co—Ni alloys, Co—Pt alloys, Co—Ni—
Pt alloy, Co-Ni-Fe-B alloy, Co-Cr alloy, etc. are used. The magnetic film has a thickness (average thickness) of 6
It is from 00 to 5000Å. Therefore, it is a so-called metal thin film type that does not use a binder resin.
【0017】斜め蒸着等で設けられた最上層の磁性膜の
上には保護膜が必要に応じて設けられる。この保護膜を
構成する材料として、例えばAl,Si,Ti,Cr,
Zr,Nb,Mo,Ta,W等の金属の酸化物、窒化
物、炭化物あるいはダイヤモンドライクカーボンやボロ
ンナイトライド等が用いられる。成膜方法としてCVD
(ケミカルベーパーデポジション)やPVD(フィジカ
ルベーパーデポジション)が用いられる。保護膜の厚さ
は10〜500Å、特に30〜200Å程度である。A protective film is optionally provided on the uppermost magnetic film provided by oblique vapor deposition or the like. As a material for forming this protective film, for example, Al, Si, Ti, Cr,
Oxides, nitrides and carbides of metals such as Zr, Nb, Mo, Ta and W, or diamond-like carbon and boron nitride are used. CVD as a film forming method
(Chemical vapor deposition) and PVD (Physical vapor deposition) are used. The thickness of the protective film is 10 to 500Å, especially 30 to 200Å.
【0018】最上層の磁性膜、保護膜が設けられた場合
には、保護膜の上に潤滑剤の膜が設けられる。例えば、
フッ素系潤滑剤の膜が浸漬あるいは超音波噴霧などの手
段により20〜70Å程度の厚さ設けられる。潤滑剤と
しては、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - (但し、RはF,C
F3 ,CH3 などの基)、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF
2) q -OCF2-COOH ,F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH と言
ったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH,HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2C
H2)n -OH ,F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHと言ったよ
うなアルコール変性パーフロオロポリエーテル、又、分
子の一方に、又は、一部にアルキル基などの飽和炭化水
素基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは芳香族炭化
水素基、その他の官能基が付いたもの等が挙げられる。
具体的には、モンテカチーニ社のFOMBLIN Z
DIACやFOMBLIN Z DOL、ダイキン工業
社のデムナムSA等がある。When the uppermost magnetic film and protective film are provided, a lubricant film is provided on the protective film. For example,
A film of a fluorinated lubricant is provided with a thickness of about 20 to 70Å by means such as dipping or ultrasonic spraying. As the lubricant, for example,-(C (R) F-CF 2 -O) p- (where R is F, C
Groups such as F 3 and CH 3 ), especially HOOC-CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF
2 ) q- OCF 2 -COOH, F- (CF 2 CF 2 CF 2 O) n -CF 2 CF 2 COOH, carboxyl group-modified perfluoropolyether, HOCH 2 -CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q -OCF 2 -CH 2 OH, HO-
(C 2 H 4 -O) m -CH 2- (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q -OCH 2- (OCH 2 C
H 2 ) n -OH, F- (CF 2 CF 2 CF 2 O) n -CF 2 CF 2 CH 2 OH, such as alcohol-modified perfluoropolyether, or one or part of the molecule Examples thereof include a saturated hydrocarbon group such as an alkyl group, an unsaturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or another functional group.
Specifically, Montecatini's FOMBLIN Z
There are DIAC, FOMBLIN Z DOL, and Demnum SA manufactured by Daikin Industries, Ltd.
【0019】支持体の他面側にはバックコート膜が設け
られる。バックコート膜を塗布により構成する場合は、
粒径10〜100nmのカーボンブラックを塩ビ系、ウ
レタン系等のバインダ樹脂中に分散させ、グラビア方
式、リバース方式あるいはダイ塗工方式等で乾燥後の厚
さが0.4〜1μmとなるよう塗布する。バックコート
膜を蒸着などのPVD手段で構成する場合は、Al−C
u合金などの金属材料を蒸発源に置き、蒸発金属粒子を
0.05〜1μmの厚さ堆積させる。そして、このよう
なバックコート膜の上には、走行性や耐久性を向上させ
る為に、トップコート層を設けても良い。A back coat film is provided on the other surface side of the support. When the back coat film is formed by coating,
Carbon black having a particle size of 10 to 100 nm is dispersed in a binder resin such as a vinyl chloride-based or urethane-based resin and applied by a gravure method, a reverse method or a die coating method so that the thickness after drying is 0.4 to 1 μm. To do. When the back coat film is formed by PVD means such as vapor deposition, Al-C
A metal material such as u alloy is placed in the evaporation source, and evaporated metal particles are deposited to a thickness of 0.05 to 1 μm. Then, a top coat layer may be provided on such a back coat film in order to improve running properties and durability.
