JPH09243986A - Spatial optical modulation device and display device formed by using the same - Google Patents

Spatial optical modulation device and display device formed by using the same

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JPH09243986A
JPH09243986A JP8055696A JP5569696A JPH09243986A JP H09243986 A JPH09243986 A JP H09243986A JP 8055696 A JP8055696 A JP 8055696A JP 5569696 A JP5569696 A JP 5569696A JP H09243986 A JPH09243986 A JP H09243986A
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JP
Japan
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light
layer
film
wavelength
spatial
Prior art date
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Application number
JP8055696A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Oshima
徹也 大島
Yoshiyuki Kaneko
好之 金子
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate production and to make it possible to deal with reading out of white light by combining plural pieces of multiple layered thin-film reflection mirrors which reflect specific wavelength light, thereby constituting a light reflection layer. SOLUTION: This device has a structure obtd. by holding a translucent electrode 11, a photoconductive film 12, the light reflection layer 13, an optical modulation layer 14 and a translucent electrode 11 by two sheets of glass substrates 10. The light reflection layer 13 is constituted by combining the multiple layered thin-film reflection mirrors 30 having the reflection center wavelength of λ1 =450nm, the multiple layered thin-film reflection mirrors 31 having λ2 =550nm and the multiple layered thin-film reflection mirrors 32 having λ3 =650nm. The light reflection layer 13 is the multiple layered thin films which reflect light of the most visible wavelength region and is formed by combining >=3 pieces of the multiple layered reflection mirrors which reflect the specific wavelength light. Further, the reflection mirrors of short wavelengths among the specific wavelength light beams reflected from the plural multiple layered thin-film reflection mirrors are arranged successively from the reading out side.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光によって情報を
書き込み、プロジェクターや動画、静止画のアナログ並
列処理を行う、空間光変調装置およびそれを用いた表示
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spatial light modulator for writing information by light and performing analog parallel processing of a projector, a moving image, and a still image, and a display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】光によって情報の書き込みを行う空間光
変調装置としては、従来、例えばオプティクス・レタ
ー、1991年、Vol.16、764〜766頁や、
アイ・イー・イー・イー・トランザクション・オン・エ
レクトロン・デバイシズ1989年、Vol.36、2
959〜2964頁に公表されている。図3に従来技術
による空間光変調装置の断面構造概略図を示す。透光性
電極11、a−Si:Hからなる光導電膜12、多重積
層薄膜からなる光反射層13、液晶からなる光変調層1
4、透光性電極11を、2枚のガラス基板10により挟
んだ構造をしている。
2. Description of the Related Art As a spatial light modulator for writing information by light, there is a conventional spatial light modulator, for example, Optics Letter, 1991, Vol. 16, pages 764-766,
I, E, E, Transaction on Electron Devices, 1989, Vol. 36, 2
Published on pages 959-2964. FIG. 3 shows a schematic sectional view of a conventional spatial light modulator. Light-transmissive electrode 11, photoconductive film 12 made of a-Si: H, light reflection layer 13 made of multi-layered thin film, light modulation layer 1 made of liquid crystal.
4. The transparent electrode 11 is sandwiched between two glass substrates 10.

