JPH09231754A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH09231754A
JPH09231754A JP8041945A JP4194596A JPH09231754A JP H09231754 A JPH09231754 A JP H09231754A JP 8041945 A JP8041945 A JP 8041945A JP 4194596 A JP4194596 A JP 4194596A JP H09231754 A JPH09231754 A JP H09231754A
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JP
Japan
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memory
mco
memory cell
memory core
cores
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Application number
JP8041945A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Tanimoto
豪 谷本
Kazuo Taniguchi
一雄 谷口
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH09231754A publication Critical patent/JPH09231754A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To keep constant the boosted voltage of a boosting circuit independently of the capacity of memory and easily change the capacity of memory depending on the application. SOLUTION: The memory device is composed of a plurality of memory cores MCO1 ,..., MCO5 , a control circuit 1 used in common by these memory cores, a column decoder 2, a read/write amplifier 3 and a data bus DUBUS. Each memory core is provided with a boosting circuit 10, a row decoder 20, a memory cell array 30 and a sense amplifier array 40, each memory core is arranged in the wiring direction of the data bus DBUS, the control circuit 1 and column data 2 are arranged on the extending line and the memory cell of each memory core is selectively connected the data bus DBUS depending on the memory core selection signal from the control circuit. Therefore, access is made only to the selected memory core and memory capacity can easily be changed depending on application by increasing or decreasing the number of memory cores.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置、
特に記憶容量およびビット構成の設計が容易に変更でき
る半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device in which the design of memory capacity and bit configuration can be easily changed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置の高集積度化に伴い、
ロジック回路とメモリが一つの半導体チップ上に混載す
ることが多くなって来ている。そして、ロジック回路と
混載しているメモリに着目した場合、メモリの容量はあ
る程度最適化されることが望ましく、また、メモリ容量
とビット構成は独立のパラメータを有することが望まし
い。
2. Description of the Related Art In recent years, as semiconductor devices have become more highly integrated,
It is becoming more common to combine a logic circuit and a memory on a single semiconductor chip. When focusing on a memory embedded together with a logic circuit, it is desirable that the memory capacity be optimized to some extent, and that the memory capacity and the bit configuration have independent parameters.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のメモリ
装置の開発においては、ある特定の仕様、たとえば、メ
モリの容量やビット構成などに基づき開発が行われてい
たため、メモリセルアレイを構成する各メモリセルのゲ
ート電極に接続されているワード線のレベルを昇圧する
場合、その昇圧電圧の供給回路は一つの半導体チップ内
に一つしか配置されていない。
However, in the development of the conventional memory device, since the development was carried out on the basis of a certain specific specification, for example, the capacity or bit configuration of the memory, each memory constituting the memory cell array was developed. When boosting the level of the word line connected to the gate electrode of the cell, only one boosted voltage supply circuit is arranged in one semiconductor chip.

【0004】たとえば、DRAMによって構成されたメ
モリ装置においては、ワード線のレベルはハイのデータ
を書き込む場合、電源電圧Vddよりメモリセルを構成す
るトランジスタのしきい値電圧Vth分だけ高い電圧が必
要になる。この高電圧を発生させるために、昇圧回路が
一般的に使用されている。
For example, in a memory device composed of a DRAM, when data of a high word line level is written, a voltage higher than a power supply voltage V dd by a threshold voltage V th of a transistor forming a memory cell is used. You will need it. A booster circuit is generally used to generate this high voltage.

【0005】図5は一般的な昇圧回路の構成を示す回路
図である。図5において、φは昇圧用クロック信号の入
力端子、Vddは電源電圧、GNDは接地電位、INV1
はインバータ、ND0 はノード、NT0 はnMOSトラ
ンジスタ、C1 は昇圧用キャパシタ、C2 はノードND
0 の寄生容量をそれぞれ示している。図示のように、こ
の昇圧回路において、昇圧用クロック信号の入力端子φ
がnMOSトランジスタNT0 のゲート電極に接続さ
れ、さらにインバータINV1を介して、昇圧されるノ
ードND0 に接続されている。また、nMOSトランジ
スタNT0 のドレイン電極が電源電圧Vddの供給線に接
続され、ソース電極がノードND0 に接続されている。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the structure of a general booster circuit. In FIG. 5, φ is the input terminal of the boosting clock signal, V dd is the power supply voltage, GND is the ground potential, INV 1
Is an inverter, ND 0 is a node, NT 0 is an nMOS transistor, C 1 is a boosting capacitor, C 2 is a node ND
Each shows a parasitic capacitance of 0 . As shown, in this booster circuit, the input terminal φ for the boosting clock signal φ
Is connected to the gate electrode of the nMOS transistor NT 0 , and further connected to the node ND 0 to be boosted via the inverter INV 1 . Also, the drain electrode of the nMOS transistor NT 0 is connected to the supply line of the power supply voltage V dd , and the source electrode is connected to the node ND 0 .

【0006】ここで、昇圧回路の昇圧用のキャパシタC
1 の容量をCB とし、昇圧されるノードND0 の寄生容
量をCP とし、図5に示す昇圧回路においては、昇圧用
のキャパシタC1 の容量CB と昇圧されるノードND0
の寄生容量CP との比によって昇圧電圧が決定される。
Here, the boosting capacitor C of the boosting circuit is used.
The capacitance of 1 is C B , the parasitic capacitance of the node ND 0 to be boosted is C P, and in the booster circuit shown in FIG. 5, the capacitance C B of the capacitor C 1 for boosting and the node ND 0 to be boosted are used.
The boosted voltage is determined by the ratio to the parasitic capacitance C P of .

