JPH09262926A - Transparent conductive laminate for touch panel and its production - Google Patents

Transparent conductive laminate for touch panel and its production

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JPH09262926A
JPH09262926A JP7264096A JP7264096A JPH09262926A JP H09262926 A JPH09262926 A JP H09262926A JP 7264096 A JP7264096 A JP 7264096A JP 7264096 A JP7264096 A JP 7264096A JP H09262926 A JPH09262926 A JP H09262926A
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JP
Japan
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conductive film
transparent conductive
film
touch panel
laminate
Prior art date
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Pending
Application number
JP7264096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuuji Tamura
優次 田村
Satoshi Igarashi
聡 五十嵐
Hiroyuki Fujishima
博行 藤島
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09262926A publication Critical patent/JPH09262926A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a touch panel usable between two deflection panels without reducing visibility and a visual angle characteristic by laminating a cured matter of a radiation curable resin containing a specific amt. of a specific compd. on an optically isotropic plastic film and subsequently applying corona discharge treatment to the layer of the cured matter to laminate a conductive film thereon. SOLUTION: After cured matter of a radiation curable resin containing a compd. represented by formula in an amt. of 50wt.% or more in a solid ratio is laminated to an optically isotropic plastic film as a protective layer imparting solvent resistance and exerting no effect on the resistance characteristics of a conductive film, corona discharge treatment is applied to the surface thereof and a conductive film is laminated thereon. In the formula, A is an unsaturated alkyl group or an unsaturated alkylcarbonyl group, X is a 1-8C trivalent aliphatic ether compd, Y is a divalent aliphatic or aromatic dicarbonyl compd. and (n) is 0.5-2 is an average value. Herein, optical isotropicity means that a retardation value at least of 590nm is 15nm or less.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学特性に優れた
タッチパネル用途の透明導電膜積層体に関するものであ
り、液晶パネルと共用される特に優れた視認性と優れた
視野角特性を有する抵抗膜方式タッチパネル用透明導電
積層体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive film laminate having excellent optical characteristics for use in touch panels, and has a particularly excellent visibility and a viewing angle characteristic shared with a liquid crystal panel. The present invention relates to a transparent conductive laminate for a touch panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示パネルと組み合わせた入
力機器としてのタッチパネルは、デジタル式のスイッチ
素子から、ペン入力によるアナログ認識素子まで幅広く
PDAデバイスとして使用されている。従来のタッチパ
ネルの基本構成はガラス基板透明導電膜とPET基板透
明導電膜の組み合わせで液晶表示パネルの上側に重ね合
わせて使用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a touch panel as an input device combined with a liquid crystal display panel has been widely used as a PDA device from a digital switch element to an analog recognition element by pen input. The basic structure of a conventional touch panel is a combination of a glass substrate transparent conductive film and a PET substrate transparent conductive film, which is used by being superimposed on the upper side of a liquid crystal display panel.

【0003】しかるにこの方式では、タッチパネルを通
して見る液晶表示パネルの視認性が悪く、また、サング
ラスをかけた場合には、PETの光学異方性に起因する
着色が生じて視認性が著しく阻害されるという欠点があ
る。
However, according to this method, the visibility of the liquid crystal display panel viewed through the touch panel is poor, and when sunglasses are worn, the visibility is markedly impaired due to the coloring caused by the optical anisotropy of PET. There is a drawback that.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般にプラスチックフ
ィルムの光学等方性はガラスに比較すると劣っており液
晶表示パネルの上側にタッチパネルを重ねる方式では液
晶表示パネルの視認性を著しく低減させ、携帯情報端末
の使用範囲を制限する結果となっていた。
Generally, the optical isotropy of a plastic film is inferior to that of glass, and the touch panel placed on the upper side of the liquid crystal display panel significantly reduces the visibility of the liquid crystal display panel, and thus the portable information terminal. The result was that the range of use was limited.

【0005】また、特開平3−121523号公報など
では液晶表示素子と組み合わせて2枚の偏光板の間に配
置する方式が提案されている。しかしながらこの場合に
は、直線偏光を表示原理に使用する液晶表示素子との組
み合わせであるので、不要な着色の原因となり、液晶表
示素子の視認性を低下させるという問題となる。これに
対しては位相差板などの更なる組み合わせ等で着色を解
消する工夫がなされるが、構成が複雑になる上、光学的
なマッチングが困難である。
Further, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 3-121523 proposes a method of arranging it between two polarizing plates in combination with a liquid crystal display element. However, in this case, since it is a combination with a liquid crystal display element that uses linearly polarized light for the display principle, it causes unnecessary coloring, and there is a problem that the visibility of the liquid crystal display element is reduced. On the other hand, although a device for eliminating the coloring is made by further combining a retardation plate or the like, the structure becomes complicated and optical matching is difficult.

【0006】そこで、PETとは異なり、光学等方プラ
スチックフィルムを用い、タッチパネルとして液晶表示
素子と組み合わせて2枚の偏光板の間に配置する方式が
検討されつつある。しかしながら、この様なプラスチッ
クフィルム単独に導電膜を積層した構成ではタッチパネ
ル作製時の導電膜パターンニング工程や洗浄工程、接続
端子接着工程において必要とされる耐溶剤性に劣る。
Therefore, unlike PET, a method of using an optically isotropic plastic film and arranging it between two polarizing plates in combination with a liquid crystal display element as a touch panel is being studied. However, such a structure in which a conductive film is laminated on a plastic film alone is inferior in solvent resistance required in a conductive film patterning process, a cleaning process, and a connection terminal bonding process in manufacturing a touch panel.

【0007】また、導電膜との密着性に劣るために、耐
久試験などで導電膜が自然剥離、あるいはクラック発生
が起こってしまう。
Further, since the adhesion to the conductive film is poor, the conductive film is spontaneously peeled off or cracked in a durability test or the like.

【0008】本発明はかかるタッチパネル用導電膜積層
体の欠点を解消し、視認性と視角特性を低減することな
く液晶表示素子と組み合わせて2枚の偏光板間に使用で
きるタッチパネルを提供することを目的とする。
The present invention solves the drawbacks of the conductive film laminate for a touch panel and provides a touch panel that can be used between two polarizing plates in combination with a liquid crystal display device without reducing the visibility and the viewing angle characteristics. To aim.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明にかかるタッチパ
ネル用導電膜積層体は、光学等方プラスチックフィルム
に耐溶剤性を付与し、かつ、導電膜の特性に影響を及ぼ
さない保護層として、下記一般式(1)
The conductive film laminate for a touch panel according to the present invention has the following properties as a protective layer that imparts solvent resistance to an optically isotropic plastic film and does not affect the properties of the conductive film. General formula (1)

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】の化合物を固形分比で50重量%以上含有
する放射線硬化性樹脂の硬化物を積層した後、その面に
コロナ放電処理を施し、その上に導電膜を積層したこと
を特徴とする、抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜積
層体である。
The invention is characterized in that a cured product of a radiation curable resin containing 50% by weight or more of the compound of solid content is laminated, then corona discharge treatment is applied to the surface thereof, and a conductive film is laminated thereon. A transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel.

【0012】一般式(1)で、Aは不飽和アルキル基あ
るいは不飽和アルキルカルボニル基、Xは炭素原子数1
〜8で3価の脂肪族エーテル化合物、Yは2価の脂肪族
あるいは芳香族ジカルボニル化合物、nは平均値として
0.5〜2の範囲である。
In the general formula (1), A is an unsaturated alkyl group or an unsaturated alkylcarbonyl group, and X is a carbon atom of 1
To 8 are trivalent aliphatic ether compounds, Y is a divalent aliphatic or aromatic dicarbonyl compound, and n is in the range of 0.5 to 2 as an average value.

【0013】2軸延伸により製膜されたPETフィルム
は面内の光学異方性つまりリターデーション値が100
nmよりも大きくなり、既に述べたように偏光板の間に
配置した場合には着色して観察されてしまう。しかしな
がら、光学等方フィルムを用いることにより、この様な
着色は解消される。
The PET film formed by biaxial stretching has an in-plane optical anisotropy, that is, a retardation value of 100.
It becomes larger than nm, and when it is arranged between the polarizing plates as described above, it is colored and observed. However, such coloring is eliminated by using an optically isotropic film.

【0014】ここで言う光学等方とは少なくとも590
nmでのリターデーション値が15nm以下、特に好ま
しくは10nm以下のことを言う。また、光軸のばらつ
きを示す遅相軸のばらつきは好ましくは±15度以下、
特に好ましくは±10度以下が良い。
The optical isotropy referred to here is at least 590.
The retardation value in nm is 15 nm or less, particularly preferably 10 nm or less. Further, the variation of the slow axis indicating the variation of the optical axis is preferably ± 15 degrees or less,
Particularly preferably, it is ± 10 degrees or less.

【0015】保護層としては放射線硬化性樹脂を硬化さ
せたものが好適であった。放射線硬化樹脂の硬化物は上
述したプラスチックフィルムと良好に密着し、例えば、
60℃90%RH1000時間の耐久試験においても剥
離が無くなおかつ外観も良好で、変色、曇りなどが発生
することがない。
A material obtained by curing a radiation curable resin was suitable as the protective layer. The cured product of the radiation curable resin adheres well to the plastic film described above, for example,
Even in the durability test at 60 ° C., 90% RH for 1000 hours, there is no peeling, the appearance is good, and discoloration or clouding does not occur.

