JPH09219823A - Contact area sensor - Google Patents

Contact area sensor

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JPH09219823A
JPH09219823A JP8040144A JP4014496A JPH09219823A JP H09219823 A JPH09219823 A JP H09219823A JP 8040144 A JP8040144 A JP 8040144A JP 4014496 A JP4014496 A JP 4014496A JP H09219823 A JPH09219823 A JP H09219823A
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JP
Japan
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operational amplifier
terminal
area sensor
resistor
contact area
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8040144A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Kamiko
充雄 上子
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09219823A publication Critical patent/JPH09219823A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain high definition robust against noise from the outside. SOLUTION: This sensor is provided with a light-receiving voltage generation circuit 4 capable of absorbing all the photoelectric charges outputted onto a signal line. As a photoelectric change is efficiently converted into a signal voltage by this circuit, the sensor becomes robust against the external noise. In addition, plural light-receiving voltage generation circuit 4 and a multiplexer 5 for a high-speed parallel-serial conversion circuit made from crystal silicon are added so as to obtain a two-dimensional image sensor of low noise and the low cost which forms a large screen being the strong point of a two-dimensional image sensor made from amorphous silicon or polisilicon and is provided with a high speed being the strong point of crystal silicon in addition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、平面上の画像情
報を読み込む密着型エリアセンサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact area sensor for reading image information on a plane.

【0002】[0002]

【従来の技術】図25は、従来の密着型エリアセンサの
構成例を示すブロック図である。この図において、TF
Tセンサ部100には、各画素を構成するセンサセルが
2次元マトリクス状に配置されている。各センサセル
は、光を受光すると該受光量に応じた電荷を発生する受
光素子S’xxと、該受光素子に発生した電荷を蓄積する
コンデンサCxxと、該電荷をソースラインSxに読み出
すスイッチング素子TRxxとから構成される。
2. Description of the Related Art FIG. 25 is a block diagram showing a configuration example of a conventional contact area sensor. In this figure, TF
In the T sensor unit 100, sensor cells forming each pixel are arranged in a two-dimensional matrix. Each sensor cell has a light receiving element S'xx that generates an electric charge according to the amount of received light, a capacitor Cxx that stores the electric charge generated in the light receiving element, and a switching element TRxx that reads the electric charge into a source line Sx. Composed of and.

【0003】副走査用シフトレジスタ101は、図25
に示すように、TFTセンサ部100の複数本のゲート
ラインGxの中から1本のゲートラインを順次選択し、
該ゲートラインに接続されたスイッチング素子TRxxを
ON状態にする。また、主走査用シフトレジスタ102
は、TFTセンサ部100の複数本のソースラインSx
のそれぞれに接続されたスイッチング素子TFxの中か
ら1つのスイッチング素子を順次選択し、該スイッチン
グ素子をON状態にする。
The sub-scanning shift register 101 is shown in FIG.
As shown in, one gate line is sequentially selected from the plurality of gate lines Gx of the TFT sensor unit 100,
The switching element TRxx connected to the gate line is turned on. Further, the main scanning shift register 102
Is a plurality of source lines Sx of the TFT sensor unit 100.
One switching element is sequentially selected from the switching elements TFx connected to each of the above, and the switching element is turned on.

【0004】副走査用シフトレジスタ101と主走査用
シフトレジスタ102の上述した動作により、TFTセ
ンサ部100のセンサアレイの中から1つのセンサセル
が順次選択され、該センサセルにおける発生電荷がビデ
オ信号として出力される。
By the above-described operations of the sub-scanning shift register 101 and the main-scanning shift register 102, one sensor cell is sequentially selected from the sensor array of the TFT sensor section 100, and the electric charge generated in the sensor cell is output as a video signal. To be done.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図25に示
す従来の密着型エリアセンサにおいては、一つのセンサ
セルの電荷量Qが選択されてソースラインSxに読み出
されると、信号電圧Eはセンサセルで発生した電圧の1
/100程度に減少する。この理由を下記に説明する。
電荷蓄積用コンデンサの容量をCs、電荷蓄積用コンデ
ンサに発生する電圧をVsとすると、一つのセンサセル
の電荷量Qは次の式で表すことができる。 Q=Cs×Vs この電荷量Qが全てソースラインSxに転送されると、
ソースラインSxの配線容量Cxが、各センサセルの電荷
蓄積用コンデンサCxxの容量の100倍程度にもなるた
め、ソースラインSxに発生する信号電圧Eは次の式で
表すことができる。 E=Q/(Cs×100) 以上より、信号電圧Eは、電荷蓄積用コンデンサの容量
Csおよび電荷蓄積用コンデンサに発生する電圧Vsを用
いて、次の式のように表すことができる。 E=(Cs×Vs)/(Cs×100) したがって、次の式に示す関係が成り立つことが分か
る。 E=Vs/100 すなわち、一つのセンサセルの電荷量Qが選択されて、
ソースラインSxに読み出されると、信号電荷Eは、セ
ンサセルで発生した電圧の1/100程度に減少するこ
ととなる。その結果、従来の密着型エリアセンサでは、
自分自身の駆動パルスの漏れ込みノイズに信号電圧が埋
もれてしまい、S/N比が非常に悪かった。
By the way, in the conventional contact area sensor shown in FIG. 25, when the charge amount Q of one sensor cell is selected and read out to the source line Sx, the signal voltage E is generated in the sensor cell. 1 of the voltage
/ 100 to decrease. The reason for this will be described below.
When the capacitance of the charge storage capacitor is Cs and the voltage generated in the charge storage capacitor is Vs, the charge amount Q of one sensor cell can be expressed by the following equation. Q = Cs × Vs When all the charge amount Q is transferred to the source line Sx,
Since the wiring capacitance Cx of the source line Sx is about 100 times the capacitance of the charge storage capacitor Cxx of each sensor cell, the signal voltage E generated in the source line Sx can be expressed by the following equation. E = Q / (Cs × 100) From the above, the signal voltage E can be expressed by the following equation using the capacitance Cs of the charge storage capacitor and the voltage Vs generated in the charge storage capacitor. E = (Cs × Vs) / (Cs × 100) Therefore, it can be seen that the relationship shown in the following equation holds. E = Vs / 100 That is, the charge amount Q of one sensor cell is selected,
When read to the source line Sx, the signal charge E is reduced to about 1/100 of the voltage generated in the sensor cell. As a result, in the conventional contact area sensor,
The signal voltage was buried in the leak noise of the drive pulse of my own, and the S / N ratio was very bad.

【0006】この発明は、このような背景の下になされ
たもので、高精細化ができ、かつ、外部からのノイズに
強い密着型エリアセンサを提供することを目的とする。
The present invention has been made under such a background, and an object of the present invention is to provide a contact area sensor capable of achieving high definition and strong against external noise.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
X方向とY方向の2次元マトリクス状に配置され、か
つ、受光量に応じた電荷を発生する複数の受光素子と、
前記各受光素子に発生した電荷の放出を制御する放出制
御スイッチング素子と、前記X方向に配列された前記各
放出制御スイッチング素子の電荷放出用端子を共通接続
し、前記電荷の転送経路を形成する複数の信号配線と、
前記Y方向に配列された前記各放出制御スイッチング素
子の制御用端子を共通接続し、前記電荷の転送を制御す
る走査信号の経路を形成する複数の走査配線と、前記複
数の走査配線に順次前記走査信号を供給する走査シフト
レジスタと、前記それぞれの信号配線に対し接続され、
該信号配線上を転送される電荷量に応じた受光電圧を発
生し、かつ、該信号配線を基準電位または前記基準電位
により定まるバイアス電位に保持する複数の受光電圧発
生回路と、各受光電圧発生回路が発生した受光電圧の中
から1つを順次選択し、該選択した受光電圧をビデオ信
号として転送するマルチプレクサとを具備することを特
徴とする。
According to the first aspect of the present invention,
A plurality of light receiving elements that are arranged in a two-dimensional matrix in the X direction and the Y direction and that generate charges according to the amount of received light;
An emission control switching element that controls the emission of charges generated in each light receiving element and a charge emission terminal of each emission control switching element arranged in the X direction are commonly connected to form the charge transfer path. Multiple signal wires,
A plurality of scan wirings that connect the control terminals of the emission control switching elements arranged in the Y direction in common and form a path of a scan signal that controls the transfer of the charges, and the plurality of scan wirings sequentially to the scan wirings. A scan shift register that supplies a scan signal and is connected to each of the signal lines,
A plurality of light receiving voltage generating circuits that generate a light receiving voltage according to the amount of charges transferred on the signal wiring and hold the signal wiring at a reference potential or a bias potential determined by the reference potential, and light receiving voltage generation And a multiplexer for sequentially selecting one of the received light voltages generated by the circuit and transferring the selected received light voltage as a video signal.

【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記受光電圧発生回路はオ
ペアンプを具備し、前記受光電圧は、前記オペアンプの
出力端子から出力される信号であり、前記信号配線が前
記オペアンプの負入力端子に接続されており、前記オペ
アンプの正入力端子は、前記基準電位に設定されてお
り、前記オペアンプの出力端子と負入力端子との間に
は、電荷吸収用コンデンサと、リセットパルスが入力さ
れると該出力端子と負入力端子とを接続するリセット用
スイッチング素子とが並列に接続されていることを特徴
とする。
According to a second aspect of the invention, in the contact area sensor according to the first aspect, the light receiving voltage generating circuit includes an operational amplifier, and the light receiving voltage is a signal output from an output terminal of the operational amplifier. , The signal wiring is connected to the negative input terminal of the operational amplifier, the positive input terminal of the operational amplifier is set to the reference potential, the charge between the output terminal and the negative input terminal of the operational amplifier, An absorption capacitor and a reset switching element that connects the output terminal and the negative input terminal when a reset pulse is input are connected in parallel.

【0009】請求項3記載の発明は、請求項2記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記リセット用スイッチン
グ素子と前記負入力端子とを結ぶ配線上には、第1の抵
抗が形成されており、前記リセット用スイッチング素子
と前記第1の抵抗とを結ぶ配線は、第2の抵抗を介し
て、前記基準電位に設定されていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the contact area sensor according to the second aspect, a first resistor is formed on a wiring connecting the reset switching element and the negative input terminal, A wiring connecting the reset switching element and the first resistor is set to the reference potential via a second resistor.

【0010】請求項4記載の発明は、請求項3記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記オペアンプの出力端子
は、第4の抵抗を介して、前記基準電位に設定されてお
り、前記オペアンプの出力端子と前記第4の抵抗とを結
ぶ配線上には第3の抵抗が形成されており、前記電荷吸
収用コンデンサの端子のうち、前記オペアンプの出力端
子側に接続されている端子は、前記第3の抵抗と前記第
4の抵抗との中点に接続されており、前記リセット用ス
イッチング素子の端子のうち、前記オペアンプの出力端
子側に接続されている端子は、前記出力端子と前記第3
の抵抗とを結ぶ配線上に接続されていることを特徴とす
る。
According to a fourth aspect of the invention, in the contact area sensor according to the third aspect, the output terminal of the operational amplifier is set to the reference potential via a fourth resistor, and the output of the operational amplifier is set. A third resistor is formed on a wire connecting the terminal and the fourth resistor, and among the terminals of the charge absorbing capacitor, the terminal connected to the output terminal side of the operational amplifier is the first resistor. 3 is connected to the midpoint between the fourth resistor and the fourth resistor, and among the terminals of the reset switching element, the terminal connected to the output terminal side of the operational amplifier is the output terminal and the third terminal.
It is characterized in that it is connected on a wiring connecting with the resistance of.