【0007】ここで、入力端子φに、たとえば、電源電
圧Vddと接地電位が相互に印加される場合について考え
る。入力端子φにハイレベルの電圧、すなわち電源電圧
ddが印加された場合、ノードND0 の電圧がVdd−V
thとなる。昇圧用キャパシタC1 がこの電圧によってチ
ャージされる。そして、入力端子φにローレベルの電
圧、すなわち接地電位が印加された場合、インバータI
NV1 の出力端子にハイレベル、たとえば、電源電圧V
ddレベルとなり、昇圧用キャパシタC1 によって、ノー
ドND0 がたたき上げられ、その電圧が、次式によって
表される。
Now, consider the case where, for example, the power supply voltage V dd and the ground potential are mutually applied to the input terminal φ. When a high level voltage, that is, the power supply voltage V dd is applied to the input terminal φ, the voltage of the node ND 0 is V dd −V
It becomes th . The boosting capacitor C 1 is charged by this voltage. When a low level voltage, that is, a ground potential is applied to the input terminal φ, the inverter I
The output terminal of NV 1 is at a high level, for example, the power supply voltage V
The voltage becomes dd level, the node ND 0 is raised by the boosting capacitor C 1 , and the voltage thereof is expressed by the following equation.

【0008】[0008]

【数1】 [Equation 1]

【0009】図6は図5に示す昇圧回路のタイミングチ
ャートを示している。図示のように、入力端子φがハイ
レベル、たとえば、電源電圧Vddレベルに保持されてい
るとき、ノードND0 がVdd−Vthの電圧レベルに保持
される。そして、入力端子φがローレベル、たとえば、
接地電位にレベル変化したとき、ノードND0 が昇圧用
キャパシタC1 によってたたき上げられ、式(1)に示
す電圧レベルに昇圧される。
FIG. 6 shows a timing chart of the booster circuit shown in FIG. As shown, when the input terminal φ is held at a high level, for example, the power supply voltage V dd level, the node ND 0 is held at a voltage level of V dd -V th . Then, the input terminal φ is at a low level, for example,
When the level changes to the ground potential, the node ND 0 is raised by the boosting capacitor C 1 and boosted to the voltage level shown in the equation (1).

【0010】式(1)に示すように、メモリセルアレイ
を構成するメモリセルの数が変化すると、ノードND0
の寄生容量CP も変化し、昇圧電位が変化してしまう。
このため、昇圧電圧が低く、基準値に達せないおそれが
ある。この場合、昇圧されるノードND0 の電圧が低
く、選択されたメモリセルに書き込む電荷の量が少なく
なり、データの書き込みエラーが生じる可能性がある。
一方、昇圧されるノードND0 の電圧が基準値より高い
場合、書き込まれるメモリセルに余分のストレスがかか
り、メモリの信頼性が低下してしまうという問題があ
る。
As shown in equation (1), when the number of memory cells forming the memory cell array changes, the node ND 0
The parasitic capacitance C P also changes and the boosted potential changes.
Therefore, the boosted voltage is low and may not reach the reference value. In this case, the voltage of the node ND 0 to be boosted is low, the amount of charges written in the selected memory cell is small, and a data write error may occur.
On the other hand, when the voltage of the node ND 0 to be boosted is higher than the reference value, extra stress is applied to the memory cell to be written, and the reliability of the memory is deteriorated.

【0011】また、通常各々のメモリコアにおけるデー
タ取り出し線がワード線と平行に配線されているため、
メモリコアの数が増加すると、メモリコアからのデータ
取り出し線の本数も増えてしまうという問題がある。こ
のため、従来では、メモリの容量が異なる毎に再設計を
行う必要がある。
Further, since the data extraction line in each memory core is usually wired in parallel with the word line,
When the number of memory cores increases, the number of data fetch lines from the memory core also increases. Therefore, conventionally, it is necessary to redesign each time the memory capacity is different.

【0012】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、メモリの容量によらず、昇圧回
路の昇圧電圧を一定に保持でき、アプリケーションに応
じて容易にメモリの容量を変更できる半導体記憶装置を
提供することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to keep the boosted voltage of the booster circuit constant regardless of the capacity of the memory, and to easily increase the capacity of the memory according to the application. It is to provide a semiconductor memory device that can be changed.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、少なくともメモリセルアレイと上記メモ
リセルアレイからメモリセルを選択する選択回路により
構成されたメモリコアを複数有する半導体記憶装置であ
って、各メモリコア毎に上記選択回路によって選択され
たメモリセルに所定の電圧を供給する昇圧回路が設けら
れている。
To achieve the above object, the present invention provides a semiconductor memory device having a plurality of memory cores each including at least a memory cell array and a selection circuit for selecting a memory cell from the memory cell array. A booster circuit that supplies a predetermined voltage to the memory cell selected by the selection circuit is provided for each memory core.

【0014】また、本発明では、少なくともメモリセル
アレイと上記メモリセルアレイからメモリセルを選択す
る選択回路により構成されたメモリコアを複数有する半
導体記憶装置であって、上記複数のメモリコアが共通の
データバスに接続されている。
Further, according to the present invention, there is provided a semiconductor memory device having a plurality of memory cores each including at least a memory cell array and a selection circuit for selecting a memory cell from the memory cell array, wherein the plurality of memory cores have a common data bus. It is connected to the.

【0015】本発明によれば、複数のメモリコアによっ
て構成された半導体記憶装置において、各メモリコア毎
に昇圧回路が設けられている。この結果、メモリコアの
個数を任意に増減することによって、半導体記憶装置の
容量をアプリケーションに応じて設定でき、、昇圧回路
による昇圧電圧が所定の電圧値に保持され、記憶容量の
変化による昇圧電圧の変動が防止される。
According to the present invention, in the semiconductor memory device including a plurality of memory cores, the booster circuit is provided for each memory core. As a result, the capacity of the semiconductor memory device can be set according to the application by arbitrarily increasing or decreasing the number of memory cores, the boosted voltage by the booster circuit is maintained at a predetermined voltage value, and the boosted voltage by the change in the storage capacity is increased. Fluctuations are prevented.