【0016】膜厚は特に限定しないが表面硬化性の観点
から2μm以上が好ましい。2μmよりも低い場合には
耐溶剤性が不十分である。また、膜厚の上限は特に限定
しないが、耐溶剤性、経済性のバランスで決められる。
好ましくは20μm以下、より好ましくは10μm以下
である。
Although the film thickness is not particularly limited, it is preferably 2 μm or more from the viewpoint of surface curability. If it is less than 2 μm, the solvent resistance is insufficient. The upper limit of the film thickness is not particularly limited, but it is determined by the balance between solvent resistance and economy.
Preferably it is 20 μm or less, more preferably 10 μm or less.

【0017】しかしながら、各種の放射線硬化性樹脂上
に導電膜を形成し、その導電膜特性を評価したところ、
下記一般式(1)
However, when a conductive film is formed on various radiation curable resins and the conductive film characteristics are evaluated,
The following general formula (1)

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】の化合物を固形分比で50重量%以上含有
する放射線硬化性樹脂の硬化物を積層し、その面にコロ
ナ放電処理を施してあることが、導電膜の特性を劣化さ
せないという点で好ましかった。
The fact that a cured product of a radiation curable resin containing 50% by weight or more of the compound of solid content is laminated and the surface is subjected to corona discharge treatment does not deteriorate the characteristics of the conductive film. I liked it.

【0020】一般式(1)で、Aは不飽和アルキル基あ
るいは不飽和アルキルカルボニル基、Xは炭素原子数1
〜8で3価の脂肪族エーテル基、Yは2価の脂肪族ある
いは芳香族ジカルボニル化合物、nは平均値として0.
5〜2の範囲である。
In the general formula (1), A is an unsaturated alkyl group or an unsaturated alkylcarbonyl group, and X is a carbon atom of 1
To 8 are trivalent aliphatic ether groups, Y is a divalent aliphatic or aromatic dicarbonyl compound, and n is 0.
It is in the range of 5 to 2.

【0021】更に具体的には前記一般式(1)でAはア
クリロイル基、Xは下記一般式(2)
More specifically, in the general formula (1), A is an acryloyl group and X is the following general formula (2).

【0022】[0022]

【化7】 Embedded image

【0023】である3価の基、Yは下記一般式(3)又
は(4)
Y is a trivalent group represented by the following general formula (3) or (4)

【0024】[0024]

【化8】 Embedded image

【0025】[0025]

【化9】 Embedded image

【0026】で示されるジカルボニル化合物であること
が好ましい。
A dicarbonyl compound represented by: is preferred.

【0027】ここで、Zは炭素数1から12の3価の炭
化水素基、Rは水素原子、ハロゲン原子、又はメチル
基、エチル基を表す。
Here, Z represents a trivalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a methyl group or an ethyl group.

【0028】この様な放射線硬化樹脂は硬化性に優れて
おり、かつ、その上に導電膜を形成したときに抵抗膜の
特性を劣化させることが無い。また、導電膜の密着性も
良好である。すなわち、硬化処理後にその表面がわずか
ながらも未硬化の場合、その上に導電膜を形成した場合
に、導電膜が剥離しやすい上に、未硬化成分が導電膜組
成を変性し、導電膜の抵抗値が大きくなりすぎたり、抵
抗値の経時変化が大きくなったりしてしまう。
Such a radiation curable resin is excellent in curability and does not deteriorate the characteristics of the resistance film when the conductive film is formed thereon. Also, the adhesion of the conductive film is good. That is, when the surface is slightly uncured after the curing treatment, the conductive film is easily peeled off when the conductive film is formed on the surface, and the uncured component modifies the conductive film composition. The resistance value may become too large, or the resistance value may change over time.

【0029】この様な放射線硬化性樹脂は保護層の固形
分率として50重量%以上含有していることが必須で、
この様な化合物以外の材料、例えば放射線硬化性を示さ
ない化合物が50重量%以上含有する組成では放射線硬
化が困難となる上、耐溶剤性に劣る場合が出てくる。ま
た、例え放射線硬化性樹脂であっても上記以外の組成分
が50重量%以上の場合には導電膜の特性を悪くしてし
まう。
It is essential that such a radiation curable resin is contained in the protective layer in a solid content of 50% by weight or more.
Radiation curing becomes difficult with a material other than such a compound, for example, a composition containing 50% by weight or more of a compound that does not exhibit radiation curing, and solvent resistance may be poor. Further, even if it is a radiation curable resin, if the content of components other than the above is 50% by weight or more, the characteristics of the conductive film are deteriorated.

【0030】このほか、粘度低減、反応性向上を目的と
して反応性希釈剤、表面性を向上させるためのレベリン
グ剤、保護層表面を荒らすための微粒子等を適当量添加
しても構わない。
In addition, reactive diluents, leveling agents for improving surface properties, fine particles for roughening the surface of the protective layer and the like may be added in appropriate amounts for the purpose of reducing viscosity and improving reactivity.

【0031】導電膜を一方の面のみに積層して使用する
場合には、導電膜を設けない面には保護層を特に必要と
はしないが、タッチパネル製造工程等で耐溶剤性等の特
性が要求される場合には上述の保護層を設けてもかまわ
ないが、目的を満足する保護層であればそれ以外の組成
のものでもよい。
When the conductive film is laminated on only one surface and used, a protective layer is not particularly required on the surface on which the conductive film is not provided, but the characteristics such as solvent resistance are not required in the touch panel manufacturing process. The above-mentioned protective layer may be provided if required, but any other composition may be used as long as it is a protective layer satisfying the purpose.

【0032】一般にこの様な材料の積層手段としては、
ラミネート法、ディッピング法、湿式コーティング法等
がある。その中でも均一な膜厚の形成面から、湿式コー
ティング法がプラスチックフィルムの平面性を極端に悪
化することなく上記の膜厚の保護層を積層する手段とし
て最適であった。
Generally, as a means for laminating such materials,
There are a laminating method, a dipping method, a wet coating method and the like. Among them, the wet coating method was most suitable as a means for laminating the protective layer having the above-mentioned thickness without extremely deteriorating the flatness of the plastic film from the viewpoint of forming a uniform film thickness.

【0033】ラミネート法では、上記の保護層を単独で
フィルム成形することが困難である上、上記組成の保護
層は硬化処理後ではプラスチックフィルムと良好に密着
しない。また、ディッピング法では、均一な膜厚で制御
良く広い面積に塗工する事が困難である。湿式コーティ
ングをする場合に、上記組成を溶媒に溶解し溶液を作製
し、塗工液として用いても構わない。
In the laminating method, it is difficult to form the protective layer alone into a film, and the protective layer having the above composition does not adhere well to the plastic film after the curing treatment. Further, in the dipping method, it is difficult to coat a large area with a uniform film thickness and good control. In the case of wet coating, the above composition may be dissolved in a solvent to prepare a solution and used as a coating solution.

【0034】こうした保護層については耐溶剤性試験で
は何等問題は発生しなかった。しかしながら、導電膜を
積層し、導電膜特性を調べると、まだ導電膜特性が不十
分となってしまう。この理由は以下のように考えられ
る。
With respect to such a protective layer, no problem occurred in the solvent resistance test. However, when conducting films are stacked and the conducting film properties are examined, the conducting film properties are still insufficient. The reason for this is considered as follows.

【0035】すなわち、保護層表面には、微視的には未
硬化層が残留している上、放射硬化性樹脂組成物の塗工
液中に添加した各種添加剤が表面に析出していることも
考えられる。この様な成分が導電膜特性を劣化している
と予想された。そこで、最終的にはコロナ放電処理を施
すことが好ましい。
That is, microscopically, the uncured layer remains on the surface of the protective layer, and various additives added to the coating liquid of the radiation curable resin composition are deposited on the surface. It is also possible. It was expected that such a component would deteriorate the characteristics of the conductive film. Therefore, it is preferable to finally perform the corona discharge treatment.

【0036】この様なコロナ放電処理の条件としては強
度100W・min/m2以上で発現するが、十分な効
果を得るには、130W・min/m2以上が好まし
く、より好ましくは160W・min/m2以上であ
る。一方、処理強度が1000W・min/m2を越え
ると前述の紫外線硬化条件で述べた現象と同じく、フィ
ルムの変形等が発生してしまう。そのため、1000W
・min/m2以下が好ましく、特に好ましくは800
W・min/m2以下である。
As a condition for such corona discharge treatment, the strength is 100 W · min / m 2 or more, but 130 W · min / m 2 or more is preferable, and 160 W · min or more is more preferable in order to obtain a sufficient effect. / M 2 or more. On the other hand, if the treatment strength exceeds 1000 W · min / m 2 , the film may be deformed as in the phenomenon described under the ultraviolet curing conditions. Therefore, 1000W
-Min / m 2 or less is preferable, and 800 is particularly preferable.
W · min / m 2 or less.