【0011】請求項5記載の発明は、請求項1記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記受光電圧発生回路は第
1のオペアンプおよび第2のオペアンプを具備し、前記
受光電圧は、前記第1のオペアンプの出力端子から出力
される信号であり、前記第1のオペアンプの出力端子と
前記第2のオペアンプの正入力端子とが接続されてお
り、前記信号配線が前記第1のオペアンプの負入力端子
に接続されており、前記第1のオペアンプの正入力端
子、および、前記第2のオペアンプの負入力端子は、前
記基準電位に設定されており、前記第1のオペアンプの
出力端子と該第1のオペアンプの負入力端子との間に
は、電荷吸収用コンデンサが接続されており、前記第2
のオペアンプの出力端子と該第1のオペアンプの負入力
端子との間には、リセットパルスが入力されると該出力
端子と負入力端子とを接続するリセット用スイッチング
素子とが並列に接続されており、前記リセット用スイッ
チング素子と前記第1のオペアンプの負入力端子とを結
ぶ配線上には、第1の抵抗が形成されており、前記リセ
ット用スイッチング素子と前記第1の抵抗とを結ぶ配線
は、第2の抵抗を介して、前記基準電位に設定されてい
ることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the contact area sensor according to the first aspect, the light receiving voltage generating circuit includes a first operational amplifier and a second operational amplifier, and the light receiving voltage is the first operational amplifier. It is a signal output from the output terminal of the operational amplifier, the output terminal of the first operational amplifier is connected to the positive input terminal of the second operational amplifier, and the signal wiring is the negative input terminal of the first operational amplifier. The positive input terminal of the first operational amplifier and the negative input terminal of the second operational amplifier are set to the reference potential, and the output terminal of the first operational amplifier and the first operational amplifier A charge absorbing capacitor is connected between the negative input terminal of the operational amplifier of
When a reset pulse is input, a reset switching element that connects the output terminal and the negative input terminal is connected in parallel between the output terminal of the operational amplifier and the negative input terminal of the first operational amplifier. A first resistor is formed on the wiring connecting the reset switching element and the negative input terminal of the first operational amplifier, and the wiring connecting the reset switching element and the first resistor. Is set to the reference potential via a second resistor.

【0012】請求項6記載の発明は、請求項1記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記受光電圧発生回路はオ
ペアンプを具備し、前記受光電圧は、前記オペアンプの
出力端子から出力される信号であり、前記信号配線が前
記オペアンプの負入力端子に接続されており、前記オペ
アンプの正入力端子は、基準電位に設定されており、前
記オペアンプの出力端子と負入力端子との間には、受光
電圧をフィードバックする抵抗素子が接続されているこ
とを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the contact area sensor according to the first aspect, the light receiving voltage generating circuit includes an operational amplifier, and the light receiving voltage is a signal output from an output terminal of the operational amplifier. , The signal wiring is connected to the negative input terminal of the operational amplifier, the positive input terminal of the operational amplifier is set to a reference potential, and the light receiving voltage is provided between the output terminal and the negative input terminal of the operational amplifier. It is characterized in that a resistance element for feeding back is connected.

【0013】請求項7記載の発明は、請求項1記載の密
着型エリアセンサにおいて、前記受光電圧発生回路はト
ランジスタ素子を具備し、前記トランジスタ素子のゲー
ト端子(またはベース端子)が前記信号配線に接続され
ており、前記トランジスタ素子のソース端子(またはエ
ミッタ端子)が前記基準電位に保持されており、前記ト
ランジスタ素子のドレイン端子とゲート端子との間(ま
たは前記トランジスタ素子のコレクタ端子とベース端子
との間)には、電荷吸収用コンデンサと、リセットパル
スが入力されると、前記トランジスタ素子のドレイン端
子とゲート端子との間(または前記トランジスタ素子の
コレクタ端子とベース端子との間)を接続するリセット
用スイッチング素子とが並列に接続されており、前記信
号配線は前記バイアス電位に保持されていることを特徴
とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the contact area sensor according to the first aspect, the light receiving voltage generating circuit includes a transistor element, and a gate terminal (or a base terminal) of the transistor element is connected to the signal wiring. Connected to each other, the source terminal (or emitter terminal) of the transistor element is held at the reference potential, and the drain terminal and the gate terminal of the transistor element (or the collector terminal and the base terminal of the transistor element). Between the drain and the gate terminal of the transistor element (or between the collector terminal and the base terminal of the transistor element) when the reset pulse is input. The reset switching element is connected in parallel, and the signal wiring is Characterized in that it is held in the ground potential.

【0014】請求項8記載の発明は、請求項1ないし請
求項7のいずれかに記載の密着型エリアセンサにおい
て、前記電荷放出用端子と受光電圧発生回路とを結ぶ信
号配線は、保護抵抗を有することを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the contact area sensor according to any one of the first to seventh aspects, the signal wiring connecting the charge discharging terminal and the received voltage generating circuit has a protective resistance. It is characterized by having.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

§1. 概要 従来技術では、図25に示すように、コストを下げるた
め、センサ基板上にスイッチング素子TFxを多数並べ
て読み出し回路を構成していた。しかし、この図に示す
回路構成では、前記したようにセンサセルの電荷量Qが
選択されてソースラインSxに読み出されると、出力信
号は1/100程度に低下することとなるのに加えて、
上記スイッチング素子TFxをON/OFFするための
パルスが、該スイッチング素子TFxの寄生容量を通じ
て、出力信号に流れ込む。このパルスの漏れ込み量は、
製造時におけるスイッチング素子間のバラツキ(固体
差)のために、該個々のスイッチング素子によって異な
る。このため、固定パターンノイズとして、読み込んだ
画面上において、縦(または横)の筋状の明暗が生じ、
画面品位をかなり落としている。
§1. In the conventional technology, as shown in FIG. 25, in order to reduce the cost, a large number of switching elements TFx are arranged on a sensor substrate to form a read circuit. However, in the circuit configuration shown in this figure, when the charge amount Q of the sensor cell is selected and read to the source line Sx as described above, the output signal is reduced to about 1/100, and
A pulse for turning ON / OFF the switching element TFx flows into the output signal through the parasitic capacitance of the switching element TFx. The leak amount of this pulse is
It varies depending on the individual switching elements due to variations (individual differences) between the switching elements during manufacturing. Therefore, as fixed pattern noise, vertical (or horizontal) stripe-shaped light and dark appear on the read screen,
The screen quality is considerably degraded.

【0016】また、スイッチング素子自体は、アモルフ
ァスシリコンやポリシリコンなどで作られているため、
これらの材料の結晶欠陥が多く、信号電荷が該欠陥にト
ラップされてランダムノイズとなっていた。さらに、ア
モルファスシリコンやポリシリコンで作られたスイッチ
ング素子では、切り替えスピードが遅いため、高速読み
出しを行ううえでこのことが障害となっていた。
Since the switching element itself is made of amorphous silicon or polysilicon,
Many of these materials had crystal defects, and the signal charges were trapped in the defects, resulting in random noise. Further, in a switching element made of amorphous silicon or polysilicon, the switching speed is slow, which has been an obstacle to high-speed reading.

【0017】このため、本発明は、信号配線上に出力さ
れた信号電荷を全て吸い取ることができる回路を提供す
るものである。これにより、信号電荷を効率よく信号電
圧に変換でき、ノイズによる影響を受けにくくなる。ま
た、本発明は、受光電圧発生回路を複数用いることで、
受光電圧を並列に読み出し、さらに、並列−直列変換回
路であるマルチプレクサを用いることで、高速読み出し
を可能とするものである。前記受光素子は、アモルファ
スシリコンやポリシリコンを用いて透光性基板上に作り
込むことが好適である。前記受光電圧発生回路は、単結
晶シリコンを用いて形成することもできるが、アモルフ
ァスシリコンやポリシリコンで透光性基板上に前記受光
素子と同時に作り込むこともできる。前記マルチプレク
サは、高速性が要求されるため、単結晶シリコンを用い
て形成することが好適である。
Therefore, the present invention provides a circuit capable of absorbing all the signal charges output on the signal wiring. As a result, the signal charges can be efficiently converted into the signal voltage and are less likely to be affected by noise. Further, according to the present invention, by using a plurality of light receiving voltage generating circuits,
High-speed reading is possible by reading the received light voltage in parallel and further using a multiplexer which is a parallel-serial conversion circuit. It is preferable that the light receiving element is formed on a transparent substrate using amorphous silicon or polysilicon. The light receiving voltage generating circuit can be formed using single crystal silicon, but can also be formed with amorphous silicon or polysilicon on the light transmitting substrate at the same time as the light receiving element. Since the multiplexer is required to have high speed, it is preferable to use single crystal silicon.

【0018】また、従来の2次元センサでは、スイッチ
ング素子を薄膜トランジスタで作り、光センサ素子にp
−i−n構造のダイオードや硫化カドミウム・セレン
(CdS−Se)などのフォトコンダクティブな材料を用
いている。このため、両者の膜の構造が異なることによ
り、該両者を一括して製膜できず、個別に製膜してい
た。故に、上記2次元センサは、製造工程が2倍かか
り、複雑でコストの高いものとなっていた。このため、
本発明では、光センサ素子を薄膜フォトトランジスタに
して、スイッチング素子をほぼ同一構造とすることによ
り、製造プロセスを簡略化した。
In the conventional two-dimensional sensor, the switching element is made of a thin film transistor, and the optical sensor element is made of p-type.
A photoconductive material such as a diode having an -i-n structure or cadmium selenium sulfide (CdS-Se) is used. Therefore, due to the difference in the structures of the two films, it was not possible to form them both at once, and they were formed individually. Therefore, the two-dimensional sensor requires a double manufacturing process, which is complicated and costly. For this reason,
In the present invention, the optical sensor element is a thin film phototransistor, and the switching elements have substantially the same structure, thereby simplifying the manufacturing process.

【0019】しかし、薄膜フォトトランジスタは、p−
i−n構造のフォトダイオードと比べて、暗電流が多
く、また、信号の読み出しに時間がかかると光電荷の蓄
積時に該暗電流が蓄積され、信号電荷に化けてしまう恐
れがある。これを回避するため、前記の複数の受光電圧
発生回路とマルチプレクサを用いて高速読み出しを行う
ことで、上記問題点を解決した。このように、薄膜フォ
トトランジスタと、複数の受光電圧発生回路とマルチプ
レクサとを組み合わせることにより、上記各種欠点を克
服でき、かつ、安価な2次元イメージセンサを提供する
ことができる。
However, the thin film phototransistor has a p-
Compared with the photodiode having the i-n structure, the dark current is large, and if it takes a long time to read a signal, the dark current is accumulated at the time of accumulating photocharges, which may be converted into signal charges. In order to avoid this, high-speed reading is performed using the plurality of light-receiving voltage generating circuits and the multiplexer, and the above-mentioned problem is solved. As described above, by combining the thin film phototransistor, the plurality of light receiving voltage generating circuits and the multiplexer, it is possible to overcome the above-mentioned various drawbacks and provide an inexpensive two-dimensional image sensor.

【0020】§2. 第1実施形態 以下、図面を参照して、この発明の第1実施形態につい
て説明する。図1は、この発明の第1実施形態による密
着型エリアセンサの構成例を示す回路図である。この図
に示す密着型エリアセンサは、大きく分けて、走査シフ
トレジスタ1と、TFTセンサ部2と、外部駆動回路3
とから構成されている。走査シフトレジスタ1は、複数
のゲートラインGxの中から、順次1本のゲートライン
を選択し、該選択されたゲートラインに走査信号を供給
する。これにより、TFTセンサ部2上のスイッチング
素子(TFT)のうち、上記選択されたゲートラインに
接続されたスイッチング素子はON状態になる。
§2. First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration example of a contact area sensor according to the first embodiment of the present invention. The contact area sensor shown in this figure is roughly divided into a scan shift register 1, a TFT sensor section 2, and an external drive circuit 3.
It is composed of The scanning shift register 1 sequentially selects one gate line from a plurality of gate lines Gx and supplies a scanning signal to the selected gate line. As a result, among the switching elements (TFTs) on the TFT sensor unit 2, the switching element connected to the selected gate line is turned on.

