JPH09231794A - Semiconductor memory device and measuring circuit - Google Patents
Semiconductor memory device and measuring circuitInfo
- Publication number
- JPH09231794A JPH09231794A JP8033864A JP3386496A JPH09231794A JP H09231794 A JPH09231794 A JP H09231794A JP 8033864 A JP8033864 A JP 8033864A JP 3386496 A JP3386496 A JP 3386496A JP H09231794 A JPH09231794 A JP H09231794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- input
- data
- memory cell
- bit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置およ
び測定回路に関し、特に多ビット並列に入出力する入出
力端子をもつ冗長機能付き半導体記憶装置および測定回
路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a measuring circuit, and more particularly to a semiconductor memory device with a redundant function and an measuring circuit having input / output terminals for inputting and outputting in multi-bit parallel.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種の多ビット並列に入出力す
る入出力端子を持つ半導体記憶装置(以下多ビットデバ
イスと呼ぶ)の測定には、多ビットデバイスの入出力端
子と測定装置(以下テスタと呼ぶ)のドライバ/コンパ
レータ(以下D/Cと呼ぶ)を1対1に対応させて測定
する方法と、多ビットデバイスの複数の入出力端子のデ
ータを1つの入出力端子でまとめて判定するテストモー
ド(以下ビット圧縮テストモードと呼ぶ)を使用する方
法の2つの方法がある。2. Description of the Related Art Conventionally, in measuring a semiconductor memory device (hereinafter, referred to as a multi-bit device) having an input / output terminal for inputting / outputting a multi-bit in parallel of this kind, an input / output terminal of a multi-bit device and a measuring device (hereinafter A method of measuring a driver / comparator (called a tester) (hereinafter referred to as D / C) in a one-to-one correspondence and a method for collectively determining data of a plurality of input / output terminals of a multi-bit device by one input / output terminal There are two methods of using a test mode (hereinafter, referred to as a bit compression test mode).
【0003】まず、従来の半導体記憶装置における第一
の測定方法について説明する。図7は、従来の半導体記
憶装置の測定回路を例示する説明図であり、多ビットデ
バイスの入出力端子とテスタのD/Cとの関係を示して
いる。テスタの測定ブロック1つ当たり8個のD/Cを
有し、4個のテスタの測定ブロックを有するテスタの場
合を考えると、8本までの入出力端子を持つ多ビットデ
バイスたとえば8ビットI/Oのデバイス14までは1
つの多ビットデバイスに対して1つの測定ブロックを割
り当て、9本から16本の入出力端子を持つ多ビットデ
バイスたとえば16ビットI/Oのデバイス15に対し
ては2つの測定ブロックを、17本から32本の入出力
端子を持つ多ビットデバイスたとえば32ビットのデバ
イス16に対しては4つの測定ブロックを割り当てるこ
とにより測定を行う。First, a first measuring method in a conventional semiconductor memory device will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram exemplifying a measuring circuit of a conventional semiconductor memory device, and shows a relationship between input / output terminals of a multi-bit device and D / C of a tester. Considering the case of a tester having 8 D / Cs per measurement block of a tester and having 4 measurement blocks of a tester, a multi-bit device having up to 8 input / output terminals, for example, an 8-bit I / C. 1 up to O device 14
One measurement block is assigned to one multi-bit device, and two measurement blocks from a 17-bit multi-bit device having 9 to 16 input / output terminals, for example, 16-bit I / O device 15, from 17 Measurement is performed by assigning four measurement blocks to a multi-bit device having 32 input / output terminals, for example, a 32-bit device 16.
【0004】次に、従来の半導体記憶装置における第二
の測定方法について説明する。図8は、従来の半導体記
憶装置、たとえば、特開平4−307751号公報に示
されている半導体記憶装置である16ビット入出力端子
デバイス15の内部構成をチップ・レイアウトに準じて
簡略化し例示する部分ブロック図である。図8を参照す
ると、このデバイス15そのものは、左右とも同一構成
であるが、図示の都合上、右側部分を省略している。し
かし、以下の説明において、右側部分のブロックを含め
て説明する。Next, a second measuring method in the conventional semiconductor memory device will be described. FIG. 8 illustrates the internal configuration of a conventional semiconductor memory device, for example, a 16-bit input / output terminal device 15 which is a semiconductor memory device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-307751 in a simplified manner in accordance with a chip layout. It is a partial block diagram. Referring to FIG. 8, the device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, but the right side portion is omitted for convenience of illustration. However, in the following description, the block on the right side is also included.
【0005】メモリセルアレイ部10は、各入出力端子
I/O0〜15に対応するメモリセル領域である領域0
〜15から構成されており、各領域0〜15はそれぞれ
に対応するリードアンプDA0〜15およびライトアン
プWA0〜15とを介して、データバスRWBS0〜1
5に接続されている。また、これらデータバスRWBS
0〜15は、それぞれに対応する出力コントロール回路
DO0〜15,データ入力回路DI0〜15と接続され
ている。出力コントロール回路DO0〜15の出力は、
さらに、入出力端子I/O0〜15の駆動手段であるデ
ータ出力回路DB0〜15にそれぞれ接続され、入出力
端子I/O0〜15を駆動しデータ出力するかHi−Z
状態にする制御をそれぞれ行う。The memory cell array portion 10 has a region 0, which is a memory cell region corresponding to each of the input / output terminals I / O0-15.
15 to 15, each of the areas 0 to 15 is connected to the data bus RWBS0 to 1 via the corresponding read amplifier DA0 to 15 and write amplifier WA0 to 15 respectively.
5 is connected. In addition, these data buses RWBS
0 to 15 are connected to the corresponding output control circuits DO0 to 15 and the data input circuits DI0 to 15, respectively. The outputs of the output control circuits DO0-15 are
Further, it is connected to the data output circuits DB0 to DB15, which are driving means of the input / output terminals I / O0 to 15, respectively, and drives the input / output terminals I / O0 to 15 to output data or Hi-Z.
Performs control to enter the state.