【0037】一般に放射線硬化性樹脂の硬化方法として
は紫外線硬化法、電子線硬化法が広く知られている。ま
ず、紫外線硬化法については、前記放射線硬化性樹脂単
独では容易に硬化開始しないので通常紫外線硬化開始剤
を適量添加して硬化を促進させる。その際、硬化処理時
に空気環境下で行う場合には、空気中の酸素の障害によ
り、保護層の内部は硬化が進行しても最表面が硬化し難
くなる。しかも、通常10μm以上の膜厚で作製される
紫外線硬化型ハードコートに比べて薄いので酸素障害の
影響が顕著となる。そのため、紫外線硬化開始剤は通常
添加される量よりは若干多い、放射線硬化性樹脂成分に
対して4〜10重量部の添加が良い。
Generally, ultraviolet ray curing method and electron beam curing method are widely known as the curing method for the radiation curable resin. First, regarding the ultraviolet curing method, since the radiation-curable resin alone does not easily initiate curing, an appropriate amount of an ultraviolet curing initiator is usually added to accelerate curing. At this time, when the curing treatment is performed in an air environment, the outermost surface of the protective layer is hard to be cured even if the inside of the protective layer is cured due to the obstruction of oxygen in the air. Moreover, since the thickness is thinner than that of the ultraviolet curable hard coat which is usually formed with a film thickness of 10 μm or more, the influence of oxygen damage becomes remarkable. Therefore, it is preferable to add 4 to 10 parts by weight of the ultraviolet curing initiator to the radiation curable resin component, which is slightly larger than the amount usually added.

【0038】紫外線硬化開始剤は公知の光反応開始剤が
適用できる。例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−
メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}−2−モ
ルフォリノプロパン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系化合物、
ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン
系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸等のベ
ンゾフェノン系化合物、チオキサンソン、2,4−ジク
ロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物が挙げ
られる。また、より硬化性を向上するためには、紫外線
硬化開始剤成分としてトリエタノールアミン、メチルジ
エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル
等の公知の反応開始助剤を適量添加することも効果的で
ある。
As the ultraviolet curing initiator, a known photoreaction initiator can be applied. For example, diethoxyacetophenone, 2-
Methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1
-Acetophenone-based compounds such as phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
Examples thereof include benzoin compounds such as benzoin and benzyldimethyl ketal, benzophenone compounds such as benzophenone and benzoylbenzoic acid, and thioxanthone compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, in order to further improve the curability, it is also effective to add an appropriate amount of a known reaction initiation aid such as triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate as an ultraviolet curing initiator component. .

【0039】紫外線硬化開始剤が10重量部よりも多い
場合には、添加量に対する表面硬化性の向上が顕著でな
くなる。さらに、15重量部以上では重合度、架橋度は
逆に低下し、耐溶剤層としての特性が損なわれる。、ま
た多量の紫外線硬化開始剤添加では硬化処理後に保護層
内部に残留する紫外線硬化開始剤あるいはその分解物に
より導電膜が酸化されるため、抵抗値が大きくなりすぎ
たり、抵抗値の経時変化が大きくなったりしてしまうと
いう欠点が顕著となる。
When the amount of the ultraviolet curing initiator is more than 10 parts by weight, the surface curability is not significantly improved with respect to the added amount. Further, if it is 15 parts by weight or more, the degree of polymerization and the degree of crosslinking are decreased, and the properties as a solvent resistant layer are impaired. In addition, when a large amount of the ultraviolet curing initiator is added, the conductive film is oxidized by the ultraviolet curing initiator or its decomposition product remaining in the protective layer after the curing treatment, so that the resistance value becomes too large or the resistance value changes with time. The drawback of becoming large becomes remarkable.

【0040】硬化処理は湿式コーティング法などでプラ
スチックフィルム上にコーティングし、保護層の緻密性
を高めるために、塗工中に含まれる溶媒成分を蒸発させ
た後に硬化を行うことがより好ましい。そして積算光量
が500〜2000mJ/cm2の紫外光を照射して硬
化処理がなされる。
The curing treatment is preferably performed by coating on a plastic film by a wet coating method or the like, and after the solvent component contained in the coating is evaporated, curing is performed in order to enhance the denseness of the protective layer. Then, ultraviolet light having an integrated light amount of 500 to 2000 mJ / cm 2 is irradiated for curing treatment.

【0041】積算光量が500mJ/cm2よりも低い
場合には前述の紫外線硬化開始剤の量では十分に硬化が
進まず、表面がべとついてしまう。また、2000mJ
/cm2よりも大きい場合には、通常の連続加工工程で
の紫外線ランプ照射時間である数秒程度の照射時間では
紫外線ランプ強度は強く、例えプラスチックフィルム反
対面を冷却しても紫外線ランプの熱でフィルム自体が変
形したり、紫外線硬化樹脂層が焼けたりしてしまう。
When the integrated light amount is lower than 500 mJ / cm 2 , the amount of the above-mentioned ultraviolet curing initiator does not sufficiently cure and the surface becomes sticky. In addition, 2000mJ
If it is larger than / cm 2 , the UV lamp intensity is strong during the irradiation time of a few seconds, which is the irradiation time of the UV lamp in the normal continuous processing step. The film itself may be deformed or the UV curable resin layer may be burnt.

【0042】一方、紫外線ランプを多数並べて2000
mJ/cm2よりも大きい照射は可能となるが、設備が
巨大化する上、設備コストもデメリットとなる。
On the other hand, a large number of ultraviolet lamps are arranged in 2000.
Irradiation larger than mJ / cm 2 is possible, but the equipment becomes huge and the equipment cost also becomes a disadvantage.

【0043】さらに、プラスチックフィルム反対面の冷
却を行わない場合には積算光量の範囲は500〜100
0mJ/cm2の範囲が好ましい。背面を冷却しない場
合には、上記の理由により、積層体の劣化が発生しやす
くなる。
Further, when the opposite surface of the plastic film is not cooled, the range of the integrated light quantity is 500 to 100.
A range of 0 mJ / cm 2 is preferred. When the back surface is not cooled, deterioration of the laminate is likely to occur due to the above reason.

【0044】この様に硬化した保護層では、例え後処理
でコロナ処理を加えても溶媒の残留、紫外線硬化開始剤
の分解物の残留の影響が大きいため、導電膜特性への悪
影響が観られる。そこで、100℃以上の温度で1分以
上の熱処理が必要である。
In the protective layer thus hardened, even if a corona treatment is applied as a post-treatment, the influence of the residual solvent and the decomposed product of the ultraviolet curing initiator is large, so that the adverse effect on the conductive film characteristics is observed. . Therefore, heat treatment at a temperature of 100 ° C. or higher for 1 minute or longer is required.

【0045】上述の条件である空気環境下とは別に、酸
素障害の起こりにくい、酸素濃度2%以下の窒素ガス環
境下で作製する場合には、保護層の最表面も良好に硬化
が進行する。この様な場合には紫外線硬化開始剤は導電
膜の劣化が顕著でない量である、4重量部未満に減らし
ても十分に硬化が進行した。また、最低量としては0.
5重量部以上は必要であり、それ未満では表面にべとつ
きが発生してしまう。
In addition to the above-mentioned conditions in the air environment, in the case of producing in a nitrogen gas environment in which oxygen concentration is less than 2% and in which oxygen damage is less likely to occur, the outermost surface of the protective layer also cures well. . In such a case, the ultraviolet curing initiator was sufficiently cured even if it was reduced to less than 4 parts by weight, which is an amount in which the deterioration of the conductive film was not remarkable. The minimum amount is 0.
5 parts by weight or more is necessary, and if it is less than 5 parts, the surface becomes sticky.

【0046】ただし、この様な添加量で硬化が発現する
条件としては酸素濃度が2%以下が必須であり、これよ
りも酸素濃度が多くなると、急激に酸素障害の影響が現
れ、この様な開始剤組成では硬化し難くなってしまう。
However, an oxygen concentration of 2% or less is indispensable as a condition for the curing to be manifested with such an addition amount, and when the oxygen concentration is higher than this, the effect of oxygen damage is suddenly exhibited. The initiator composition makes it difficult to cure.

【0047】この場合は、表面未硬化成分は格段に減少
しており、後熱処理は必要なかったが、表面析出物は残
存するため、やはり上述した条件でのコロナ処理は必要
である。
In this case, the surface uncured component was remarkably reduced, and the post heat treatment was not necessary, but the surface precipitate remained, so that the corona treatment under the above-mentioned conditions is also necessary.

【0048】一方、電子線硬化の場合には、酸素障害も
大きく受けない上、紫外線硬化開始剤を添加する必要が
ないため、硬化法としては最適である。しかしながら、
設備も巨大となる上、設備コストも高くなるというデメ
リットはある。電子線硬化の条件としては3〜5Mra
dの強度が適当である。3Mrad以下では硬化が不十
分であり、保護層表面がべとついてしまう。また、5M
radよりも強い場合にはプラスチックフィルム自体が
劣化する事による着色が顕著となってしまう。
On the other hand, in the case of electron beam curing, oxygen damage is not greatly affected and it is not necessary to add an ultraviolet curing initiator, so that it is an optimum curing method. However,
There is a demerit that the equipment becomes huge and the equipment cost becomes high. The electron beam curing condition is 3 to 5 Mra.
A strength of d is suitable. If it is less than 3 Mrad, curing is insufficient and the surface of the protective layer becomes sticky. Also, 5M
When it is stronger than rad, coloring due to deterioration of the plastic film itself becomes remarkable.

【0049】この場合も、表面析出物は残存するため、
やはり上述した条件でのコロナ処理は必要である。
In this case also, since the surface precipitate remains,
After all, corona treatment under the above-mentioned conditions is necessary.

