JPH09270437A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

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JPH09270437A
JPH09270437A JP31675896A JP31675896A JPH09270437A JP H09270437 A JPH09270437 A JP H09270437A JP 31675896 A JP31675896 A JP 31675896A JP 31675896 A JP31675896 A JP 31675896A JP H09270437 A JPH09270437 A JP H09270437A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to execute sealing of semiconductor for a long time by injection molding using epoxy resin sealing material. SOLUTION: The method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of fixedly inserting the lead frame connected with a semiconductor element and wire bonded with it or the lead connected with the element into an injection mold, injection charging epoxy resin sealing material in the mold by an injection molding machine, and curing it. In this case, the injecting pressure of the machine is set to 30 to 300kg/cm<2> of the maximum pressure at the time point of injecting the material to charge 80 to 95% of the injection amount, and then the residual material is injected to be charged at 20 to 100kg/cm<2> .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂封止
材料を用い射出成形することにより樹脂封止された半導
体装置を製造する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a resin-sealed semiconductor device by injection molding using an epoxy resin sealing material.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC、LSI等の半導体素子の封止に
は、エポキシ樹脂封止材料のトランスファ成形が、低コ
スト、高信頼性及び生産性に適した方法として従来より
用いられている。トランスファ成形では、エポキシ樹脂
封止材料をタブレット形状に賦形してから、金型内のポ
ットに投入し、加熱溶融させながらブランジャーで加圧
することにより金型キャビティに移送し、硬化させるの
が一般的である。
2. Description of the Related Art Transfer molding of an epoxy resin encapsulating material has been conventionally used as a method suitable for low cost, high reliability and productivity for encapsulating semiconductor elements such as IC and LSI. In transfer molding, after the epoxy resin encapsulation material is shaped into a tablet shape, it is put into a pot inside the mold, heated and melted, and then transferred to the mold cavity by pressing with a blanker and cured. It is common.

【0003】しかしながら、この成形方法ではエポキシ
樹脂封止材料をタブレット状に賦形することが前提とな
るために、賦形の工程が必要である。成形された半導体
装置の形状・大きさによりタブレット形状は種々異なる
ので、賦形のための金型装置も多く必要である。また成
形毎にタブレットの投入と熱溶融が必要であるため成形
サイクルを一定時間以下に短縮できない等の点で低コス
ト化、大量生産性に限界があり、賦形等の前工程のた
め、封止材料に不純物混入の恐れも多い。更に、トラン
スファ成形においてはポットに投入された封止材料が金
型内を流動しキャビティ内に到達する迄の流路であるラ
ンナー部や、ポット内で残りのカル部が完全に硬化して
しまうため、再利用が不可能であり、必要とする半導体
パッケージ部以外に多量の樹脂廃棄物を生成してしまう
という問題がある。
[0003] However, in this molding method, it is premised that the epoxy resin sealing material is shaped into a tablet, so that a shaping step is required. Since the shape of the tablet varies depending on the shape and size of the molded semiconductor device, many mold devices for shaping are required. In addition, since tablet injection and heat melting are required for each molding, the molding cycle cannot be shortened to a certain time or less.Therefore, cost reduction and mass productivity are limited. There is also a risk that impurities may be mixed into the stop material. Furthermore, in the transfer molding, the runner part which is a flow path until the sealing material put into the pot flows in the mold and reaches the cavity, and the remaining cull part in the pot are completely cured. Therefore, there is a problem that reuse is impossible and a large amount of resin waste is generated in a part other than a necessary semiconductor package part.