【0003】本装置では上記2枚の透光性電極11の間
に電圧を印加し、光導電膜に書き込み光20を入射し、
その光強度に応じて装置の反対側から入射する読み出し
光21の反射率を変化させ、出力光22を得る。すなわ
ち、書き込み光20が光導電膜12に入射すると、光電
流が流れ上記光導電膜12の抵抗値が下がるので、上記
光導電膜12と電気的に直列に接続された液晶からなる
光変調層14にかかる電圧が変調される。読み出し光2
1は光変調層14に入射し光反射層13で反射され、ふ
たたび光変調層14を通り出力光22となる。このと
き、光変調層14は印加される電圧に応じて読み出し光
の位相、偏光方向または振幅を変調するので、出力光2
2は書き込み光20に応じて変調される。
In this device, a voltage is applied between the two translucent electrodes 11 so that the writing light 20 is incident on the photoconductive film,
The reflectance of the read light 21 incident from the opposite side of the device is changed according to the light intensity, and the output light 22 is obtained. That is, when the writing light 20 enters the photoconductive film 12, a photocurrent flows and the resistance value of the photoconductive film 12 decreases, so that the light modulation layer made of liquid crystal electrically connected in series with the photoconductive film 12. The voltage across 14 is modulated. Reading light 2
1 enters the light modulation layer 14, is reflected by the light reflection layer 13, and again passes through the light modulation layer 14 to become output light 22. At this time, the light modulation layer 14 modulates the phase, the polarization direction, or the amplitude of the read light according to the applied voltage.
2 is modulated according to the writing light 20.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来技術では、高い反
射率を得るためと、解像度劣化を防止するため、光反射
層として多重積層薄膜を用いている。読み出し光として
レーザ光等の単色光源を用い、その発光波長は光反射層
における反射率のピーク波長が読み出し光の波長と一致
するように設計している。しかし、多重積層薄膜では特
定波長以外の光に対する反射率は極めて低い。すなわ
ち、可視光の全波長領域において良好な反射率を有して
いない。このため、読み出し光を白色光とした場合には
その一部が光反射層を透過するため、出力光は十分な強
度とならず、また、白色の出力光が得られなかった。ま
た、光反射層を透過した光は光導電膜に漏れ込み光電流
を発生する。このようにして発生した光電流は、書き込
みに対してのノイズ成分となり、空間光変調装置のSN
比やコントラスト比を低下させる原因となっていた。こ
のため上記従来技術による空間光変調装置では、読み出
し光として白色光を使用することはできなかった。白色
光の読み出しに対応した空間光変調装置としては、光反
射層として画素ごとに分割した金属材料を用いた素子が
特開平05−173170に開示されている。しかしな
がら、本素子は構造が複雑であるため製造が容易でない
という問題があった。
In the prior art, a multilayer thin film is used as a light reflecting layer in order to obtain a high reflectance and prevent deterioration of resolution. A monochromatic light source such as a laser beam is used as the reading light, and its emission wavelength is designed so that the peak wavelength of the reflectance in the light reflection layer matches the wavelength of the reading light. However, the multi-layered thin film has a very low reflectance for light other than a specific wavelength. That is, it does not have a good reflectance in the entire wavelength region of visible light. For this reason, when the read light is white light, part of the light is transmitted through the light reflection layer, so that the output light does not have sufficient intensity, and white output light cannot be obtained. Further, the light transmitted through the light reflection layer leaks into the photoconductive film to generate a photocurrent. The photocurrent generated in this way becomes a noise component for writing, and the SN of the spatial light modulator is increased.
It was a cause of lowering the ratio and the contrast ratio. Therefore, in the spatial light modulator according to the above-mentioned conventional technique, white light cannot be used as the reading light. Japanese Patent Application Laid-Open No. 05-173170 discloses an element using a metal material divided into pixels as a light reflection layer as a spatial light modulator compatible with the reading of white light. However, this device has a problem that it is not easy to manufacture because the structure is complicated.

【0005】本発明は、製造が容易な白色光の読み出し
に対応した空間光変調装置を得ることを目的とする。
It is an object of the present invention to obtain a spatial light modulator which is easy to manufacture and supports reading of white light.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、少なくとも
一対の透光性電極の間に光変調層と光反射層、光導電膜
を有し、該光導電膜に入射する書き込み光に応じて、上
記光変調層に入射する読み出し光に対する反射率を変調
する空間光変調装置において、上記光反射層が特定波長
光を反射する多重積層薄膜反射鏡を複数個組み合わせて
構成することにより達成できる。
The above object is to have a light modulation layer, a light reflection layer, and a photoconductive film between at least a pair of translucent electrodes, and to adjust the write light incident on the photoconductive film. In the spatial light modulator that modulates the reflectance of the read light incident on the light modulation layer, the light reflection layer can be achieved by combining a plurality of multi-layered thin film reflecting mirrors that reflect light of a specific wavelength.

