JPH09255949A - Organic electroluminescence element - Google Patents

Organic electroluminescence element

Info

Publication number
JPH09255949A
JPH09255949A JP8064067A JP6406796A JPH09255949A JP H09255949 A JPH09255949 A JP H09255949A JP 8064067 A JP8064067 A JP 8064067A JP 6406796 A JP6406796 A JP 6406796A JP H09255949 A JPH09255949 A JP H09255949A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
layer
carbon atoms
aromatic group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8064067A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Suzuki
一郎 鈴木
Toshio Sakai
俊男 酒井
Hiroaki Nakamura
浩昭 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority to JP8064067A priority Critical patent/JPH09255949A/en
Publication of JPH09255949A publication Critical patent/JPH09255949A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an organic electroluminecence element which has excellent electroluminescent properties, is not problematic in the crystallization of the specified constituent compound, has good heat stability and excellent film thinness by incorporating a compound having a specified structure in at least one of a luminescent layer, an electron injection layer and a hold injection transport layer. SOLUTION: This element contains a compound represented by the formula (Ar<1> and Ar<2> are each a 6-20C monovalent aromatic group or a 2-18C monovalent heterocyclic group; Ar<3> is a 6-20C divalent aromatic group; R is H, a 1-6C alkyl or a 6-20C monovalent aromatic group; X is O, S or an N atom bonded to a 6-20C monovalent aromatic group; Q is a 6-20C divalent aromatic group or a 1-6C almlene; and (n) is 0 or 1).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子に関し、さらに詳しくは、電界発光性
に優れるとともに、素子化しても結晶化することがな
く、熱安定性が良好で、かつ薄膜性に優れる有機エレク
トロルミネッセンス素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescence device, and more specifically, it has excellent electroluminescence, does not crystallize even when made into a device, has good thermal stability, and has a thin film property. The present invention relates to an excellent organic electroluminescence device.

【0002】[0002]

【従来の技術】電界発光を利用したエレクトロルミネッ
センス素子(以下、EL素子と略記する。)は、一般
に、自己発光のため視認性が高く、また完全固体素子で
あるため、耐衝撃性にも優れるという特徴を有してお
り、薄型ディスプレー素子,液晶ディスプレーのバック
ライト,平面光源などに用いられている。現在実用化さ
れているEL素子は無機EL素子である。しかしなが
ら、この無機EL素子は、数10V,10kHz以上の
交流電圧を必要とするため、駆動回路が複雑である上、
製造コストが高く、かつ輝度や耐久性が不充分であるな
どの欠点を有している。
2. Description of the Related Art Generally, an electroluminescence device utilizing electroluminescence (hereinafter abbreviated as an EL device) has high visibility because it self-luminesces and is excellent in impact resistance because it is a completely solid-state device. It is used for thin display devices, liquid crystal display backlights, flat light sources, and so on. The EL element currently in practical use is an inorganic EL element. However, since this inorganic EL element requires an alternating voltage of several tens of volts and 10 kHz or more, the driving circuit is complicated and
It has drawbacks such as high manufacturing cost and insufficient brightness and durability.

【0003】一方、有機薄膜EL素子は、駆動電圧を1
0V程度まで低下させるこができ、かつ高輝度に発光す
るために、近年盛んに研究が行われ、多くの有機薄膜E
L素子が開発されており、例えば「Appl. Phy
s. Lett.」第151巻,第913〜915ペー
ジ(1987年),特開昭59−194393号公報,
米国特許第4539507号明細書,特開昭63−29
5695号公報,米国特許第4720432号明細書,
特開昭63−264692号公報などが報告又は提案さ
れている。これらにおいては、陽極,正孔注入輸送層,
発光層及び陰極からなる電界発光素子が示されており、
具体的には、正孔注入輸送材料として芳香族第三級アミ
ンが、発光材料としてアルミニウムキレート錯体が代表
的な例として挙げられている。また、本発明に最も近接
した技術しては、特表平5−502140号公報,特開
平6−314594号公報などに記載のオキサジアゾー
ル化合物を電子注入層に用いた例がある。しかしなが
ら、これらの技術においては、いずれも輝度及び耐久性
について充分に満足しうるものではないという欠点があ
った。
On the other hand, the organic thin film EL element has a driving voltage of 1
In order to be able to reduce the voltage to 0 V and to emit light with high brightness, research has been actively conducted in recent years, and many organic thin film E
L elements have been developed, for example, “Appl. Phy
s. Lett. 151, pp. 913-915 (1987), JP-A-59-194393.
U.S. Pat. No. 4,539,507, JP-A-63-29
5695, U.S. Pat. No. 4,720,432,
JP-A-63-264692 has been reported or proposed. In these, the anode, hole injection transport layer,
An electroluminescent device comprising a light emitting layer and a cathode is shown,
Specifically, aromatic tertiary amines are cited as typical examples of hole injecting and transporting materials, and aluminum chelate complexes are cited as typical examples of light emitting materials. In addition, as a technique closest to the present invention, there are examples in which an oxadiazole compound described in JP-A-5-502140 and JP-A-6-314594 is used in an electron injection layer. However, these techniques have a drawback that they are not sufficiently satisfactory in terms of brightness and durability.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、電界発光性に優れるとともに、素子化しても
結晶化することがなく、熱安定性が良好で、耐久性及び
薄膜性に優れる有機EL素子を提供することを目的とす
るものである。
Under the above circumstances, the present invention is excellent in electroluminescence, does not crystallize even when formed into an element, has good thermal stability, and has durability and thin film property. It is an object of the present invention to provide an excellent organic EL device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有する有機EL素子を開発すべく鋭意研究
を重ねた結果、特定構造のジスチリル化合物を含有する
有機EL素子、特に発光素子,電子注入層及び正孔注入
輸送層の少なくとも一層が該ジスチリル化合物を含有す
る有機EL素子により、その目的を達成しうることを見
出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもの
である。すなわち、本発明は、一般式(I)
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies conducted by the present inventors to develop an organic EL device having the above-mentioned preferable properties, an organic EL device containing a distyryl compound having a specific structure, particularly a light emitting device. It was found that at least one of the electron injecting layer and the hole injecting and transporting layer can achieve the object by an organic EL device containing the distyryl compound. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (I):

【0006】[0006]

【化2】 Embedded image

【0007】(式中、Ar1 及びAr2 は、それぞれ一
価の置換若しくは無置換の炭素数6〜20の芳香族基又
は炭素数2〜18の複素環式基を示し、それらはたがい
に同一でも異なっていてもよく、Ar3 は二価の置換若
しくは無置換の炭素数6〜20の芳香族基、Rは水素原
子,炭素数1〜6のアルキル基又は一価の置換若しくは
無置換の炭素数6〜20の芳香族基、Xは酸素原子,硫
黄原子又は一価の置換若しくは無置換の炭素数6〜20
の芳香族基が結合した窒素原子、Qは二価の置換若しく
は無置換の炭素数6〜20の芳香族基又は炭素数1〜6
のアルキレン基、nは0又は1を示す。)で表される化
合物を含有することを特徴とする有機EL素子を提供す
るものである。
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 each represent a monovalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or a heterocyclic group having 2 to 18 carbon atoms. They may be the same or different, Ar 3 is a divalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a monovalent substituted or unsubstituted group. C6-20 aromatic group, X is an oxygen atom, a sulfur atom, or a monovalent substituted or unsubstituted C6-20.
Nitrogen atom to which the aromatic group of is bonded, Q is a divalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or 1 to 6 carbon atoms.
And an alkylene group of n is 0 or 1. The present invention provides an organic EL device characterized by containing a compound represented by the formula (1).

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子は、一般式
(I)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic EL device of the present invention has the general formula (I)

【0009】[0009]

【化3】 Embedded image

【0010】で表される化合物を含有するものである。
上記一般式(I)において、Ar1 及びAr2 は、それ
ぞれ一価の置換若しくは無置換の炭素数6〜20の芳香
族基又は炭素数2〜18の複素環式基を示す。ここで、
炭素数6〜20の一価の芳香族基としては、例えばフェ
ニル基,ビフェニル基,ターフェニル基,ナフチル基,
アントラセニル基,ビナフチル基,ピレニル基などが挙
げられ、また、炭素数2〜18の一価の複素環式基とし
ては、例えばピリジル基,キノリル基,カルバゾリル
基,オキサジアゾリル基,チアゾリル基,トリアゾリル
基などが挙げられる。この芳香族基及び複素環式基は、
無置換のものであってもよく、また環上に後述の置換基
を1個又は2個以上有するものであってもよい。該Ar
1 及びAr2 は、たがいに同一であっても、異なってい
てもよい。
It contains a compound represented by:
In the above general formula (I), Ar 1 and Ar 2 each represent a monovalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or a heterocyclic group having 2 to 18 carbon atoms. here,
Examples of the monovalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthyl group,
Examples thereof include anthracenyl group, binaphthyl group and pyrenyl group, and examples of monovalent heterocyclic group having 2 to 18 carbon atoms include pyridyl group, quinolyl group, carbazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group and triazolyl group. Is mentioned. The aromatic group and the heterocyclic group are
It may be unsubstituted or may have one or more substituents described below on the ring. The Ar
1 and Ar 2 may be the same or different from each other.

【0011】また、Ar3 は炭素数6〜20の二価の芳
香族基を示し、この二価の芳香族基としては、例えばフ
ェニレン基,ビフェニレン基,ターフェニレン基,ナフ
チレン基,アントラセニレン基,ビナフチレン基,ピレ
ニレン基などが挙げられる。この芳香族基は、無置換の
ものであってもよく、環上に後述の置換基を1個又は2
個以上有するものであってもよい。Rは水素原子,炭素
数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜20の一価の芳香
族基を示す。ここで、炭素数1〜6のアルキル基として
は、例えばメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソ
プロピル基,n−ブチル基,イソブチル基,sec−ブ
チル基,tert−ブチル基,ペンチル基,ネオペンチ
ル基,n−ヘキシル基,イソヘキシル基などが挙げら
れ、炭素数6〜20の一価の芳香族基としては、例えば
フェニル基,ビフェニル基,ターフェニル基,ナフチル
基,アントラセニル基,ビナフチル基,ピレニル基など
が挙げられる。この芳香族基は、無置換のものであって
もよく、環上に後述の置換基を1個又は2個以上有する
ものであってもよい。
Ar 3 represents a divalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. Examples of the divalent aromatic group include phenylene group, biphenylene group, terphenylene group, naphthylene group, anthracenylene group, Examples thereof include binaphthylene group and pyrenylene group. This aromatic group may be unsubstituted and may have one or two substituents described below on the ring.
It may have more than one. R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a monovalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. Here, as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, Examples thereof include neopentyl group, n-hexyl group, and isohexyl group. Examples of the monovalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, binaphthyl group, Examples thereof include a pyrenyl group. This aromatic group may be unsubstituted or may have one or more substituents described below on the ring.

