JPH09246905A - Surface acoustic wave device and its manufacture - Google Patents

Surface acoustic wave device and its manufacture

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JPH09246905A
JPH09246905A JP8052789A JP5278996A JPH09246905A JP H09246905 A JPH09246905 A JP H09246905A JP 8052789 A JP8052789 A JP 8052789A JP 5278996 A JP5278996 A JP 5278996A JP H09246905 A JPH09246905 A JP H09246905A
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surface acoustic
acoustic wave
wave device
piezoelectric substrate
surrounding wall
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Atsushi Matsui
敦志 松井
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device in the surface acoustic wave device used for a communication equipment or the like. SOLUTION: For this surface acoustic wave device, a surface acoustic wave device pattern 2 at least provided with an interdigital electrode is formed on a piezoelectric substrate 1 and a surrounding wall 3 formed so as to surround a part where surface acoustic waves are propagated including the surface acoustic wave device pattern 2 and a cover body 4 for covering the upper space of the surrounding wall 3 and the part where the surface acoustic waves are propagated are provided. In such a manner, the need of forming a space on a chip as a conventional surface acoustic wave device is eliminated, assembly is performed by processes similar to an IC and the inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、通信機器等に用い
られる弾性表面波デバイス及びその製造方法に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device used for communication equipment and the like and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、弾性表面波デバイスは、図7に示
すように圧電基板31上に弾性表面波デバイスパターン
32を形成したチップを積層セラミックパッケージ33
に入れてリッド34により気密封止していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a surface acoustic wave device, a chip having a surface acoustic wave device pattern 32 formed on a piezoelectric substrate 31 as shown in FIG.
Then, the lid 34 was hermetically sealed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年機器の小型化にと
もない弾性表面波デバイスの面実装化への要望が高まっ
ている。しかしながら従来の積層セラミックパッケージ
33は価格が高く、また封止もシーム溶接を用いて行わ
れているため工数がかかり、またリッド34から金属粉
が落ちてショートを引き起こす等信頼性にも課題があっ
た。
In recent years, the demand for surface mounting of surface acoustic wave devices has increased with the downsizing of equipment. However, the conventional monolithic ceramic package 33 is expensive, and since sealing is performed by using seam welding, it takes a lot of man-hours, and there is a problem in reliability such as metal powder falling from the lid 34 to cause a short circuit. It was

【0004】そこで本発明は、安価で信頼性の高い弾性
表面波デバイスを提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide an inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の弾性表面波デバイスは、少なくとも櫛形電極
を設けた圧電基板上に、この櫛形電極と弾性表面波が伝
播する部分を囲む包囲壁と、この包囲壁及び弾性表面波
が伝播する部分の上方空間を覆う蓋体とを有するもので
ある。
In order to achieve this object, a surface acoustic wave device of the present invention comprises a piezoelectric substrate provided with at least a comb-shaped electrode, and an enclosing portion surrounding the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave. It has a wall and a cover that covers the surrounding space and the space above the portion where the surface acoustic wave propagates.

【0006】これにより安価で信頼性の高い弾性表面波
デバイスを得ることができる。
As a result, an inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device can be obtained.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、少なくとも櫛形電極を有する弾性表面波デバイスパ
ターンを表面に形成した圧電基板と、この圧電基板表面
の少なくとも前記弾性表面波デバイスパターンと弾性表
面波が伝播する部分とを囲むように設けた包囲壁と、前
記包囲壁で囲まれた部分の上方空間を覆うように設けた
蓋体とを備えた弾性表面波デバイスであり、従来の弾性
表面波デバイスのように、弾性表面波デバイスパターン
上に空間を形成する必要がなく、ICと同じような工程
で組立てることができ、安価で信頼性の高い弾性表面波
デバイスが得られる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The invention according to claim 1 of the present invention is a piezoelectric substrate on which a surface acoustic wave device pattern having at least comb-shaped electrodes is formed, and at least the surface acoustic wave device pattern on the surface of the piezoelectric substrate. A surface acoustic wave device comprising: a surrounding wall provided so as to surround a portion through which the surface acoustic wave propagates; and a lid body provided so as to cover an upper space of the portion surrounded by the surrounding wall. Unlike the surface acoustic wave device of (1), it is not necessary to form a space on the surface acoustic wave device pattern, and the surface acoustic wave device can be assembled in the same process as the IC, and an inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device can be obtained.

【0008】請求項2に記載の発明は、包囲壁、蓋体を
フィルム状のフォトレジストで形成したものであり、蓋
体が振動する部分に接しないようにすることができる。
According to the second aspect of the invention, the surrounding wall and the lid are formed of a film-shaped photoresist, and the lid can be prevented from coming into contact with the vibrating portion.

【0009】請求項3に記載の発明は、フォトレジスト
としてエポキシ樹脂を主体とする物質を用いるものであ
り、強固な包囲壁及び蓋体を形成することができる。
According to the third aspect of the present invention, a substance mainly containing an epoxy resin is used as a photoresist, and a strong surrounding wall and a lid can be formed.

【0010】請求項4に記載の発明は、フォトレジスト
として有機溶剤あるいは水と有機溶剤の混合物によって
現像される物質を用いるものであり、現像の際弾性表面
波デバイスパターンにダメージを与えるのを防ぐことが
できる。
According to a fourth aspect of the present invention, a substance that is developed by an organic solvent or a mixture of water and an organic solvent is used as a photoresist, and it is prevented that the surface acoustic wave device pattern is damaged during development. be able to.

【0011】請求項5に記載の発明は、包囲壁と蓋体と
を同じ材料で形成したものであり、包囲壁と蓋体との密
着性を高くすることができる。
According to a fifth aspect of the present invention, the surrounding wall and the lid are made of the same material, and the adhesion between the surrounding wall and the lid can be enhanced.

【0012】請求項6に記載の発明は、包囲壁の高さを
この包囲壁の内壁間隔の最小寸法の100分の1以上に
したものであり、振動する部分の上に安定した空間を形
成することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, the height of the surrounding wall is set to 1/100 or more of the minimum dimension of the inner wall spacing of the surrounding wall, and a stable space is formed above the vibrating portion. can do.

【0013】請求項7に記載の発明は、弾性表面波の伝
播方向にある包囲壁の厚さを弾性表面波の伝播方向と同
じ向きにある包囲壁の厚さよりも厚くしたものであり、
櫛形電極あるいは反射電極よりなる弾性表面波デバイス
パターンを通り抜けた弾性表面波を減衰させることがで
き、従来必要であった不要波吸収材も要らなくなる。
According to a seventh aspect of the present invention, the thickness of the surrounding wall in the propagation direction of the surface acoustic wave is made thicker than the thickness of the surrounding wall in the same direction as the propagation direction of the surface acoustic wave.
The surface acoustic wave that has passed through the surface acoustic wave device pattern including the comb-shaped electrodes or the reflective electrodes can be attenuated, and the unnecessary wave absorbing material that has been conventionally required is not necessary.

