JPH09211933A - Semiconductor roller - Google Patents

Semiconductor roller

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Publication number
JPH09211933A
JPH09211933A JP1667596A JP1667596A JPH09211933A JP H09211933 A JPH09211933 A JP H09211933A JP 1667596 A JP1667596 A JP 1667596A JP 1667596 A JP1667596 A JP 1667596A JP H09211933 A JPH09211933 A JP H09211933A
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JP
Japan
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roller
conductive elastic
component
elastic layer
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP1667596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Susumu Fukuda
丞 福田
Yoshihisa Owada
善久 太和田
Kenji Kobayashi
健二 小林
Hiroshi Ogoshi
洋 大越
Kazuyoshi Mimura
和義 三村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP1667596A priority Critical patent/JPH09211933A/en
Publication of JPH09211933A publication Critical patent/JPH09211933A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductive roller which is decreased in the variations of resistance values and is low in rubber hardness as a semiconductive roller which is used for electrophotographic machines and is used by bringing this roller into contact with a photoreceptor directly or via paper. SOLUTION: The outer peripheral surface of the conductive elastic layer 3 of the semiconductive roller 1 constituted by providing the surface of a metallic shaft 2 with the conductive elastic layer 3 is provided with a resistance control layer 4 consisting of a curable compsn. contg. (A) a polymer which has at least one piece of alkenyl groups in the molecule and of which the repeating unit constituting the main chin is an oxyalkylene unit, (B) a hardener which has >=2 pieces of hydrosillyl groups in the molecule and (C) a hydrosillylating catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、たとえば静電気力を利
用して複写や印字を行う電子複写機やプリンタなどの電
子写真機が有する、感光体に接触させて使用する各種ロ
ーラや用紙給送用のローラなどに用いる半導電性ローラ
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various rollers and paper feeding for use in contact with a photoconductor, which are included in an electrophotographic machine such as an electronic copying machine or a printer for copying or printing by utilizing electrostatic force. The present invention relates to a semi-conductive roller used as a roller for automobiles.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真機では、原稿像に対応した静電
潜像が形成される感光体にトナーを静電気力で吸引、吸
着させ、給送されてくる用紙にそのトナーを転写させ、
ついで用紙に担持されたトナーを熱溶融させることによ
って用紙に原稿像が定着されるようになっている。詳し
くは、先ず、帯電ローラなどの帯電部材により感光体表
面を帯電させ(帯電)、つぎに、感光体表面を画像露光
して静電潜像を形成し(露光)、さらに、この感光体表
面の静電潜像に静電気力を利用して現像ローラからトナ
ーを吸引・吸着させ(現像)、送給される用紙を転写ロ
ーラにより裏面から帯電させることで前記感光体表面の
トナーを用紙に転写させ(転写)、この用紙に転写させ
たトナーを、熱溶融させることで用紙に固着(定着)さ
せる。その後、再び感光体表面が帯電部材により帯電さ
れ、前記と同様の工程により複写を繰り返す。前記の場
合、感光体から用紙への転写の際には少量のトナーが感
光体表面に残るため、転写後の感光体表面を清掃する
(清掃)。また、この清掃後の感光体表面には、残留電
荷があることから、次の画像形成の際の濃度ムラを防止
するため、前露光ランプなどにより感光体表面を均一に
照射することで残留電荷を取り除く(除電)。
2. Description of the Related Art In an electrophotographic machine, toner is electrostatically attracted and attracted to a photosensitive member on which an electrostatic latent image corresponding to an original image is formed, and the toner is transferred to a fed sheet,
Then, the toner image carried on the paper is fused by heat so that the original image is fixed on the paper. Specifically, first, the surface of the photoconductor is charged (charging) by a charging member such as a charging roller, and then the surface of the photoconductor is imagewise exposed to form an electrostatic latent image (exposure). The electrostatic latent image is used to attract and adsorb toner from the developing roller using electrostatic force (development), and the fed sheet is charged from the back side by the transfer roller to transfer the toner on the surface of the photoconductor onto the sheet. Then, the toner transferred onto this paper is fused by heat to be fixed (fixed) on the paper. After that, the surface of the photosensitive member is charged again by the charging member, and copying is repeated by the same process as described above. In the above case, since a small amount of toner remains on the surface of the photoconductor during the transfer from the photoconductor to the paper, the surface of the photoconductor after the transfer is cleaned (cleaning). In addition, since there is residual charge on the surface of the photoconductor after cleaning, in order to prevent uneven density during the next image formation, the residual charge is uniformly applied to the photoconductor surface by a pre-exposure lamp. Remove (static elimination).

【0003】すなわち、前記電子写真機では、感光体は
帯電、露光、現像、転写、清掃、除電のプ
ロセスを経ることによって、また用紙(転写紙)に転写
せしめられたトナーは、定着のプロセスを経ることに
よって、転写紙に原稿像が定着されるように構成されて
いる。そして、前記各プロセスを遂行するために、感光
体周囲の各位置には、帯電ローラや現像ローラのように
感光体と接触させて、あるいは転写ローラのように紙を
介して感光体と接触させて使用する各種ローラが設けら
れている。
That is, in the electrophotographic machine, the photoconductor is subjected to the processes of charging, exposure, development, transfer, cleaning and charge removal, and the toner transferred onto the paper (transfer paper) undergoes the fixing process. After that, the document image is fixed on the transfer paper. In order to perform each of the above processes, each position around the photoconductor is brought into contact with the photoconductor such as a charging roller or a developing roller, or is brought into contact with the photoconductor via a paper like a transfer roller. Various rollers to be used are provided.