【0007】上記光反射層は、ほとんどの可視波長領域
の光を反射する多重積層薄膜であり、また、特定波長光
を反射する多重積層反射鏡を3個以上組合わせることに
より、さらにまた、複数の多重積層薄膜反射鏡から反射
する特定波長のうち、短波長の反射鏡が読み出し側から
配列されていることにより達成される。
The light reflection layer is a multi-layered thin film that reflects light in most of the visible wavelength region, and by combining three or more multi-layered reflecting mirrors that reflect light of a specific wavelength, a plurality of layers can be provided. This is achieved by arranging the short-wavelength reflecting mirrors among the specific wavelengths reflected from the multi-layered thin-film reflecting mirror from the reading side.

【0008】さらにまた、光導電層と書き込み光の光源
との間にフィルタまたは遮光膜を具備し、光反射層が反
射しない波長の光の一部を、吸収または反射することに
よって達成される。
Further, it is achieved by providing a filter or a light-shielding film between the photoconductive layer and the light source of the writing light, and absorbing or reflecting a part of light having a wavelength which is not reflected by the light reflecting layer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1は本発明による空間光変調装
置の断面を示す構造の概略図である。本装置は透光性電
極11、光導電膜12、光反射層13、光変調層14、
透光性電極11を2枚のガラス基板10により挟んだ構
造を有している。そして、光反射層13は反射中心波長
をλ1=450nmとする多重積層薄膜反射鏡30、λ2
=550nmとする多重積層薄膜反射鏡31、λ3=6
50nmとする多重積層薄膜反射鏡32を組み合わせて
構成されている。従来技術による空間光変調装置におい
て、光反射層の分光反射率は図2の破線で示すように単
色読み出し光のわずか近傍を覆うだけであった。これに
対し本発明による空間光変調器の光反射層は、図2の実
線で示すように全ての可視光領域において良好な反射率
を有している。したがって、読み出し光として白色光を
用いた場合でも、十分な強度を有する白色の出力光を得
ることができる。
1 is a schematic view of a structure showing a cross section of a spatial light modulator according to the present invention. This device includes a translucent electrode 11, a photoconductive film 12, a light reflection layer 13, a light modulation layer 14,
It has a structure in which the translucent electrode 11 is sandwiched between two glass substrates 10. The light reflection layer 13 has a multi-layered thin film reflecting mirror 30 having a reflection center wavelength of λ 1 = 450 nm, and λ 2
= 550 nm, multi-layered thin film reflector 31, λ 3 = 6
It is configured by combining a multi-layered thin film reflecting mirror 32 having a thickness of 50 nm. In the spatial light modulator according to the conventional technique, the spectral reflectance of the light reflecting layer covers only a portion near the monochromatic reading light as shown by the broken line in FIG. On the other hand, the light reflection layer of the spatial light modulator according to the present invention has a good reflectance in all visible light regions as shown by the solid line in FIG. Therefore, even when white light is used as the reading light, white output light having sufficient intensity can be obtained.

【0010】光反射層を構成する多重積層薄膜反射鏡
は、SiO2、TiO2、a−Si、ZnO2、ZnS
e、ThF4、As23等の中の、少なくとも屈折率が
異なる2種類の材料を周期的に積層することによって得
られる。ここで反射中心波長をλ0とする反射鏡を形成
するためには、屈折率をn1、n2とする2種類の薄膜の
膜厚をd1=λ0/4n1、d2=λ0/4n2として、数層
以上周期的に積層すればよい。
The multi-layered thin-film reflective mirror constituting the light reflection layer is composed of SiO 2 , TiO 2 , a-Si, ZnO 2 , ZnS.
It can be obtained by periodically laminating at least two kinds of materials having different refractive indexes among e, ThF 4 , As 2 S 3 and the like. Here, in order to form a reflecting mirror having a reflection center wavelength of λ 0 , the film thicknesses of two types of thin films having refractive indices of n 1 and n 2 are d 1 = λ 0 / 4n 1 and d 2 = λ As 0 / 4n 2 , several layers or more may be periodically stacked.