【0014】請求項8に記載の発明は、弾性表面波の伝
播方向にある包囲壁の内側を弾性表面波の伝播方向と斜
交させたものであり、包囲壁内側での不要波の反射によ
る特性の劣化を防ぐことができる。
According to the eighth aspect of the present invention, the inside of the surrounding wall in the propagation direction of the surface acoustic wave is obliquely intersected with the propagation direction of the surface acoustic wave, and the unnecessary wave is reflected inside the surrounding wall. It is possible to prevent deterioration of characteristics.

【0015】請求項9に記載の発明は、蓋体の上部に緩
衝層を設けたものであり、弾性表面波デバイスを樹脂で
モールドする際、歪みを吸収することができるので周波
数ズレを緩和することができる。
According to a ninth aspect of the present invention, a buffer layer is provided on the upper portion of the lid, and when the surface acoustic wave device is molded with resin, distortion can be absorbed, so that frequency deviation is mitigated. be able to.

【0016】請求項10に記載の発明は、緩衝層として
シリコーン樹脂、あるいはシリコーン樹脂とエポキシ樹
脂との混合物を用いるものであり、弾性表面波デバイス
を樹脂でモールドする際、歪みを吸収することができる
ので周波数ズレを緩和することができる。
According to a tenth aspect of the present invention, a silicone resin or a mixture of a silicone resin and an epoxy resin is used as the buffer layer, and distortion can be absorbed when the surface acoustic wave device is molded with the resin. As a result, the frequency shift can be reduced.

【0017】請求項11に記載の発明は、緩衝層を蓋体
よりも柔らかくしたものであり、弾性表面波デバイスを
樹脂でモールドする際、歪みを吸収することができるの
で周波数ズレを緩和することができる。
According to an eleventh aspect of the present invention, the buffer layer is made softer than the lid body, and when the surface acoustic wave device is molded with resin, distortion can be absorbed, so that the frequency shift is mitigated. You can

【0018】請求項12に記載の発明は、緩衝層の厚さ
を蓋体の厚さよりも厚くしたものであり、弾性表面波デ
バイスを樹脂でモールドする際、歪みを吸収することが
できるので周波数ズレを緩和することができる。
According to the twelfth aspect of the present invention, the thickness of the buffer layer is made thicker than the thickness of the lid, and when the surface acoustic wave device is molded with resin, distortion can be absorbed, so that the frequency can be reduced. The gap can be mitigated.

【0019】請求項13に記載の発明は、リードフレー
ムと、このリードフレームに装着した請求項1に記載の
弾性表面波デバイスと、この弾性表面波デバイスと前記
リードフレームとをモールドした絶縁樹脂とを備え、前
記リードフレームと前記弾性表面波デバイスとを電気的
に接続したものであり、従来の弾性表面波デバイスのよ
うに、弾性表面波デバイスパターン上に空間を形成する
必要がなく、ICと同じような工程で組立てることがで
き、安価で信頼性の高い弾性表面波デバイスが得られ
る。
According to a thirteenth aspect of the present invention, a lead frame, the surface acoustic wave device according to the first aspect mounted on the lead frame, and an insulating resin obtained by molding the surface acoustic wave device and the lead frame. In addition, the lead frame and the surface acoustic wave device are electrically connected to each other, and there is no need to form a space on the surface acoustic wave device pattern as in the conventional surface acoustic wave device. An inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device that can be assembled by similar steps is obtained.

【0020】請求項14に記載の発明は、絶縁樹脂とし
てエポキシ樹脂を主体とする物質を用いるものであり、
ICと同じプロセスで組立てることができる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, a substance mainly containing an epoxy resin is used as the insulating resin.
It can be assembled in the same process as IC.

【0021】請求項15に記載の発明は、リードフレー
ムを弾性表面波デバイスを接着した側に折り曲げたもの
であり、この折り曲げた部分を用いて基板にハンダ付け
することにより、シールド効果が高まる。
According to a fifteenth aspect of the present invention, the lead frame is bent to the side to which the surface acoustic wave device is adhered, and the shielding effect is enhanced by soldering to the substrate using the bent portion.

【0022】請求項16に記載の発明は、表面に電極を
有するセラミック基板と、このセラミック基板上に被せ
た金属キャップと、この金属キャップ内に収納した請求
項1に記載の弾性表面波デバイスとを備え、前記セラミ
ック基板と前記弾性表面波デバイスとを前記電極を通じ
て電気的に接続したものであり、従来の積層セラミック
パッケージを用いるものと比較して安価になる。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a ceramic substrate having an electrode on a surface thereof, a metal cap placed on the ceramic substrate, and the surface acoustic wave device according to the first aspect housed in the metal cap. In addition, the ceramic substrate and the surface acoustic wave device are electrically connected to each other through the electrodes, and the cost is lower than that using a conventional laminated ceramic package.

【0023】請求項17に記載の発明は、セラミック基
板の電極を設けた部分に少なくとも1つの貫通孔を設け
たものであり、従来の積層セラミックパッケージを用い
るものと比較して安価になる。
According to the seventeenth aspect of the present invention, at least one through hole is provided in the portion of the ceramic substrate where the electrodes are provided, which is less expensive than the conventional laminated ceramic package.

【0024】請求項18に記載の発明は、金属キャップ
とセラミック基板との接続部分に金属層を設けたもので
あり、従来の積層セラミックパッケージを用いるものと
比較して安価になる。
According to the eighteenth aspect of the present invention, the metal layer is provided at the connecting portion between the metal cap and the ceramic substrate, and the cost is lower than that using the conventional laminated ceramic package.

【0025】請求項19に記載の発明は、金属層とセラ
ミック基板との間にセラミック層を設けたものであり、
従来の積層セラミックパッケージを用いるものと比較し
て安価になる。
According to a nineteenth aspect of the present invention, a ceramic layer is provided between the metal layer and the ceramic substrate,
The cost is lower than that using a conventional monolithic ceramic package.