【0006】また、データバスRWBS0〜15は、デ
ータバスRWBS0〜3,データバスRWBS4〜7,
データバスRWBS8〜11,データバスRWBS12
〜15の組み合わせでそれぞれに対応したデータ判定回
路TFF1〜4に入力され、データ判定回路TFF1〜
4の出力はそれぞれに対応したデータ出力コントロール
回路DO0,4,8,12に入力されている。The data buses RWBS0 to 15 are data buses RWBS0 to 3, data buses RWBS4 to 7,
Data bus RWBS8-11, data bus RWBS12
15 to 15 are input to the corresponding data determination circuits TFF1 to TFF4, and the data determination circuits TFF1 to TFF1 to
The outputs of 4 are input to the corresponding data output control circuits DO0, 4, 8, and 12.
【0007】さらに、ビット圧縮テストモード時に使用
する各入出力端子I/O0,4,8,12は、ビット圧
縮テストモード時に圧縮されて使用しなくなる他の入出
力端子I/O1〜3,5〜7,9〜11,13〜15に
対応したデータ入力回路DI1〜3,5〜7,9〜1
1,13〜15にもそれぞれ接続されている。通常動作
とビット圧縮テストモードの切り換えは、TEST信号
13で切り換える。すなわち、このTEST信号13に
より制御されるデータ判定回路TFF1〜4,データ出
力コントロール回路DO0〜15,データ入力回路DI
0〜15とデータ出力回路DB0〜15とから、ビット
圧縮手段が構成されている。Further, the respective input / output terminals I / O0, 4, 8, 12 used in the bit compression test mode are compressed and not used in the bit compression test mode, and the other input / output terminals I / O1-3, 5 are not used. ~ 7,9 ~ 11,13 ~ 15 data input circuits DI1 ~ 3,5 ~ 7,9 ~ 1
1, 13 to 15 are also connected. Switching between the normal operation and the bit compression test mode is switched by the TEST signal 13. That is, the data determination circuits TFF1 to TFF4 controlled by the TEST signal 13, the data output control circuits DO0 to 15 and the data input circuit DI.
Bit compression means is composed of 0 to 15 and the data output circuits DB0 to DB15.
【0008】通常リード時は、各領域0〜15から読み
出されたセルデータを各領域0〜15に対応したそれぞ
れのリードアンプDA0〜15が増幅し、データ出力コ
ントロール回路DO0〜15を介してデータ出力回路D
B0〜15に伝え、各入出力端子にデータが出力され
る。At the time of normal read, the cell data read from the areas 0 to 15 are amplified by the respective read amplifiers DA0 to DA15 corresponding to the areas 0 to 15, and are amplified via the data output control circuits DO0 to 15. Data output circuit D
This is transmitted to B0 to B15, and the data is output to each input / output terminal.
【0009】ビット圧縮テストモードのリード時は、各
リードアンプDA0〜15の出力がデータバスRWBS
0〜3,データバスRWBS4〜7,データバスRWB
S8〜11,データバスRWBS12〜15の組み合わ
せで、それぞれの組み合わせに対応したデータ判定回路
TFF1〜4に入力され、その各データ判定回路TFF
1〜4の出力はそれぞれビット圧縮テストモード時に使
用する入出力端子I/O0,4,8,12に対応したデ
ータ出力コントロール回路DO0,4,8,12に入力
される。データ判定回路TFF1〜4は、その入力が全
て等しいデータのとき‘ハイ’データを出力し、1つで
も異なるデータがあるとき‘ロウ’データを出力する。
データ出力コントロール回路DO0〜15は、データ判
定回路TFF1〜4からのデータが‘ハイ’の時はそれ
ぞれに入力されているデータバスRWBS0,4,8,
12のデータをデータ出力回路DB0〜15に伝え、デ
ータ判定回路TFF1〜4の出力データが‘ロウ’の時
にはデータ出力回路DB0〜15の動作を止める信号を
発生しデータ出力回路DB0〜15に伝える。At the time of reading in the bit compression test mode, the outputs of the read amplifiers DA0 to DA15 output the data bus RWBS.
0-3, data bus RWBS4-7, data bus RWB
A combination of S8 to 11 and data buses RWBS12 to 15 is input to the data determination circuits TFF1 to TFF corresponding to each combination, and the respective data determination circuits TFF are input.
The outputs of 1 to 4 are input to the data output control circuits DO0, 4, 8, 12 corresponding to the input / output terminals I / O 0, 4, 8, 12 used in the bit compression test mode. The data determination circuits TFF1 to TFF4 output "high" data when the inputs are all the same data, and output "low" data when there is at least one different data.
The data output control circuits DO0 to 15 are input to the data buses RWBS0, 4, 8 and 8 when the data from the data determination circuits TFF1 to TFF4 are "high".
The data of 12 is transmitted to the data output circuits DB0 to 15, and when the output data of the data determination circuits TFF1 to 4 is'low ', a signal for stopping the operation of the data output circuits DB0 to 15 is generated and transmitted to the data output circuits DB0 to 15. .
【0010】したがって、各データ判定回路2に入力さ
れているデータがそれぞれ全て等しい場合には、入出力
端子I/O0,4,8,12にデータバスRWBS0,
4,8,12からのデータが出力され、その他の場合に
は入出力端子I/O0,4,8,12の出力はHi−z
となる。Therefore, when the data input to the respective data decision circuits 2 are all equal, the data buses RWBS0, I / O0, 4, 8, 12 are connected to the data buses RWBS0,
The data from the output terminals 4, 8 and 12 are output. In other cases, the output from the input / output terminals I / O 0, 4, 8 and 12 is Hi-z.
Becomes
【0011】以上の動作により、多ビットデバイス15
が正しく動作して全てのデータが等しい場合は入出力端
子I/O0,4,8,12に期待値が出力され、誤動作
によりデータバスRWBS0,4,8,12のデータが
一つでも異なった場合はその入出力端子I/O0,4,
8,12のデータはHi−zとなり期待値が出力されな
いため不良を検出できる。また、誤動作により全てのデ
ータが期待値と逆のデータとなった場合はその入出力端
子I/O0,4,8,12にデータを出力するが、期待
値と異なるデータとなるため不良を検出できる。By the above operation, the multi-bit device 15
Is operating properly and all the data are equal, the expected value is output to the input / output terminals I / O0, 4, 8, 12 and even one of the data on the data bus RWBS0, 4, 8, 12 is different due to a malfunction. In that case, the input / output terminals I / O 0, 4,
The data of 8 and 12 are Hi-z, and the expected value is not output, so that the defect can be detected. Also, if all the data becomes the data opposite to the expected value due to a malfunction, the data is output to the input / output terminals I / O 0, 4, 8, 12, but the data is different from the expected value, so a defect is detected. it can.