【0016】また、本発明によれば、複数のメモリコア
によって構成された半導体記憶装置において、これらの
メモリコアが共通のデータバスを有する。さらに、たと
えば、各メモリコアにおいて選択されたメモリセルと共
通のデータバスとの間に制御信号に応じてオン/オフ状
態が制御されたスイッチング回路を設けることによっ
て、選択されたメモリコアにあるメモリセルのみが共通
のデータバスに接続され、それに対してアクセスが行わ
れる。そして、複数のメモリコアがデータバスの配線方
向に並んで配置され、たとえば、制御回路などの周辺回
路がそれの延長線上に配置することによって、メモリコ
アの個数を調整することによって所定の記憶容量の半導
体記憶装置を構成でき、周辺回路、データバスなどの再
設計が不要となり、アプリケーションに応じて半導体記
憶装置の容量変更が容易に行われる。
Further, according to the present invention, in a semiconductor memory device composed of a plurality of memory cores, these memory cores have a common data bus. Further, for example, by providing a switching circuit whose on / off state is controlled according to a control signal between the selected memory cell and the common data bus in each memory core, the memory in the selected memory core is provided. Only cells are connected to a common data bus and are accessed. A plurality of memory cores are arranged side by side in the wiring direction of the data bus. For example, by arranging a peripheral circuit such as a control circuit on an extension line of the peripheral circuit, by adjusting the number of memory cores, a predetermined storage capacity can be obtained. The semiconductor memory device can be configured, redesign of peripheral circuits, data buses, etc. is not required, and the capacity of the semiconductor memory device can be easily changed according to the application.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る半導体記憶
装置の一実施形態を示すブロック図である。図1におい
て、MCO1 ,MCO2 ,MCO3 ,MCO4 ,MCO
5 はメモリコア、1は制御回路、2はカラムデコーダ、
3は読み出し/書き込み増幅器(R/W Amp.)、
CLはカラム線、DBUSはデータバス、10は昇圧回
路、20はロウデコーダ、30はメモリセルアレイ、4
0はセンスアンプアレイをそれぞれ示している。
1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, MCO 1 , MCO 2 , MCO 3 , MCO 4 , MCO
5 is a memory core, 1 is a control circuit, 2 is a column decoder,
3 is a read / write amplifier (R / W Amp.),
CL is a column line, DBUS is a data bus, 10 is a booster circuit, 20 is a row decoder, 30 is a memory cell array, 4
Reference numeral 0 indicates a sense amplifier array, respectively.

【0018】図1に示すように、たとえば、五つのメモ
リコアMCO1 ,MCO2 ,MCO 3 ,MCO4 ,MC
5 および制御回路1、カラムデコーダ2、読み出し/
書き込み増幅器3によって半導体記憶装置が構成されて
いる。そしてメモリコアMCO1 ,MCO2 ,MC
3 ,MCO4 ,MCO5 が制御回路1、カラムデコー
ダ2、読み出し/書き込み増幅器3およびデータバスD
BUSを共用している。
As shown in FIG. 1, for example, five notes
Recore MCO1, MCOTwo, MCO Three, MCOFour, MC
OFiveAnd control circuit 1, column decoder 2, read /
A semiconductor memory device is configured by the write amplifier 3.
I have. And the memory core MCO1, MCOTwo, MC
OThree, MCOFour, MCOFiveIs control circuit 1, column decoder
2, read / write amplifier 3 and data bus D
We share BUS.

【0019】制御回路1は各メモリコアMCO1 ,MC
2 ,MCO3 ,MCO4 ,MCO 5 のデータの書き込
みおよび読み出し動作を制御する。カラムデータ2は入
力されたカラムアドレスに応じて、所定のカラム線CL
を選択し、アクティブ状態に設定する。読み出し/書き
込み増幅器3が各メモリコアMCO1 ,MCO2 ,MC
3 ,MCO4 ,MCO5 に書き込まれるデータおよび
各メモリコアMCO1,MCO2 ,MCO3 ,MC
4 ,MCO5 から読み出されたデータを増幅する。
The control circuit 1 is used for each memory core MCO.1, MC
OTwo, MCOThree, MCOFour, MCO FiveWriting data
Read and read operations. Column data 2 is input
Predetermined column line CL according to the applied column address
Select and set to the active state. Read / write
Integral amplifier 3 is used for each memory core MCO1, MCOTwo, MC
OThree, MCOFour, MCOFiveData written to and
Each memory core MCO1, MCOTwo, MCOThree, MC
OFour, MCOFiveThe data read from is amplified.

【0020】そして、各メモリコアMCO1 ,MC
2 ,MCO3 ,MCO4 ,MCO5 は昇圧回路10、
ロウデコーダ20、メモリセルアレイ30およびセンス
アンプアレイ40によって構成される。なお、メモリコ
アMCO1 ,MCO2 ,MCO3 ,MCO4 ,MCO5
は同様な構成になっているので、図1においてメモリコ
アMCO1 の内部構成のみを示している。
Then, each memory core MCO 1 , MC
O 2 , MCO 3 , MCO 4 , and MCO 5 are booster circuits 10,
It includes a row decoder 20, a memory cell array 30, and a sense amplifier array 40. The memory cores MCO 1 , MCO 2 , MCO 3 , MCO 4 , MCO 5
Have the same configuration, only the internal configuration of the memory core MCO 1 is shown in FIG.

【0021】各メモリコアMCO1 ,MCO2 ,MCO
3 ,MCO4 ,MCO5 は制御回路1からのメモリコア
選択信号によって選択され、選択されたメモリコアにお
いて、共用のカラムデコーダおよび各メモリコアにある
ロウデコーダによって、メモリセルアレイ30から所定
のメモリセルが選択され、それに対してアクセスが行わ
れる。すなわち、共用データバスを介して、選択された
メモリセルに対して、外部回路から入力されたデータが
書き込まれ、また選択されたメモリセルに記憶されたデ
ータが外部回路に読み出される。
Each memory core MCO 1 , MCO 2 , MCO
3 , MCO 4 and MCO 5 are selected by the memory core selection signal from the control circuit 1, and in the selected memory core, a common column decoder and a row decoder in each memory core are used to select a predetermined memory cell from the memory cell array 30. Is selected and is accessed. That is, the data input from the external circuit is written to the selected memory cell via the shared data bus, and the data stored in the selected memory cell is read to the external circuit.