【0020】[0020]
【実施例1】図1に示す装置を用い、−20℃の冷却キ
ャンロール3に沿って5m/minで走行する6μm厚
のPETフィルム上にCo金属粒子を蒸着させた。ノズ
ル9aから−50℃に冷却した酸素ガスが100scc
m、ノズル9bから150℃に加熱した酸素ガスが15
0sccm導入された。真空槽8内の真空度は2×10
-5Torrとなるよう排気されている。この斜め蒸着で
成膜された磁性膜は、厚さが2000Åであった。そし
て、磁性膜の断面TEM像によれば、粒径50〜90Å
の結晶粒子が観察された。プローブ径を30Åに集束し
た電子線を磁性膜の各結晶粒子に照射し、各々の電子線
回折により調べた結果を表−1に示す。Example 1 Using the apparatus shown in FIG. 1, Co metal particles were vapor-deposited on a 6 μm-thick PET film running at 5 m / min along a cooling can roll 3 at −20 ° C. 100 scc of oxygen gas cooled from the nozzle 9a to -50 ° C
oxygen gas heated to 150 ° C from the nozzle 9b is 15
0 sccm was introduced. The vacuum degree in the vacuum tank 8 is 2 × 10
Exhausted to -5 Torr. The magnetic film formed by this oblique vapor deposition had a thickness of 2000Å. According to the cross-sectional TEM image of the magnetic film, the particle size is 50 to 90Å
Were observed. Table 1 shows the results obtained by irradiating each crystal grain of the magnetic film with an electron beam focused at a probe diameter of 30Å and examining each by electron beam diffraction.
【0021】 表−1 表面からの深さ 表面(0Å) Co3 O4 Co3 O4 CoO Co3 O4 CoO 200Å CoO Co Co CoO Co3 O4 400Å CoO Co Co Co CoO 600Å CoO CoO Co Co Co 800Å Co Co Co2 O3 Co CoO 1000Å Co2 O3 Co CoO CoO Co 1200Å Co Co2 O3 Co CoO Co2 O3 1400Å CoO Co2 O3 Co Co2 O3 Co 1600Å Co2 O3 Co2 O3 Co2 O3 Co CoO 1800Å Co2 O3 CoO Co2 O3 Co2 O3 Co 2000Å(支持体との界面) 上記斜め蒸着で成膜された磁性膜の上に80Å厚のダイ
ヤモンドライクカーボン膜を設け、この上に20Å厚の
潤滑剤膜を設けた。そして、PETフィルムの反対側の
面に0.5μm厚さのバックコート膜を設け、この後8
mm幅にスリットして8mmVTR用磁気テープを得
た。Table-1 Depth from the surface Surface (0Å) Co 3 O 4 Co 3 O 4 CoO Co 3 O 4 CoO 200 Å CoO Co Co CoO Co 3 O 4 400 Å CoO Co Co Co Co CoO 600 Å CoO CoO Co Co Co 800 Å Co Co Co 2 O 3 Co CoO 1000 Å Co 2 O 3 Co CoO CoO Co 1200 1200 Å Co Co 2 O 3 Co CoO Co 2 O 3 1400 Å CoO Co 2 O 3 Co Co 2 O 3 Co 1600 Å Co 2 O 3 O 2 3 Co 2 O 3 Co CoO 1800Å Co 2 O 3 CoO Co 2 O 3 Co 2 O 3 Co 2000Å (interface with the support) 80 Å thick diamond-like carbon film on the magnetic film formed by the oblique deposition Was provided, and a lubricant film having a thickness of 20Å was provided thereon. Then, a 0.5 μm-thick back coat film is provided on the opposite surface of the PET film.
It was slit to a width of mm to obtain a magnetic tape for 8 mm VTR.