【0012】通常ライト時は、各入出力端子I/O0〜
15より入力されたデータは各入出力端子に対応したデ
ータ入力回路DI0〜15、データバスRWBS0,
4,8,12を介してライトアンプWA0〜15に伝え
られ、ライトアンプWA0〜15によりメモリセル領域
である各領域0〜15にデータが書き込まれる。At the time of normal write, each input / output terminal I / O0-
The data input from 15 is the data input circuits DI0 to 15 corresponding to the respective input / output terminals, the data bus RWBS0,
The data is transmitted to the write amplifiers WA0 to WA15 through 4, 8 and 12, and the write amplifiers WA0 to WA15 write the data to the areas 0 to 15 which are the memory cell areas.
【0013】ビット圧縮テストモードのライト時は、I
/O0,4,8,12のデータをそれぞれに接続されて
いる全てのデータ入力回路DI0〜15に入力し、各デ
ータ入力回路DI0〜15の出力はデータバスRWBS
0,4,8,12を介してそれぞれに対応するライトア
ンプWA0〜15に入力され、各ライトアンプWA0〜
15により、メモリセル領域である各領域0〜15に、
データが書き込まれる。At the time of writing in the bit compression test mode, I
The data of / O0, 4, 8, 12 is input to all the data input circuits DI0-15 connected to each, and the output of each data input circuit DI0-15 is the data bus RWBS.
The write amplifiers WA0 to WA15 corresponding to the respective write amplifiers WA0 to WA0 are input via 0, 4, 8, and 12, respectively.
15, the areas 0 to 15 which are the memory cell areas,
Data is written.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体記憶装置
において、前述した従来の第一の測定方法を適用したと
き、被測定デバイスの入出力端子数の増加に伴い被測定
デバイス1個当たりに必要なテスタの測定ブロックの数
が増加するため、並列測定数が減少しテスタ1台当たり
の測定効率が低下する。In the conventional semiconductor memory device, when the above-mentioned first conventional measuring method is applied, it is necessary for each device under test as the number of input / output terminals of the device under test increases. Since the number of measurement blocks of various testers increases, the number of parallel measurements decreases and the measurement efficiency per tester decreases.
【0015】また、前述した第二の測定方法を適用した
とき、ビット圧縮テストモードを使用してテスタ1台当
たりの測定効率を向上できるが、図8に示すように冗長
セル置換ブロックへの置換を共通で行う複数の領域群9
の組み合わせとビット圧縮手段によりビット圧縮テスト
モード時に圧縮されるメモリセル領域である各領域0〜
15の組み合わせとが異なっているため、不良ビットを
検出しその不良ビットを含むメモリセルブロックを冗長
のメモリセルブロックに置き換えるための測定(以後、
リダンダンシー測定と呼ぶ)を、ビット圧縮テストモー
ドを使用して行うことが不可能である。When the second measurement method described above is applied, the measurement efficiency per tester can be improved by using the bit compression test mode. However, as shown in FIG. 8, replacement with a redundant cell replacement block is performed. Area group 9
Area and each area 0 which is a memory cell area compressed by the bit compression means in the bit compression test mode.
Since the combination of 15 is different, the measurement for detecting the defective bit and replacing the memory cell block including the defective bit with the redundant memory cell block (hereinafter,
Redundancy measurement) is not possible using the bit compression test mode.
【0016】さらに、リダンダンシー測定は、ビット圧
縮テストモードを搭載しているデバイスの場合または同
様の動作を行う測定機能をもつテスタを使用して測定す
る場合でも、第一の測定方法を使用しなければならない
ため、テスタ1台当たりの並列測定数が減少する。Furthermore, the redundancy measurement must use the first measurement method even in the case of a device equipped with the bit compression test mode or using a tester having a measurement function that performs a similar operation. The number of parallel measurements per tester is reduced because it has to be done.
【0017】したがって、本発明は、これらの技術課題
の少なくとも1つを解決するため、多ビット並列に入出
力する各入出力端子をもつ冗長機能付き半導体記憶装置
および測定回路において、テスタによるリダンダンシー
測定を効率化することを目的とする。Therefore, in order to solve at least one of these technical problems, the present invention, in a semiconductor memory device with a redundant function having each input / output terminal for inputting / outputting in a multi-bit parallel manner and a measuring circuit, measures a redundancy by a tester. The purpose is to improve efficiency.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は、多
ビット並列に入出力する各入出力端子のそれぞれに対応
したメモリセル領域を持ち、これらメモリセル領域を複
数の領域群に分割配置するメモリセルアレイ部を有し、
前記各領域群が、前記メモリセル領域を構成するメモリ
セルブロックを余分にそれぞれ持ち、前記各領域群内の
不良ビット部とそれぞれ置換する冗長セル置換ブロック
とする冗長機能を有する半導体記憶装置において、前記
各領域群ごとに、同一領域群内の前記各メモリセル領域
からの出力に対応した出力データを入力し、前記出力デ
ータのビット数よりも少ないビット数にビット圧縮し、
前記入出力端子に出力するビット圧縮手段をそれぞれ備
えている。Therefore, the present invention has a memory cell area corresponding to each input / output terminal for inputting / outputting in multiple bits in parallel, and these memory cell areas are divided and arranged into a plurality of area groups. Having a memory cell array section,
In the semiconductor memory device having a redundancy function, each of the area groups has an extra memory cell block that constitutes the memory cell area, and a redundant cell replacement block that replaces a defective bit portion in each of the area groups, For each area group, input output data corresponding to the output from each memory cell area in the same area group, and bit compression to a bit number less than the bit number of the output data,
Each is provided with a bit compression means for outputting to the input / output terminal.