【0021】また、図1に示すTFTセンサ部2上に
は、各画素を構成するセンサセルが2次元マトリクス状
に配置されている。各センサセルは、光を受光すると該
受光量に応じた電荷を発生する受光素子Sxxと、該受光
素子に発生した電荷を蓄積するコンデンサCxxと、該電
荷をソースラインSxに読み出すスイッチング素子TRx
xとから構成される。このうち、先に「§1.概要」で
説明したように、本実施形態による受光素子(図1に示
す受光素子Sxx)は、従来技術による受光素子(図25
に示す受光素子S’xx)とは、構造が異なる。
On the TFT sensor portion 2 shown in FIG. 1, sensor cells forming each pixel are arranged in a two-dimensional matrix. Each sensor cell receives a light and generates a charge corresponding to the amount of the received light, a light receiving element Sxx, a capacitor Cxx for storing the charge generated in the light receiving element, and a switching element TRx for reading the charge to a source line Sx.
It consists of x and. Among them, as described above in “§1. Outline”, the light receiving element according to the present embodiment (light receiving element Sxx shown in FIG. 1) is the light receiving element according to the conventional technique (see FIG. 25).
The structure is different from the light receiving element S'xx) shown in FIG.

【0022】また、図2は、図1に示す密着型エリアセ
ンサにおいて、TFTセンサ部2の電荷放出用端子と受
光電圧発生回路4とを結ぶ信号配線上に、保護抵抗PR
xを挿入した例を示す回路図である。図1と図2は、上
記保護抵抗PRxを除くと、全く同じ回路構成である。
図2において、上記保護抵抗PRxは、ゲートラインと
ソースラインとがショートした場合に、外部駆動回路3
中のオペアンプや該オペアンプの駆動電源を保護するた
めのものである。また、上記保護抵抗PRxの抵抗値
は、トランジスタTRxxがON状態となったときの抵抗
値(すなわち、トランジスタTRxxのON抵抗)よりも
充分小さい値である。本実施形態では、上記保護抵抗P
Rxの抵抗値は、一例として100〔KΩ〕とする。
Further, FIG. 2 shows the contact area sensor shown in FIG. 1 in which the protective resistor PR is provided on the signal wiring connecting the charge discharging terminal of the TFT sensor section 2 and the received voltage generating circuit 4.
It is a circuit diagram which shows the example which inserted x. 1 and 2 have exactly the same circuit configuration except for the protection resistor PRx.
In FIG. 2, the protection resistor PRx is provided in the external drive circuit 3 when the gate line and the source line are short-circuited.
It is for protecting the operational amplifier inside and the drive power supply of the operational amplifier. The resistance value of the protection resistor PRx is sufficiently smaller than the resistance value when the transistor TRxx is in the ON state (that is, the ON resistance of the transistor TRxx). In the present embodiment, the protection resistance P
The resistance value of Rx is, for example, 100 [KΩ].

【0023】次に、このTFTセンサ部2の詳細につい
て説明する。図3は、図1に示すTFTセンサ部2上の
1つのセンサセルの構造を示す平面図であり、図4は、
図3に示すTFTセンサ部2の、同図に示すA−A’に
おける断面図である。TFTセンサ部2は、大きく分け
て、スイッチング素子(SW−TFT:図1に示すTR
xxに対応)と、光電荷蓄積用コンデンサCS(図1に示
すCxxに対応)と、TFTセンサ(受光素子:図1に示
すSxxに対応)と、本TFTセンサ部2の下部に設けら
れた光源(バックライト:図示略)から出力された光が
原稿に向かって入射される窓から構成される。図3の平
面図に示すTFTセンサ1個の大きさは、幅5〔μm〕
×長さ8〔μm〕である。また、図4の断面図におい
て、黒い部分は金属層であり、ドット部分はアモルファ
スシリコン層であり、それ以外の無印の部分は窒化シリ
コンからなる透明絶縁層である。
Next, details of the TFT sensor section 2 will be described. FIG. 3 is a plan view showing the structure of one sensor cell on the TFT sensor unit 2 shown in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the TFT sensor unit 2 shown in FIG. 3, taken along the line AA ′ shown in FIG. The TFT sensor unit 2 is roughly divided into switching elements (SW-TFT: TR shown in FIG.
xx), a photocharge storage capacitor CS (corresponding to Cxx shown in FIG. 1), a TFT sensor (light receiving element: corresponding to Sxx shown in FIG. 1), and a TFT sensor section 2 provided below. It is composed of a window into which light output from a light source (backlight: not shown) is incident on a document. The size of one TFT sensor shown in the plan view of FIG. 3 is 5 [μm] wide.
X Length is 8 [μm]. Further, in the cross-sectional view of FIG. 4, black portions are metal layers, dot portions are amorphous silicon layers, and other unmarked portions are transparent insulating layers made of silicon nitride.

【0024】図5は、図3または図4に示すTFTセン
サを構成する薄膜トランジスタの特性を示すグラフであ
る。この図において、横軸は上記薄膜トランジスタのゲ
ート電圧Vgを示し、縦軸は、同薄膜トランジスタのド
レインとソース間に一定電圧(例えば、12〔V〕)を
加えたときのドレイン電流Idを示している。また、同
図において、太線は、該薄膜トランジスタに1000
〔lux〕の光を当てた場合を示し、細線(Dark)
は、該薄膜トランジスタに光を当てなかった場合を示し
ている。また、本実施形態によるTFTセンサには、バ
ックライトから出力された光が、原稿に反射せずにTF
Tセンサに直接当たるのを防ぐ遮光電極が設けられてい
る。図5に示すVBは、この遮光電極に印加されている
遮光電極電圧である。
FIG. 5 is a graph showing the characteristics of the thin film transistors forming the TFT sensor shown in FIG. 3 or 4. In this figure, the horizontal axis represents the gate voltage Vg of the thin film transistor, and the vertical axis represents the drain current Id when a constant voltage (for example, 12 [V]) is applied between the drain and the source of the thin film transistor. . Further, in the figure, the thick line indicates 1000
Shows the case where [lux] light is applied, and the thin line (Dark)
Shows the case where the thin film transistor was not exposed to light. In addition, in the TFT sensor according to the present embodiment, the light output from the backlight does not reflect on the document and is transmitted to the TF.
A light shielding electrode is provided to prevent the T sensor from directly hitting. VB shown in FIG. 5 is the light-shielding electrode voltage applied to this light-shielding electrode.

【0025】この図から、遮光電極電圧VBが十分な値
である場合(この図に示す例では、遮光電極電圧VB=
10〔V〕の場合)、ゲート電圧Vgが負の領域におい
て、薄膜トランジスタに光が当たっている場合と当たっ
ていない場合とでは、ドレイン電流Idの値が大きく異
なることがわかる。すなわち、上記薄膜トランジスタ
は、そのゲート電圧Vgが負の領域において、光に対す
る感度が高いことがわかる。
From this figure, when the light-shielding electrode voltage VB has a sufficient value (in the example shown in this figure, the light-shielding electrode voltage VB =
In the case where the gate voltage Vg is negative, the value of the drain current Id is significantly different between the case where light is applied to the thin film transistor and the case where light is not applied thereto in the region where the gate voltage Vg is negative. That is, it is understood that the thin film transistor has high sensitivity to light in the region where the gate voltage Vg is negative.

【0026】また、図1に示す外部駆動回路3は、複数
個の受光電圧発生回路4と、1つのマルチプレクサ5と
から構成される。マルチプレクサ5は、上記複数個の受
光電圧発生回路4の出力信号の中から1つの出力信号を
選択し、該選択した出力信号をビデオ信号として出力す
る。
The external drive circuit 3 shown in FIG. 1 comprises a plurality of received light voltage generation circuits 4 and one multiplexer 5. The multiplexer 5 selects one output signal from the output signals of the plurality of received light voltage generation circuits 4 and outputs the selected output signal as a video signal.

【0027】図6は、図1に示す受光電圧発生回路4の
回路図である。この図に示すように、オペアンプOPの
負入力端子には、TFTセンサ部2のソースラインが接
続されている。オペアンプOPの正入力端子は、基準電
位(0〔V〕)に接続されている。オペアンプOPの出
力端子と負入力端子との間には、電荷吸収用コンデンサ
COとリセット用スイッチング素子(トランジスタTr)
とが並列に接続されている。
FIG. 6 is a circuit diagram of the received light voltage generation circuit 4 shown in FIG. As shown in this figure, the source line of the TFT sensor unit 2 is connected to the negative input terminal of the operational amplifier OP. The positive input terminal of the operational amplifier OP is connected to the reference potential (0 [V]). A charge absorbing capacitor CO and a reset switching element (transistor Tr) are provided between the output terminal and the negative input terminal of the operational amplifier OP.
And are connected in parallel.

【0028】次に、上記構成による密着型エリアセンサ
の動作を説明する。図7は、本実施形態による密着型エ
リアセンサの動作原理を示す説明図である。なお、この
図では、説明を簡単にするために、TFTセンサ部2上
の1個のセンサセルと、該センサセルに接続された受光
電圧発生回路4とを取り出して図示してある。また、こ
の図に示すTFTセンサのゲート電極は−15〔V〕に
固定接続されているので、TFTセンサが受光していな
いときには、該TFTセンサはOFF状態(ソース・ド
レイン間が高抵抗状態)である。また、この図におい
て、オペアンプの正入力端子がGNDに接続されている
(0〔V〕)ので、負入力端子(ソースライン)の電位
も0〔V〕となる。
Next, the operation of the contact area sensor having the above structure will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram showing the operating principle of the contact area sensor according to the present embodiment. In addition, in this figure, for simplification of description, one sensor cell on the TFT sensor unit 2 and the light-receiving voltage generating circuit 4 connected to the sensor cell are taken out and illustrated. Further, since the gate electrode of the TFT sensor shown in this figure is fixedly connected to −15 [V], the TFT sensor is in an OFF state (a high resistance state between the source and drain) when the TFT sensor is not receiving light. Is. In this figure, since the positive input terminal of the operational amplifier is connected to GND (0 [V]), the potential of the negative input terminal (source line) also becomes 0 [V].

【0029】このような状態で、TFTセンサに光が当
たると、該TFTセンサはOFF状態から、光の強さに
応じてソース・ドレイン間の抵抗が下がり、該ソース・
ドレイン間を電流が流れて、コンデンサCSの電圧が下
がる(コンデンサCSに光電荷が蓄積される)。コンデ
ンサCSに光電荷が蓄積された後、スイッチ用TFT
(SW−TFT)をON状態にして、ソースライン上に
該電荷を読み出す。これにより、ソースライン上の電圧
は、読み出した電荷のため、0〔V〕(GNDレベル)
より下がる。
When the TFT sensor is exposed to light in such a state, the resistance between the source and the drain is lowered from the OFF state of the TFT sensor according to the intensity of the light, and the source
A current flows between the drains, and the voltage of the capacitor CS drops (photoelectric charges are stored in the capacitor CS). After the photocharge is accumulated in the capacitor CS, the switching TFT
The (SW-TFT) is turned on and the charges are read out on the source line. As a result, the voltage on the source line is 0 [V] (GND level) because of the read charges.
Go down.