【0050】光学等方プラスチックフィルムはフィルム
の一般的な製膜方法である溶融押し出し法のフィルム製
膜ではなく、溶液流延法で作製する事が好ましい。溶融
押し出し法は、リターデーション値を小さくすることが
困難であると同時に、軸方向と長さ方向の膜厚均一性の
制御が困難である。また、溶融による熱履歴に起因する
異物欠点を伴いやすく、液晶表示素子のような光学的な
用途に使用するには向いていない。溶液流延法は、これ
に対して、膜厚均一性と光学特性均一性に優れたフィル
ムの作製が可能であり、また、異物欠点などの除去もプ
ロセス上容易である。
The optically isotropic plastic film is preferably produced by a solution casting method rather than a melt extrusion film forming method which is a general film forming method. In the melt extrusion method, it is difficult to reduce the retardation value, and at the same time, it is difficult to control the film thickness uniformity in the axial direction and the length direction. Further, it is liable to be accompanied by foreign matter defects due to heat history due to melting, and is not suitable for use in optical applications such as liquid crystal display elements. On the other hand, the solution casting method can produce a film having excellent film thickness uniformity and optical property uniformity, and removal of foreign matter defects is easy in the process.

【0051】溶液流延法としては、従来よく知られてい
るように、フィルム材料を良好に溶解する溶媒に溶解し
た後に、ダイコーティング法等の手法により支持基板上
に連続的に流延し、剥離乾燥させることで好適なプラス
チックフィルムを得ることが出来る。かかる乾燥工程で
は、プラスチックフィルムに上記光学特性を保有させる
ために、張力と熱処理のバランスをとることにより、3
次元の屈折率と膜厚を制御する必要がある。
As a solution casting method, as is well known in the art, a film material is dissolved in a solvent which dissolves well and then continuously cast on a supporting substrate by a method such as a die coating method. A suitable plastic film can be obtained by peeling and drying. In such a drying process, in order to make the plastic film retain the above optical characteristics, the tension and the heat treatment are balanced so that
It is necessary to control the dimensional refractive index and the film thickness.

【0052】この様なプラスチックフィルムは溶液製膜
出来るという特徴故有機溶剤に対する耐溶剤性は十分で
はない。分子骨格がアモルファス構造を有し、溶液製膜
可能なレベルの有機溶媒可溶性を示すことから、タッチ
パネル用透明導電膜積層体とする場合にはプラスチック
フィルムの耐溶剤性を向上させる保護層としての透明な
樹脂層を積層する必要があるわけである。
Since such a plastic film has a feature that it can be formed into a solution, solvent resistance to an organic solvent is not sufficient. Since the molecular skeleton has an amorphous structure and is soluble in organic solvents to the extent that solution film formation is possible, when used as a transparent conductive film laminate for touch panels, it is transparent as a protective layer that improves the solvent resistance of the plastic film. It is necessary to stack different resin layers.

【0053】ところで、プラスチックフィルムの三次元
光学特性を制御することによりタッチパネルの基板を兼
ねた、視認性と視野角拡大の機能を付与することが可能
である。すなわち、プラスチックフィルムの面内遅相軸
方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、
フィルム厚み方向の屈折率をnz、フィルム厚みをdと
したときに、三次元屈折率異方性を示すパラメーターを
K=((nx+ny)/2−nz)×dとしたときに│
K│≦120nmとすることにより液晶表示素子の視認
性と視野角拡大を達成することが出来る。
By controlling the three-dimensional optical characteristics of the plastic film, it is possible to provide the functions of visibility and widening of viewing angle, which doubles as the substrate of the touch panel. That is, the refractive index in the in-plane slow axis direction of the plastic film is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny,
When the refractive index in the film thickness direction is nz and the film thickness is d, and the parameter indicating the three-dimensional refractive index anisotropy is K = ((nx + ny) / 2-nz) × d |
By setting K│ ≦ 120 nm, the visibility and widening of the viewing angle of the liquid crystal display device can be achieved.

【0054】視野による視認性の変化の少ない優れた視
角特性をを付与するためには、好ましくは│K│≦12
0nmが好ましく、更に優れた視角特性を付与するため
には│K│≦60nmとすることが特に好ましい。
In order to provide excellent viewing angle characteristics with little change in visibility depending on the visual field, | K | ≦ 12 is preferable.
0 nm is preferable, and | K | ≦ 60 nm is particularly preferable in order to impart more excellent viewing angle characteristics.

【0055】本発明に使用されるプラスチックフィルム
は、正の屈折率異方性を有する高分子樹脂を溶液流延し
た物であればものであれば簡便に使用することが出来
る。これらの樹脂の代表例としてはポリアリレート樹脂
などのポリエステル樹脂、ポリエーテルスルフォンやポ
リスルフォン樹脂等のエンジニアリングプラスチック樹
脂、ポリカーボネート樹脂やアモルファスポリオレフィ
ン樹脂が好ましく用いられる。特にポリカーボネート樹
脂は、機械特性、光学特性、耐熱性の点で本用途に適し
ている。ポリカーボネート樹脂に溶解性、光学特性、耐
熱性を更に向上させるために種々の成分を共重合して用
いることも適宜可能である。
The plastic film used in the present invention can be conveniently used as long as it is a solution cast polymer resin having a positive refractive index anisotropy. As typical examples of these resins, polyester resins such as polyarylate resins, engineering plastic resins such as polyether sulfone and polysulfone resins, polycarbonate resins and amorphous polyolefin resins are preferably used. In particular, polycarbonate resin is suitable for this application in terms of mechanical properties, optical properties, and heat resistance. In order to further improve the solubility, optical properties and heat resistance of the polycarbonate resin, various components may be copolymerized and used.

【0056】この様に作製された保護層付きプラスチッ
クフィルムの上に以下のような導電膜を形成することで
タッチパネル用透明導電積層体が作製される。
A transparent conductive laminate for a touch panel is manufactured by forming a conductive film as described below on the plastic film with a protective layer thus manufactured.

【0057】本発明にかかる透明導電膜としては、透明
性、導電性、機械特性等の点から、主としてインジウム
金属酸化物(In23)及び/またはスズ金属酸化物
(SnO2)からなる物であることが好ましい。ただ
し、ここに記したIn23およびSnO2は、各金属原
子の酸化物であることを表しており、必ずしも化学量論
的に完全な酸化物を表すのもではない。つまり、光学特
性を損なわない化学量論数を持つこれら酸化物を示して
いる物である。
The transparent conductive film according to the present invention is mainly composed of indium metal oxide (In 2 O 3 ) and / or tin metal oxide (SnO 2 ) in terms of transparency, conductivity, mechanical properties and the like. It is preferable that it is a thing. However, In 2 O 3 and SnO 2 described here represent oxides of each metal atom, and do not necessarily represent stoichiometrically complete oxides. That is, these oxides have stoichiometric numbers that do not impair optical properties.

【0058】また、タッチパネル、特に入力位置を抵抗
値の大きさで検知する抵抗膜方式タッチパネルでは、タ
ッチパネルの消費電力を低減するために表面抵抗値の高
い透明導電膜が望まれる。更に抵抗値の均一性も必要で
ある。ここで言う高い表面抵抗とは、500Ω/□以上
のことを言う。このような高い表面抵抗値を得る手段と
して膜厚を薄くする方法がある。
Further, in a touch panel, particularly in a resistive film type touch panel which detects an input position by the magnitude of the resistance value, a transparent conductive film having a high surface resistance value is desired in order to reduce the power consumption of the touch panel. Furthermore, the uniformity of the resistance value is also required. The high surface resistance referred to here means 500 Ω / □ or more. As a means for obtaining such a high surface resistance value, there is a method of reducing the film thickness.

【0059】しかし、例えばインジウム金属酸化物とス
ズ金属酸化物との化合物であるITOは耐久性等の信頼
性を十分に維持するためには15nm以上の膜厚を有し
ていなければならなく、このときの表面抵抗値は500
Ω/□未満であり、高い表面抵抗値を得ることができな
い。ここで言う信頼性とは、80℃dry×1000h
rの耐熱性試験、60℃90%RH×1000hrの耐
湿熱性試験において抵抗変化R/R0が0.8以上1.
5以下で、クラック発生等の外観に変化がないことを言
う。これは、ITOの抵抗率の低さに起因する。
However, for example, ITO, which is a compound of indium metal oxide and tin metal oxide, must have a film thickness of 15 nm or more in order to sufficiently maintain reliability such as durability. The surface resistance at this time is 500
Since it is less than Ω / □, a high surface resistance value cannot be obtained. Reliability here means 80 ° C dry × 1000h
r heat resistance test, 60 ° C. 90% RH × 1000 hr wet heat resistance test, resistance change R / R0 was 0.8 or more.
When it is 5 or less, there is no change in appearance such as cracking. This is due to the low resistivity of ITO.

【0060】このような観点から透明導電膜中にSiO
2、TiO2、Al23、ZrO2、MgO、ZnOから
選ばれた少なくとも1種類の金属酸化物を微量添加する
ことにより抵抗率を高くすることができ、耐久性などの
信頼性において十分安定な膜厚領域で高い表面抵抗値を
得ることができる。
From such a viewpoint, SiO is contained in the transparent conductive film.
The resistivity can be increased by adding a trace amount of at least one metal oxide selected from 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , MgO, and ZnO, and the reliability such as durability is sufficient. A high surface resistance value can be obtained in a stable film thickness region.

【0061】更に、添加する金属酸化物自身も高い透明
性を有し、透明導電膜の光学特性を損なわない。従って
添加する金属酸化物の存在は、透明性を損なうことなく
透明導電膜の耐久性等の信頼性の面で有効である。
Further, the added metal oxide itself has high transparency and does not impair the optical characteristics of the transparent conductive film. Therefore, the presence of the added metal oxide is effective in terms of reliability such as durability of the transparent conductive film without impairing transparency.