【0004】一方、エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂成
形材料の成形として、射出成形方式の検討が従来より行
われてきた。射出成形においては、エポキシ樹脂封入材
料は射出成形機内に粉末状又は顆粒状にて供給され、シ
リンダー内で溶融状態を保ったままスクリューにより金
型に射出される。このため、タブレット形状に賦形する
工程が不要で、また連続生産が可能であり、賦形のため
の装置・時間を省略することができる。更に加熱溶融状
態となった成形材料が金型に射出されるために硬化時間
がトランスファ成形に比べ短縮できる等大量生産に適し
た方法である。
On the other hand, as a molding of a thermosetting resin molding material containing an epoxy resin, an injection molding method has been conventionally studied. In injection molding, the epoxy resin encapsulating material is supplied into the injection molding machine in the form of powder or granules, and is injected into the mold by the screw while maintaining the molten state in the cylinder. For this reason, the step of shaping into a tablet shape is unnecessary, continuous production is possible, and the equipment and time for shaping can be omitted. Further, since the molding material in a heat-melted state is injected into the mold, the curing time can be shortened as compared with transfer molding, which is a method suitable for mass production.

【0005】しかしながら、エポキシ樹脂封止材料の成
形方法として射出成形は実用化されていないのが現状で
ある。その理由としては、従来のエポキシ樹脂封止材料
は70〜110℃に加熱されたシリンダー内での溶融状
態では、封止材料中の樹脂の硬化反応の進行によって粘
度が増大し、5〜10分間で流動性を失う性質を有して
おり、溶融封止材料の熱安定性が著しく低いためであ
る。このため、低圧での射出成形は不可能であり、高圧
での成形を必要とし、その結果半導体素子上のボンデイ
ングワイヤの変形もしくは切断、あるいはダイオード等
では内部素子への加圧による電気性能の低下等、得られ
た半導体パツケージの信頼性を著しく損なう結果となる
と考えられていた。
However, at present, injection molding has not been put to practical use as a method for molding an epoxy resin sealing material. The reason is that the viscosity of the conventional epoxy resin sealing material increases in the molten state in a cylinder heated to 70 to 110 ° C. due to the progress of the curing reaction of the resin in the sealing material, and the viscosity increases for 5 to 10 minutes. This is because they have a property of losing fluidity, and the thermal stability of the fusion sealing material is extremely low. For this reason, injection molding at a low pressure is impossible, and molding at a high pressure is required. As a result, deformation or cutting of a bonding wire on a semiconductor element, or deterioration of electric performance due to pressurization of an internal element in a diode or the like, is caused. It has been considered that the reliability of the obtained semiconductor package is significantly impaired.

【0006】また、金型の掃除等のための成形を一定時
間中断する場合には、エポキシ樹脂封止材料はシリンダ
ー内で硬化し、再度の射出が不可能となるため、連続生
産にも支障をきたしてしまうという問題点も指摘されて
いた。
Further, when molding for cleaning the mold is interrupted for a certain period of time, the epoxy resin sealing material hardens in the cylinder and cannot be injected again, which hinders continuous production. It was pointed out that the problem could occur.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来からの
トランスファ成形方法でも成形可能であるエポキシ樹脂
封止材料を使用し、射出成形により封止された半導体装
置を製造する方法において、射出圧力を特定の範囲に制
御することにより長時間の連続成形が可能であり、効率
のよい大量生産が可能な封止方法を提供するものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device sealed by injection molding using an epoxy resin sealing material that can be molded by a conventional transfer molding method. It is possible to perform continuous molding for a long time by controlling the temperature within a specific range, and to provide a sealing method capable of efficient mass production.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、半導体
素子が接合されワイヤボンディングされたリードフレー
ム、又は半導体素子が接合されたリード線を、射出成形
金型にインサートとして固定し、前記金型にエポキシ樹
脂封止材料を射出成形機により射出充填し、硬化させる
ことにより樹脂封止された半導体装置を製造する方法で
あって、射出成形機の射出圧力を、エポキシ樹脂封止材
料を射出量の80〜95%射出充填した時点で最大圧力
30〜300kg/cm2 とし、続いて20〜100k
g/cm2 にて残りの封止材料を射出充填することを特
徴とする半導体装置の製造方法、である。
The gist of the present invention is to fix a lead frame, to which a semiconductor element is joined and wire-bonded, or a lead wire, to which a semiconductor element is joined, to an injection molding die as an insert. A method for producing a resin-encapsulated semiconductor device by injection-filling a mold with an epoxy resin encapsulating material by an injection molding machine, and curing the injection molding machine by injecting the epoxy resin encapsulating material. The maximum pressure is 30 to 300 kg / cm 2 at the time of injection filling of 80 to 95% of the amount, followed by 20 to 100 k
A method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that the remaining sealing material is injected and filled at g / cm 2 .