【0004】前記感光体周囲の各種ローラは、一般には
半導電性、すなわちローラとしての抵抗値が103 〜1
8 Ω程度であることが要求される。ローラ抵抗値が1
3Ωより小さいと、感光体にピンホールなどの欠陥が
生じた場合、ローラが絶縁破壊を起こす危険性がある。
またローラ抵抗値が108 Ωより大きいと、たとえば帯
電ローラの場合には、感光体が均一に帯電されないた
め、画像上に白抜けなどの欠陥が現れる。また現像ロー
ラの場合には、十分な画像濃度が得られない、といった
問題がしばしば発生する。
The various rollers around the photosensitive member are generally semiconductive, that is, the resistance value of the roller is 10 3 to 1 1.
It is required to be about 0 8 Ω. Roller resistance is 1
If it is smaller than 0 3 Ω, there is a risk of dielectric breakdown of the roller when a defect such as a pinhole occurs in the photoconductor.
If the roller resistance value is larger than 10 8 Ω, for example, in the case of a charging roller, the photosensitive member is not uniformly charged, and defects such as white spots appear on the image. Further, in the case of a developing roller, there often occurs a problem that a sufficient image density cannot be obtained.

【0005】前記ローラは、一般に、ウレタンゴム、ク
ロロプレンゴム、EPラバー、シリコーンゴムなどの弾
性を有する基体に、カーボンブラック、金属粉末などの
導電性粒子、またはカーボン繊維などの導電性繊維な
ど、導電性を付与する物質を混合したものが多く用いら
れる。
The roller is generally made of an elastic base material such as urethane rubber, chloroprene rubber, EP rubber or silicone rubber, and conductive particles such as conductive particles such as carbon black or metal powder or conductive fibers such as carbon fiber. A mixture of substances that impart the properties is often used.

【0006】前記ローラは、ローラ全体にわたり均一な
導電性が要求されるが、カーボンブラックのように、導
電性粒子の粒子間距離をコントロールすることによって
導電性を制御する場合、導電性粒子の分散状態によっ
て、ローラ抵抗値が大きく変動するので注意を要する。
The roller is required to have uniform conductivity over the entire roller. However, when the conductivity is controlled by controlling the distance between the particles such as carbon black, the conductive particles are dispersed. Note that the roller resistance value varies greatly depending on the condition.

【0007】このため、前記ローラを複数層からなる構
成とし、前記弾性層を低抵抗のものとして抵抗値ばらつ
きを小さくするとともに、この低抵抗の弾性層表面に数
十〜数百μmの比較的抵抗値の大きな被覆層を形成する
ことで、ローラ全体として半導電性のものを得るように
している。
For this reason, the roller is constituted by a plurality of layers, the elastic layer is made of a low resistance to reduce the variation of the resistance value, and the surface of the elastic layer having a low resistance is comparatively tens to hundreds of μm. By forming a coating layer having a large resistance value, a semi-conductive roller is obtained as a whole.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来、前記被覆層とし
ては、エピクロルヒドリン、エピクロルヒドリン−エチ
レンオキサイド共重合ゴムなどの、エピクロルヒドリン
系ゴムが用いられてきた。しかし、これらゴム材料はゴ
ム硬度が大きく、被覆層として使用した場合、ローラ全
体の硬度が上昇するため、感光体との間に均一にニップ
幅が得られず、たとえば、この半導電性ローラを帯電ロ
ーラとして用いた場合には、感光体を一様に帯電できな
いといった問題が生じる。
Conventionally, epichlorohydrin-based rubbers such as epichlorohydrin and epichlorohydrin-ethylene oxide copolymer rubber have been used as the coating layer. However, these rubber materials have large rubber hardness, and when used as a coating layer, the hardness of the entire roller increases, so that a uniform nip width cannot be obtained between the rubber material and the photosensitive member. When used as a charging roller, there arises a problem that the photoconductor cannot be uniformly charged.

【0009】また被覆層のゴム硬度を下げるために可塑
剤を添加すると、可塑剤が感光体表面に移行し、感光体
を汚染するおそれがある。
If a plasticizer is added to reduce the rubber hardness of the coating layer, the plasticizer may migrate to the surface of the photoconductor and contaminate the photoconductor.

【0010】さらに、前記エピクロルヒドリン系ゴム材
料は、一般に金属酸化物などの加硫促進剤により加硫を
行う必要があるため、被覆層形成に時間がかかり、生産
性の面からも工数が増えるといった問題があった。
Further, since it is generally necessary to vulcanize the epichlorohydrin type rubber material with a vulcanization accelerator such as a metal oxide, it takes a long time to form a coating layer and the man-hours increase from the viewpoint of productivity. There was a problem.

【0011】本発明は上記の点に鑑み、電子複写機やプ
リンタなどの電子写真機において、感光体の周囲に設け
られる各種の半導電性ローラとして、感光体と接触した
際に均一なニップ幅を得ることができる適度な硬度を有
し、また、接触により感光体を汚染することもなく、し
かも、生産性のよい半導電性ローラを提供せんとするも
のである。
In view of the above points, the present invention is used in electrophotographic machines such as electronic copying machines and printers, as various semi-conductive rollers provided around the photoconductor, and having a uniform nip width when contacting the photoconductor. The present invention provides a semi-conductive roller which has an appropriate hardness that does not contaminate the photoconductor by contact, and has good productivity.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するためになされたものであり、電子写真機に用いる
半導電性ローラであって、金属製シャフトの上に導電性
弾性層を設けてなる半導電性ローラにおいて、前記導電
性弾性層の外周面に、(A)分子中に少なくとも1個の
アルケニル基を有し、主鎖を構成する繰り返し単位がオ
キシアルキレン単位である重合体、(B)分子中に2個
以上のヒドロシリル基を有する硬化剤、および、(C)
ヒドロシリル化触媒を含む硬化性組成物からなる抵抗調
整層を設けたことを特徴とする半導電性ローラ(請求項
1)、前記半導電性ローラにおいて、前記抵抗調整層の
厚みが5〜300μmである半導電性ローラ(請求項
2)、また、前記半導電性ローラにおいて、前記導電性
弾性層として、前記(A)、(B)、(C)に加え、
(D)導電性付与剤、からなる硬化性組成物を使用した
半導電性ローラ(請求項3)、および、上記のような、
導電性弾性層の外周面に抵抗調整層を設けた半導電性ロ
ーラ表面に、さらに保護層を設けてなる半導電性ローラ
(請求項4)、を内容とするものである。
The present invention has been made to solve the above problems, and is a semiconductive roller used in an electrophotographic machine, in which a conductive elastic layer is provided on a metal shaft. In the semiconductive roller provided, a polymer having (A) at least one alkenyl group in the molecule on the outer peripheral surface of the conductive elastic layer, and the repeating unit constituting the main chain is an oxyalkylene unit. , (B) a curing agent having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and (C)
A resistance adjusting layer comprising a curable composition containing a hydrosilylation catalyst is provided. A semiconductive roller (claim 1), wherein the resistance adjusting layer has a thickness of 5 to 300 μm. A semi-conductive roller (claim 2), and in the semi-conductive roller, in addition to (A), (B), and (C) as the conductive elastic layer,
A semiconductive roller (claim 3) using a curable composition comprising (D) a conductivity-imparting agent, and
A semiconductive roller having a resistance adjusting layer provided on the outer peripheral surface of a conductive elastic layer and a protective layer further provided on the surface of the semiconductive roller (claim 4).

