JPH09265663A - Digital video disk substrate - Google Patents

Digital video disk substrate

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Publication number
JPH09265663A
JPH09265663A JP8073858A JP7385896A JPH09265663A JP H09265663 A JPH09265663 A JP H09265663A JP 8073858 A JP8073858 A JP 8073858A JP 7385896 A JP7385896 A JP 7385896A JP H09265663 A JPH09265663 A JP H09265663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polycarbonate
structural unit
polyorganosiloxane
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP8073858A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaya Okamoto
正哉 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP8073858A priority Critical patent/JPH09265663A/en
Publication of JPH09265663A publication Critical patent/JPH09265663A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a disk substrate having little cracks during forming, small double refraction and excellent transfer property by specifying the structural units and compounding ratios of polycarbonate and polyorganosiloxane as the compsn. of a digital video disk substrate. SOLUTION: This substrate contains 5 to 100wt.% polycarbonate- polyorganosiloxane copolymer comprising a polycarbonate structural unit expressed by formula I and a polyorganosiloxane structural unit expressed by formula II, and 95 to 0wt.% polycarbonate resin. Moreover, the resin compsn. contains 0.1 to 10wt.% polyorganosiloxane structural unit to the whole amt. of the resin compsn. In formula I, R<1> , R<2> are independently halogen atoms or 1 to 6C alkyl groups or phenyl groups. In formula II, R<3> to R<6> are independently 1 to 6C alkyl groups or phenyl groups.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はデジタルビデオディ
スク基板に関し、さらに詳しくは、成形時の割れが少な
い上、複屈折が小さく、かつ転写性に優れるポリカーボ
ネート樹脂組成物からなるデジタルビデオディスク基板
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a digital video disk substrate, and more particularly to a digital video disk substrate made of a polycarbonate resin composition which has few cracks during molding, has small birefringence and is excellent in transferability. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光ディスクであるCDやCD−R
OMなどの規格は、ディスク径:120mm、ディスク
厚:1.2mm、構造:単板片面である。これに対し、デ
ジタルビデオディスク(DVD)の規格は、ディスク
径:120mm、ディスク厚:1.2mm、構造:両面貼
せであり、したがって、ディスク基板としては、厚み0.
6mmとなる。このように、ディスク基板の厚みが1.2
mmから0.6mmに薄くなると、成形時に破損が生じた
り、複屈折が増大するなど、好ましくない事態を招来す
る。このディスク基板材料としては、透明性,耐熱性,
耐衝撃性,耐水性などに優れることから、近年、ポリカ
ーボネートが多用されている。該ディスク基板の成形時
の割れを防止するために、基板材料のポリカーボネート
の分子量を増加させると、複屈折がさらに増大する。ま
た複屈折を低減するために、超音波成形,多段圧縮成
形、高速充填成形などの方法を用いて、デジタルビデオ
ディスク基板を成形する試みがなされているが、これら
の成形方法でも、複屈折の低減は充分ではない上、むし
ろ、通常の成形方法に比べて破損が生じやすいという問
題がある。
2. Description of the Related Art CDs and CD-Rs which are conventional optical disks
Standards such as OM are disk diameter: 120 mm, disk thickness: 1.2 mm, structure: single-sided single side. On the other hand, the standard of the digital video disc (DVD) is that the disc diameter is 120 mm, the disc thickness is 1.2 mm, and the structure is double-sided attachment. Therefore, the disc substrate has a thickness of 0.
It will be 6 mm. Thus, the thickness of the disc substrate is 1.2
If the thickness is reduced from mm to 0.6 mm, it may cause an unfavorable situation such as damage during molding and increase in birefringence. This disk substrate material is transparent, heat resistant,
In recent years, polycarbonate has been widely used because of its excellent impact resistance and water resistance. If the molecular weight of the polycarbonate of the substrate material is increased in order to prevent cracking during molding of the disk substrate, birefringence will be further increased. Also, in order to reduce the birefringence, attempts have been made to mold the digital video disk substrate by using methods such as ultrasonic molding, multi-stage compression molding, and high-speed filling molding. There is a problem that the reduction is not sufficient, and rather, damage is more likely to occur as compared with the usual molding method.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、成形時の割れが少ない上、複屈折が小さく、
かつ転写性に優れるデジタルビデオディスク基板を提供
することを目的とするものである。
Under the circumstances, the present invention has a small number of cracks during molding and a small birefringence.
Moreover, it is an object of the present invention to provide a digital video disk substrate having excellent transferability.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、成形時の割
れが少なく、かつ複屈折の小さいデジタルビデオディス
ク基板について鋭意研究を重ねた結果、基板材料とし
て、離型性に優れる特定構造のポリカーボネート−ポリ
オルガノシロキサン共重合体を含有するポリカーボネー
ト樹脂組成物を用いることにより、前記目的を達成しう
ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完
成したものである。すなわち、本発明は、(a)一般式
(I)
The inventor of the present invention has conducted extensive studies on a digital video disk substrate which has few cracks during molding and has small birefringence. As a result, the substrate material has a specific structure excellent in releasability. It has been found that the above object can be achieved by using a polycarbonate resin composition containing a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention provides (a) general formula (I)

【0005】[0005]

【化4】 Embedded image

【0006】(式中、R1 及びR2 は、それぞれハロゲ
ン原子,炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、Z
は単結合,炭素数1〜20のアルキレン基若しくはアル
キリデン基,炭素数5〜20のシクロアルキレン基若し
くはシクロアルキリデン基,−O−,−S−,−SO
−,−SO2 又は−CO−を示し、p及びqは、それぞ
れ0〜4の整数、mは1〜150の整数を示す。)で表
されるポリカーボネート構造単位及び一般式(II)
(In the formula, R 1 and R 2 each represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, which may be the same or different from each other;
Is a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkylidene group, a cycloalkylene group having 5 to 20 carbon atoms or a cycloalkylidene group, -O-, -S-, -SO.
-, - SO 2 or -CO- indicates, p and q each represent an integer of 0 to 4, m is an integer of 1 to 150. ) Polycarbonate structural unit and general formula (II)

【0007】[0007]

【化5】 Embedded image

【0008】(式中、R3 〜R6 は、それぞれ炭素数1
〜6のアルキル基又はフェニル基を示し、それらはたが
いに同一でも異なっていてもよく、Aは二価の有機残
基、Rは一価又は二価の有機残基、nは1〜60の整数
を示す。)で表されるポリオルガノシロキサン構造単位
からなるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共
重合体5〜100重量%、及び(b)ポリカーボネート
樹脂95〜0重量%を含有し、かつ上記ポリオルガノシ
ロキサン構造単位を樹脂成分全量に基づき0.1〜10重
量%の割合で含有する樹脂組成物からなるデジタルビデ
オディスク基板を提供するものである。
(In the formula, each of R 3 to R 6 has 1 carbon atom.
~ 6 alkyl groups or phenyl groups, which may be the same or different from each other, A is a divalent organic residue, R is a monovalent or divalent organic residue, n is 1-60 Indicates an integer. 5) 100% by weight of a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer comprising a polyorganosiloxane structural unit represented by the formula (b) and (b) 95-0% by weight of a polycarbonate resin, and the polyorganosiloxane structural unit is a resin. It is intended to provide a digital video disk substrate made of a resin composition containing 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the components.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明のデジタルビデオディスク
基板(DVD基板)の材料として用いられる樹脂組成物
においては、(a)成分として、一般式(I)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In a resin composition used as a material for a digital video disk substrate (DVD substrate) of the present invention, as the component (a), a compound represented by the general formula (I) is used.