【0009】本発明において使用されるエポキシ樹脂封
止材料は、通常エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無
機質充填材を必須成分として含有するもので、その形状
は粉末又は顆粒状のものであり、トランスファ成形の場
合のようにタブレットにする必要がない。そして、射出
成形機のシリンダー内での熱安定性の良好なもの、及び
キャビティ内で流動性が特に良好で速やかに硬化するも
のが望ましく、これらの点を考慮すれば、組成的にはエ
ポキシ樹脂はノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール
型エポキシ樹脂等の溶融粘度の低いエポキシ樹脂で、特
に軟化点が50〜80℃のものが好ましく、硬化剤は、
ノボラック型フェノール樹脂、パラキシリレン変性フェ
ノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂
等のフェノール樹脂が例示されるが、特に軟化点が60
〜120℃で、かつ1核体及び2核体成分の少ないフェ
ノール樹脂が好ましい。硬化促進剤としては、ジアザビ
シクロウンデセン(DBU)系化合物、トリフェニルホ
スフィン等の有機ホスフィン等を使用するが、特に低温
での活性の低い潜伏性の大きなものが好ましい。
The epoxy resin sealing material used in the present invention usually contains an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components, and has a powder or granule shape. There is no need to make a tablet as in the case of transfer molding. In addition, those having good thermal stability in the cylinder of the injection molding machine and those having particularly good fluidity in the cavity and which cure quickly are desirable. In view of these points, the composition is epoxy resin. Is a novolak type epoxy resin, an epoxy resin having a low melt viscosity such as a biphenol type epoxy resin, and particularly preferably a resin having a softening point of 50 to 80 ° C.
Phenol resins such as novolak type phenolic resin, paraxylylene-modified phenolic resin, and dicyclopentadiene-modified phenolic resin are exemplified.
Phenolic resins at -120 ° C and low in mononuclear and dinuclear components are preferred. As the curing accelerator, a diazabicycloundecene (DBU) -based compound, an organic phosphine such as triphenylphosphine, or the like is used. Particularly, a low-temperature, low-activity, large-latent substance is preferable.

【0010】次に、射出成形方法について説明する。射
出成形機はスクリューインライン式、プランジャ式、ス
クリュープランジャ式など特に限定されないが、温度コ
ントロールの容易さ、溶融の均一化等の点からスクリュ
ーインライン式が好ましい。
Next, the injection molding method will be described. The injection molding machine is not particularly limited, such as a screw in-line type, a plunger type, and a screw plunger type, but a screw in-line type is preferable from the viewpoint of easy temperature control and uniform melting.