【0030】ソースライン上の電圧が下がると、オペア
ンプは該ソースライン上の電圧を検出して、オペアンプ
出力の電圧を上げる。オペアンプ出力の電圧が上昇する
と、該電圧は、コンデンサCOを介して、ソースライン
上の電圧を上昇させ、ソースラインの電位は元の0
〔V〕に復帰する。このときのオペアンプ出力の上昇分
が受光電圧(光電荷出力電圧)となって、マルチプレク
サ(図1参照)へ出力される。なお、上述した動作によ
り、ソースライン上の電圧は常に0〔V〕になるためこ
の直前に読み出した画素の電荷が残留せず、したがって
残像が残らない。
When the voltage on the source line drops, the operational amplifier detects the voltage on the source line and raises the voltage at the output of the operational amplifier. When the voltage of the output of the operational amplifier rises, the voltage raises the voltage on the source line through the capacitor C0, and the potential of the source line returns to the original 0.
It returns to [V]. The increase in the output of the operational amplifier at this time becomes the received light voltage (photoelectric charge output voltage) and is output to the multiplexer (see FIG. 1). Since the voltage on the source line is always 0 [V] by the above-described operation, the charge of the pixel read immediately before this does not remain, and thus an afterimage does not remain.

【0031】図8および図9は、2個のセンサセルを1
つのソースラインに共通接続した場合における、密着型
エリアセンサの動作原理を示す説明図である。なお、こ
れらの図に示すセンサセルA,Bおよび受光電圧発生回
路4の動作は、図7において説明した動作と同じもので
ある。図8(a)では、センサセルBで発生した光電荷
−Qを読み出す。同時に、センサセルAでは、該センサ
セルAのコンデンサに光電荷−qを蓄積している。次
に、図8(b)では、受光電圧発生回路4のリセット用
スイッチング素子TrをONにして、電荷吸収用コンデ
ンサCOに蓄積された電荷をリセットしている。同時
に、センサセルAは引き続き光電荷−qの蓄積を行い、
センサセルBも光電荷−Qの蓄積を開始する。
FIG. 8 and FIG. 9 show two sensor cells as one.
It is explanatory drawing which shows the operation principle of a contact type area sensor when it connects in common to one source line. The operations of the sensor cells A and B and the received light voltage generation circuit 4 shown in these figures are the same as those described with reference to FIG. In FIG. 8A, the photocharge −Q generated in the sensor cell B is read. At the same time, in the sensor cell A, the photocharge −q is accumulated in the capacitor of the sensor cell A. Next, in FIG. 8B, the reset switching element Tr of the received light voltage generation circuit 4 is turned on to reset the charge accumulated in the charge absorbing capacitor CO. At the same time, sensor cell A continues to accumulate photocharge -q,
The sensor cell B also starts accumulating the photocharge -Q.

【0032】次に、図9(a)では、センサセルAで発
生した光電荷−qを読み出す。同時に、センサセルBで
は、該センサセルBのコンデンサに光電荷−Qを蓄積し
ている。そして、図9(b)では、再び、受光電圧発生
回路4のリセット用スイッチング素子TrをONにし
て、電荷吸収用コンデンサCOに蓄積された電荷をリセ
ットしている。同時に、センサセルBは引き続き光電荷
−Qの蓄積を行い、センサセルAも光電荷−qの蓄積を
開始する。図8および図9に示す密着型エリアセンサ
は、上記のサイクルを繰り返す。以上で、上記構成によ
る密着型エリアセンサの動作説明を終了する。
Next, in FIG. 9A, the photocharge -q generated in the sensor cell A is read. At the same time, in the sensor cell B, the photocharge -Q is stored in the capacitor of the sensor cell B. Then, in FIG. 9B, the reset switching element Tr of the light receiving voltage generating circuit 4 is turned on again to reset the charge accumulated in the charge absorbing capacitor CO. At the same time, the sensor cell B continues to accumulate the photocharge -Q, and the sensor cell A also starts accumulating the photocharge -q. The contact area sensor shown in FIGS. 8 and 9 repeats the above cycle. This is the end of the description of the operation of the contact area sensor having the above configuration.

【0033】§3. 第2実施形態 次に、この発明の第2実施形態について説明する。本実
施形態による密着型エリアセンサの構成例は、外部駆動
回路における受光電圧発生回路を除くと、図1に示す回
路(第1実施形態の回路)と同じものである。第1実施
形態では、上記受光電圧発生回路として、図6に示す回
路を使用したが、本実施形態では、図6に示す回路の代
わりに、図10に示す回路を使用する。
§3. Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described. The configuration example of the contact area sensor according to the present embodiment is the same as the circuit shown in FIG. 1 (the circuit of the first embodiment) except for the light receiving voltage generating circuit in the external drive circuit. In the first embodiment, the circuit shown in FIG. 6 is used as the received light voltage generation circuit, but in the present embodiment, the circuit shown in FIG. 10 is used instead of the circuit shown in FIG.

【0034】図10に示す受光電圧発生回路では、リセ
ットパルスが、トランジスタTrのゲート・ドレイン間
の寄生容量Cdを介して、オペアンプOPの入力側に現
れるのを軽減するために、抵抗R2を設けた。寄生容量
Cdのインピーダンス(交流に対する抵抗値)ZCは、 ZC=1/(2πfCd) 〔Ω〕 で算出することができるので、例えば、リセットパルス
の高調波周波数f=100〔kHz〕、Cd=0.5
〔pF〕とすると、 ZC=1/(2×3.14×100×103×0.5×1
0-12)=3.2〔MΩ〕 となる。このため、抵抗R2の抵抗値を3.2〔MΩ〕
の1/10以下とすれば、ZCとR2との抵抗分割によ
り、オペアンプOPの入力側に漏れ込む電圧量は1/1
0以下になる。故に、抵抗R2の抵抗値は1〔kΩ〕〜
100〔kΩ〕が適当である。
In the light receiving voltage generating circuit shown in FIG. 10, a resistor R2 is provided in order to reduce the appearance of the reset pulse on the input side of the operational amplifier OP via the parasitic capacitance Cd between the gate and drain of the transistor Tr. It was Since the impedance (resistance value against AC) ZC of the parasitic capacitance Cd can be calculated by ZC = 1 / (2πfCd) [Ω], for example, the harmonic frequency f of the reset pulse f = 100 [kHz], Cd = 0 .5
If [pF], then ZC = 1 / (2 × 3.14 × 100 × 10 3 × 0.5 × 1
0-12) = 3.2 [MΩ]. Therefore, the resistance value of the resistor R2 is set to 3.2 [MΩ].
Is less than 1/10, the amount of voltage leaking to the input side of the operational amplifier OP is 1/1 due to the resistance division of ZC and R2.
0 or less. Therefore, the resistance value of the resistor R2 is 1 [kΩ] to
100 [kΩ] is appropriate.

【0035】次に、図10に示す抵抗R1の抵抗値の決
め方を述べる。正常に動作している理想的オペアンプの
2つの入力間の電位差は0〔V〕であるが、実際には、
約10〔mV〕程度のオフセット電圧がある。信号を読
み出している間(約60〔μsec〕)は、このオフセ
ット電圧によりリーク電流が抵抗R1,R2を介してGN
Dに流れる。このリーク電流は、信号電流と一緒にオペ
アンプの出力に現れるので、ノイズを発生させているこ
とになる。このため、抵抗R1はできるだけ高抵抗値で
ある方が望ましいが、逆にあまり高抵抗値にすると、所
定のリセット期間にコンデンサC0に蓄積された信号電
流をリセットできない。故に、抵抗R1の抵抗値は10
0〔kΩ〕〜220〔MΩ〕が適当である。
Next, how to determine the resistance value of the resistor R1 shown in FIG. 10 will be described. The potential difference between the two inputs of an ideal operational amplifier that is operating normally is 0 [V], but in reality,
There is an offset voltage of about 10 [mV]. While the signal is being read (approximately 60 μsec), the offset voltage causes a leakage current to flow through the resistors R 1 and R 2 to the GN.
Flow to D. Since this leak current appears at the output of the operational amplifier together with the signal current, it causes noise. For this reason, it is desirable that the resistance R1 be as high as possible. However, if the resistance is too high, the signal current accumulated in the capacitor C0 cannot be reset during a predetermined reset period. Therefore, the resistance value of the resistor R1 is 10
0 [kΩ] to 220 [MΩ] is appropriate.

【0036】§4. 第3実施形態 次に、この発明の第3実施形態について説明する。本実
施形態による密着型エリアセンサの構成例は、外部駆動
回路における受光電圧発生回路を除くと、図1に示す回
路(第1実施形態の回路)と同じものである。本実施形
態では、上記受光電圧発生回路として、図6に示す回路
の代わりに、図11に示す回路を使用する。
§4. Third Embodiment Next, a third embodiment of the invention will be described. The configuration example of the contact area sensor according to the present embodiment is the same as the circuit shown in FIG. 1 (the circuit of the first embodiment) except for the light receiving voltage generating circuit in the external drive circuit. In the present embodiment, the circuit shown in FIG. 11 is used as the received light voltage generation circuit instead of the circuit shown in FIG.

【0037】図11に示す受光電圧発生回路では、信号
電荷蓄積用(フィードバック用)コンデンサC0が、抵
抗R3と抵抗R4の中点に接続されているので、該抵抗R
3と抵抗R4の中点から、図6または図10に示すオペア
ンプの信号出力と同じ信号出力が得られる。この図にお
いて、オペアンプは、抵抗R3と抵抗R4との中点に電圧
を発生させるために、抵抗R3と抵抗R4との分割比だけ
高い電圧を出力するように動作する。このオペアンプ後
段に設けられたマルチプレクサやA/Dコンバータ等の
入力電圧は1〔V〕程度であり、リセットするための電
圧は、できるだけ高い方(一例としては、10〔V〕程
度)が、抵抗R1の抵抗値を高くできるので、このよう
な回路構成とした。したがって、抵抗R3,R4ともに、
該抵抗値は10〔Ω〕〜1〔MΩ〕までの広い範囲で選
択することができる。
In the light receiving voltage generating circuit shown in FIG. 11, since the signal charge storage (feedback) capacitor C0 is connected to the middle point of the resistors R3 and R4,
From the midpoint of 3 and the resistor R4, the same signal output as the signal output of the operational amplifier shown in FIG. 6 or 10 is obtained. In this figure, the operational amplifier operates to output a voltage higher by the division ratio of the resistors R3 and R4 in order to generate a voltage at the midpoint between the resistors R3 and R4. The input voltage of the multiplexer, A / D converter, etc. provided in the subsequent stage of this operational amplifier is about 1 [V], and the voltage for resetting is as high as possible (about 10 [V] in one example). Since the resistance value of R1 can be increased, such a circuit configuration is adopted. Therefore, both resistors R3 and R4
The resistance value can be selected in a wide range from 10 [Ω] to 1 [MΩ].

【0038】§5. 第4実施形態 次に、この発明の第4実施形態について説明する。本実
施形態による密着型エリアセンサの構成例は、外部駆動
回路における受光電圧発生回路を除くと、図1に示す回
路(第1実施形態の回路)と同じものである。本実施形
態では、上記受光電圧発生回路として、図6に示す回路
の代わりに、図12に示す回路を使用する。
§5. Fourth Embodiment Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. The configuration example of the contact area sensor according to the present embodiment is the same as the circuit shown in FIG. 1 (the circuit of the first embodiment) except for the light receiving voltage generating circuit in the external drive circuit. In this embodiment, the circuit shown in FIG. 12 is used as the received light voltage generation circuit instead of the circuit shown in FIG.