【0022】図2はメモリコアMCOn ,MCOn+1
構成を示す回路図である。図2において、10は昇圧回
路、20はロウデコーダ、30はメモリセルアレイ、4
0はセンスアンプアレイ、WL0 ,WL1 はワード線、
BL0 ,/BL0,BL1 ,/BL1 ,…,BL3 ,/
BL3 はビット線、CL0 ,CL1 はカラム線、D
0 ,/DB0 ,DB1 ,/DB1 はデータバスDBU
Sを構成する各データ線、SN,SPはセンスアンプの
電圧入力端子、m0 ,m1 はメモリコア選択信号入力端
子、MC00,MC10,MC01,MC11,…,MC03,M
13はメモリセルアレイ30を構成する各メモリセル、
SA0 ,SA1 ,…,SA3 はセンスアンプアレイ40
を構成する各センスアンプ、SWm はメモリコア選択信
号入力端子m0 ,m1 に入力されたメモリコア選択信号
によって制御されたスイッチング回路、SWc はカラム
線CL0 ,CL1 に入力された信号によって制御された
スイッチング回路をそれぞれ示している。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of the memory cores MCO n and MCO n + 1 . In FIG. 2, 10 is a booster circuit, 20 is a row decoder, 30 is a memory cell array, 4
0 is a sense amplifier array, WL 0 and WL 1 are word lines,
BL 0 , / BL 0 , BL 1 , / BL 1 , ..., BL 3 , /
BL 3 is a bit line, CL 0 and CL 1 are column lines, D
B 0 , / DB 0 , DB 1 , / DB 1 are data buses DBU
Each data line constituting S, SN, SP are voltage input terminals of the sense amplifier, m 0 , m 1 are memory core selection signal input terminals, MC 00 , MC 10 , MC 01 , MC 11 , ..., MC 03 , M
C 13 is each memory cell forming the memory cell array 30,
SA 0 , SA 1 , ..., SA 3 are sense amplifier arrays 40.
, SW m is a switching circuit controlled by the memory core selection signal input to the memory core selection signal input terminals m 0 and m 1 , and SW c is input to the column lines CL 0 and CL 1 . The respective switching circuits controlled by signals are shown.

【0023】なお、メモリコアMCOn とメモリコアM
COn+1 とは同様な構成であるが、図2においては、メ
モリコアMCOn+1 の昇圧回路10、ロウデコーダ20
が省略され、さらにメモリセルアレイ30aおよびセン
スアンプアレイ40aの内部構成についても省略されて
いる。
The memory core MCO n and the memory core M
Although it has the same configuration as CO n + 1 , in FIG. 2, the booster circuit 10 and the row decoder 20 of the memory core MCO n + 1 are shown.
Are omitted, and the internal configurations of the memory cell array 30a and the sense amplifier array 40a are also omitted.

【0024】図示のように、各メモリセルアレイ30が
行列状態配置されたメモリセルMC 00,MC10,M
01,MC11,…,MC03,MC13によって構成され、
メモリセルの各列がそれぞれワード線WL0 WL1 に接
続され、メモリセルの各行がそれぞれビット線BL0
/BL0 ,BL1 ,/BL1 ,…,BL3 ,/BL3
接続されている。そして、これらのビット線BL0 ,/
BL0 ,BL1 ,/BL1,…,BL3 ,/BL3 がセ
ンスアンプSA0 ,SA1 ,…,SA3 を介してスイッ
チング回路SWm ,SWC を介してデータバスDBUS
の各データ線DB0,/DB0 ,DB1 ,/DB1 に接
続されている。
As shown, each memory cell array 30
Memory cells MC arranged in matrix 00, MCTen, M
C01, MC11, ..., MC03, MC13Composed by
Each column of memory cells has a word line WL0WL1Contact
Each memory cell row is connected to the bit line BL.0,
/ BL0, BL1, / BL1,…, BLThree, / BLThreeTo
It is connected. And these bit lines BL0, /
BL0, BL1, / BL1,…, BLThree, / BLThreeIs
Sense amplifier SA0, SA1,,, SAThreeThrough the
Ching circuit SWm, SWCVia the data bus DBUS
Each data line DB0, / DB0, DB1, / DB1Contact
Has been continued.

【0025】スイッチング回路SWm は、たとえば、複
数のnMOSトランジスタによって構成され、各nMO
Sトランジスタのゲート電極がメモリコア選択信号入力
端子m0 ,m1 にそれぞれ接続されている。スイッチン
グ回路SWC は、たとえば、複数のnMOSトランジス
タによって構成され、各nMOSトランジスタのゲート
電極がカラム線CL0 ,CL1 にそれぞれ接続されてい
る。さらに、スイッチング回路SWm ,SWC を構成す
る各nMOSトランジスタが、それぞれセンスアンプS
0 ,SA1 ,…,SA3 とデータバスDBUSを構成
する各データ線DB0 ,/DB0 ,DB1 ,/DB1
の間に直列に接続されている。
The switching circuit SW m is composed of, for example, a plurality of nMOS transistors, and each nMO is provided.
The gate electrodes of the S transistors are connected to the memory core selection signal input terminals m 0 and m 1 , respectively. The switching circuit SW C is composed of, for example, a plurality of nMOS transistors, and the gate electrodes of the nMOS transistors are connected to the column lines CL 0 and CL 1 , respectively. Further, the nMOS transistors forming the switching circuits SW m and SW C are respectively connected to the sense amplifier S
A 0, SA 1, ..., SA 3 and the data the data lines DB 0 that comprise bus DBUS, / DB 0, DB 1 , / are connected in series between the DB 1.