【0012】さらに、Xは酸素原子,硫黄原子又は炭素
数6〜20の一価の芳香族基が結合した窒素原子を示
す。ここで、窒素原子に結合した炭素数6〜20の一価
の芳香族基としては、例えばフェニル基,ビフェニル
基,ターフェニル基,ナフチル基,アントラセニル基,
ビナフチル基,ピレニル基などが挙げられる。この芳香
族基は、無置換のものであってもよく、環上に後述の置
換基を1個又は2個以上有するものであってもよい。一
方、Qは炭素数6〜20の二価の芳香族基又は炭素数1
〜6のアルキレン基を示す。ここで、炭素数6〜20の
二価の芳香族基としては、例えばフェニレン基,ビフェ
ニレン基,ターフェニレン基,ナフチレン基,アントラ
セニレン基,ビナフチレン基,ピレニレン基、さらに
は、
Further, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom to which a monovalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms is bonded. Here, as the monovalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms bonded to the nitrogen atom, for example, a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group,
Examples thereof include binaphthyl group and pyrenyl group. This aromatic group may be unsubstituted or may have one or more substituents described below on the ring. On the other hand, Q is a divalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or 1 carbon atom.
And 6 to 6 alkylene groups. Here, as the divalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, for example, a phenylene group, a biphenylene group, a terphenylene group, a naphthylene group, an anthracenylene group, a binaphthylene group, a pyrenylene group, and further,

【0013】[0013]

【化4】 Embedded image

【0014】で表される基などが挙げられる。この芳香
族基は無置換のものであってもよく、環上に後述の置換
基を1個又は2個以上有するものであってもよい。ま
た、炭素数1〜6のアルキレン基としては、例えばメチ
レン基,エチレン基,n−プロピレン基,イソプロピレ
ン基,n−ブチレン基,イソブチレン基,sec−ブチ
レン基,tert−ブチレン基,ペンチレン基,ネオペ
ンチレン基,n−ヘキシレン基,イソヘキシレン基など
が挙げられる。
And the like. This aromatic group may be unsubstituted or may have one or more substituents described below on the ring. Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include methylene group, ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, n-butylene group, isobutylene group, sec-butylene group, tert-butylene group, pentylene group, Examples include neopentylene group, n-hexylene group, isohexylene group and the like.

【0015】さらに、上記芳香族,複素環式基における
置換基としては、例えばハロゲン原子,炭素数6〜20
のアリール基,炭素数1〜6のアルキル基,炭素数1〜
6のアルコキシ基,炭素数7〜20のアラルキル基,炭
素数6〜18のアリールオキシ基,無置換若しくは炭化
水素基置換アミノ基,水酸基などが挙げられる。ここ
で、炭素数6〜20のアリール基の例としては、フェニ
ル基,ビフェニル基,ターフェニル基,ナフチル基,ア
ントラセニル基,ビナフチル基,ピレニル基などが、炭
素数1〜6のアルキル基の例としては、メチル基,エチ
ル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル
基,イソブチル基,sec−ブチル基,tert−ブチ
ル基,ペンチル基,ネオペンチル基,n−ヘキシル基,
イソヘキシル基などが、炭素数1〜6アルコキシ基の例
としては、メトキシ基,エトキシ基,n−プロポキシ
基,イソプロポキシ基,n−ブチルオキシ基,sec−
ブチルオキシ基,tert−ブチルオキシ基,ペンチル
オキシ基,ネオペンチルオキシ基,n−ヘキシルオキシ
基,イソヘキシルオキシ基などが、炭素数7〜20のア
ラルキル基の例としては、フェニルメチル基,ビフェニ
ルメチル基,ナフチルメチル基,ビナフチルメチル基な
どが、炭素数6〜18のアリールオキシ基の例として
は、フェノキシ基,ナフトキシ基などが、炭化水素基置
換アミノ基の例としては、メチルアミノ基,ジメチルア
ミノ基,フェニルアミノ基,ジフェニルアミノ基などが
挙げられる。また、nは0又は1である。
Further, examples of the substituent in the above aromatic or heterocyclic group include a halogen atom and a carbon number of 6 to 20.
Aryl group, C1-C6 alkyl group, C1-C1
Examples thereof include an alkoxy group having 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 18 carbon atoms, an unsubstituted or hydrocarbon group-substituted amino group, and a hydroxyl group. Here, examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, binaphthyl group, pyrenyl group and the like, and examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group,
Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as isohexyl group are methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butyloxy group, sec-
A butyloxy group, a tert-butyloxy group, a pentyloxy group, a neopentyloxy group, an n-hexyloxy group, an isohexyloxy group and the like are examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a phenylmethyl group, a biphenylmethyl group. , Naphthylmethyl group, binaphthylmethyl group, etc., examples of aryloxy group having 6 to 18 carbon atoms include phenoxy group, naphthoxy group, etc., examples of hydrocarbon group-substituted amino group include methylamino group, dimethylamino group. Group, phenylamino group, diphenylamino group and the like. N is 0 or 1.

【0016】本発明の有機EL素子は、このような一般
式(I)で表される化合物を含有するものであるが、こ
こでいう含有するとは、該一般式(I)の化合物自体を
薄膜として含有することを指す以外に、一般式(I)の
化合物をバインダーポリマー中に分散した薄膜、さら
に、一般式(I)の構造を側鎖としてもつ、又は主鎖の
繰り返し構造中に含む高分子の薄膜を含有することも指
す。上記一般式(I)で表される化合物は、種々の公知
の方法によって製造することができるが、例えば以下に
示す三つの方法によって製造するのが有利である。 <方法1>一般式(II)
The organic EL device of the present invention contains such a compound represented by the general formula (I). The inclusion here means that the compound of the general formula (I) itself is a thin film. In addition to the above, a thin film in which the compound of the general formula (I) is dispersed in a binder polymer, and further, having a structure of the general formula (I) as a side chain or containing a structure in a repeating structure of the main chain It also refers to containing a thin film of molecules. The compound represented by the general formula (I) can be produced by various known methods, but for example, it is advantageous to produce it by the following three methods. <Method 1> General formula (II)

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を示し、R,Ar3 ,X,Q及びnは上
記と同じである。)で表されるホスホン酸エステルと、
一般式(III)
(Wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and R, Ar 3 , X, Q and n are the same as above). ,
General formula (III)

【0019】[0019]

【化6】 [Chemical 6]

【0020】(式中、Ar1 及びAr2 は上記と同じで
ある。)で表されるカルボニル化合物とを、塩基の存在
下に縮合させる方法(Wittig反応又はWitti
g−Hornor反応)により、製造することができ
る。 <方法2>一般式(IV)
A method in which a carbonyl compound represented by the formula (wherein Ar 1 and Ar 2 are the same as above) is condensed in the presence of a base (Wittig reaction or Witti reaction).
g-Hornor reaction). <Method 2> General formula (IV)

【0021】[0021]

【化7】 Embedded image

【0022】(式中、R,Ar3 ,X,Q及びnは上記
と同じである。)で表されるカルボニル化合物と一般式
(V)
(In the formula, R, Ar 3 , X, Q and n are the same as above.) And the general formula (V).

【0023】[0023]

【化8】 Embedded image

【0024】(式中、Ar1 ,Ar2 及びR1 は上記と
同じである。)で表されるホスホン酸エステルとを、塩
基の存在下に縮合させる方法(Wittig反応又はW
ittig−Hornor反応)により、製造すること
ができる。上記方法1及び方法2においては、通常反応
溶媒が用いられる。この反応溶媒としては、炭化水素
類,アルコール類,エーテル類が好ましく、具体的に
は、メタノール;エタノール;イソプロパノール;ブタ
ノール;2−メトキシエタノール;1,2−ジメトキシ
エタン;ビス(2−メトキシエチル)エーテル;ジオキ
サン;テトラヒドロフラン;トルエン;キシレンなどが
挙げられ、さらにはジメチルスルホキシド;N,N−ジ
メチルホルムアミド;N−メチルピロリドン;1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジノンなども用いることがで
きる。これらの中で、特にテトラヒドロフラン及びジメ
チルスルホキシドが好適である。
(Wherein Ar 1 , Ar 2 and R 1 are the same as above) and the phosphonate ester is condensed in the presence of a base (Wittig reaction or W
Ittig-Hornor reaction). In the above method 1 and method 2, a reaction solvent is usually used. As the reaction solvent, hydrocarbons, alcohols and ethers are preferable, and specifically, methanol; ethanol; isopropanol; butanol; 2-methoxyethanol; 1,2-dimethoxyethane; bis (2-methoxyethyl). Ether; dioxane; tetrahydrofuran; toluene; xylene and the like, and further dimethyl sulfoxide; N, N-dimethylformamide; N-methylpyrrolidone; 1,3-
Dimethyl-2-imidazolidinone and the like can also be used. Of these, tetrahydrofuran and dimethyl sulfoxide are particularly preferable.

【0025】また、塩基としては、例えば水酸化ナトリ
ウム,水酸化カリウム,ナトリウムアミド,水素化ナト
リウム,n−ブチルリチウム,ナトリウムメチラート,
カリウムt−ブトキシドなどが好ましく挙げられるが、
これらの中で、特にn−ブチルリチウム及びカリウムt
−ブトキシドが好適である。 <方法3>一般式(VI)
As the base, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium amide, sodium hydride, n-butyllithium, sodium methylate,
Preferable examples include potassium t-butoxide,
Among these, especially n-butyl lithium and potassium t
-Butoxide is preferred. <Method 3> General formula (VI)

【0026】[0026]

【化9】 Embedded image

【0027】(式中、Ar1 ,Ar2 ,Ar3 ,R,
X,Q及びnは上記と同じである。)で表される化合物
を、脱水剤の存在下に脱水環化させることにより、製造
することができる。この方法において用いられる脱水剤
としては、例えばオキシ塩化リン,塩化チオニル,ポリ
リン酸,トルエンスルホン酸などが挙げられる。また、
この反応は溶媒の不在下又は存在下に行われる。溶媒を
使用する場合は、溶媒としては、例えばクロロベンゼ
ン,ジクロロベンゼン,キシレン,ニトロベンゼンなど
の芳香族系溶媒、トリクロロエタン,トリクロロエチレ
ンなどのハロゲン系溶媒などが好ましく挙げられる。上
記一般式(I)で表される化合物の例としては、
(Wherein Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 , R,
X, Q and n are the same as above. It can be produced by subjecting the compound represented by the formula (4) to a cyclodehydration in the presence of a dehydrating agent. Examples of the dehydrating agent used in this method include phosphorus oxychloride, thionyl chloride, polyphosphoric acid, and toluenesulfonic acid. Also,
This reaction is carried out in the absence or presence of a solvent. When a solvent is used, preferable examples of the solvent include aromatic solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, xylene and nitrobenzene, and halogen solvents such as trichloroethane and trichloroethylene. Examples of the compound represented by the above general formula (I) include:

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】[0031]

【化13】 Embedded image

【0032】[0032]

【化14】 Embedded image

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】で表されるものなどを挙げることができ
る。
Examples include those represented by:

【0035】本発明は、上記一般式(I)で表される構
造を有するジスチリル化合物を含有する有機EL素子で
あり、その素子構成としては、例えば陽極/正孔注入輸
送層/発光層/電子注入層/陰極,陽極/発光層/電子
注入層/陰極,陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極,
陽極/発光層/陰極型などが挙げられる。上記一般式
(I)で表される構造を有するジスチリル化合物は、発
光層,電子注入層及び正孔注入輸送層の少なくとも一層
に含有させるのが好ましい。この素子構成においては、
正孔注入輸送層や電子注入層は、必ずしも必要ではない
が、これらの層を有する素子は発光性能が向上する利点
がある。また、一対の電極間に上記正孔注入輸送層,発
光層,電子注入層を混合させた形で挟持させてもよい。
さらに、各成分を安定に存在させるため、高分子化合物
などのバインダーを用いて混合層を作製してもよい。
The present invention is an organic EL device containing a distyryl compound having a structure represented by the above general formula (I), and the device constitution is, for example, anode / hole injection / transport layer / light emitting layer / electron. Injection layer / cathode, anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode, anode / hole injection / transport layer / light emitting layer / cathode,
Examples include an anode / light emitting layer / cathode type. The distyryl compound having the structure represented by the general formula (I) is preferably contained in at least one of the light emitting layer, the electron injecting layer and the hole injecting and transporting layer. In this element configuration,
The hole injecting and transporting layer and the electron injecting layer are not always necessary, but the element having these layers has an advantage of improving the light emitting performance. Further, the hole injecting and transporting layer, the light emitting layer, and the electron injecting layer may be sandwiched between a pair of electrodes.
Furthermore, in order to make each component exist stably, a mixed layer may be prepared using a binder such as a polymer compound.