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の半導電性ローラは、たと
えば、図1に示すように、直径1〜12mm程度のSU
S(ステンレス鋼)やアルミニウムなどの金属製シャフ
ト2のまわりに、JIS A 硬度で5〜40°程度、
好ましくは10〜30°程度で厚さ1〜15mm程度の
導電性弾性層3を設けた後、その外周面にローラ1の電
気的特性を調整するために抵抗調整層4を設け、さらに
この抵抗調整層4表面を保護層5で被覆したものであ
る。このローラの表面硬度としては、JIS A 硬度
で30°以下とすることが好ましい。また、この半導電
性ローラ1の導電性は、このローラ1の用途によっても
異なるが、たとえば帯電ローラとして使用する場合に
は、ローラ全体としての抵抗が104 〜108 Ω程度、
さらには105 〜10 7 Ω程度が好ましく、また、現像
ローラとして使用する場合は、103 〜108Ω程度、
さらには104 〜107 Ω程度が好ましく、一般的には
103 〜108Ω程度、さらには104 〜107 Ω程度
のものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The semiconductive roller of the present invention is
For example, as shown in FIG. 1, a SU having a diameter of about 1 to 12 mm
Metal shuffs such as S (stainless steel) and aluminum
Around the toe 2 with JIS A hardness of about 5 to 40 °,
Preferably, the thickness is about 10 to 30 ° and the thickness is about 1 to 15 mm.
After the conductive elastic layer 3 is provided, the outer surface of the conductive elastic layer 3 is electrically charged by the roller 1.
A resistance adjusting layer 4 is provided to adjust the air characteristics, and
The surface of the resistance adjusting layer 4 is covered with a protective layer 5.
You. The surface hardness of this roller is JIS A hardness.
And is preferably 30 ° or less. Also this semi-conductive
The conductivity of the elastic roller 1 depends on the application of the roller 1.
Although different, for example, when using it as a charging roller
Has a roller resistance of 10Four-108Ω,
And 10Five-10 7Ω is preferable, and development
10 when used as a rollerThree-108Ω,
And 10Four-107Ω is preferable, and generally
10Three-108About Ω, and even 10Four-107Ω
belongs to.

【0014】前記半導電性ローラ1における抵抗調整層
4は、前記導電性弾性層3の抵抗値ばらつきをならし、
ローラ1全体の抵抗値を均一にする機能、およびローラ
1全体の抵抗を調整する機能を有するため、体積抵抗率
が前記導電性弾性層3よりも大きく、しかも体積抵抗率
のばらつきが小さいことが要求される。
The resistance adjusting layer 4 in the semi-conductive roller 1 smoothes the resistance variation of the conductive elastic layer 3,
Since the roller 1 has a function of making the resistance value of the entire roller 1 uniform and a function of adjusting the resistance of the roller 1 as a whole, the volume resistivity is larger than that of the conductive elastic layer 3, and the variation in the volume resistivity is small. Required.

【0015】本発明では、前記抵抗調整層4として、分
子中に少なくとも1個のアルケニル基を有し、主鎖を構
成する繰り返し単位がオキシアルキレン単位である重合
体、((A)成分)、分子中に2個以上のヒドロシリル
基を有する硬化剤((B)成分)、およびヒドロシリル
化触媒((C)成分)、を含む硬化性組成物(I)から
なる層を設けている。
In the present invention, the resistance adjusting layer 4 is a polymer having at least one alkenyl group in the molecule and the repeating unit constituting the main chain is an oxyalkylene unit, (component (A)), A layer comprising a curable composition (I) containing a curing agent (component (B)) having two or more hydrosilyl groups in the molecule and a hydrosilylation catalyst (component (C)) is provided.

【0016】前記抵抗調整層4を構成する硬化性組成物
(I)における(A)成分は、硬化剤である(B)成分
と反応して硬化し、ゴム弾性を有する硬化物となる成分
である。
The component (A) in the curable composition (I) which constitutes the resistance adjusting layer 4 is a component which reacts with the component (B), which is a curing agent, and cures to become a cured product having rubber elasticity. is there.

【0017】(A)成分の主鎖を構成する繰返し単位は
オキシアルキレン単位であり、主鎖は、出発物質として
活性水素を2個以上有する化合物、たとえばエチレング
リコール、プロピレングリコール、ビスフェノール系化
合物、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リストールなどを用い、C2 〜C4 のアルキレンオキシ
ドを重合させることにより製造される。このようにして
製造される主鎖を構成する重合体の具体例としては、た
とえば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシ
ド、ポリブチレンオキシド、さらには、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドから選
択される2種以上のランダムまたはブロック共重合体な
どがあげられ、アルケニル基が末端に導入されている方
がゴム弾性の点から好ましい。
The repeating unit constituting the main chain of the component (A) is an oxyalkylene unit, and the main chain has a compound having two or more active hydrogens as a starting material, such as ethylene glycol, propylene glycol, a bisphenol compound and glycerin. , Trimethylolpropane, pentaerythritol, etc., to polymerize a C 2 -C 4 alkylene oxide. Specific examples of the polymer constituting the main chain thus produced include, for example, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polybutylene oxide, and further two or more kinds selected from ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide. Examples thereof include random or block copolymers, and it is preferable that an alkenyl group is introduced at the terminal from the viewpoint of rubber elasticity.