【0019】また、本発明は、多ビット並列に入出力す
る各入出力端子のそれぞれに対応したメモリセル領域を
持ち、これらメモリセル領域を複数の領域群に分割配置
するメモリセルアレイ部を有し、前記各領域群が、前記
メモリセル領域を構成するメモリセルブロックを余分に
それぞれ持ち、前記各領域群内の不良ビット部とそれぞ
れ置換する冗長セル置換ブロックとする冗長機能を有す
る半導体記憶装置の測定回路において、前記各領域群ご
とに、同一領域群内の前記各メモリセル領域に対応した
前記入出力端子からの出力データを入力し、前記出力デ
ータのビット数よりも少ないビット数にビット圧縮し、
測定装置に出力するビット圧縮手段をそれぞれ備えてい
る。Further, the present invention has a memory cell array section having memory cell areas corresponding to the respective input / output terminals for inputting / outputting in multi-bits in parallel and dividing and arranging these memory cell areas into a plurality of area groups. , A semiconductor memory device having a redundant function in which each area group has an extra memory cell block forming the memory cell area and is a redundant cell replacement block for replacing a defective bit part in each area group. In the measurement circuit, output data from the input / output terminals corresponding to the memory cell areas in the same area group is input to each of the area groups, and bit compression is performed to a bit number smaller than the bit number of the output data. Then
Each is provided with a bit compression means for outputting to the measuring device.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。図1は、本発明の半導体記憶装置の実施
形態1を示す部分ブロック図である。図8を参照する
と、この半導体記憶装置は、図8の従来の半導体記憶装
置と同様、16ビットI/Oのデバイス15であり、こ
のデバイス15そのものは、左右とも同一構成である
が、図示の都合上、右側部分を省略している。しかし、
以下の説明において、右側部分のブロックを含めて説明
する。Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a partial block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device of the present invention. Referring to FIG. 8, this semiconductor memory device is a 16-bit I / O device 15 like the conventional semiconductor memory device of FIG. 8, and although the device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, For convenience, the right part is omitted. But,
In the following description, the block on the right side is also included.
【0021】メモリセルアレイ部10は、メモリセル領
域である各領域0〜15で構成され、領域0・1・8・
9,領域10・11・2・3,領域4・5・12・1
3,領域14・15・6・7の4通り組み合わせの領域
群9に分割配置されている。これら各領域群9内に不良
ビット部があるとき、同一の領域群内の冗長セル置換ブ
ロック11,12,‥,とそれぞれ置換される。各領域
0〜15はそれぞれに対応するリードアンプDA0〜1
5およびライトアンプWA0〜15とを介して、それぞ
れに対応するデータバスRWBS0〜15に接続されて
いる。これらデータバスRWBS0〜15は、それぞれ
に対応する出力コントロール回路DO0〜15,データ
入力回路DI0〜15と接続されている。出力コントロ
ール回路DO0〜15の出力は、さらに、入出力端子I
/O0〜15の駆動手段であるデータ出力回路DB0〜
15にそれぞれ接続され、入出力端子I/O0〜15を
駆動しデータ出力するかHi−Z状態にする制御をそれ
ぞれ行う。The memory cell array section 10 is composed of areas 0 to 15 which are memory cell areas, and areas 0, 1, 8 ,.
9, area 10/11/2/3, area 4/5/12/1
It is divided and arranged in the area group 9 of four combinations of the areas 3, 15, 14, 6 and 7. When there is a defective bit portion in each area group 9, the redundant cell replacement blocks 11, 12, ... In the same area group are respectively replaced. The read amplifiers DA0 to DA1 corresponding to the areas 0 to 15 respectively.
5 and write amplifiers WA0 to 15 and are connected to the corresponding data buses RWBS0 to RWBS15. These data buses RWBS0-15 are connected to the corresponding output control circuits DO0-15 and data input circuits DI0-15. The outputs of the output control circuits DO0 to 15 are further input / output terminals I
/ O0-15 data output circuits DB0-DB0
15 are respectively connected to drive input / output terminals I / O0 to 15 to output data or control to Hi-Z state.
【0022】また、データバスRWBS0〜15は、各
領域群9に対応した組み合わせでそれぞれデータ判定回
路TFF1〜4に入力され、各データ判定回路TFF1
〜4の出力はそれぞれに対応したデータ出力コントロー
ル回路DO0,10,4,14に入力されている。さら
に、ビット圧縮テストモード時に使用する入出力端子I
/O0,10,4,14は、ビット圧縮テストモード時
に圧縮される他の入出力端子I/O1・8・9,11・
2・3,5・12・13,15・6・7に対応したデー
タ入力回路DI1・8・9,11・2・3,5・12・
13,15・6・7にもそれぞれ接続されている。通常
動作とビット圧縮テストモードの切り換えは、TEST
信号13で切り換える。すなわち、このTEST信号1
3により制御されるデータ判定回路TFF1〜4,デー
タ出力コントロール回路DO0〜15,データ入力回路
DI0〜15とデータ出力回路DB0〜15とから、ビ
ット圧縮手段が構成されている。Further, the data buses RWBS0 to RWBS15 are input to the data judging circuits TFF1 to TFF4 in a combination corresponding to each area group 9, respectively, and each data judging circuit TFF1 is inputted.
The outputs of 4 to 4 are input to the corresponding data output control circuits DO0, 10, 4, and 14. Further, the input / output terminal I used in the bit compression test mode
/ O0, 10, 4, 14 are other input / output terminals I / O1, 8, 9, 11, ... Compressed in the bit compression test mode.
Data input circuits DI1, 8, 9, 11, 2, 3, 5, 12, corresponding to 2, 3, 5, 12, 13, 15, 6, 7
It is also connected to 13, 15, 6 and 7, respectively. Switching between normal operation and bit compression test mode is done by TEST
Switching by the signal 13. That is, this TEST signal 1
The data compression circuits TFF1 to TFF4, the data output control circuits DO0 to DO15, the data input circuits DI0 to 15 and the data output circuits DB0 to 15 controlled by 3 form bit compression means.
【0023】通常のリード/ライト動作は、図8の従来
の半導体記憶装置と全く同様である。A normal read / write operation is exactly the same as that of the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
【0024】ビット圧縮テストモードのリード時は、各
領域0〜15から出力されたデータは、各領域0〜15
に対応したリードアンプDA0〜15に入力され、それ
ぞれデータバスRWBS0〜15を介して、前述のよう
に各領域群9ごとの組み合わせで各領域群9に対応した
各データ判定回路TFF1〜4に入力され、以後の動作
は図8の従来の半導体記憶装置と全く同様である。At the time of reading in the bit compression test mode, the data output from the areas 0 to 15 are stored in the areas 0 to 15 respectively.
