JPH09214065A - Hologram type semiconductor laser device and its fabrication method - Google Patents

Hologram type semiconductor laser device and its fabrication method

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JPH09214065A
JPH09214065A JP31315396A JP31315396A JPH09214065A JP H09214065 A JPH09214065 A JP H09214065A JP 31315396 A JP31315396 A JP 31315396A JP 31315396 A JP31315396 A JP 31315396A JP H09214065 A JPH09214065 A JP H09214065A
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JP
Japan
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hologram
semiconductor laser
laser device
resin
type semiconductor
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Application number
JP31315396A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahide Ishiguro
敬英 石黒
Naotaka Otsuka
尚孝 大塚
Osamu Ishiguro
理 石黒
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent an adhesive from flowing out upon adjustment of the position of a device by providing means for preventing a flow of resin from an adhesive layer of a hologram type semiconductor laser device including the adhesive layer for bonding a hologram device to a cap part. SOLUTION: A light deflection hologram pattern 9, a grating pattern 10, and a cutout part 12 are formed on a hologram device 3. A temporary fixing ultraviolet curing resin 20 is applied on a peripheral edge of an opening 4a in the upper surface 2a of a body 2 to temporarily fix the device 3 to the body 2. Main fixing ultraviolet curing resin 21 is applied on the cutout part 12 in a bonding portion of the body 2 and the device 3 of a syringe. The resin 21 is applied on the outside of the resin 20. The resin 21 is irradiated with ultraviolet rays P and is cured. Hereby, the device 3 is mainly fixed to the body 2. Since there is the cutout 12, the adhesive is prevented from flowing out upon position adjustment of the device 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CD、CD―RO
M、MDなどのピックアップ等に使用されるホログラム
型半導体レーザ装置およびその製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a CD and a CD-RO.
The present invention relates to a hologram semiconductor laser device used for pickup of M, MD, etc. and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来例のホログラム型半導体レーザ装置
の外観図を図8に示し、その断面図を図9に示す。図8
及び図9において、従来例のホログラム型半導体レーザ
装置50は、本体部51と、ホログラム素子52とを備
えている。本体部51は、上端に開口53aを有する金
属製キャップ53に信号読み取り用の光源となる半導体
レーザ54と戻り光信号を読み取る受光素子55とを内
蔵した上で、開口53aをキャップガラス56によって
覆うことにより構成されている。ホログラム素子52
は、石英ガラス基板から成っており、その上面には光偏
向用のホログラムパターン57が、また、底面には3ビ
ーム生成用のグレーティングパターン58がそれぞれ形
成されている。そして、本体部51の上面、すなわち、
レーザ光の出入射面に、接着層59によってホログラム
素子52を固定して、ホログラム型半導体レーザ装置5
0が構成されている。
2. Description of the Related Art An external view of a conventional hologram type semiconductor laser device is shown in FIG. 8 and its sectional view is shown in FIG. FIG.
In addition, in FIG. 9, the hologram type semiconductor laser device 50 of the conventional example includes a main body portion 51 and a hologram element 52. The main body 51 has a metal cap 53 having an opening 53a at the upper end, a semiconductor laser 54 serving as a light source for reading a signal, and a light receiving element 55 for reading a return light signal, and the opening 53a is covered with a cap glass 56. It is composed of Hologram element 52
Is made of a quartz glass substrate, and a hologram pattern 57 for light deflection is formed on the upper surface thereof, and a grating pattern 58 for generating three beams is formed on the bottom surface thereof. Then, the upper surface of the main body 51, that is,
The hologram element 52 is fixed to the laser light incident / incident surface by the adhesive layer 59, and the hologram semiconductor laser device 5 is obtained.
0 is configured.

【0003】このように構成された従来例のホログラム
型半導体レーザ装置50は次のようにして製造されてい
た。すなわち、図10(a)に示すように、仮固定用紫
外線硬化樹脂60を本体部51の上面(開口53a形成
面)の対角線上に2ケ所、もしくは、図示はしないが、
等間隔に離間させた4ケ所にシリンジSを用いて塗布す
る。シリンジSとは注射器状のもので、接着樹脂を注入
するための器具である。接着樹脂としてはアクリル系の
紫外線硬化樹脂が一般に用いられる。
The conventional hologram type semiconductor laser device 50 having such a structure is manufactured as follows. That is, as shown in FIG. 10A, the temporary fixing ultraviolet curable resin 60 is provided at two locations on the diagonal line of the upper surface of the main body 51 (the surface on which the opening 53a is formed), or although not shown.
Application is performed using a syringe S at four locations that are separated at equal intervals. The syringe S is in the shape of a syringe and is a device for injecting an adhesive resin. As the adhesive resin, an acrylic UV curable resin is generally used.

【0004】そして、本体部51の上面にホログラム素
子52を搭載する。さらに、この状態で、図10(b)
に示すように、ホログラム素子52の上方に配置した
(図示省略の)光ディスクからの戻り光Lを受光し、受
光した戻り光Lの受光状熊が最適となる位置にホログラ
ム素子52を位置補正した後、紫外線Pを仮固定用紫外
線硬化樹脂60に照射して硬化させることで、ホログラ
ム素子52を本体部51に仮固定する。
Then, the hologram element 52 is mounted on the upper surface of the main body 51. Further, in this state, FIG.
As shown in FIG. 5, the return light L from the optical disk (not shown) arranged above the hologram element 52 is received, and the position of the hologram element 52 is corrected to the position where the light receiving bear of the received return light L is optimum. Then, the hologram element 52 is temporarily fixed to the main body 51 by irradiating the ultraviolet fixing resin 60 for temporary fixing with the ultraviolet ray P to cure it.

【0005】ホログラム素子52を仮固定したのち、図
10(c)に示すように、固定強度を高めるために本固
定用紫外線硬化樹指61をホログラム素子52の周囲に
塗布する。その塗布の後は、本固定用紫外線硬化樹脂6
1に紫外線Pを照射して硬化させることで、ホログラム
素子52を本体部51に本固定する。なお、図8及び図
9を参照して説明した上記接着層59は本固定用紫外線
硬化樹脂6lと仮固定用紫外線硬化樹脂60とから構成
されている。
After the hologram element 52 is temporarily fixed, as shown in FIG. 10 (c), a main fixing ultraviolet-curing resin finger 61 is applied around the hologram element 52 in order to increase the fixing strength. After the application, the UV-curable resin 6 for permanent fixing
The hologram element 52 is permanently fixed to the main body portion 51 by irradiating the ultraviolet ray 1 onto the ultraviolet ray 1 to cure it. The adhesive layer 59 described with reference to FIGS. 8 and 9 is composed of a main fixing ultraviolet curing resin 6l and a temporary fixing ultraviolet curing resin 60.