【0022】[0022]
【実施例2】実施例1において、ノズル9aから−50
℃に冷却した酸素ガスを150sccm、ノズル9bか
ら80℃に加熱した酸素ガスを100sccmとし、か
つ、磁性膜の厚さを1900Åとした以外は実施例1に
準じて行い、8mmVTR用磁気テープを得た。Second Embodiment In the first embodiment, the nozzles 9a to −50 are used.
8 mm magnetic tape for VTR was obtained in the same manner as in Example 1 except that the oxygen gas cooled to ℃ was 150 sccm, the oxygen gas heated to 80 ° C. from the nozzle 9b was 100 sccm, and the thickness of the magnetic film was 1900 Å. It was
【0023】[0023]
【実施例3】実施例1において、ノズル9aから−10
0℃に冷却した酸素ガスを50sccm、ノズル9bか
ら150℃に加熱した酸素ガスを50sccmとした以
外は実施例1に準じて行い、8mmVTR用磁気テープ
を得た。Third Embodiment In the first embodiment, the nozzles 9a to -10 are used.
An 8 mm magnetic tape for VTR was obtained in the same manner as in Example 1 except that the oxygen gas cooled to 0 ° C. was 50 sccm and the oxygen gas heated to 150 ° C. from the nozzle 9b was 50 sccm.
【0024】[0024]
【比較例1】実施例1において、ノズル9aから酸素ガ
スを導入せず、ノズル9bから20℃の酸素ガスを10
0sccm導入した以外は実施例1に準じて行い、8m
mVTR用磁気テープを得た。Comparative Example 1 In Example 1, no oxygen gas was introduced from the nozzle 9a, and oxygen gas at 20 ° C.
8 m was carried out according to Example 1 except that 0 sccm was introduced.
A magnetic tape for mVTR was obtained.
【0025】[0025]
【比較例2】実施例1において、ノズル9aから酸素ガ
スを導入せず、ノズル9bから150℃の酸素ガスを1
00sccm導入した以外は実施例1に準じて行い、8
mmVTR用磁気テープを得た。Comparative Example 2 In Example 1, no oxygen gas was introduced from the nozzle 9a, and oxygen gas at 150 ° C.
The procedure was carried out in the same manner as in Example 1 except that the introduction of 00 sccm was performed.
A magnetic tape for mmVTR was obtained.
【0026】[0026]
【特性】上記各例で得た8mmVTR用磁気テープにつ
いて、アドバンテスト社のTR4171型スペクトルア
ナライザを用い、RBW(Resolution Band Width) =1
0kHz,VBW(Video Band Width)=30kHz,周
波数スパン=0MHz,スイープタイム=40ms,平
均回数=16回の条件でエンベロープの測定を行い、前
欠け(出力変動)の程度を求め、これによりヘッドタッ
チを調べたので、その結果を表−2に示す。又、耐蝕性
(60℃,90%RHの環境下に1カ月放置した際の、
Bsの保持率(%)で表示)を調べたので、その結果も
表−2に示す。[Characteristics] For the magnetic tape for 8 mm VTR obtained in each of the above examples, RBW (Resolution Band Width) = 1 using a TR4171 type spectrum analyzer manufactured by Advantest.
Envelope measurement is performed under the conditions of 0 kHz, VBW (Video Band Width) = 30 kHz, frequency span = 0 MHz, sweep time = 40 ms, and average number = 16 times, and the degree of front chipping (output fluctuation) is calculated. The results are shown in Table 2. Also, corrosion resistance (when left for 1 month in an environment of 60 ° C, 90% RH,
The Bs retention rate (%) was examined), and the results are also shown in Table 2.