【0026】請求項20に記載の発明は、パッケージ
と、このパッケージ内に収納した弾性表面波素子と、こ
のパッケージを気密封止した絶縁樹脂とを備え、前記弾
性表面波素子は、圧電基板と、この圧電基板上に形成し
た少なくとも櫛形電極を有する弾性表面波デバイスパタ
ーンと、少なくともこの弾性表面波デバイスパターン
と、弾性表面波が伝播する部分とを囲むように設けた包
囲壁と、少なくともこの包囲壁で囲まれた部分の上方空
間を覆うように設けた蓋体と、前記包囲壁の外側に前記
弾性表面波デバイスパターンと電気的に接続するように
設けたボンディングパッドと、このボンディングパッド
上に設けたバンプを有し、前記パッケージと前記弾性表
面波素子とは、前記バンプを介し導電性接着剤により接
着されている弾性表面波デバイスであり、小型で高周波
特性の良いものである。
According to a twentieth aspect of the present invention, a package, a surface acoustic wave element housed in the package, and an insulating resin that hermetically seals the package are provided, and the surface acoustic wave element includes a piezoelectric substrate. A surface acoustic wave device pattern having at least a comb-shaped electrode formed on the piezoelectric substrate, at least the surface acoustic wave device pattern, and a surrounding wall provided so as to surround a portion through which the surface acoustic wave propagates, and at least the surrounding wall. A lid provided so as to cover an upper space of a portion surrounded by a wall, a bonding pad provided outside the surrounding wall so as to be electrically connected to the surface acoustic wave device pattern, and a bonding pad provided on the bonding pad. An elastic surface having bumps provided, and the package and the surface acoustic wave element being bonded to each other with a conductive adhesive through the bumps. A device, to have good small in high frequency characteristics.

【0027】請求項21に記載の発明は、プリント基板
と、このプリント基板上に設けた弾性表面波素子と、こ
の弾性表面波素子を気密封止した絶縁樹脂とを備え、前
記弾性表面波素子は、圧電基板と、この圧電基板上に形
成した少なくとも櫛形電極を有する弾性表面波デバイス
パターンと、少なくともこの弾性表面波デバイスパター
ンと、弾性表面波が伝播する部分とを囲むように設けた
包囲壁と、少なくともこの包囲壁で囲まれた部分の上方
空間を覆うように設けた蓋体と、前記包囲壁の外側に前
記弾性表面波デバイスパターンと電気的に接続するよう
に設けたボンディングパッドと、このボンディングパッ
ド上に設けたバンプを有し、前記プリント基板と前記弾
性表面波素子とは、前記バンプを介し導電性接着剤によ
り接着されている弾性表面波デバイスであり、回路の小
型化が図れる。
According to a twenty-first aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board, a surface acoustic wave element provided on the printed circuit board, and an insulating resin that hermetically seals the surface acoustic wave element. Is a piezoelectric substrate, a surface acoustic wave device pattern having at least a comb-shaped electrode formed on the piezoelectric substrate, at least the surface acoustic wave device pattern, and an enclosing wall provided so as to surround a portion where the surface acoustic wave propagates. A lid provided so as to cover at least the upper space of the portion surrounded by the surrounding wall, and a bonding pad provided outside the surrounding wall so as to be electrically connected to the surface acoustic wave device pattern, A bump is provided on the bonding pad, and the printed circuit board and the surface acoustic wave element are bonded to each other with a conductive adhesive via the bump. A sexual surface wave devices, can be miniaturized circuit.

【0028】請求項22に記載の発明は、圧電基板上に
複数の弾性表面波パターンを形成し、次に前記圧電基板
上に少なくとも1つの前記弾性表面波パターンを囲むよ
うに複数の包囲壁を形成し、その後前記包囲壁及びこの
包囲壁で囲んだ部分の上部空間を覆うように蓋体を形成
し、次いで前記圧電基板を所定の大きさに分割する弾性
表面波デバイスの製造方法であり、従来の弾性表面波デ
バイスのように、弾性表面波デバイスパターン上に空間
を形成する必要がなく、ICと同じような工程で組立て
ることができ、安価で信頼性の高い弾性表面波デバイス
が得られる。
According to a twenty-second aspect of the present invention, a plurality of surface acoustic wave patterns are formed on the piezoelectric substrate, and then a plurality of surrounding walls are formed on the piezoelectric substrate so as to surround at least one surface acoustic wave pattern. A method for manufacturing a surface acoustic wave device, comprising forming a lid body so as to cover the surrounding wall and an upper space of a portion surrounded by the surrounding wall, and then dividing the piezoelectric substrate into a predetermined size. Unlike the conventional surface acoustic wave device, it is not necessary to form a space on the surface acoustic wave device pattern, and the surface acoustic wave device can be assembled in the same process as the IC, and an inexpensive and highly reliable surface acoustic wave device can be obtained. .

【0029】請求項23に記載の発明は、弾性表面波パ
ターンと包囲壁と蓋体とを形成した圧電基板を所定の大
きさに分割した後、前記圧電基板をリードフレームに接
着し、ワイヤボンディングにより前記圧電基板と前記リ
ードフレームとの電気的接続を取り、次いで前記圧電基
板及び前記ワイヤボンディング部分を樹脂でモールドす
るものであり、ICと同じプロセスで組立てることがで
きる。
According to a twenty-third aspect of the present invention, the piezoelectric substrate on which the surface acoustic wave pattern, the surrounding wall and the lid are formed is divided into a predetermined size, and then the piezoelectric substrate is bonded to a lead frame, and wire bonding is performed. The electrical connection between the piezoelectric substrate and the lead frame is made by means of, and then the piezoelectric substrate and the wire bonding portion are molded with a resin, which can be assembled in the same process as the IC.

【0030】請求項24に記載の発明は、弾性表面波パ
ターンと包囲壁と蓋体とを形成した圧電基板をリードフ
レームに、シリコーン樹脂あるいはシリコーン樹脂とエ
ポキシ樹脂との混合物で接着するものであり、樹脂によ
る歪みを緩和することができる。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, the piezoelectric substrate having the surface acoustic wave pattern, the surrounding wall and the lid is bonded to the lead frame with a silicone resin or a mixture of a silicone resin and an epoxy resin. Therefore, the distortion caused by the resin can be relaxed.

【0031】請求項25に記載の発明は、蓋体を形成し
た後、この蓋体の上にスクリーン印刷により緩衝層を形
成するものであり、容易に緩衝層を形成することができ
る。
In the twenty-fifth aspect of the present invention, after forming the lid, the buffer layer is formed on the lid by screen printing, and the buffer layer can be easily formed.

【0032】請求項26に記載の発明は、弾性表面波パ
ターンと包囲壁と蓋体とを形成した圧電基板を所定の大
きさに分割した後、この圧電基板をセラミック基板に接
着し、次にワイヤボンディングにより前記圧電基板と前
記セラミック基板との電気的接続を取り、次いで前記圧
電基板を覆うように金属キャップを被せて気密封止する
ものであり、従来の積層セラミックパッケージを用いる
ものと比較して安価になる。
According to a twenty-sixth aspect of the present invention, a piezoelectric substrate having a surface acoustic wave pattern, a surrounding wall and a lid is divided into a predetermined size, the piezoelectric substrate is bonded to a ceramic substrate, and then the ceramic substrate is bonded. An electrical connection is made between the piezoelectric substrate and the ceramic substrate by wire bonding, and then a metal cap is covered so as to cover the piezoelectric substrate and hermetically sealed.Compared with a conventional multilayer ceramic package. Become cheaper.