【0006】このようにして、ホログラム素子52を本
固定するのであるが、その本固定用紫外線硬化樹脂61
をホログラム素子52の周囲全周にわたって塗布すれ
ば、その固定強度は高まり、さらには、ホログラム素子
52とキャップガラス56との間に形成された内部空間
に湿気が侵入しにくくなる。
In this way, the hologram element 52 is permanently fixed. The main fixing ultraviolet-curing resin 61 is fixed.
Is applied over the entire circumference of the hologram element 52, its fixing strength is increased, and furthermore, it becomes difficult for moisture to enter the internal space formed between the hologram element 52 and the cap glass 56.

【0007】しかしながら、このようにして湿気を侵入
させにくくしても極めて温度の高い環境下においては、
湿気の侵入を完全に防止するまでには至らない。むし
ろ、このような湿気侵入防止構造では、一旦、ホログラ
ム型半導体レーザ装置50内に浸入した湿気が、ホログ
ラム素子52の全周を覆う接着層59によって外部に発
散しなくなってホログラム素子52底面にあるグレーテ
ィングパターン58に結露となって付着することにな
る。このような結露はホログラム出射光のビーム形状の
劣化とか光強度の劣化などの要因となり、光ディスクか
らの信号が得られなくなるなどの問題を起こす結果とな
る。
However, even if it is difficult for moisture to enter in this way, in an environment of extremely high temperature,
It is not enough to completely prevent the ingress of moisture. Rather, in such a moisture intrusion prevention structure, the moisture once entering the hologram semiconductor laser device 50 does not diffuse to the outside by the adhesive layer 59 covering the entire circumference of the hologram element 52 and is present on the bottom surface of the hologram element 52. Condensation forms on the grating pattern 58 and adheres thereto. Such dew condensation causes factors such as deterioration of the beam shape of hologram output light and deterioration of light intensity, resulting in a problem that a signal from the optical disk cannot be obtained.

【0008】そこで、車載用機器等、湿気に対して特に
厳しい性能が要求される環境下に使用されるホログラム
型半導体レーザ装置50においては、ホログラム素子5
2を次のようにして固定していた。すなわち、本固定用
紫外線硬化樹脂61を仮固定用紫外線硬化樹脂60と同
―位置、つまり、図9の例では本体部51の上面の対角
線上2ケ所に塗布したうえでホログラム素子52を本体
部51に固定していた。
Therefore, in the hologram type semiconductor laser device 50 used in an environment where particularly severe performance is required against moisture such as in-vehicle equipment, the hologram element 5 is used.
2 was fixed as follows. That is, the main fixing ultraviolet curable resin 61 is applied at the same position as the temporary fixing ultraviolet curable resin 60, that is, in the example of FIG. It was fixed at 51.

【0009】このようにして固定した場合においては、
ホログラム素子52と本体部51との間の前記塗布した
以外の箇所に接着隙間が形成されるので、湿気はホログ
ラム素子52とキャップガラス56との間に形成された
内部空間に侵入しやすい構造となるが、侵入した湿気そ
のものは短時間で前記内部空間から接着隙間を通って外
部に容易に抜けていくので、車載用等、湿気に関して厳
しい条件が要求される環境下においても光ディスクから
の信号の入力を確実に行うことができる。
When fixed in this way,
Since an adhesive gap is formed between the hologram element 52 and the main body portion 51 other than the area where the coating is applied, moisture easily enters the internal space formed between the hologram element 52 and the cap glass 56. However, since the invading moisture itself easily escapes from the internal space to the outside through the adhesive gap in a short time, the signal from the optical disk can be transmitted even under the environment where severe conditions regarding moisture are required such as for in-vehicle use. It is possible to input reliably.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに構成することで、ホログラム素子と本体部との接着
強度を増加させることはできたが、ホログラム素子の仮
固定用紫外線硬化樹脂を2点または4点などのスポット
状に塗布した場合、この仮固定用紫外線樹脂の粘度が低
いため、この樹脂が流れ出して、本来通気口となるべき
部分を塞ぐという問題があった。
However, although it was possible to increase the adhesive strength between the hologram element and the main body portion with such a configuration, two or more ultraviolet curing resins for temporary fixing of the hologram element are used. When applied in spots such as four spots, the viscosity of the temporary fixing ultraviolet resin is low, so that the resin flows out, and there is a problem in that a portion that should originally serve as a vent is closed.

【0011】また、本固定用紫外線硬化樹脂の粘度が低
いため、この樹脂がキャップ側面へと流れ出して、キャ
ップの外径が大きくなり、ピックアップのハウジングに
ホログラム型半導体レーザが収納出来なくなるという問
題があった。
Further, since the UV-curing resin for main fixing has a low viscosity, this resin flows out to the side surface of the cap, the outer diameter of the cap increases, and the hologram semiconductor laser cannot be housed in the housing of the pickup. there were.

【0012】本発明は、キャップ側面に樹脂が流れなく
すると共に、湿気に対して良好な特性を維持しつつ、ホ
ログラム素子の接着強度を高められるようにすることを
課題としている。
An object of the present invention is to prevent the resin from flowing to the side surface of the cap and to improve the adhesive strength of the hologram element while maintaining good characteristics against moisture.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
ホログラム型半導体レーザ装置は、発光部、受光部及び
該発光部と該受光部とを覆うキャップ部とを備えた本体
部と、前記本体部の光の出入射方向の該キャップ部上面
に配置されるホログラム素子と、前記キャップ部に前記
ホログラム素子を接着する接着層とを備えたホログラム
型半導体レーザ装置において、該接着層からの樹脂の流
れを防止するための手段を設けたことを特徴とするもの
である。
A hologram-type semiconductor laser device according to claim 1 of the present invention includes a main body portion having a light emitting portion, a light receiving portion, and a cap portion covering the light emitting portion and the light receiving portion. A hologram-type semiconductor laser device comprising: a hologram element arranged on the upper surface of the cap portion in the light outgoing / incident direction of the main body portion; and an adhesive layer for adhering the hologram element to the cap portion. It is characterized in that means for preventing the flow of the resin is provided.

【0014】また、本発明の請求項2記載のホログラム
型半導体レーザ装置は、前記接着層からの樹脂の流れを
防止するための手段として、前記ホログラム素子の前記
キャップ部上面との接着面側に切り欠き部を設けたこと
を特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a hologram-type semiconductor laser device, wherein means for preventing the resin from flowing from the adhesive layer is provided on the adhesive surface side of the hologram element with the upper surface of the cap portion. It is characterized in that a notch portion is provided.

【0015】また、本発明の請求項3記載のホログラム
型半導体レーザ装置は、前記ホログラム素子の切り欠き
部は少なくとも2箇所以上であることを特徴とするもの
である。
Further, the hologram type semiconductor laser device according to claim 3 of the present invention is characterized in that at least two cutout portions of the hologram element are provided.