【0011】このようにして得られる多重積層薄膜反射
鏡は単体では高い反射率を有する波長領域が、可視光の
全波長領域を覆うには必ずしも十分ではなかった。した
がって、中心波長が50nm〜200nm程度離れた複
数の多重積層反射鏡を組み合わせて用いると、可視光の
ほとんどの波長領域に対して良好な反射特性が得られ
る。さらに3つ以上の組み合わせるとさらに良好にな
る。
The multi-layered thin-film reflective mirror thus obtained, by itself, had a wavelength region having a high reflectance, but was not always sufficient to cover the entire wavelength region of visible light. Therefore, when a plurality of multi-layered reflecting mirrors having central wavelengths separated by about 50 nm to 200 nm are used in combination, good reflection characteristics can be obtained for almost all wavelength regions of visible light. The combination of three or more becomes even better.

【0012】一般に多重積層薄膜反射鏡を構成する薄膜
は可視光の一部を吸収する。その吸収率は短波長ほど大
きい。したがって、上記光反射鏡を構成する複数の多重
積層薄膜反射鏡は、その反射中心波長が短いものから読
み出し光入射側に配列すると、光反射層における光の吸
収が最小となり好適である。
Generally, the thin film forming the multi-layered thin film reflecting mirror absorbs a part of visible light. The shorter the wavelength, the higher the absorption rate. Therefore, it is preferable that a plurality of multi-layered thin film reflective mirrors constituting the above-mentioned light reflecting mirror are arranged from the one having a short reflection center wavelength to the read light incident side, since light absorption in the light reflecting layer is minimized.

【0013】また、上記のような可視光全域にわたって
良好な反射率を有する光反射層を形成しても、主に紫外
光や赤外光からなる反射率が低い領域の光は透過する。
透過した光の一部は光導電層に吸収されて書き込み光の
ノイズ成分となり、空間光変調器のSN比やコントラス
ト比を低下させる原因となる。このような波長の光成分
は光導電層と書き込み光の光源の間にフィルターを設け
て、光反射層が反射しない波長の光の少なくとも一部を
吸収することで抑制できる。または、光導電層と書き込
み光の光源の間に遮光膜を設けて、光反射層が反射しな
い波長の光の少なくとも一部を反射することで抑制でき
る。これら光は主に紫外光または赤外光であり、人の目
は感度を有さない。したがって、これらの光成分を除外
しても出力光強度は影響されない。フィルターまたは遮
光膜を設ける位置は装置外の読み出し光の光路上、読み
出し光入射側基板上、光反射層を構成する薄膜、光反射
鏡と光導電膜の間のいずれに設置してもよい。
Further, even if the light reflecting layer having a good reflectance over the entire visible light range is formed, light in a low reflectance region mainly composed of ultraviolet light or infrared light is transmitted.
Part of the transmitted light is absorbed by the photoconductive layer and becomes a noise component of the writing light, which causes a reduction in the SN ratio and the contrast ratio of the spatial light modulator. A light component of such a wavelength can be suppressed by providing a filter between the photoconductive layer and the light source of the writing light and absorbing at least a part of the light of the wavelength which is not reflected by the light reflecting layer. Alternatively, it can be suppressed by providing a light-shielding film between the photoconductive layer and the light source of the writing light and reflecting at least a part of the light having a wavelength that is not reflected by the light reflecting layer. These lights are mainly ultraviolet light or infrared light, and the human eye has no sensitivity. Therefore, even if these light components are excluded, the output light intensity is not affected. The filter or the light shielding film may be provided on the optical path of the reading light outside the device, on the reading light incident side substrate, on the thin film forming the light reflecting layer, or between the light reflecting mirror and the photoconductive film.