【0010】[0010]

【化6】 で表されるポリカーボネート構造単位及び一般式(II)[Chemical 6] A polycarbonate structural unit represented by and a general formula (II)

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】で表されるポリオルガノシロキサン構造単
位からなるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン
共重合体(以下、PC−POS共重合体と略記する。)
が用いられる。上記一般式(I)において、R1 及びR
2 は、それぞれハロゲン原子,炭素数1〜6のアルキル
基又はフェニル基を示す。ここで、ハロゲン原子として
は、塩素,臭素,フッ素,ヨウ素原子が挙げられ、炭素
数1〜6のアルキル基としては、直鎖状,分岐状,環状
のいずれであってもよく、例えばメチル基,エチル基,
n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソ
ブチル基,t−ブチル基,アミル基,イソアミル基,ヘ
キシル基,イソヘキシル基,シクロヘキシル基などが挙
げられる。このR1 及びR2 は、たがいに同一でも異な
っていてもよい。また、R1 が複数ある場合は、複数の
1 は同一でも異なっていてもよく、R2が複数ある場
合は、複数のR2 は同一でも異なっていてもよい。p及
びqは、それぞれ0〜4の整数である。そして、Zは単
結合,炭素数1〜20のアルキレン基若しくはアルキリ
デン基,炭素数5〜20のシクロアルキレン基若しくは
シクロアルキリデン基,−O−,−S−,−SO−,−
SO2 −又は−CO−を示す。ここで、炭素数1〜20
のアルキレン基若しくはアルキリデン基としては、例え
ばメチレン基,エチレン基,プロピレン基,ブチレン
基,ペンチレン基,ヘキシレン基,エチリデン基,イソ
プロピリデン基などが挙げられ、炭素数5〜20のシク
ロアルキレン基若しくはシクロアルキリデン基として
は、例えばシクロペンチレン基,シクロヘキシレン基,
シクロペンチリデン基,シクロヘキシリデン基などが挙
げられる。mは1〜150の整数を示す。
A polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer having a polyorganosiloxane structural unit represented by the following (hereinafter abbreviated as PC-POS copolymer).
Is used. In the above general formula (I), R 1 and R
2 represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, respectively. Here, examples of the halogen atom include chlorine, bromine, fluorine and iodine atoms, and the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, for example, a methyl group. , Ethyl group,
Examples thereof include n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, isoamyl group, hexyl group, isohexyl group and cyclohexyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. Further, when R 1 is more than one, a plurality of R 1 may be the same or different, when R 2 is more than one, a plurality of R 2 may be the same or different. p and q are integers of 0 to 4, respectively. Z is a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkylidene group, a cycloalkylene group having 5 to 20 carbon atoms or a cycloalkylidene group, -O-, -S-, -SO-,-.
Indicates SO 2 — or —CO—. Here, the number of carbon atoms is 1 to 20
Examples of the alkylene group or alkylidene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, and the like. Examples of the alkylidene group include a cyclopentylene group, a cyclohexylene group,
Examples thereof include a cyclopentylidene group and a cyclohexylidene group. m represents an integer of 1 to 150.

【0013】一方、上記一般式(II)において、R3
6 は、それぞれ炭素数1〜6のアルキル基又はフェニ
ル基を示す。ここで、炭素数1〜6のアルキル基として
は、直鎖状,分岐状,環状のいずれであってもよく、例
えばメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,イソブチル基,t−ブチル基,ア
ミル基,イソアミル基,ヘキシル基,イソヘキシル基,
シクロヘキシル基などが挙げられる。このR3 〜R
6 は、たがいに同一でも異なっていてもよい。Aは二価
の有機残基を示し、その例としては、
On the other hand, in the general formula (II), R 3 to
R 6 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group. Here, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, Isobutyl group, t-butyl group, amyl group, isoamyl group, hexyl group, isohexyl group,
And a cyclohexyl group. This R 3 ~ R
6 may be the same or different. A represents a divalent organic residue, and examples thereof include:

【0014】[0014]

【化8】 Embedded image

【0015】で示される基などを挙げることができる。
なお、この二価の基において、*印のついた側の結合手
がSiと結合していることを意味する。Rは一価又は二
価の有機残基を示す。ここで、二価の有機残基として
は、上記Aの説明で例示したものと同じものを挙げるこ
とができ、また、一価の有機残基としては、炭素数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基,エチル基,n−プロ
ピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル
基,アミル基,ヘキシル基など)又は炭素数6〜20の
アリール基(例えばフェニル基,トリル基,キシリル
基,ナフチル基など)を好ましく挙げることができる。
nは1〜60、好ましくは5〜40、より好ましくは1
0〜30の整数を示す。nが60を超えると樹脂の透明
性が低下し、DVD基板材料として適さなくなる。
Examples include groups represented by:
In this divalent group, it means that the bond on the side marked with * is bonded to Si. R represents a monovalent or divalent organic residue. Here, as the divalent organic residue, the same ones as exemplified in the above description of A can be mentioned, and as the monovalent organic residue, the number of carbon atoms is 1 to 1
8 alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, hexyl group) or aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group) Groups, xylyl groups, naphthyl groups, etc.) are preferred.
n is 1 to 60, preferably 5 to 40, more preferably 1
The integer of 0-30 is shown. When n exceeds 60, the transparency of the resin is lowered and it becomes unsuitable as a DVD substrate material.

【0016】この(a)成分のPC−POS共重合体は
ブロック共重合体又はグラフト共重合体が好ましく、そ
のタイプについては特に制限されず、どのようなタイプ
のものであってもよい。例えばブロック共重合体として
は、一般式(I)で表されるポリカーボネート構造単位
をAブロック、一般式(II)で表されるポリオルガノシ
ロキサン構造単位をBブロックとした場合、AB型,A
BA型,BAB型及びマルチブロック型などを挙げるこ
とができる。これらの中で、AB型及びABA型ブロッ
ク共重合体が好ましく、特にABA型ブロック共重合体
が好適である。該PC−POS共重合体がABA型ブロ
ック共重合体の場合、一般式(II)におけるRは二価の
有機残基となり、一方、AB型ブロック共重合体の場合
は、Rは一価の有機残基となる。また、ABA型ブロッ
ク共重合体における両末端基、あるいはAB型ブロック
共重合体においてAに結合する末端基としては、一般式
(III)
The PC-POS copolymer of the component (a) is preferably a block copolymer or a graft copolymer, and its type is not particularly limited, and any type may be used. For example, as the block copolymer, when the polycarbonate structural unit represented by the general formula (I) is A block and the polyorganosiloxane structural unit represented by the general formula (II) is B block, AB type, A
Examples thereof include BA type, BAB type and multi-block type. Among these, AB type and ABA type block copolymers are preferable, and ABA type block copolymers are particularly preferable. When the PC-POS copolymer is an ABA type block copolymer, R in the general formula (II) is a divalent organic residue, while in the case of an AB type block copolymer, R is a monovalent organic residue. It becomes an organic residue. Further, as both end groups in the ABA type block copolymer, or the end groups bonded to A in the AB type block copolymer, the general formula
(III)

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】で表される基を挙げることができる。この
一般式(III) において、R7 はハロゲン原子、炭素数1
〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール基又は
炭素数7〜20のアリールアルキル基を示す。ここで、
ハロゲン原子としては、塩素,臭素,フッ素,ヨウ素原
子が挙げられる。炭素数1〜20のアルキル基として
は、直鎖状,分岐状,環状のいずれであってもよく、例
えばメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピ
ル基,n−ブチル基,イソブチル基,sec−ブチル
基,tert−ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オ
クチル基,デシル基,ドデシル基,シクロペンチル基,
シクロヘキシル基などが挙げられる。一方、炭素数6〜
20のアリール基としては、芳香環上に置換基を有しな
いものであってもよいし、低級アルキル基などの適当な
置換基を有するものであってもよく、例えばフェニル
基,トリル基,キシリル基,ナフチル基,メチルナフチ
ル基などが挙げられる。また、炭素数7〜20のアリー
ルアルキル基としては、芳香環上に置換基を有しないも
のであってもよいし、低級アルキル基などの適当な置換
基を有するものであってもよく、例えばベンジル基,フ
ェネチル基,ナフチルメチル基,クミル基などが挙げら
れる。このABA型のPC−POS共重合体は、様々な
方法により製造することができるが、例えば一般式(I
V)
A group represented by: In the general formula (III), R 7 is a halogen atom and has 1 carbon atom.
Is an alkyl group having 20 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms. here,
Examples of the halogen atom include chlorine, bromine, fluorine and iodine atoms. The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched or cyclic and includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, cyclopentyl group,
And a cyclohexyl group. On the other hand, carbon number 6 ~
The aryl group of 20 may have no substituent on the aromatic ring or may have an appropriate substituent such as a lower alkyl group, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group. Group, naphthyl group, methylnaphthyl group and the like. The arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms may have no substituent on the aromatic ring, or may have an appropriate substituent such as a lower alkyl group, for example, Examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and a cumyl group. The ABA type PC-POS copolymer can be produced by various methods, and for example, the compound represented by the general formula (I
V)

【0019】[0019]

【化10】 (式中、R1 ,R2 ,Z,p及びqは上記と同じであ
る。)で表される二価フェノールと、一般式(V)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , Z, p and q are the same as above.), And a divalent phenol represented by the general formula (V).