【0016】また、本発明の請求項4記載のホログラム
型半導体レーザ装置は、前記ホログラム素子との接着面
側の前記キャップ部に切り欠き部を設けたことを特徴と
するものである。
A hologram semiconductor laser device according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that a notch portion is provided in the cap portion on the adhesive surface side with the hologram element.

【0017】また、本発明の請求項5記載のホログラム
型半導体レーザ装置の製造方法は、前記本体部の光の出
入射方向に沿った上面に配置されるホログラム素子と、
前記キャップ部に前記ホログラム素子を接着する接着層
とを備えたホログラム型半導体レーザ装置の製造方法で
あって、ホログラムパターンまたはグレーティングパタ
ーンを成形する際同時に前記ホログラム素子の切り欠き
部を形成することを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a hologram semiconductor laser device manufacturing method, wherein a hologram element is arranged on an upper surface of the main body along a light outgoing / incident direction.
A method of manufacturing a hologram-type semiconductor laser device comprising an adhesive layer for adhering the hologram element to the cap portion, wherein the notch portion of the hologram element is formed at the same time when forming a hologram pattern or a grating pattern. It is a feature.

【0018】また、本発明の請求項6記載のホログラム
型半導体レーザ装置は、前記接着層からの樹脂の流れを
防止するための手段として、前記キャップ部の前記ホロ
グラム素子との接着面側に凹部を設けたことを特徴とす
るものである。
Further, in the hologram type semiconductor laser device according to claim 6 of the present invention, as a means for preventing the flow of the resin from the adhesive layer, a concave portion is provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element. Is provided.

【0019】また、本発明の請求項7記載のホログラム
型半導体レーザ装置は、前記接着層からの樹脂の流れを
防止するための手段として、前記キャップ部の前記ホロ
グラム素子との接着面側に凸部を設けたことを特徴とす
るものである。
Further, in the hologram type semiconductor laser device according to claim 7 of the present invention, as a means for preventing the flow of the resin from the adhesive layer, the cap portion is convex on the adhesive surface side to the hologram element. It is characterized in that a section is provided.

【0020】さらに、本発明の請求項8記載のホログラ
ム型半導体レーザ装置は、前記接着層からの樹脂の流れ
を防止するための手段として、前記キャップ部の前記ホ
ログラム素子との接着面側に凹部及び凸部を設けたこと
を特徴とするものである。
Further, in the hologram type semiconductor laser device according to claim 8 of the present invention, as a means for preventing the flow of the resin from the adhesive layer, a concave portion is provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element. And a convex portion is provided.

【0021】[作用]ホログラム型半導体レーザ装置の
前記接着層からの樹脂の流れを防止するための手段とし
て、前記ホログラム素子に切り欠き部を設けることによ
って、仮固定用紫外線樹脂の流れ出す領域を制限し、ま
た本来通気口となるべき部分を確保するという課題を解
決している。
[Operation] As a means for preventing the flow of resin from the adhesive layer of the hologram type semiconductor laser device, a cutout portion is provided in the hologram element to limit the area where the temporary fixing ultraviolet resin flows out. In addition, it solves the problem of securing a part that should originally be a vent.

【0022】また、ホログラム型半導体レーザ装置の前
記接着層からの樹脂の流れを防止するための手段とし
て、前記本体部上面のホログラム素子との接着面側に切
り欠き部を設けることによって、仮固定用紫外線樹脂の
流れ出す領域を制限し、また本来通気口となるべき部分
を確保するという課題を解決している。
As a means for preventing the resin from flowing from the adhesive layer of the hologram type semiconductor laser device, a notch is provided on the adhesive surface side of the upper surface of the main body portion with the hologram element to temporarily fix it. It solves the problem of limiting the area from which the UV resin for use flows out and securing a portion that should originally serve as a ventilation port.

【0023】さらに、ホログラム型半導体レーザ装置の
前記接着層からの樹脂の流れを防止するための手段とし
て、前記本体部上面のホログラム素子との接着面側に凹
部または凸部を設けることによって、仮固定用紫外線樹
脂及び本固定用紫外線樹脂の流れを制限し、この樹脂が
キャップ側面へと流れ出し、キャップの外径が大きくな
り、ピックアップのハウジングにホログラム型半導体レ
ーザが収納出来なくなるという課題を解決している。
Further, as means for preventing the flow of resin from the adhesive layer of the hologram semiconductor laser device, a concave portion or a convex portion is provided on the upper surface of the main body portion on the adhesive surface side to the hologram element. Solves the problem that the flow of the fixing UV resin and the main fixing UV resin is restricted, this resin flows out to the side surface of the cap, the outer diameter of the cap increases, and the hologram semiconductor laser cannot be stored in the pickup housing. ing.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】図1乃至図7は本発明の一実施の
形態よりなるホログラム型半導体レーザ装置を示す図で
ある。図1は該半導体レーザ装置の全体構成を示す斜視
図であり、図2はホログラム素子に切り欠き部を示す図
であり、図3は同じくホログラム型半導体レーザ装置の
組み立て工程を示す図であり、図4は同じく切り欠き部
を本体部上面に設けた別の実施の形態を示すホログラム
型半導体レーザ装置の組み立て工程を示す図である。
1 to 7 are views showing a hologram type semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view showing the entire configuration of the semiconductor laser device, FIG. 2 is a view showing a cutout portion in a hologram element, and FIG. 3 is a view showing an assembly process of the hologram semiconductor laser device, FIG. 4 is a diagram showing an assembling process of a hologram type semiconductor laser device showing another embodiment in which the notch portion is also provided on the upper surface of the main body portion.

【0025】図1は該ホログラム型半導体レーザ装置の
全体構成図を示す斜視図であり、このホログラム型半導
体レーザ装置1は、本体部2と、ホログラム素子3とを
備えている。本体部2は、上端に開口部4aを有する金
属製キャップ部4に信号読み取り用の光源となる発光部
である半導体レーザ5と戻り光信号を読み取る受光部で
ある受光素子6とを内蔵した上で、開口部4aをキャッ
プガラス7によって覆うことで構成されている。8は本
体部のステム部である。ホログラム素子3は、石英ガラ
ス基板から成っており、その上面3aには光偏向用のホ
ログラムパターン9が、また、底面3bには3ビーム生
成用のグレーティングパターン10がそれぞれ形成され
ている。
FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of the hologram semiconductor laser device. This hologram semiconductor laser device 1 comprises a main body 2 and a hologram element 3. The main body 2 has a metal cap portion 4 having an opening 4a at the upper end and a semiconductor laser 5 which is a light emitting portion serving as a light source for signal reading and a light receiving element 6 which is a light receiving portion for reading a return light signal. The opening 4a is covered with the cap glass 7. Reference numeral 8 is a stem portion of the main body portion. The hologram element 3 is made of a quartz glass substrate, and a hologram pattern 9 for light deflection is formed on the upper surface 3a thereof, and a grating pattern 10 for generating three beams is formed on the bottom surface 3b thereof.