【0039】図12は、本実施形態による受光電圧発生
回路の一例を示す回路図である。コンデンサCOをリセ
ットするための電圧はできるだけ高い方が、抵抗R1の
抵抗値を高くとれ、ノイズとなるリーク電流を減らすこ
とができる。故に、この図では、図11に示した抵抗分
割による電圧調整よりももっと効果の高い、コンパレー
タを使用した例を示す。コンパレータOP2は、信号電
荷蓄積用(フィードバック用)コンデンサC0のリセッ
ト時にしか動作しない。信号読み出し時において、オペ
アンプOPの出力が少しでもあると、コンパレータOP
2が、該オペアンプOPの出力の電位がGND電位から
ずれたことを検出して、出力電圧を電源電圧まで上げ
る。これにより、抵抗R1の抵抗値が高くても、十分に
リセットを行うことができる。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of the received light voltage generating circuit according to the present embodiment. If the voltage for resetting the capacitor C0 is as high as possible, the resistance value of the resistor R1 can be made high, and the leak current which becomes noise can be reduced. Therefore, this figure shows an example using a comparator, which is more effective than the voltage adjustment by the resistance division shown in FIG. The comparator OP2 operates only when the signal charge storage (feedback) capacitor C0 is reset. When the signal is read, if the output of the operational amplifier OP is a little, the comparator OP
2 detects that the potential of the output of the operational amplifier OP deviates from the GND potential, and raises the output voltage to the power supply voltage. Thereby, even if the resistance value of the resistor R1 is high, the resetting can be sufficiently performed.

【0040】§6. 第5実施形態 次に、この発明の第5実施形態について説明する。本実
施形態による密着型エリアセンサの構成例は、外部駆動
回路における受光電圧発生回路を除くと、図1に示す回
路(第1実施形態の回路)と同じものである。本実施形
態では、上記受光電圧発生回路として、図6に示す回路
の代わりに、図13に示す回路を使用する。
§6. Fifth Embodiment Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. The configuration example of the contact area sensor according to the present embodiment is the same as the circuit shown in FIG. 1 (the circuit of the first embodiment) except for the light receiving voltage generating circuit in the external drive circuit. In the present embodiment, the circuit shown in FIG. 13 is used as the received light voltage generation circuit instead of the circuit shown in FIG.

【0041】図13は、本実施形態による受光電圧発生
回路の一例を示す回路図である。この図では、受光電圧
発生回路として、オペアンプOPと抵抗R0とからなる
反転増幅器を用いている。そして、上記受光電圧発生回
路の後段には、積分抵抗Ri,オペアンプOPi,積分コ
ンデンサCiおよびリセットスイッチSWiからなる積分
回路が設けられている。
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of the received light voltage generating circuit according to the present embodiment. In this figure, an inverting amplifier composed of an operational amplifier OP and a resistor R0 is used as the received light voltage generation circuit. An integrating circuit including an integrating resistor Ri, an operational amplifier OPi, an integrating capacitor Ci, and a reset switch SWi is provided at the subsequent stage of the received light voltage generating circuit.

【0042】なお、一般に、ソースライン上には40
〔pF〕の寄生容量が存在するため、オペアンプOPの
負入力端子側における入力抵抗値が大きい場合には、電
荷の読み出し速度が非常に遅くなるが、図13に示す回
路例では、オペアンプOPの負入力端子側の入力抵抗値
をほぼ0〔Ω〕にすることができるので、ソース配線上
の寄生容量(40〔pF〕)による影響は無視できる。
It should be noted that, in general, 40 is set on the source line.
Since the parasitic capacitance of [pF] exists, when the input resistance value on the negative input terminal side of the operational amplifier OP is large, the charge reading speed becomes very slow, but in the circuit example shown in FIG. Since the input resistance value on the negative input terminal side can be made almost 0 [Ω], the influence of the parasitic capacitance (40 [pF]) on the source wiring can be ignored.

【0043】また、図13に示す回路図においても、図
2に示す回路図と同様に、ソースライン上に、保護抵抗
を挿入することが考えられる。図14は、図13に示す
回路図において、保護抵抗PRを挿入した例を示す回路
図である。図13と図14は、上記保護抵抗PRの有無
を除くと、全く同じ回路構成である。図14において、
保護抵抗PRは、SW−TFTのゲートラインとソース
ラインとがショートした場合に、オペアンプOP(およ
びOPi)や該オペアンプOP(およびOPi)の駆動電
源を保護する。
Also in the circuit diagram shown in FIG. 13, it is conceivable to insert a protective resistor on the source line as in the circuit diagram shown in FIG. FIG. 14 is a circuit diagram showing an example in which a protection resistor PR is inserted in the circuit diagram shown in FIG. 13 and 14 have exactly the same circuit configuration except the presence or absence of the protection resistor PR. In FIG.
The protection resistor PR protects the operational amplifier OP (and OPi) and the driving power supply of the operational amplifier OP (and OPi) when the gate line and the source line of the SW-TFT are short-circuited.

【0044】また、上述したソースライン上の寄生容量
(40〔pF〕)による読み出し速度を考慮すると、上
記保護抵抗PRの抵抗値は、該寄生容量との積により決
まる読み出し速度の低下を無視することができるほど小
さい値である必要がある。さらに、上記保護抵抗PRの
抵抗値は、SW−TFTのON抵抗値よりも充分小さい
値である必要がある。故に、本実施形態では、上記保護
抵抗PRの抵抗値として、具体的には、1〜100〔k
Ω〕が考えられる。
Considering the read speed due to the parasitic capacitance (40 [pF]) on the source line, the resistance value of the protection resistor PR neglects the decrease in read speed determined by the product of the parasitic capacitance. It must be small enough to be able to. Further, the resistance value of the protection resistor PR needs to be sufficiently smaller than the ON resistance value of the SW-TFT. Therefore, in the present embodiment, as the resistance value of the protection resistor PR, specifically, 1 to 100 [k
Ω] is possible.

【0045】§7. 応用例 図15は、本発明による密着型エリアセンサをパーソナ
ルコンピュータの周辺機器として接続する場合の一例を
示す説明図である。この図において、10はSCSIイ
ンターフェイスで接続される周辺機器(外付ハードディ
スクドライブ,光磁気ディスクドライブ,CD−ROM
ドライブ等)であり、11は該周辺機器をパーソナルコ
ンピュータに接続するためのSCSIインターフェイス
ボードである。この図に示すように、本発明による密着
型エリアセンサをパーソナルコンピュータに接続する場
合には、SCSIなどのインターフェイスを利用する。
§7. Application Example FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example of a case where the contact area sensor according to the present invention is connected as a peripheral device of a personal computer. In this figure, 10 is a peripheral device connected by a SCSI interface (external hard disk drive, magneto-optical disk drive, CD-ROM)
11 is a SCSI interface board for connecting the peripheral device to a personal computer. As shown in this figure, when the contact area sensor according to the present invention is connected to a personal computer, an interface such as SCSI is used.

【0046】図16は、本発明による密着型エリアセン
サを用いて、カラーの画像情報を取り込む場合における
応用例を示す断面図である。この図に示すように、RG
Bの3色の蛍光灯を順次点灯して、原稿に当てれば、カ
ラーの画像情報が得られるので、従来のCCDカメラの
ような高価なカラーフィルタが不要となる。また、RG
Bを1画素として撮影するCCDカメラと比べると、同
じ画素でも解像度が3倍となる。さらに、本発明では、
受光電圧発生回路に光蓄積電荷を全て読み出せるので、
カラー読み出し時において、RGBの3色の光を、間を
おかずに、瞬時に切り換えても残像が生じない。
FIG. 16 is a sectional view showing an application example in the case of capturing color image information using the contact area sensor according to the present invention. As shown in this figure, RG
When the fluorescent lamps of three colors B are sequentially turned on and applied to the original, color image information can be obtained, so that an expensive color filter such as a conventional CCD camera is unnecessary. Also, RG
Compared with a CCD camera that shoots B as one pixel, the resolution is tripled even with the same pixel. Further, in the present invention,
Since all the light accumulated charges can be read out to the received light voltage generation circuit,
At the time of color reading, the afterimage does not occur even if the lights of the three colors of RGB are instantly switched without a time interval.

【0047】図17は、本発明による密着型エリアセン
サを用いて、指紋を読み込む場合における応用例を示す
説明図である。この図において、予め、指紋からの反射
光がTFTセンサに入力する際における、有効入射光の
角度を45゜としておく。光源から出射された光は、指
紋の谷線において回り込み、多量の光がTFTセンサに
入射する。また、指紋の隆線では、該隆線部分が指の押
付面に密着するので、光源から出射された光が回り込ま
ず、少量の光しかTFTセンサに入射しない。これによ
り、指紋の谷線と隆線とを区別し、該指紋の画像情報を
取り込むことができる。
FIG. 17 is an explanatory diagram showing an application example when a fingerprint is read by using the contact area sensor according to the present invention. In this figure, the angle of effective incident light when the reflected light from the fingerprint enters the TFT sensor is set to 45 ° in advance. The light emitted from the light source wraps around at the valley line of the fingerprint, and a large amount of light enters the TFT sensor. Further, in the ridge line of the fingerprint, since the ridge portion is in close contact with the pressing surface of the finger, the light emitted from the light source does not go around and only a small amount of light is incident on the TFT sensor. Thereby, the valley line and the ridge line of the fingerprint can be distinguished and the image information of the fingerprint can be captured.

【0048】なお、指を密着型エリアセンサに強く押し
つけると、谷線がつぶれて、谷線と隆線との区別が困難
になる場合がある。このため、この図に示すように、光
源の下部に圧力感知膜を設け、該光源と圧力感知膜との
間にバネと接点を設けておき、圧力感知膜が圧力を感知
すると、このことをコンピュータなどの画像読取機に報
知するようにして、最適な画像を取り込むようにする。
If the finger is strongly pressed against the contact area sensor, the valley line may be crushed and it may be difficult to distinguish the valley line and the ridge line. For this reason, as shown in this figure, a pressure sensing film is provided under the light source, and a spring and a contact are provided between the light source and the pressure sensing film. An image reading device such as a computer is notified so that an optimum image is captured.

【0049】図18は、安価なシステムを構成するため
に、受光電圧発生回路の数を減らした場合における応用
例を示す回路図である。先に図1に示した回路では、1
本のソースラインに対して1個の受光電圧発生回路4を
設け、両者を1対1に対応させて接続した。すなわち、
図1に示す回路では、各受光電圧発生回路4の出力信号
は、マルチプレクサ5に入力され、該マルチプレクサ5
において、1つの出力信号が順次選択されてビデオ信号
となる。
FIG. 18 is a circuit diagram showing an application example in which the number of received light voltage generation circuits is reduced in order to form an inexpensive system. In the circuit previously shown in FIG.
One light-receiving voltage generating circuit 4 is provided for each source line, and the two are connected in a one-to-one correspondence. That is,
In the circuit shown in FIG. 1, the output signal of each received light voltage generation circuit 4 is input to the multiplexer 5, and the multiplexer 5
In, one output signal is sequentially selected to become a video signal.

【0050】これに対して、図18に示すように、受光
電圧発生回路4の前段にマルチプレクサを設け、複数の
ソースラインを、該マルチプレクサで順次切り換えて、
1つのソースラインを選択し、該選択されたソースライ
ンの信号を受光電圧発生回路4に入力することにより、
受光電圧発生回路4の数をソースラインの数より少なく
することも考えられる。ここで、未選択のソースライン
は、能動スイッチASWxxを介して、基準電圧に接続さ
れる。このようにすることで、未選択のソースライン上
に読み出された光電荷は、該ソースライン上から速やか
に消滅するので、その後、選択されたソースライン上に
光電荷が残存して、残像などの不具合が生じるのを避け
ることができる。なお、図18に示す回路では、受光電
圧発生回路4として、図12に示した第4実施形態の回
路を使用しているが、この他にも、図6(第1実施形
態)または図10(第2実施形態)または図11(第3
実施形態)または図13(第5実施形態)に示した回路
を使用することも可能である。
On the other hand, as shown in FIG. 18, a multiplexer is provided in the preceding stage of the received light voltage generation circuit 4, and a plurality of source lines are sequentially switched by the multiplexer,
By selecting one source line and inputting the signal of the selected source line to the light receiving voltage generation circuit 4,
It is also conceivable that the number of received light voltage generation circuits 4 is smaller than the number of source lines. Here, the unselected source lines are connected to the reference voltage via the active switches ASWxx. By doing so, the photocharges read on the unselected source lines quickly disappear from the source lines, and thereafter, the photocharges remain on the selected source lines and the afterimages remain. It is possible to avoid such a problem as occurring. Note that, in the circuit shown in FIG. 18, the circuit of the fourth embodiment shown in FIG. 12 is used as the received light voltage generation circuit 4, but in addition to this, FIG. 6 (first embodiment) or FIG. (Second Embodiment) or FIG. 11 (Third Embodiment)
It is also possible to use the circuit shown in the embodiment) or FIG. 13 (fifth embodiment).