【0014】光導電材料としては、比較的大きな面積で
一様な特性を有する薄膜の形成が比較的容易で、可視光
領域において吸収係数が大きいa−Si:Hやa−Se
を主体とした非晶質材料や、Si、CdS、CdSe、
CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CuIn
2、CuInSe2、CuGaS2、CuGaSe2等の
光導電材料を主体とする多結晶材料が好ましい。このよ
うな光導電材料はある特定の波長より短波長の光は吸収
するが、長波長の光は吸収しない。この境界の波長を光
学ギャップと呼ぶ。光学ギャップが可視光領域にある光
導電材料では紫外光を吸収し光電流を生成するが、赤外
光が入射された場合には吸収されない。したがって、こ
の場合には上記フィルターまたは遮光膜により除外する
光成分を紫外光に対してのみ行えば、読み出し光の光導
電膜への漏れ込みによる光電流のノイズ成分に抑制効果
が得られ、装置のSN比とコントラスト比を向上する。
As a photoconductive material, it is relatively easy to form a thin film having uniform characteristics over a relatively large area, and a-Si: H or a-Se having a large absorption coefficient in the visible light region.
Amorphous materials mainly composed of Si, CdS, CdSe,
CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CuIn
A polycrystalline material mainly composed of a photoconductive material such as S 2 , CuInSe 2 , CuGaS 2 , CuGaSe 2 is preferable. Such a photoconductive material absorbs light having a wavelength shorter than a specific wavelength, but does not absorb light having a long wavelength. The wavelength at this boundary is called an optical gap. A photoconductive material having an optical gap in the visible light region absorbs ultraviolet light to generate photocurrent, but it is not absorbed when infrared light is incident. Therefore, in this case, if the light component excluded by the filter or the light shielding film is applied only to the ultraviolet light, the effect of suppressing the noise component of the photocurrent due to the leakage of the read light into the photoconductive film can be obtained, and the device To improve the SN ratio and the contrast ratio.

【0015】光変調層としてはネマティック液晶や強誘
電性液晶等の液晶材料がいずれも使用可能である。
As the light modulation layer, any liquid crystal material such as nematic liquid crystal or ferroelectric liquid crystal can be used.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

第1実施例 本発明による空間光変調装置の断面構造概略図を図1に
示す。まず、ガラス基板10の上にITOからなる透光
性電極11をスパッタリング法によって100nm堆積
する。この上にPを添加したa−Si:Hを10nm、
無添加のa−Si:Hを5μm、Bを添加したa−S
i:Hを10nm順次積層して光導電膜12を得る。こ
の上にSiO2を75.0nmとTiO2を48.9nm
スパッタリング法により交互に10層堆積して、反射中
心波長をλ1=450nmとする多重積層薄膜反射鏡3
0を得る。さらにこの上にSiO2を91.7nmとT
iO2を59.8nmスパッタリング法により交互に1
0層堆積して、反射中心波長をλ1=550nmとする
多重積層薄膜反射鏡31を得る。この上にSiO2を1
08.3nmとTiO2を70.7nmスパッタリング
法により交互に10層堆積して、反射中心波長をλ1
650nmとする多重積層薄膜反射鏡32を得る。この
3組の多重積層薄膜反射鏡により光反射層13を形成す
る。そしてこの上に配向膜16を堆積する。一方、もう
1枚のガラス基板10の上にITOからなる透光性電極
11を100nmスパッタリング法によって堆積し、さ
らに配向膜16を堆積する。両者をスペーサー17を介
して貼り合わせ、ネマチック液晶を注入して空間光変調
装置を得る。
First Embodiment FIG. 1 shows a schematic sectional view of a spatial light modulator according to the present invention. First, the transparent electrode 11 made of ITO is deposited on the glass substrate 10 to a thickness of 100 nm by a sputtering method. A-Si: H having P added thereto has a thickness of 10 nm,
A-Si: H without addition of 5 μm, a-S with addition of B
Photoconductive film 12 is obtained by sequentially stacking i: H of 10 nm. On top of this, SiO 2 is 75.0 nm and TiO 2 is 48.9 nm.
Multilayer laminated thin film mirror 3 having 10 layers alternately deposited by the sputtering method and having a reflection center wavelength of λ 1 = 450 nm.
Get 0. Furthermore, SiO 2 of 91.7 nm and T
Alternatingly 1 with io 2 by 59.8 nm sputtering method
0 layers are deposited to obtain a multi-layered thin film reflective mirror 31 having a reflection center wavelength of λ 1 = 550 nm. Add 1 SiO 2 on top of this
Alternately, 10 layers of 08.3 nm and TiO 2 were deposited by a 70.7 nm sputtering method, and the reflection center wavelength was λ 1 =
A multi-layered thin film reflecting mirror 32 having a wavelength of 650 nm is obtained. The light reflecting layer 13 is formed by these three sets of multilayer laminated thin film reflecting mirrors. Then, the alignment film 16 is deposited on this. On the other hand, a transparent electrode 11 made of ITO is deposited on the other glass substrate 10 by a 100 nm sputtering method, and an alignment film 16 is further deposited. Both are bonded together via a spacer 17, and nematic liquid crystal is injected to obtain a spatial light modulator.