【0026】そして、本体部2の上面2a、すなわち、
レーザ光の出入射面に、接着層13によってホログラム
素子3を固定して、ホログラム型半導体レーザ装置1が
構成されている。そして、12はホログラム素子3の一
部に設けられた切り欠き部であり、過剰の紫外線硬化接
着剤の流れ出しを防ぐためのものである。
The upper surface 2a of the main body 2, that is,
The hologram-type semiconductor laser device 1 is configured by fixing the hologram element 3 to the outgoing / incident surface of the laser light with the adhesive layer 13. Reference numeral 12 denotes a cutout portion provided in a part of the hologram element 3 for preventing the excessive UV curable adhesive from flowing out.

【0027】図2は光偏向用のホログラムパターン9お
よび底面に3ビーム生成用のグレーティングパターン1
0を備えたホログラム素子3の切り欠き部12を示す図
であり、図2(a)は切り欠き部2個を対角線上に設け
た場合であり、図2(b)は切り欠き部4個をホログラ
ム素子3の4つの隅に離散して設けた場合である。そし
て、切り欠き部が2個以上の複数個であれば、本発明の
効果を得ることが出来る。
FIG. 2 shows a hologram pattern 9 for light deflection and a grating pattern 1 for generating three beams on the bottom surface.
It is a figure which shows the notch part 12 of the hologram element 3 provided with 0, FIG.2 (a) is the case where two notch parts are provided on a diagonal, and FIG.2 (b) is four notch parts. Is provided in a discrete manner at the four corners of the hologram element 3. The effect of the present invention can be obtained when the number of the cutout portions is two or more.

【0028】また、ホログラム素子は石英ガラス基板ま
たは硬質ガラス等を材料として、フォトエッチング法や
ドライエッチング法を適用して作成される場合と、アク
リル系樹脂或いはエポキシ系樹脂をを材料として成型に
より作成される場合とがある。樹脂系材料によるホログ
ラム素子の場合は、光偏向用のホログラムパターン9と
3ビーム生成用のグレーティングパターン10及び切り
欠き部12は同一工程で作成される。このように、ホロ
グラム素子3を樹脂製にすれば、前記切り欠き部の形成
をホログラムパターンまたはグレーティングパターンを
成形する際同時に前記ホログラム素子の切り欠き部を形
成することが出来て、製造工程の簡略化及び製造歩留の
向上を行うことが出来て、信頼性の高いホログラム型半
導体レーザ装置を得ることが出来る。
The hologram element is formed by applying a photo-etching method or a dry-etching method using a quartz glass substrate or hard glass as a material, or by molding using an acrylic resin or an epoxy resin as a material. There are cases where it will be done. In the case of the hologram element made of a resin material, the hologram pattern 9 for light deflection, the grating pattern 10 for generating three beams, and the cutout portion 12 are formed in the same process. In this way, if the hologram element 3 is made of resin, the notch portion of the hologram element can be formed at the same time when the notch portion is formed into the hologram pattern or the grating pattern, which simplifies the manufacturing process. It is possible to obtain a hologram-type semiconductor laser device having high reliability by improving the production efficiency and the manufacturing yield.

【0029】次に、本発明のホログラム型半導体レーザ
装置1の組み立て方法を説明する。図3(a)におい
て、ホログラム素子3には光偏向用のホログラムパター
ン9と3ビーム生成用のグレーティングパターン10及
び切り欠き部12が形成されている。本体部2の上面2
aの開口部4aの周縁に仮固定用紫外線硬化樹脂20を
塗布する。仮固定用紫外線硬化樹脂20は上面2aの対
角線上の2点もしくは、互いに直交する対角線上の4点
(図示されず)に塗布される。仮固定用紫外線硬化樹脂
20を塗布したのち、本体部2の上面2aにホログラム
素子3を搭載する。その際、底面3bに形成した切り欠
き部12が仮固定用紫外線硬化樹脂20の近傍上に位置
するようにホログラム素子3を配置する。
Next, a method for assembling the hologram type semiconductor laser device 1 of the present invention will be described. In FIG. 3A, the hologram element 3 is provided with a hologram pattern 9 for light deflection, a grating pattern 10 for generating three beams, and a cutout portion 12. Upper surface 2 of main body 2
The ultraviolet curable resin 20 for temporary fixing is applied to the periphery of the opening 4a of a. The UV-curable resin 20 for temporary fixing is applied to two points on the upper surface 2a on diagonal lines or four points (not shown) on diagonal lines orthogonal to each other. After applying the temporary fixing ultraviolet curable resin 20, the hologram element 3 is mounted on the upper surface 2 a of the main body 2. At that time, the hologram element 3 is arranged such that the cutout portion 12 formed on the bottom surface 3b is located in the vicinity of the temporary fixing ultraviolet curable resin 20.

【0030】そして、この状態で、図3(b)に示すよ
うに、ホログラム素子3の上方に配置した光ディスク
(図示省略)からの戻り光Lを受光し、受光した戻り光
Lの受光状熊が最適になるようにホログラム素子3を位
置補正した後、ピーク波長λ=365nmの紫外線Pを
仮固定用紫外線硬化樹脂20に約3秒間程度照射して硬
化させる。これによってホログラム素子3を本体部2に
仮固定する。
Then, in this state, as shown in FIG. 3B, the return light L from the optical disc (not shown) arranged above the hologram element 3 is received, and the received light L of the received return light L is received. After the position of the hologram element 3 is corrected so as to be optimal, the temporary fixing ultraviolet curable resin 20 is irradiated with the ultraviolet ray P having the peak wavelength λ = 365 nm for about 3 seconds to be cured. Thereby, the hologram element 3 is temporarily fixed to the main body 2.

【0031】ホログラム素子3を仮固定したのち、図3
(c)に示すように、固定強度を増すために本固定用紫
外線硬化樹指21をシリンジSを用いて本体部2とホロ
グラム素子3との接着部位である切り欠き部12に塗布
する。本固定用紫外線硬化樹脂21は、仮固定用紫外線
硬化樹脂20の塗布位置の外側に塗布する。本固定用紫
外線硬化樹脂21の塗布が終了したのち、ピーク波長λ
=365nmの紫外線Pを約10秒間程度照射して、本
固定用紫外線硬化樹脂21を硬化させる。これにより、
ホログラム素子3を本体部2に本固定される。
After temporarily fixing the hologram element 3, FIG.
As shown in (c), in order to increase the fixing strength, the main fixing ultraviolet-curing resin finger 21 is applied to the notch 12 which is the bonding portion between the main body 2 and the hologram element 3 using the syringe S. The main fixing UV curable resin 21 is applied to the outside of the application position of the temporary fixing UV curable resin 20. After the application of the main fixing UV curable resin 21 is completed, the peak wavelength λ
The ultraviolet ray P of 365 nm is irradiated for about 10 seconds to cure the main fixing ultraviolet ray curing resin 21. This allows
The hologram element 3 is permanently fixed to the main body 2.