【0036】ここで、本発明の有機EL素子として、陽
極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入層/陰極型を例
にして説明する。本発明の素子は、基板に支持されてい
ることが好ましい。この基板については特に制限はな
く、従来の有機EL素子に慣用されているものであれば
よく、例えばガラス,透明プラスチック,石英などから
なるものを用いることができる。このEL素子における
正極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属,
合金,電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質
とするものが好ましく用いられる。このような電極物質
の具体例としてはAuなどの金属,CuI,インジウム
チンオキシド(ITO),SnO2 ,ZnOなどの導電
性透明材料が挙げられる。該正極は、これらの電極物質
を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜を形成
させることにより作製することができる。この電極より
発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくす
ることが望ましく、また、電極としてのシート抵抗は数
百Ω/□以下が好ましい。
Here, the organic EL device of the present invention will be described by taking an example of anode / hole injecting / transporting layer / light emitting layer / electron injecting layer / cathode type. The device of the present invention is preferably supported on a substrate. The substrate is not particularly limited as long as it is commonly used in conventional organic EL devices, and for example, a substrate made of glass, transparent plastic, quartz or the like can be used. The positive electrode of this EL element is a metal having a large work function (4 eV or more),
Those using an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof as an electrode material are preferably used. Specific examples of such an electrode material include a conductive transparent material such as metal such as Au, CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 and ZnO. The positive electrode can be manufactured by forming a thin film from these electrode substances by a method such as evaporation or sputtering. When light is extracted from this electrode, the transmittance is desirably higher than 10%, and the sheet resistance of the electrode is preferably several hundred Ω / □ or less.

【0037】さらに膜厚は材料にもよるが、通常10n
m〜1μm,好ましくは10〜200nmの範囲で選ば
れる。一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV
以下)金属,合金,電気伝導性化合物及びこれらの混合
物を電極物質とするものが用いられる。このような電極
物質の具体例としては、ナトリウム,ナトリウム−カリ
ウム合金,マグネシウム,リチウム,マグネシウム/銅
混合物,マグネシウム/銀混合物,Al/Al 2 3
インジウムなどが挙げられる。該陰極は、これらの電極
物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜を
形成させることにより、作製することができる。また、
電極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、
膜厚は通常10〜500nm,好ましくは50〜200
nmの範囲で選ばれる。なお、発光を透過させるため、
有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透明又
は半透明であれば発光効率が向上し好都合である。
Further, the film thickness depends on the material, but is usually 10 n.
m-1 μm, preferably 10-200 nm
It is. On the other hand, the cathode has a low work function (4 eV).
Below) metals, alloys, electrically conductive compounds and mixtures of these
A material is used as an electrode material. Such an electrode
Specific examples of the substance include sodium and sodium-potassium.
Um alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper
Mixture, magnesium / silver mixture, Al / Al TwoOThree,
Examples include indium. The cathode is these electrodes
A thin film is formed by a method such as vapor deposition or sputtering of the substance.
It can be produced by forming it. Also,
Sheet resistance as an electrode is preferably several hundred Ω / □ or less,
The film thickness is usually 10 to 500 nm, preferably 50 to 200
It is selected in the range of nm. In addition, in order to transmit the light emission,
Either the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or
If it is semi-transparent, the luminous efficiency is improved, which is convenient.

【0038】本発明の発光層の発光材料としては、上記
一般式(I)で表される構造を有するジスチリル化合物
が好ましい。このジスチリル化合物が発光層以外で用い
られている場合は、発光層の発光材料について特に制限
されることはなく、従来公知の化合物の中から任意のも
のを選択して用いることができる。
As the light emitting material of the light emitting layer of the present invention, a distyryl compound having a structure represented by the above general formula (I) is preferable. When the distyryl compound is used in a region other than the light emitting layer, the light emitting material of the light emitting layer is not particularly limited, and any conventionally known compound can be selected and used.

【0039】上記ジスチリル化合物以外の発光材料とし
ては、例えば、多環縮合芳香族化合物、ベンゾオキサゾ
ール系,ベンゾチアゾール系,ベンゾイミダゾール系な
どの蛍光増白剤、金属キレート化オキサノイド化合物、
ジスチリルベンゼン系化合物など薄膜形成性の良い化合
物を用いることができる。ここで、上記多環縮合芳香族
化合物としては、例えばアントラセン,ナフタレン,フ
ェナントレン,ピレン,クリセン,ペリレン骨格を含む
縮合環発光物質等を挙げることができる。
Examples of the light-emitting material other than the distyryl compound include polycyclic fused aromatic compounds, fluorescent brightening agents such as benzoxazole-based, benzothiazole-based and benzimidazole-based compounds, metal chelated oxanoide compounds,
A compound having a good thin film forming property such as a distyrylbenzene compound can be used. Here, examples of the above-mentioned polycyclic condensed aromatic compound include condensed ring luminescent substances containing anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene, and perylene skeletons.

【0040】上記ベンゾオキサゾール系,ベンゾチアゾ
ール系,ベンゾイミダゾール系などの蛍光増白剤として
は、例えば特開昭59−194393号公報に記載され
ているものを用いることができ、その代表例としては、
2,5−ビス(5,7−ジ−t−ペンチル−2−ベンゾ
オキサゾリル)−1,3,4−チアジアゾール;4,
4’−ビス(5,7−t−ペンチル−2−ベンゾオキサ
ゾリル)スチルベン;4,4’−ビス(5,7−ジ−
(2−メチル−2−ブチル)−2−ベンゾオキサゾリ
ル)スチルベン;2,5−ビス(5,7−ジ−t−ペン
チル−2−ベンゾオキサゾリル)チオフェン;2,5−
ビス(5−(α,α,−ジメチルベンジル)−2−ベン
ゾオキサゾリル)チオフェン;2,5−ビス(5,7−
ジ−(2−メチル−2−ブチル)−2−ベンゾオキサゾ
リル)−3,4−ジフェニルチオフェン;2,5−ビス
(5−メチル−2−ベンゾオキサゾリル)チオフェン;
4,4’−ビス(2−ベンゾオキサゾリル)ビフェニ
ル;5−メチル−2−(2−(4−(5−メチル−2−
ベンゾオキサゾリル)フェニル)ビニル)ベンゾオキサ
ゾール;2−(2−(4−クロロフェニル)ビニル)ナ
フト(1,2−d)オキサゾールなどのベンゾオキサゾ
ール系、2,2’−(p−フェニレンジビニレン)−ビ
スベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系、2−
(2−(4−(2−ベンゾイミダゾリル)フェニル)ビ
ニル)ベンゾイミダゾール;2−(2−(4−カルボキ
シフェニル)ビニル)ベンゾイミダゾールなどのベンゾ
イミダゾール系などの蛍光増白剤が挙げられる。
As the above-mentioned fluorescent whitening agents of benzoxazole type, benzothiazole type, benzimidazole type and the like, for example, those described in JP-A-59-194393 can be used, and typical examples thereof are ,
2,5-bis (5,7-di-t-pentyl-2-benzoxazolyl) -1,3,4-thiadiazole; 4,
4'-bis (5,7-t-pentyl-2-benzooxazolyl) stilbene; 4,4'-bis (5,7-di-
(2-methyl-2-butyl) -2-benzoxazolyl) stilbene; 2,5-bis (5,7-di-t-pentyl-2-benzoxazolyl) thiophene; 2,5-
Bis (5- (α, α, -dimethylbenzyl) -2-benzoxazolyl) thiophene; 2,5-bis (5,7-
Di- (2-methyl-2-butyl) -2-benzoxazolyl) -3,4-diphenylthiophene; 2,5-bis (5-methyl-2-benzooxazolyl) thiophene;
4,4'-bis (2-benzoxazolyl) biphenyl; 5-methyl-2- (2- (4- (5-methyl-2-
Benzoxazolyl) phenyl) vinyl) benzoxazole; benzoxazoles such as 2- (2- (4-chlorophenyl) vinyl) naphtho (1,2-d) oxazole, 2,2 ′-(p-phenylenedivinylene) ) -Bisbenzothiazole and other benzothiazoles, 2-
Fluorescent whitening agents such as (2- (4- (2-benzimidazolyl) phenyl) vinyl) benzimidazole; benzimidazole-based fluorescent agents such as 2- (2- (4-carboxyphenyl) vinyl) benzimidazole.

【0041】上記金属キレート化オキサノイド化合物と
しては、例えば特開昭63−295695号公報に記載
されているものを用いることができる。その代表例とし
ては、トリス(8−キノリノール)アルミニウム,ビス
(8−キノリノール)マグネシウム,ビス(ベンゾ
(f)−8−キノリノール)亜鉛,ビス(2−メチル−
8−キノリノラート)アルミニウムオキシド,トリス
(8−キノリノール)インジウム,トリス(5−メチル
−8−キノリノール)アルミニウム,8−キノリノール
リチウム,トリス(5−クロロ−8−キノリノール)ガ
リウム,ビス(5−クロロ−8−キノリノール)カルシ
ウム,ポリ(亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−
キノリノニル)メタン)などの8−ヒドロキシキノリン
系金属鎖体やジリチウムエピンドリジオンなどが挙げら
れる。
As the metal chelated oxanoide compound, for example, those described in JP-A-63-295695 can be used. Representative examples are tris (8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) magnesium, bis (benzo (f) -8-quinolinol) zinc, bis (2-methyl-
8-quinolinolate) aluminum oxide, tris (8-quinolinol) indium, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, lithium 8-quinolinol, tris (5-chloro-8-quinolinol) gallium, bis (5-chloro- 8-quinolinol) calcium, poly (zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-
Examples thereof include 8-hydroxyquinoline-based metal chain bodies such as quinolinonyl) methane) and dilithium epindridione.