【0027】又、電子線回折によるCo2 O3 結晶粒
子、Co3 O4 結晶粒子、及びCo結晶粒子の割合を表
−3,4,5に示す。 表−2 磁性膜の厚さ(Å) ヘツドタッチ(%) 耐蝕性(%) 実施例1 2000 10 95 実施例2 1900 15 93 実施例3 2000 15 93 比較例1 2000 40 81 比較例2 1800 45 75 表−3 Co2 O3 結晶粒子の割合(%) A領域 B領域 C領域 D領域 E領域 F領域 G領域 H領域 I領域 実施例1 0 0 0 0 20 40 60 60 60 実施例2 0 0 0 0 30 50 60 60 70 実施例3 0 0 0 0 0 0 30 50 80 比較例1 0 0 0 0 0 0 0 0 0 比較例2 0 0 0 0 0 0 0 0 0 表−4 Co3 O4 結晶粒子の割合(%) A領域 B領域 C領域 D領域 E領域 F領域 G領域 H領域 I領域 実施例1 60 60 20 0 0 0 0 0 0 実施例2 50 40 10 0 0 0 0 0 0 実施例3 60 20 0 0 0 0 0 0 0 比較例1 10 0 0 0 0 0 0 0 0 比較例2 60 50 20 0 0 0 0 0 0 表−5 Co結晶粒子の割合(%) A領域 B領域 C領域 D領域 E領域 F領域 G領域 H領域 I領域 実施例1 40 40 40 60 50 40 20 20 20 実施例2 50 60 50 50 40 40 20 20 20 実施例3 40 50 60 70 70 70 60 40 20 比較例1 40 50 60 70 70 60 70 50 50 比較例2 30 40 70 80 80 80 80 70 70 表−3〜表−5中、A領域は磁性膜の表面(上面)から
磁性膜の厚さの1/20の深さまでの部分、B領域は磁
性膜の厚さの1/20の深さから2/20の深さまでの
部分、C領域は磁性膜の厚さの2/20の深さから4/
20の深さまでの部分、D領域は磁性膜の厚さの4/2
0の深さから6/20の深さまでの部分、E領域は磁性
膜の厚さの6/20の深さから14/20の深さまでの
部分、F領域は磁性膜の厚さの14/20の深さから1
6/20の深さまでの部分、G領域は磁性膜の厚さの1
6/20の深さから18/20の深さまでの部分、H領
域は磁性膜の厚さの18/20の深さから19/20の
深さまでの部分、I領域は磁性膜の厚さの19/20の
深さから20/20の深さ(磁性膜と支持体との界面
(下面))までの部分である。The proportions of Co 2 O 3 crystal particles, Co 3 O 4 crystal particles and Co crystal particles by electron diffraction are shown in Tables 3, 4 and 5. Table-2 Thickness of magnetic film (Å) Head touch (%) Corrosion resistance (%) Example 1 2000 10 95 Example 2 1900 15 93 Example 3 2000 15 93 Comparative Example 1 2000 40 81 Comparative Example 2 1800 45 75 Table-3 Proportion (%) of Co 2 O 3 crystal particles A region B region C region D region E region F region G region H region I region Example 1 0 0 0 0 20 20 40 60 60 60 60 Example 2 0 0 0 0 30 50 60 60 60 70 Example 3 0 0 0 0 0 0 0 30 30 50 80 Comparative Example 1 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Comparative Example 2 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Table-4 Co 3 O 4 Crystal Particle ratio (%) A region B region C region D region E region F region G region H region I region Example 1 60 60 20 20 0 0 0 0 0 0 Example 2 50 50 40 10 0 0 0 0 0 0 0 Example 3 60 20 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Comparison Example 1 10 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Comparative Example 2 60 50 20 20 0 0 0 0 0 0 Table-5 Ratio of Co crystal grains (%) A region B region C region D region E region F region G region H region I region Example 1 40 40 40 60 60 50 40 20 20 20 20 Example 2 50 60 50 50 50 40 40 20 20 20 20 Example 3 40 50 60 60 70 70 70 70 60 40 20 Comparative example 1 40 50 60 70 70 70 60 70 50 50 Comparative Example 2 30 40 70 80 80 80 80 80 70 70 In Tables 3 to 5, in the area A, the area from the surface (upper surface) of the magnetic film to the depth of 1/20 of the thickness of the magnetic film, and the area B is The portion from the depth of 1/20 of the thickness of the magnetic film to the depth of 2/20, the C region is from the depth of 2/20 of the thickness of the magnetic film to 4 /
The area up to the depth of 20 and the area D is 4/2 of the thickness of the magnetic film.
The area from 0 to 6/20, the E area from 6/20 to 14/20 of the magnetic film thickness, and the F area from 14/14 of the magnetic film thickness. 1 from 20 depths
The portion up to the depth of 6/20, the G region is 1 of the thickness of the magnetic film.
The portion from the depth of 6/20 to the depth of 18/20, the H region is the portion from the depth of 18/20 to the depth of 19/20 of the magnetic film, and the I region is the thickness of the magnetic film. It is a portion from a depth of 19/20 to a depth of 20/20 (interface (lower surface) between the magnetic film and the support).