【0026】以下、上記の構成において、本実施形態に
おける半導体記憶装置の動作について説明する。ここ
で、たとえば、メモリコアMCOn が選択され、その中
にあるメモリセルに対してデータの書き込みおよび読み
出し動作が行われる。メモリコアMCOn が選択された
場合、図1に示す制御回路1によって、メモリコアMC
n のメモリコア選択信号入力端子m0 にアクティブな
選択信号、たとえば、ハイレベルのメモリコア選択信号
が入力される。このため、スイッチング回路SWm を構
成する各nMOSトランジスタが導通状態に設定され
る。
The operation of the semiconductor memory device according to the present embodiment having the above structure will be described below. Here, for example, the memory core MCO n is selected, and data writing and reading operations are performed with respect to the memory cells therein. When the memory core MCO n is selected, the control circuit 1 shown in FIG.
An active selection signal, for example, a high-level memory core selection signal is input to the memory core selection signal input terminal m 0 of O n . Therefore, each nMOS transistor forming the switching circuit SW m is set to the conductive state.

【0027】そして、図1に示すカラムデコーダ2によ
って、入力されたカラムアドレスに応じて、たとえば、
カラム線CL0 が選択され、アクティブ状態、すなわち
ハイレベル状態に設定される。このため、スイッチング
回路SWC の内、センスアンプSA0 ,SA1 に接続さ
れたnMOSトランジスタが導通状態に設定され、ビッ
ト線BL0 ,/BL0 ,BL1 ,/BL1 が選択された
ビット線となる。
Then, according to the column address input by the column decoder 2 shown in FIG.
The column line CL 0 is selected and set to the active state, that is, the high level state. Therefore, in the switching circuit SW C , the nMOS transistors connected to the sense amplifiers SA 0 and SA 1 are set to the conductive state, and the bit lines BL 0 , / BL 0 , BL 1 and / BL 1 are selected bits. Become a line.

【0028】さらに、メモリコアMCOn において、ロ
ウデコーダ20に入力されたロウアドレスに応じて、た
とえば、ワード線WL0 が選択されたとき、ワード線W
0と選択されたビット線BL0 ,/BL0 ,BL1
/BL1 との交点にあるメモリセルMC00,MC01が選
択される。なお、図2に示すように、メモリコアMCO
n+1 においても、アクティブ状態にあるカラム線CL0
によってスイッチング回路SWC の内、センスアンプS
0 ,SA1 に接続されたnMOSトランジスタが導通
状態に設定されるが、メモリコアMCOn+1 が非選択メ
モリコアのため、メモリコア選択信号入力端子m1に非
アクティブ状態の選択信号、たとえば、ローレベルの選
択信号が入力され、スイッチング回路SWm を構成する
各nMOSトランジスタが非導通状態に設定され、セン
スアンプSA0 ,SA1 に接続されたビット線BL0
/BL0 ,BL1 ,/BL1 が共用されたデータバスD
BUSのデータ線DB0 ,/DB0 ,DB1 ,/DB1
に接続されずに、非選択メモリコアMCOn+1 にあるメ
モリセルに対するアクセスが回避される。このため、各
メモリコアがデータバスを共用することができる。
Further, the memory core MCOnAt
C. Depending on the row address input to the decoder 20,
For example, word line WL0Is selected, the word line W
L0And the selected bit line BL0, / BL0, BL1,
/ BL1Memory cell MC at the intersection with00, MC01Is selected
Selected. As shown in FIG. 2, the memory core MCO
n + 1Also, the column line CL in the active state0
Switching circuit SWCOf which, the sense amplifier S
A 0, SA1NMOS transistor connected to is conductive
Is set to the state, but the memory core MCOn + 1Is a non-selected
Memory core selection signal input terminal m1To non
Active state select signal, for example, low level select signal
Selection signal is input and switching circuit SWmMake up
Each nMOS transistor is set to the non-conducting state,
SAMP SA0, SA1Bit line BL connected to0,
/ BL0, BL1, / BL1Shared data bus D
BUS data line DB0, / DB0, DB1, / DB1
Unselected memory core MCOn + 1In
Access to the memory cell is avoided. Therefore, each
The memory core can share the data bus.

【0029】読み出し動作時に、選択されたメモリコア
MCOn において、選択されたメモリセルMC00,MC
01に記憶されたデータがそれぞれビット線BL0 ,/B
0,BL1 ,/BL1 に読み出され、さらにセンスア
ンプSA0 ,SA1 によって増幅される。スイッチング
回路SWm ,SWC の内、データ線DB0 ,/DB0
DB1 ,/DB1 に接続されたnMOSトランジスタが
導通状態に設定されているため、センスアンプSA0
SA1 によって増幅されたデータがデータ線DB0 ,/
DB0 ,DB1 ,/DB1 に出力される。
At the time of read operation, in the selected memory core MCO n , the selected memory cells MC 00 , MC 00
The data stored in 01 are the bit lines BL 0 and / B, respectively.
It is read by L 0 , BL 1 , / BL 1 and further amplified by the sense amplifiers SA 0 , SA 1 . Of the switching circuits SW m and SW C , the data lines DB 0 , / DB 0 ,
Since the nMOS transistors connected to DB 1 and / DB 1 are set to the conductive state, the sense amplifier SA 0 ,
The data amplified by SA 1 is the data lines DB 0 , /
Output to DB 0 , DB 1 , / DB 1 .

【0030】書き込み動作3に、スイッチング回路SW
m ,SWC の内データ線DB0 ,/DB0 ,DB1 ,/
DB1 に接続されたnMOSトランジスタが導通状態に
設定されているため、データ線DB0 ,/DB0 ,DB
1 ,/DB1 に入力されたデータがそれぞれスイッチン
グ回路SWm ,SWC を介して、センスアンプSA0
SA1 に入力され、センスアンプSA0 ,SA1 によっ
て増幅され、ビット線BL0 ,/BL0 ,BL1 ,/B
1 に出力され、選択されたメモリセルMC00,MC01
に書き込まれる。
In the write operation 3, the switching circuit SW
m , SW C inner data line DB 0 , / DB 0 , DB 1 , /
Since the nMOS transistor connected to DB 1 is set to the conductive state, the data lines DB 0 , / DB 0 , DB
The data input to 1 and / DB 1 are transmitted through the switching circuits SW m and SW C , respectively, to the sense amplifiers SA 0 and
It is input to SA 1 , amplified by the sense amplifiers SA 0 , SA 1 , and then bit lines BL 0 , / BL 0 , BL 1 , / B.
The selected memory cells MC 00 and MC 01 output to L 1
Is written to.