【0011】本発明においては、射出成形機の射出圧力
を以下のように制御することを特徴とする。即ち、エポ
キシ樹脂封止材料を射出量の80〜95%射出充填した
時点で最大圧力30〜300kg/cm2 とし、続いて
射出圧力20〜100kg/cm2 にて残りの封止材料
を射出充填するものである。この場合、前者の最大圧力
に対する後者の圧力の比率は1/4〜1/2とすること
が好ましい。それぞれの圧力が上記値より高い場合、半
導体素子上のボンディングワイヤの変形や切断、あるい
はダイオード等では内部素子の電気性能の低下等を起こ
す可能性があり、一方、これより低い圧力の場合では、
キャビティ内での充填不良を生じる恐れがある。最大射
出圧力の好ましい範囲は100〜250kg/cm2
あり、後者の好ましい圧力は30〜80kg/cm2
ある。かかる射出圧力は、通常の熱硬化性樹脂材料の射
出成形の場合に比較して低圧である。射出圧力を低圧に
制御することにより、温度コントロールの容易さと相俟
って低圧での長時間連続運転が可能となる。低圧で成形
することにより、インサートである半導体素子を接合し
ワイヤボンデイングされたリードフレーム、あるいは半
導体素子を接合したリード線への圧力が小さいことから
性能面での信頼性が得られる。また、射出条件が一定に
制御されるので、適切な射出条件の設定によりバリの発
生や充填不良を防止することができる。
The present invention is characterized in that the injection pressure of the injection molding machine is controlled as follows. That is, the maximum pressure is set to 30 to 300 kg / cm 2 when the epoxy resin sealing material is injected and filled at 80 to 95% of the injection amount, and then the remaining sealing material is injected and filled at the injection pressure of 20 to 100 kg / cm 2 . To do. In this case, the ratio of the latter pressure to the former maximum pressure is preferably 1/4 to 1/2. If each pressure is higher than the above value, the bonding wire on the semiconductor element may be deformed or cut, or the electric performance of the internal element may be reduced in a diode or the like, while if the pressure is lower than this,
There is a risk of filling failure in the cavity. The preferable range of the maximum injection pressure is 100 to 250 kg / cm 2 , and the preferable pressure of the latter is 30 to 80 kg / cm 2 . Such an injection pressure is lower than that in the case of injection molding of a usual thermosetting resin material. By controlling the injection pressure to a low pressure, combined with the ease of temperature control, a long-term continuous operation at a low pressure becomes possible. By molding at a low pressure, the reliability of the performance can be obtained because the pressure on the lead frame bonded with the semiconductor element that is the insert and wire-bonded or the lead wire bonded with the semiconductor element is small. Further, since the injection conditions are controlled to be constant, it is possible to prevent the occurrence of burrs and defective filling by setting appropriate injection conditions.

【0012】半導体素子が接合されたリードフレーム又
はリード線をインサートとして金型に固定した後、型を
閉じた後、封止材料を射出充填するが、充填開始から最
高射出圧力まではほぼ一定の速度で充填される。そのま
ま充填を続けほぼ100%充填される時点で最高圧力と
なるように設定すると、最高圧力の値が小さくとも充填
の最後の時点で圧力が直接成形部に及ぶので、ボンディ
ングワイヤの変形や切断、あるいはダイオード等では内
部素子への加圧による電気性能の低下等を起こす恐れが
ある。上記のように充填が完了する少し前で射出圧力を
低下させ、その後はより低圧で充填することにより、ボ
ンディングワイヤの変性、内部素子への加圧による電気
性能の低下等を防止することができる。
After fixing the lead frame or the lead wire to which the semiconductor element is bonded to the mold as an insert, and closing the mold, the sealing material is injected and filled. From the start of filling to the maximum injection pressure, it is almost constant. Filled at speed. If the maximum pressure is set at the time when the filling is continued and almost 100% is filled, the pressure directly reaches the molding portion at the last point of the filling even if the maximum pressure value is small. Alternatively, in the case of a diode or the like, there is a possibility that the electrical performance may be deteriorated due to the pressure applied to the internal element. As described above, by lowering the injection pressure shortly before the filling is completed and then filling it at a lower pressure, it is possible to prevent the modification of the bonding wire and the deterioration of the electrical performance due to the pressure applied to the internal element. .

【0013】シリンダー設定温度は通常温度65〜11
0℃であり、この範囲では温度コントロールが容易であ
るが、溶融粘度、熱安定性の点から70〜90℃が好ま
しい。シリンダー温度が低いと封止材料の溶融粘度は高
くなるが、熱安定性は良好になる。本発明におけるエポ
キシ樹脂封止材料の場合、特に上記の好ましい組成を使
用した場合、溶融粘度が低いので、かなり低い温度に設
定することができる。但し65℃より低くすると温度コ
ントロールが困難となる。一方、110℃より高いと、
溶融粘度が低くなり、正常な射出成形が困難となること
があり、また熱安定性の点においても不十分な場合が多
い。
The cylinder set temperature is usually 65 to 11
The temperature is 0 ° C, and temperature control is easy in this range, but 70 to 90 ° C is preferable from the viewpoint of melt viscosity and thermal stability. When the cylinder temperature is low, the melt viscosity of the sealing material is high, but the thermal stability is good. In the case of the epoxy resin sealing material of the present invention, particularly when the above preferred composition is used, the melt viscosity is low, so that the temperature can be set at a considerably low temperature. However, when the temperature is lower than 65 ° C., temperature control becomes difficult. On the other hand, if the temperature is higher than 110 ° C,
The melt viscosity becomes low, normal injection molding may become difficult, and thermal stability is often insufficient.