【0062】ただし、ここに記したSiO2、TiO2
Al2O3 、ZrO2、MgO、ZnOは、各金属原子
の酸化物であることを表しており、必ずしも化学量論的
に完全な酸化物を表していない。つまり、光学特性を損
なわない範囲の化学量論数を持つこれら酸化物を示して
いる物である。
However, SiO 2 , TiO 2 , and
Al 2 O 3, ZrO 2 , MgO and ZnO represent oxides of each metal atom, and do not necessarily represent stoichiometrically complete oxides. That is, these oxides have stoichiometric numbers within a range that does not impair the optical properties.

【0063】また、透明導電膜中に添加する金属酸化物
の添加量は、前述の抵抗率に対する効果及び透明導電膜
自身の透明性の観点から、原子組成比で0.5〜2%が
好ましい。より好ましくは、0.8〜1.5%である。
ここで言う原子組成比とは、下記式 a×100/(a+b)(%) a:SiO2、TiO2、Al23、ZrO2、MgO、
ZnOから選ばれた少なくとも1種類の金属酸化物の重
量 b:主としてインジウム金属酸化物(In23)及び/
またはスズ金属酸化物(SnO2)の重量 により求めたSiO2、TiO2、Al23、ZrO2
MgO、ZnOから選ばれた少なくとも1種類の金属酸
化物の含有量のことを言う。
The amount of metal oxide added to the transparent conductive film is preferably 0.5 to 2% in terms of atomic composition ratio, from the viewpoint of the effect on the resistivity and the transparency of the transparent conductive film itself. . More preferably, it is 0.8 to 1.5%.
The atomic composition ratio here means the following formula a × 100 / (a + b) (%) a: SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , MgO,
Weight of at least one metal oxide selected from ZnO b: Mainly indium metal oxide (In 2 O 3 ) and / or
Alternatively, SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , obtained by the weight of tin metal oxide (SnO 2 ),
It means the content of at least one metal oxide selected from MgO and ZnO.

【0064】更に、透明性、導電性、機械特性等の点か
ら、透明導電性の金属酸化物は主として、インジウム金
属酸化物(In23)及び/またはスズ金属酸化物(S
nO2)からなる物であることが好ましい。
Further, from the viewpoint of transparency, conductivity, mechanical properties, etc., the transparent conductive metal oxide is mainly indium metal oxide (In 2 O 3 ) and / or tin metal oxide (S
nO 2 ) is preferable.

【0065】これら透明導電膜の膜厚は15nm〜25
nmが好ましく、特に17〜20nmがより好ましい。
これが15nm未満の場合には、膜が不安定であるため
耐久性等の信頼性の面で改善の効果がない。更に、膜厚
の斑による抵抗値のバラツキも大きくなってしまう。ま
た、25nmを越えると透過率や表面抵抗値が低下した
りして好ましくない。
The film thickness of these transparent conductive films is from 15 nm to 25 nm.
nm is preferable, and 17 to 20 nm is particularly preferable.
If it is less than 15 nm, the film is unstable and there is no improvement effect in terms of reliability such as durability. Further, the variation in the resistance value due to the unevenness of the film thickness also becomes large. Further, if it exceeds 25 nm, the transmittance and the surface resistance value are lowered, which is not preferable.

【0066】透明導電膜の形成方法としては、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、イオ
ンビームスパッタリング法、CVD法等の公知の方法を
用いることができる。中でも幅方向、長さ方向での膜厚
均一性、組成均一性の面でスパッタリング法が好まし
い。
As a method for forming the transparent conductive film, known methods such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum vapor deposition method, an ion beam sputtering method and a CVD method can be used. Among them, the sputtering method is preferable in terms of film thickness uniformity and composition uniformity in the width direction and the length direction.

【0067】以下の各実施例、比較例記載の各種試験の
評価は以下の要領にて行った。
Evaluations of various tests described in the following Examples and Comparative Examples were carried out in the following manner.

【0068】光線透過率は公知の可視分光光度計で測定
した、550nmにおける平行光線での透過率であり、
ヘイズ値は日本電色製の商品名「COH−300A」を
用いて測定したときの値である。
The light transmittance is the transmittance of parallel light rays at 550 nm measured by a known visible spectrophotometer,
The haze value is a value measured using a trade name “COH-300A” manufactured by Nippon Denshoku.

【0069】リタデーション値は公知の複屈折の屈折率
の差をΔnと膜厚dの積Δn・dであり、可視光線の範
囲である波長での測定値であることが必要であり、一般
的にはポリマーは屈折率の波長分散特性を有しているの
で、代表値として、590nmの測定値とする。また遅
相軸のバラツキ角度は同一の波長で測定するが、リタデ
ーション値及び遅相軸の角度は良く知られている複屈折
率測定装置で測定することが出来る。例えば日本分光製
の多波長複屈折率測定装置の商品名「M−150」等で
簡便に測定することが出来る。
The retardation value is the product Δn · d of the known refractive index difference of birefringence and Δn and the film thickness d, and it is necessary that the retardation value is a value measured at a wavelength in the visible light range. Since the polymer has a wavelength dispersion characteristic of refractive index, a typical value is a measured value of 590 nm. Further, the dispersion angle of the slow axis is measured at the same wavelength, but the retardation value and the angle of the slow axis can be measured by a well-known birefringence measuring device. For example, it can be easily measured with a product name “M-150” of a multi-wavelength birefringence measuring device manufactured by JASCO Corporation.

【0070】更に、三次元屈折率の測定は、プラスチッ
クフィルムを三次元楕円体であると仮定し、面内リター
デーション値の入射角依存性から計算で求めることが出
来る。すなわち、三次元屈折率をnx,ny,nzとし
たときに
Further, the three-dimensional refractive index can be calculated by assuming that the plastic film is a three-dimensional ellipsoid and calculating from the incident angle dependence of the in-plane retardation value. That is, when the three-dimensional refractive index is nx, ny, nz

【0071】[0071]

【数1】 [Equation 1]

【0072】[0072]

【数2】 [Equation 2]

【0073】の関係式が成り立つ。The relational expression of is satisfied.

【0074】そこでプラスチックフィルムの平均屈折率
n=(nx+ny+nz)/3を決定した後に、入射角
θにおけるリターデーションであるR(θ)を入射角θ
を変えて測定し、上記二つの式より屈折率nx,ny,
nzを決定することが出来る。なおΔn(θ)は入射角
θにおける複屈折率、dはプラスチックフィルムの膜厚
である。また、nについては文献値を使用しても差し支
えない。
Therefore, after determining the average refractive index n = (nx + ny + nz) / 3 of the plastic film, the retardation R (θ) at the incident angle θ is set to the incident angle θ.
And the refractive index nx, ny,
nz can be determined. Note that Δn (θ) is the birefringence at the incident angle θ, and d is the thickness of the plastic film. Also, literature values may be used for n.

【0075】耐有機溶剤性については、導電塗料に広く
使用されている溶剤の代表として選択したトルエンを2
5℃環境下で導電膜を設ける保護膜上に数滴滴下し、5
分放置後の白濁、膨潤、溶解等の外観の変化を目視にて
観察することによって行い、変化が確認されない場合に
耐有機溶剤性を有すると評価した。
Regarding the organic solvent resistance, toluene selected as a representative solvent widely used for conductive coatings
Drop a few drops on the protective film to be provided with a conductive film in a 5 ° C. environment, and
It was performed by visually observing changes in appearance such as white turbidity, swelling, and dissolution after being left for minutes, and when no change was confirmed, it was evaluated as having organic solvent resistance.

【0076】耐アルカリ水溶液性については、パターン
ニング後のレジストを溶解する際に用いられる3.5重
量%水酸化ナトリウム水溶液にサンプルを25℃で10
分間浸漬し、その後流水にて充分洗浄を行った後に乾燥
させ、外観を目視にて観察することによって行い、変化
が確認されない場合及び導電膜積層体についてはアルカ
リ処理前後の表面抵抗値変化R/R0が0.8≦R/R
0≦1.5の場合に耐アルカリ水溶液性を有すると評価
した。
Regarding the resistance to the alkaline aqueous solution, the sample was immersed in a 3.5 wt% sodium hydroxide aqueous solution used for dissolving the resist after patterning at 25 ° C. for 10 minutes.
It is immersed for a minute, then sufficiently washed with running water, dried, and visually observed for the appearance. When no change is confirmed and the conductive film laminate has a surface resistance change R / R0 is 0.8 ≦ R / R
When 0 ≦ 1.5, it was evaluated as having an alkali aqueous solution resistance.

【0077】耐酸性水溶液性については、透明電極層を
パターンニングする際に用いるエッチング液(35重量
%塩化第二鉄水溶液、35重量%塩酸、水を1:1:1
0の割合で混合した物)に25℃で10分間浸漬し、そ
の後流水にて充分洗浄を行った後に乾燥させ、外観を目
視にて観察することによって行い、変化が確認されない
場合、耐酸性水溶液性を有すると評価した。
Regarding the resistance to acidic aqueous solution, the etching solution used for patterning the transparent electrode layer (35% by weight ferric chloride aqueous solution, 35% by weight hydrochloric acid, water 1: 1: 1) was used.
(Mixture in a proportion of 0) at 25 ° C. for 10 minutes, and then thoroughly washed with running water and dried, and visually observing the appearance. When no change is confirmed, an acid-resistant aqueous solution is used. It was evaluated to have sex.