【0031】上述したように、本実施形態の半導体記憶
装置によって、選択されたメモリコアMCOn におい
て、入力されたカラムアドレスおよびロウアドレスに応
じて選択されたメモリセルMC00,MC01に対して、読
み出しまたは書き込み動作が行われ、選択されたメモリ
セルに記憶されたデータが外部回路に読み出され、ま
た、外部回路から入力されたデータが選択されたメモリ
セルに書き込まれる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, in the selected memory core MCO n , the memory cells MC 00 and MC 01 selected according to the input column address and row address are selected. A read or write operation is performed, the data stored in the selected memory cell is read to the external circuit, and the data input from the external circuit is written to the selected memory cell.

【0032】一方、非選択のメモリコアMCOn+1 にお
いて、メモリコア選択信号入力端子m1 に非アクティブ
な選択信号が入力されるため、スイッチング回路SWC
を構成する各nMOSトランジスタが非導通状態に設定
されており、メモリセルアレイを構成する各メモリセル
とデータバスDBUSとが接続されずに、非選択のメモ
リコアMCOn+1 にあるメモリセルに対するアクセスが
防止される。
On the other hand, in the unselected memory core MCO n + 1 , since the inactive selection signal is input to the memory core selection signal input terminal m 1 , the switching circuit SW C
Access to the memory cells in the non-selected memory core MCO n + 1 without connecting each memory cell forming the memory cell array to the data bus DBUS. Is prevented.

【0033】図3は本発明におけるセンスアンプSA0
の構成を示す回路図である。なお、センスアンプS
0 ,SA1 ,SA2 ,SA3 が同様な構成を有するの
で、ここで、センスアンプSA0 を例に説明を行う。図
3において、PT1 ,PT2 はpMOSトランジスタ、
NT1 ,NT2 はnMOSトランジスタ、ND1 ,ND
2 はノード、SN,SPは電圧の入力端子をそれぞれ示
している。なお、電圧入力端子SPには、たとえば、ハ
イレベルの電圧が印加され、電圧入力端子SNには、た
とえば、、ローレベルの電圧がそれぞれ印加されてい
る。
FIG. 3 shows the sense amplifier SA 0 according to the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration of FIG. The sense amplifier S
Since A 0 , SA 1 , SA 2 , and SA 3 have the same configuration, the sense amplifier SA 0 will be described here as an example. In FIG. 3, PT 1 and PT 2 are pMOS transistors,
NT 1 and NT 2 are nMOS transistors, ND 1 and ND
2 is a node, and SN and SP are voltage input terminals, respectively. For example, a high level voltage is applied to the voltage input terminal SP, and a low level voltage is applied to the voltage input terminal SN.

【0034】図示のように、pMOSトランジスタPT
1 とnMOSトランジスタNT1 のゲート電極が接続さ
れ、これらの接続点がノードND2 に接続され、pMO
SトランジスタPT2 とnMOSトランジスタNT2
ゲート電極が接続され、これらの接続点がノードND1
に接続されている。すなわち、pMOSトランジスタP
1 、nMOSトランジスタNT1 およびpMOSトラ
ンジスタPT2 、nMOSトランジスタNT2 のトラン
ジスタペアがそれぞれインバータを構成し、これらのイ
ンバータの入力端子と出力端子が互いに接続されてい
る。また、ビット線BL0 がノードND1 に、ビット線
/BL0 がノードND2 にぞれぞれ接続されている。
As shown, the pMOS transistor PT
1 and the gate electrode of the nMOS transistor NT 1 are connected, and these connection points are connected to the node ND 2.
The gate electrodes of the S transistor PT 2 and the nMOS transistor NT 2 are connected, and the connection point between them is the node ND 1
It is connected to the. That is, the pMOS transistor P
The transistor pair of T 1 , nMOS transistor NT 1 and pMOS transistor PT 2 , nMOS transistor NT 2 respectively constitutes an inverter, and the input terminal and output terminal of these inverters are connected to each other. Further, the bit line BL 0 is connected to the node ND 1 and the bit line / BL 0 is connected to the node ND 2 .

【0035】データの読み出し時および書き込み時に、
ビット線BL0 ,/BL0 に常に相反するレベルの信号
が印加される。たとえば、ビット線BL0 にハイレベル
の信号が印加された場合、ビット線/BL0 にかならず
ローレベルの信号が印加される。
At the time of reading and writing data,
Signals of mutually opposite levels are applied to the bit lines BL 0 and / BL 0 . For example, if a high level signal is applied to the bit lines BL 0, signal always low level to the bit line / BL 0 is applied.

【0036】ビット線BL0 ,/BL0 がこのような状
態において、nMOSトランジスタNT2 が導通状態に
あり、入力端子SNに印加されたローレベルの電位がノ
ードND2 およびビット線/BL0 に出力される。これ
によって、pMOSトランジスタPT1 が導通状態にあ
り、電圧入力端子SPに印加されたハイレベルの電圧が
ノードND1 およびビット線BL0 に出力される。な
お、nMOSトランジスタNT1 およびpMOSトラン
ジスタPT2 が非導通状態に保持される。
In such a state of the bit lines BL 0 and / BL 0 , the nMOS transistor NT 2 is in a conductive state, and the low level potential applied to the input terminal SN is applied to the node ND 2 and the bit line / BL 0 . Is output. As a result, the pMOS transistor PT 1 is in the conductive state, and the high level voltage applied to the voltage input terminal SP is output to the node ND 1 and the bit line BL 0 . The nMOS transistor NT 1 and the pMOS transistor PT 2 are held in the non-conducting state.