【0028】合計値が100にならない場合が有るの
は、CoOが有るからによる。この結果から、本発明に
なるものは、ヘッドタッチに優れ、再生特性が良く、か
つ、耐蝕性に優れていることが判る。The total value may not be 100 in some cases because CoO exists. From this result, it is understood that the one according to the present invention is excellent in head touch, has good reproduction characteristics, and has excellent corrosion resistance.
【0029】[0029]
【発明の効果】ヘッドタッチに優れ、再生特性が良く、
かつ、耐蝕性に優れた磁気記録媒体が得られる。The head touch is excellent, the reproduction characteristics are good,
Moreover, a magnetic recording medium having excellent corrosion resistance can be obtained.
【図1】本発明の磁気記録媒体の製造装置の概略図FIG. 1 is a schematic view of an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.
1 支持体 3 冷却キャンロール 5 Co系金属材料 6 電子銃 8 真空槽 9a,9b 酸素ガス供給ノズル 1 Support 3 Cooling Can Roll 5 Co-Based Metal Material 6 Electron Gun 8 Vacuum Tank 9a, 9b Oxygen Gas Supply Nozzle
Claims (9)
れてなる磁気記録媒体であって、 前記磁性膜中にCo2 O3 が存在することを特徴とする
磁気記録媒体。1. A magnetic recording medium in which a metal thin film type magnetic film is provided on a support, wherein Co 2 O 3 is present in the magnetic film.
れてなる磁気記録媒体であって、 前記磁性膜中にCo2 O3 が存在すると共に、前記磁性
膜の上層部にCo3 O 4 が存在することを特徴とする磁
気記録媒体。2. A metal thin film type magnetic film is provided on a support.
A magnetic recording medium comprising:TwoOThreeWith the presence of the magnetic
Co on the upper layer of the filmThreeO FourMagnetism characterized by the presence of
Mind recording medium.
に存在することを特徴とする請求項1又は請求項2の磁
気記録媒体。3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein Co 2 O 3 is present in a portion other than the upper layer portion of the magnetic film.
存在することを特徴とする請求項1〜請求項3いずれか
の磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein Co 2 O 3 is mainly present in the lower layer portion of the magnetic film.
〜50%であることを特徴とする請求項1〜請求項4い
ずれかの磁気記録媒体。5. The ratio of Co 2 O 3 in the magnetic film is 4
It is -50%, The magnetic recording medium in any one of Claims 1-4.
0の深さまでの部分におけるCo3 O4 の割合が30〜
100%であることを特徴とする請求項2の磁気記録媒
体。6. A half of the thickness of the magnetic film from the upper surface of the magnetic film.
The proportion of Co 3 O 4 in the portion up to the depth of 0 is 30 to
The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the magnetic recording medium is 100%.
と、 支持体上にCo系粒子が堆積し始める初期段階において
冷却した酸化性ガスを供給する工程と、 支持体上にCo系粒子が堆積し終わる終期段階において
加熱した酸化性ガスを供給する工程とを具備することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。7. A step of depositing Co-based particles on a support, a step of supplying an oxidizing gas cooled in an initial stage where Co-based particles start to be deposited on the support, and Co-based particles on the support. And a step of supplying a heated oxidizing gas in the final stage of the end of the deposition of the magnetic recording medium.
冷却されたものであり、加熱した酸化性ガスが80〜2
00℃に加熱されたものであることを特徴とする請求項
7の磁気記録媒体の製造方法。8. The cooled oxidizing gas is cooled to −150 to 5 ° C., and the heated oxidizing gas is 80 to 2
The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 7, wherein the magnetic recording medium is heated to 00 ° C.
00sccmであり、加熱した酸化性ガスの供給量が1
0〜500sccmであることを特徴とする請求項7又
は請求項8の磁気記録媒体の製造方法。9. The supply amount of the cooled oxidizing gas is 10 to 5
00 sccm, and the amount of heated oxidizing gas supplied is 1
9. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 7, wherein the magnetic recording medium has a size of 0 to 500 sccm.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8116096A JPH09274716A (en) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | Magnetic recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|
JPH09274716A true JPH09274716A (en) | 1997-10-21 |
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JP (1) | JPH09274716A (en) |
-
1996
- 1996-04-03 JP JP8116096A patent/JPH09274716A/en active Pending
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