【0018】前記分子中に少なくとも1個のアルケニル
基を有し、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキ
レン単位である重合体((A)成分)の具体例として
は、硬化物の低硬度化の点から、主鎖の繰り返し単位が
オキシプロピレン単位のものが好ましく、また、吸水性
を必要とするような場合には、オキシプロピレン単位の
一部をオキシエチレン単位に変更した共重合体が好まし
い。
Specific examples of the polymer (component (A)) having at least one alkenyl group in the molecule and having a repeating unit constituting the main chain as an oxyalkylene unit include a cured product having a low hardness. From the viewpoint of, the repeating unit of the main chain is preferably an oxypropylene unit, and in the case where water absorption is required, a copolymer in which a part of the oxypropylene unit is changed to an oxyethylene unit is preferable. .

【0019】(A)成分に含まれるアルケニル基の数
は、(B)成分と反応するという点から少なくとも1つ
必要であるが、2〜6個であるのが好ましい。
The number of alkenyl groups contained in the component (A) is required to be at least one from the viewpoint of reacting with the component (B), but is preferably 2 to 6.

【0020】(A)成分の分子量としては、反応性およ
び低硬度化のバランスの点から、数平均分子量(Mn)
で500〜50,000、さらには1,000〜20,
000が好ましく、分子末端にアルケニル基が存在する
ものが、低硬度などの点から好ましい。
The molecular weight of the component (A) is a number average molecular weight (Mn) from the viewpoint of the balance between reactivity and low hardness.
500-50,000, and 1,000-20,
000 is preferable, and those having an alkenyl group at the molecular terminal are preferable in terms of low hardness and the like.

【0021】つぎに、硬化性組成物(I)における
(B)成分である、分子中に少なくとも2個のヒドロシ
リル基を有する硬化剤は、前記(A)成分である、分子
中に少なくとも1個のアルケニル基を有し主鎖を構成す
る繰り返し単位がオキシアルキレン単位である重合体の
硬化剤として作用する成分である。
Next, the curing agent having at least two hydrosilyl groups in the molecule which is the component (B) in the curable composition (I) is at least one in the molecule which is the above-mentioned component (A). Is a component that acts as a curing agent for a polymer in which the repeating unit having an alkenyl group and constituting the main chain is an oxyalkylene unit.

【0022】(B)成分が分子中に少なくとも2個のヒ
ドロシリル基を有するため、それぞれのヒドロシリル基
が(A)成分の分子中に存在するアルケニル基と反応し
て硬化する。前記ヒドロシリル基の数は、好ましくは2
〜50個、より好ましくは2〜30個、さらには2〜2
0個、とくには3〜12個が好ましい。ヒドロシリル基
の個数が2個より少ないと、硬化性組成物(I)をヒド
ロシリル化反応により硬化させる場合の硬化速度が遅く
なり、硬化不良を起こす場合が多くなる。また、ヒドロ
シリル基の個数が50個より多くなると、(B)成分で
ある硬化剤の安定性、ひいては、硬化性組成物(I)の
安定性が悪くなるうえ、硬化後も多量のヒドロシリル基
が硬化物中に残存しやすくなり、ボイドやクラックの原
因となりやすくなる。
Since the component (B) has at least two hydrosilyl groups in the molecule, each hydrosilyl group reacts with the alkenyl group present in the molecule of the component (A) to cure. The number of said hydrosilyl groups is preferably 2
-50, more preferably 2-30, and even 2-2
0 is preferable, and 3 to 12 is particularly preferable. When the number of hydrosilyl groups is less than two, the curing rate when the curable composition (I) is cured by a hydrosilylation reaction becomes slow, and curing failure often occurs. When the number of hydrosilyl groups is more than 50, the stability of the curing agent as the component (B), and thus the stability of the curable composition (I), deteriorates, and a large amount of hydrosilyl groups remains after curing. It is likely to remain in the cured product, causing voids and cracks.

【0023】前記ヒドロシリル基を1個有するとは、S
iHを1個、すなわちSiに結合するHを1個有するこ
とをいい、SiH2 の場合にはヒドロシリル基を2個有
することになるが、Siに結合するHは、異なるSiに
結合する方が硬化性がよく、また、ゴム弾性の点からも
好ましい。
Having one hydrosilyl group means S
It means having 1 iH, that is, 1 H that bonds to Si, and in the case of SiH 2 , it has 2 hydrosilyl groups. However, H bonded to Si is more likely to bond to different Si. It is preferable in terms of good curability and rubber elasticity.

【0024】(B)成分の分子量は、ローラ加工性など
の点から、数平均分子量(Mn)で30,000以下で
あることが好ましく、さらには20,000以下、とく
には15,000以下が好ましい。(A)成分との反応
性や相溶性まで考慮すると、300〜15,000がよ
り好ましい。
The number average molecular weight (Mn) of the component (B) is preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, and particularly preferably 15,000 or less from the viewpoint of roller processability. preferable. Considering the reactivity and compatibility with the component (A), 300 to 15,000 is more preferable.

【0025】前記のごとき(B)成分の構造について
は、とくに制限はないが、たとえば一般式(1): R1 a (1) (式中、Xは少なくとも1個のヒドロシリル基を含む
基、R1 は炭素数2〜150の1〜4価の炭化水素基、
aは1〜4から選ばれる整数、ただし、Xに1個のヒド
ロシリル基しか含まれない場合、aは2以上である)で
示され、数平均分子量が30,000以下である、ヒド
ロシリル基を含有する炭化水素系硬化剤が具体例として
あげられる。
The structure of the component (B) as described above is not particularly limited. For example, the general formula (1): R 1 X a (1) (wherein, X is a group containing at least one hydrosilyl group). , R 1 is a monovalent to tetravalent hydrocarbon group having 2 to 150 carbon atoms,
a is an integer selected from 1 to 4, provided that when X contains only one hydrosilyl group, a is 2 or more) and has a number average molecular weight of 30,000 or less. A specific example is a hydrocarbon-based curing agent contained therein.