【0032】仮固定用紫外線硬化樹脂及び本固定用紫外
線硬化樹脂の粘度は共に400p(ポアズ)程度であ
り、流動性の高い樹脂であるが、上記切り欠き部12が
あるため、ホログラム素子3の位置調整時の接着剤の流
出を防ぐことができる。
The viscosities of the temporary fixing ultraviolet-curing resin and the main fixing ultraviolet-curing resin are both about 400 p (poise) and they have high fluidity, but because of the notch 12, the hologram element 3 has It is possible to prevent the adhesive from flowing out when adjusting the position.

【0033】このようにして固定した場合においては、
ホログラム素子3と本体部2との間の前記塗布した以外
の箇所に接着隙間が形成されるので、湿気はホログラム
素子3とキャップガラス7との間に形成された内部空間
に侵入しやすい構造が確保され、侵入した湿気そのもの
は短時間で前記内部空間から接着隙間を通って外部に容
易に抜けていくので、車載用等、湿気に関して厳しい条
件が要求される環境下においても光ディスクからの信号
の入力を確実に行うことができる。
When fixed in this way,
Since an adhesive gap is formed between the hologram element 3 and the main body portion 2 at a portion other than the above-mentioned coated portion, moisture has a structure in which moisture easily enters the internal space formed between the hologram element 3 and the cap glass 7. The moisture that is secured and invades easily from the internal space through the adhesive gap to the outside in a short time.Therefore, even in an environment such as a vehicle, where severe conditions regarding moisture are required It is possible to input reliably.

【0034】このホログラム型半導体レーザ装置1で
は、上記したように仮固定用紫外線硬化樹脂20と本固
定用紫外線硬化樹脂21とから接着層l3が構成されて
いる。
In this hologram type semiconductor laser device 1, as described above, the adhesive layer 13 is composed of the temporary fixing ultraviolet curable resin 20 and the main fixing ultraviolet curable resin 21.

【0035】図4は同じく切り欠き部を本体部上面に設
けた別の実施の形態を示すホログラム型半導体レーザ装
置の組み立て工程を示す図である。ホログラム素子が石
英製か硬質ガラス製の場合、ホログラム素子自体に切り
欠き部を設けることはやや困難であることから、紫外線
硬化樹脂の流れを防止するための切り欠き部を本体部2
の金属キャップ部4の上表面2aにこの切り欠き部を設
けても同じ効果を奏することができる。図4(a)にお
いて、金属キャップ部4の上表面2aにこの切り欠き部
12aを設けたものである。図3において説明した通
り、図4(b)において、この切り欠き部12aに先ず
仮固定用紫外線硬化樹脂20および本固定用樹脂21を
対角2点に塗布しホログラム素子3の固定を行うもので
ある。
FIG. 4 is a view showing an assembling process of a hologram type semiconductor laser device showing another embodiment in which the notch portion is also provided on the upper surface of the main body portion. When the hologram element is made of quartz or hard glass, it is somewhat difficult to provide the notch portion in the hologram element itself. Therefore, the notch portion for preventing the flow of the ultraviolet curable resin is provided in the main body portion 2.
The same effect can be achieved by providing this cutout portion on the upper surface 2a of the metal cap portion 4. In FIG. 4A, the cutout portion 12a is provided on the upper surface 2a of the metal cap portion 4. As described with reference to FIG. 3, in FIG. 4B, first, the UV fixing resin 20 for temporary fixing and the resin 21 for main fixing are applied to the notch 12a at two diagonal points to fix the hologram element 3. Is.

【0036】図5〜図7は本発明の一実施の形態よりな
る別のホログラム型半導体レーザ装置の略断面図であ
り、接着層からの樹脂の流れを防止するための手段とし
て、図5は前記キャップ部の前記ホログラム素子との接
着面側に凹部を設けた場合の略断面図であり、図6は前
記キャップ部の前記ホログラム素子との接着面側に凸部
を設けた場合の略断面図であり、図7は前記キャップ部
の前記ホログラム素子との接着面側に凹部及び凸部を設
けた場合の略断面図である。
5 to 7 are schematic cross-sectional views of another hologram type semiconductor laser device according to one embodiment of the present invention. FIG. 5 shows a means for preventing the flow of resin from the adhesive layer. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view when a concave portion is provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view when a convex portion is provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view in the case where a concave portion and a convex portion are provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element.

【0037】図5において、このホログラム型半導体レ
ーザ装置17は、本体部2と、ホログラム素子3とを備
えている。本体部2は、上端に開口部14aを有する金
属製キャップ部14に信号読み取り用の光源となる発光
部である半導体レーザ5と戻り光信号を読み取る受光部
である受光素子6とを内蔵した上で、開口部14aをキ
ャップガラス7によって覆うことで構成されている。8
は本体部のステム部である。ホログラム素子3は、石英
ガラス基板から成っており、その上面3aには光偏向用
のホログラムパターン9が、また、底面3bには3ビー
ム生成用のグレーティングパターン10がそれぞれ形成
されている。
In FIG. 5, the hologram semiconductor laser device 17 comprises a main body 2 and a hologram element 3. The main body portion 2 has a metal cap portion 14 having an opening 14a at the upper end and a semiconductor laser 5 which is a light emitting portion serving as a light source for signal reading and a light receiving element 6 which is a light receiving portion for reading a return light signal. Then, the opening 14a is covered with the cap glass 7. 8
Is the stem of the body. The hologram element 3 is made of a quartz glass substrate, and a hologram pattern 9 for light deflection is formed on the upper surface 3a thereof, and a grating pattern 10 for generating three beams is formed on the bottom surface 3b thereof.