【0078】密着性の評価は、JIS規格5400に従
って、碁盤目テスト(碁盤目テープ法)によって行っ
た。
The adhesion was evaluated by a cross-cut test (cross-cut tape method) according to JIS standard 5400.

【0079】耐熱信頼性については、80℃dry雰囲
気化で1000時間放置したときの表面抵抗値変化R/
R0が0.8≦R/R0≦1.5の場合に耐熱信頼性を
有すると評価した。
Regarding the heat resistance, the change in surface resistance value when left for 1000 hours in a dry atmosphere at 80 ° C. R /
When R0 was 0.8 ≦ R / R0 ≦ 1.5, it was evaluated as having heat resistance reliability.

【0080】耐湿熱信頼性については、60℃90%R
H雰囲気化で1000時間放置したときの表面抵抗値変
化R/R0が0.8≦R/R0≦1.5の場合に耐湿熱
信頼性を有すると評価した。
Regarding the reliability of moist heat resistance, 60 ° C. 90% R
When the surface resistance value change R / R0 when left to stand for 1000 hours in an H atmosphere was 0.8 ≦ R / R0 ≦ 1.5, it was evaluated as having wet heat resistance.

【0081】[0081]

【実施例1】ビスフェノール成分がビスフェノールAの
みからなる平均分子量37000のポリカーボネート樹
脂を、メチレンクロライドに20重量%溶解した。そし
てこの溶液をダイコーティング法により厚さ175μm
のポリエステルフィルム上に流延した。次いで、乾燥炉
で残留溶媒濃度を13重量%とし、ポリエステルフィル
ムから剥離した。そして、このポリカーボネートフィル
ムを温度120℃の乾燥炉中で、縦横の張力をバランス
させながら、残留溶媒濃度が0.08重量%になるまで
乾燥した。
Example 1 A polycarbonate resin having an average molecular weight of 37,000 consisting of bisphenol A alone as a bisphenol component was dissolved in methylene chloride in an amount of 20% by weight. Then, this solution is applied to a die coating method to have a thickness of 175 μm.
Cast on a polyester film of. Next, the residual solvent concentration was adjusted to 13% by weight in a drying oven, and the film was peeled off from the polyester film. Then, this polycarbonate film was dried in a drying oven at a temperature of 120 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions until the residual solvent concentration became 0.08% by weight.

【0082】こうして得られたフィルムは、厚みが10
2μm、幅方向の膜厚ムラは±3μm、590nmにお
けるリターデーション値は、幅方向で8±2nm、遅相
軸はMD方向を中心に±8度、│K│は80nmであっ
た。
The film thus obtained has a thickness of 10
The retardation value at 2 μm, the film thickness unevenness in the width direction of ± 3 μm, and 590 nm was 8 ± 2 nm in the width direction, the slow axis was ± 8 degrees centering on the MD direction, and | K | was 80 nm.

【0083】このプラスチックフィルムの両面に以下の
ようにして保護層を積層した。
A protective layer was laminated on both sides of this plastic film as follows.

【0084】下記一般式(5)で示されるアクリレート
樹脂
Acrylate resin represented by the following general formula (5)

【0085】[0085]

【化10】 Embedded image

【0086】100重量部に対し、紫外線硬化開始剤で
ある1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チ
バガイギー社製の商品名「イルガキュア184」)を7
重量部及びレベリング剤としてシリコンオイル(東レダ
ウコーニングシリコン社製の「SH28PA」)0.0
3重量部、希釈溶媒としてイソプロパノール200重量
部を混合して塗液とした。
To 100 parts by weight, 7 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name "Irgacure 184" manufactured by Ciba-Geigy) which is an ultraviolet curing initiator is added.
Silicone oil (“SH28PA” manufactured by Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd.) as a weight part and a leveling agent 0.0
3 parts by weight and 200 parts by weight of isopropanol as a diluent solvent were mixed to prepare a coating liquid.

【0087】この塗液をまずプラスチックフィルムの片
面にマイクログラビアコーターを用いて湿式コーティン
グし、次いで60℃1分間加熱して塗液中の残留溶剤を
揮発除去した後、空気環境下で160W/cmの高圧水
銀灯を用いて、積算光量800mJ/cm2の条件で紫
外線を照射して塗膜の硬化を行い、膜厚4μmの樹脂層
を得た。
This coating solution was first wet-coated on one side of a plastic film using a microgravure coater, then heated at 60 ° C. for 1 minute to volatilize and remove the residual solvent in the coating solution, and then 160 W / cm in an air environment. The coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays under the conditions of an integrated light amount of 800 mJ / cm 2 using the high pressure mercury lamp of No. 3 to obtain a resin layer having a film thickness of 4 μm.

【0088】次いで逆の面にも同一の保護層を形成し
た。
Next, the same protective layer was formed on the opposite surface.

【0089】続いて、一方の保護層表面に強度200W
・min/m2の条件でコロナ放電処理を施した。
Then, strength of 200 W is applied to the surface of one protective layer.
・ Corona discharge treatment was applied under the condition of min / m 2 .

【0090】導電膜はコロナ放電処理を施した面に以下
のように形成した。
The conductive film was formed on the surface subjected to the corona discharge treatment as follows.

【0091】上記で作製したフィルムをDCマグネトロ
ンスパッタ装置内に設置し、ターゲットとして酸化イン
ジウム:酸化スズ:酸化チタンを重量比94:4.7:
1.3で焼結作製した相対密度70%のターゲットを設
置した。
The film produced above was placed in a DC magnetron sputtering apparatus, and a target of indium oxide: tin oxide: titanium oxide in a weight ratio of 94: 4.7:
A target having a relative density of 70% produced by sintering in 1.3 was set.

【0092】そして、真空槽内を0.13mPa以下ま
で排気した後、アルゴン/酸素混合ガス(酸素濃度1
%)を導入し、0.67Paの真空度、投入電力1.0
W/cm2で導電膜を作製した。このときの導電膜のT
iO2含有量は1.3%であった。
Then, after evacuation of the vacuum chamber to 0.13 mPa or less, an argon / oxygen mixed gas (oxygen concentration 1
%) Is introduced, the degree of vacuum is 0.67 Pa, and the input power is 1.0
A conductive film was produced with W / cm 2 . T of the conductive film at this time
The iO 2 content was 1.3%.

【0093】この導電膜積層体の特性を表1に示す。こ
の様に耐溶剤性、信頼性に優れた導電膜積層体であるこ
とが示された。
Table 1 shows the characteristics of this conductive film laminate. Thus, it was demonstrated that the conductive film laminate had excellent solvent resistance and reliability.

【0094】[0094]

【実施例2】実施例1で用いたプラスチックフィルム両
面に以下のようにして保護層を積層した。
Example 2 A protective layer was laminated on both surfaces of the plastic film used in Example 1 as follows.

【0095】容器外部が水冷された撹拌容器内にビニル
トリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM1
003」)148重量部を入れ、激しく撹拌を行いなが
ら0.01規定の塩酸水54重量部を徐々に添加し、更
に、3時間ゆっくりと撹拌を行うことにより、ビニルト
リメトキシシランの加水分解液を得た。
Vinyl trimethoxysilane (trade name “KBM1 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
003 "), 148 parts by weight of the vinyltrimethoxysilane was added thereto, 54 parts by weight of 0.01 N hydrochloric acid water was gradually added to the solution while vigorously stirring, and the mixture was slowly stirred for 3 hours. Got

【0096】アクリレート樹脂としてトリメチロールプ
ロパントリアクリレート(東亞合成化学社製の商品名
「アロニックスM−309」)100重量部に対し、前
述のビニルトリメトキシシランの加水分解液を100重
量部、紫外線硬化開始剤である1−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン(チバガイギー社製の商品名「イ
ルガキュア184」)を3重量部及びレベリング剤とし
てシリコンオイル(東レダウコーニングシリコン社製の
商品名「SH28PA」)0.03重量部を混合して塗
液とした。
As an acrylate resin, 100 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (trade name "Aronix M-309" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was UV-cured with 100 parts by weight of the above-mentioned hydrolyzed solution of vinyltrimethoxysilane. 3 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name "Irgacure 184" manufactured by Ciba-Geigy) as an initiator and 0.03 part by weight of silicon oil (trade name "SH28PA" manufactured by Toray Dow Corning Silicon Co.) as a leveling agent. The parts were mixed to obtain a coating liquid.

【0097】この塗液をまずプラスチックフィルムの片
面にマイクログラビアコーターを用いて湿式コーティン
グし、次いで60℃1分間加熱して塗液中の残留溶剤を
揮発除去した後、酸素濃度1%の窒素環境下で160W
/cmの高圧水銀灯を用いて、積算光量800mJ/c
2の条件で紫外線を照射して塗膜の硬化を行い、膜厚
4μmの樹脂層を得た。次いで逆の面にも同一の保護層
を形成した。
This coating solution was first wet-coated on one side of a plastic film using a microgravure coater, then heated at 60 ° C. for 1 minute to volatilize and remove the residual solvent in the coating solution, and then a nitrogen environment having an oxygen concentration of 1% was used. 160W below
/ Cm high pressure mercury lamp, 800 mJ / c
The coating film was cured by irradiating it with ultraviolet rays under the condition of m 2 to obtain a resin layer having a film thickness of 4 μm. Then, the same protective layer was formed on the opposite surface.