【0051】図19および図20は、本実施形態による
密着型エリアセンサの解像度を増大させる場合における
応用例を示す説明図である。まず初めに、図19に示す
方向から光を入射する。これにより、この図において、
原稿のA2の部分に当たった光は同図のAで示したTF
Tセンサに入射し、原稿のB2の部分に当たった光は同
図のBで示したTFTセンサに入射する。その結果、原
稿上のA2およびB2における画像情報を取得することが
できる。なお、この図では、原稿および密着型エリアセ
ンサの断面図上の一部分のみを図示して説明を行ってい
るが、当然のことながら原稿および密着型エリアセンサ
は、2次元(平面)的な広がりを有すものであり、故
に、図19において、画像情報が読み込まれるのは、原
稿上を市松模様状の2つのエリアに分類した場合の一方
のエリアということになる。
19 and 20 are explanatory views showing an application example in the case of increasing the resolution of the contact area sensor according to the present embodiment. First, light is incident from the direction shown in FIG. Therefore, in this figure,
The light that hits the A2 part of the original is the TF shown in A of the figure.
The light incident on the T sensor and hitting the portion B2 of the document enters the TFT sensor shown by B in the figure. As a result, the image information at A2 and B2 on the original can be obtained. Although only a part of the original and the contact area sensor on the cross-sectional view is illustrated and described in this figure, it goes without saying that the original and the contact area sensor are spread two-dimensionally (in a plane). Therefore, in FIG. 19, the image information is read in one of the two areas in the checkered pattern on the original.

【0052】次に、図20に示す方向から光を入射す
る。これにより、この図において、原稿のA1の部分に
当たった光は、同図のAで示したTFTセンサに入射
し、原稿のB1の部分に当たった光は、同図のBで示し
たTFTセンサに入射する。その結果、原稿上のA1お
よびB1における画像情報を取得することができる。上
述したように、光源から入射される光の方向を変化させ
ることにより、密着(した丁度真下の)部分にTFTセ
ンサが設けられていない場合であっても、該密着部分の
画像情報を得ることができる。すなわち、本発明による
密着型エリアセンサでは、TFTセンサの配置が、画像
の読み取り面上において疎であっても、光源から入射さ
れる光の方向を変化させることにより、受光密度を上げ
ることができる。
Next, light is incident from the direction shown in FIG. As a result, in this figure, the light hitting the portion A1 of the original enters the TFT sensor shown by A in the same figure, and the light hitting the portion B1 of the original becomes the TFT shown by B in the same figure. It is incident on the sensor. As a result, the image information at A1 and B1 on the original can be acquired. As described above, by changing the direction of the light incident from the light source, it is possible to obtain the image information of the contact portion even when the TFT sensor is not provided in the contact portion (just below). You can That is, in the contact area sensor according to the present invention, even if the arrangement of the TFT sensors is sparse on the image reading surface, the light receiving density can be increased by changing the direction of the light incident from the light source. .

【0053】以上、この発明の実施形態を図面を参照し
て詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限ら
れるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の
設計の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、
上述した第1実施形態〜第5実施形態に示す受光電圧発
生回路(図6,図10,図11,図12,図13参照)
では、ソースライン上の電圧を検出するためにオペアン
プOPを用いたが、この他にも、該オペアンプOPの代
わりにトランジスタ素子を用いることも考えられる。
The embodiment of the present invention has been described in detail above with reference to the drawings. However, the specific structure is not limited to this embodiment, and the design change and the like without departing from the gist of the present invention. Even this is included in this invention. For example,
The received light voltage generation circuit shown in the above-described first to fifth embodiments (see FIGS. 6, 10, 11, 12, and 13).
In the above, the operational amplifier OP is used to detect the voltage on the source line, but it is also possible to use a transistor element instead of the operational amplifier OP.

【0054】図21は、図6に示す受光電圧発生回路に
おいて、オペアンプOPの代わりにトランジスタを用い
た場合の受光電圧発生回路の一例を示す回路図である。
この図に示すように、トランジスタMOSのゲート端子
にはTFTセンサ部2のソースラインが接続されてい
る。また、トランジスタMOSのソース端子は、基準電
位(0〔V〕)に接続されている。また、トランジスタ
MOSのドレイン端子とゲート端子との間には、電荷吸
収用コンデンサC0と、リセットパルスが入力される
と、トランジスタMOSのドレイン端子とゲート端子と
の間を接続するリセット用スイッチング素子(トランジ
スタTr)とが並列に接続されている。図21に示す受
光電圧発生回路の動作は、基本的に、図6に示す受光電
圧発生回路の動作と同じものである。但し、図21に示
すソースラインには、トランジスタMOSのソース・ゲ
ート間電圧分だけオフセット電圧(バイアス電位Ve)
が乗る。
FIG. 21 is a circuit diagram showing an example of the received light voltage generating circuit in the case where a transistor is used instead of the operational amplifier OP in the received light voltage generating circuit shown in FIG.
As shown in this figure, the source line of the TFT sensor unit 2 is connected to the gate terminal of the transistor MOS. The source terminal of the transistor MOS is connected to a reference potential (0 [V]). Further, between the drain terminal and the gate terminal of the transistor MOS, a charge absorbing capacitor C0, and when a reset pulse is input, a reset switching element () that connects between the drain terminal and the gate terminal of the transistor MOS. And the transistor Tr) are connected in parallel. The operation of the received light voltage generating circuit shown in FIG. 21 is basically the same as the operation of the received light voltage generating circuit shown in FIG. However, the source line shown in FIG. 21 has an offset voltage (bias potential Ve) corresponding to the source-gate voltage of the transistor MOS.
Get on.

【0055】また、図22は、トランジスタ素子を用い
た受光電圧発生回路の他の例を示す回路図である。図2
2に示す回路は、図21に示す回路の増幅度を上げるこ
とにより、ソースライン上のわずかな電圧変動を検出し
てフィードバックし、結果的に、該ソースライン上の電
圧変動を抑える回路である。上記増幅度を上げるため
に、図21に示すドレイン抵抗RLに代えて、定電流源
をトランジスタMOSのドレイン端子に接続している。
この定電流源の抵抗値はほぼ無限大と見なすことができ
るため、次に示す式のように、トランジスタMOSのド
レイン電流IDがわずかでも変化すると、大きな電圧降
下がトランジスタMOSのドレイン端子に生じる。 ΔVD=ΔID×RD ΔVD:ドレイン電圧の変化分 ΔID:ドレイン電流の変化分 RD :ドレイン端子の出力抵抗値(=定電流源の抵抗
値→∽〔Ω〕)
FIG. 22 is a circuit diagram showing another example of the received light voltage generating circuit using a transistor element. FIG.
The circuit shown in FIG. 2 is a circuit which detects a slight voltage fluctuation on the source line and feeds it back by increasing the amplification degree of the circuit shown in FIG. 21, and consequently suppresses the voltage fluctuation on the source line. . To increase the amplification degree, a constant current source is connected to the drain terminal of the transistor MOS instead of the drain resistance RL shown in FIG.
Since the resistance value of this constant current source can be considered to be almost infinite, a small change in the drain current ID of the transistor MOS causes a large voltage drop at the drain terminal of the transistor MOS as shown in the following equation. ΔVD = ΔID × RD ΔVD: Change in drain voltage ΔID: Change in drain current RD: Output resistance value of drain terminal (= resistance value of constant current source → ∽ [Ω])

【0056】また、図22に示すトランジスタMOS2
のソース・ホロワ回路は、次段に接続されるマルチプレ
クサの入力抵抗が有限の値であるために、増幅度の低下
を避けるバッファ回路として入れてある。トランジスタ
MOS2がソース・ホロワ回路であるため、マルチプレ
クサの入力抵抗が変動して該トランジスタMOS2のド
レイン電流が増加しても、そのゲート・ソース間電圧V
GSはほとんど変化しない(すなわち、トランジスタMO
S2は、出力抵抗が小さい)。
Further, the transistor MOS2 shown in FIG.
The source-follower circuit of (1) is provided as a buffer circuit for avoiding a decrease in amplification factor because the input resistance of the multiplexer connected to the next stage has a finite value. Since the transistor MOS2 is a source-follower circuit, even if the input resistance of the multiplexer fluctuates and the drain current of the transistor MOS2 increases, the gate-source voltage V
GS hardly changes (that is, the transistor MO
S2 has a small output resistance).

【0057】また、図1に示す回路図では、TFTセン
サ部2で発生した全ての電荷を同一方向(図1における
右方向)に向かって取り出しているが、電荷の取り出し
パターン、および、それに伴う各回路の配置はこれに限
定されるものではない。上記取り出しパターンの一例と
しては、図23に示すように、隣接するソース配線上の
電荷を互いに反対方向へ取り出すこと(千鳥取り出し)
が考えられる。また、上記取り出しパターンの他の一例
としては、図24に示すように、2次元マトリクス状に
並んだ画素を上下左右の4つのブロックに分割し、各ブ
ロック毎に電荷を取り出すこと(上下左右分割取り出
し)が考えられる。
Further, in the circuit diagram shown in FIG. 1, all the charges generated in the TFT sensor section 2 are taken out in the same direction (to the right in FIG. 1). The arrangement of each circuit is not limited to this. As an example of the extraction pattern, as shown in FIG. 23, charges on adjacent source lines are extracted in opposite directions (staggered extraction).
Can be considered. As another example of the extraction pattern, as shown in FIG. 24, pixels arranged in a two-dimensional matrix are divided into four blocks, that is, upper, lower, left, and right, and charges are extracted in each block (upper, lower, left, and right division). Takeout) is possible.

【0058】§8. 従来製品に対する優位点 (a)CCDカメラとの比較における優位点 高価なカラーフィルタが不要である。図16に示す
ように、RGBの3色の蛍光灯を順次点灯して、原稿に
あてれば、カラーの画像情報が得られる。 解像度が3倍向上する。RGBの3色の蛍光灯を順
次点灯して、原稿にあてて、カラーの画像情報を得られ
るので、RGBを1画素として撮影するCCDカメラと
比べると、同じ画素でも解像度が3倍となる。
§8. Advantages over conventional products (a) Advantages in comparison with CCD cameras No expensive color filters are required. As shown in FIG. 16, if the fluorescent lamps of three colors of RGB are sequentially turned on and applied to the document, color image information can be obtained. The resolution is tripled. Since fluorescent image lights of three colors of RGB are sequentially turned on and color image information can be obtained by being applied to a document, the resolution is tripled even with the same pixel as compared with a CCD camera which takes RGB as one pixel.

【0059】 装置が薄く小型になる。CCDを使用
した原稿の読み取り機は、縮小光学系が必要なため、読
み取り機の厚みを原稿の紙幅以下にすることはできな
い。しかし、本発明による密着型エリアセンサでは、上
記縮小光学系を必要としないので、装置を薄く小型にで
きる。 画面にノイズの混入が無い(S/N比が良い)。本
発明による密着型エリアセンサは、CCDカメラと比べ
て受光面積が広くとれ、密着していることにより光のロ
スが少なく、バックライト照明により強い被写体光が得
られるので、光電変換感度が上がる。このため、蓄積容
量を大きくでき、ゲート駆動パルス等におけるパルス性
雑音の混入を減らすことができる。
The device is thin and small. Since a document reader using a CCD needs a reduction optical system, the thickness of the reader cannot be made smaller than the width of the document. However, the contact area sensor according to the present invention does not require the reduction optical system, so that the device can be made thin and small. There is no noise on the screen (S / N ratio is good). The contact area sensor according to the present invention has a wider light receiving area than a CCD camera, and since it is in close contact, there is little loss of light, and strong object light can be obtained by backlight illumination, so photoelectric conversion sensitivity is improved. Therefore, the storage capacity can be increased, and the inclusion of pulse noise in the gate drive pulse or the like can be reduced.

