JPH09270192A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH09270192A
JPH09270192A JP9016516A JP1651697A JPH09270192A JP H09270192 A JPH09270192 A JP H09270192A JP 9016516 A JP9016516 A JP 9016516A JP 1651697 A JP1651697 A JP 1651697A JP H09270192 A JPH09270192 A JP H09270192A
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JP
Japan
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input
memory cell
integrated circuit
semiconductor integrated
buffer
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JP9016516A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsushi Nagaba
勝志 長場
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit device which can change bit constitution without increasing the driving capacity of transistors and is easily manufacturable without increasing the burden at the time of design. SOLUTION: Input pads DQ0-DQ3 and input bufferes DIB0-BID3 are connected by wiring La or Lb. When the memory cell array is made to have x4 bit constitution, the respective input terminals of the input pads DQ0-DQ3 and the input bufferes DIB0-DIB3 are connected by the wiring La. In the case of x1 bit constitution, the respective input terminals of the input pads DQ0 and the input buffers DIB0-DIB3 are connected by the wiring Lb. Since the constitution from input buffers DIB0-DIB3 to the memory cell array is unchanged between x4 bit and x1 bit, the increase of the driving capacity of transistors in the input buffers DIB0-DIB3 is suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばダイナミッ
クRAM(DRAM)やシンクロナスDRAM等の半導
体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device such as a dynamic RAM (DRAM) or a synchronous DRAM.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、一般的なDRAMのチップの構
成を示している。複数のメモリセルアレイ1のうち、隣
接するメモリセルアレイ1の相互間にはワード線を選択
するローデコーダ2がそれぞれ設けられている。各メモ
リセルアレイ1にはビット線を選択するカラムデコーダ
3、及び入力されたデータをメモリセルに書き込むため
のライトドライバ、メモリセルから読み出したデータを
出力するためのリードアンプからなるライトドライバ・
リードアンプ群4が配設されている。複数のカラムデコ
ーダ3の相互間には制御回路群5が配置され、前記ライ
トドライバ・リードアンプ群4に沿って入力データ及び
出力データを伝送するための入出力線RWDが配置され
ている。これら入出力線RWDにはデータを入出力する
ための図示せぬパッドが設けられている。これら入出力
線RWDは前記ライトドライバ・リードアンプ群4及び
制御回路群5に接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows the structure of a general DRAM chip. A row decoder 2 for selecting a word line is provided between adjacent memory cell arrays 1 of the plurality of memory cell arrays 1. Each memory cell array 1 includes a column decoder 3 for selecting a bit line, a write driver for writing the input data into the memory cell, and a write driver including a read amplifier for outputting the data read from the memory cell.
A read amplifier group 4 is arranged. A control circuit group 5 is arranged between the plurality of column decoders 3, and an input / output line RWD for transmitting input data and output data is arranged along the write driver / read amplifier group 4. These I / O lines RWD are provided with pads (not shown) for inputting / outputting data. These input / output lines RWD are connected to the write driver / read amplifier group 4 and the control circuit group 5.

【0003】図8は、図7の一部を具体的に示す回路で
ある。メモリセルアレイ1において、ワード線WLは縦
方向、ビット線BLは横方向に配置され、これらワード
線WLとビット線BLの交点に図示せぬメモリセルが配
置されている。ワード線WLはロウデコーダ2によって
選択され、ビット線BLはカラムデコーダ3によって選
択される。ビット線の容量を抑えるため、メモリセルア
レイ1は複数のサブアレイ11に分割されている。各サ
ブアレイ11内のビット線BL、/BL(/は反転信号
を示す)は前記カラムデコーダ3から出力されるカラム
選択信号CSL(A)、CSL(A+1)…により選択
され、各サブアレイ毎に配置されたデータ線DQ、/D
Qに接続される。データ線DQ、/DQは、前記ライト
ドライバDQWD、リードアンプDQRAを介して、前
記入出力線(RWDnと記す(n=0〜3))に接続さ
れている。入出力線RWDnにはデータを入力するため
の入力バッファDIB0〜DIB3、及びデータを出力
するための出力バッファDOB0〜DOB3が接続さ
れ、これら入力バッファDIB0〜DIB3、出力バッ
ファDOB0〜DOB3にはパッドDQ0〜DQ3がそ
れぞれ接続されている。
FIG. 8 is a circuit showing a part of FIG. 7 in detail. In the memory cell array 1, the word lines WL are arranged in the vertical direction and the bit lines BL are arranged in the horizontal direction, and memory cells (not shown) are arranged at the intersections of the word lines WL and the bit lines BL. The word line WL is selected by the row decoder 2 and the bit line BL is selected by the column decoder 3. In order to suppress the bit line capacity, the memory cell array 1 is divided into a plurality of sub arrays 11. The bit lines BL, / BL (/ indicates an inverted signal) in each sub-array 11 are selected by the column selection signals CSL (A), CSL (A + 1) ... Output from the column decoder 3 and arranged in each sub-array. Data line DQ, / D
Connected to Q. The data lines DQ and / DQ are connected to the input / output lines (denoted as RWDn (n = 0 to 3)) via the write driver DQWD and the read amplifier DQRA. Input buffers DIB0 to DIB3 for inputting data and output buffers DOB0 to DOB3 for outputting data are connected to the input / output line RWDn, and these input buffers DIB0 to DIB3 and output buffers DOB0 to DOB3 have pads DQ0. -DQ3 are respectively connected.

【0004】データの書き込み時、パッドDQ0〜DQ
3を介して入力バッファDIB0〜DIB3に供給され
たデータは、入出力線RWDnを介して前記ライトドラ
イバDQWDに供給され、この入出力線RWDnのデー
タはライトドライバDQWDを介してデータ線DQ、/
DQへ転送される。このデータ線DQ、/DQのデータ
線のデータは選択されたメモリセルに書き込まれる。
When writing data, pads DQ0 to DQ
The data supplied to the input buffers DIB0 to DIB3 via the I / O line 3 are supplied to the write driver DQWD via the I / O line RWDn, and the data on the I / O line RWDn is supplied to the data line DQ, /
Transferred to DQ. Data on the data lines of the data lines DQ and / DQ is written in the selected memory cell.