Are input to the read amplifiers DA0 to 15 corresponding to, and input to the data determination circuits TFF1 to TFF4 corresponding to the respective area groups 9 through the data buses RWBS0 to 15 in a combination for each area group 9 as described above. The subsequent operation is exactly the same as that of the conventional semiconductor memory device of FIG.
【0025】ビット圧縮テストモードのライト時は、ビ
ット圧縮テストモード時に使用する入出力端子I/O
0,10,4,14のデータをビット圧縮テストモード
時に使用しなくなる入出力端子I/O1・8・9,11
・2・3,5・12・13,15・6・7に接続された
データ入力回路DI1・8・9,11・2・3,5・1
2・13,15・6・7にも入力する。以後の動作は通
常と全く同様であり、各データ入力回路DI0〜15の
出力をデータバスRWBS0〜15を介して各ライトア
ンプWA0〜15に入力し、各ライトアンプWA0〜1
5によりビット圧縮の組み合わせと等しい組み合わせと
なっている領域群9ごとに各領域0〜15に同一のデー
タが書き込まれる。When writing in the bit compression test mode, the input / output terminal I / O used in the bit compression test mode
Input / output terminals I / O 1/8/9/11 that do not use the data of 0, 10, 4 and 14 in the bit compression test mode
・ Data input circuits DI1 ・ 8 ・ 9,11 ・ 2 ・ 3,5 ・ 1 connected to 2, 3, 5, 12, 13, 15, 6, and 7
Input also to 2, 13, 15, 6 and 7. The subsequent operation is exactly the same as usual, and the outputs of the respective data input circuits DI0 to 15 are input to the respective write amplifiers WA0 to WA0 to 15 via the data buses RWBS0 to 15 and the respective write amplifiers WA0 to WA1.
5, the same data is written in each of the areas 0 to 15 for each area group 9 having a combination equal to the combination of bit compression.
【0026】以上の動作により、ビット圧縮テストモー
ドを使用した領域群9ごとの単位のリード/ ライト測定
が行える。By the above operation, the read / write measurement can be performed for each area group 9 using the bit compression test mode.
【0027】図2は、本発明の半導体記憶装置の実施形
態2を示す部分ブロック図である。図2を参照すると、
この半導体記憶装置は、図1の実施形態1の半導体記憶
装置と同様に16ビットI/Oのデバイス15である
が、領域群9の構成が前述の実施形態と異なる場合の例
である。このデバイス15そのものは、左右とも同一構
成であるが、図示の都合上、右側部分を省略している。
しかし、以下の説明において、右側部分のブロックを含
めて説明する。FIG. 2 is a partial block diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. Referring to FIG.
This semiconductor memory device is a 16-bit I / O device 15 as in the semiconductor memory device of the first embodiment of FIG. 1, but this is an example in which the configuration of the region group 9 is different from that of the above-described embodiment. The device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, but the right side portion is omitted for convenience of illustration.
However, in the following description, the block on the right side is also included.
【0028】領域群9は、メモリセル領域である領域0
・8,領域1・9,領域2・10,領域3・11,領域
4・12,領域5・13,領域6・14,領域7・15
と8通りの組み合わせの領域群9となっている。したが
って、本実施形態の場合、ビット圧縮テストモード時に
使用する入出力端子は、入出力端子I/O0,9,2,
11,4,13,6,15となり、動作的には実施形態
1と同一である。また、ここで挙げた例では領域群9の
数が8つで、その中に含まれる領域の数が2つである
が、領域群9の数が変化したり、その中に含まれる領域
の数が変化しても、領域群9の構成が図2に示されるよ
うに各領域群の単位となっている場合は同様である。但
し、本発明の回路構成上、ビット圧縮テストモード時に
使用する入出力端子の数と領域群9の数とは等しくなる
ので、領域群9の数が変化した場合は、その数に対応し
てビット圧縮テストモード時に使用する入出力端子の数
も変化する。The area group 9 is an area 0 which is a memory cell area.
* 8, area 1 * 9, area 2 * 10, area 3 * 11, area 4 * 12, area 5 * 13, area 6 * 14, area 7 * 15
The area group 9 is composed of 8 combinations. Therefore, in this embodiment, the input / output terminals used in the bit compression test mode are the input / output terminals I / O 0, 9, 2,
11, 4, 13, 6, and 15, which are operationally the same as in the first embodiment. Further, in the example given here, the number of region groups 9 is eight, and the number of regions included therein is two. However, the number of region groups 9 may change or the number of regions included therein may change. Even if the number changes, the same applies when the structure of the area group 9 is the unit of each area group as shown in FIG. However, because of the circuit configuration of the present invention, the number of input / output terminals used in the bit compression test mode is equal to the number of area groups 9, and therefore, when the number of area groups 9 changes, the number of area groups 9 is changed accordingly. The number of input / output terminals used in the bit compression test mode also changes.
【0029】図3は、本発明の半導体記憶装置の実施形
態3を示す部分ブロック図である。図3を参照すると、
この半導体記憶装置は、図2の実施形態2の半導体記憶
装置と同様に16ビットI/Oのデバイス15である
が、領域群9の構成が前述の実施形態と異なる場合の例
であり、重複説明を省略する。このデバイス15そのも
のは、左右とも同一構成であるが、図示の都合上、右側
部分を省略している。しかし、以下の説明において、右
側部分のブロックを含めて簡単に説明する。FIG. 3 is a partial block diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. Referring to FIG.
This semiconductor memory device is a 16-bit I / O device 15 similarly to the semiconductor memory device of the second embodiment of FIG. 2, but this is an example of the case where the configuration of the region group 9 is different from that of the above-described embodiment, The description is omitted. The device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, but the right side portion is omitted for convenience of illustration. However, in the following description, the block on the right side will be briefly described.
【0030】領域群9は、メモリセル領域である領域0
・1,領域2・3,領域4・5,領域6・7,領域8・
9,領域10・11,領域12・13,領域14・15
と8通りの組み合わせの領域群9となっている。したが
って、本実施形態の場合、ビット圧縮テストモード時に
使用する入出力端子1はI/O0,2,4,6,8,1
0,12,14となり、動作的には前述の実施形態と同
様である。The area group 9 is an area 0 which is a memory cell area.