【0020】[0020]

【化11】 (式中、R3 〜R6 ,A及びnは上記と同じであり、A
1 はAと同種の二価の有機残基を示す。)で表されるポ
リオルガノシロキサンと炭酸エステル形成性誘導体とを
液体媒体中において、一般式(VI)
Embedded image (In the formula, R 3 to R 6 , A and n are the same as above,
1 represents a divalent organic residue of the same type as A. ) In the liquid medium, a polyorganosiloxane represented by the formula

【0021】[0021]

【化12】 Embedded image

【0022】(式中、R7 及びrは上記と同じであ
る。)で表される一価フェノールからなる末端停止剤の
存在下反応させることにより、効率よく製造することが
できる。反応方法としては、公知の界面重縮合法やピリ
ジン法などを適用することができる。例えば、塩化メチ
レン,クロロホルム,クロロベンゼン,四塩化炭素など
の不活性有機溶媒に一般式(V)のポリオルガノシロキ
サンを溶解させた溶液及びアルカリ水溶液(水酸化ナト
リウム水溶液,水酸化カリウム水溶液,炭酸ナトリウム
水溶液など)に一般式(IV)の二価フェノールを溶解さ
せた溶液の混合物に、ホスゲン等の炭酸エステル形成性
誘導体を吹込んで界面重縮合反応を行う。この反応にあ
たっては、予めあるいは反応のある程度進んだ段階で一
般式(VI)の末端停止剤を反応系に加えておくのがよ
い。また反応系にはトリエチルアミン等の第三級アミン
を触媒として加えておくことも有効である。
(In the formula, R 7 and r are the same as above.) The reaction can be carried out in the presence of a monohydric phenol end-stopper, whereby the product can be efficiently produced. As the reaction method, a known interfacial polycondensation method, pyridine method or the like can be applied. For example, a solution obtained by dissolving the polyorganosiloxane of the general formula (V) in an inert organic solvent such as methylene chloride, chloroform, chlorobenzene or carbon tetrachloride, and an alkaline aqueous solution (sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, sodium carbonate aqueous solution). And the like) is mixed with a solution of the dihydric phenol of the general formula (IV) dissolved therein, and a carbonate ester-forming derivative such as phosgene is blown into the mixture to carry out an interfacial polycondensation reaction. In this reaction, it is preferable to add the terminal stopper of the general formula (VI) to the reaction system in advance or at a stage where the reaction has advanced to some extent. It is also effective to add a tertiary amine such as triethylamine as a catalyst to the reaction system.

【0023】なお、予め一般式(IV)の二価フェノール
と炭酸エステル形成性誘導体によりポリカーボネートオ
リゴマーを調製しておき、このオリゴマー,一般式
(V)のポリオルガノシロキサン及び一般式(VI)の末
端停止剤と上述した不活性有機溶媒ならびにアルカリ水
溶液、さらには触媒を所定量比で混合攪拌して、界面重
縮合反応を行う方法も有効である。また、ピリジン法に
よれば、原料である一般式(IV)の二価フェノールと一
般式(V)のポリオルガノシロキサン及び一般式(VI)
の末端停止剤をピリジンあるいはピリジンと不活性溶剤
との混合溶媒に溶解し、この溶液にホスゲン等の炭酸エ
ステル形成性誘導体を吹込めば、所望のABA型のPC
−POS共重合体が得られる。一方、AB型のPC−P
OS共重合体についても様々な方法により製造すること
ができるが、例えば上記一般式(IV)で表される二価フ
ェノール及び一般式(VI)で表される一価フェノールの
存在下、ポリカーボネートオリゴマーと、一般式(VII)
A polycarbonate oligomer is prepared in advance from a dihydric phenol of the general formula (IV) and a carbonic acid ester-forming derivative, and the oligomer, the polyorganosiloxane of the general formula (V) and the terminal of the general formula (VI) are prepared. It is also effective to carry out the interfacial polycondensation reaction by mixing and stirring the terminating agent, the above-mentioned inert organic solvent and alkaline aqueous solution, and further the catalyst in a predetermined ratio. According to the pyridine method, the dihydric phenol of the general formula (IV), the polyorganosiloxane of the general formula (V) and the general formula (VI) are used as raw materials.
The end-capping agent is dissolved in pyridine or a mixed solvent of pyridine and an inert solvent, and a carbonic acid ester-forming derivative such as phosgene is blown into this solution to obtain the desired ABA-type PC.
A POS copolymer is obtained. On the other hand, AB type PC-P
The OS copolymer can also be produced by various methods. For example, the polycarbonate oligomer in the presence of the dihydric phenol represented by the general formula (IV) and the monohydric phenol represented by the general formula (VI) can be used. And the general formula (VII)

【0024】[0024]

【化13】 Embedded image

【0025】(式中、R’は一価の有機基、例えば炭素
数1〜8のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基
を示し、R3 〜R6 ,A及びnは上記と同じである。)
で表される片末端が封止されたポリオルガノシロキサン
を反応させることにより、効率よく製造することができ
る。該ポリカーボネートオリゴマーは、溶剤法、すなわ
ち塩化メチレンなどの有機溶剤中で公知の酸受容体、一
般式(VI) の末端停止剤の存在下、一般式(IV)の二価
フェノールとホスゲンのような前駆体との反応、又は該
二価フェノールと炭酸ジエステル(例えばジフェニルカ
ーボネートなど)とのエステル交換反応によって調製す
ることができる。
(In the formula, R ′ represents a monovalent organic group such as an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 3 to R 6 , A and n are the same as above. It is.)
By reacting a polyorganosiloxane of which one end is blocked, represented by, can be efficiently produced. The polycarbonate oligomer is prepared by a solvent method, that is, in the presence of a known acid acceptor, a divalent phenol of the general formula (IV) and phosgene in an organic solvent such as methylene chloride in the presence of a known endcapper of the general formula (VI). It can be prepared by a reaction with a precursor or a transesterification reaction between the dihydric phenol and a carbonic acid diester (for example, diphenyl carbonate).

【0026】上記一般式(IV)で表される二価フェノー
ルとしては、様々なものがあるが、特に2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン〔ビスフェノール
A〕が好適である。ビスフェノールA以外の二価フェノ
ールとしては、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタン;ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン;ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン;1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタン;1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン;2−メチル−1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン;2,2−ビス(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン;1−エチル−
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン;
2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン;2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン;2,2−ビス(3−
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン;2,2−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン;2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン;1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ブタン;2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ブタン;1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン;2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン;4−メチル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン;2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサン;4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘプタン;2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ノナン;1,10−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)デカン;1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパンなどのジヒドロキシジアリ
ールアルカン類、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン;1,1−ビス(3,5−ジクロロ
−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン;1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロデカンなどのジ
ヒドロキシジアリールシクロアルカン類、ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホン;ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)スルホン;ビス(3−クロ
ロ−4−ヒドロキシフェニル)スルホンなどのジヒドロ
キシジアリールスルホン類、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エーテル;ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)エーテルなどのジヒドロキシジアリール
エーテル類、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン;
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒド
ロキシベンゾフェノンなどのジヒドロキシジアリールケ
トン類、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド;
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィ
ド;ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィ
ド類、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシドな
どのジヒドロキシジアリールスルホキシド類などが挙げ
られる。これらの二価フェノールは単独で用いてもよ
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
There are various dihydric phenols represented by the above general formula (IV), but 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [bisphenol A] is particularly preferable. Examples of the dihydric phenol other than bisphenol A include bis (4-hydroxyphenyl)
Methane; bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) methane; bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane; 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane; 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane; 2-methyl-1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane; 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane; 1-ethyl-
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane;
2,2-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) propane; 2,2-bis (3,5-dibromo-4)
-Hydroxyphenyl) propane; 2,2-bis (3-
Chloro-4-hydroxyphenyl) propane; 2,2-
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane; 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane; 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) butane; 2,2-bis (4 -Hydroxyphenyl)
Butane; 1,4-bis (4-hydroxyphenyl) butane; 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane; 4-methyl-2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane; 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexane; 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) heptane; 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) nonane; 1,10-bis (4-hydroxyphenyl) decane; 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl)
-3,3,5-trimethylcyclohexane; 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3
Dihydroxydiarylalkanes such as 3-hexafluoropropane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane; 1,1-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) cyclohexane; 1,1-
Dihydroxydiarylcycloalkanes such as bis (4-hydroxyphenyl) cyclodecane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone; bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfone; bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) ) Dihydroxydiarylsulfones such as sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) ether; dihydroxydiarylethers such as bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ether, 4,4′-dihydroxybenzophenone;
Dihydroxydiarylketones such as 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybenzophenone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide;
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfide; dihydroxydiaryl sulfides such as bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, dihydroxydiaryl sulfoxides such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide, and the like. Can be mentioned. These dihydric phenols may be used alone or in combination of two or more.