【0005】一方、データの読出し時、選択されたメモ
リセルから読み出された信号はデータ線DQ、/DQを
介してリードアンプDQRAに供給される。このリード
アンプDQRAから出力される信号は前記入出力線RW
Dnへ転送され、この入出力線RWDnの信号は出力バ
ッファDOB0〜DOB、パッドDQ0〜DQ3を介し
て出力される。
On the other hand, when reading data, the signal read from the selected memory cell is supplied to the read amplifier DQRA via the data lines DQ and / DQ. The signal output from the read amplifier DQRA is the input / output line RW.
The signal of the input / output line RWDn transferred to Dn is output via the output buffers DOB0 to DOB and the pads DQ0 to DQ3.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のD
RAMは、ビット構成を例えば×1ビット、×4ビット
に選択可能とされている。図9、図10は×1ビット、
×4ビット構成を1チップ化した場合の構成を示してい
る。図9、図10は説明の便宜上、パッドDQ0〜DQ
3からメモリセルアレイまでのライトデータパスのみを
概略的に示している。
By the way, this kind of D
The bit configuration of the RAM can be selected as, for example, x1 bit or x4 bit. 9 and 10 are x1 bits,
It shows a configuration in which a × 4 bit configuration is integrated into one chip. For convenience of description, FIGS. 9 and 10 show pads DQ0 to DQ.
Only the write data path from 3 to the memory cell array is schematically shown.

【0007】図9は、×4ビット構成のライトデータパ
スを示している。この場合、各入力バッファDIB0〜
DIB3の出力端、及び各ライトドライバDQWDの入
力端は対応する入出力線RWDn(n=0-3) にそれぞれ接
続されている。パッドDQ0〜DQ3に入力された4ビ
ットのデータは、入力バッファDIB0〜DIB3を介
して入出力線RWDnに伝達される。入出力線RWDn
のデータは、ライトドライバDQWDを介して所定のア
ドレスAddによって選択されたメモリセルに供給され
る。
FIG. 9 shows a write data path of x4 bit structure. In this case, each input buffer DIB0
The output end of the DIB 3 and the input end of each write driver DQWD are connected to the corresponding input / output line RWDn (n = 0-3). The 4-bit data input to the pads DQ0 to DQ3 is transmitted to the input / output line RWDn via the input buffers DIB0 to DIB3. I / O line RWDn
Data is supplied to the memory cell selected by the predetermined address Add via the write driver DQWD.

【0008】図10は、×1ビット構成のライトデータ
パスを示している。この場合、各入力バッファDIB0
〜DIB3の出力端は対応する入出力線RWDnにそれ
ぞれ接続され、各ライトドライバDQWDの入力端は1
つの入出力線RWD0に接続されている。×1ビット構
成時、パッドDQ0からデータを入力するものとする
と、このパッドDQ0に入力された1ビットのデータ
は、入力バッファDIB0を介して入出力線RWD0に
伝達される。入出力線RWD0のデータは、各ライトド
ライバDQWDを介して所定のアドレスAddによって選
択されたメモリセルに供給される。
FIG. 10 shows a write data path having a x1 bit structure. In this case, each input buffer DIB0
The output ends of the DIB3 to DIB3 are connected to the corresponding input / output lines RWDn, and the input end of each write driver DQWD is 1.
It is connected to one input / output line RWD0. In the x1 bit configuration, if data is input from the pad DQ0, the 1-bit data input to the pad DQ0 is transmitted to the input / output line RWD0 via the input buffer DIB0. The data of the input / output line RWD0 is supplied to the memory cell selected by the predetermined address Add via each write driver DQWD.

【0009】このように、従来のDRAMは、ライトド
ライバと入出力線の配線接続を変えることにより、×1
ビット、×4ビット構成を1チップで実現している。こ
のため、通常、1チップ内にはビット構成の整数倍の入
出力線RWDnが存在する。例えば4本の入出力線RW
Dが有ると仮定したとき、×4ビット構成の場合、各ラ
イトドライバを各入出力線に接続し、ビット構成分の入
力バッファでライトドライバを駆動する。また、1ビッ
ト構成の場合、全ライトドライバを1つの入出力線に接
続し、1つの入力バッファで駆動する。
As described above, in the conventional DRAM, by changing the wiring connection between the write driver and the input / output line, x1
Bit, × 4 bit configuration is realized in one chip. For this reason, there are usually input / output lines RWDn having an integral multiple of the bit configuration in one chip. For example, four input / output lines RW
Assuming that there is D, in the case of the x4 bit configuration, each write driver is connected to each input / output line, and the write driver is driven by the input buffer for the bit configuration. In the case of the 1-bit configuration, all write drivers are connected to one input / output line and driven by one input buffer.

【0010】具体的に述べると、図9、図10の場合、
例えば16個のライトドライバDQWD、4本の入出力
線RWDn、4個の入力バッファDIBn(n=0−
3)が用いられると仮定すると、×4ビット構成の場
合、各入出力線に4つずつライトドライバが接続される
ため、1つの入力バッファに接続されるライトドライバ
の数は4個である。これに対して、×1ビット構成の場
合、図10に示すように、1つの入出力線に16個のラ
イトドライバが接続されるため、1つの入力バッファに
接続されるライトドライバの数が16個(4倍)とな
る。したがって、入力バッファの駆動能力が×4ビット
構成の時と同様である場合、駆動能力が低下することと
なる。
Specifically, in the case of FIG. 9 and FIG.
For example, 16 write drivers DQWD, 4 input / output lines RWDn, 4 input buffers DIBn (n = 0-
Assuming that 3) is used, in the case of the x4 bit configuration, four write drivers are connected to each input / output line, and therefore the number of write drivers connected to one input buffer is four. On the other hand, in the case of the x1 bit configuration, as shown in FIG. 10, since 16 write drivers are connected to one input / output line, the number of write drivers connected to one input buffer is 16. It becomes the number (4 times). Therefore, if the drive capability of the input buffer is the same as in the x4 bit configuration, the drive capability will be reduced.