.1, area 2.3, area 4.5, area 6 and 7, area 8
9, area 10/11, area 12/13, area 14/15
The area group 9 is composed of 8 combinations. Therefore, in this embodiment, the input / output terminals 1 used in the bit compression test mode are I / O 0, 2, 4, 6, 8, 1
0, 12, and 14, which are operationally similar to those of the above-described embodiment.
【0031】図4は、本発明の半導体記憶装置の実施形
態4を示す部分ブロック図である。図4を参照すると、
この半導体記憶装置は、図3の実施形態3の半導体記憶
装置と同様に16ビットI/Oのデバイス15である
が、領域群9の構成が前述の実施形態と異なる場合の例
であり、重複説明を省略する。このデバイス15そのも
のは、左右とも同一構成であるが、図示の都合上、右側
部分を省略している。しかし、以下の説明において、右
側部分のブロックを含めて簡単に説明する。FIG. 4 is a partial block diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. Referring to FIG.
This semiconductor memory device is a 16-bit I / O device 15 like the semiconductor memory device of the third embodiment of FIG. 3, but this is an example of the case where the configuration of the region group 9 is different from that of the above-described embodiment, The description is omitted. The device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, but the right side portion is omitted for convenience of illustration. However, in the following description, the block on the right side will be briefly described.
【0032】領域群9はロウ側とカラム側で異なり、ロ
ウ側の各領域群9に含まれる各領域0〜15の組み合わ
せは、領域0・8,領域1・9,領域2・10,領域3
・11,領域4・12,領域5・13,領域6・4,領
域7・15の8通りの組み合わせであり、カラム側の各
領域群9に含まれる各領域0〜15の組み合わせは、領
域0・1・8・9,領域2・3・10・11,領域4・
5・12・13,領域6・7・14・15の4通りの組
み合わせである。言い換えると、ロウ側の2つの小さな
領域群をカラム側の1つの領域群9の中に含む形となっ
ている。各領域0〜15とデータ判定回路TFF1〜4
の対応は、実施形態2と全く同様であり、動作的にも実
施形態2と全く同様である。カラム側の冗長セル置換ブ
ロック12への置換に関しては、カラム側の各領域群9
中に含まれるロウ側の領域群9のカラム側の不良ビット
を比較して置換を行う。The area group 9 is different on the row side and the column side, and the combinations of the areas 0 to 15 included in the row-side area groups 9 are the areas 0, 8, the areas 1 and 9, the areas 2 and 10, and the areas 2. Three
There are 8 combinations of 11, area 4/12, area 5/13, area 6/4, and area 7/15, and the combinations of areas 0 to 15 included in each area group 9 on the column side are areas. 0 ・ 1 ・ 8 ・ 9, area 2 ・ 3 ・ 10 ・ 11, area 4 ・
There are four combinations of 5/12/13 and areas 6/7/14/15. In other words, the two small area groups on the row side are included in one area group 9 on the column side. Areas 0 to 15 and data judgment circuits TFF1 to TFF4
The correspondence of is completely the same as that of the second embodiment, and the operation is completely the same as that of the second embodiment. Regarding replacement with the redundant cell replacement block 12 on the column side, each area group 9 on the column side is replaced.
The defective bits on the column side of the row-side region group 9 included therein are compared and replaced.
【0033】このようにロウとカラムの領域群9の構成
が異なる場合は、その最小の領域群9の単位で本発明の
回路構成を適用することにより、前述の実施形態と同様
の動作が実現でき、ロウ側またはカラム側の領域群9が
他方の領域群9を内包する構成となっている場合は、い
ずれも同様である。When the row and column region groups 9 have different configurations as described above, the circuit configuration of the present invention is applied in units of the smallest region group 9 to realize the same operation as that of the above-described embodiment. If the row-side or column-side area group 9 includes the other area group 9, the same applies to both cases.
【0034】図5は、本発明の半導体記憶装置の実施形
態4を示す部分ブロック図である。図5を参照すると、
この半導体記憶装置は、図1の実施形態1の半導体記憶
装置と同様に16ビットI/Oのデバイス15である
が、領域群9の構成が前述の実施形態と異なる場合の例
であり、重複説明を省略する。このデバイス15そのも
のは、左右とも同一構成であるが、図示の都合上、右側
部分を省略している。しかし、以下の説明において、右
側部分のブロックを含めて簡単に説明する。FIG. 5 is a partial block diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. Referring to FIG.
This semiconductor memory device is a 16-bit I / O device 15 like the semiconductor memory device of the first embodiment of FIG. 1, but this is an example of the case where the configuration of the region group 9 is different from that of the above-described embodiment, The description is omitted. The device 15 itself has the same configuration on the left and right sides, but the right side portion is omitted for convenience of illustration. However, in the following description, the block on the right side will be briefly described.
【0035】領域群9は、メモリセル領域である領域0
・8・2・10,領域1・9・3・11,領域4・12
・6・14,領域5・13・7・15と,各領域が離さ
れて配置された2つの小さな領域群の組み合わせで4通
りの組み合わせとなっており、その他の回路構成および
回路動作は実施形態1と全く同様である。このように、
領域群9を構成するメモリセル領域8を離して配置した
場合でも全く同様である。The area group 9 is an area 0 which is a memory cell area.
・ 8 ・ 2 ・ 10, area 1 ・ 9 ・ 3 ・ 11, area 4 ・ 12
・ There are 4 combinations of 6/14, areas 5 ・ 13 ・ 7 ・ 15 and two small area groups with each area separated, and other circuit configurations and circuit operations are performed. This is exactly the same as the form 1. in this way,
The same is true when the memory cell regions 8 forming the region group 9 are arranged apart from each other.
【0036】図6は、本発明の測定回路を実施形態6と
して示すブロック図である。図6を参照すると、本実施
形態の測定回路は、16ビットI/Oのデバイス15,
データ判定回路TFF1〜4,ドライバ/コンパレータ
であるD/C〜とから構成されている。FIG. 6 is a block diagram showing a measuring circuit of the present invention as a sixth embodiment. Referring to FIG. 6, the measurement circuit according to the present embodiment has a 16-bit I / O device 15,
The data determination circuits TFF1 to TFF4 and the drivers / comparators D / C to D / C are included.