【0042】他には、欧州特許第0373582号明細
書に記載のジスチリルベンゼン誘導体,同038876
8号明細書に記載のジメチリデン誘導体、特開平2−1
91694号公報のクマリン誘導体、特開平2−252
793号公報のジスチリルピラジン誘導体、特開平2−
196885号公報のペリレン誘導体、特開平2−25
5789号公報のナフタレン誘導体、特開平2−289
676号公報及び同2−88689号公報のフタロペリ
ノン誘導体、特開平2−250292号公報のスチリル
アミン誘導体及び同2−289675号公報のシクロペ
ンタジエン誘導体など、目的とする発光色及び性能など
から適宜選択することができる。
In addition, a distyrylbenzene derivative described in European Patent No. 0373582, 038876.
Dimethylidene derivatives described in JP-A No. 8 (1994) -108,
No. 91694, coumarin derivative, JP-A-2-252
No. 793, distyrylpyrazine derivatives;
No. 196885, perylene derivatives disclosed in JP-A-2-25
No. 5789, naphthalene derivative, JP-A-2-289
The phthaloperinone derivative of JP-A No. 676 and JP-A No. 2-88689, the styrylamine derivative of JP-A No. 2-250292, and the cyclopentadiene derivative of JP-A No. 2-289675 are appropriately selected from the desired emission color and performance. be able to.

【0043】上記の有機化合物からなる発光層は、所望
に応じて2層以上の積層構造でもよく、米国特許第4,
769,292号明細書に開示されているように蛍光物
質を加えて形成してもよい。この場合上記有機化合物は
薄膜状の層であり、発光領域の機能の注入機能及び発光
機能の一部を受持ち、一方、蛍光物質はその有機化合物
の層の中に微量(数モル%以下)存在させ、電子と正孔
の再結合に応答して発光するといった発光機能の一部を
担っている。さらに、発光領域に用いる有機化合物は薄
膜性を有していない化合物であってもよく、このような
化合物の例としては、1,4−ジフェニル−1,3−ブ
タジエン;1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−
ブタジエン;テトラフェニルシクロペンタジエンなどが
挙げられる。しかし、これらの薄膜性を有しない材料
は、素子の寿命が短い欠点を有する。
The light emitting layer made of the above organic compound may have a laminated structure of two or more layers as desired.
It may be formed by adding a fluorescent substance as disclosed in Japanese Patent No. 769,292. In this case, the organic compound is a thin film-like layer and has a part of the injection function and the light emitting function of the function of the light emitting region, while the fluorescent substance is present in the layer of the organic compound in a trace amount (several mol% or less). It plays a part of a light emitting function of emitting light in response to recombination of electrons and holes. Further, the organic compound used in the light emitting region may be a compound having no thin film property, and examples of such a compound include 1,4-diphenyl-1,3-butadiene; 4-tetraphenyl-1,3-
Butadiene; tetraphenylcyclopentadiene and the like. However, these materials that do not have a thin film property have a shortcoming that the life of the device is short.

【0044】この発光層は、これらの発光材料一種又は
二種以上からなる一層で構成されてもよいし、あるい
は、前記発光層とは別種の化合物からなる発光層を積層
したものであってもよい。次に、本発明の有機EL素子
の正孔注入輸送層は、正孔伝達化合物から成るものであ
って、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能
を有し、この正孔注入輸送層を陽極と発光層の間に介在
させることにより、より低い電界で多くの正孔が発光層
に注入され、そのうえ、発光層に陰極又は電子注入層よ
り注入された電子は、発光層と正孔注入輸送層の界面に
存在する電子の障壁により、発光層内の界面に累積され
発光効率が向上するなど発光性能の優れた素子となる。
The light emitting layer may be composed of a single layer made of one or more of these light emitting materials, or may be a laminate of light emitting layers made of a compound different from the light emitting layer. Good. Next, the hole injecting / transporting layer of the organic EL device of the present invention is made of a hole transferring compound and has a function of transferring the holes injected from the anode to the light emitting layer. By interposing the transport layer between the anode and the light emitting layer, many holes are injected into the light emitting layer at a lower electric field, and moreover, the electrons injected from the cathode or the electron injection layer into the light emitting layer become Due to the barrier of electrons existing at the interface of the hole injecting and transporting layer, the device is excellent in light emission performance because it is accumulated at the interface in the light emitting layer to improve the light emission efficiency.

【0045】このような正孔注入輸送層に用いられる正
孔伝達化合物は、電界を与えられた2個の電極間に配置
されて陽極から正孔が注入された場合、正孔を適切に発
光層へ伝達しうるものであり、例えば104 −106
/cmの電界印加時に少なくとも10-6cm2 /V・秒
の正孔移動度を有するものが好適である。この正孔伝達
化合物については、前記の好ましい性質を有するもので
あれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において、正
孔の電荷注入輸送材料として慣用されているものやEL
素子の正孔注入輸送層に使用される公知のものの中から
任意のものを選択して用いることができる。
The hole transfer compound used in the hole injecting and transporting layer is disposed between two electrodes to which an electric field is applied, and when the hole is injected from the anode, the hole is appropriately emitted. Can be transmitted to the layers, for example 10 4 -10 6 V
Those having a hole mobility of at least 10 −6 cm 2 / V · sec when an electric field of / cm is applied are preferable. The hole transporting compound is not particularly limited as long as it has the above-mentioned preferable properties, and is conventionally used as a charge injecting / transporting material for holes in an optical transmission material or EL.
Any known material used for the hole injecting and transporting layer of the device can be selected and used.

【0046】上記正孔伝達化合物としては、例えば前記
一般式(I)で表されるジスチリル化合物,トリアゾー
ル誘導体,オキサジアゾール誘導体(米国特許第3,1
89,447号などに記載のもの),イミダゾール誘導
体,ポリアリールアルカン誘導体,ピラゾリン誘導体及
びピラゾロン誘導体,フェニレンジアミン誘導体,アリ
ールアミン誘導体,アミノ置換カルコン誘導体,オキサ
ゾール誘導体,スチリルアントラセン誘導体,フルオレ
ノン誘導体,ヒドラゾン誘導体,スチルベン誘導体など
を挙げることができる。また、電荷注入輸送材料として
は、シラザン誘導体,ポリシラン系,アニリン系共重合
体、また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオ
リゴマーなどが挙げられる。
Examples of the hole transfer compound include distyryl compounds represented by the general formula (I), triazole derivatives, oxadiazole derivatives (US Pat. No. 3,1).
89,447), imidazole derivative, polyarylalkane derivative, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, arylamine derivative, amino-substituted chalcone derivative, oxazole derivative, styrylanthracene derivative, fluorenone derivative, hydrazone derivative. , Stilbene derivatives and the like. Examples of the charge injection / transport material include silazane derivatives, polysilane-based and aniline-based copolymers, and conductive polymer oligomers, especially thiophene oligomers.

【0047】本発明においては、上記の正孔伝達化合物
または電荷注入輸送材料を正孔注入材料として使用する
ことができるが、次に示すポルフィリン化合物(特開昭
63−2956965号公報などに記載のもの)及び芳
香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物(米
国特許第4,127,412 号明細書,特開昭53−27033
号公報,同54−58445号公報,同54−1496
34号公報,同54−64299号公報,同55−79
450号公報,同55−144250号公報,同56−
119132号公報,同61−295558号公報,同
61−98353号公報,同63−295695号公報
など参照),特に該芳香族第三級アミン化合物を用いる
ことが好ましい。
In the present invention, the above hole transfer compound or charge injecting / transporting material can be used as the hole injecting material, and the porphyrin compound shown below (described in JP-A-63-295965). ) And aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds (US Pat. No. 4,127,412, JP-A-53-27033).
Gazette, JP-A-54-58445, JP-A-54-1496
Nos. 34, 54-64299, 55-79
Nos. 450, 55-144250, 56-
119132, 61-295558, 61-98353, 63-295695 and the like), and particularly preferably the aromatic tertiary amine compound.

【0048】該ポルフィリン化合物の代表例としては、
ポルフィン,1,10,15,20−テトラフェニル−
21H,23H−ポルフィン銅(II);1,10,1
5,20−テトラフェニル21H,23H−ポルフィン
亜鉛(II);5,10,15,20−テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)−21H,23H−ポルフィン;
シリコンフタロシアニンオキシド;アルミニウムフタロ
シアニンクロリド;フタロシアニン(無金属);ジリチ
ウムフタロシアニン;銅テトラメチルフタロシアニン;
銅フタロシアニン;クロムフタロシアニン;亜鉛フタロ
シアニン;鉛フタロシアニン;チタニウムフタロシアニ
ンオキシド;マグネシウムフタロシアニン;銅オクタメ
チルフタロシアニンなどが挙げられる。
As typical examples of the porphyrin compound,
Porphine, 1,10,15,20-tetraphenyl-
21H, 23H-porphine copper (II); 1,10,1
5,20-Tetraphenyl 21H, 23H-porphine zinc (II); 5,10,15,20-Tetrakis (pentafluorophenyl) -21H, 23H-porphine;
Silicon phthalocyanine oxide; aluminum phthalocyanine chloride; phthalocyanine (metal-free); dilithium phthalocyanine; copper tetramethyl phthalocyanine;
Copper phthalocyanine; chromium phthalocyanine; zinc phthalocyanine; lead phthalocyanine; titanium phthalocyanine oxide; magnesium phthalocyanine; copper octamethylphthalocyanine and the like.

【0049】また、該芳香族第三級アミン化合物及びス
チリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N’,
N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノフェニル;
N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェ
ニル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TPDA);
2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プ
ロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェ
ニル)シクロヘキサン;N,N,N’,N’−テトラ−
p−トリル−4,4’−ジアミノビフェニル;1,1−
ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェ
ニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−
メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−
トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N’−ジ
フェニル−N,N’−ジ(4−メトキシフェニル)−
4,4’−ジアミノビフェニル;N,N,N’,N’−
テトラフェニル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテ
ル;4,4’−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフ
ェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−
(ジ−p−トリルアミノ)−4’−〔4(ジ−p−トリ
ルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェ
ニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−
メトキシ−4’−N,N−ジフェニルアミノスチルベン
ゼン;N−フェニルカルバゾールなどが挙げられる。ま
た、Si,SiC,CdSなどの無機物半導体の結晶,
非晶材料も用いることができる。
Typical examples of the aromatic tertiary amine compound and styrylamine compound include N, N, N ',
N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl;
N, N'-diphenyl-N, N'-di (3-methylphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TPDA);
2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ', N'-tetra-
p-tolyl-4,4'-diaminobiphenyl; 1,1-
Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-
Methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-
Trilylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N'-di (4-methoxyphenyl)-
4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-
Tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4-
(Di-p-tolylamino) -4 '-[4 (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-
Methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole and the like. In addition, crystals of inorganic semiconductors such as Si, SiC, CdS,
Amorphous materials can also be used.