【0017】本装置を書き込み光入射側の透光性電極1
1を負にバイアスして使用する。そして読み出し光とし
て白色光を用いると、可視の全波長領域にわたって良好
な光変調が行われる。本装置を例えば図5に示すように
読み出し用白色光源やビームスプリッターと組み合わせ
ると、出力光を得るための光学系を形成することがで
き、このとき紫外光を吸収するフィルター15を読み出
し光の入射光路上に設けると、光導電膜に漏れ込む紫外
光成分が抑制され、装置のSN比およびコントラスト比
が向上する。この紫外光を吸収するフィルターは、また
紫外光を反射する遮光板であってもよい。
This device is provided with a transparent electrode 1 on the writing light incident side.
1 is used with a negative bias. When white light is used as the reading light, good light modulation is performed over the entire visible wavelength range. By combining this device with a white light source for reading or a beam splitter as shown in FIG. 5, for example, an optical system for obtaining output light can be formed. At this time, a filter 15 that absorbs ultraviolet light is incident on the reading light. When it is provided on the optical path, the ultraviolet light component leaking into the photoconductive film is suppressed, and the SN ratio and contrast ratio of the device are improved. The filter that absorbs the ultraviolet light may also be a light shielding plate that reflects the ultraviolet light.

【0018】第2実施例 本発明による空間光変調装置の他の断面構造概略図を図
4に示す。まず、ガラス基板10の上にITOからなる
透光性電極11をスパッタリング法によって100nm
堆積する。この上にa−Seからなる光導電膜12を5
μm蒸着法によって堆積する。この上にSiO2を7
5.0nmとTiO2を48.9nmスパッタリング法
により交互に10層堆積して反射中心波長がλ1=45
0nmの多重積層薄膜反射鏡30を得る。この上にSi
2を108.3nmとTiO2を70.7nmスパッタ
リング法により交互に10層堆積して反射中心波長をλ
1=650nmとする多重積層薄膜反射鏡31を得る。
この2組の多重積層薄膜反射鏡により光反射層13を形
成し、この上に配向膜16を堆積する。一方、もう1枚
のガラス基板10の上にITOからなる透光性電極11
をスパッタリング法によって100nm堆積し、さらに
配向膜16を堆積する。そして、その反射面に紫外線を
吸収するフィルター15を堆積する。両者をスペーサー
17を介して貼り合わせ、強誘電性液晶を注入して光変
調層14を設け、空間光変調装置を得る。
Second Embodiment Another schematic sectional view of the spatial light modulator according to the present invention is shown in FIG. First, the transparent electrode 11 made of ITO is formed on the glass substrate 10 to a thickness of 100 nm by a sputtering method.
accumulate. On top of this, a photoconductive film 12 made of a-Se is formed.
It is deposited by the μm vapor deposition method. Add SiO 2 on top of this
10 layers of 5.0 nm and TiO 2 were alternately deposited by a 48.9 nm sputtering method, and the reflection center wavelength was λ 1 = 45.
A 0 nm multilayer laminated thin film mirror 30 is obtained. Si on this
By alternately depositing 10 layers of O 2 of 108.3 nm and TiO 2 of 70.7 nm by a sputtering method and setting the reflection center wavelength to λ
A multi-layered thin film reflecting mirror 31 with 1 = 650 nm is obtained.
A light reflecting layer 13 is formed by the two sets of multilayer laminated thin film reflecting mirrors, and an alignment film 16 is deposited thereon. On the other hand, the transparent electrode 11 made of ITO is formed on the other glass substrate 10.
Is deposited to a thickness of 100 nm by the sputtering method, and the alignment film 16 is further deposited. Then, a filter 15 that absorbs ultraviolet rays is deposited on the reflecting surface. The two are bonded together via a spacer 17, ferroelectric liquid crystal is injected to provide the light modulation layer 14, and a spatial light modulator is obtained.