【0033】請求項27に記載の発明は、気密封止を融
点が270℃以上の高温ハンダを用いて行うものであ
り、従来のチップでは金属粒子が飛び散ることによりシ
ョートを引き起こすことがあったが、弾性表面波デバイ
スパターンが包囲壁及び蓋体で覆われているためショー
トが発生することがない。
According to the twenty-seventh aspect of the present invention, the hermetic sealing is performed by using high temperature solder having a melting point of 270 ° C. or higher. In the conventional chip, scattering of metal particles may cause a short circuit. Since the surface acoustic wave device pattern is covered with the surrounding wall and the lid, a short circuit does not occur.

【0034】請求項28に記載の発明は、気密封止を金
錫合金を用いて行うものであり、従来のチップでは金属
粒子が飛び散ることによりショートを引き起こすことが
あったが、弾性表面波デバイスパターンが包囲壁及び蓋
体で覆われているためショートが発生することがない。
According to the twenty-eighth aspect of the present invention, the hermetic sealing is performed by using the gold-tin alloy, and in the conventional chip, the metal particles are scattered to cause a short circuit, but the surface acoustic wave device is used. Since the pattern is covered with the surrounding wall and the lid, a short circuit does not occur.

【0035】請求項29に記載の発明は、気密封止を炉
内で加熱することにより行うものであり、大量生産する
ことができる。
According to the twenty-ninth aspect of the present invention, the hermetic sealing is performed by heating in a furnace, and mass production is possible.

【0036】請求項30に記載の発明は、気密封止を高
周波加熱により行うものであり、短時間で封止すること
ができる。
In the thirtieth aspect of the invention, the hermetic sealing is performed by high frequency heating, and the sealing can be performed in a short time.

【0037】請求項31に記載の発明は、気密封止する
際、フラックスを用いて行うものであり、弾性表面波デ
バイスパターンにフラックスが付着することがないので
従来と異なりフラックスを用いることができるので安定
して封止することができる。
According to the thirty-first aspect of the present invention, the flux is used for hermetically sealing, and since the flux does not adhere to the surface acoustic wave device pattern, the flux can be used unlike the conventional one. Therefore, stable sealing can be achieved.

【0038】請求項32に記載の発明は、気密封止前に
少なくともワイヤボンディング部分に樹脂を塗布するも
のであり、フラックスによる腐食を防止することができ
る。
According to the thirty-second aspect of the present invention, the resin is applied to at least the wire bonding portion before the hermetically sealing, so that the corrosion due to the flux can be prevented.

【0039】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図6を用いて説明する。 (実施の形態1)図1は本発明の一実施の形態による弾
性表面波デバイスの断面図を示す。まずニオブ酸リチウ
ム、タンタル酸リチウム、水晶等の圧電基板1の上に、
アルミニウムあるいはアルミニウム合金で櫛形電極、反
射電極等よりなる弾性表面波デバイスパターン2を形成
した後、この弾性表面波デバイスパターン2と弾性表面
波が伝播する部分を囲み、かつこの弾性表面波デバイス
パターン2の電気信号を取り出すボンディングパッド1
6の部分を取り除いた包囲壁3と、包囲壁3及び弾性表
面波が伝播する部分の上方空間を覆う蓋体4をフィルム
状レジストで形成する。このフィルム状レジストは密着
性と蓋体4を形成したときに圧電基板1に接触しないよ
うなある程度の硬度が必要である。またアルカリ性の現
像液で現像されるタイプのレジストであれば、現像時に
電極パターンが腐食される危険性があるので、有機溶剤
あるいは水と有機溶剤の混合物で現像されるタイプのレ
ジストであることが望ましい。
FIG. 1 shows the embodiment of the present invention.
From now on, description will be made with reference to FIG. (Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention. First, on the piezoelectric substrate 1 such as lithium niobate, lithium tantalate, or quartz,
After forming a surface acoustic wave device pattern 2 including a comb-shaped electrode, a reflection electrode, or the like with aluminum or an aluminum alloy, the surface acoustic wave device pattern 2 and a portion where the surface acoustic wave propagates are surrounded, and the surface acoustic wave device pattern 2 is formed. Bonding pad 1 for extracting the electrical signal of
The surrounding wall 3 from which the portion 6 is removed and the lid 4 covering the surrounding space of the surrounding wall 3 and the portion where the surface acoustic wave propagates are formed of a film resist. This film-like resist is required to have adhesiveness and a certain degree of hardness so as not to come into contact with the piezoelectric substrate 1 when the lid 4 is formed. If the resist is of a type that can be developed with an alkaline developer, the electrode pattern may be corroded during development, so the resist may be developed with an organic solvent or a mixture of water and an organic solvent. desirable.

【0040】蓋体4が圧電基板1に接触しないために
は、フィルム状レジストの硬度とともにその厚さと包囲
壁3の内壁間隔の比が重要となってくる。通常フィルム
状レジストの硬度はその材質によってほぼ決まってしま
うため、実際のデバイス設計で選択できるのは厚さと内
壁間隔である。内壁間隔の最小寸法を2mmとすると、蓋
体4が圧電基板1に接触しないためには包囲壁3の高さ
は20ミクロンは必要であり、全体をモールドする場合
は40ミクロン以上ある方が無難である。
In order to prevent the lid 4 from coming into contact with the piezoelectric substrate 1, the hardness of the film-like resist and the ratio of the thickness of the film-like resist to the distance between the inner walls of the surrounding wall 3 are important. Usually, the hardness of a film-like resist is almost determined by its material, so that the actual device design can select the thickness and the inner wall spacing. When the minimum dimension of the inner wall spacing is 2 mm, the height of the surrounding wall 3 is required to be 20 μm so that the lid 4 does not come into contact with the piezoelectric substrate 1, and it is safer to have a height of 40 μm or more when the whole is molded. Is.

【0041】つまり包囲壁3の高さは、包囲壁3の内壁
間隔の最小寸法の1/100以上の高さを必要とし、さ
らに1/50以上の高さを有することが好ましい。
That is, the height of the surrounding wall 3 needs to be 1/100 or more of the minimum dimension of the inner wall spacing of the surrounding wall 3, and preferably 1/50 or more.

【0042】このような条件を満たすものとして、プリ
ント基板に用られているエポキシ系のソルダーレジスト
等があげられる。
An epoxy-based solder resist or the like used for a printed circuit board can be mentioned as a material satisfying such conditions.

【0043】モールド時の成型圧に耐える密着性を得る
ためにも、またプロセスの簡素化の面からも、包囲壁3
と蓋体4は同じ材料のフィルム状レジストを使う方が良
い。
The enclosing wall 3 is provided in order to obtain the adhesiveness withstanding the molding pressure at the time of molding and also from the viewpoint of simplifying the process.
It is better to use a film resist made of the same material for the lid 4 and the lid 4.