【0026】前記一般式(1)中、Xは少なくとも1個
のヒドロシリル基を含む基を表わすが、その具体例とし
ては、たとえば−SiHn (CH3)3-n (n=1〜
3)、−SiHn (C2 5 3-n (n=1〜3)、−
SiHn (C6 5 3-n (n=1〜3)、−SiH2
(C6 13)などの、ケイ素原子を1個だけ含有するヒ
ドロシリル基、
In the general formula (1), X represents a group containing at least one hydrosilyl group, and specific examples thereof include --SiH n (CH 3 ) 3-n (n = 1 to 1).
3), - SiH n (C 2 H 5) 3-n (n = 1~3), -
SiH n (C 6 H 5) 3-n (n = 1~3), - SiH 2
A hydrosilyl group containing only one silicon atom, such as (C 6 H 13 ),

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】などの、ケイ素原子を2個以上含むヒドロ
シリル基、
A hydrosilyl group containing two or more silicon atoms, such as

【0029】[0029]

【化2】 Embedded image

【0030】[0030]

【化3】 Embedded image

【0031】[0031]

【化4】 Embedded image

【0032】などで示される、鎖状、枝分かれ状、環状
の各種の多価ハイドロジエンシロキサンより誘導された
ヒドロシリル基などがあげられる。なお、式中、m個の
単位とp個の単位、n個の単位とq個の単位、m個の単
位とp個の単位とx個の単位、n個の単位とq個の単位
とy個の単位、m個の単位とn個の単位、さらにはm個
の単位とn個の単位とp個の単位とq個の単位がブロッ
ク結合で結合しているように記載されているが、これら
はブロック結合でもランダム結合でもよい。以下の記載
においても同様である。
Examples thereof include hydrosilyl groups derived from various chain-like, branched-like, and cyclic polyvalent hydrogen siloxanes. In the formula, m units and p units, n units and q units, m units and p units and x units, n units and q units, It is described that y units, m units and n units, and further, m units, n units, p units, and q units are connected by block bonding. However, these may be block bonds or random bonds. The same applies to the following description.

【0033】前記の各種のヒドロシリル基のうち、
(B)成分であるヒドロシリル基含有炭化水素系硬化剤
が他の有機重合体との相溶性を損う可能性が少ないとい
う点から、ヒドロシリル基を構成する部分の分子量が5
00以下であるのが好ましく、さらにヒドロシリル基の
反応性も考慮すれば、下記のものが好ましい。
Of the above various hydrosilyl groups,
Since the hydrosilyl group-containing hydrocarbon curing agent as the component (B) is less likely to impair the compatibility with other organic polymers, the molecular weight of the part constituting the hydrosilyl group is 5
It is preferably at most 00, and in consideration of the reactivity of the hydrosilyl group, the following is preferred.

【0034】[0034]

【化5】 Embedded image

【0035】なお、以下、これらの基を「(化5)で示
される基」と記す。
Hereinafter, these groups will be referred to as "groups represented by (Chemical Formula 5)".

【0036】また、前記一般式(1)中、R1 は炭素数
2〜150の1〜4価の炭化水素基を表わし、重合体か
らなる基であってもよい。具体例としては、
Further, in the above general formula (1), R 1 represents a monovalent to tetravalent hydrocarbon group having 2 to 150 carbon atoms and may be a group composed of a polymer. As a specific example,

【0037】[0037]

【化6】 [Chemical 6]

【0038】[0038]

【化7】 Embedded image

【0039】など(なお、これらは特開平3−9526
6号公報などに記載されている)、また、R1 が重合体
からなる基の具体例としては、エチレン、プロピレン、
1−ブテン、イソブチレンなどのような炭素数2〜6の
オレフィン系化合物を主モノマーとして重合させたもの
で、結合手を1〜4個有するもの、ブタジエン、イソプ
レンなどのようなジエン系化合物を単独重合させたり、
前記オレフィン系化合物とジエン系化合物とを共重合さ
せたりしたのち水素添加したもので、結合手を1〜4個
有するものなどがあげられる。
(Note that these are disclosed in JP-A-3-9526.
No. 6, etc.), and specific examples of the group in which R 1 is a polymer include ethylene, propylene,
A polymer obtained by polymerizing an olefinic compound having 2 to 6 carbon atoms such as 1-butene, isobutylene or the like as a main monomer, having 1 to 4 bonds, or a diene-based compound such as butadiene or isoprene alone. Polymerizing,
Examples thereof include those obtained by copolymerizing the olefin compound and the diene compound and then hydrogenating the compound and having 1 to 4 bonds.

【0040】前記のごときR1 およびXを有する一般式
(1)で表わされる炭化水素系硬化剤の中でも、R1
炭素数5〜20の炭化水素基で、Xが前記(化5)で示
される基の場合の組合わせが、反応性をあげ、良好な網
目構造をとらせる点と、(A)成分との相溶性の点から
好ましい。これらの中でも、R1 の炭素数が5〜12の
炭化水素基であることが、原料を容易に入手できる点か
ら好ましく、Xが前記(化5)で示される基の中でも環
状ポリシロキサン化合物であることが、(A)成分との
相溶性がよりよくなる点から好ましい。この組合わせに
よって得られる化合物が、炭化水素系硬化剤としては好
ましい。その具体例としては、たとえば、
Among the hydrocarbon type curing agents represented by the general formula (1) having R 1 and X as described above, R 1 is a hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms and X is the above-mentioned (formula 5). The combination in the case of the groups shown is preferable from the viewpoint of increasing the reactivity and forming a good network structure, and the compatibility with the component (A). Among these, it is preferable that R 1 is a hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms in that the raw material can be easily obtained, and X is a cyclic polysiloxane compound among the groups represented by the above formula (5). This is preferred because compatibility with the component (A) is further improved. The compound obtained by this combination is preferable as the hydrocarbon-based curing agent. For example, for example,

【0041】[0041]

【化8】 Embedded image

【0042】などがあげられる。And the like.

【0043】上記のような(B)成分であるヒドロシリ
ル基含有炭化水素系硬化剤の製法についてはとくに制限
はなく、任意の方法で製造すればよい。
The method for producing the hydrosilyl group-containing hydrocarbon curing agent which is the component (B) as described above is not particularly limited, and it may be produced by any method.