【0011】通常、×1ビット構成の時、入力バッファ
の駆動能力は×4ビット構成時に揃えるため、大きな駆
動能力を必要とする。したがって、入力バッファにはゲ
ート幅が大きなパターンのトランジスタが使用されるた
め、チップサイズが大型化するという問題が発生する。
Normally, in the case of the x1 bit structure, the driving capability of the input buffer is the same as that in the x4 bit structure, and therefore a large driving capability is required. Therefore, a transistor having a pattern with a large gate width is used for the input buffer, which causes a problem of increasing the chip size.

【0012】しかも、×1ビット又は×4ビットを設定
する場合、ライトドライバDQWDと入出力線RWDn
の配線接続を変えている。入出力線RWDn、及びパッ
ドDQ0〜DQ3と入力バッファDIB0〜DIB3の
入力端を接続する配線は同一のマスクで形成されるが、
入出力線RWDnとライトドライバDQWDを接続する
配線は前記マスクとは別のマスクによって形成される。
このため、回路やマスクの設計時の負担が増大する原因
となる。この問題は、1チップで切り換え可能なビット
構成が×8、×16、×32…と増加した場合、一層深
刻となる。
Moreover, when setting x1 bit or x4 bit, the write driver DQWD and the input / output line RWDn are set.
The wiring connection of is changing. The input / output line RWDn and the wiring connecting the pads DQ0 to DQ3 and the input ends of the input buffers DIB0 to DIB3 are formed with the same mask.
The wiring connecting the input / output line RWDn and the write driver DQWD is formed by a mask different from the mask.
For this reason, the load on the design of the circuit and the mask increases. This problem becomes more serious when the bit configuration that can be switched by one chip increases to x8, x16, x32, ....

【0013】この発明は上記課題を解決するものであ
り、その目的とすることは、トランジスタの駆動能力を
増大することなく、ビット構成を変えることができ、し
かも、設計時の負担を増大することなく、容易に製造可
能な半導体集積回路装置を提供することである。
The present invention is intended to solve the above problems, and an object thereof is to change the bit configuration without increasing the driving capability of a transistor, and to increase the load at the time of designing. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that can be easily manufactured.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この発明は、信号を入出
力するための複数の端子と、これら端子に対応して配置
された複数のバッファ回路と、これらバッファ回路がそ
れぞれ接続されるとともに、選択されたメモリセルに接
続され、信号を伝送する複数の伝送路と、前記端子の少
なくとも1つと前記複数のバッファ回路とを接続し、前
記メモリセルのビット構成に応じて変更される複数の配
線とを具備している。
According to the present invention, a plurality of terminals for inputting and outputting a signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these terminals, and these buffer circuits are respectively connected, A plurality of wirings connected to the selected memory cell and transmitting a signal, at least one of the terminals and the plurality of buffer circuits, and a plurality of wirings that are changed according to the bit configuration of the memory cell It has and.

【0015】また、この発明は、入力信号を受ける複数
の入力端子と、これら入力端子に対応して配置された複
数のバッファ回路と、これらバッファ回路の出力端が接
続され、これらバッファ回路を介して供給される前記入
力信号をデコードするデコーダと、このデコーダの出力
信号によって選択位置が変更される回路手段と、前記入
力端子の少なくとも1つと前記バッファ回路の少なくと
も1つとを接続し、前記回路手段の選択位置に応じて接
続位置が変更される少なくとも1つの配線とを具備して
いる。
Further, according to the present invention, a plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and output terminals of these buffer circuits are connected, and these buffer circuits are connected. A decoder for decoding the input signal supplied as a signal, a circuit means whose selection position is changed by the output signal of the decoder, and at least one of the input terminals and at least one of the buffer circuits, and the circuit means. And at least one wiring whose connection position is changed according to the selected position.

【0016】さらに、この発明は、入力信号を受ける複
数の入力端子と、これら入力端子に対応して配置された
複数のバッファ回路と、これらバッファ回路の出力端が
それぞれ接続される複数の伝送路と、これら伝送路に各
入力端がそれぞれ接続され、前記各伝送路に供給された
信号を選択されたメモリセルに書き込む書き込み回路
と、前記入力端子と前記バッファ回路とを接続し、半導
体集積回路の最上部に設けられ、前記メモリセルのビッ
ト構成に応じて接続位置が変更される少なくとも1つの
配線とを具備している。
Further, according to the present invention, a plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and a plurality of transmission lines to which output terminals of these buffer circuits are connected respectively. And a input circuit connected to each of the transmission lines, for writing a signal supplied to each of the transmission lines into a selected memory cell, the input terminal and the buffer circuit are connected, and a semiconductor integrated circuit And at least one wiring whose connection position is changed according to the bit configuration of the memory cell.

【0017】また、この発明は、入力信号を受ける複数
の入力端子と、これら入力端子に対応して配置された複
数のバッファ回路と、これらバッファ回路の出力端が接
続され、バッファ回路から供給される前記アドレス信号
をデコードするデコーダと、このデコーダの出力信号に
よって選択され、複数のバンクを構成するメモリセルア
レイと、前記入力端子とバッファ回路とを接続し、前記
メモリセルアレイのバンク構成に応じて接続位置が変更
される少なくとも1つの配線とを具備している。
Further, according to the present invention, a plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and output terminals of these buffer circuits are connected and supplied from the buffer circuit. A decoder that decodes the address signal, a memory cell array that is selected by the output signal of the decoder, and forms a plurality of banks, the input terminal and the buffer circuit, and the connection is made according to the bank configuration of the memory cell array. And at least one wire whose position is changed.