【0098】続いて、一方の保護層表面に強度200W
・min/m2の条件でコロナ放電処理を施した。導電
膜はコロナ放電処理を施した面に実施例1と同様に形成
した。
Subsequently, strength of 200 W is applied to the surface of one protective layer.
・ Corona discharge treatment was applied under the condition of min / m 2 . The conductive film was formed on the surface subjected to the corona discharge treatment in the same manner as in Example 1.

【0099】この導電膜積層体の特性を表1に示す。こ
の様に耐溶剤性、信頼性に優れた導電膜積層体であるこ
とが示された。
The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, it was demonstrated that the conductive film laminate had excellent solvent resistance and reliability.

【0100】[0100]

【実施例3】実施例1で用いたプラスチックフィルム両
面に以下のようにして保護層を積層した。
Example 3 A protective layer was laminated on both sides of the plastic film used in Example 1 as follows.

【0101】実施例1で用いたアクリレート樹脂100
重量部に対しレベリング剤としてシリコンオイル(東レ
ダウコーニングシリコン社製の商品名「SH28P
A」)0.03重量部、希釈溶媒としてイソプロパノー
ル200重量部を混合して塗液とした。
Acrylate resin 100 used in Example 1
Silicon oil as a leveling agent for parts by weight (trade name “SH28P” manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co.
A ") 0.03 parts by weight and 200 parts by weight of isopropanol as a diluent solvent were mixed to prepare a coating liquid.

【0102】この塗液をまずプラスチックフィルムの片
面にマイクログラビアコーターを用いて湿式コーティン
グし、次いで60℃1分間加熱して塗液中の残留溶剤を
揮発除去した後、4Mradの強度の電子線を照射し、
膜厚4μmの樹脂層を得た。
This coating solution was first wet-coated on one side of a plastic film using a microgravure coater, then heated at 60 ° C. for 1 minute to volatilize and remove the residual solvent in the coating solution, and then an electron beam having an intensity of 4 Mrad was applied. Irradiate,
A resin layer having a film thickness of 4 μm was obtained.

【0103】次いで逆の面にも同一の保護層を形成し
た。
Then, the same protective layer was formed on the opposite surface.

【0104】続いて、一方の保護層表面に強度200W
・min/m2の条件でコロナ放電処理を施した。
Subsequently, the strength of 200 W is applied to the surface of one of the protective layers.
・ Corona discharge treatment was applied under the condition of min / m 2 .

【0105】導電膜はコロナ放電処理を施した面に実施
例1と同様に形成した。
The conductive film was formed in the same manner as in Example 1 on the surface subjected to the corona discharge treatment.

【0106】この導電膜積層体の特性を表1に示す。こ
の様に耐溶剤性、信頼性に優れた導電膜積層体であるこ
とが示された。
The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, it was demonstrated that the conductive film laminate had excellent solvent resistance and reliability.

【0107】[0107]

【比較例1】実施例1においてアクリレート樹脂の組成
を実施例1のアクリレート樹脂40重量部とペンタエリ
スリトールトリアクリレート(東亞合成化学社製の商品
名「アロニックスM−305」)30重量部、イソシア
ヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレート(東亞合
成化学社製の商品名「アロニックスM−215」)30
重量部の混合物とした。それ以外は実施例1と同一とし
た。
Comparative Example 1 The composition of the acrylate resin in Example 1 was changed to 40 parts by weight of the acrylate resin of Example 1, 30 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (trade name "Aronix M-305" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and isocyanuric acid. Ethylene oxide modified diacrylate (trade name "Aronix M-215" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 30
The mixture was part by weight. The other conditions were the same as in Example 1.

【0108】この導電膜積層体の特性を表1に示す。こ
の様に耐溶剤性、信頼性の悪いものとなってしまった。
The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. In this way, the solvent resistance and reliability are poor.

【0109】[0109]

【比較例2】実施例1において高圧水銀灯の紫外光の積
算光量を400mJ/cm2とした。それ以外は実施例
1と同一とした。この硬化処理後の保護層表面には粘着
性があり、硬化不十分であった。さらには表1で示すよ
うに耐溶剤性にも劣る結果であった。
[Comparative Example 2] In Example 1, the integrated quantity of ultraviolet light of the high-pressure mercury lamp was set to 400 mJ / cm 2 . The other conditions were the same as in Example 1. The surface of the protective layer after this curing treatment had tackiness and was insufficiently cured. Further, as shown in Table 1, the solvent resistance was also inferior.

【0110】[0110]

【比較例3】実施例1においてプラスチックフィルム背
面を冷却し、かつ高圧水銀灯の紫外光の積算光量を26
00mJ/cm2とした。それ以外は実施例1と同一と
した。この硬化処理後の積層体は熱で変形し、使用に耐
えるものではなくなってしまった。
[Comparative Example 3] In Example 1, the back surface of the plastic film was cooled, and the cumulative amount of ultraviolet light of the high-pressure mercury lamp was set to 26.
00 mJ / cm 2 . The other conditions were the same as in Example 1. The laminated body after this curing treatment was deformed by heat and was no longer usable.

【0111】[0111]

【比較例4】実施例1において紫外線硬化開始剤の量を
3重量部とした。それ以外は実施例1と同一とした。こ
の硬化処理後の保護層表面には粘着性があり、硬化不十
分であった。さらには表1で示すように耐溶剤性にも劣
る結果であった。
Comparative Example 4 In Example 1, the amount of the ultraviolet curing initiator was 3 parts by weight. The other conditions were the same as in Example 1. The surface of the protective layer after this curing treatment had tackiness and was insufficiently cured. Further, as shown in Table 1, the solvent resistance was also inferior.

【0112】[0112]

【比較例5】実施例1において紫外線硬化開始剤の量を
15重量部とした。それ以外は実施例1と同一とした。
この導電膜積層体の特性を表1に示す。この様に耐溶剤
性には優れていたものの、信頼性の悪いものとなってし
まった。
Comparative Example 5 In Example 1, the amount of the ultraviolet curing initiator was set to 15 parts by weight. The other conditions were the same as in Example 1.
The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, the solvent resistance was excellent, but the reliability was poor.

【0113】[0113]

【比較例6】実施例1において、コロナ処理を行わなか
った。それ以外は実施例1と同一とした。この導電膜積
層体の特性を表1に示す。この様に耐溶剤性、信頼性の
悪いものとなってしまった。
Comparative Example 6 In Example 1, no corona treatment was performed. The other conditions were the same as in Example 1. The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. In this way, the solvent resistance and reliability are poor.

【0114】[0114]

【比較例7】実施例1において、紫外線硬化後の後熱処
理を行わず、コロナ処理のみを施した。それ以外は実施
例1と同一とした。この導電膜積層体の特性を表1に示
す。この様に耐溶剤性には優れていたものの、信頼性の
悪いものとなってしまった。
Comparative Example 7 In Example 1, only the corona treatment was performed without post-heat treatment after ultraviolet curing. The other conditions were the same as in Example 1. The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, the solvent resistance was excellent, but the reliability was poor.

【0115】[0115]

【比較例8】実施例2において、窒素中の酸素濃度を3
%とした。それ以外は実施例2と同一とした。この導電
膜積層体の特性を表1に示す。この様に耐溶剤性の悪い
ものとなってしまった。
[Comparative Example 8] In Example 2, the oxygen concentration in nitrogen was adjusted to 3
%. The other conditions were the same as in Example 2. The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, the solvent resistance is poor.

【0116】[0116]

【比較例9】実施例2において、紫外線硬化開始剤の量
を0.3重量部とした。それ以外は実施例2と同一とし
た。この硬化処理後の保護層表面には粘着性があり、硬
化不十分であった。さらには表1で示すように耐溶剤性
にも劣る結果であった。
Comparative Example 9 In Example 2, the amount of the ultraviolet curing initiator was 0.3 part by weight. The other conditions were the same as in Example 2. The surface of the protective layer after this curing treatment had tackiness and was insufficiently cured. Further, as shown in Table 1, the solvent resistance was also inferior.

【0117】[0117]

【比較例10】実施例2において、紫外線硬化開始剤の
量を6重量部とした。それ以外は実施例2と同一とし
た。この導電膜積層体の特性を表1に示す。この様に耐
溶剤性には優れていたものの、信頼性の悪いものとなっ
てしまった。
Comparative Example 10 In Example 2, the amount of the ultraviolet curing initiator was 6 parts by weight. The other conditions were the same as in Example 2. The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. Thus, the solvent resistance was excellent, but the reliability was poor.

【0118】[0118]

【比較例11】実施例3において、電子線照射強度を2
Mradとした。それ以外は実施例3と同一とした。こ
の硬化処理後の保護層表面には粘着性があり、硬化不十
分であった。さらには表1で示すように耐溶剤性にも劣
る結果であった。
[Comparative Example 11] In Example 3, the electron beam irradiation intensity was set to 2
It was Mrad. The other conditions were the same as in Example 3. The surface of the protective layer after this curing treatment had tackiness and was insufficiently cured. Further, as shown in Table 1, the solvent resistance was also inferior.