【0044】たとえば、(1)分子中にSiCl基をも
つ炭化水素系硬化剤を、LiAlH 4 、NaBH4 など
の還元剤で処理して該硬化剤中のSiCl基をSiH基
に還元する方法、(2)分子中にある官能基X1 をもつ
炭化水素系化合物と分子中に前記官能基X1 と反応する
官能基Y1 およびヒドロシリル基の両者を有する化合物
とを反応させる方法、(3)アルケニル基を含有する炭
化水素系化合物に対して少なくとも2個のヒドロシリル
基をもつポリヒドロシラン化合物を選択ヒドロシリル化
することにより、反応後もヒドロシリル基を該炭化水素
系化合物の分子中に残存させる方法、などが例示され
る。
For example, (1) a SiCl group may be included in the molecule.
Hydrocarbon curing agent, LiAlH Four, NaBHFourSuch
To reduce the SiCl groups in the curing agent to SiH groups
(2) a functional group X in the molecule1Have
The hydrocarbon compound and the functional group X in the molecule1React with
Functional group Y1Having both amino and hydrosilyl groups
(3) Charcoal containing alkenyl group
At least two hydrosilyl groups per hydride compound
Hydrosilylation of Polyhydrosilane Compounds Having Groups
After the reaction, the hydrosilyl group is
Method of leaving in the molecule of the system compound, and the like.
You.

【0045】前記方法のうち、(3)の方法が、製造工
程が一般に簡便なため好適に用いることができる。この
場合、一部のポリヒドロシラン化合物のヒドロシリル基
の2個以上が炭化水素系化合物のアルケニル基と反応し
て分子量が増大することがあるが、このように分子量が
増大したものを含むものを(B)成分として用いても何
ら差しつかえない。
Of the above methods, the method (3) can be preferably used because the manufacturing process is generally simple. In this case, two or more of the hydrosilyl groups of some of the polyhydrosilane compounds may react with the alkenyl group of the hydrocarbon-based compound to increase the molecular weight. Even if it is used as a component (B), there is no problem.

【0046】さらに、(B)成分としてポリシロキサン
系硬化剤も使用することができる。具体例としては、下
記のごとき鎖状、環状のポリオルガノハイドロジエンシ
ロキサン(ポリオキシアルキレン変性体、スチレン類変
性体、オレフィン変性体などを含む)があげられる。
Further, a polysiloxane-based curing agent can be used as the component (B). Specific examples thereof include chain-like and cyclic polyorganohydrogen siloxanes (including polyoxyalkylene modified products, styrene modified products, olefin modified products, etc.) as described below.

【0047】[0047]

【化9】 Embedded image

【0048】(m、nは整数、10≦m+n≦50、2
≦m、0≦n、Rはメチル基、分子量が100〜10,
000のポリオキシアルキレン基または炭素数2〜20
の炭化水素基で1個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Rが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。)
(M and n are integers, 10≤m + n≤50, 2
≦ m, 0 ≦ n, R is a methyl group, and the molecular weight is 100 to 10,
000 polyoxyalkylene group or 2-20 carbon atoms
And may contain one or more phenyl groups. When a plurality of Rs are included, they need not be the same. )

【0049】[0049]

【化10】 Embedded image

【0050】(m、nは整数、10≦m+n≦50、2
≦m、0≦n、Rはメチル基、分子量が100〜10,
000のポリオキシアルキレン基または炭素数2〜20
の炭化水素基で1個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Rが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。)
(M and n are integers, 10≤m + n≤50, 2
≦ m, 0 ≦ n, R is a methyl group, and the molecular weight is 100 to 10,
000 polyoxyalkylene group or 2-20 carbon atoms
And may contain one or more phenyl groups. When a plurality of Rs are included, they need not be the same. )

【0051】[0051]

【化11】 Embedded image

【0052】(m、nは整数、3≦m+n≦20、2≦
m≦19、0≦n≦18、Rはメチル基、分子量が10
0〜10,000のポリオキシアルキレン基または炭素
数2〜20の炭化水素基で1個以上のフエニル基を含有
してもよい。Rが複数個含まれる場合、これらは同じで
ある必要はない。) なお、(A)成分との相溶性をよりよくするためには、
前記Rがフエニル基を含有しているものが好ましい。さ
らに入手のしやすさから、−CH2 −CH2 −C
6 5 、−CH2 −CH(CH3 )−C6 5 が、ま
た、貯蔵安定性の点から、−CH2 −CH(CH3 )−
6 5 が好ましい。
(M and n are integers, 3≤m + n≤20, 2≤
m ≦ 19, 0 ≦ n ≦ 18, R is methyl group, molecular weight is 10
The polyoxyalkylene group may have 0 to 10,000 or a hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms and may contain one or more phenyl groups. When a plurality of Rs are included, they need not be the same. ) In order to improve the compatibility with the component (A),
It is preferred that R contains a phenyl group. Furthermore, because of easy availability, —CH 2 —CH 2 —C
6 H 5, is -CH 2 -CH (CH 3) -C 6 H 5, also from the viewpoint of storage stability, -CH 2 -CH (CH 3) -
C 6 H 5 are preferred.

【0053】この抵抗調整層4を構成する硬化性組成物
(I)には、前記(A)成分、(B)成分とともに、
(C)成分であるヒドロシリル化触媒が使用される。
The curable composition (I) constituting the resistance adjusting layer 4 contains the above-mentioned components (A) and (B) together with
The hydrosilylation catalyst as the component (C) is used.

【0054】(C)成分であるヒドロシリル化触媒につ
いてはとくに制限はなく、その具体例としては、たとえ
ば白金、アルミナやシリカ、カーボンブラックなどの担
体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金
酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどの錯体、白金
/オレフィン錯体、白金/ホスファイト錯体などがあげ
られる。
The hydrosilylation catalyst which is the component (C) is not particularly limited, and specific examples thereof include solid platinum supported on a carrier such as platinum, alumina, silica, carbon black, chloroplatinic acid, Examples include complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, platinum / olefin complexes, platinum / phosphite complexes, and the like.