【0037】また、ビット線BL0 ,/BL0 に入力さ
れた電圧の状態が上記と異なる場合、以上の説明と類似
で、ビット線BL0 に入力端子SNに印加されたローレ
ベルの電圧が入力され、ビット線/BL0 に電圧入力端
子SPに印加されたハイレベルの電圧がそれぞれ入力さ
れる。上述したように、センスアンプSA0 によって、
ビット線BL0 ,/BL0 に印加された電圧がセンスア
ンプSA0 によって、それぞれ電圧入力端子SP,SN
に印加された電圧レベルまで増幅される。
When the states of the voltages input to the bit lines BL 0 and / BL 0 are different from the above, the low level voltage applied to the input terminal SN is applied to the bit line BL 0 in a similar manner to the above description. The high-level voltage that is input and applied to the voltage input terminal SP is input to the bit line / BL 0 . As described above, the sense amplifier SA 0
The voltage applied to the bit lines BL 0 , / BL 0 is applied to the voltage input terminals SP, SN by the sense amplifier SA 0 , respectively.
It is amplified to the voltage level applied to.

【0038】図4は図2に示すメモリコアMCOn の読
み出し時の動作を示すタイミングチャートである。この
タイミングチャートに示すように、読み出し時に、ま
ず、ロウデコーダ20によって、入力されたロウアドレ
スに応じて、たとえば、ワード線WL0 が選択され、ア
クティブ状態、たとえば、ハイレベル状態に設定され
る。これによって、メモリセルMC00が選択され、メモ
リセルMC00に記憶されたデータがビット線BL0 ,/
BL0 に読み出される。
FIG. 4 is a timing chart showing the read operation of the memory core MCO n shown in FIG. As shown in this timing chart, at the time of reading, the row decoder 20 first selects, for example, the word line WL 0 according to the input row address and sets it to the active state, for example, the high level state. As a result, the memory cell MC 00 is selected, and the data stored in the memory cell MC 00 is transferred to the bit lines BL 0 , /.
Read to BL 0 .

【0039】次いで、電圧入力端子SN,SPがアクテ
ィブ状態に設定され、すなわち、電圧入力端子SN,S
Pにそれぞれローレベルとハイレベルの電圧が印加され
ることにより、ビット線BL0 ,/BL0 に読み出され
たデータはセンスアンプSA 0 によって増幅される。そ
の後、制御回路1およびカラムデコーダ2によって、メ
モリコア選択信号およびカラム線CL0 がアクティブ状
態に設定され、すなわち、メモリコア選択信号線入力端
子m0 にハイレベルの選択信号が入力され、さらに、カ
ラム線CL0 にハイレベルの選択信号が入力される。こ
れによって、スイッチング回路SWm ,SWC に所定の
nMOSトランジスタが導通状態に設定され、ビット線
BL0 ,/BL0 とデータ線DB0 ,/DB0 がそれぞ
れ接続され、センスアンプSA0 によって増幅されたデ
ータがそれぞれデータ線DB0 ,/DB0 に出力され
る。
Next, the voltage input terminals SN and SP are activated.
Is set to the active state, that is, the voltage input terminals SN and S
Low level and high level voltages are applied to P respectively.
Bit line BL0, / BL0Read to
Data is sense amplifier SA 0Is amplified by So
After that, by the control circuit 1 and the column decoder 2,
Memory core selection signal and column line CL0Is active
State, that is, the memory core selection signal line input end
Child m0High-level selection signal is input to the
Ram line CL0A high-level selection signal is input to. This
As a result, the switching circuit SWm, SWCGiven
The nMOS transistor is set to the conductive state and the bit line
BL0, / BL0And data line DB0, / DB0Each
Connected to the sense amplifier SA0Amplified by
Data line DB0, / DB0Output to
You.

【0040】なお、このとき、選択されていないメモリ
コア、たとえば、図2に示すメモリコアMCOn+1 にお
いて、メモリコア選択信号入力端子m1 には非アクティ
ブ状態の選択信号、すなわち、ローレベルの信号が入力
されるので、非選択のメモリコアにあるビット線がデー
タバスDBUSに接続されることなく、データの読み出
しが選択されたメモリコアに対してのみ行われる。この
ように、メモリコアの数が任意に設定でき、メモリコア
選択信号によって所定のメモリコアが選択され、データ
バスに介して選択されたメモリコアに対するのみアクセ
スが行われるので、各メモリコアがデータバスを共用す
ることが可能となる。
At this time, in the unselected memory core, for example, the memory core MCO n + 1 shown in FIG. 2, the inactive selection signal, that is, the low level signal is input to the memory core selection signal input terminal m 1. Signal is input, the data is read only to the selected memory core without connecting the bit line in the non-selected memory core to the data bus DBUS. In this way, the number of memory cores can be set arbitrarily, a predetermined memory core is selected by the memory core selection signal, and only the selected memory core is accessed via the data bus. It becomes possible to share the bus.

【0041】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、複数のメモリコアMCO1 ,MCO2 ,…,MCO
5 およびこれらのメモリコアが共用する制御回路1、カ
ラムデコーダ2、読み出し/書き込み増幅器3、データ
バスDBUSなどによって記憶装置が構成され、各メモ
リコアに昇圧回路10、ロウデコーダ20、メモリセル
アレイ30およいセンスアンプアレイ40を設け、各メ
モリコアをデータバスDBUSの配線方向に並んで配置
し、制御回路1、カラムデコーダ2などをその延長線上
に配置し、各メモリコアを制御回路からのメモリコア選
択信号によってオン/オフ状態が制御されているスイッ
チング回路によって選択的にデータバスDBUSに接続
するので、選択したメモリコアに対してのみアクセスが
行われ、かつ、アプリケーションに応じてメモリコアの
数を増減することによって、記憶容量を容易に変更でき
る。
As described above, according to this embodiment, a plurality of memory cores MCO 1 , MCO 2 , ..., MCO are provided.
5 and a control circuit 1, a column decoder 2, a read / write amplifier 3, a data bus DBUS and the like shared by these memory cores constitute a memory device, and each memory core has a booster circuit 10, a row decoder 20, a memory cell array 30 and a memory cell array 30. A good sense amplifier array 40 is provided, each memory core is arranged side by side in the wiring direction of the data bus DBUS, the control circuit 1, the column decoder 2 and the like are arranged on the extension line thereof, and each memory core is arranged from the control circuit. Since the switching circuit whose ON / OFF state is controlled by the selection signal is selectively connected to the data bus DBUS, only the selected memory core is accessed and the number of memory cores is changed according to the application. The storage capacity can be easily changed by increasing or decreasing.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、メモリの容量によらず、昇圧回路の昇
圧電圧を一定に保持でき、アプリケーションに応じて容
易にメモリの容量を変更できる利点がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the boosted voltage of the booster circuit can be held constant regardless of the memory capacity, and the memory capacity can be easily changed according to the application. There are advantages.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態を示
す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】本発明におけるメモリコアの構成を示す回路図
である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a memory core according to the present invention.