【0050】この正孔注入輸送層は、これらの正孔注入
材料一種又は二種以上からなる一層で構成されてもよい
し、あるいは、前記正孔注入輸送層とは別種の化合物か
らなる正孔注入輸送層を積層したものであってもよい。
また、本発明で用いる有機EL素子の電子注入層は、電
子注入材料から成るものであって、陰極より注入された
電子を発光層に伝達する機能を有している。本発明の場
合は、上記一般式(I)で表される化合物が好ましい。
このジスチリル化合物が、電子注入層以外で用いられて
いる場合は、電子注入材料について特に制限されること
はなく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択し
て用いることができる。
The hole injecting and transporting layer may be composed of one or more of these hole injecting materials, or a single layer of a compound different from the hole injecting and transporting layer. It may be a stack of injecting and transporting layers.
The electron injection layer of the organic EL element used in the present invention is made of an electron injection material and has a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer. In the case of the present invention, the compound represented by the above general formula (I) is preferable.
When this distyryl compound is used in a layer other than the electron injecting layer, the electron injecting material is not particularly limited, and any one of conventionally known compounds can be selected and used.

【0051】この電子注入層は、これらの電子注入材料
一種又は二種以上からなる一層で構成されてもよいし、
あるいは、前記層とは別種の化合物からなる電子注入層
を積層したものであってもよい。さらに無機物であるp
型−Si,p型−SiCによる正孔注入材料、n型α−
Si,n型α−SiCによる電子注入材料を電子注入材
料として用いることができる。例えば、国際公開WO9
0/05998に開示されている無機半導体などが挙げ
られる。
This electron injection layer may be composed of one or more of these electron injection materials, or may be composed of a single layer.
Alternatively, an electron injection layer made of a compound different from the above layer may be laminated. Furthermore, it is an inorganic substance, p
-Si, p-SiC hole injection material, n-type α-
An electron injection material made of Si, n-type α-SiC can be used as the electron injection material. For example, international publication WO9
Inorganic semiconductors disclosed in 0/05998 and the like can be mentioned.

【0052】次に、本発明の有機EL素子を作製する好
適な例を説明する。例として、前記の陽極/正孔注入輸
送層/発光層/電子注入層/陰極からなるEL素子の作
製法について説明すると、まず適当な基板上に、所望の
電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜を、1μm以
下、好ましくは10〜200nmの範囲の膜厚になるよ
うに、蒸着やスパッタリングなどの方法により形成さ
せ、陽極を作製する。次に、この上に素子材料である正
孔注入輸送層,発光層,電子注入層の材料からなる薄膜
を形成させる。この薄膜化の方法としては、前記の如く
スピンコート法,キャスト法,蒸着法などがあるが、均
質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくい
などの点から、真空蒸着法が好ましい。この薄膜化に、
この蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は、使用する
化合物の種類,分子堆積膜の目的とする結晶構造,会合
構造などにより異なるが、一般にボート加熱温度50〜
400℃,真空度10-6〜10-3Pa,蒸着速度0.01
〜50nm/秒,基板温度−50〜300℃,膜厚5n
m〜5μmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。
Next, a suitable example for producing the organic EL device of the present invention will be described. As an example, a method of manufacturing an EL device composed of the above-mentioned anode / hole injecting / transporting layer / light emitting layer / electron injecting layer / cathode will be described. First, a desired electrode material, for example, an anode material is formed on a suitable substrate. A thin film is formed by a method such as vapor deposition or sputtering so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably in the range of 10 to 200 nm, to prepare an anode. Next, a thin film made of the materials of the hole injecting and transporting layer, the light emitting layer, and the electron injecting layer, which are element materials, is formed on this. As the thinning method, there are the spin coating method, the casting method, the vapor deposition method and the like as described above, but the vacuum vapor deposition method is preferable from the viewpoint that a uniform film is easily obtained and pinholes are hard to be generated. . For this thinning,
When this vapor deposition method is adopted, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, the desired crystal structure of the molecular deposited film, the association structure, etc.
400 ° C., vacuum degree 10 −6 to 10 −3 Pa, vapor deposition rate 0.01
~ 50 nm / sec, substrate temperature -50 ~ 300 ° C, film thickness 5n
It is desirable to appropriately select in the range of m to 5 μm.

【0053】これらの層の形成後、その上に陰極用物質
からなる薄膜を、1μm以下好ましくは50〜200n
mの範囲の膜厚になるように、例えば蒸着やスパッタリ
ングなどの方法により形成させ、陰極を設けることによ
り、所望のEL素子が得られる。なお、このEL素子の
作製においては、作製順序を逆にして、陰極,電子注入
層,発光層,正孔注入輸送層,陽極の順に作製すること
も可能である。また、一対の電極間に正孔注入輸送層,
発光層,電子注入層を混合させた形で挟持させた陽極/
発光層/陰極からなる素子の作製方法としては、例えば
適当な基板の上に、陽極用物質からなる薄膜を形成し、
正孔注入材料,発光材料,電子注入材料,ポリビニルカ
ルバゾール,ポリカーボネート,ポリアリレート,ポリ
エステル,ポリエーテルなどの結着剤などからなる溶液
を塗布するか、又はこの溶液から浸漬塗工法により薄膜
を形成させ発光層とし、その上に陰極用物質からなる薄
膜を形成させるものがある。ここで、作製した発光層上
に、さらに発光層または電子注入層の材料となる素子材
料を真空蒸着し、その上に陰極用物質からなる薄膜を形
成させてもよい。
After forming these layers, a thin film made of a substance for the cathode is formed thereon and has a thickness of 1 μm or less, preferably 50 to 200 n.
A desired EL element can be obtained by forming a film having a thickness in the range of m by, for example, a method such as vapor deposition or sputtering and providing a cathode. In the production of this EL element, it is possible to reverse the production order and produce the cathode, the electron injection layer, the light emitting layer, the hole injection transport layer, and the anode in this order. In addition, a hole injecting and transporting layer between the pair of electrodes,
Anode sandwiching a mixture of a light emitting layer and an electron injection layer /
As a method for producing an element composed of a light emitting layer / cathode, for example, a thin film made of a material for an anode is formed on an appropriate substrate,
A solution containing a hole injecting material, a light emitting material, an electron injecting material, a binder such as polyvinylcarbazole, polycarbonate, polyarylate, polyester, or polyether is applied, or a thin film is formed from this solution by a dip coating method. There is a light emitting layer on which a thin film made of a substance for a cathode is formed. Here, an element material which is a material for the light emitting layer or the electron injection layer may be further vacuum-deposited on the produced light emitting layer, and a thin film made of a substance for a cathode may be formed thereon.

【0054】このようにして得られたEL素子に、直流
電圧を印加する場合には、陽極を+,陰極を−の極性と
して電圧5〜40V程度を印加すると、発光が観測でき
る。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに
発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印加する場合
には、正極が+,負極が−の状態になったときのみ発光
する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
When a DC voltage is applied to the EL device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 5 to 40 V with the anode having a positive polarity and the cathode having a negative polarity. Also, even if a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. Further, when an AC voltage is applied, light is emitted only when the positive electrode becomes + and the negative electrode becomes-. The waveform of the applied alternating current may be arbitrary.

【0055】[0055]

【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定さ
れるものではない。 製造例1 次に示す反応式に従って、化合物(1)を製造した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Production Example 1 Compound (1) was produced according to the reaction formula shown below.

【0056】[0056]

【化16】 Embedded image

【0057】カルボン酸〔A〕0.35g(1.70ミリモ
ル)を塩化チオニル2ミリリットルに溶かし、3時間加
熱還流したのち、未反応の塩化チオニルを留去し、酸塩
化物0.52g(1.60ミリモル,収率95%)を得た。
この酸塩化物0.52g(1.60ミリモル)をピリジン2
ミリリットルに溶かし、無水ヒドラジン0.04ミリリッ
トルを加え、6時間加熱還流した。この反応液を氷水中
に注ぎ、生成した沈殿をろ取し、ヒドラジド〔B〕0.7
7g(収率85%)を得た。このヒドラジド〔B〕の核
磁気共鳴スペクトル〔 1H−NMR,基準:テトラメチ
ルシラン(TMS),溶媒:CDCl3 〕を測定したと
ころ、δ=9.0〜7.0ppm(15H,m)であった。
0.35 g (1.70 mmol) of carboxylic acid [A] was dissolved in 2 ml of thionyl chloride and heated under reflux for 3 hours, and then unreacted thionyl chloride was distilled off to give 0.52 g of acid chloride (1 .60 mmol, yield 95%) was obtained.
0.52 g (1.60 mmol) of this acid chloride was added to pyridine 2
It was dissolved in milliliter, 0.04 ml of anhydrous hydrazine was added, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. The reaction solution was poured into ice water, the precipitate formed was collected by filtration, and hydrazide [B] 0.7 was added.
7 g (yield 85%) was obtained. The nuclear magnetic resonance spectrum [ 1 H-NMR, reference: tetramethylsilane (TMS), solvent: CDCl 3 ] of this hydrazide [B] was measured and found to be δ = 9.0 to 7.0 ppm (15 H, m). there were.

【0058】次に、上記ヒドラジド〔B〕0.77g(1.
30ミリモル)をオキシ塩化リン5.0ミリリットルに溶
かし、58時間加熱還流した。次いで、反応液を氷水中
に注ぎ、生成した沈殿をろ取し、アセトニトリルから再
結晶して、白色固体0.3g(0.52ミリモル,収率40
%)を得た。この白色固体の核磁気共鳴スペクトル〔 1
H−NMR,基準:テトラメチルシラン(TMS),溶
媒:CDCl3 〕を測定したところ、δ=8.5〜7.0p
pm(30H,m)であった。
Next, 0.77 g of the above-mentioned hydrazide [B] (1.
(30 mmol) was dissolved in 5.0 ml of phosphorus oxychloride and heated under reflux for 58 hours. Then, the reaction solution was poured into ice water, and the formed precipitate was collected by filtration and recrystallized from acetonitrile to give a white solid 0.3 g (0.52 mmol, yield 40)
%) Was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum of this white solid [ 1
H-NMR, reference: tetramethylsilane (TMS), solvent: CDCl 3 ] were measured, and δ = 8.5 to 7.0 p.
It was pm (30H, m).

【0059】また、元素分析結果は C H O 実測値(%) 87.27 5.43 5.04 計算値(%) 87.17 5.23 4.84 (C42302 Oとして) であった。さらに質量分析の結果、m/z=578であ
った。以上の結果から、目的の化合物(1)が得られて
いることが確認された。
The results of elemental analysis are as follows: C H 2 O 2 actual value (%) 87.27 5.43 5.04 Calculated value (%) 87.17 5.23 4.84 (as C 42 H 30 N 2 O) Met. Furthermore, the result of mass spectrometry was m / z = 578. From the above results, it was confirmed that the target compound (1) was obtained.