【0014】本発明の封止方法において、金型の設定温
度は、封止材料の硬化時間等から150〜190℃、好
ましくは165〜185℃である。このような温度で成
形サイクルは150秒以下、好ましい組成の封止材料の
場合80秒以下とすることが可能である。
In the sealing method of the present invention, the set temperature of the mold is 150 to 190 ° C., preferably 165 to 185 ° C., depending on the curing time of the sealing material. At such a temperature, the molding cycle can be 150 seconds or less, and in the case of a sealing material having a preferable composition, 80 seconds or less.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。エポキシ
樹脂封止材料として、オルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂(エポキシ当量200)、フェノールノボラ
ック(水酸基当量103)、ジアザビシクロウンデセン
化合物(硬化促進剤)及び溶融シリカを主成分とし、他
に離型剤、顔料等を配合した材料を使用した。
Embodiments of the present invention will be described below. As an epoxy resin encapsulating material, ortho-cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 200), phenol novolak (hydroxyl equivalent 103), diazabicycloundecene compound (curing accelerator) and fused silica as main components, and other mold release A material containing an agent, a pigment and the like was used.

【0016】射出成形機は名機製作所M−32(スクリ
ューインライン式)を使用し、加熱シリンダーの最ノズ
ル側ゾーンをシリンダー全長の30%ととし温度75℃
に設定し、それ以外の部分は30℃に設定した。更に射
出圧力については、最大圧力を200kg/cm2 、射
出開始後最大圧力に達するまでの時間を20秒、その後
の圧力を50kg/cm2 に設定し、この状態で5秒間
保持した後、ゲートカットピンを作動させてゲートを遮
断することとした。型締めから型開きまでの時間は60
秒、全成形サイクルは80秒とした。金型温度は175
℃に設定した。 金型は20個取りとし、IC素子(16pDIP)を接
合し、金線ボンディングされた10個連続のリードフレ
ーム2本を金型に自動セットし、連続成形した。1時間
毎に樹脂封止された半導体装置について外観、充填性、
ワイヤスイープ、表面硬度を測定した。5時間毎の結果
を表1に示す。
As the injection molding machine, M-32 (screw in-line type) manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd. is used, and the most nozzle side zone of the heating cylinder is 30% of the total length of the cylinder and the temperature is 75 ° C.
The temperature was set to 30 ° C. for the other parts. Regarding the injection pressure, the maximum pressure is set to 200 kg / cm 2 , the time until the maximum pressure is reached after the start of injection is set to 20 seconds, and the pressure after that is set to 50 kg / cm 2, and after maintaining this state for 5 seconds, the gate is It was decided to activate the cut pin to shut off the gate. The time from mold closing to mold opening is 60
Seconds, the total molding cycle was 80 seconds. Mold temperature is 175
Set to ° C. 20 dies were taken, IC elements (16 pDIP) were joined, and two consecutive 10 leadframes bonded with a gold wire were automatically set in the die and continuously molded. The appearance, filling property, and
The wire sweep and the surface hardness were measured. Table 1 shows the results every 5 hours.