【0060】 照明光がまぶしくなく、外光の影響を
受けない。TVカメラで写真をとる場合には、カメラと
照明用の大きなスタンドを設置しなくてはならず、さら
に、照明光がまぶしいため、CCDカメラをパソコンの
横等で手軽に使うと言う訳にはいかない。また、天井の
蛍光灯などの照明光が被写体に移り込む。本発明による
密着型エリアセンサでは、バックライトにより出射され
た光が、センサに配置された照明用窓アレイを通して、
該センサに密着させた原稿に当たるので、別置型の照明
は不要であり、また、照明光は外には漏れない。
The illumination light is not dazzling and is not affected by outside light. When taking a picture with a TV camera, a large stand for the camera and lighting must be installed, and because the illumination light is dazzling, it is not easy to use the CCD camera next to a personal computer. It doesn't. In addition, illumination light such as a fluorescent light on the ceiling moves into the subject. In the contact area sensor according to the present invention, the light emitted by the backlight passes through the window array for illumination arranged in the sensor,
Since it hits the document that is in close contact with the sensor, no separate illumination is required, and the illumination light does not leak outside.

【0061】 システムが安価になる。多人数が画像
データをとるときには、ポラロイドカメラと本発明によ
る2次元密着型TFTイメージスキャナとの組み合わ
せ、または、レンズ付きフィルムと本発明による2次元
密着型TFTイメージスキャナとの組み合わせの方が、
CCDカメラ等によるシステムより安価に構成できる。
また、少人数がCCDカメラ等で画像をコンピュータに
入力する場合でも、手元に写真が残らないので、ほとん
どの場合、ハードコピーの必要性がでてくる。このた
め、CCDカメラとカラーハードコピー機との組み合わ
せからなるシステムは高価となる。
The system becomes cheaper. When a large number of people take image data, the combination of the polaroid camera and the two-dimensional contact type TFT image scanner according to the present invention, or the combination of the film with lens and the two-dimensional contact type TFT image scanner according to the present invention,
It can be constructed at a lower cost than a system using a CCD camera or the like.
In addition, even when a small number of people input images to a computer with a CCD camera or the like, no photo is left at hand, so in most cases, a hard copy becomes necessary. Therefore, a system including a combination of a CCD camera and a color hard copy machine becomes expensive.

【0062】(b)従来の2次元密着型TFTイメージ
スキャナとの比較における優位点 製造プロセスが簡単である。従来の2次元密着型T
FTイメージスキャナは、光電変換素子にフォトダイオ
ードを使用しているため、スイッチング素子であるα−
Si TFTを別途成膜しなくてはならず、このため、
製造プロセスが複雑であった。本発明による密着型エリ
アセンサでは、両方の素子(スイッチング素子と光セン
サ素子)にα−Si TFTを使用しているので、1回
のプロセスで作成することができ、従来の2次元密着型
TFTイメージスキャナと比較して、製造プロセスが簡
単である。
(B) Advantages in comparison with the conventional two-dimensional contact type TFT image scanner The manufacturing process is simple. Conventional two-dimensional contact type T
Since the FT image scanner uses a photodiode as a photoelectric conversion element, it is a switching element α-
Since a Si TFT has to be separately formed, for this reason,
The manufacturing process was complicated. In the contact area sensor according to the present invention, since the α-Si TFT is used for both elements (switching element and optical sensor element), it can be manufactured in one process, and the conventional two-dimensional contact TFT can be manufactured. The manufacturing process is simple compared to image scanners.

【0063】 残像が生じない。読み出し回路に、光
蓄積電荷が全て読み出せるので、カラー読み出し時にお
いて、RGBの3色の光を、間をおかずに、瞬時に切り
換えても残像が生じない。 高解像度である。読み出し回路に、光蓄積電荷が全
て読み出せるので、画素内にリセットスイッチ用TFT
が不要となる。そのため、個々の画素を小さくでき、単
位面積当たりの画素数を多くとれる。 信号間クロストークが生じない。読み出し回路が電
流読み出しであり(アンプの入力抵抗が0〔Ω〕)、電
圧がセンサアレイ信号配線上にほとんど発生しないた
め、配線クロスオーバー部において信号間クロストーク
が生じない。
Afterimage does not occur. Since all the light accumulated charges can be read out to the readout circuit, no residual image is generated even when the lights of the three colors of RGB are instantly switched at the time of color reading without a time interval. High resolution. Since all the light accumulated charges can be read out to the readout circuit, a reset switch TFT is provided in the pixel.
Becomes unnecessary. Therefore, each pixel can be made small, and the number of pixels per unit area can be increased. Crosstalk between signals does not occur. Since the read circuit is current read (the input resistance of the amplifier is 0 [Ω]) and voltage is hardly generated on the sensor array signal wiring, crosstalk between signals does not occur at the wiring crossover portion.

【0064】(c)従来のライン型スキャナとの比較に
おける優位点 ペン入力ができる。本発明による密着型エリアセン
サは、マウスとして使用できる。また、欧米において、
本発明による密着型エリアセンサは、自分のサインの入
力に使用できるため、遠隔承認が可能となる。さらに、
本発明による密着型エリアセンサは、図形ソフトを使用
する場合における手書き入力に最適である。 指紋入力ができる。指に密着できることから、指紋
の読み取りが容易になるため、現金自動預払機(AT
M)のセキュリティーチェックや、コンピュータセキュ
リティーのID認識等に利用できる。
(C) Advantages in comparison with the conventional line type scanner Pen input is possible. The contact area sensor according to the present invention can be used as a mouse. In Europe and America,
Since the contact area sensor according to the present invention can be used for inputting one's own signature, remote approval is possible. further,
The contact area sensor according to the present invention is most suitable for handwriting input when using graphic software. You can enter your fingerprint. Since the fingerprint can be read easily because it can be attached to the finger, the automatic teller machine (AT
It can be used for security check of M) and ID recognition of computer security.

【0065】 読み取り速度が速い。従来のスキャナ
は、1ライン毎に光電荷を蓄積し、その後、該電荷を外
部に読み出すので、読み取りに30秒〜1分程度かかっ
ていたが、本発明による密着型エリアセンサにおいて
は、全画面同時に光電荷を蓄積するため、読み取りが1
秒程度で可能となる。 画枠を素早く合わせることができる。CCDカメラ
を使用する場合を除くと、従来のスキャナは読み取り速
度が遅いため、画枠を合わせるのに多大な時間がかかっ
ていた。
The reading speed is fast. Conventional scanners store photocharges line by line and then read out the charges to the outside, so it took about 30 seconds to 1 minute to read, but in the contact area sensor according to the present invention, the entire screen is displayed. At the same time, it accumulates photocharges, so the reading is 1
It will be possible in about a second. You can quickly adjust the frame. Except when a CCD camera is used, the conventional scanner has a slow reading speed, so that it takes a lot of time to match the image frames.

【0066】 設置場所を新たに設ける必要がない。
本発明による密着型エリアセンサは、従来のマウスの代
わりに使用できるため、これまでマウスを動かしていた
スペースに置くことができる。 小型・薄型になる。本発明による密着型エリアセン
サは、機械駆動系およびアレイレンズ光学系を持たない
ので、小型・薄型構成することができる。
There is no need to provide a new installation place.
Since the contact area sensor according to the present invention can be used in place of the conventional mouse, it can be placed in the space where the mouse has been moved so far. Compact and thin. Since the contact area sensor according to the present invention does not have a mechanical drive system and an array lens optical system, it can be made compact and thin.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、受光電圧発生回路によって、信号配線の電位は常に
基準電位に保持されるので、該信号配線上の信号電荷を
全て吸い取ることができ、これによって、効率よく信号
電圧に変換できる。その結果、外部からのノイズに強い
密着型エリアセンサを構成することができる。
As described above, according to the present invention, since the potential of the signal wiring is always held at the reference potential by the light receiving voltage generating circuit, it is possible to absorb all the signal charges on the signal wiring. Thus, the signal voltage can be efficiently converted. As a result, a contact type area sensor that is resistant to external noise can be configured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1実施形態による密着型エリアセ
ンサの構成例を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration example of a contact area sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】保護抵抗PRxを追加した密着型エリアセンサ
の構成例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration example of a contact area sensor to which a protection resistor PRx is added.

【図3】センサセルの構造を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the structure of a sensor cell.

【図4】センサセルの構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a sensor cell.

【図5】TFTセンサを構成する薄膜トランジスタの特
性を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing characteristics of a thin film transistor that constitutes a TFT sensor.

【図6】本実施形態による受光電圧発生回路の一例を示
す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a received voltage generating circuit according to the present embodiment.

【図7】本実施形態による密着型エリアセンサの動作原
理を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing the operation principle of the contact area sensor according to the present embodiment.

【図8】2個のセンサセルを1つのソースラインに共通
接続した場合における、密着型エリアセンサの動作原理
を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing the operating principle of the contact area sensor when two sensor cells are commonly connected to one source line.

【図9】2個のセンサセルを1つのソースラインに共通
接続した場合における、密着型エリアセンサの動作原理
を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing the operation principle of the contact area sensor when two sensor cells are commonly connected to one source line.

【図10】本実施形態による受光電圧発生回路の一例を
示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a received voltage generating circuit according to the present embodiment.

【図11】本実施形態による受光電圧発生回路の一例を
示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing an example of a received voltage generating circuit according to the present embodiment.

【図12】本実施形態による受光電圧発生回路の一例を
示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a received light voltage generation circuit according to the present embodiment.

【図13】本実施形態による受光電圧発生回路の一例を
示す回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of a received light voltage generation circuit according to the present embodiment.

【図14】図13に示す回路図に保護抵抗PRを追加し
た例を示す回路図である。
14 is a circuit diagram showing an example in which a protection resistor PR is added to the circuit diagram shown in FIG.

【図15】パーソナルコンピュータの周辺機器として接
続する場合の一例を示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example of connection as a peripheral device of a personal computer.

【図16】カラーの画像情報を取り込む場合における応
用例を示す断面図である。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing an application example in the case of capturing color image information.

【図17】指紋を読み込む場合における応用例を示す説
明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram showing an application example when a fingerprint is read.

【図18】受光電圧発生回路の数を減らした場合におけ
る応用例を示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram showing an application example when the number of received light voltage generation circuits is reduced.

【図19】解像度を増大させる場合における応用例を示
す説明図である。
FIG. 19 is an explanatory diagram showing an application example in the case of increasing the resolution.

【図20】解像度を増大させる場合における応用例を示
す説明図である。
FIG. 20 is an explanatory diagram showing an application example in the case of increasing the resolution.

【図21】トランジスタ素子を用いた受光電圧発生回路
の一例を示す回路図である。
FIG. 21 is a circuit diagram showing an example of a received light voltage generating circuit using a transistor element.

【図22】トランジスタ素子を用いた受光電圧発生回路
の他の例を示す回路図である。
FIG. 22 is a circuit diagram showing another example of the received light voltage generation circuit using a transistor element.

【図23】電荷の取り出しパターンの一例(千鳥取り出
し)を示す説明図である。
FIG. 23 is an explanatory diagram showing an example of a charge extraction pattern (staggered extraction).