【0038】次に、本発明のホログラム型半導体レーザ
装置17の組み立て方法は上述した図3の場合とほぼ同
じであり、その要点を説明する。金属製キャップ部14
には開口部14aの周辺にプレス等により凹部15が形
成されている。開口部14aの周縁に仮固定用紫外線硬
化樹脂20をスポット状に塗布した後、開口部14aの
上面にホログラム素子3を搭載する。この状態で、ホロ
グラム素子3の上方に配置した光ディスク(図示省略)
からの戻り光を受光し、受光した戻り光の受光状熊が最
適になるようにホログラム素子3を位置補正した後、紫
外線を仮固定用紫外線硬化樹脂20に約3秒間程度照射
して硬化させる。これによってホログラム素子3を金属
製キャップ部14に仮固定する。ホログラム素子3を仮
固定したのち、固定強度を増すために本固定用紫外線硬
化樹指21をホログラム素子3の周辺に塗布する。粘度
の低い本固定用紫外線硬化樹脂21は少しながれるが、
金属製キャップ部14に形成されている凹部15によ
り、それ以上の流れが防止される。本固定用紫外線硬化
樹脂21の塗布が終了したのち、紫外線を約10秒間程
度照射して、本固定用紫外線硬化樹脂21を硬化させ
る。これにより、ホログラム素子3を本体部2に本固定
される。このホログラム型半導体レーザ装置17では、
上記した仮固定用紫外線硬化樹脂20及び本固定用紫外
線硬化樹脂21とから接着層l3が構成されている。仮
固定用紫外線硬化樹脂及び本固定用紫外線硬化樹脂の粘
度は共に400p(ポアズ)程度であり、流動性の高い
樹脂であるが、金属製キャップ部14に形成されている
凹部15により、ホログラム素子3の位置調整時の接着
剤の流出を防止し、さらに、本固定用紫外線硬化樹脂の
キャップ側面への流れ出しを防止している。これによ
り、キャップの外径が大きくなり、ピックアップのハウ
ジングにホログラム型半導体レーザが収納出来なくなる
という問題を防止している。
Next, the method of assembling the hologram type semiconductor laser device 17 of the present invention is almost the same as the case of FIG. 3 described above, and the main points will be described. Metal cap 14
A recess 15 is formed around the opening 14a by pressing or the like. After the temporary fixing ultraviolet curable resin 20 is applied in spots on the periphery of the opening 14a, the hologram element 3 is mounted on the upper surface of the opening 14a. In this state, an optical disc (not shown) arranged above the hologram element 3
After the position of the hologram element 3 is corrected so that the light-receiving bear of the received return light is optimized, the temporary fixing ultraviolet curing resin 20 is irradiated with ultraviolet rays for about 3 seconds to be cured. . Thereby, the hologram element 3 is temporarily fixed to the metal cap portion 14. After the hologram element 3 is temporarily fixed, the main fixing ultraviolet curable resin finger 21 is applied to the periphery of the hologram element 3 in order to increase the fixing strength. The UV-curable resin 21 for main fixing, which has a low viscosity, can flow a little,
The recess 15 formed in the metal cap portion 14 prevents further flow. After the application of the main fixing ultraviolet-curing resin 21 is completed, the main fixing ultraviolet-curing resin 21 is cured by irradiating ultraviolet rays for about 10 seconds. As a result, the hologram element 3 is permanently fixed to the main body 2. In this hologram type semiconductor laser device 17,
An adhesive layer 13 is composed of the temporary fixing ultraviolet curable resin 20 and the main fixing ultraviolet curable resin 21. Although both the temporary fixing ultraviolet curable resin and the main fixing ultraviolet curable resin have a viscosity of about 400 p (poise) and have high fluidity, the hologram element is formed by the concave portion 15 formed in the metal cap portion 14. The adhesive is prevented from flowing out when the position of 3 is adjusted, and further, the ultraviolet-curing resin for main fixing is prevented from flowing out to the side surface of the cap. This prevents the problem that the hologram semiconductor laser cannot be housed in the housing of the pickup because the outer diameter of the cap becomes large.

【0039】図6は、金属製キャップ部14とホログラ
ム素子3とを中心とするホログラム型半導体レーザ装置
17の略断面図であり、接着層13からの樹脂の流れを
防止するための手段として、キャップ部14の前記ホロ
グラム素子3との接着面側に凸部16を設けた場合の略
断面図である。また、7はキャップガラス、9は光偏向
用のホログラムパターン、10は3ビーム生成用のグレ
ーティングパターン、13は接着層、14aは開口部で
ある。接着層13は仮固定用紫外線硬化樹脂20及び本
固定用紫外線硬化樹脂21とから構成されている。金属
製キャップ部14に形成されている凸部16により、ホ
ログラム素子3の位置調整時の接着剤の流出を防止し、
さらに、本固定用紫外線硬化樹脂のキャップ側面への流
れ出しを防止している。これにより、キャップの外径が
大きくなり、ピックアップのハウジングにホログラム型
半導体レーザが収納出来なくなるという問題を防止して
いる。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the hologram semiconductor laser device 17 centering on the metal cap portion 14 and the hologram element 3. As means for preventing the resin from flowing from the adhesive layer 13, FIG. 6 is a schematic cross-sectional view in the case where a convex portion 16 is provided on the adhesive surface side of the cap portion 14 with the hologram element 3. Further, 7 is a cap glass, 9 is a hologram pattern for light deflection, 10 is a grating pattern for generating three beams, 13 is an adhesive layer, and 14a is an opening. The adhesive layer 13 includes a temporary fixing ultraviolet curable resin 20 and a main fixing ultraviolet curable resin 21. The convex portion 16 formed on the metal cap portion 14 prevents the adhesive from flowing out when the position of the hologram element 3 is adjusted,
Further, the UV-curing resin for permanent fixing is prevented from flowing out to the side surface of the cap. This prevents the problem that the hologram semiconductor laser cannot be housed in the housing of the pickup because the outer diameter of the cap becomes large.

【0040】図7は、金属製キャップ部14とホログラ
ム素子3とを中心とするホログラム型半導体レーザ装置
17の略断面図であり、接着層13からの樹脂の流れを
防止するための手段として、キャップ部14の前記ホロ
グラム素子3との接着面側に凹部15及び凸部16を設
けた場合の略断面図である。また、7はキャップガラ
ス、9は光偏向用のホログラムパターン、10は3ビー
ム生成用のグレーティングパターン、13は接着層、1
4aは開口部である。接着層13は仮固定用紫外線硬化
樹脂20及び本固定用紫外線硬化樹脂21とから構成さ
れている。金属製キャップ部14に形成されている凹部
15及び凸部16により、ホログラム素子3の位置調整
時の接着剤の流出を防止し、さらに、本固定用紫外線硬
化樹脂のキャップ側面への流れ出しを防止している。こ
れにより、キャップの外径が大きくなり、ピックアップ
のハウジングにホログラム型半導体レーザが収納出来な
くなるという問題を防止している。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the hologram type semiconductor laser device 17 centering on the metal cap portion 14 and the hologram element 3. As means for preventing the flow of resin from the adhesive layer 13, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view in the case where a concave portion 15 and a convex portion 16 are provided on the side of the cap portion 14 that is bonded to the hologram element 3. Further, 7 is a cap glass, 9 is a hologram pattern for light deflection, 10 is a grating pattern for generating three beams, 13 is an adhesive layer, 1
4a is an opening. The adhesive layer 13 includes a temporary fixing ultraviolet curable resin 20 and a main fixing ultraviolet curable resin 21. The concave portion 15 and the convex portion 16 formed on the metal cap portion 14 prevent the adhesive from flowing out when the position of the hologram element 3 is adjusted, and further prevent the permanent fixing ultraviolet curable resin from flowing out to the side surface of the cap. doing. This prevents the problem that the hologram semiconductor laser cannot be housed in the housing of the pickup because the outer diameter of the cap becomes large.