【0119】[0119]

【比較例12】実施例3において、電子線照射強度を6
Mradとした。それ以外は実施例3と同一とした。こ
の導電膜積層体の特性を表1に示す。この様に耐溶剤性
には優れていたものの、電子線によるプラスチックフィ
ルムの劣化が大きく着色が激しくなってしまった。その
ため、光線透過率が悪いものとなってしまった。
Comparative Example 12 In Example 3, the electron beam irradiation intensity was set to 6
It was Mrad. The other conditions were the same as in Example 3. The characteristics of this conductive film laminate are shown in Table 1. As described above, although the solvent resistance was excellent, the deterioration of the plastic film due to the electron beam was great and the coloring became severe. Therefore, the light transmittance is poor.

【0120】[0120]

【表1】 [Table 1]

【0121】[0121]

【発明の効果】本発明は以上説明したように、光学特性
及び導電膜特性に優れたタッチパネル用途の透明導電膜
積層体を提供するものであり、液晶パネルと共用される
特に優れた視認性と優れた視野角特性を有する抵抗膜方
式タッチパネル用透明導電積層体として特に好適に使用
できる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention provides a transparent conductive film laminate having excellent optical properties and conductive film properties for a touch panel, and has particularly excellent visibility shared with a liquid crystal panel. It can be particularly suitably used as a transparent conductive laminate for a resistive film type touch panel having excellent viewing angle characteristics.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 13/00 503 H01B 13/00 503B // C09D 4/00 PDQ C09D 4/00 PDQ 4/02 PDR 4/02 PDR (72)発明者 谷田部 俊明 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location H01B 13/00 503 H01B 13/00 503B // C09D 4/00 PDQ C09D 4/00 PDQ 4/02 PDR 4/02 PDR (72) Inventor Toshiaki Yatabe 4-3-2 Asahigaoka, Hino City, Tokyo Teijin Limited Tokyo Research Center

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
に導電膜を設けた抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜
積層体において、光学等方プラスチックフィルム上に、
下記一般式(1) 【化1】 の化合物を固形分率で50重量%以上含有する放射線硬
化性樹脂の硬化物を積層した後、その面にコロナ放電処
理を施し、その上に導電膜を積層したことを特徴とす
る、抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜積層体及びそ
の製造方法。一般式1で、Aは不飽和アルキル基あるい
は不飽和アルキルカルボニル基、Xは炭素原子数1〜8
で3価の脂肪族エーテル基、Yは2価の脂肪族あるいは
芳香族ジカルボニル化合物、nは平均値として0.5〜
2の範囲である。
1. A transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel, wherein a conductive film is provided on at least one surface of a plastic film, on an optically isotropic plastic film,
The following general formula (1) After laminating a cured product of a radiation curable resin containing 50% by weight or more of the compound as a solid content, corona discharge treatment is applied to the surface thereof, and a conductive film is laminated thereon. METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FOR TOUCH PANEL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME In the general formula 1, A is an unsaturated alkyl group or an unsaturated alkylcarbonyl group, and X is a carbon atom number of 1 to 8.
And a trivalent aliphatic ether group, Y is a divalent aliphatic or aromatic dicarbonyl compound, and n is 0.5 to 0.5 as an average value.
2 range.
【請求項2】 前記の固形分比で50重量%以上含有さ
せる放射線硬化性樹脂は、前記一般式(1)でAはアク
リロイル基、Xは下記一般式(2) 【化2】 である3価の基、Yは下記一般式(3)又は(4) 【化3】 【化4】 で示されるジカルボニル化合物であることを特徴とする
請求項1に記載の抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜
積層体。ここで、Zは炭素数1から12の3価の炭化水
素基、Rは水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基、エ
チル基を表す。
2. The radiation curable resin contained in the solid content ratio of 50% by weight or more is represented by the general formula (1), wherein A is an acryloyl group and X is the following general formula (2): Is a trivalent group, and Y is represented by the following general formula (3) or (4): Embedded image It is a dicarbonyl compound shown by these. The transparent conductive film laminated body for resistive film type touch panels of Claim 1 characterized by the above-mentioned. Here, Z represents a trivalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a methyl group or an ethyl group.
【請求項3】 前記保護層の硬化は前記放射線硬化性樹
脂に紫外線硬化開始剤を、放射線硬化性樹脂成分に対し
て4〜10重量部添加し、積層時に空気環境下で、積算
光量が500〜2000mJ/cm2の紫外光を照射し
た後、次いで100℃以上の温度で1分以上の熱処理を
してなることを特徴とする、請求項1から2のいずれか
に記載の抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜積層体の
製造方法。
3. The curing of the protective layer is carried out by adding an ultraviolet curing initiator to the radiation curable resin in an amount of 4 to 10 parts by weight based on the radiation curable resin component. 3. The resistive film type touch panel according to claim 1, wherein the resistive film type touch panel according to any one of claims 1 to 2, characterized in that after being irradiated with ultraviolet light of ˜2000 mJ / cm 2 , it is then heat-treated at a temperature of 100 ° C. or higher for 1 minute or longer. For manufacturing a transparent conductive film laminate for a car.
【請求項4】 前記保護層の硬化は前記放射線硬化性樹
脂に紫外線硬化開始剤を、放射線硬化性樹脂成分に対し
て0.5重量部以上4重量部未満添加し、積層時に酸素
濃度が2%以下の窒素ガス環境下で、積算光量が500
〜2000mJ/cm2の紫外光を照射してなることを
特徴とする、請求項1から2のいずれかに記載の抵抗膜
方式タッチパネル用透明導電膜積層体の製造方法。
4. The curing of the protective layer is carried out by adding an ultraviolet curing initiator to the radiation curable resin in an amount of 0.5 part by weight or more and less than 4 parts by weight with respect to the radiation curable resin component so that the oxygen concentration is 2 when laminated. In a nitrogen gas environment of less than 50%, the cumulative light intensity is 500
And characterized by being irradiated with ultraviolet light of ~2000mJ / cm 2, resistive type method for producing a transparent conductive film laminate for a touch panel according to any of claims 1 to 2.
【請求項5】 前記保護層の硬化は前記放射線硬化性樹
脂を、積層時に3〜5Mradの電子線を照射してなる
ことを特徴とする、請求項1から2のいずれかに記載の
抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜積層体の製造方
法。
5. The resistance film according to claim 1, wherein the protective layer is cured by irradiating the radiation curable resin with an electron beam of 3 to 5 Mrad during lamination. Method for producing a transparent conductive film laminate for a touch panel.
【請求項6】 前記光学等方プラスチックフィルムは溶
液流延法で製膜されたプラスチックフィルムであること
を特徴とする、請求項1から2のいずれかに記載の抵抗
膜方式タッチパネル用透明導電膜積層体。
6. The transparent conductive film for a resistive film type touch panel according to claim 1, wherein the optically isotropic plastic film is a plastic film formed by a solution casting method. Laminate.
【請求項7】 前記光学等方プラスチックフィルムの面
内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率
をny、フィルム厚み方向の屈折率をnz、フィルム厚
みをdとしたときに、三次元屈折率異方性を示すパラメ
ーターをK=((nx+ny)/2−nz)×dとした
ときに│K│≦120nmであることを特徴とする、請
求項1から2、6のいずれかに記載の抵抗膜方式タッチ
パネル用透明導電膜積層体。
7. The refractive index in the in-plane slow axis direction of the optically isotropic plastic film is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the film thickness direction is nz, and the film thickness is d. When it does, when it makes K = ((nx + ny) / 2-nz) xd the parameter which shows three-dimensional refractive index anisotropy, | K | ≦ 120 nm, It is characterized in that 7. The transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel according to any one of items 6 and 6.
【請求項8】 前記プラスチックフィルムはポリカーボ
ネート樹脂を主成分とすることを特徴とする、請求項
1、2、6、7のいずれかに記載の抵抗膜方式タッチパ
ネル用透明導電膜積層体。
8. The transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel according to claim 1, wherein the plastic film contains a polycarbonate resin as a main component.
【請求項9】 前記透明導電膜が、主としてインジウム
金属酸化物(In23)からなる透明導電性の金属酸化
物膜であることを特徴とする請求項1、2、6、7、8
のいずれかに記載の抵抗膜方式タッチパネル用透明導電
膜積層体。
9. The transparent conductive film is a transparent conductive metal oxide film mainly made of indium metal oxide (In 2 O 3 ).
5. A transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel according to any one of 1.
【請求項10】 前記透明導電性の金属酸化物膜が、主
としてインジウム金属酸化物(In23)とスズ金属酸
化物(SnO2)とからなることを特徴とする請求項
1、2、6、7、8、9のいずれかに記載の抵抗膜方式
タッチパネル用透明導電膜積層体。
10. The transparent conductive metal oxide film is mainly composed of indium metal oxide (In 2 O 3 ) and tin metal oxide (SnO 2 ). 6. A transparent conductive film laminate for a resistive film type touch panel according to any one of 6, 7, 8 and 9.
【請求項11】 前記透明導電膜が、透明導電性の金属
酸化物膜中に、SiO2、TiO2、Al23、Zr
2、MgO、ZnOから選ばれた少なくとも1種類の
金属酸化物を微量添加したものであることを特徴とする
請求項1、2、6、7、8、9、10のいずれかに記載
の抵抗膜方式タッチパネル用透明導電膜積層体。
11. The transparent conductive film comprises SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , and Zr in a transparent conductive metal oxide film.
The metal oxide according to any one of claims 1, 2, 6, 7, 8, 9 and 10, wherein a trace amount of at least one metal oxide selected from O 2 , MgO and ZnO is added. A transparent conductive film laminate for a resistive touch panel.
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