【0018】さらに、この発明は、アドレス信号を受け
る複数の入力端子と、これら入力端子に対応して配置さ
れた複数のバッファ回路と、これらバッファ回路の出力
端が接続され、バッファ回路から供給される前記アドレ
ス信号をデコードするローデコーダと、このローデコー
ダの出力信号によって選択されるメモリセルと、前記入
力端子とバッファ回路とを接続し、前記メモリセルのリ
フレッシュサイクルに応じて接続位置が変更される少な
くとも1つの配線とを具備している。
Further, according to the present invention, a plurality of input terminals for receiving an address signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and output terminals of these buffer circuits are connected and supplied from the buffer circuit. A row decoder for decoding the address signal, a memory cell selected by the output signal of the row decoder, the input terminal and a buffer circuit are connected, and the connection position is changed according to the refresh cycle of the memory cell. And at least one wiring.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施例について説明する。図1は、この発明の第1の実
施例を示すものであり、×1ビット、×4ビット構成を
1チップで実現した場合を示している。図1において、
図8乃至図10と同一部分には同一符号を付し、異なる
部分について説明する。図1はデータを読み出すための
回路は省略している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention and shows a case where a x1 bit and a x4 bit configuration is realized by one chip. In FIG.
The same parts as those in FIGS. 8 to 10 are designated by the same reference numerals, and different parts will be described. In FIG. 1, a circuit for reading data is omitted.

【0020】図1において、各ライトドライバDQWD
の入力端、及び各入力バッファDIB0〜DIB3の出
力端は対応する入出力線RWDnにそれぞれ接続されて
いる。ライトドライバDQWDの数を16個と仮定する
と、各入出力線には4個ずつライトドライバDQWDが
接続される。パッドDQ0〜DQ3と入力バッファDI
B0〜DIB3の各入力端との配線は、ビット構成に応
じて形成される。
In FIG. 1, each write driver DQWD
Input terminals and output terminals of the input buffers DIB0 to DIB3 are connected to corresponding input / output lines RWDn. Assuming that the number of write drivers DQWD is 16, four write drivers DQWD are connected to each input / output line. Pads DQ0 to DQ3 and input buffer DI
Wiring to each input terminal of B0 to DIB3 is formed according to the bit configuration.

【0021】図1に破線で示す配線Laは、この半導体
記憶装置を×4ビット構成とする場合を示し、図1に一
点破線で示す配線Lbは、この半導体記憶装置を×1ビ
ット構成とする場合を示している。すなわち、×4ビッ
ト構成とする場合、配線Laによって入力パッドDQ0
〜DQ3と入力バッファDIB0〜DIB3の各入力端
がそれぞれ接続され、×1ビット構成とする場合、配線
Lbによって1つの入力パッドDQ0と入力バッファD
IB0〜DIB3の各入力端が接続される。図2は、×
1ビット構成を具体的に示している。
A wiring La shown by a broken line in FIG. 1 shows a case where this semiconductor memory device has a × 4 bit configuration, and a wiring Lb shown by a dashed line in FIG. 1 makes this semiconductor memory device a × 1 bit configuration. The case is shown. That is, in the case of the x4 bit configuration, the input pad DQ0
To DQ3 and input buffers DIB0 to DIB3 are connected to each other and have a × 1 bit configuration, one input pad DQ0 and one input buffer D are connected by the wiring Lb.
Input terminals of IB0 to DIB3 are connected. Figure 2 shows
The 1-bit configuration is specifically shown.

【0022】上記×1ビット構成において、図示せぬメ
モリセルにデータを書き込む場合、入力パッドDQ0に
供給された1ビットのデータは、4つの入力バッファD
IB0〜DIB3に供給され、これら入力バッファDI
B0〜DIB3を介して各入出力線RWDnにそれぞれ
供給される。これら入出力線RWDnに供給されたデー
タは、アドレス信号Addによってデコードされた1つ
のライトドライバDQWD、及びデータ線を介して選択
されたメモリセルに書き込まれる。
In the above-mentioned × 1 bit configuration, when writing data to a memory cell (not shown), the 1-bit data supplied to the input pad DQ0 is stored in the four input buffers DQ0.
It is supplied to IB0 to DIB3 and these input buffers DI
It is supplied to each input / output line RWDn via B0 to DIB3. The data supplied to these input / output lines RWDn are written into one write driver DQWD decoded by the address signal Add and the selected memory cell via the data line.

【0023】図3は、ライトドライバDQWDの一例を
示すものである。図3において、入出力線RWD、/R
WDはそれぞれアドレス信号Addとともに、各アンド回
路31、32の入力端に供給される。/RWDはRWD
の反転信号であり、例えば図示せぬインバータ回路によ
り信号RWDを反転して生成される。これらアンド回路
31、32の出力端はNチャネルトランジスタ33、3
4のゲートにそれぞれ接続されるとともに、インバータ
回路35、36の入力端に接続される。インバータ回路
35、36の出力端はPチャネルトランジスタ37、3
8のゲートに接続されている。Pチャネルトランジスタ
37、38の電流通路は前記Nチャネルトランジスタ3
3、34の電流通路に接続され、これらの接続点はデー
タ線/DQ、DQにそれぞれ接続される。
FIG. 3 shows an example of the write driver DQWD. In FIG. 3, input / output lines RWD, / R
WD is supplied to the input terminals of the AND circuits 31 and 32 together with the address signal Add. / RWD is RWD
Of the signal RWD, which is generated by inverting the signal RWD by an inverter circuit (not shown). The output terminals of these AND circuits 31, 32 are N-channel transistors 33, 3
4 and the input terminals of the inverter circuits 35 and 36, respectively. The output terminals of the inverter circuits 35 and 36 are P-channel transistors 37 and 3, respectively.
8 gates connected. The current paths of the P-channel transistors 37 and 38 are the same as the N-channel transistor 3
3 and 34 are connected to the current paths, and these connection points are connected to the data lines / DQ and DQ, respectively.

【0024】上記構成のライトドライバDQWDは、ア
ンド回路31、32の入力条件が満足した場合、データ
線/DQ、DQに入出力線RWDのデータを伝達する。
尚、×4ビット構成におけるデータの書き込み動作及び
読み出し動作は従来と同様であるので省略する。
The write driver DQWD having the above structure transmits the data of the input / output line RWD to the data lines / DQ and DQ when the input conditions of the AND circuits 31 and 32 are satisfied.
Note that the data write operation and data read operation in the x4 bit configuration are the same as in the conventional art, and therefore will be omitted.