【0027】また、一般式(VI) で表される一価フェノ
ールの末端停止剤としては、例えばフェノール;o−n
−ブチルフェノール;m−n−ブチルフェノール;p−
n−ブチルフェノール;o−イソブチルフェノール;m
−イソブチルフェノール;p−イソブチルフェノール;
o−t−ブチルフェノール;m−t−ブチルフェノー
ル;p−t−ブチルフェノール;o−n−ペンチルフェ
ノール;m−n−ペンチルフェノール;p−n−ペンチ
ルフェノール;o−n−ヘキシルフェノール;m−n−
ヘキシルフェノール;p−n−ヘキシルフェノール;o
−シクロヘキシルフェノール;m−シクロヘキシルフェ
ノール;p−シクロヘキシルフェノール;o−フェニル
フェノール;m−フェニルフェノール;p−フェニルフ
ェノール;o−n−ノニルフェノール;m−n−ノニル
フェノール;p−n−ノニルフェノール;o−クミルフ
ェノール;m−クミルフェノール;p−クミルフェノー
ル;o−ナフチルフェノール;m−ナフチルフェノー
ル;p−ナフチルフェノール;2,6−ジ−t−ブチル
フェノール;2,5−ジ−t−ブチルフェノール;2,
4−ジ−t−ブチルフェノール;3,5−ジ−t−ブチ
ルフェノール;2,5−ジクミルフェノール;3,5−
ジクミルフェノールなどが挙げられる。これらは単独で
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the terminal stopper for the monohydric phenol represented by the general formula (VI) include phenol;
-Butylphenol; mn-butylphenol; p-
n-butylphenol; o-isobutylphenol; m
-Isobutylphenol; p-isobutylphenol;
o-t-butylphenol; m-t-butylphenol; p-t-butylphenol; o-n-pentylphenol; m-n-pentylphenol; p-n-pentylphenol; o-n-hexylphenol; m-n-
Hexylphenol; pn-hexylphenol; o
-Cyclohexylphenol; m-cyclohexylphenol; p-cyclohexylphenol; o-phenylphenol; m-phenylphenol; p-phenylphenol; o-n-nonylphenol; m-n-nonylphenol; p-n-nonylphenol; Millphenol; m-cumylphenol; p-cumylphenol; o-naphthylphenol; m-naphthylphenol; p-naphthylphenol; 2,6-di-t-butylphenol; 2,5-di-t-butylphenol; Two
4-di-t-butylphenol; 3,5-di-t-butylphenol; 2,5-dicumylphenol; 3,5-
Examples include dicumylphenol. These may be used alone or in combination of two or more.

【0028】この(a)成分のPC−POS共重合体に
おける前記一般式(I)で表されるポリカーボネート構
造単位と一般式(II)で表されるポリオルガノシロキサ
ン構造単位との割合については、該ポリオルガノシロキ
サン構造単位が少なくとも0.1重量%の割合で含有して
いればよく、特に制限はない。このポリオルガノシロキ
サン構造単位の含有量が0.1重量%未満では樹脂組成物
を調製した際、ポリオルガノシロキサン構造単位の含有
量を、樹脂成分全量に基づき、0.1〜10重量%の範囲
に制御することができない。なお、このPC−POS共
重合体の製造時に、ポリオルガノシロキサン構造単位を
含まないホモポリカーボネートも製造され、実質的には
PC−POS共重合体とホモポリカーボネートとのブレ
ンド品となるが、ここではこのブレンド品も共重合体と
呼ぶこととする。
Regarding the ratio of the polycarbonate structural unit represented by the general formula (I) to the polyorganosiloxane structural unit represented by the general formula (II) in the PC-POS copolymer as the component (a), There is no particular limitation as long as the polyorganosiloxane structural unit is contained in a proportion of at least 0.1% by weight. When the content of this polyorganosiloxane structural unit is less than 0.1% by weight, when the resin composition is prepared, the content of the polyorganosiloxane structural unit is in the range of 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the resin component. Cannot be controlled. A homopolycarbonate containing no polyorganosiloxane structural unit is also produced during the production of this PC-POS copolymer, and it is essentially a blended product of the PC-POS copolymer and the homopolycarbonate. This blended product is also called a copolymer.

【0029】本発明のDVD基板の材料として用いられ
る樹脂組成物においては、(b)成分としてポリカーボ
ネート樹脂が用いられる。このポリカーボネート樹脂
は、その製造方法については特に制限はなく、二価フェ
ノールとホスゲンとを界面重縮合法により直接反応させ
て得られたものであってもよく、また二価フェノールと
炭酸ジエステルを溶融状態でエステル交換反応させる方
法(溶融重合法)により得られたものであってもよい。
二価フェノールとしては、前記(a)成分のPC−PO
S共重合体の製造についての説明において例示したもの
と同じものを挙げることができ、このほか、ハイドロキ
ノンや9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レン及びそれらのハロゲン誘導体なども用いることがで
きる。これらは一種用いてもよく、二種以上を組み合わ
せて用いてもよいが、これらの中で、特に2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノール
A)が好適である。また、炭酸ジエステルとしては、例
えばジフェニルカーボネートなどのジアリールカーボネ
ート、ジメチルカーボネートやジエチルカーボネートな
どのジアルキルカーボネートなどが好ましく挙げられ
る。これらは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせ
て用いてもよいが、これらの中で、特にジフェニルカー
ボネートが好適である。
In the resin composition used as the material for the DVD substrate of the present invention, a polycarbonate resin is used as the component (b). This polycarbonate resin is not particularly limited in its production method, and may be one obtained by directly reacting a dihydric phenol and phosgene by an interfacial polycondensation method, or by melting a dihydric phenol and a carbonic acid diester. It may be obtained by a method (melt polymerization method) of transesterification in the state.
As the dihydric phenol, PC-PO as the component (a) is used.
The same as those exemplified in the description of the production of the S copolymer can be mentioned, and in addition, hydroquinone, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and halogen derivatives thereof can also be used. . These may be used alone or in combination of two or more, and of these, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A) is particularly preferable. Preferred examples of carbonic acid diesters include diaryl carbonates such as diphenyl carbonate, and dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate. These may be used alone or in combination of two or more, and among these, diphenyl carbonate is particularly preferable.

【0030】このポリカーボネート樹脂を製造する際に
は、通常末端停止剤が用いられる。この末端停止剤は一
価フェノールであればよく、特に制限されず、例えば、
前記(a)成分のPC−POS共重合体の製造について
の説明において、末端停止剤として例示したものと同じ
ものを挙げることができる。これらは一種用いてもよ
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、こ
のポリカーボネート樹脂を製造する際、本発明の効果が
損なわれない範囲で、必要に応じ分岐剤を二価フェノー
ルと併用してもよい。この分岐剤としては官能基3個以
上を有する化合物、例えば1,1,1−トリス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン;α,α’,α”−トリス
(4−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリイソプ
ロピルベンゼン;1−〔α−メチル−α−(4’−ヒド
ロキシフェニル)エチル〕−4−〔α’,α’−ビス
(4”−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン;フロ
ログリシン;トリメリット酸;イサチンビス(o−クレ
ゾ−ル)などが挙げられる。これらは単独で用いてもよ
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
When producing this polycarbonate resin, a terminal stopper is usually used. This terminal stopper may be a monohydric phenol and is not particularly limited, and for example,
In the description of the production of the PC-POS copolymer as the component (a), the same ones as exemplified as the terminal terminator can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, when producing this polycarbonate resin, a branching agent may be used in combination with the dihydric phenol, if necessary, within the range in which the effects of the present invention are not impaired. As the branching agent, a compound having three or more functional groups, for example, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) ethane; α, α ′, α ″ -tris (4-hydroxyphenyl) -1,3,3. 5-triisopropylbenzene; 1- [α-methyl-α- (4′-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α ′, α′-bis (4 ″ -hydroxyphenyl) ethyl] benzene; phloroglycine; tri Mellitic acid; isatin bis (o-cresol) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0031】本発明のDVD基板の材料として用いられ
る樹脂組成物においては、前記(a)成分のPC−PO
S共重合体と(b)成分のポリカーボネート樹脂との割
合は、(a)成分が5〜100重量%で、(b)成分が
95〜0重量%の範囲である。(a)成分の量が5重量
%未満では所望の物性を有するDVD基板が得られな
い。また、この樹脂組成物における前記一般式(II)で
表されるポリオルガノシロキサン構造単位の含有量は、
樹脂成分全量に基づき、0.1〜10重量%の範囲であ
る。この量が0.1重量%未満ではDVD基板成形時に割
れが生じるおそれがあり、また10重量%を超えると耐
熱性及び剛性が低下し、DVD基板材料として不適当と
なる。基板成形時の割れ防止性,耐熱性及び剛性のバラ
ンスなどの面から、このポリオルガノシロキサン構造単
位の好ましい含有量は、樹脂成分全量に基づき0.3〜8
重量%の範囲であり、特に0.5〜6重量%の範囲が好適
である。
In the resin composition used as the material of the DVD substrate of the present invention, PC-PO of the above-mentioned component (a) is used.
The proportion of the S copolymer and the polycarbonate resin of the component (b) is in the range of 5 to 100% by weight of the component (a) and 95 to 0% by weight of the component (b). If the amount of the component (a) is less than 5% by weight, a DVD substrate having desired physical properties cannot be obtained. The content of the polyorganosiloxane structural unit represented by the general formula (II) in this resin composition is
It is in the range of 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the resin component. If this amount is less than 0.1% by weight, cracks may occur during the molding of the DVD substrate, and if it exceeds 10% by weight, the heat resistance and rigidity are lowered, making it unsuitable as a DVD substrate material. From the viewpoint of the balance of crack resistance, heat resistance, and rigidity at the time of molding a substrate, the preferable content of this polyorganosiloxane structural unit is 0.3 to 8 based on the total amount of the resin component.
It is in the range of% by weight, and particularly preferably in the range of 0.5 to 6% by weight.