【図3】センスアンプの構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a sense amplifier.

【図4】メモリコア読み出し時のタイミングチャートで
ある。
FIG. 4 is a timing chart when reading a memory core.

【図5】昇圧回路の構成を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a booster circuit.

【図6】昇圧回路のタイミングチャートである。FIG. 6 is a timing chart of a booster circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…制御回路、2…カラムデコーダ、3…読み出し/書
き込み増幅器、10…昇圧回路、20…ロウデコーダ、
30…メモリセルアレイ、40…センスアンプアレイ、
MCO1 ,MCO2 ,MCO3 ,MCO4 ,MCO5
メモリコア、WL0 ,WL1 …ワード線、CL,C
0 ,CL1 …カラム線、DBUS…データバス、BL
0 ,/BL0 ,BL1 ,/BL1 ,…,BL3 ,/BL
3 …ビット線、DB0 ,/DB0 ,DB1 ,/DB1
データ線、SN,SP…センスアンプ電圧入力端子、P
1 ,PT2 …pMOSトランジスタ、NT1 ,NT2
…nMOSトランジスタ、ND0 ,ND1 ,ND2 …ノ
ード、φ…昇圧用クロック信号入力端子、INV1 …イ
ンバータ、C1 …昇圧用キャパシタ、C2 …寄生容量、
0 ,m1 …メモリコア選択信号入力端子、MC00,M
10,MC01,MC11,…,MC03,MC13…メモリセ
ル、SA0 ,SA1 ,…,SA3 …センスアンプ、SW
m ,SWc …スイッチング回路、Vdd…電源電圧、GN
D…接地電位
1 ... Control circuit, 2 ... Column decoder, 3 ... Read / write amplifier, 10 ... Booster circuit, 20 ... Row decoder,
30 ... Memory cell array, 40 ... Sense amplifier array,
MCO 1 , MCO 2 , MCO 3 , MCO 4 , MCO 5 ...
Memory core, WL 0 , WL 1 ... Word line, CL, C
L 0 , CL 1 ... Column line, DBUS ... Data bus, BL
0 , / BL 0 , BL 1 , / BL 1 , ..., BL 3 , / BL
3 ... bit line, DB 0 , / DB 0 , DB 1 , / DB 1 ...
Data line, SN, SP ... Sense amplifier voltage input terminal, P
T 1 , PT 2 ... pMOS transistor, NT 1 , NT 2
... nMOS transistor, ND 0 , ND 1 , ND 2 ... node, φ ... boosting clock signal input terminal, INV 1 ... inverter, C 1 ... boosting capacitor, C 2 ... parasitic capacitance,
m 0 , m 1 ... Memory core selection signal input terminal, MC 00 , M
C 10 , MC 01 , MC 11 , ..., MC 03 , MC 13 ... Memory cell, SA 0 , SA 1 , ..., SA 3 ... Sense amplifier, SW
m , SW c ... switching circuit, V dd ... power supply voltage, GN
D ... Ground potential

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともメモリセルアレイと上記メモ
リセルアレイからメモリセルを選択する選択回路により
構成されたメモリコアを複数有する半導体記憶装置であ
って、 各メモリコア毎に上記選択回路によって選択されたメモ
リセルに所定の電圧を供給する昇圧回路が設けられてい
る半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device having a plurality of memory cores configured by at least a memory cell array and a selection circuit for selecting a memory cell from the memory cell array, wherein the memory cell selected by the selection circuit for each memory core. A semiconductor memory device in which a booster circuit for supplying a predetermined voltage is provided.
【請求項2】 上記各メモリコアが並列的に配列され、
かつ、これらのメモリコアを制御する制御回路がこの配
列の延長線上に配置されている請求項1に記載の半導体
記憶装置。
2. The memory cores are arranged in parallel,
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a control circuit for controlling these memory cores is arranged on an extension line of this array.
【請求項3】 少なくともメモリセルアレイと上記メモ
リセルアレイからメモリセルを選択する選択回路により
構成されたメモリコアを複数有する半導体記憶装置であ
って、 上記複数のメモリコアが共通のデータバスに接続されて
いる半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device having a plurality of memory cores each comprising at least a memory cell array and a selection circuit for selecting a memory cell from the memory cell array, wherein the plurality of memory cores are connected to a common data bus. Semiconductor memory device.
【請求項4】 選択信号に応じて上記各メモリコアの各
メモリセルアレイと上記共通のデータバスとを選択的に
接続する接続手段を有する請求項3に記載の半導体記憶
装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising connecting means for selectively connecting each memory cell array of each memory core and the common data bus in response to a selection signal.
【請求項5】 上記各メモリコアが上記共通のデータバ
スの配線方向に配置され、かつ、これらのメモリコアを
制御する制御回路がその延長線上に配置されている請求
項3に記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory according to claim 3, wherein each of the memory cores is arranged in a wiring direction of the common data bus, and a control circuit for controlling these memory cores is arranged on an extension line thereof. apparatus.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6829193B2 (en) 2001-07-11 2004-12-07 Renesas Technology Corp. Power supply control circuit for use in semiconductor storage device

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US6829193B2 (en) 2001-07-11 2004-12-07 Renesas Technology Corp. Power supply control circuit for use in semiconductor storage device

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