【0025】図4(a)(b)は、前記パッドと入力バ
ッファ間の配線の一例を示している。各パッド及び入力
バッファは同様の構成であるため、入力バッファDIB
0、パッドDQ0についてのみ説明する。
FIGS. 4A and 4B show an example of wiring between the pad and the input buffer. Since each pad and the input buffer have the same structure, the input buffer DIB
Only 0 and the pad DQ0 will be described.

【0026】半導体基板41には入力バッファDIB0
を構成するMOSトランジスタ42が形成されている。
このMOSトランジスタ42上には絶縁膜43が設けら
れ、この絶縁膜43内には複数の第1層目の配線44が
設けられている。この絶縁膜43には前記MOSトラン
ジスタ42のゲートに対応してコンタクトホール45が
形成され、このコンタクトホール45を介して、前記配
線La、Lbとしての第2層目の配線46がゲートに接
続される。この第2層目の配線46の一端にはパッドD
Q0が接続される。ビット構成を変更する場合、第2層
目の配線46の形成位置が変更される。
The input buffer DIB0 is provided on the semiconductor substrate 41.
Is formed.
An insulating film 43 is provided on the MOS transistor 42, and a plurality of first-layer wirings 44 are provided in the insulating film 43. A contact hole 45 is formed in the insulating film 43 so as to correspond to the gate of the MOS transistor 42, and the second-layer wiring 46 as the wirings La and Lb is connected to the gate through the contact hole 45. It A pad D is provided at one end of the second-layer wiring 46.
Q0 is connected. When changing the bit configuration, the formation position of the wiring 46 of the second layer is changed.

【0027】上記実施例によれば、入力パッドDQ0〜
DQ3と入力バッファDIB0〜DIB3の各入力端と
を接続する配線によって、半導体記憶装置のビット構成
を変えている。このため、×1ビット構成とした場合
と、×4ビット構成とした場合とで入力バッファDIB
0〜DIB3からメモリセルまでの構成は変わらない。
したがって、×1ビット構成とした場合と、×4ビット
構成とした場合とで入力バッファDIB0〜DIB3の
駆動能力を揃えることができるため、入力バッファを構
成するトランジスタは、×4ビット構成とした場合の電
流駆動能力でよい。すなわち、上記2種以上のビット構
成を設定可能とした場合においても、入力バッファを構
成するトランジスタは最大のビット構成とした場合の電
流駆動能力でよい。このため、サイズの小さなトランジ
スタを使用でき、パターン面積の増大を防止できる。
According to the above-described embodiment, the input pads DQ0-DQ0.
The bit configuration of the semiconductor memory device is changed by the wiring connecting the DQ3 and each input terminal of the input buffers DIB0 to DIB3. For this reason, the input buffer DIB is configured depending on the x1 bit configuration and the x4 bit configuration.
The configuration from 0 to DIB3 to the memory cell does not change.
Therefore, the driving capability of the input buffers DIB0 to DIB3 can be made the same in the x1 bit configuration and in the x4 bit configuration, so that the transistors forming the input buffer are in the x4 bit configuration. The current driving capacity of That is, even when two or more kinds of bit configurations can be set, the transistors forming the input buffer have the current driving capability in the maximum bit configuration. Therefore, a transistor having a small size can be used, and an increase in pattern area can be prevented.

【0028】また、入力パッドDQ0〜DQ3と入力バ
ッファDIB0〜DIB3の各入力端とを接続する配線
を変更することにより、半導体記憶装置のビット構成を
変えている。このため、入力パッドDQ0〜DQ3と入
力バッファDIB0〜DIB3の各入力端との間の配線
のみ検証すればよい。したがって、従来のように、複数
箇所の配線を検証する必要がないため、検証を容易化で
きる。
The bit configuration of the semiconductor memory device is changed by changing the wiring connecting the input pads DQ0 to DQ3 and the input terminals of the input buffers DIB0 to DIB3. Therefore, only the wiring between the input pads DQ0 to DQ3 and the input ends of the input buffers DIB0 to DIB3 need be verified. Therefore, it is not necessary to verify the wiring at a plurality of locations as in the conventional case, and the verification can be facilitated.

【0029】さらに、入力パッドDQ0〜DQ3と入力
バッファDIB0〜DIB3の各入力端とを接続する配
線は、半導体記憶装置の最上部の配線である。すなわ
ち、この配線は半導体記憶装置の製造における最終工程
で形成される配線であり、このの配線のみを変えればよ
い。したがって、従来のように途中の製造工程で配線を
変える必要がないため、マスクの設計が容易である。し
かも、マスクの数を削減できるため、マスク管理を容易
化できる。さらに、最終の配線のみを変更すればよいた
め、これ以前の工程を予め行っておき、ビット構成に応
じて最終の配線を行うことにより、半導体記憶装置の製
造時間を従来に比べて短縮できる。
Further, the wiring connecting the input pads DQ0 to DQ3 and the input terminals of the input buffers DIB0 to DIB3 is the uppermost wiring of the semiconductor memory device. That is, this wiring is a wiring formed in the final step of manufacturing the semiconductor memory device, and only this wiring needs to be changed. Therefore, unlike the conventional case, it is not necessary to change the wiring in the manufacturing process in the middle, so that the mask can be easily designed. Moreover, since the number of masks can be reduced, mask management can be facilitated. Further, since only the final wiring needs to be changed, the manufacturing process of the semiconductor memory device can be shortened as compared with the conventional case by performing the steps before this and performing the final wiring according to the bit configuration.