【0032】また、この樹脂組成物の粘度平均分子量は
10000〜17000の範囲にあるのが好ましい。こ
の粘度平均分子量が10000未満ではDVD基板成形
時に割れが生じるおそれがあり、また17000を超え
ると得られるDVD基板の複屈折が増大する。DVD基
板成形時の割れ防止及びDVD基板の複屈折などの面か
ら、この粘度平均分子量のより好ましい範囲は1200
0〜16000であり、特に13500〜15500の
範囲が好適である。この樹脂組成物は、前記(a)成分
のPC−POS共重合体と(b)成分のポリカーボネー
ト樹脂を適当な混練機でブレンドしたものであってもよ
く、また単にドライブレンドしたものであってもよい。
さらに、この樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれ
ない範囲で、所望により各種添加剤、例えば酸化防止
剤,滑剤(離型剤),無機充填剤,難燃剤,着色剤など
を適宜配合してもよい。
The viscosity average molecular weight of this resin composition is preferably in the range of 10,000 to 17,000. If the viscosity average molecular weight is less than 10,000, cracking may occur during molding of the DVD substrate, and if it exceeds 17,000, the birefringence of the obtained DVD substrate increases. A more preferable range of the viscosity average molecular weight is 1200 from the viewpoints of preventing cracks during molding of a DVD substrate and birefringence of the DVD substrate.
It is 0-16000, and the range of 13500-15500 is particularly preferable. The resin composition may be a blend of the PC-POS copolymer as the component (a) and a polycarbonate resin as the component (b) in an appropriate kneader, or may be simply a dry blend. Good.
Furthermore, if desired, various additives such as an antioxidant, a lubricant (release agent), an inorganic filler, a flame retardant, and a colorant are appropriately added to the resin composition within the range where the object of the present invention is not impaired. You may mix.

【0033】上記酸化防止剤としては、リン系酸化防止
剤が好ましく、例えばトリメチルホスファイト,トリエ
チルホスファイト,トリブチルホスファイト,トリオク
チルホスファイト,トリノニルホスファイト,トリデシ
ルホスファイト,トリオクタデシルホスファイト,ジス
テアリルペンタエリスチルジホスファイト,トリス(2
−クロロエチル)ホスファイト,トリス(2,3−ジク
ロロプロピル)ホスファイトなどのトリアルキルホスフ
ァイト;トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシ
クロアルキルホスファイト;トリフェニルホスファイ
ト,トリクレジルホスファイト,トリス(エチルフェニ
ル)ホスファイト,トリス(ブチルフェニル)ホスファ
イト,トリス(ノニルフェニル)ホスファイト,トリス
(ヒドロキシフェニル)ホスファイトなどのトリアリー
ルホスファイト;2−エチルヘキシルジフェニルホォス
ファイトなどのモノアルキルジアリールホスファイト;
トリメチルホスフェート,トリエチルホスフェート,ト
リブチルホスフェート,トリオクチルホスフェート,ト
リデシルホスフェート,トリオクタデシルホスフェー
ト,ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェート,
トリス(2−クロロエチル)ホスフェート,トリス
(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェートなどのトリ
アルキルホスフェート;トリシクロヘキシルホスフェー
トなどのトリシクロアルキルホスフェート;トリフェニ
ルホスフェート,トリクレジルホスフェート,トリス
(ノニルフェニル)ホスフェート,2−エチルフェニル
ジフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェー
トなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、二
種以上を組み合わせて用いてもよい。
As the above-mentioned antioxidant, a phosphorus-based antioxidant is preferable, for example, trimethylphosphite, triethylphosphite, tributylphosphite, trioctylphosphite, trinonylphosphite, tridecylphosphite, trioctadecylphosphite. , Distearyl pentaerythryl diphosphite, tris (2
-Chloroethyl) phosphite, trialkylphosphite such as tris (2,3-dichloropropyl) phosphite; tricycloalkylphosphite such as tricyclohexylphosphite; triphenylphosphite, tricresylphosphite, tris (ethyl Triaryl phosphites such as phenyl) phosphite, tris (butylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (hydroxyphenyl) phosphite; monoalkyldiarylphosphites such as 2-ethylhexyldiphenylphosphite;
Trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tridecyl phosphate, trioctadecyl phosphate, distearyl pentaerythrityl diphosphate,
Trialkyl phosphates such as tris (2-chloroethyl) phosphate and tris (2,3-dichloropropyl) phosphate; tricycloalkylphosphates such as tricyclohexylphosphate; triphenylphosphate, tricresylphosphate, tris (nonylphenyl) phosphate, Triaryl phosphates such as 2-ethylphenyl diphenyl phosphate and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0034】また、滑剤(離型剤)としては、例えばス
テアリルアルコールや、ステアリン酸モノグリセリド,
ペンタエリスリトールステアリン酸エステルなどのステ
アリン酸エステル、あるいは蜜ろうなどが挙げられる。
これらの滑剤は成形時の離型性を向上させる作用を有し
ている。本発明のDVD基板は、上記ポリカーボネート
及び所望により用いられる各種添加成分からなる材料を
用いて成形されるが、その成形方法については、特に制
限はなく、ディスク成形用金型を使用し、射出成形又は
圧縮成形する通常の成形法の他に、超音波成形,多段圧
縮成形,高速充填成形などの方法も用いることができ
る。
As the lubricant (release agent), for example, stearyl alcohol, stearic acid monoglyceride,
Examples thereof include stearic acid esters such as pentaerythritol stearic acid esters, and beeswax.
These lubricants have the function of improving the releasability during molding. The DVD substrate of the present invention is molded using a material comprising the above polycarbonate and various optional components used as desired. The molding method is not particularly limited, and a disk molding die is used for injection molding. Alternatively, in addition to the usual molding method of compression molding, methods such as ultrasonic molding, multi-stage compression molding, and high-speed filling molding can be used.

【0035】成形温度は、通常300〜345℃の範
囲、金型温度は通常80〜125℃の範囲である。複屈
折の低減及び転写性向上のためには、樹脂の流動性を向
上させる必要があるが、成形温度が345℃を超えると
ポリカーボネートの劣化が生じ、透明性が低下するおそ
れがある。DVD基板は透明性に優れていることが不可
欠である。また、金型温度についても、流動性向上の点
からは、高い方が好ましいが、125℃を超えると基板
の形が崩れるおそれがある。さらに、射出率に関しては
150cm3 /秒以上、好ましくは200cm3 /秒以
上が有利である。この射出率が150cm3 /秒未満で
は金型内で成形材料が急冷されて流動圧力損失が大きく
なり、樹脂の配向性が増加し、その結果、成形品に歪み
などの不良が生じるおそれがある。また、金型の材質と
しては特に制限はなく、金属,セラミックス,グラファ
イトなどが用いられる。
The molding temperature is usually in the range of 300 to 345 ° C, and the mold temperature is usually in the range of 80 to 125 ° C. In order to reduce birefringence and improve transferability, it is necessary to improve the fluidity of the resin, but if the molding temperature exceeds 345 ° C., the polycarbonate may deteriorate and the transparency may decrease. It is essential that the DVD substrate has excellent transparency. Also, the mold temperature is preferably high from the viewpoint of improving the fluidity, but if it exceeds 125 ° C., the shape of the substrate may collapse. Further, with respect to the injection rate, 150 cm 3 / sec or more, preferably 200 cm 3 / sec or more is advantageous. If the injection rate is less than 150 cm 3 / sec, the molding material is rapidly cooled in the mold, the flow pressure loss increases, the orientation of the resin increases, and as a result, defects such as distortion may occur in the molded product. . The material of the mold is not particularly limited, and metal, ceramics, graphite or the like is used.