【0060】製造例2〜12 製造例1において、カルボン酸〔A〕の代わりに第1表
に示すカルボン酸を用いた以外は、製造例1と同様にし
て、化合物(2)〜(12)を得た。収率を第1表に示
す。
Production Examples 2 to 12 Compounds (2) to (12) were prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the carboxylic acid shown in Table 1 was used in place of the carboxylic acid [A]. Got The yield is shown in Table 1.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】[0063]

【表3】 [Table 3]

【0064】製造例13 次に示す反応式に従って、化合物(13)を製造した。Production Example 13 Compound (13) was produced according to the reaction formula shown below.

【0065】[0065]

【化17】 Embedded image

【0066】オキシ塩化リン0.31g(2.0ミリモル)
をジクロロベンゼン5ミリリットルに溶かし、アニリン
0.56g(6.0ミリモル)を加え、室温で3時間攪拌し
た。さらに、ヒドラジド〔B〕0.6g(1.0ミリモル)
を加え、36時間加熱還流した。次いで、溶媒を留去
し、シリカゲルカラムで精製して、白色固体0.56g
(収率85%)を得た。この白色固体の核磁気共鳴スペ
クトル〔 1H−NMR,基準:テトラメチルシラン(T
MS),溶媒:CDCl3 〕を測定したところ、δ=8.
5〜7.0ppm(35H,m)であった。
Phosphorus oxychloride 0.31 g (2.0 mmol)
Dissolved in 5 ml of dichlorobenzene, aniline
0.56 g (6.0 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Furthermore, 0.6 g (1.0 mmol) of hydrazide [B]
Was added and the mixture was heated under reflux for 36 hours. Then, the solvent was distilled off, and the residue was purified by a silica gel column to give a white solid (0.56 g).
(Yield 85%) was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum of this white solid [ 1 H-NMR, reference: tetramethylsilane (T
MS), solvent: CDCl 3 ], δ = 8.
It was 5 to 7.0 ppm (35 H, m).

【0067】また、元素分析結果、 C H N 実測値(%) 88.33 3.56 6.20 計算値(%) 87.18 3.40 6.43 (C48353 として) であった。さらに質量分析の結果、m/z=653であ
った。以上の結果から、目的の化合物(13)が得られ
ていることが確認された。
The results of elemental analysis were as follows: C H N actual measurement value (%) 88.33 3.56 6.20 Calculated value (%) 87.18 3.40 6.43 (as C 48 H 35 N 3 ). there were. Furthermore, the result of mass spectrometry was m / z = 653. From the above results, it was confirmed that the target compound (13) was obtained.

【0068】製造例14〜16 製造例13において、アニリンの代わりに、第2表に示
す芳香族アミンを用いた以外は、製造例13と同様にし
て、化合物(14)〜(16)を製造した。収率を第2
表に示す。
Production Examples 14 to 16 Compounds (14) to (16) were produced in the same manner as in Production Example 13 except that aromatic amines shown in Table 2 were used instead of aniline. did. Second yield
It is shown in the table.

【0069】[0069]

【表4】 [Table 4]

【0070】製造例17 次に示す反応式に従って、化合物(17)を製造した。Production Example 17 Compound (17) was produced according to the following reaction formula.

【0071】[0071]

【化18】 Embedded image

【0072】ヒドラジド〔B〕1.2g(2.0ミリモル)
をピリジン10ミリリットルに溶かし、P2 5 1.28
gを加え、16時間加熱還流した。エチルアルコール2
5ミリリットルを加え、反応を停止させたのち、反応終
了液を水中に注ぎ、生成した沈殿をろ取した。次いで、
アセトニトリルから再結晶し、白色固体712mgを得
た。この白色固体の核磁気共鳴スペクトル〔 1H−NM
R,基準:テトラメチルシラン(TMS),溶媒:CD
Cl3 〕を測定したところ、δ=9.0〜7.0ppm(1
5H,m)であった。
1.2 g (2.0 mmol) of hydrazide [B]
Is dissolved in 10 ml of pyridine, and P 2 S 5 1.28 is added.
g was added and the mixture was heated under reflux for 16 hours. Ethyl alcohol 2
After adding 5 ml to stop the reaction, the reaction-terminated liquid was poured into water, and the formed precipitate was collected by filtration. Then
Recrystallization from acetonitrile gave 712 mg of a white solid. Nuclear magnetic resonance spectrum of this white solid [ 1 H-NM
R, standard: tetramethylsilane (TMS), solvent: CD
Cl 3 ], δ = 9.0-7.0 ppm (1
5H, m).

【0073】また、元素分析結果、 C H N S 実測値(%) 84.89 5.09 4.75 5.33 計算値(%) 84.93 5.09 4.72 5.39 (C42302 Sとして) であった。さらに質量分析の結果、m/z=594であ
った。以上の結果から、目的の化合物(17)が得られ
ていることが確認された。
In addition, as a result of elemental analysis, C H N S measured value (%) 84.89 5.09 4.75 5.33 Calculated value (%) 84.93 5.09 4.72 5.39 (C 42 H 30 N 2 S). Furthermore, the result of mass spectrometry was m / z = 594. From the above results, it was confirmed that the target compound (17) was obtained.

【0074】製造例18 次に示す反応式に従って、化合物(19)を製造した。Production Example 18 Compound (19) was produced according to the reaction formula shown below.

【0075】[0075]

【化19】 カルボン酸〔A〕0.35g(1.70ミリモル)を塩化チ
オニル2ミリリットルに溶かし、3時間加熱還流したの
ち、未反応の塩化チオニルを留去し、酸塩化物0.52g
(1.60ミリモル,収率95%)を得た。この酸塩化物
0.52g(1.60ミリモル)をピリジン2ミリリットル
に溶かし、無水ヒドラジン0.02ミリリットルを加え、
6時間加熱還流した。この反応液を氷水中に注ぎ、生成
した沈殿をろ取し、化合物〔C〕0.45g(収率85
%)を得た。
Embedded image 0.35 g (1.70 mmol) of carboxylic acid [A] was dissolved in 2 ml of thionyl chloride and heated under reflux for 3 hours, and then unreacted thionyl chloride was distilled off to give 0.52 g of acid chloride.
(1.60 mmol, yield 95%) was obtained. This acid chloride
0.52 g (1.60 mmol) was dissolved in 2 ml of pyridine, 0.02 ml of anhydrous hydrazine was added,
The mixture was refluxed for 6 hours. The reaction solution was poured into ice water and the formed precipitate was collected by filtration to give 0.45 g of compound [C] (yield 85
%) Was obtained.

【0076】次いで、この化合物〔C〕0.45g(1.4
ミリモル)をピリジン5ミリリットルに溶かし、酸塩化
物〔D〕295mg(0.7ミリモル)を加え、3時間加
熱還流した。反応混合物を氷水中に注ぎ、生成した沈殿
をろ取し、化合物〔E〕689mg(収率100%)を
得た。次に、この化合物〔E〕689mg(0.7ミリモ
ル)をオキシ塩化リン4ミリリットルに溶かし、58時
間加熱還流した。次いで、反応液を氷水中に注ぎ、生成
した沈殿をろ取し、アセトニトリルから再結晶して、白
色固体431mg(収率65%)を得た。この白色固体
の核磁気共鳴スペクトル〔 1H−NMR,基準:テトラ
メチルシラン(TMS),溶媒:CDCl3 〕を測定し
たところ、δ=8.5〜7.0ppm(38H,m)であっ
た。
Next, 0.45 g of this compound [C] (1.4
(Mmol) was dissolved in 5 ml of pyridine, 295 mg (0.7 mmol) of acid chloride [D] was added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. The reaction mixture was poured into ice water and the generated precipitate was collected by filtration to obtain 689 mg of the compound [E] (yield 100%). Next, 689 mg (0.7 mmol) of this compound [E] was dissolved in 4 ml of phosphorus oxychloride and heated under reflux for 58 hours. Then, the reaction solution was poured into ice water, the generated precipitate was collected by filtration, and recrystallized from acetonitrile to obtain 431 mg (yield 65%) of a white solid. The nuclear magnetic resonance spectrum [ 1 H-NMR, reference: tetramethylsilane (TMS), solvent: CDCl 3 ] of this white solid was measured and found to be δ = 8.5 to 7.0 ppm (38 H, m). .

【0077】また、元素分析結果は C H N 実測値(%) 72.03 4.35 5.72 計算値(%) 71.94 4.30 5.69 (C59424 2 6 として) であった。さらに質量分析の結果、m/z=984であ
った。以上の結果から、目的の化合物(19)が得られ
ていることを確認した。
The elemental analysis results are as follows: C H N measured value (%) 72.03 4.35 5.72 Calculated value (%) 71.94 4.30 5.69 (C 59 H 42 N 4 O 2 F Was 6 ). Furthermore, the result of mass spectrometry was m / z = 984. From the above results, it was confirmed that the target compound (19) was obtained.

【0078】製造例19〜24 製造例18において、酸塩化物〔D〕の代わりに、第3
表に示す化合物を用いた以外は、製造例18と同様にし
て、化合物(18),(20)〜(24)を得た。収率
を第3表に示す。
Production Examples 19 to 24 In Production Example 18, instead of the acid chloride [D], the third compound was used.
Compounds (18) and (20) to (24) were obtained in the same manner as in Production Example 18 except that the compounds shown in the table were used. The yield is shown in Table 3.

【0079】[0079]

【表5】 [Table 5]

【0080】[0080]

【表6】 [Table 6]

【0081】実施例1 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上に蒸着法
により厚さ100nmのITO膜(陽極に相当)を設け
たものを透明支持基板とした。この透明支持基板をイソ
プロピルアルコールで5分間超音波洗浄し、さらに純水
中で5分間超音波洗浄したのち、UVイオン洗浄器(サ
ムコインターナショナル社製)にて基板温度150℃で
20分間洗浄した。この透明支持基板を乾燥窒素ガスで
乾燥して市販の蒸着装置〔日本真空技術(株)製〕の基
板ホルダーに固定し、モリブデン製の抵抗加熱ボートに
銅フタロシアニン錯体(以下、CuPcと略記する)2
00mgを入れた。次いで、真空槽を4×10-4Paま
で減圧したのち、CuPcの入った加熱ボートに通電し
て450℃まで加熱し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で
CuPcを蒸着して正孔注入層にあたる膜厚60nmの
CuPc層を設けた。
Example 1 A glass substrate having a size of 25 mm × 75 mm × 1.1 mm and an ITO film (corresponding to an anode) having a thickness of 100 nm provided on a glass substrate was used as a transparent supporting substrate. The transparent supporting substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol for 5 minutes, further ultrasonically cleaned with pure water for 5 minutes, and then cleaned with a UV ion cleaner (manufactured by Samco International) at a substrate temperature of 150 ° C. for 20 minutes. This transparent support substrate is dried with dry nitrogen gas and fixed to a substrate holder of a commercially available vapor deposition apparatus [manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.], and a copper phthalocyanine complex (hereinafter abbreviated as CuPc) is placed in a molybdenum resistance heating boat. Two
00 mg was added. Next, after depressurizing the vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing CuPc is energized to heat it to 450 ° C., and CuPc is vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec. A CuPc layer having a film thickness of 60 nm corresponding to the hole injection layer was provided.