【0030】図5は、この発明の第2の実施例を示すも
のであり、この発明を例えばシンクロナスDRAM(以
下、SDRAMと称す)のバンク構成を切り換える場合
に適用した例を示している。SDRAMは1チップ内に
複数のメモリセルアレイからなる複数の独立したメモリ
バンクを有している。このSDRAMをキャッシュメモ
リとして使用した場合、CPUが要求するアドレス、及
びデータがメモリ内に無いという、所謂キャッシュ・ミ
スを回避できる。この種のメモリはチップ内のバンク構
成が変更可能なように設計され、製造時に所要のバンク
構成とされる。
FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention, and shows an example in which the present invention is applied, for example, when the bank configuration of a synchronous DRAM (hereinafter referred to as SDRAM) is switched. The SDRAM has a plurality of independent memory banks composed of a plurality of memory cell arrays in one chip. When this SDRAM is used as a cache memory, it is possible to avoid a so-called cache miss in which the address and data required by the CPU are not in the memory. This type of memory is designed so that the bank structure in the chip can be changed, and the required bank structure is set at the time of manufacture.

【0031】図5において、メモリバンクを構成する複
数のメモリセルアレイ51a、51b、51c、51d
にはデコーダ52の出力端が接続されている。このデコ
ーダ52の入力端にはアドレスバッファ53、54の出
力端が接続されている。これらアドレスバッファ53、
54の入力端とバンクアドレスAm、Anが供給される
パッド55、56とは配線によって適宜接続される。す
なわち、アドレスバッファ53の入力端とパッド55と
はバンク構成に拘らず配線57によって接続され、アド
レスバッファ54の入力端はバンク構成に応じて配線が
変更される。例えばこのSDRAMを4バンク構成とす
る場合、同図に破線で示す配線58によって、パッド5
6とアドレスバッファ54の入力端が接続される。ま
た、このSDRAMを2バンク構成とする場合、同図に
一点破線で示す配線59によって、パッド55とアドレ
スバッファ54の入力端が接続される。これら配線5
7,58は例えば第2層目の配線であり、最終の工程で
製造される。
In FIG. 5, a plurality of memory cell arrays 51a, 51b, 51c, 51d forming a memory bank.
The output terminal of the decoder 52 is connected to the. The output ends of the address buffers 53 and 54 are connected to the input end of the decoder 52. These address buffers 53,
The input end of 54 and the pads 55 and 56 to which the bank addresses Am and An are supplied are appropriately connected by wiring. That is, the input end of the address buffer 53 and the pad 55 are connected by the wiring 57 regardless of the bank structure, and the wiring of the input end of the address buffer 54 is changed according to the bank structure. For example, when the SDRAM has a 4-bank structure, the pad 5 is formed by the wiring 58 shown by a broken line in FIG.
6 and the input end of the address buffer 54 are connected. When the SDRAM has a two-bank structure, the pad 55 and the input end of the address buffer 54 are connected by a wiring 59 shown by a dashed line in the figure. These wiring 5
Reference numerals 7 and 58 are, for example, second-layer wirings, which are manufactured in the final step.

【0032】上記第2の実施例によれば、パッド55、
56とアドレスバッファ53、54の入力端との間の配
線を切り換えることにより、容易にバンク構成を切り換
えることができる。しかも、アドレスバッファ53、5
4と各メモリセルアレイ51a〜51dとの間の構成が
各バンク構成で同一であるため、各バンク構成におい
て、アドレス遷移時におけるパフォーマンスを揃えるこ
とが可能である。
According to the second embodiment described above, the pads 55,
The bank configuration can be easily switched by switching the wiring between 56 and the input ends of the address buffers 53 and 54. Moreover, the address buffers 53, 5
4 and the memory cell arrays 51a to 51d have the same configuration in each bank configuration, it is possible to equalize the performance at the time of address transition in each bank configuration.

【0033】図6(a)乃至図6(d)は、この発明の
第3の実施例を示すものであり、この発明を例えばDR
AMのリフレッシュサイクルの切り換えに適用した場合
を示している。
FIGS. 6 (a) to 6 (d) show a third embodiment of the present invention.
The case where the present invention is applied to the switching of the AM refresh cycle is shown.

【0034】図6(a)において、メモリセルアレイ6
1のローデコーダ62にはアドレスバッファ63、6
4、65の出力端が接続されている。これらアドレスバ
ッファ63、64、65の入力端とアドレスAm、A
n、Aoが供給されるパッド66、67、68とは配線
によって適宜接続される。すなわち、配線69は、リフ
レッシュサイクルが2k、4k、8kの場合に、パッド
68とアドレスバッファ65とを接続する。
In FIG. 6A, the memory cell array 6
1 row decoder 62 has address buffers 63, 6
The output terminals of 4, 65 are connected. The input ends of these address buffers 63, 64, 65 and the addresses Am, A
The pads 66, 67, and 68 to which n and Ao are supplied are appropriately connected by wiring. That is, the wiring 69 connects the pad 68 and the address buffer 65 when the refresh cycle is 2k, 4k, or 8k.

【0035】配線70は、リフレッシュサイクルが8k
及び4kの場合に、パッド67とアドレスバッファ64
とを接続する。配線71は、リフレッシュサイクルが8
kの場合に、パッド68とアドレスバッファ65とを接
続する。
The wiring 70 has a refresh cycle of 8k.
And 4k, pad 67 and address buffer 64
And connect. The wiring 71 has a refresh cycle of 8
In the case of k, the pad 68 and the address buffer 65 are connected.

【0036】配線72は、リフレッシュサイクルが4k
の場合に、パッド67とアドレスバッファ65とを接続
する。配線73、74は、リフレッシュサイクルが2k
の場合に、パッド66とアドレスバッファ64、65と
を接続する。
The wiring 72 has a refresh cycle of 4k.
In this case, the pad 67 and the address buffer 65 are connected. The wiring 73, 74 has a refresh cycle of 2k
In this case, the pad 66 is connected to the address buffers 64 and 65.