【0036】このようにして得られた本発明のDVD基
板は再生専用型,追記型,書換え型など各種デジタルビ
デオディスク(DVDファミリー)の基板として好適で
ある。本発明のDVD基板を用いてデジタルビデオディ
スク基板を製造する方法としては特に制限はなく、通常
のコンパンクトディスクの場合と同様の方法を用いるこ
とができる。例えば成膜工程により、該基板上に、保護
層及び記録層を設け、さらにその上にハードコート層及
び必要に応じてオーバーコート層を設けて2枚のディス
ク単板を作製したのち、一般的な方法、例えばホットメ
ルト型接着剤や粘着シートを用いて貼合し、必要に応じ
ハブ付けを行うことにより、所望のデジタルビデオディ
スクが得られる。この際用いられるホットメルト型接着
剤としては、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体(E
VA)系,ポリオレフィン系,合成ゴム系,ポリエステ
ル系,ポリアミド系などが挙げられる。一方、粘着シー
トの接着剤としては、例えばゴム系,アクリル系,シリ
コーン系などが挙げられ、またシートの材料としては、
例えばポリエステル系,ポリイミド系,ポリウレタン
系,ポリオレフィン系などの樹脂シートやアルミ箔など
の金属のシートを挙げることができる。
The DVD substrate of the present invention thus obtained is suitable as a substrate for various digital video disks (DVD family) such as a read-only type, a write-once type and a rewritable type. The method for manufacturing a digital video disk substrate using the DVD substrate of the present invention is not particularly limited, and the same method as in the case of a normal compact disk can be used. For example, by a film forming process, a protective layer and a recording layer are provided on the substrate, and a hard coat layer and, if necessary, an overcoat layer are further provided on the substrate to prepare two disc veneers. The desired digital video disk can be obtained by any other method, for example, using a hot-melt type adhesive or a pressure-sensitive adhesive sheet for attachment and hub attachment if necessary. Examples of the hot melt adhesive used at this time include ethylene-vinyl acetate copolymer (E
VA) type, polyolefin type, synthetic rubber type, polyester type, polyamide type and the like. On the other hand, examples of the adhesive for the adhesive sheet include rubber-based, acrylic-based, and silicone-based adhesives, and the sheet material includes
Examples thereof include polyester-based, polyimide-based, polyurethane-based, polyolefin-based resin sheets and metal sheets such as aluminum foil.

【0037】[0037]

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。 製造例1 ポリカーボネートオリゴマーの調製 5重量%水酸化ナトリウム水溶液400リットルに、ビ
スフェノールA60kgを溶解し、ビスフェノールAの
水酸化ナトリウム水溶液を調製した。次いで、室温に保
持したこのビスフェノールAの水酸化ナトリウム水溶液
を、138リットル/時間の流量で、またメチレンクロ
ライドを69リットル/時間の流量で、内径10mm,
管長10mの管型反応器にオリフィス板を通して導入
し、これにホスゲンを並流して10.7kg/時間の流量
で吹き込み、3時間連続的に反応させた。ここで用いた
管型反応器は二重管となっており、ジャケット部分には
冷却水を通して反応液の排出温度を25℃に保った。ま
た、排出液のpHは10〜11を示すように調整した。
このようにして得られた反応液を静置することにより、
水相を分離除去し、メチレンクロライド相(220リッ
トル)を採取し、ポリカーボネートオリゴマー溶液を得
た。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Production Example 1 Preparation of Polycarbonate Oligomer 60 kg of bisphenol A was dissolved in 400 liter of a 5 wt% sodium hydroxide aqueous solution to prepare a sodium hydroxide aqueous solution of bisphenol A. Then, the sodium hydroxide aqueous solution of bisphenol A kept at room temperature was supplied at a flow rate of 138 liters / hour, and methylene chloride was supplied at a flow rate of 69 liters / hour, with an inner diameter of 10 mm,
It was introduced into a tubular reactor having a tube length of 10 m through an orifice plate, and phosgene was co-currently flown into the reactor at a flow rate of 10.7 kg / hour for continuous reaction for 3 hours. The tubular reactor used here was a double tube, and the outlet temperature of the reaction solution was kept at 25 ° C. by passing cooling water through the jacket. Further, the pH of the discharged liquid was adjusted so as to show 10 to 11.
By allowing the reaction solution thus obtained to stand,
The aqueous phase was separated and removed, and the methylene chloride phase (220 liters) was collected to obtain a polycarbonate oligomer solution.

【0038】製造例2 反応性ポリジメチルシロキサン
(PDMS)の製造 オクタメチルシクロテトラシロキサン1483g、1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン96g及び86
重量%硫酸35gを混ぜ、室温で17時間撹拌したの
ち、オイル相を分離し、炭酸水素ナトリウム25gを加
えて1時間撹拌した。次いでろ過し、ろ液を150℃で
3torrにて真空蒸留して低沸点物を除いた。2−ア
リルフェノール60gと塩化白金−アルコラート錯体と
してのプラチナ0.0014gとの混合物に、上記で得ら
れたオイル294gを90℃で添加したのち、この混合
物を90〜115℃の温度に保ちながら3時間撹拌し
た。生成物を塩化メチレンで抽出し、80重量%の水性
メタノールで3回洗浄し、過剰の2−アリルフェノール
を除いた。その生成物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
真空中で115℃まで昇温して溶剤を留去した。核磁共
鳴スペクトル(NMR)の測定によれば、得られた末端
フェノールPDMSのジメチルシラノオキシ単位の繰り
返し数は30であった。
Production Example 2 Production of Reactive Polydimethylsiloxane (PDMS) Octamethylcyclotetrasiloxane 1483 g, 1,
96 g and 86 of 1,3,3-tetramethyldisiloxane
After mixing 35 g of wt% sulfuric acid and stirring at room temperature for 17 hours, the oil phase was separated, 25 g of sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, the mixture was filtered, and the filtrate was vacuum distilled at 150 ° C. at 3 torr to remove low-boiling substances. To a mixture of 60 g of 2-allylphenol and 0.0014 g of platinum as a platinum chloride-alcoholate complex, 294 g of the oil obtained above was added at 90 ° C., and then the mixture was kept at a temperature of 90 to 115 ° C. for 3 times. Stir for hours. The product was extracted with methylene chloride and washed 3 times with 80% by weight aqueous methanol to remove excess 2-allylphenol. The product was dried over anhydrous sodium sulfate,
The solvent was distilled off by raising the temperature to 115 ° C. in vacuum. According to the measurement of nuclear magnetic resonance spectrum (NMR), the number of repeating dimethylsilanooxy units in the obtained terminal phenol PDMS was 30.

【0039】製造例3 PC−PDMS共重合体Aの製
造 製造例2で得られた反応性PDMS185gをメチレン
クロライド2リットルに溶解させ、製造例1で得られた
ポリカーボネートオリゴマー溶液10リットルと混合し
た。次いで、これに、水酸化ナトリウム26gを水1リ
ットルに溶解させたものとトリエチルアミン5.7ミリリ
ットルを加えて500rpmで室温にて1時間撹拌し
た。その後、5.2重量%の水酸化ナトリウム水溶液5リ
ットルにビスフェノールA600gを溶解させたもの、
メチレンクロライド8リットル及びp−tert−ブチ
ルフェノール123.5gを加え、500rpmで室温に
て1時間撹拌した。次に、メチレンクロライド5リット
ル及び水5リットルを加え、500rpmで室温にて1
0分間撹拌したのち、静置し、有機相を分取した。この
有機相を0.03規定の水酸化ナトリウム水溶液5リット
ルでアルカリ洗浄、0.2規定の塩酸5リットルで酸洗
浄、水5リットルで水洗(2回)を順次行ったのち、メ
チレンクロライドを留去し、フレーク状のポリカーボネ
ート−ポリジメチルシロキサン(PC−PDMS)共重
合体Aを得た。このPC−PDMS共重合体Aの粘度平
均分子量(Mv)及びPDMS構造単位の含有量を第1
表に示す。
Production Example 3 Production of PC-PDMS Copolymer A 185 g of the reactive PDMS obtained in Production Example 2 was dissolved in 2 liters of methylene chloride and mixed with 10 liters of the polycarbonate oligomer solution obtained in Production Example 1. Next, 26 g of sodium hydroxide dissolved in 1 liter of water and 5.7 ml of triethylamine were added thereto, and the mixture was stirred at 500 rpm for 1 hour at room temperature. Then, 600 g of bisphenol A was dissolved in 5 liters of a 5.2 wt% sodium hydroxide aqueous solution,
8 L of methylene chloride and 123.5 g of p-tert-butylphenol were added, and the mixture was stirred at 500 rpm for 1 hour at room temperature. Next, add 5 liters of methylene chloride and 5 liters of water, and add 1 at room temperature at 500 rpm.
After stirring for 0 minutes, the mixture was allowed to stand and the organic phase was separated. The organic phase was washed with 5 liters of 0.03N aqueous sodium hydroxide solution in an alkaline solution, with 5 liters of 0.2N hydrochloric acid in acid, and then with 5 liters of water (twice) in this order, and then methylene chloride was distilled off. Then, a flaky polycarbonate-polydimethylsiloxane (PC-PDMS) copolymer A was obtained. The viscosity average molecular weight (Mv) of this PC-PDMS copolymer A and the content of the PDMS structural unit were first determined.
It is shown in the table.