【0082】次に、上記の抵抗加熱ボートを取り出し、
別の三つの抵抗加熱ボートを装着した。この三つの抵抗
加熱ボートには、それぞれN,N’−ビス(4−メチル
フェニル)−N,N’−ビス(1─ナフチル)─〔1,
1’−ビフェニル〕−4,4’−ジアミン(以下、NP
Dと略記する),化合物(1)(以下、DPVOXDと
略記する)及び4,4”−ビス〔2─〔4─(N,N’
−ジフェニルアミノ)フェニル〕ビニル−1,1’:
4,1”〕(以下、DPAVBiと略記する)を入れ
た。まず、NPDの入った抵抗加熱ボートに通電し加熱
してNPDを蒸着速度0.1〜0.3nm/秒にて蒸着し、
膜厚20nmのNPD層を設け、次いで、DPVOXD
及びDPAVBiの入った抵抗加熱ボートに通電して加
熱し、DPVOXD及びDPAVBiをそれぞれ蒸着速
度4nm/秒及び0.1nm/秒で同時蒸着し、電荷注入
補助剤としてDPAVBiを含む膜厚40nmのDPV
OXD−DPAVBi層を発光層として設けた。
Next, the resistance heating boat was taken out,
Three other resistance heating boats were fitted. Each of these three resistance heating boats had N, N'-bis (4-methylphenyl) -N, N'-bis (1-naphthyl)-[1,
1'-biphenyl] -4,4'-diamine (hereinafter referred to as NP
Abbreviated as D), compound (1) (hereinafter abbreviated as DPVOXD), and 4,4 ″ -bis [2-[4- (N, N ′
-Diphenylamino) phenyl] vinyl-1,1 ':
4, 1 ″] (hereinafter abbreviated as DPAVBi). First, the resistance heating boat containing NPD was energized and heated to deposit NPD at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec.
An NPD layer with a thickness of 20 nm is provided, and then DPVOXD
And a DPAVBi-containing resistance heating boat are energized and heated, DPVOXD and DPAVBi are co-deposited at a deposition rate of 4 nm / sec and 0.1 nm / sec, respectively, and a DPV having a thickness of 40 nm containing DPAVBi as a charge injection auxiliary agent.
An OXD-DPAVBi layer was provided as a light emitting layer.

【0083】次いで、これら三層の有機層を積層した透
明支持基板を真空槽から取り出し、発光層の上に、ステ
ンレススチール製のマスクを配置して再び基板ホルダー
に固定した。続いて、モリブデン製の抵抗加熱ボートに
トリス(8−キノリノール)アルミニウム(以下、Al
qと略記する)200mgを入れて真空槽に装着した。
さらに、マグネシウムリボン1gを入れた抵抗加熱ボー
トと銀ワイヤー500mgを入れたタングステン製バス
ケットを真空槽に装着した。その後、真空槽を1×10
-4Paまで減圧したのち、Alqの入った抵抗加熱ボー
トを270℃まで加熱し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒
で発光層上にAlqを蒸着して膜厚20nmのAlq層
(電子注入層に相当)を設けた。続いて、銀ワイヤー入
りのバスケットに通電して蒸着速度0.1nm/秒で銀を
蒸着させると同時に、マグネシウム入りのボートに通電
して蒸着速度1.4〜2.0nm/秒でマグネシウムを蒸着
した。
Then, the transparent supporting substrate having these three organic layers laminated was taken out from the vacuum chamber, a stainless steel mask was placed on the light emitting layer, and the substrate was again fixed to the substrate holder. Then, in a resistance heating boat made of molybdenum, tris (8-quinolinol) aluminum (hereinafter, referred to as Al
(abbreviated as q) 200 mg was put and attached to a vacuum chamber.
Further, a resistance heating boat containing 1 g of magnesium ribbon and a tungsten basket containing 500 mg of silver wire were attached to a vacuum chamber. After that, the vacuum chamber is 1 × 10
After the pressure was reduced to -4 Pa, the resistance heating boat containing Alq was heated to 270 ° C., and Alq was vapor-deposited on the light emitting layer at a vapor deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec to form an Alq layer with a thickness of 20 nm ( Corresponding to the electron injection layer). Then, the basket containing the silver wire is energized to deposit silver at a deposition rate of 0.1 nm / sec, and at the same time the boat containing magnesium is energized to deposit magnesium at a deposition rate of 1.4 to 2.0 nm / sec. did.

【0084】この二元同時蒸着により、Alq層上に膜
厚160nmのマグネシウム−銀層(陰極に相当)が形
成された。この素子のITO電極を陽極とし、マグネシ
ウム−銀電極を陰極として、直流8.7Vを印加したとこ
ろ、13mA/cm2 の電流が流れ、青色の発光を得
た。この際、発光輝度は850cd/cm2 あり、発光
効率は2.4ルーメン/Wであった。
By this binary simultaneous vapor deposition, a 160-nm-thick magnesium-silver layer (corresponding to the cathode) was formed on the Alq layer. When an ITO electrode of this device was used as an anode and a magnesium-silver electrode was used as a cathode and a direct current of 8.7 V was applied, a current of 13 mA / cm 2 flowed and blue light emission was obtained. At this time, the emission luminance was 850 cd / cm 2 and the emission efficiency was 2.4 lumen / W.

【0085】実施例2〜8 実施例1において、発光材料として、化合物(1)の代
わりに第4表に示す化合物を用いた以外は、実施例1と
同様にして実施した。その結果を第4表に示す。 ま
た、得られた素子は、空気中に放置した結果、いずれも
1ヶ月間経過した後も結晶化は目視によって観察されな
かった。
Examples 2 to 8 The same procedures as in Example 1 were carried out except that the compounds shown in Table 4 were used as the light emitting material instead of the compound (1). Table 4 shows the results. In addition, as a result of leaving the obtained devices in the air, no crystallization was visually observed even after 1 month.

【0086】[0086]

【表7】 [Table 7]

【0087】実施例9 実施例1と同様の洗浄処理を行った透明支持基板を乾燥
窒素ガスで乾燥して、市販の蒸着装置〔日本真空技術
(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン製の抵
抗加熱ボートにAlq200mgを入れた。また、別の
モリブデン製ボートに正孔注入輸送材料〔化合物
(4)〕200mgを入れて、真空槽を4×10 -4Pa
まで減圧した。その後、化合物(4)の入った加熱ボー
トに通電して350℃まで加熱し、蒸着速度0.1〜0.3
nm/秒で化合物(4)を蒸着して膜厚60nmの正孔
注入輸送層を設けた。
Example 9 A transparent supporting substrate which has been subjected to the same washing treatment as in Example 1 is dried.
After drying with nitrogen gas, a commercially available vapor deposition device [Japan Vacuum Technology
Fixed to a substrate holder manufactured by KK
Alq 200 mg was put into the anti-heating boat. Also another
Hole injection and transport materials for molybdenum boats [compounds
(4)] Put 200 mg, and set the vacuum chamber to 4 × 10. -FourPa
The pressure was reduced to Then, a heating bowl containing compound (4)
Energize the chamber to heat up to 350 ° C, vapor deposition rate 0.1-0.3
Holes with a film thickness of 60 nm are obtained by depositing compound (4) at a rate of nm / sec.
An injecting and transporting layer was provided.

【0088】次に、これを真空槽より取り出すことなく
正孔注入輸送層上に、もう一つのボートからAlqを発
光層として50nm積層蒸着した。この際、ボートの温
度は250℃、蒸着速度は0.2〜0.4nm/秒、基板温
度は室温であった。このようにして積層蒸着したものを
真空槽より取り出し、ステンレススチール製のマスクを
配置して再び基板ホルダーに固定した。次いで、モリブ
デン製の抵抗加熱ボートにマグネシウムリボン1gを入
れ、また別のタングステン製バスケットに銀ワイヤー5
00mgを入れ、真空槽に装着した。その後、真空層を
1×10-4Paまで減圧したのち、銀ワイヤー入りのバ
スケットに通電して蒸着速度0.1nm/秒で銀を蒸着さ
せると同時に、マグネシウム入りのボートに通電して蒸
着速度1.4〜2.0nm/秒でマグネシウムを蒸着した。
Next, without taking this out from the vacuum chamber, Alq was deposited as a light emitting layer from another boat to a thickness of 50 nm on the hole injecting and transporting layer. At this time, the boat temperature was 250 ° C., the vapor deposition rate was 0.2 to 0.4 nm / sec, and the substrate temperature was room temperature. The thus laminated vapor-deposited product was taken out from the vacuum chamber, a stainless steel mask was placed, and the film was again fixed to the substrate holder. Next, put 1g of magnesium ribbon in a resistance heating boat made of molybdenum, and put a silver wire 5 in another tungsten basket.
00 mg was put and attached to a vacuum chamber. After that, the vacuum layer was decompressed to 1 × 10 −4 Pa, and a basket containing silver wire was energized to deposit silver at a deposition rate of 0.1 nm / sec. Magnesium was vapor-deposited at 1.4 to 2.0 nm / sec.

【0089】この二元同時蒸着により、Alq層上に膜
厚160nmのマグネシウム−銀層(陰極に相当)が形
成された。この素子のITO電極を陽極とし、マグネシ
ウム−銀電極を陰極として、直流8.7Vを印加したとこ
ろ、12.5mA/cm2 の電流が流れ、緑色の発光を得
た。この際、発光輝度は450cd/cm2 あった。
By this binary simultaneous vapor deposition, a 160 nm-thickness magnesium-silver layer (corresponding to the cathode) was formed on the Alq layer. When an ITO electrode of this device was used as an anode and a magnesium-silver electrode was used as a cathode and a direct current of 8.7 V was applied, a current of 12.5 mA / cm 2 flowed and green light emission was obtained. At this time, the emission luminance was 450 cd / cm 2 .

【0090】実施例10 実施例1と同様の洗浄処理を行った透明支持基板を乾燥
窒素ガスで乾燥して、市販の蒸着装置〔日本真空技術
(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン製の抵
抗加熱ボートにN,N’−ビス(3−メチルフェニル)
−N,N’−ジフェニル(1,1−ビフェニル)−4,
4’−ジアミン(以下、TPDと略記する)200mg
を入れ、また別のモリブデン製抵抗加熱ボートに4,
4’−ビス〔2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル
(以下、DPVBiと略記する)200mgを入れて、
真空槽を4×10-4Paまで減圧した。その後、TPD
の入った加熱ボートに通電して215〜220℃まで加
熱し、蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で透明支持基板上に
蒸着して膜厚60nmの正孔注入層を設けた。この際、
基板上の温度は室温であった。次に、これを真空槽より
取り出すことなく、正孔注入層上に、DPVBiを発光
層として40nm積層した。
Example 10 A transparent supporting substrate that had been subjected to the same cleaning treatment as in Example 1 was dried with dry nitrogen gas, and fixed on a substrate holder of a commercially available vapor deposition apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.) to obtain molybdenum. Resistance heating boat made of N, N'-bis (3-methylphenyl)
-N, N'-diphenyl (1,1-biphenyl) -4,
200 mg of 4'-diamine (hereinafter abbreviated as TPD)
Put another 4 in another molybdenum resistance heating boat.
200 mg of 4'-bis [2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (hereinafter abbreviated as DPVBi) was added,
The vacuum chamber was evacuated to 4 × 10 −4 Pa. Then TPD
Was heated to 215 to 220 ° C. and vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec on a transparent support substrate to form a hole injection layer having a film thickness of 60 nm. On this occasion,
The temperature on the substrate was room temperature. Next, without removing this from the vacuum chamber, 40 nm of DPVBi as a light emitting layer was laminated on the hole injection layer.