【0037】16ビットI/Oのデバイス15は、被測
定デバイスであり、図1の実施形態1の半導体記憶装置
と同様の領域群9の構成をもつ。すなわち、デバイス1
5の入出力端子I/O0・1・8・9,入出力端子I/
O2・3・10・11,入出力端子I/O4・5・12
・13,入出力端子I/O6・7・14・15の組み合
わせに対応した各領域0〜15の組み合わせで分割配置
された領域群9をもつものとする。しかし、図1の実施
形態1の半導体記憶装置におけるビット圧縮手段を備え
ていないか、または、備えてはいるが使用しないものと
する。The 16-bit I / O device 15 is a device under test, and has the same group of regions 9 as the semiconductor memory device of the first embodiment shown in FIG. That is, device 1
5 I / O terminals I / O 0, 1, 8, 9, I / O terminals I / O
O2 ・ 3 ・ 10 ・ 11, I / O terminal I / O4 ・ 5 ・ 12
13 and the area group 9 divided and arranged in the combinations of the areas 0 to 15 corresponding to the combination of the input / output terminals I / O 6, 7, 14, and 15. However, it is assumed that the semiconductor memory device of the first embodiment shown in FIG. 1 does not have the bit compression means, or has the bit compression means but does not use it.
【0038】データ判定回路TFF1〜4は、16ビッ
トI/Oのデバイス15の各領域群のそれぞれに対応し
たビット圧縮手段である。リード時は、デバイス15の
入出力端子I/Oに出力されたデータを入力とし、図1
の実施形態1におけるデータ判定回路TFF1〜4と同
様の動作を行い、それぞれに接続された測定装置の測定
ブロック内D/C〜に判定結果を出力する。また、
ライト時は、測定装置の測定ブロック内D/C〜か
ら入力されたデータをそれぞれに接続されたデバイス1
5の入出力端子I/O0〜15に出力する。The data determination circuits TFF1 to TFF4 are bit compression means corresponding to each area group of the device 15 of 16-bit I / O. At the time of reading, the data output to the input / output terminal I / O of the device 15 is input and
The same operation as the data determination circuits TFF1 to TFF4 in the first embodiment is performed, and the determination result is output to the D / C to in the measurement block of the measurement device connected to each. Also,
At the time of writing, the device 1 connected to the data input from the D / C to
5 to the input / output terminals I / O0-15.
【0039】ドライバ/コンパレータであるD/C〜
は、測定装置の測定ブロック内ドライバ/コンパレー
タである。測定装置内のピン・エレクトロニクス・カー
ドに搭載されているが、ここでは、その詳細説明を省略
する。Driver / comparator D / C ~
Is a driver / comparator in the measuring block of the measuring device. Although it is mounted on the pin electronics card in the measuring device, its detailed description is omitted here.
【0040】以上の本実施形態の測定回路の構成によ
り、ビット圧縮テストモードを内蔵していない多ビット
デバイスでも、ビット圧縮テストモードの測定を多ビッ
トデバイスの外部で実現でき、ビット圧縮テストモード
を利用してリダンダンシー測定を行うことができる。With the configuration of the measurement circuit of the present embodiment described above, even in a multi-bit device that does not have a built-in bit compression test mode, the measurement of the bit compression test mode can be realized outside the multi-bit device, and the bit compression test mode can be set. It can be used to perform redundancy measurements.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明したように、本発明による半導
体記憶装置および測定回路は、ビット圧縮テストモード
時にビット圧縮を行うメモリセル領域の組み合わせと、
冗長セルに共通で置換を行う領域群内のメモリセル領域
の組み合わせと、を等しくしたことにより、ビット圧縮
テストモードを使用したリダンダンシー測定が可能とな
る。As described above, the semiconductor memory device and the measuring circuit according to the present invention include a combination of memory cell areas for bit compression in the bit compression test mode.
The redundancy measurement using the bit compression test mode becomes possible by making the combination of the memory cell areas in the area group which is common to the redundant cells and which is to be replaced, equal.
【0042】そのため、ビット圧縮テストモードで利用
可能な並列測定数を減少させること無く、効率的に、リ
ダンダンシー測定を行うことが出来るなどの効果があ
る。Therefore, there is an effect that the redundancy measurement can be efficiently performed without reducing the number of parallel measurements available in the bit compression test mode.
【図1】本発明の半導体記憶装置の実施形態1を示す部
分ブロック図である。FIG. 1 is a partial block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device of the present invention.
【図2】本発明の半導体記憶装置の実施形態2を示す部
分ブロック図である。FIG. 2 is a partial block diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
【図3】本発明の半導体記憶装置の実施形態3を示す部
分ブロック図である。FIG. 3 is a partial block diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
【図4】本発明の半導体記憶装置の実施形態4を示す部
分ブロック図である。FIG. 4 is a partial block diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
【図5】本発明の半導体記憶装置の実施形態5を示す部
分ブロック図である。FIG. 5 is a partial block diagram showing a fifth embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
【図6】本発明の測定回路を実施形態6として示すブロ
ック図である。FIG. 6 is a block diagram showing a measurement circuit of the present invention as a sixth embodiment.
【図7】従来の半導体記憶装置の測定回路を例示する説
明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a measurement circuit of a conventional semiconductor memory device.
【図8】従来の半導体記憶装置の内部構成例を示す部分
ブロック図である。FIG. 8 is a partial block diagram showing an example of the internal configuration of a conventional semiconductor memory device.