【0040】製造例4 PC−PDMS共重合体Bの製
造 製造例3において、反応性PDMS185gを93g
に、p−tert−ブチルフェノール123.5gをp−
クミルフェノール174.5gに変えた以外は、製造例3
と同様にしてPC−PDMS共重合体Bを得た。このP
C−PDMS共重合体Bの粘度平均分子量及びPDMS
構造単位の含有量を第1表に示す。
Production Example 4 Production of PC-PDMS Copolymer B In Production Example 3, 93 g of 185 g of reactive PDMS was added.
Then, 123.5 g of p-tert-butylphenol was added to p-
Production Example 3 except that the amount of cumylphenol was changed to 174.5 g.
A PC-PDMS copolymer B was obtained in the same manner as. This P
C-PDMS Copolymer B viscosity average molecular weight and PDMS
The content of the structural unit is shown in Table 1.

【0041】製造例5 ポリカーボネート樹脂Cの製造 製造例1で得られたポリカーボネートオリゴマー溶液1
0.0リットルにp−tert−ブチルフェノール123.
5gを溶解させた。次いで、これに、メチレンクロライ
ド8リットル、ビスフェノールAの水酸化ナトリウム水
溶液(ビスフェノールA:800g、NaOH:420
g、水:6.55リットル)及びトリエチルアミン1.17
ミリリットルを加え、500rpmで室温にて1時間撹
拌した。その後、メチレンクロライド5リットル及び水
5リットルを加え、500rpmで常温にて10分間撹
拌した。撹拌停止後、静置分離し、有機相を得た。この
有機相を0.03規定の水酸化ナトリウム水溶液5リット
ルでアルカリ洗浄、0.2規定の塩酸5リットルで酸洗浄
及び水5リットルで水洗(2回)を順次行ったのち、メ
チレンクロライドを留去し、フレーク状のポリカーボネ
ート樹脂Cを得た。このポリカーボネート樹脂Cの粘度
平均分子量を第1表に示す。
Production Example 5 Production of Polycarbonate Resin C Polycarbonate oligomer solution 1 obtained in Production Example 1
P-tert-butylphenol 123 to 0.0 liter.
5 g was dissolved. Next, to this, 8 liters of methylene chloride, a sodium hydroxide aqueous solution of bisphenol A (bisphenol A: 800 g, NaOH: 420
g, water: 6.55 liters) and triethylamine 1.17
After adding milliliter, the mixture was stirred at 500 rpm at room temperature for 1 hour. Thereafter, 5 liters of methylene chloride and 5 liters of water were added, and the mixture was stirred at 500 rpm for 10 minutes at room temperature. After the stirring was stopped, the mixture was stood and separated to obtain an organic phase. This organic phase was washed with 5 liters of 0.03N aqueous sodium hydroxide solution in an alkaline solution, washed with 5 liters of 0.2N hydrochloric acid in acid and washed with 5 liters of water (twice), and then methylene chloride was distilled off. After that, a flaky polycarbonate resin C was obtained. The viscosity average molecular weight of this polycarbonate resin C is shown in Table 1.

【0042】製造例6 ポリカーボネート樹脂Dの製造 製造例5において、p−tert−ブチルフェノール1
23.5gをp−クミルフェノール174.5gに変えた以
外は、製造例5と同様にしてポリカーボネート樹脂Dを
得た。このポリカーボネート樹脂Dの粘度平均分子量を
第1表に示す。
Production Example 6 Production of Polycarbonate Resin D In Production Example 5, p-tert-butylphenol 1
Polycarbonate resin D was obtained in the same manner as in Production Example 5, except that 23.5 g was changed to 174.5 g of p-cumylphenol. The viscosity average molecular weight of this polycarbonate resin D is shown in Table 1.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】注1)PDMS構造単位含有量 プロトン核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)の測定
において、1.7ppmに見られるビスフェノールAのイ
ソプロピルのメチル基のピークと0.2ppmに見られる
ジメチルシロキサンのメチル基のピークの強度比で求め
た。 2)粘度平均分子量(Mv) ウベローデ型粘度管にて、20℃における塩化メチレン
溶液の極限粘度〔η〕を測定し、次の関係式より計算し
た 〔η〕=1.23×10-5・Mv0.83
Note 1) PDMS structural unit content In the measurement of proton nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR), the peak of the isopropyl methyl group of bisphenol A seen at 1.7 ppm and the dimethylsiloxane seen at 0.2 ppm. The intensity ratio of the peak of the methyl group of 2) Viscosity average molecular weight (Mv) The intrinsic viscosity [η] of a methylene chloride solution at 20 ° C. was measured with an Ubbelohde type viscosity tube and calculated from the following relational expression [η] = 1.23 × 10 −5 · Mv 0.83

【0045】実施例1〜5及び比較例1〜3 第2表に示す配合割合で、各成分をドライブレンドし、
230℃にて押出して、ペレット化した。なお、酸化防
止剤としては、トリス(2,4−ジ−tert−ブチル
フェニル)ホスファイトを、離型剤としては、ステアリ
ン酸モノグリセリドを用いた。得られたペレットの粘度
平均分子量(Mv),PDMS構造単位含有量及び離型
圧を第2表に示す。なお、離型圧は、円筒状の金型を用
い、280℃で成形し、突出し(離型)時の離型抵抗を
測定した。次に、得られたペレットを、成形機:東芝機
械社製IS80EPN,型締力:50トン,射出率:2
50cm3 /秒,射出圧力:1500kg/cm2 ,金
型材質:ジュラルミン2024,成形温度:340℃,
金型温度:115℃,冷却時間5秒:キャビティ部:無
電解ニッケルメッキの条件で射出成形し、径120m
m,厚さ0.6mmのDVD基板を作成した。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were dry blended with the respective components at the blending ratios shown in Table 2,
It was extruded at 230 ° C. and pelletized. Tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite was used as the antioxidant, and stearic acid monoglyceride was used as the release agent. Table 2 shows the viscosity average molecular weight (Mv), PDMS structural unit content and release pressure of the obtained pellets. The mold release pressure was measured at 280 ° C. using a cylindrical mold, and the mold release resistance at the time of projecting (mold release) was measured. Next, the obtained pellets were molded into a molding machine: IS80EPN manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd., mold clamping force: 50 tons, injection rate: 2
50 cm 3 / sec, injection pressure: 1500 kg / cm 2 , mold material: duralumin 2024, molding temperature: 340 ° C.,
Mold temperature: 115 ° C, cooling time 5 seconds: Cavity part: injection molding under conditions of electroless nickel plating, diameter 120m
A DVD substrate having a thickness of 0.6 mm and a thickness of 0.6 mm was prepared.