【0019】本装置は書き込み光入射側の透光性電極1
1を書き込み時に正にバイアスして使用する。本装置
は、可視光全域にわたる反射特性が第1実施例に比して
劣るが、光反射層は膜厚が比較的薄いため、この部分に
おける電圧降下が少ない。したがって、光変調層の駆動
にとっては好適である。また、本実施例において紫外光
を吸収するためのフィルターは、紫外光を反射するため
の遮光膜であってもよい。しかし、発熱のおそれがある
ので、遮光膜よりフィルターの方が好ましい。
This device is provided with a transparent electrode 1 on the writing light incident side.
1 is used with a positive bias when writing. This device is inferior to the first embodiment in reflection characteristics over the entire visible light range, but since the light reflection layer is relatively thin, the voltage drop in this portion is small. Therefore, it is suitable for driving the light modulation layer. Further, in the present embodiment, the filter for absorbing ultraviolet light may be a light shielding film for reflecting ultraviolet light. However, the filter is preferable to the light-shielding film because it may generate heat.

【0020】第3実施例 本発明の上記実施例から空間光変調装置を用いた表示装
置の一例として、プロジェクターシステムを図6に示
す。ブラウン管から発せられる画像信号を、本発明の空
間光変調装置の光導電層側からレンズを介して入力す
る。すると、画像信号に応じて空間光変調装置の反対側
の面の反射率が変調される。本装置をビームスプリッタ
ープリズムを組み合わせて構成することにより、光によ
って情報を書き込み、プロジェクターや動画、静止画の
アナログ並列処理を行う空間光変調装置において、白色
光読み出しを可能にし、また、読み出し光の光導電膜へ
の漏れ込みに起因するノイズ成分を抑制し、空間光変調
装置のSN比やコントラスト比を高めるものである。
Third Embodiment FIG. 6 shows a projector system as an example of a display device using the spatial light modulator according to the above embodiments of the present invention. The image signal emitted from the cathode ray tube is input from the photoconductive layer side of the spatial light modulator of the present invention through the lens. Then, the reflectance of the surface on the opposite side of the spatial light modulator is modulated according to the image signal. By combining this device with a beam splitter prism, white light can be read out in a spatial light modulator that writes information by light and performs analog parallel processing of projectors, moving images, and still images. The noise component resulting from the leakage into the photoconductive film is suppressed, and the SN ratio and the contrast ratio of the spatial light modulator are increased.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明は光によって情報を書き込み、プ
ロジェクターや動画、静止画のアナログ並列処理を行な
う空間光変調装置において、白色光読み出しを可能にし
て、また読み出し光の光導電膜への漏れ込みに起因する
ノイズ成分を抑制し、空間光変調装置のSN比やコント
ラスト比を高めるものである。
Industrial Applicability The present invention enables white light reading in a spatial light modulator for writing information by light and performing analog parallel processing of a projector, a moving image, and a still image, and leaks the read light to the photoconductive film. The noise component caused by the noise is suppressed, and the SN ratio and the contrast ratio of the spatial light modulator are increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による空間光変調装置の断面構造概略図
である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a spatial light modulator according to the present invention.

【図2】光反射層の分光反射率である。FIG. 2 is a spectral reflectance of a light reflecting layer.

【図3】従来技術による空間光変調装置の断面構造概略
図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a spatial light modulator according to the prior art.

【図4】本発明による空間光変調装置の断面構造概略図
である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a spatial light modulator according to the present invention.

【図5】白色光源と組み合わせた空間光変調装置の出力
光を得るための光学系の例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of an optical system for obtaining output light of a spatial light modulator combined with a white light source.