【図24】電荷の取り出しパターンの他の例(上下左右
分割取り出し)を示す説明図である。
FIG. 24 is an explanatory diagram showing another example of charge extraction patterns (upper, lower, left, and right divided extraction).

【図25】従来の密着型エリアセンサの構成例を示すブ
ロック図である。
FIG. 25 is a block diagram showing a configuration example of a conventional contact area sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……走査シフトレジスタ、 2……TFTセンサ部、
3……外部駆動回路、 4……受光電圧発生回路、 5
……マルチプレクサ
1 ... Scan shift register, 2 ... TFT sensor section,
3 ... External drive circuit, 4 ... Receiving voltage generation circuit, 5
...... Multiplexer

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 X方向とY方向の2次元マトリクス状に
配置され、かつ、受光量に応じた電荷を発生する複数の
受光素子と、 前記各受光素子に発生した電荷の放出を制御する放出制
御スイッチング素子と、 前記X方向に配列された前記各放出制御スイッチング素
子の電荷放出用端子を共通接続し、前記電荷の転送経路
を形成する複数の信号配線と、 前記Y方向に配列された前記各放出制御スイッチング素
子の制御用端子を共通接続し、前記電荷の転送を制御す
る走査信号の経路を形成する複数の走査配線と、 前記複数の走査配線に順次前記走査信号を供給する走査
シフトレジスタと、 前記それぞれの信号配線に対し接続され、該信号配線上
を転送される電荷量に応じた受光電圧を発生し、かつ、
該信号配線を基準電位または前記基準電位により定まる
バイアス電位に保持する複数の受光電圧発生回路と、 各受光電圧発生回路が発生した受光電圧の中から1つを
順次選択し、該選択した受光電圧をビデオ信号として転
送するマルチプレクサとを具備することを特徴とする密
着型エリアセンサ。
1. A plurality of light receiving elements, which are arranged in a two-dimensional matrix in the X and Y directions and generate charges according to the amount of received light, and an emission for controlling the emission of the charges generated in each of the light receiving elements. A control switching element, a plurality of signal wirings that commonly connect the charge emission terminals of the emission control switching elements arranged in the X direction to form the charge transfer path, and the signal wirings arranged in the Y direction. A plurality of scan lines that connect the control terminals of the emission control switching elements in common and form a scan signal path that controls the transfer of the charges, and a scan shift register that sequentially supplies the scan signals to the plurality of scan lines. And a light-receiving voltage that is connected to each of the signal wirings, generates a light-receiving voltage according to the amount of charges transferred on the signal wirings, and
A plurality of light receiving voltage generating circuits for holding the signal wiring at a reference potential or a bias potential determined by the reference potential, and one of the light receiving voltages generated by each light receiving voltage generating circuit are sequentially selected, and the selected light receiving voltage is selected. And a multiplexer that transfers the signal as a video signal.
【請求項2】 請求項1記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記受光電圧発生回路はオペアンプを具備し、 前記受光電圧は、前記オペアンプの出力端子から出力さ
れる信号であり、 前記信号配線が前記オペアンプの負入力端子に接続され
ており、 前記オペアンプの正入力端子は、前記基準電位に設定さ
れており、 前記オペアンプの出力端子と負入力端子との間には、電
荷吸収用コンデンサと、リセットパルスが入力されると
該出力端子と負入力端子とを接続するリセット用スイッ
チング素子とが並列に接続されていることを特徴とする
密着型エリアセンサ。
2. The contact area sensor according to claim 1, wherein the light receiving voltage generating circuit includes an operational amplifier, the light receiving voltage is a signal output from an output terminal of the operational amplifier, and the signal wiring is the signal wiring. Connected to the negative input terminal of the operational amplifier, the positive input terminal of the operational amplifier is set to the reference potential, between the output terminal of the operational amplifier and the negative input terminal, a charge absorption capacitor and a reset A contact-type area sensor, wherein a reset switching element that connects the output terminal and the negative input terminal when a pulse is input is connected in parallel.
【請求項3】 請求項2記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記リセット用スイッチング素子と前記負入力端子とを
結ぶ配線上には、第1の抵抗が形成されており、 前記リセット用スイッチング素子と前記第1の抵抗とを
結ぶ配線は、第2の抵抗を介して、前記基準電位に設定
されていることを特徴とする密着型エリアセンサ。
3. The contact area sensor according to claim 2, wherein a first resistor is formed on a wiring connecting the reset switching element and the negative input terminal, and the reset switching element is connected to the reset switching element. The contact area sensor, wherein the wiring connecting to the first resistor is set to the reference potential via a second resistor.
【請求項4】 請求項3記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記オペアンプの出力端子は、第4の抵抗を介して、前
記基準電位に設定されており、 前記オペアンプの出力端子と前記第4の抵抗とを結ぶ配
線上には第3の抵抗が形成されており、 前記電荷吸収用コンデンサの端子のうち、前記オペアン
プの出力端子側に接続されている端子は、前記第3の抵
抗と前記第4の抵抗との中点に接続されており、 前記リセット用スイッチング素子の端子のうち、前記オ
ペアンプの出力端子側に接続されている端子は、前記出
力端子と前記第3の抵抗とを結ぶ配線上に接続されてい
ることを特徴とする密着型エリアセンサ。
4. The contact area sensor according to claim 3, wherein the output terminal of the operational amplifier is set to the reference potential via a fourth resistor, and the output terminal of the operational amplifier and the fourth terminal are connected to each other. A third resistor is formed on a wire connecting the resistor and a terminal connected to the output terminal side of the operational amplifier among terminals of the charge absorbing capacitor is the third resistor and the third resistor. 4 is connected to the middle point of the resistor, and among the terminals of the reset switching element, the terminal connected to the output terminal side of the operational amplifier is a wiring connecting the output terminal and the third resistor. A contact area sensor characterized by being connected to the top.
【請求項5】 請求項1記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記受光電圧発生回路は第1のオペアンプおよび第2の
オペアンプを具備し、 前記受光電圧は、前記第1のオペアンプの出力端子から
出力される信号であり、 前記第1のオペアンプの出力端子と前記第2のオペアン
プの正入力端子とが接続されており、 前記信号配線が前記第1のオペアンプの負入力端子に接
続されており、 前記第1のオペアンプの正入力端子、および、前記第2
のオペアンプの負入力端子は、前記基準電位に設定され
ており、 前記第1のオペアンプの出力端子と該第1のオペアンプ
の負入力端子との間には、電荷吸収用コンデンサが接続
されており、 前記第2のオペアンプの出力端子と該第1のオペアンプ
の負入力端子との間には、リセットパルスが入力される
と該出力端子と負入力端子とを接続するリセット用スイ
ッチング素子とが並列に接続されており、 前記リセット用スイッチング素子と前記第1のオペアン
プの負入力端子とを結ぶ配線上には、第1の抵抗が形成
されており、 前記リセット用スイッチング素子と前記第1の抵抗とを
結ぶ配線は、第2の抵抗を介して、前記基準電位に設定
されていることを特徴とする密着型エリアセンサ。
5. The contact area sensor according to claim 1, wherein the light receiving voltage generating circuit includes a first operational amplifier and a second operational amplifier, and the light receiving voltage is output from an output terminal of the first operational amplifier. The output terminal of the first operational amplifier and the positive input terminal of the second operational amplifier are connected, and the signal wiring is connected to the negative input terminal of the first operational amplifier, The positive input terminal of the first operational amplifier, and the second
The negative input terminal of the operational amplifier is set to the reference potential, and a charge absorption capacitor is connected between the output terminal of the first operational amplifier and the negative input terminal of the first operational amplifier. Between the output terminal of the second operational amplifier and the negative input terminal of the first operational amplifier, a reset switching element that connects the output terminal and the negative input terminal is connected in parallel when a reset pulse is input. A first resistor is formed on a line connecting the reset switching element and the negative input terminal of the first operational amplifier, and the reset switching element and the first resistor are connected to each other. The contact type area sensor, wherein a wiring connecting to and is set to the reference potential via a second resistor.
【請求項6】 請求項1記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記受光電圧発生回路はオペアンプを具備し、 前記受光電圧は、前記オペアンプの出力端子から出力さ
れる信号であり、 前記信号配線が前記オペアンプの負入力端子に接続され
ており、 前記オペアンプの正入力端子は、基準電位に設定されて
おり、 前記オペアンプの出力端子と負入力端子との間には、受
光電圧をフィードバックする抵抗素子が接続されている
ことを特徴とする密着型エリアセンサ。
6. The contact area sensor according to claim 1, wherein the light receiving voltage generating circuit includes an operational amplifier, the light receiving voltage is a signal output from an output terminal of the operational amplifier, and the signal wiring is the signal wiring. Connected to the negative input terminal of the operational amplifier, the positive input terminal of the operational amplifier is set to the reference potential, between the output terminal of the operational amplifier and the negative input terminal, there is a resistance element for feeding back the received light voltage. Contact type area sensor characterized by being connected.
【請求項7】 請求項1記載の密着型エリアセンサにお
いて、 前記受光電圧発生回路はトランジスタ素子を具備し、 前記トランジスタ素子のゲート端子(またはベース端
子)が前記信号配線に接続されており、 前記トランジスタ素子のソース端子(またはエミッタ端
子)が前記基準電位に保持されており、 前記トランジスタ素子のドレイン端子とゲート端子との
間(または前記トランジスタ素子のコレクタ端子とベー
ス端子との間)には、電荷吸収用コンデンサと、リセッ
トパルスが入力されると、前記トランジスタ素子のドレ
イン端子とゲート端子との間(または前記トランジスタ
素子のコレクタ端子とベース端子との間)を接続するリ
セット用スイッチング素子とが並列に接続されており、 前記信号配線は前記バイアス電位に保持されていること
を特徴とする密着型エリアセンサ。
7. The contact area sensor according to claim 1, wherein the received voltage generating circuit includes a transistor element, and a gate terminal (or a base terminal) of the transistor element is connected to the signal line, The source terminal (or emitter terminal) of the transistor element is held at the reference potential, and between the drain terminal and the gate terminal of the transistor element (or between the collector terminal and the base terminal of the transistor element), A charge absorbing capacitor and a reset switching element that connects between the drain terminal and the gate terminal of the transistor element (or between the collector terminal and the base terminal of the transistor element) when a reset pulse is input They are connected in parallel, and the signal wiring is held at the bias potential. Contact area sensor, characterized in that there.
【請求項8】 請求項1ないし請求項7のいずれかに記
載の密着型エリアセンサにおいて、 前記電荷放出用端子と受光電圧発生回路とを結ぶ信号配
線は、保護抵抗を有することを特徴とする密着型エリア
センサ。
8. The contact area sensor according to claim 1, wherein the signal wiring connecting the charge discharging terminal and the received light voltage generating circuit has a protective resistance. Contact area sensor.
JP8040144A 1995-12-07 1996-02-27 Contact area sensor Withdrawn JPH09219823A (en)

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JP8040144A JPH09219823A (en) 1995-12-07 1996-02-27 Contact area sensor

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JP7-319351 1995-12-07
JP31935195 1995-12-07
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11103420A (en) * 1997-09-26 1999-04-13 Sony Corp Solid-state image pickup device and driving method therefor
US6507010B1 (en) 1999-05-11 2003-01-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Contact area sensor
JP2005117281A (en) * 2003-10-06 2005-04-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Image reading apparatus
JP2007513495A (en) * 2003-10-22 2007-05-24 マイクロン テクノロジー インコーポレイテッド Dual capacitor structure for imager and manufacturing method thereof
US7279673B2 (en) 2000-05-08 2007-10-09 Semiconductor Energy Lab Sensor, scanner and portable information terminal each having liquid crystal display
JP2007328143A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Epson Imaging Devices Corp Display panel
JP2008228265A (en) * 2007-02-14 2008-09-25 Fujifilm Corp Imaging apparatus

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