【0037】これら配線69,70,71,72,7
3,74は例えば第2層目の配線であり、最終の工程で
製造される。上記のようにアドレスバッファ63、6
4、65の入力端とパッド66、67、68とを接続す
ることにより、図6(b)(c)(d)に示すように、
アドレスAm、An、Aoに応じてリフレッシュ領域を
設定できる。図6(b)はリフレッシュサイクルが8k
の場合を示し、図6(c)はリフレッシュサイクルが4
kの場合を示し、図6(d)はリフレッシュサイクルが
2kの場合を示している。
These wirings 69, 70, 71, 72, 7
Reference numerals 3 and 74 are, for example, second-layer wirings, which are manufactured in the final step. As described above, the address buffers 63 and 6
As shown in FIGS. 6B, 6C, and 6D, by connecting the input terminals of Nos. 4, 65 and the pads 66, 67, 68,
A refresh area can be set according to the addresses Am, An, Ao. In FIG. 6B, the refresh cycle is 8k.
6C, the refresh cycle is 4 times.
FIG. 6D shows the case where the refresh cycle is 2k.

【0038】しかも、第3実施例の場合、アドレスバッ
ファ63、64、65とパッド66、67、68とを接
続する配線を変えるだけであり、アドレスバッファ6
3、64、65とメモリセルの間の配線は変えていな
い。このため、各リフレッシュサイクルにおけるパフォ
ーマンスを揃えることが可能である。
Moreover, in the case of the third embodiment, only the wiring connecting the address buffers 63, 64 and 65 and the pads 66, 67 and 68 is changed, and the address buffer 6
The wiring between 3, 64 and 65 and the memory cell is not changed. Therefore, the performance in each refresh cycle can be made uniform.

【0039】尚、上記実施例はDRAMやSDRAMに
ついて説明したが、この発明はこれらに限定されるもの
ではなく、ロジック集積回路等、メモリ以外の半導体集
積回路装置に適用することも可能である。
Although the above embodiments have been described with respect to DRAM and SDRAM, the present invention is not limited to these, and can be applied to semiconductor integrated circuit devices other than memories such as logic integrated circuits.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明によれ
ば、トランジスタの駆動能力を増大することなく、ビッ
ト構成を変えることができ、しかも、設計時の負担を増
大することなく、容易に製造可能な半導体集積回路装置
を提供できる。
As described above in detail, according to the present invention, the bit configuration can be changed without increasing the driving ability of the transistor, and the designing load can be easily increased. A manufacturable semiconductor integrated circuit device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例を示す要部の構成図。FIG. 1 is a configuration diagram of a main part showing a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第1の実施例を示す要部の構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a main part showing a first embodiment of the present invention.

【図3】ライトドライバDQWDを具体的に示す回路
図。
FIG. 3 is a circuit diagram specifically showing a write driver DQWD.

【図4】図4(a)はパッドと入力バッファ間の配線の
一例を示す平面図、図4(a)の4b−4b線に沿った
断面図。
4A is a plan view showing an example of wiring between a pad and an input buffer, and a cross-sectional view taken along line 4b-4b of FIG. 4A.

【図5】この発明の第2の実施例を示す構成図。FIG. 5 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図6】図6(a)はこの発明の第3の実施例を示す構
成図、図6(b)(c)(d)はそれぞれ図6(a)の
リフレッシュサイクルが8k、4k、2kの場合の動作
を説明するために示す図。
FIG. 6 (a) is a configuration diagram showing a third embodiment of the present invention, and FIGS. 6 (b), (c) and (d) respectively show refresh cycles of 8k, 4k, 2k in FIG. 6 (a). The figure shown in order to demonstrate operation | movement in the case of.

【図7】RAMのチップ構成を示す平面図。FIG. 7 is a plan view showing a chip configuration of a RAM.

【図8】図7の一部を具体的に示す回路図。FIG. 8 is a circuit diagram specifically showing a part of FIG.

【図9】従来の×4ビット構成のライトデータパスを示
す構成図。
FIG. 9 is a configuration diagram showing a conventional write data path having a × 4 bit configuration.

【図10】従来の×1ビット構成のライトデータパスを
示す構成図。
FIG. 10 is a configuration diagram showing a conventional write data path of × 1 bit configuration.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