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】(測定方法) (1) 外観、充填性:目視による観察、外観は特に光沢の
良否をみた。 (2) ワイヤスイープ:成形品に軟X線を照射して、ボン
ディングワイヤ(25μm径:長さ3mmのセミハード
金線)の流れ量を測定した。ボンディング間の距離(5
00μm)に対する最大ワイヤー流れ量の比を%で表し
た。 (3) 表面硬度:型開き直後の成形品の表面硬度をバコー
ル硬度計(#935)で測定した。
(Measurement Method) (1) Appearance and Fillability: Visual observation, and appearance was particularly good or bad for gloss. (2) Wire sweep: The molded product was irradiated with soft X-rays, and the flow rate of the bonding wire (25 μm diameter: semi-hard gold wire with a length of 3 mm) was measured. Distance between bonds (5
The ratio of the maximum wire flow amount with respect to 00 μm) was expressed in%. (3) Surface hardness: The surface hardness of the molded product immediately after mold opening was measured with a Bacol hardness meter (# 935).

【0019】これらの結果は、従来の低圧トランスファ
成形による場合と同等であり、全く問題がないことを示
している。従って、長時間の連続成形が可能であること
がわかる。
These results are equivalent to those obtained by the conventional low-pressure transfer molding, and show that there is no problem at all. Therefore, it can be seen that long-time continuous molding is possible.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、エポキシ樹脂封止材料
による半導体封止を射出成形により長時間連続して問題
なく実施できる。本発明においては、射出圧力の制御、
特に特定の低い圧力に制御することにより、更に安定し
た連続成形が可能である。低圧成形では、インサートで
ある半導体素子を接合しワイヤボンデイングされたリー
ドフレーム、あるいは半導体素子を接合したリード線へ
の圧力が小さいことから性能面での信頼性が得られる。
また、射出量が一定にコントロールされるので、適切な
射出量の設定によりバリの発生や充填不良を防止するこ
とができる。更に型開き前の金型内のゲートカット方式
の採用によりリードフレームの移送や後加工が容易とな
る。
According to the present invention, semiconductor encapsulation with an epoxy resin encapsulating material can be continuously performed by injection molding for a long time without any problem. In the present invention, injection pressure control,
Particularly, by controlling to a specific low pressure, more stable continuous molding is possible. In the low-pressure molding, reliability is obtained in terms of performance because the pressure applied to the lead frame bonded with the semiconductor element that is the insert and bonded with the wire or the lead wire bonded with the semiconductor element is small.
Further, since the injection amount is controlled to be constant, it is possible to prevent the occurrence of burrs and defective filling by setting an appropriate injection amount. Further, by adopting a gate cut method in the mold before opening the mold, the lead frame can be easily transferred and post-processed.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子が接合されワイヤボンディン
グされたリードフレーム、又は半導体素子が接合された
リード線を、射出成形金型にインサートとして固定し、
前記金型にエポキシ樹脂封止材料を射出成形機により射
出充填し、硬化させることにより樹脂封止された半導体
装置を製造する方法であって、射出成形機の射出圧力
を、エポキシ樹脂封止材料を射出量の80〜95%射出
充填した時点で最大圧力30〜300kg/cm2
し、続いて20〜100kg/cm2 にて残りの封止材
料を射出充填することを特徴とする半導体装置の製造方
法。
1. A lead frame, to which a semiconductor element is joined and wire-bonded, or a lead wire, to which a semiconductor element is joined, is fixed as an insert in an injection molding die,
A method for producing a resin-encapsulated semiconductor device by injection-filling an epoxy resin encapsulating material into the mold with an injection molding machine and curing the method, wherein the injection pressure of the injection molding machine is controlled by the epoxy resin encapsulating material. Of 80 to 95% of the injection amount, the maximum pressure is set to 30 to 300 kg / cm 2, and then the remaining sealing material is injected and filled at 20 to 100 kg / cm 2 of the semiconductor device. Production method.
【請求項2】 射出成形時、封止材料を注入後、金型を
開く前にゲート部を遮断する請求項1記載の半導体装置
の製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein during injection molding, after the sealing material is injected, the gate is shut off before opening the mold.
【請求項3】 射出成形機のシリンダー設定温度が65
〜110℃である請求項1又は2記載の半導体装置の製
造方法。
3. The cylinder setting temperature of the injection molding machine is 65.
The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the temperature is ˜110 ° C. 4.
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JP2002346932A (en) * 2001-05-21 2002-12-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Guranular thermosetting resinous abrasive material and manufacturing method thereof

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