【0044】以上のようにして包囲壁3と蓋体4を形成
した後、蓋体4の上に蓋体4よりも柔らかいシリコーン
等をスクリーン印刷することにより形成した緩衝層5を
設けた素子を得る。また緩衝層5は蓋体4よりも厚くす
ることが望ましい。これは全体をモールドする場合、モ
ールド樹脂の成型歪みにより圧電基板1にストレスが加
わり、周波数がシフトする危険性があるからである。こ
の問題は特にIFフィルタ等の高い周波数精度が要求さ
れる製品については重大になってくる。このような製品
に対して緩衝層5を設けることにより、モールド樹脂に
よるストレスを緩和する事ができる。
After forming the surrounding wall 3 and the lid body 4 as described above, an element provided with the buffer layer 5 formed by screen-printing silicone or the like softer than the lid body 4 on the lid body 4 is formed. obtain. Further, the buffer layer 5 is preferably thicker than the lid body 4. This is because, when the whole is molded, stress is applied to the piezoelectric substrate 1 due to molding distortion of the molding resin, and there is a risk of frequency shift. This problem becomes serious especially for products such as IF filters that require high frequency accuracy. By providing the buffer layer 5 for such a product, the stress caused by the mold resin can be relieved.

【0045】以上のようにしてできた素子をリードフレ
ーム6に接着し、ワイヤボンディングにより電気的接続
を取った後、素子及びワイヤボンディング部分の周囲を
エポキシ樹脂を主体とする絶縁樹脂7でモールドする。
従来の弾性表面波デバイスでは圧電基板1の上方に空間
を設ける必要があったが、本発明のような構成をとれば
圧電基板1の上方は蓋体4で覆われているためICと同
じように絶縁樹脂7による封止を行うことができ、安価
な弾性表面波デバイスを得ることができる。
The element formed as described above is bonded to the lead frame 6, and after electrical connection is made by wire bonding, the periphery of the element and the wire bonding portion is molded with an insulating resin 7 mainly composed of epoxy resin. .
In the conventional surface acoustic wave device, it is necessary to provide a space above the piezoelectric substrate 1, but with the configuration of the present invention, the upper portion of the piezoelectric substrate 1 is covered with the lid body 4, so that it is similar to the IC. Further, the insulating resin 7 can be sealed, and an inexpensive surface acoustic wave device can be obtained.

【0046】さらに圧電基板1の上の弾性表面波デバイ
スパターン2がハンダ付けする基板側にくるように、リ
ードフレーム6を折り曲げることにより面実装化でき、
ハンダ付けしたときにリードフレーム6で圧電基板1を
覆う形になるので、リードフレーム6につながっている
端子をアースに落とすことによりシールド効果を高める
ことができる。
Further, the surface mounting can be realized by bending the lead frame 6 so that the surface acoustic wave device pattern 2 on the piezoelectric substrate 1 is on the side of the substrate to be soldered,
Since the lead frame 6 covers the piezoelectric substrate 1 when soldered, the shield effect can be enhanced by dropping the terminal connected to the lead frame 6 to the ground.

【0047】(実施の形態2)図2は本実施の形態によ
る弾性表面波デバイスの上面図を示す。図2で弾性表面
波が伝播する方向にある包囲壁3aの厚さを、弾性表面
波伝播方向と平行な包囲壁3bの厚さより厚くしたもの
である。通常包囲壁3bの厚さは100ミクロンくらい
あれば十分であるが、包囲壁3aの厚さは厚い方が良
く、このようにすることにより櫛形電極あるいは反射電
極等からなる弾性表面波デバイスパターン2を通り抜け
た弾性表面波を減衰させることができ、従来必要であっ
た不要波吸収材も要らなくなる。また弾性表面波が伝播
する方向にある包囲壁3aの内側を弾性表面波伝播方向
と斜交するようにすることにより、包囲壁3aの内側で
の不要波の反射による特性の劣化を防ぐことができる。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a top view of a surface acoustic wave device according to the present embodiment. In FIG. 2, the thickness of the surrounding wall 3a in the surface acoustic wave propagation direction is made thicker than the thickness of the surrounding wall 3b parallel to the surface acoustic wave propagation direction. Normally, it is sufficient that the thickness of the surrounding wall 3b is about 100 microns, but the thicker the surrounding wall 3a, the better. By doing so, the surface acoustic wave device pattern 2 including the comb-shaped electrodes or the reflection electrodes 2 is formed. The surface acoustic wave that has passed through can be attenuated, and the unnecessary wave absorber that has been conventionally required is not required. Further, by making the inside of the surrounding wall 3a in the propagation direction of the surface acoustic wave intersect the surface acoustic wave propagation direction obliquely, it is possible to prevent deterioration of characteristics due to reflection of unnecessary waves inside the surrounding wall 3a. it can.

【0048】(実施の形態3)図3は本実施の形態によ
る弾性表面波デバイスの上面図を示す。図3で圧電基板
1の上に共振子型フィルタの弾性表面波デバイスパター
ン2を2ヶ設け直列に接続したもので、それぞれの共振
子型フィルタの弾性表面波デバイスパターン2を別々に
囲むように、包囲壁3を形成したもので、このようにす
ることによりお互いの弾性表面波の漏れによる特性の劣
化を防ぐことができる。そのため複数の弾性表面波デバ
イスパターン2がある場合、それぞれに包囲壁3を形成
することが望ましい。
(Embodiment 3) FIG. 3 shows a top view of a surface acoustic wave device according to this embodiment. In FIG. 3, two surface acoustic wave device patterns 2 of the resonator type filter are provided on the piezoelectric substrate 1 and are connected in series, and the surface acoustic wave device patterns 2 of the respective resonator type filters are separately surrounded. The surrounding wall 3 is formed. By doing so, it is possible to prevent the deterioration of the characteristics due to the leakage of the surface acoustic waves from each other. Therefore, when there are a plurality of surface acoustic wave device patterns 2, it is desirable to form the surrounding wall 3 for each.