【0091】このようにして積層蒸着したものを真空槽
より取り出し、ステンレススチール製のマスクを配置し
て再び基板ホルダーに固定した。次いで、モリブデン製
の抵抗加熱ボートに化合物(8)200mgを入れ、さ
らに他のモリブデン製抵抗加熱ボートにマグネシウムリ
ボン1gを入れ、また別のタングステン製バスケットに
銀ワイヤー500mgを入れ、真空槽に装着した。その
後、真空槽を1×10 -4Paまで減圧したのち、化合物
(8)の入った抵抗加熱ボートに通電して300〜31
0℃まで加熱して化合物(8)を蒸着速度0.1〜0.3n
m/秒で蒸着し、20nmの電子注入輸送層を発光層上
に積層した。次に、銀ワイヤー入りのバスケットに通電
して蒸着速度0.1nm/秒で銀を蒸着させると同時に、
マグネシウム入りのボートに通電して蒸着速度1.4〜2.
0nm/秒でマグネシウムを蒸着した。
The thus-deposited layers are vacuum chambers.
Take out more and place a stainless steel mask
And again fixed to the substrate holder. Then made of molybdenum
Put 200 mg of Compound (8) in the resistance heating boat of
In addition to other molybdenum resistance heating boats,
Put 1g of Bonn into another tungsten basket
A silver wire (500 mg) was put in and attached to a vacuum chamber. That
Then, set the vacuum chamber to 1 x 10 -FourAfter reducing the pressure to Pa, the compound
Energize the resistance heating boat containing (8) to 300-31
Compound (8) is vapor-deposited at a rate of 0.1 to 0.3n by heating to 0 ° C.
Evaporation at m / sec, 20nm electron injection and transport layer on light emitting layer
Laminated. Next, energize the basket containing the silver wire
And deposit silver at a deposition rate of 0.1 nm / sec.
Deposition rate is 1.4 to 2.
Magnesium was vapor-deposited at 0 nm / sec.

【0092】この二元同時蒸着により、電子注入輸送層
上に膜厚160nmのマグネシウム−銀層(陰極に相
当)が形成された。この素子のITO電極を陽極とし、
マグネシウム−銀電極を陰極として、直流8.7Vを印加
したところ、19mA/cm2 の電流が流れ、青色の発
光を得た。この際、発光輝度は970cd/cm2 であ
った。
This binary simultaneous vapor deposition formed a magnesium-silver layer (corresponding to the cathode) having a thickness of 160 nm on the electron injecting and transporting layer. The ITO electrode of this element is used as an anode,
When a direct current of 8.7 V was applied using the magnesium-silver electrode as a cathode, a current of 19 mA / cm 2 flowed, and blue light emission was obtained. At this time, the emission luminance was 970 cd / cm 2 .

【0093】比較例1 実施例1において、発光材料として、化合物(1)の代
わりに、下記構造の化合物〔Z〕を用いた以外は、実施
例1と同様にして有機EL素子を作成し、直流8.7Vを
印加したところ、5.4mA/cm2 の電流が流れ、発光
輝度は180cd/cm2 であった。この際の発光色は
青色であった。また、発光効率1.2ルーメン/Wであ
り、実施例1の発光効率2.4ルーメン/Wに比べて低か
った。
Comparative Example 1 An organic EL device was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound [Z] having the following structure was used as the luminescent material in place of the compound (1). When a direct current of 8.7 V was applied, a current of 5.4 mA / cm 2 flowed and the emission luminance was 180 cd / cm 2 . The luminescent color at this time was blue. The luminous efficiency was 1.2 lumen / W, which was lower than the luminous efficiency of Example 1 of 2.4 lumen / W.

【0094】[0094]

【化20】 Embedded image

【0095】[0095]

【発明の効果】本発明の有機EL素子は、高輝度及び高
発光効率を示し、電界発光性に優れるとともに、素子化
しても結晶化することがなく、熱安定性が良好で、耐久
性及び薄膜性に優れるなどの特徴を有している。このよ
うな本発明の有機EL素子は、例えば情報産業機器のデ
ィスプレイなどとして好適に用いられる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The organic EL device of the present invention exhibits high brightness and high luminous efficiency, is excellent in electroluminescence, does not crystallize even when formed into a device, has good thermal stability, and has durability and durability. It has features such as excellent thin film properties. Such an organic EL element of the present invention is suitably used, for example, as a display of information industrial equipment.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、Ar1 及びAr2 は、それぞれ一価の置換若し
くは無置換の炭素数6〜20の芳香族基又は炭素数2〜
18の複素環式基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ar3 は二価の置換若しくは無置換
の炭素数6〜20の芳香族基、Rは水素原子,炭素数1
〜6のアルキル基又は一価の置換若しくは無置換の炭素
数6〜20の芳香族基、Xは酸素原子,硫黄原子又は一
価の置換若しくは無置換の炭素数6〜20の芳香族基が
結合した窒素原子、Qは二価の置換若しくは無置換の炭
素数6〜20の芳香族基又は炭素数1〜6のアルキレン
基、nは0又は1を示す。)で表される化合物を含有す
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素
子。
1. A compound of the general formula (I) (In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each a monovalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or 2 to 2 carbon atoms.
18 heterocyclic groups, which may be the same or different from each other, Ar 3 is a divalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, R is a hydrogen atom or 1 carbon atom
~ 6 alkyl group or a monovalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, X is an oxygen atom, a sulfur atom or a monovalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. A bonded nitrogen atom, Q is a divalent substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and n is 0 or 1. ) The organic electroluminescent element containing the compound represented by these.
【請求項2】 発光層,電子注入層及び正孔注入輸送層
の少なくとも一層が、一般式(I)で表される化合物を
含有する請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein at least one of the light emitting layer, the electron injecting layer and the hole injecting and transporting layer contains a compound represented by the general formula (I).
JP8064067A 1996-03-21 1996-03-21 Organic electroluminescence element Pending JPH09255949A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8064067A JPH09255949A (en) 1996-03-21 1996-03-21 Organic electroluminescence element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8064067A JPH09255949A (en) 1996-03-21 1996-03-21 Organic electroluminescence element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09255949A true JPH09255949A (en) 1997-09-30

Family

ID=13247389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8064067A Pending JPH09255949A (en) 1996-03-21 1996-03-21 Organic electroluminescence element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09255949A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000208264A (en) * 1999-01-19 2000-07-28 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescent element and manufacture thereof
US6310231B1 (en) 1999-04-07 2001-10-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Particular silane compounds, luminescent device materials comprising said compounds, and luminescent devices containing said materials
US6558819B1 (en) 1999-08-20 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Arylsilane compound, light emitting device material and light emitting device by using the same
JP2010077124A (en) * 2008-09-01 2010-04-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Triazole derivative, light-emitting element, light-emitting device, electronic equipment, and lighting equipment using triazole derivative
JP2014065710A (en) * 2009-06-11 2014-04-17 Avvi Bahamas Ltd Anti-viral compounds for treating hcv infection
JP2015097215A (en) * 2015-01-21 2015-05-21 コニカミノルタ株式会社 Organic electroluminescence element
CN105237524A (en) * 2015-11-06 2016-01-13 大连理工大学 Benzotriazole unit-containing linear (D-pi-A-pi)2-D organic micro-molecular photovoltaic material, and preparation method and application thereof

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000208264A (en) * 1999-01-19 2000-07-28 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic electroluminescent element and manufacture thereof
US6310231B1 (en) 1999-04-07 2001-10-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Particular silane compounds, luminescent device materials comprising said compounds, and luminescent devices containing said materials
US6558819B1 (en) 1999-08-20 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Arylsilane compound, light emitting device material and light emitting device by using the same
JP2010077124A (en) * 2008-09-01 2010-04-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Triazole derivative, light-emitting element, light-emitting device, electronic equipment, and lighting equipment using triazole derivative
JP2014065710A (en) * 2009-06-11 2014-04-17 Avvi Bahamas Ltd Anti-viral compounds for treating hcv infection
JP2016128456A (en) * 2009-06-11 2016-07-14 アッヴィ・バハマズ・リミテッド Anti-viral compounds for treating hcv infection
JP2017171680A (en) * 2009-06-11 2017-09-28 アッヴィ・アイルランド・アンリミテッド・カンパニー Anti-viral compounds to treat hcv infection
JP2015097215A (en) * 2015-01-21 2015-05-21 コニカミノルタ株式会社 Organic electroluminescence element
CN105237524A (en) * 2015-11-06 2016-01-13 大连理工大学 Benzotriazole unit-containing linear (D-pi-A-pi)2-D organic micro-molecular photovoltaic material, and preparation method and application thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3306735B2 (en) Organic electroluminescent device and organic thin film
EP0610514B1 (en) Charge injection assistant and organic electroluminescence device containing the same
JP3874782B2 (en) Method for producing 4,4&#39;-biphenylenediamine derivative
JP3649302B2 (en) Organic electroluminescence device
EP1486550B1 (en) Material for organic electroluminescent devices and organic electroluminescent devices made by using the same
JPH06207169A (en) Organic electroluminescence element
JP4428772B2 (en) Organic electroluminescence device
JP3965800B2 (en) Organic electroluminescent device using triarylamine derivative
KR20020062940A (en) Novel arylamine compounds and organic electroluminescent devices
JPH07138561A (en) Organic electroluminescent element
WO2004101491A1 (en) Arylamine compound and organic electroluminescence device containing the same
JPH0649079A (en) Silanamine derivative, its production and el element using the same silanamine derivative
WO2002020459A1 (en) Novel styryl compounds and organic electroluminescent devices
JP2003201472A (en) Material for organic electroluminescent element and organic electroluminescent element using the same
JPH07150137A (en) Organic electroluminescent device
JP4545243B2 (en) Diaminonaphthalene derivative and organic electroluminescence device using the same
US5336546A (en) Organic electroluminescence device
JP4140986B2 (en) Organic electroluminescence device
JPH09255949A (en) Organic electroluminescence element
JP4069505B2 (en) Trinaphthylbenzene derivative and organic electroluminescence device using the same
JP2008147400A (en) Organic electroluminescence element
JP3700916B2 (en) Organic electroluminescence device
JPH06330034A (en) Organic electroluminescent element
JPH0873443A (en) Pyrazine derivative, organoelectroluminescence element containing the same and production of the pyrazine derivative
JP3635708B2 (en) Organic electroluminescence device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050111

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050607