【0055】硬化性組成物(I)は、前記(A)〜
(C)成分から調整される。(A)成分および(B)成
分の使用割合は、(A)成分中のアルケニル基1モル当
り、(B)成分中のヒドロシリル基が0.2〜5.0モ
ル、さらには0.4〜2.5モルになるように使用する
のがゴム弾性の点から好ましい。また、(C)成分であ
るヒドロシリル化触媒の使用量は、(A)成分中のアル
ケニル基1モルに対して10-1〜10 -6 モルの範囲で
用いられる。
The curable composition (I) comprises the above (A) to
It is adjusted from the component (C). The proportion of the component (A) and the component (B) used is such that the hydrosilyl group in the component (B) is 0.2 to 5.0 moles, and more preferably 0.4 to 1 mole, per 1 mole of the alkenyl group in the component (A). It is preferable to use 2.5 mol from the viewpoint of rubber elasticity. The amount of the hydrosilylation catalyst as the component (C) used is within the range of 10 -1 to 10 -6 mol with respect to 1 mol of the alkenyl group in the component (A).

【0056】前記のような硬化性組成物(I)からなる
抵抗調整層4は、体積抵抗率が導電性弾性層3よりも大
きければよく、体積抵抗率は108 〜1012Ω・cm程
度とする。所定のローラ抵抗値を得るために、前記硬化
性組成物(I)に(D)成分である導電性付与剤を添加
してもよい。この(D)成分の導電性付与剤の具体例と
しては、カーボンブラックや金属微粉末、さらには第4
級アンモニウム塩基、カルボン酸基、スルホン酸基、硫
酸エステル基、リン酸エステル基などを含有する有機化
合物もしくは重合体、エーテルエステルアミドもしくは
エーテルアミドイミド重合体、エチレンオキサイド−エ
ピハロヒドリン共重合体、メトキシポリエチレングリコ
ールアクリレート重合体などで代表される導電性ユニッ
トを有する化合物または高分子化合物などの有機帯電防
止剤などがあげられ、複数のものを用いてもかまわな
い。
The resistance adjusting layer 4 made of the curable composition (I) as described above may have a volume resistivity higher than that of the conductive elastic layer 3, and has a volume resistivity of about 10 8 to 10 12 Ω · cm. And In order to obtain a predetermined roller resistance value, a conductivity imparting agent which is the component (D) may be added to the curable composition (I). Specific examples of the conductivity-imparting agent as the component (D) include carbon black, fine metal powder, and
Organic compounds or polymers containing primary ammonium base, carboxylic acid group, sulfonic acid group, sulfuric acid ester group, phosphoric acid ester group, etc., ether ester amide or ether amide imide polymer, ethylene oxide-epihalohydrin copolymer, methoxy polyethylene An organic antistatic agent such as a compound having a conductive unit represented by a glycol acrylate polymer or a polymer compound can be used, and a plurality of them may be used.

【0057】また、この抵抗調整層4は、通常、厚さ5
〜300μm程度、好ましくは20〜200μm程度の
層である。この抵抗調整層4の厚みが5μm未満の場合
には、前記導電性弾性層3の抵抗値ばらつきをならす機
能が不十分なことが多く、ローラの耐電圧も小さくなる
傾向にある。また、300μmを超える場合には、ロー
ラ抵抗値が大きくなりすぎる傾向にある。
The resistance adjusting layer 4 usually has a thickness of 5
It is a layer of about 300 μm, preferably about 20 to 200 μm. When the thickness of the resistance adjusting layer 4 is less than 5 μm, the function of smoothing the resistance value variation of the conductive elastic layer 3 is often insufficient, and the withstand voltage of the roller tends to decrease. If it exceeds 300 μm, the roller resistance value tends to be too high.

【0058】前記抵抗調整層4の成形方法はとくに限定
されるものではなく、ロールコータ、ディッピング、ス
プレー、はけ塗りなどで導電性弾性層3の外周面上に形
成すればよい。
The method of forming the resistance adjusting layer 4 is not particularly limited, and it may be formed on the outer peripheral surface of the conductive elastic layer 3 by a roll coater, dipping, spraying, brush coating or the like.

【0059】つぎに、前記半導電性ローラ1における導
電性弾性層3の具体例としては、ウレタンゴム、クロロ
プレンゴム、EPDM、NBRなどがあげられるが、前
記(A)、(B)、(C)成分に加え、(D)成分を添
加した硬化性組成物(II) からなるものを使用すること
で、低硬度、低圧縮永久歪みなどの特徴を有する導電性
弾性層が得られる。
Next, specific examples of the conductive elastic layer 3 in the semiconductive roller 1 include urethane rubber, chloroprene rubber, EPDM, NBR, etc., and the above (A), (B), (C). By using the curable composition (II) containing the component (D) in addition to the component (2), a conductive elastic layer having characteristics such as low hardness and low compression set can be obtained.

【0060】この導電性弾性層3における(D)成分で
ある導電性付与剤の使用量は、前記(A)〜(C)成分
の含計量100部(重量部、以下同様)に対して0.1
〜50部、さらには0.3〜30部で、導電性弾性層3
の体積抵抗率が103 〜10 8 Ω・cm程度、好ましく
は104 〜107 Ω・cmになるように使用される。
With the component (D) in the conductive elastic layer 3,
The amount of the certain conductivity-imparting agent used is the above-mentioned components (A) to (C).
0.1 for every 100 parts (including parts by weight)
To 50 parts, and further 0.3 to 30 parts, the conductive elastic layer 3
Has a volume resistivity of 10Three-10 8Ω · cm, preferably
Is 10Four-107Used to be Ω · cm.

【0061】前記硬化性組成物(II)には、必要であれ
ば、シリカ、炭酸マグネシウムなどの非導電性フィラ
ー、老化防止剤などを加えてもよい。加える量として
は、通常(A)〜(D)成分の合計量100部に対して
50部程度以下、好ましくは20部程度以下であるの
が、良好なゴム弾性を損なわない点から好ましい。
If necessary, silica, non-conductive fillers such as magnesium carbonate, and antioxidants may be added to the curable composition (II). The amount to be added is usually about 50 parts or less, preferably about 20 parts or less, based on 100 parts of the total amount of the components (A) to (D), from the viewpoint of not impairing good rubber elasticity.