【0049】(実施の形態4)図4は本実施の形態によ
る弾性表面波デバイスの断面図を示す。図4では、図1
で示したものと同様に圧電基板1の上に弾性表面波デバ
イスパターン2と包囲壁3と蓋体4を形成したものを電
極15を有するセラミック基板8の上に接着し、ワイヤ
ボンディング等の手段でボンディングパッド16と電極
15との電気的接続を取った後、金属キャップ9を被せ
て気密封止したものである。気密封止の方法としてはセ
ラミック基板8上の金属キャップ9と接する部分に金属
層12を形成しておき、高温半田あるいは金錫合金等に
より、炉内で加熱あるいは高周波加熱等の手段で行う。
この高温半田あるいは金錫合金の融点は面実装部品の半
田リフローに耐えられるように270℃以上であること
が望ましい。また電極15の端子はセラミック基板8の
中に設けられたビアホール10を介して外部に取り出さ
れる。
(Embodiment 4) FIG. 4 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to this embodiment. In FIG. 4, FIG.
Similar to the one shown in FIG. 3, a surface acoustic wave device pattern 2, a surrounding wall 3 and a lid 4 formed on a piezoelectric substrate 1 is adhered onto a ceramic substrate 8 having an electrode 15, and means such as wire bonding is used. After the electrical connection between the bonding pad 16 and the electrode 15 is made with, the metal cap 9 is covered and hermetically sealed. As a method for hermetically sealing, a metal layer 12 is formed on a portion of the ceramic substrate 8 that is in contact with the metal cap 9, and is heated in a furnace by high-temperature solder, gold-tin alloy or the like, or is heated by high frequency.
The melting point of this high-temperature solder or gold-tin alloy is preferably 270 ° C. or higher so that it can withstand solder reflow of surface mount components. The terminals of the electrodes 15 are taken out to the outside via the via holes 10 provided in the ceramic substrate 8.

【0050】従来このような封止を行った場合、封止金
属が圧電基板1の上に飛び散ることによりショートを引
き起こしたり、封止する際にフラックスを用いることが
できなかったため封止が不安定になったりしていたが、
このようにすることにより確実に封止でき、金属粉によ
るショートもなくなる。また封止のときにフラックスを
用いる場合にはワイヤボンディングした周辺部分にシリ
コーン等の樹脂を塗布するのが望ましい。
Conventionally, when such a sealing is performed, the sealing metal is scattered on the piezoelectric substrate 1 to cause a short circuit, or the flux cannot be used for sealing, so that the sealing is unstable. It was becoming
By doing so, the sealing can be surely performed, and the short circuit due to the metal powder is eliminated. Further, when flux is used for sealing, it is desirable to apply a resin such as silicone to the peripheral portion to which wire bonding is applied.

【0051】(実施の形態5)図5は本実施の形態によ
る弾性表面波デバイスの断面図を示す。図5では、図4
で示したものと同様にセラミック基板8に圧電基板1を
接着し金属キャップ9を被せて気密封止したものである
が、このセラミック基板8は図4のようにビアホール1
0を設けずに、セラミックの単板の上に電極15を設
け、金属キャップ9と接触する部分には、セラミック層
11、さらにその上に金属層12を形成したものであ
る。セラミック層11、金属層12はセラミックの単板
の焼成と同時に焼成できるので、安価に作成することが
できる。
(Embodiment 5) FIG. 5 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to this embodiment. In FIG. 5, FIG.
The piezoelectric substrate 1 is adhered to the ceramic substrate 8 and the metal cap 9 is covered to hermetically seal the same as shown in FIG.
An electrode 15 is provided on a ceramic single plate without providing 0, and a ceramic layer 11 is further formed on a portion in contact with the metal cap 9 and a metal layer 12 is further formed thereon. Since the ceramic layer 11 and the metal layer 12 can be fired at the same time as firing the ceramic single plate, they can be produced at low cost.

【0052】(実施の形態6)図6は本実施の形態によ
る弾性表面波デバイスの断面図を示す。図6では、図1
で示したものと同様に圧電基板1の上に弾性表面波デバ
イスパターン2と包囲壁3と蓋体4を形成した素子のボ
ンディングパッド16に金等のバンプ13を形成し、バ
ンプ13に導電性接着剤14をつけて所定のプリント基
板17に取り付け、絶縁樹脂7でポッティングしたもの
である。導電性接着剤14には通常エポキシ樹脂に銀等
の粉を混ぜたもの、絶縁樹脂7にはエポキシ樹脂等が用
いられる。
(Embodiment 6) FIG. 6 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to this embodiment. In FIG. 6, FIG.
In the same manner as the one shown in, the bump 13 such as gold is formed on the bonding pad 16 of the element in which the surface acoustic wave device pattern 2, the surrounding wall 3 and the lid 4 are formed on the piezoelectric substrate 1, and the bump 13 is electrically conductive. The adhesive 14 is attached to a predetermined printed circuit board 17 and potted with an insulating resin 7. The conductive adhesive 14 is usually an epoxy resin mixed with powder of silver or the like, and the insulating resin 7 is an epoxy resin or the like.

【0053】なお図6では図1のような緩衝層5を設け
ていないが、緩衝層5を設けてもよいことは言うまでも
ない。
Although the buffer layer 5 as shown in FIG. 1 is not provided in FIG. 6, it goes without saying that the buffer layer 5 may be provided.

【0054】またプリント基板17の代わりに所定のパ
ッケージを使用し、絶縁樹脂7でパッケージを気密封止
してもよい。
It is also possible to use a predetermined package instead of the printed board 17 and hermetically seal the package with the insulating resin 7.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来の弾
性表面波デバイスに比べて小型で、安価な、また信頼性
の高いものが得られるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain an effect that a device which is smaller in size, cheaper and more reliable than the conventional surface acoustic wave device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による弾性表面波デバイ
スの断面図
FIG. 1 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の別の実施の形態による弾性表面波デバ
イスの上面図
FIG. 2 is a top view of a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の別の実施の形態による弾性表面波デバ
イスの上面図
FIG. 3 is a top view of a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の別の実施の形態による弾性表面波デバ
イスの断面図
FIG. 4 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の別の実施の形態による弾性表面波デバ
イスの断面図
FIG. 5 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の別の実施の形態による弾性表面波デバ
イスの断面図
FIG. 6 is a sectional view of a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention.

【図7】従来の積層セラミックパッケージによる弾性表
面波デバイスの断面図
FIG. 7 is a sectional view of a surface acoustic wave device using a conventional monolithic ceramic package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 圧電基板 2 弾性表面波デバイスパターン 3 包囲壁 4 蓋体 5 緩衝層 6 リードフレーム 7 絶縁樹脂 8 セラミック基板 9 金属キャップ 10 ビアホール 11 セラミック層 12 金属層 13 バンプ 14 導電性接着剤 15 電極 16 ボンディングパッド 1 Piezoelectric Substrate 2 Surface Acoustic Wave Device Pattern 3 Enclosing Wall 4 Lid 5 Buffer Layer 6 Lead Frame 7 Insulating Resin 8 Ceramic Substrate 9 Metal Cap 10 Via Hole 11 Ceramic Layer 12 Metal Layer 13 Bump 14 Conductive Adhesive 15 Electrode 16 Bonding Pad