【0041】さらに、図1乃至図3で説明した所のホロ
グラム素子に切り欠き部を設ける方法と 図5乃至図7
で説明した所の接着層からの樹脂の流れを防止するため
の手段として、前記キャップ部の前記ホログラム素子と
の接着面側に凸部または及び凹部を設ける方法とを併用
して用いてよいことは当然である。
Further, a method of providing a cutout portion in the hologram element described with reference to FIGS. 1 to 3 and FIGS.
As described above, as a means for preventing the flow of the resin from the adhesive layer, a method of providing a convex portion or a concave portion on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element may be used in combination. Is natural.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の請求項1〜3記載のホログラム
型半導体レーザ装置によれば、ホログラム素子に切り欠
き部を設けることにより、本体部とホログラム素子とを
強固に接着することができるようになり、且つホログラ
ム素子と本体部との間に適当な隙間(湿度の通気口をふ
さぐことはなく)が形成され、ホログラム内部に湿気が
籠もることがなくて、製造歩留の向上と高信頼性のホロ
グラム型半導体レーザ装置が得られるようになった。
According to the hologram type semiconductor laser device of the present invention, it is possible to firmly bond the main body portion and the hologram element by providing the notch portion in the hologram element. In addition, an appropriate gap (without blocking the ventilation hole for humidity) is formed between the hologram element and the main body, moisture is not trapped inside the hologram, and the production yield is improved. A highly reliable hologram semiconductor laser device has been obtained.

【0043】また、本発明の請求項4記載のホログラム
型半導体レーザ装置によれば、前記ホログラム素子との
接着面側の前記キャップ部に切り欠き部を設けることに
より、本体部とホログラム素子とを強固に接着すること
ができるようになり、且つホログラム素子と本体部との
間に適当な隙間(湿度の通気口をふさぐことはなく)が
形成され、ホログラム内部に湿気が籠もることがなく
て、製造歩留の向上と高信頼性のホログラム型半導体レ
ーザ装置が得られるようになった。
Further, according to the hologram type semiconductor laser device of the fourth aspect of the present invention, the main body portion and the hologram element are separated from each other by providing the notch portion in the cap portion on the bonding surface side with the hologram element. It becomes possible to firmly bond, and an appropriate gap (without closing the ventilation hole for humidity) is formed between the hologram element and the main body, so that moisture will not be trapped inside the hologram. As a result, a hologram semiconductor laser device with improved manufacturing yield and high reliability can be obtained.

【0044】また、本発明の請求項5記載のホログラム
型半導体レーザ装置の製造方法によれば、ホログラムパ
ターンまたはグレーティングパターンを成形する際同時
に前記ホログラム素子の切り欠き部を形成することを特
徴とするものであり、製造コストの低減と製造歩留の向
上と高信頼性のホログラム型半導体レーザ装置が得られ
るようになった。
Further, according to the method for manufacturing a hologram type semiconductor laser device according to a fifth aspect of the present invention, the notch portion of the hologram element is formed at the same time when the hologram pattern or the grating pattern is formed. Therefore, it has become possible to obtain a hologram type semiconductor laser device with a high reliability and a reduced manufacturing cost.

【0045】さらに、本発明の請求項6〜8記載のホロ
グラム型半導体レーザ装置によれば、プレス工程等によ
りキャップ部に同時に形成された凹部または及び凸部に
より、前記接着層からの樹脂の流れを防止し、本固定用
紫外線硬化樹脂のキャップ側面への流れ出しを防止し
て、キャップの外径が大きくなり、ピックアップのハウ
ジングにホログラム型半導体レーザが収納出来なくなる
という問題を防止している。同時に、製造コストの低減
と製造歩留の向上と高信頼性のホログラム型半導体レー
ザ装置が得られるようになった。
Further, according to the holographic semiconductor laser device of the present invention, the flow of the resin from the adhesive layer can be achieved by the concave portions and the convex portions simultaneously formed on the cap portion by a pressing process or the like. This prevents the UV fixing resin for main fixing from flowing out to the side surface of the cap, and prevents the problem that the outer diameter of the cap becomes large and the hologram semiconductor laser cannot be stored in the housing of the pickup. At the same time, it has become possible to obtain a hologram-type semiconductor laser device having a low manufacturing cost, an improved manufacturing yield, and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態のホログラム型半導体レ
ーザ装置の全体構成を示す斜視図で、接着層からの樹脂
の流れを防止するための手段として、ホログラム素子に
切り欠き部を設けた場合の図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a hologram semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention, in which a cutout portion is provided in a hologram element as a means for preventing a resin from flowing from an adhesive layer. It is a figure of a case.

【図2】本発明の一実施の形態のホログラム型半導体レ
ーザ装置を構成するホログラム素子の斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of a hologram element forming the hologram semiconductor laser device according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施の形態のホログラム型半導体レ
ーザ装置の組み立て工程を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an assembly process of the hologram semiconductor laser device according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施の形態のホログラム型半導体
レーザ装置で、接着層からの樹脂の流れを防止するため
の手段として、本体部の上面に切り欠き部を設けたもの
で、またホログラム型半導体レーザ装置の組み立て工程
を示す図である。
FIG. 4 is a holographic semiconductor laser device according to another embodiment of the present invention, in which a notch is provided on the upper surface of the main body as means for preventing the flow of resin from the adhesive layer. It is a figure which shows the assembly process of a hologram type semiconductor laser device.

【図5】本発明の他の実施の形態のホログラム型半導体
レーザ装置で、接着層からの樹脂の流れを防止するため
の手段として、前記キャップ部の前記ホログラム素子と
の接着面側に凹部を設けた場合の略断面図である。
FIG. 5 is a holographic semiconductor laser device according to another embodiment of the present invention, in which a concave portion is provided on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element as a means for preventing the flow of resin from the adhesive layer. It is a schematic sectional drawing at the time of providing.

【図6】本発明の他の実施の形態のホログラム型半導体
レーザ装置で、接着層からの樹脂の流れを防止するため
の手段として、前記キャップ部の前記ホログラム素子と
の接着面側に凸部を設けた場合の略断面図である。
FIG. 6 is a holographic semiconductor laser device according to another embodiment of the present invention, wherein as means for preventing the flow of resin from the adhesive layer, a convex portion on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element is formed. It is a schematic sectional drawing at the time of providing.