DQWD…ライトドライバ、 DIB0〜DIB3…入力バッファ、 RWDn…入出力線、 DQ0〜DQ3…パッド、 La、Lb…配線、 DQ、/DQ…データ線、 51a〜51d…メモリセルアレイ、 52…デコーダ、 53、54…アドレスバッファ、 55、56…パッド、 57、58、59…配線、 61…メモリセルアレイ、 62…ローデコーダ、 63、64、65…アドレスバッファ、 66、67、68…パッド、 69、70、71、72、73、74…配線。 DQWD ... Write driver, DIB0-DIB3 ... Input buffer, RWDn ... I / O line, DQ0-DQ3 ... Pad, La, Lb ... Wiring, DQ, / DQ ... Data line, 51a-51d ... Memory cell array, 52 ... Decoder, 53 , 54 ... Address buffer, 55, 56 ... Pad, 57, 58, 59 ... Wiring, 61 ... Memory cell array, 62 ... Row decoder, 63, 64, 65 ... Address buffer, 66, 67, 68 ... Pad, 69, 70 , 71, 72, 73, 74 ... Wiring.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 信号を入出力するための複数の端子と、 これら端子に対応して配置された複数のバッファ回路
と、 これらバッファ回路がそれぞれ接続されるとともに、選
択されたメモリセルに接続され、信号を伝送する複数の
伝送路と、 前記端子の少なくとも1つと前記複数のバッファ回路と
を接続し、前記メモリセルのビット構成に応じて変更さ
れる複数の配線とを具備することを特徴とする半導体集
積回路装置。
1. A plurality of terminals for inputting / outputting a signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these terminals, and these buffer circuits are respectively connected to a selected memory cell. A plurality of transmission paths for transmitting a signal, and a plurality of wirings that connect at least one of the terminals and the plurality of buffer circuits and are changed according to a bit configuration of the memory cell. Integrated circuit device.
【請求項2】 前記配線は、第2層目の配線であること
を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the wiring is a second layer wiring.
【請求項3】 前記端子は入力端子であることを特徴と
する請求項1記載の半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the terminal is an input terminal.
【請求項4】 前記伝送路にそれぞれ接続され、前記選
択されたメモリセルにデータを書き込む複数の書き込み
回路を具備することを特徴とする請求項1記載の半導体
集積回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a plurality of write circuits each of which is connected to the transmission line and writes data in the selected memory cell.
【請求項5】 入力信号を受ける複数の入力端子と、 これら入力端子に対応して配置された複数のバッファ回
路と、 これらバッファ回路の出力端が接続され、これらバッフ
ァ回路を介して供給される前記入力信号をデコードする
デコーダと、 このデコーダの出力信号によって選択位置が変更される
回路手段と、 前記入力端子の少なくとも1つと前記バッファ回路の少
なくとも1つとを接続し、前記回路手段の選択位置に応
じて接続位置が変更される少なくとも1つの配線とを具
備することを特徴とする半導体集積回路装置。
5. A plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and output terminals of these buffer circuits are connected and supplied through these buffer circuits. A decoder that decodes the input signal, a circuit unit whose selection position is changed by an output signal of the decoder, and at least one of the input terminals and at least one of the buffer circuits are connected to each other, A semiconductor integrated circuit device comprising: at least one wiring whose connection position is changed accordingly.
【請求項6】 前記回路手段は、複数のバンクを構成す
る複数のメモリセルアレイであり、前記デコーダは入力
信号に応じて少なくとも1つのバンクを選択することを
特徴とする請求項5記載の半導体集積回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein said circuit means is a plurality of memory cell arrays forming a plurality of banks, and said decoder selects at least one bank according to an input signal. Circuit device.
【請求項7】 前記回路手段は、メモリセルアレイであ
り、前記デコーダは前記メモリセルアレイのワード線を
選択するローデコーダであり、前記メモリセルアレイの
リフレッシュサイクルは、前記入力端子とバッファ回路
とを接続する前記配線の接続位置を変えることにより変
更されることを特徴とする請求項5記載の半導体集積回
路装置。
7. The circuit means is a memory cell array, the decoder is a row decoder for selecting a word line of the memory cell array, and a refresh cycle of the memory cell array connects the input terminal to a buffer circuit. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the semiconductor integrated circuit device is changed by changing a connection position of the wiring.
【請求項8】 入力信号を受ける複数の入力端子と、 これら入力端子に対応して配置された複数のバッファ回
路と、 これらバッファ回路の出力端がそれぞれ接続される複数
の伝送路と、 これら伝送路に各入力端がそれぞれ接続され、前記各伝
送路に供給された信号を選択されたメモリセルに書き込
む書き込み回路と、 前記入力端子と前記バッファ回路とを接続し、半導体集
積回路の最上部に設けられ、前記メモリセルのビット構
成に応じて接続位置が変更される少なくとも1つの配線
とを具備することを特徴とする半導体集積回路装置。
8. A plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, a plurality of transmission lines to which output terminals of these buffer circuits are respectively connected, and these transmission circuits. Each input end is connected to a path, a write circuit for writing the signal supplied to each transmission path into a selected memory cell, the input terminal and the buffer circuit are connected, and the uppermost part of the semiconductor integrated circuit is connected. A semiconductor integrated circuit device, comprising: at least one wiring, the connection position of which is changed according to the bit configuration of the memory cell.
【請求項9】 入力信号を受ける複数の入力端子と、 これら入力端子に対応して配置された複数のバッファ回
路と、 これらバッファ回路の出力端が接続され、バッファ回路
から供給される前記アドレス信号をデコードするデコー
ダと、 このデコーダの出力信号によって選択され、複数のバン
クを構成するメモリセルアレイと、 前記入力端子とバッファ回路とを接続し、前記メモリセ
ルアレイのバンク構成に応じて接続位置が変更される少
なくとも1つの配線とを具備することを特徴とする半導
体集積回路装置。
9. A plurality of input terminals for receiving an input signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, output terminals of these buffer circuits are connected, and the address signal is supplied from the buffer circuit. And a memory cell array which is selected by an output signal of the decoder and constitutes a plurality of banks, and which connects the input terminal and the buffer circuit, and the connection position is changed according to the bank configuration of the memory cell array. A semiconductor integrated circuit device, comprising:
【請求項10】 アドレス信号を受ける複数の入力端子
と、 これら入力端子に対応して配置された複数のバッファ回
路と、 これらバッファ回路の出力端が接続され、バッファ回路
から供給される前記アドレス信号をデコードするローデ
コーダと、 このローデコーダの出力信号によって選択されるメモリ
セルと、 前記入力端子とバッファ回路とを接続し、前記メモリセ
ルのリフレッシュサイクルに応じて接続位置が変更され
る少なくとも1つの配線とを具備することを特徴とする
半導体集積回路装置。
10. A plurality of input terminals for receiving an address signal, a plurality of buffer circuits arranged corresponding to these input terminals, and output terminals of these buffer circuits are connected to the address signal supplied from the buffer circuit. A row decoder for decoding the memory cell, a memory cell selected by an output signal of the row decoder, the input terminal and a buffer circuit, and at least one connection position of which is changed according to a refresh cycle of the memory cell. A semiconductor integrated circuit device comprising: a wiring.
【請求項11】 前記バッファ回路の電流駆動能力は、
最大のビット構成とした場合の電流駆動能力に設定され
ていることを特徴とする請求項1、8、9、10の何れ
かに記載の半導体集積回路装置。
11. The current drive capability of the buffer circuit is
The semiconductor integrated circuit device according to any one of claims 1, 8, 9, and 10, wherein the current driving capability is set to the maximum bit configuration.
【請求項12】 前記配線は、半導体集積回路の最終の
製造工程で製造されることを特徴とする請求項1、8、
9、10の何れかに記載の半導体集積回路装置。
12. The wiring is manufactured in a final manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.
9. The semiconductor integrated circuit device according to any one of 9 and 10.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100403152B1 (en) * 1999-12-17 2003-10-30 닛본 덴끼 가부시끼가이샤 Semiconductor memory device

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KR100403152B1 (en) * 1999-12-17 2003-10-30 닛본 덴끼 가부시끼가이샤 Semiconductor memory device

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