Claims (32)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも櫛形電極を有する弾性表面波
デバイスパターンを少なくとも1つ表面に形成した圧電
基板と、この圧電基板表面の少なくとも前記弾性表面波
デバイスパターンと弾性表面波が伝播する部分とを囲む
ように設けた包囲壁と、少なくともこの包囲壁で囲まれ
た部分の上方空間を覆うように設けた蓋体とを備えた弾
性表面波デバイス。
1. A piezoelectric substrate on which at least one surface acoustic wave device pattern having at least a comb-shaped electrode is formed, and at least the surface acoustic wave device pattern and a portion where surface acoustic waves propagate on the surface of the piezoelectric substrate. A surface acoustic wave device comprising: the surrounding wall thus provided; and a lid provided so as to cover at least an upper space of a portion surrounded by the surrounding wall.
【請求項2】 包囲壁、蓋体は、フィルム状のフォトレ
ジストで形成された請求項1に記載の弾性表面波デバイ
ス。
2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the surrounding wall and the lid are made of a film-shaped photoresist.
【請求項3】 フォトレジストは、エポキシ樹脂を主体
とする請求項2に記載の弾性表面波デバイス。
3. The surface acoustic wave device according to claim 2, wherein the photoresist is mainly made of epoxy resin.
【請求項4】 フォトレジストは、有機溶剤あるいは水
と有機溶剤の混合物によって現像される物質である請求
項2に記載の弾性表面波デバイス。
4. The surface acoustic wave device according to claim 2, wherein the photoresist is a substance developed by an organic solvent or a mixture of water and an organic solvent.
【請求項5】 包囲壁と蓋体とは、同じ材料で形成され
た請求項1に記載の弾性表面波デバイス。
5. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the surrounding wall and the lid are made of the same material.
【請求項6】 包囲壁の高さは、この包囲壁の内壁間隔
の最小寸法の100分の1以上である請求項1に記載の
弾性表面波デバイス。
6. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the height of the surrounding wall is 1/100 or more of the minimum dimension of the inner wall spacing of the surrounding wall.
【請求項7】 弾性表面波の伝播方向にある包囲壁の厚
さは、前記弾性表面波の伝播方向と同じ向きにある包囲
壁の厚さよりも厚くした請求項1に記載の弾性表面波デ
バイス。
7. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the thickness of the surrounding wall in the propagation direction of the surface acoustic wave is larger than the thickness of the surrounding wall in the same direction as the propagation direction of the surface acoustic wave. .
【請求項8】 弾性表面波の伝播方向にある包囲壁の内
側は、前記弾性表面波の伝播方向と斜交させた請求項1
に記載の弾性表面波デバイス。
8. The inside of the surrounding wall in the propagation direction of the surface acoustic wave is obliquely intersected with the propagation direction of the surface acoustic wave.
A surface acoustic wave device according to claim 1.
【請求項9】 蓋体の上部に緩衝層を設けた請求項1に
記載の弾性表面波デバイス。
9. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein a buffer layer is provided on an upper portion of the lid body.
【請求項10】 緩衝層は、シリコーン樹脂、あるいは
シリコーン樹脂とエポキシ樹脂との混合物で形成された
請求項9に記載の弾性表面波デバイス。
10. The surface acoustic wave device according to claim 9, wherein the buffer layer is formed of silicone resin or a mixture of silicone resin and epoxy resin.
【請求項11】 緩衝層は蓋体よりも柔らかくした請求
項9に記載の弾性表面波デバイス。
11. The surface acoustic wave device according to claim 9, wherein the buffer layer is softer than the lid.
【請求項12】 緩衝層の厚さは、蓋体の厚さよりも厚
くした請求項9に記載の弾性表面波デバイス。
12. The surface acoustic wave device according to claim 9, wherein the buffer layer is thicker than the lid.
【請求項13】 リードフレームと、このリードフレー
ムに接着した請求項1に記載の弾性表面波デバイスと、
この弾性表面波デバイスと前記リードフレームとをモー
ルドした絶縁樹脂とを備え、前記リードフレームと前記
弾性表面波デバイスとは電気的に接続されている請求項
1に記載の弾性表面波デバイス。
13. A lead frame, and the surface acoustic wave device according to claim 1, which is bonded to the lead frame.
The surface acoustic wave device according to claim 1, further comprising: an insulating resin obtained by molding the surface acoustic wave device and the lead frame, wherein the lead frame and the surface acoustic wave device are electrically connected.
【請求項14】 絶縁樹脂は、エポキシ樹脂主体とする
物質よりなる請求項13に記載の弾性表面波デバイス。
14. The surface acoustic wave device according to claim 13, wherein the insulating resin is made of a substance mainly containing an epoxy resin.
【請求項15】 リードフレームは、弾性表面波デバイ
スを接着した側に折り曲げられている請求項13に記載
の弾性表面波デバイス。
15. The surface acoustic wave device according to claim 13, wherein the lead frame is bent to the side to which the surface acoustic wave device is bonded.
【請求項16】 表面に電極を有するセラミック基板
と、このセラミック基板上に被せた金属キャップと、こ
の金属キャップ内に収納した請求項1に記載の弾性表面
波デバイスとを備え、前記セラミック基板と前記弾性表
面波デバイスとは前記電極を通じて電気的に接続されて
いる請求項1に記載の弾性表面波デバイス。
16. A ceramic substrate comprising a ceramic substrate having an electrode on a surface thereof, a metal cap covering the ceramic substrate, and the surface acoustic wave device according to claim 1 housed in the metal cap. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the surface acoustic wave device is electrically connected to the surface acoustic wave device through the electrode.
【請求項17】 セラミック基板の電極を設けた部分に
は、少なくとも1つの貫通孔を設けた請求項16に記載
の弾性表面波デバイス。
17. The surface acoustic wave device according to claim 16, wherein at least one through hole is provided in a portion of the ceramic substrate where the electrode is provided.
【請求項18】 金属キャップとセラミック基板との接
続部分に金属層を設けた請求項16に記載の弾性表面波
デバイス。
18. The surface acoustic wave device according to claim 16, wherein a metal layer is provided at a connecting portion between the metal cap and the ceramic substrate.
【請求項19】 金属層とセラミック基板との間にセラ
ミック層を設けた請求項18に記載の弾性表面波デバイ
ス。
19. The surface acoustic wave device according to claim 18, wherein a ceramic layer is provided between the metal layer and the ceramic substrate.
【請求項20】 パッケージと、このパッケージ内に収
納した弾性表面波素子と、このパッケージを気密封止し
た絶縁樹脂とを備え、前記弾性表面波素子は、圧電基板
と、この圧電基板上に形成した少なくとも櫛形電極を有
する弾性表面波デバイスパターンと、少なくともこの弾
性表面波デバイスパターンと、弾性表面波が伝播する部
分とを囲むように設けた包囲壁と、少なくともこの包囲
壁で囲まれた部分の上方空間を覆うように設けた蓋体
と、前記包囲壁の外側に前記弾性表面波デバイスパター
ンと電気的に接続するように設けたボンディングパッド
と、このボンディングパッド上に設けたバンプを有し、
前記パッケージと前記弾性表面波素子とは、前記バンプ
を介し導電性接着剤により接着されている弾性表面波デ
バイス。