【図6】本発明の空間光変調装置を用いた表示装置の例
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a display device using the spatial light modulator of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 透光性電極 12 光導電膜 13 光反射層 14 光変調層 15 フィルター 20 書き込み光 21 読み出し光 30、31 多重積層薄膜反射鏡 11 translucent electrode 12 photoconductive film 13 light reflection layer 14 light modulation layer 15 filter 20 writing light 21 reading light 30, 31 multi-layered thin film reflective mirror

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも一対の透光性電極の間に光変調
層と光反射層、光導電膜を有し、該光導電膜に入射する
書き込み光に応じて、上記光変調層に入射する読み出し
光に対する反射率を変調する空間光変調装置において、
上記光反射層が特定波長光を反射する多重積層薄膜反射
鏡を、複数個組み合わせて構成したことを特徴とする空
間光変調装置。
1. A light modulation layer, a light reflection layer, and a photoconductive film are provided between at least a pair of translucent electrodes, and the light modulation layer, the light reflection layer, and the photoconductive film are incident on the light modulation layer in response to write light incident on the photoconductive film. In a spatial light modulator that modulates the reflectance for read light,
A spatial light modulator comprising a plurality of multi-layered thin-film reflective mirrors in which the light reflection layer reflects light of a specific wavelength.
【請求項2】上記光反射層は、少なくともほとんどの可
視光波長領域の光を反射する多重層薄膜であることを特
徴とする請求項1記載の空間光変調装置。
2. The spatial light modulator according to claim 1, wherein the light reflection layer is a multilayer thin film that reflects light in at least most visible light wavelength regions.
【請求項3】上記光反射層は、特定波長光を反射する多
重積層薄膜反射鏡を、3個以上組み合わせて構成される
ことを特徴とする請求項1記載の空間光変調装置。
3. The spatial light modulator according to claim 1, wherein the light reflecting layer is formed by combining three or more multi-layered thin film reflecting mirrors that reflect light of a specific wavelength.
【請求項4】上記光反射層を構成する上記複数の多重層
薄膜反射鏡は、反射する特定波長が短波長である反射鏡
が、読み出し光側から順に配列されていることを特徴と
する請求項1または請求項3に記載の空間光変調装置。
4. The plurality of multilayer thin film reflecting mirrors constituting the light reflecting layer are characterized in that reflecting mirrors having a short specific wavelength to be reflected are arranged in order from the reading light side. The spatial light modulator according to claim 1 or 3.
【請求項5】上記光導電層は、書き込み光の光源の間に
フィルターを備え、光反射層が反射しない波長の光の少
なくとも一部を反射することを特徴とする請求項1から
請求項4のいずれかに記載した空間光変調装置。
5. The photoconductive layer comprises a filter between light sources of writing light, and reflects at least a part of light having a wavelength which is not reflected by the light reflecting layer. The spatial light modulator described in any one of 1.
【請求項6】上記光導電層は、書き込み光の光源の間に
遮光膜を備え、光反射層が反射しない波長の光の少なく
とも一部を吸収することを特徴とする請求項1から請求
項4のいずれかに記載した空間光変調装置。
6. The photoconductive layer comprises a light-shielding film between light sources for writing light, and absorbs at least a part of light having a wavelength which is not reflected by the light reflecting layer. 4. The spatial light modulator according to any one of 4 above.
【請求項7】上記反射しない波長の光は、紫外光である
ことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の空間
光変調装置。
7. The spatial light modulator according to claim 5, wherein the light having a wavelength that does not reflect is ultraviolet light.
【請求項8】上記請求項1から請求項7のいずれか記載
した空間光変調装置を用いたことを特徴とする表示装
置。
8. A display device using the spatial light modulator according to any one of claims 1 to 7.
JP8055696A 1996-03-13 1996-03-13 Spatial optical modulation device and display device formed by using the same Pending JPH09243986A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006285242A (en) * 2005-03-30 2006-10-19 Xerox Corp Distributed bragg reflector system and method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006285242A (en) * 2005-03-30 2006-10-19 Xerox Corp Distributed bragg reflector system and method

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