9 領域群 10 メモリセルアレイ部 11 ロウ側の冗長セル置換ブロック 12 カラム側の冗長セル置換ブロック 13 TEST信号 14 8ビットI/Oのデバイス 15 16ビットI/Oのデバイス 16 32ビットI/Oのデバイス 17 テスタの測定ブロック1 18 テスタの測定ブロック2 19 テスタの測定ブロック3 20 テスタの測定ブロック4 DA0〜15 リードアンプ DB0〜15 データ出力回路 DI0〜15 データ入力回路 DO0〜15 データ出力コントロール回路 I/O0〜15 入出力端子 TFF1〜4 データ判定回路 WA0〜15 ライトアンプ 領域0〜15 メモリセル領域 9 area group 10 memory cell array section 11 row-side redundant cell replacement block 12 column-side redundant cell replacement block 13 TEST signal 14 8-bit I / O device 15 16-bit I / O device 16 32-bit I / O device 17 Tester measurement block 1 18 Tester measurement block 2 19 Tester measurement block 3 20 Tester measurement block 4 DA0-15 Read amplifier DB0-15 Data output circuit DI0-15 Data input circuit DO0-15 Data output control circuit I / O0-15 I / O terminals TFF1-4 data judgment circuit WA0-15 write amplifier area 0-15 memory cell area
Claims (2)
のそれぞれに対応したメモリセル領域を持ち、これらメ
モリセル領域を複数の領域群に分割配置するメモリセル
アレイ部を有し、前記各領域群が、前記メモリセル領域
を構成するメモリセルブロックを余分にそれぞれ持ち、
前記各領域群内の不良ビット部とそれぞれ置換する冗長
セル置換ブロックとする冗長機能を有する半導体記憶装
置において、前記各領域群ごとに、同一領域群内の前記
各メモリセル領域からの出力に対応した出力データを入
力し、前記出力データのビット数よりも少ないビット数
にビット圧縮し、前記入出力端子に出力するビット圧縮
手段をそれぞれ備えることを特徴とする半導体記憶装
置。1. A memory cell array section having memory cell areas respectively corresponding to input / output terminals for inputting / outputting multi-bits in parallel, and dividing and arranging the memory cell areas into a plurality of area groups, each of the areas being provided. The group has an extra memory cell block forming the memory cell area,
In a semiconductor memory device having a redundancy function of a redundant cell replacement block that replaces a defective bit part in each area group, each area group corresponds to an output from each memory cell area in the same area group. The semiconductor memory device further comprises bit compression means for inputting the output data, performing bit compression to a bit number smaller than the bit number of the output data, and outputting the bit data to the input / output terminal.
のそれぞれに対応したメモリセル領域を持ち、これらメ
モリセル領域を複数の領域群に分割配置するメモリセル
アレイ部を有し、前記各領域群が、前記メモリセル領域
を構成するメモリセルブロックを余分にそれぞれ持ち、
前記各領域群内の不良ビット部とそれぞれ置換する冗長
セル置換ブロックとする冗長機能を有する半導体記憶装
置の測定回路において、前記各領域群ごとに、同一領域
群内の前記各メモリセル領域に対応した前記入出力端子
からの出力データを入力し、前記出力データのビット数
よりも少ないビット数にビット圧縮し、測定装置に出力
するビット圧縮手段をそれぞれ備えることを特徴とする
測定回路。2. A memory cell array section having memory cell areas respectively corresponding to input / output terminals for inputting / outputting multi-bits in parallel, and dividing and arranging the memory cell areas into a plurality of area groups, each of the areas being provided. The group has an extra memory cell block forming the memory cell area,
In a measuring circuit of a semiconductor memory device having a redundancy function, which is a redundant cell replacement block that replaces a defective bit part in each area group, each area group corresponds to each memory cell area in the same area group. The measuring circuit further comprises bit compression means for inputting the output data from the input / output terminal, compressing the data into a bit number smaller than the bit number of the output data, and outputting the bit data to a measuring device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8033864A JPH09231794A (en) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | Semiconductor memory device and measuring circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8033864A JPH09231794A (en) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | Semiconductor memory device and measuring circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09231794A true JPH09231794A (en) | 1997-09-05 |
Family
ID=12398376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8033864A Pending JPH09231794A (en) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | Semiconductor memory device and measuring circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09231794A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6754865B2 (en) | 2000-07-05 | 2004-06-22 | Renesas Technologyy Corp. | Integrated circuit |
KR100694418B1 (en) * | 2004-11-15 | 2007-03-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | Parallel compress test circuit for memory device |
-
1996
- 1996-02-21 JP JP8033864A patent/JPH09231794A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6754865B2 (en) | 2000-07-05 | 2004-06-22 | Renesas Technologyy Corp. | Integrated circuit |
KR100694418B1 (en) * | 2004-11-15 | 2007-03-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | Parallel compress test circuit for memory device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100274478B1 (en) | Integrated semiconductor memory with parallel test device and redundancy method | |
JP3076185B2 (en) | Semiconductor memory device and inspection method thereof | |
US6636998B1 (en) | Semiconductor memory device and parallel bit test method thereof | |
KR930009543B1 (en) | Semiconductor memory device involving built-in test circuit and the testing method | |
KR900004886B1 (en) | Memory testcricuit | |
US20070152700A1 (en) | System and method for testing one or more dies on a semiconductor wafer | |
US7441166B2 (en) | Testing apparatus and testing method | |
JP4481588B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH10223000A (en) | Semiconductor storage device | |
JP3090094B2 (en) | Test circuit | |
JP3648016B2 (en) | Multi-bit test method and circuit for semiconductor memory device | |
US7552368B2 (en) | Systems and methods for simultaneously testing semiconductor memory devices | |
JP2953737B2 (en) | Semiconductor memory having a multi-bit parallel test circuit | |
JPH09231794A (en) | Semiconductor memory device and measuring circuit | |
US20050030822A1 (en) | Apparatus and method for reading out defect information items from an integrated chip | |
WO2008029434A1 (en) | Semiconductor storage device and semiconductor storage device test method | |
JPH08203278A (en) | Semiconductor memory | |
JP2002025298A (en) | Integrated circuit | |
JPH11102598A (en) | Memory failure relief analyzer | |
US6529428B2 (en) | Multi-bit parallel testing for memory devices | |
JPH1116391A (en) | Semiconductor memory circuit | |
KR100506531B1 (en) | Method and circuit for parallel bit test of semiconductor memory device | |
JP2003505816A (en) | A memory array and a memory-based device that can be tested by an error response signaling mode for signaling only one of the error patterns in the form of a compressed response upon detecting a predetermined correspondence between the error patterns. How to test | |
US5781484A (en) | Semiconductor memory device | |
JP2735010B2 (en) | Semiconductor device and test method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981124 |