【0046】DVD基板を各100枚成形し、割れなか
った枚数を第3表に示す。なお、ここでの割れとは、ス
プルー部とディスクが切断され、成形機内にスプルー部
が残ることをいう。また、成形後、48時間経過時の成
形品の落錘衝撃強度を荷重3.76kg,速度1m/秒,
受台長径50mmで測定した。なお、半径18mmの所
の内部を打撃した。落錘衝撃強度のエネルギー(J)を
第3表に示す。さらに、実施例1及び比較例1のものに
ついて、転写性及び複屈折(Δn)を測定した。ここ
で、転写性とは、〔成形品の凸部の高さ/金型面の凹部
深さ(5μm)〕×100をいい、20箇所の平均値を
用いた。なお、測定はニコン社製メジャースコープUM
−3を用いた。結果を第4表に示す。また、複屈折(Δ
n)の測定は、オーク社製ダブルリフラクションメジャ
ーメントシステムADR−2000を用い、ディスクの
中心から10mm,30mm及び50mmの円周上の任
意の点を選んで測定した。第4表にレターデーション
(R=Δn・t)の値を示す。ここで、tはディスク厚
さ(nm)である。
100 DVD substrates were molded, and the number of unbroken substrates is shown in Table 3. Here, the cracking means that the sprue portion and the disc are cut and the sprue portion remains in the molding machine. Also, after molding, the falling weight impact strength of the molded product after 48 hours has passed is 3.76 kg, speed 1 m / sec,
The length of the pedestal was 50 mm. In addition, the inside of a place having a radius of 18 mm was hit. Energy (J) of falling weight impact strength is shown in Table 3. Further, the transferability and the birefringence (Δn) of the example 1 and the comparative example 1 were measured. Here, the transferability means [the height of the convex portion of the molded product / the depth of the concave portion of the mold surface (5 μm)] × 100, and the average value of 20 points was used. The measurement is made by Nikon measure scope UM.
-3 was used. The results are shown in Table 4. Also, the birefringence (Δ
The measurement of n) was carried out using a double reflection measurement system ADR-2000 manufactured by Oak Co., Ltd. at arbitrary points on the circumference of 10 mm, 30 mm and 50 mm from the center of the disk. Table 4 shows the values of retardation (R = Δn · t). Here, t is the disc thickness (nm).

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】[0049]

【表4】 [Table 4]

【0050】[0050]

【表5】 [Table 5]

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明のデジタルビデオディスク基板
は、成形時の割れが少ない上、複屈折が小さく、かつ転
写性に優れている。したがって、このデジタルビデオデ
ィスク基板は、再生専用型,追記型,書換え型などのデ
ジタルビデオディスク(DVDファミリー)の基板とし
て好適に用いられる。
The digital video disk substrate of the present invention has few cracks during molding, has small birefringence, and is excellent in transferability. Therefore, this digital video disc substrate is preferably used as a substrate for a digital video disc (DVD family) of a read-only type, a write-once type, a rewritable type, or the like.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)一般式(I) 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれハロゲン原子,炭素
数1〜6のアルキル基又はフェニル基を示し、それらは
たがいに同一でも異なっていてもよく、Zは単結合,炭
素数1〜20のアルキレン基若しくはアルキリデン基,
炭素数5〜20のシクロアルキレン基若しくはシクロア
ルキリデン基,−O−,−S−,−SO−,−SO2
は−CO−を示し、p及びqは、それぞれ0〜4の整
数、mは1〜150の整数を示す。)で表されるポリカ
ーボネート構造単位及び一般式(II) 【化2】 (式中、R3 〜R6 は、それぞれ炭素数1〜6のアルキ
ル基又はフェニル基を示し、それらはたがいに同一でも
異なっていてもよく、Aは二価の有機残基、Rは一価又
は二価の有機残基、nは1〜60の整数を示す。)で表
されるポリオルガノシロキサン構造単位からなるポリカ
ーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体5〜10
0重量%、及び(b)ポリカーボネート樹脂95〜0重
量%を含有し、かつ上記ポリオルガノシロキサン構造単
位を樹脂成分全量に基づき0.1〜10重量%の割合で含
有する樹脂組成物からなるデジタルビデオディスク基
板。
1. (a) General formula (I): (In the formula, R 1 and R 2 each represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, which may be the same or different, and Z is a single bond, 1 to 1 carbon atoms. 20 alkylene groups or alkylidene groups,
C5-C20 cycloalkylene group or cycloalkylidene group, -O-, -S-, -SO-, -SO 2 or -CO- is shown, p and q are respectively integers of 0 to 4, and m is An integer of 1 to 150 is shown. ) And a polycarbonate structural unit represented by the general formula (II) (In the formula, R 3 to R 6 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, which may be the same or different, A is a divalent organic residue, and R is a monovalent organic residue. A polyvalent or divalent organic residue, n is an integer of 1 to 60), and a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer 5 to 10 composed of a polyorganosiloxane structural unit represented by
Digital containing a resin composition containing 0% by weight and (b) 95 to 0% by weight of a polycarbonate resin, and 0.1 to 10% by weight of the above polyorganosiloxane structural unit based on the total amount of the resin component. Video disc board.
【請求項2】 (a)成分が、一般式(I)で表される
ポリカーボネート構造単位をAブロック、一般式(II)
で表されるポリオルガノシロキサン構造単位をBブロッ
クとした場合、両末端に一般式(III) 【化3】 (式中、R7 はハロゲン原子,炭素数1〜20のアルキ
ル基,炭素数6〜20のアリール基又は炭素数7〜20
のアリールアルキル基を示し、rは0〜5の整数を示
す。)で表される末端基を有するABA型ブロック共重
合体である請求項1記載のデジタルビデオディスク基
板。
2. The component (a) comprises a polycarbonate structural unit represented by the general formula (I) as an A block and a general formula (II).
When the polyorganosiloxane structural unit represented by the following is a B block, the polyorganosiloxane structural unit represented by the general formula (III): (In the formula, R 7 is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 20 carbon atoms.
And an r is an integer of 0 to 5. The digital video disk substrate according to claim 1, which is an ABA type block copolymer having a terminal group represented by the formula (1).
【請求項3】 (a)成分のポリカーボネート−ポリオ
ルガノシロキサン共重合体及び(b)成分のポリカーボ
ネート樹脂が、それぞれ2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパンから誘導されたものである請求項1
記載のデジタルビデオディスク基板。
3. The polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer as the component (a) and the polycarbonate resin as the component (b) are each derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane. 1
The described digital video disk substrate.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000018822A1 (en) * 1998-09-28 2000-04-06 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Copolycarbonate and process for producing the same
US6492481B1 (en) 2000-07-10 2002-12-10 General Electric Company Substantially single phase silicone copolycarbonates, methods, and optical articles made therefrom
US6723864B2 (en) 2002-08-16 2004-04-20 General Electric Company Siloxane bischloroformates
US6833422B2 (en) 2002-08-16 2004-12-21 General Electric Company Method of preparing transparent silicone-containing copolycarbonates
WO2008038608A1 (en) * 2006-09-26 2008-04-03 Teijin Chemicals Ltd. Polycarbonate and method for producing the same
JP2009504862A (en) * 2005-08-16 2009-02-05 チバ ホールディング インコーポレーテッド Polycarbonate flame retardant composition
JP2009096924A (en) * 2007-10-18 2009-05-07 Idemitsu Kosan Co Ltd Aromatic polycarbonate resin composition for resin stamper, method of manufacturing resin stamper, and resin stamper

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6476249B1 (en) 1998-09-28 2002-11-05 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Copolycarbonate and process for producing the same
WO2000018822A1 (en) * 1998-09-28 2000-04-06 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Copolycarbonate and process for producing the same
US6780956B2 (en) 2000-07-10 2004-08-24 General Electric Company Method of making silicone copolycarbonates having random and blocky substructures
US6492481B1 (en) 2000-07-10 2002-12-10 General Electric Company Substantially single phase silicone copolycarbonates, methods, and optical articles made therefrom
US6930194B2 (en) 2002-08-16 2005-08-16 General Electric Company Siloxane bischloroformates
US6833422B2 (en) 2002-08-16 2004-12-21 General Electric Company Method of preparing transparent silicone-containing copolycarbonates
US6723864B2 (en) 2002-08-16 2004-04-20 General Electric Company Siloxane bischloroformates
JP2005535759A (en) * 2002-08-16 2005-11-24 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Siloxane bischloroformate
JP4776923B2 (en) * 2002-08-16 2011-09-21 サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ Siloxane bischloroformate
JP2009504862A (en) * 2005-08-16 2009-02-05 チバ ホールディング インコーポレーテッド Polycarbonate flame retardant composition
WO2008038608A1 (en) * 2006-09-26 2008-04-03 Teijin Chemicals Ltd. Polycarbonate and method for producing the same
JP5111384B2 (en) * 2006-09-26 2013-01-09 帝人化成株式会社 Polycarbonate and process for producing the same
JP2009096924A (en) * 2007-10-18 2009-05-07 Idemitsu Kosan Co Ltd Aromatic polycarbonate resin composition for resin stamper, method of manufacturing resin stamper, and resin stamper

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