20. A package, a surface acoustic wave device housed in the package, and an insulating resin that hermetically seals the package, the surface acoustic wave device being formed on a piezoelectric substrate and the piezoelectric substrate. Of the surface acoustic wave device pattern having at least the comb-shaped electrodes, at least the surface acoustic wave device pattern, and the surrounding wall provided so as to surround the portion through which the surface acoustic wave propagates, and at least the portion surrounded by the surrounding wall. A lid provided so as to cover the upper space, a bonding pad provided so as to be electrically connected to the surface acoustic wave device pattern outside the surrounding wall, and a bump provided on the bonding pad,
The surface acoustic wave device in which the package and the surface acoustic wave element are bonded to each other with a conductive adhesive via the bumps.
【請求項21】 プリント基板と、このプリント基板上
に設けた弾性表面波素子と、この弾性表面波素子を気密
封止した絶縁樹脂とを備え、前記弾性表面波素子は、圧
電基板と、この圧電基板上に形成した少なくとも櫛形電
極を有する弾性表面波デバイスパターンと、少なくとも
この弾性表面波デバイスパターンと、弾性表面波が伝播
する部分とを囲むように設けた包囲壁と、少なくともこ
の包囲壁で囲まれた部分の上方空間を覆うように設けた
蓋体と、前記包囲壁の外側に前記弾性表面波デバイスパ
ターンと電気的に接続するように設けたボンディングパ
ッドと、このボンディングパッド上に設けたバンプを有
し、前記プリント基板と前記弾性表面波素子とは、前記
バンプを介し導電性接着剤により接着されている弾性表
面波デバイス。
21. A printed circuit board, a surface acoustic wave device provided on the printed circuit board, and an insulating resin that hermetically seals the surface acoustic wave device. The surface acoustic wave device includes a piezoelectric substrate and A surface acoustic wave device pattern having at least a comb-shaped electrode formed on a piezoelectric substrate; an enclosure wall provided so as to surround at least the surface acoustic wave device pattern and a portion through which the surface acoustic wave propagates; and at least the enclosure wall. A lid provided so as to cover the space above the enclosed portion, a bonding pad provided outside the surrounding wall so as to be electrically connected to the surface acoustic wave device pattern, and provided on the bonding pad. A surface acoustic wave device having a bump, wherein the printed circuit board and the surface acoustic wave element are bonded to each other with a conductive adhesive via the bump.
【請求項22】 圧電基板上に複数の弾性表面波パター
ンを形成し、次に前記圧電基板上に少なくとも1つの前
記弾性表面波パターンを囲むように複数の包囲壁を形成
し、その後前記包囲壁及びこの包囲壁で囲んだ部分の上
部空間を覆うように蓋体を形成し、次いで前記圧電基板
を所定の大きさに分割する弾性表面波デバイスの製造方
法。
22. A plurality of surface acoustic wave patterns are formed on a piezoelectric substrate, and then a plurality of surrounding walls are formed on the piezoelectric substrate so as to surround at least one of the surface acoustic wave patterns, and then the surrounding wall. And a method of manufacturing a surface acoustic wave device, wherein a lid is formed so as to cover an upper space of a portion surrounded by the surrounding wall, and then the piezoelectric substrate is divided into a predetermined size.
【請求項23】 圧電基板を所定の大きさに分割した
後、前記圧電基板をリードフレームに接着し、ワイヤボ
ンディングにより前記圧電基板と前記リードフレームと
の電気的接続を取り、次いで前記圧電基板及び前記ワイ
ヤボンディング部分を樹脂でモールドする請求項22に
記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
23. After dividing the piezoelectric substrate into a predetermined size, the piezoelectric substrate is adhered to a lead frame, the piezoelectric substrate and the lead frame are electrically connected by wire bonding, and then the piezoelectric substrate and The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 22, wherein the wire bonding portion is molded with resin.
【請求項24】 圧電基板をリードフレームに、シリコ
ーン樹脂あるいはシリコーン樹脂とエポキシ樹脂との混
合物で接着する請求項23に記載の弾性表面波デバイス
の製造方法。
24. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 23, wherein the piezoelectric substrate is bonded to the lead frame with a silicone resin or a mixture of a silicone resin and an epoxy resin.
【請求項25】 蓋体を形成した後、この蓋体の上にス
クリーン印刷により緩衝層を形成する請求項22に記載
の弾性表面波デバイスの製造方法。
25. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 22, wherein after forming the lid, a buffer layer is formed on the lid by screen printing.
【請求項26】 圧電基板を所定の大きさに分割した
後、前記圧電基板をセラミック基板に接着し、次にワイ
ヤボンディングにより前記圧電基板と前記セラミック基
板との電気的接続を取り、次いで前記圧電基板を覆うよ
うに金属キャップを被せて気密封止する請求項22に記
載の弾性表面波デバイスの製造方法。
26. The piezoelectric substrate is divided into a predetermined size, the piezoelectric substrate is adhered to a ceramic substrate, and then the piezoelectric substrate and the ceramic substrate are electrically connected by wire bonding, and then the piezoelectric substrate is formed. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 22, wherein a metal cap is covered so as to cover the substrate and hermetically sealed.
【請求項27】 気密封止は、融点が270℃以上の高
温ハンダを用いて行う請求項26に記載の弾性表面波デ
バイスの製造方法。
27. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 26, wherein the hermetic sealing is performed by using high temperature solder having a melting point of 270 ° C. or higher.
【請求項28】 気密封止を金錫合金を用いて行う請求
項26に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
28. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 26, wherein the hermetic sealing is performed using a gold-tin alloy.
【請求項29】 気密封止は、炉内で加熱することによ
り行う請求項26に記載の弾性表面波デバイスの製造方
法。
29. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 26, wherein the hermetic sealing is performed by heating in a furnace.
【請求項30】 気密封止は、高周波加熱により行う請
求項26に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
30. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 26, wherein the hermetic sealing is performed by high frequency heating.
【請求項31】 気密封止する際、フラックスを用いて
行う請求項26に記載の弾性表面波デバイスの製造方
法。
31. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 26, wherein the airtight sealing is performed by using a flux.
【請求項32】 気密封止前に少なくともワイヤボンデ
ィング部分に樹脂を塗布する請求項31に記載の弾性表
面波デバイスの製造方法。
32. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 31, wherein resin is applied to at least the wire bonding portion before hermetically sealing.
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