【図7】本発明の他の実施の形態のホログラム型半導体
レーザ装置で、接着層からの樹脂の流れを防止するため
の手段として、前記キャップ部の前記ホログラム素子と
の接着面側に凹部及び凸部を設けた場合の略断面図であ
る。
FIG. 7 is a holographic semiconductor laser device according to another embodiment of the present invention, wherein a means for preventing the resin from flowing from the adhesive layer is provided with a concave portion on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element. It is a schematic sectional drawing at the time of providing a convex part.

【図8】従来例の構造を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing the structure of a conventional example.

【図9】従来例の構造を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a structure of a conventional example.

【図10】従来例のホログラム型半導体レーザ装置の組
み立て工程を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an assembling process of a conventional hologram type semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ホログラム型半導体レーザ装置 2 本体部 2a 本体部の上面 3 ホログラム素子 4 金属製キャップ部 4a 金属製キャップ部の開口部 5 半導体レーザ 6 受光素子 7 キャップガラス 9 光偏向用のホログラムパターン 10 3ビーム生成用のグレーティングパターン 12 ホログラム素子の切り欠き部 12a 本体部上面に形成した切り欠き部 13 接着層 14 金属製キャップ部 14a 金属製キャップ部の開口部 15 凹部 16 凸部 17 ホログラム型半導体レーザ装置 20 仮固定用紫外線硬化樹脂 21 本固定用紫外線硬化樹指 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hologram type semiconductor laser device 2 Main body 2a Upper surface of main body 3 Hologram element 4 Metal cap 4a Opening of metal cap 5 Semiconductor laser 6 Light receiving element 7 Cap glass 9 Hologram pattern for light deflection 10 3 Beam generation Pattern 12 for hologram 12 Cutout portion of hologram element 12a Cutout portion formed on upper surface of main body 13 Adhesive layer 14 Metal cap portion 14a Opening 15 of metal cap portion 16 Recessed portion 16 Convex portion 17 Hologram type semiconductor laser device 20 Temporary UV curable resin for fixing 21 UV curable resin for fixing

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光部、受光部及び該発光部と該受光部
とを覆うキャップ部とを備えた本体部と、前記本体部の
光の出入射方向の該キャップ部上面に配置されるホログ
ラム素子と、前記キャップ部に前記ホログラム素子を接
着する接着層とを備えたホログラム型半導体レーザ装置
において、該接着層からの樹脂の流れを防止するための
手段を設けたことを特徴とするホログラム型半導体レー
ザ装置。
1. A main body including a light emitting portion, a light receiving portion, and a cap portion that covers the light emitting portion and the light receiving portion, and a hologram disposed on the upper surface of the cap portion in the light outgoing / incident direction of the main body portion. A hologram-type semiconductor laser device including an element and an adhesive layer for adhering the hologram element to the cap portion, wherein a hologram-type semiconductor laser device is provided with means for preventing a resin from flowing from the adhesive layer. Semiconductor laser device.
【請求項2】 請求項1記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記接着層からの樹脂の流れを防止す
るための手段として、前記ホログラム素子の前記キャッ
プ部上面との接着面側に切り欠き部を設けたことを特徴
とするホログラム型半導体レーザ装置。
2. The hologram-type semiconductor laser device according to claim 1, wherein as a means for preventing a resin from flowing from the adhesive layer, a cutout portion is provided on the adhesive surface side of the hologram element with the upper surface of the cap portion. A hologram-type semiconductor laser device characterized by comprising:
【請求項3】 請求項2記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記ホログラム素子の切り欠き部は少
なくとも2箇所以上であることを特徴とするホログラム
型半導体レーザ装置。
3. The hologram-type semiconductor laser device according to claim 2, wherein the hologram element has at least two cutouts.
【請求項4】 請求項2記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記ホログラム素子との接着面側の前
記キャップ部に切り欠き部を設けたことを特徴とするホ
ログラム型半導体レーザ装置。
4. The holographic semiconductor laser device according to claim 2, wherein a notch is provided in the cap portion on the adhesive surface side with the hologram element.
【請求項5】 請求項2記載のホログラム型半導体レー
ザ装置であり、前記本体部の光の出入射方向に沿った上
面に配置されるホログラム素子と、前記キャップ部に前
記ホログラム素子を接着する接着層とを備えたホログラ
ム型半導体レーザ装置の製造方法であって、ホログラム
パターンまたはグレーティングパターンを成形する際同
時に前記ホログラム素子の切り欠き部を形成することを
特徴とするホログラム型半導体レーザ装置の製造方法。
5. The hologram-type semiconductor laser device according to claim 2, wherein the hologram element is arranged on an upper surface of the main body along a light outgoing / incident direction, and an adhesive for bonding the hologram element to the cap portion. A method for manufacturing a hologram-type semiconductor laser device including a layer, wherein the notch portion of the hologram element is formed at the same time when a hologram pattern or a grating pattern is formed. .
【請求項6】 請求項1記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記接着層からの樹脂の流れを防止す
るための手段として、前記キャップ部の前記ホログラム
素子との接着面側に凹部を設けたことを特徴とするホロ
グラム型半導体レーザ装置。
6. The hologram semiconductor laser device according to claim 1, wherein a recess is provided on a side of a surface of the cap portion that is bonded to the hologram element, as a means for preventing a resin from flowing from the adhesive layer. A hologram-type semiconductor laser device characterized by the above.
【請求項7】 請求項1記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記接着層からの樹脂の流れを防止す
るための手段として、前記キャップ部の前記ホログラム
素子との接着面側に凸部を設けたことを特徴とするホロ
グラム型半導体レーザ装置。
7. The hologram-type semiconductor laser device according to claim 1, wherein a convex portion is provided on a bonding surface side of the cap portion with the hologram element as a means for preventing a resin from flowing from the adhesive layer. A hologram type semiconductor laser device characterized by the above.
【請求項8】 請求項1記載のホログラム型半導体レー
ザ装置において、前記接着層からの樹脂の流れを防止す
るための手段として、前記キャップ部の前記ホログラム
素子との接着面側に凹部及び凸部を設けたことを特徴と
するホログラム型半導体レーザ装置。
8. The hologram-type semiconductor laser device according to claim 1, wherein the means for preventing the resin from flowing from the adhesive layer is a concave portion and a convex portion on the adhesive surface side of the cap portion with the hologram element. A hologram-type semiconductor laser device characterized by comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6822875B2 (en) 2000-05-11 2004-11-23 International Business Machines Corporation Assembly of opto-electronic module with improved heat sink
JP2022033325A (en) * 2016-04-28 2022-02-28 日亜化学工業株式会社 Manufacturing method of light-emitting device and light-emitting device

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