【0062】さらに、前記抵抗調整層4の表面に設けら
れる保護層5は、感光体と接触する場合、耐摩耗性が優
れていることが必要であり、感光体を汚染しない物質か
らなることが必要である。
Further, the protective layer 5 provided on the surface of the resistance adjusting layer 4 needs to have excellent abrasion resistance when it comes into contact with the photoconductor, and is made of a substance which does not contaminate the photoconductor. is necessary.

【0063】この保護層の具体例としては、ナイロン、
アクリル系樹脂、フッ素樹脂などがあげられ、前記抵抗
調整層4と同様、ロールコータ、ディッピング、スプレ
ー、はけ塗りなどで形成される。
Specific examples of this protective layer include nylon,
An acrylic resin, a fluororesin, or the like can be used, and like the resistance adjusting layer 4, it is formed by a roll coater, dipping, spraying, brush coating, or the like.

【0064】このようにして形成されたローラは、帯電
ローラ、現像ローラ、転写ローラなど、電子複写機やプ
リンタなどの電子写真機が有する、感光体に接触させ、
もしくは紙を介して接触させて使用する各種ローラや用
紙給送用のローラとして使用される。
The roller thus formed is brought into contact with the photosensitive member of an electrophotographic machine such as an electronic copying machine or a printer such as a charging roller, a developing roller and a transfer roller,
Alternatively, it is used as various rollers that are brought into contact with each other via paper or a roller for feeding paper.

【0065】[0065]

【実施例】つぎに、本発明の半導電性ローラを実施例に
基づいて説明する。
EXAMPLES Next, the semiconductive roller of the present invention will be explained based on examples.

【0066】実施例1 数平均分子量(Mn)8,000、分子量分布(Mw/
Mn)2.0(GPCで測定)、粘度130P(20
℃)のポリオキシプロピレン系重合体(ポリオキシプロ
ピレンの両末端のOHの90%をアリルエーテル化した
もの)100g、式:
Example 1 Number average molecular weight (Mn) 8,000, molecular weight distribution (Mw /
Mn) 2.0 (measured by GPC), viscosity 130P (20
100 ° C.) polyoxypropylene polymer (polyoxypropylene in which 90% of OH at both ends is allyl etherified), formula:

【0067】[0067]

【化12】 Embedded image

【0068】で示されるポリシロキサン系硬化剤(Si
H価0.358モル/100gのもの)6.9g、塩化
白金酸(H2 PtCl6 )の10%イソプロピルアルコ
ール溶液0.06gを配合した組成物(a)を作製し
た。
A polysiloxane curing agent (Si
A composition (a) was prepared by blending 6.9 g of H value of 0.358 mol / 100 g) and 0.06 g of 10% isopropyl alcohol solution of chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 ).

【0069】この組成物(a)に、さらにケッチェンブ
ラックEC 0.5gを混合したのちに、10mmHg
の減圧条件下で120分間攪拌脱泡し、組成物(b)を
得た。
This composition (a) was further mixed with 0.5 g of Ketjen Black EC, and then 10 mmHg
The mixture was degassed with stirring for 120 minutes under reduced pressure conditions to obtain a composition (b).

【0070】得られた組成物(b)を直径6mmのステ
ンレス製シャフトの周りに被覆し、120℃の金型内部
で30分間硬化させて、ステンレス製シャフトの周りに
厚さ3mmの導電性弾性層を設けた。
The composition (b) thus obtained was coated around a stainless steel shaft having a diameter of 6 mm and cured in a mold at 120 ° C. for 30 minutes to give a conductive elastic layer having a thickness of 3 mm around the stainless steel shaft. Layers were provided.

【0071】次に前記と同様に作製した組成物(a)を
10mmHgの減圧条件下で120分間攪拌脱泡した
後、前記導電性弾性層の上にロールコータ装置を用いて
塗布し、120℃のオーブン内部で30分間硬化させ
て、抵抗調整層を形成したローラ(c)を作製した。
Next, the composition (a) prepared in the same manner as above was degassed by stirring under a reduced pressure of 10 mmHg for 120 minutes, and then applied on the conductive elastic layer by using a roll coater, and 120 ° C. Then, the roller (c) having the resistance adjusting layer formed thereon was prepared by curing for 30 minutes inside the oven.

【0072】抵抗調整層の厚みを、外形測定機(キーエ
ンス(株)製)で測定したところ、30μmであった。
When the thickness of the resistance adjusting layer was measured by an outer shape measuring machine (manufactured by Keyence Corporation), it was 30 μm.

【0073】得られたローラ(c)を銅板上に置き、ス
テンレス製シャフトの両端にそれぞれ500gの荷重を
加え、直流100Vを印加した際のローラ抵抗値を測定
点を変えて4回測定したところ、ローラ抵抗値は平均で
4×105 Ωとなった。またローラ抵抗値のばらつきと
して、抵抗値の最大値と最小値の比をとったところ、
1.3倍となった。
The obtained roller (c) was placed on a copper plate, a load of 500 g was applied to both ends of a stainless steel shaft, and the roller resistance value when DC 100 V was applied was measured four times at different measurement points. The roller resistance value was 4 × 10 5 Ω on average. Moreover, when the ratio of the maximum value and the minimum value of the resistance value was taken as the variation of the roller resistance value,
It became 1.3 times.

【0074】このように得られたローラ(c)は、抵抗
値が半導電領域にあり、ローラ抵抗値のばらつきも小さ
かった。
The roller (c) thus obtained had a resistance value in the semiconductive region, and the variation in roller resistance value was small.

【0075】つぎに、前記ローラ(c)の表面に、保護
層として、アルコール可溶性ナイロン(CM;東レ
(株))を50μmの厚みにスプレーにより塗布した
後、キャノン(株)製コピー機FC310用カートリッ
ジに帯電ローラとして組み込み、画出しを行ったとこ
ろ、良好な画像が得られた。なお、このローラ(c)の
JISA 硬度は27°であった。
Next, alcohol-soluble nylon (CM; Toray Industries, Inc.) was applied as a protective layer on the surface of the roller (c) by spraying to a thickness of 50 μm, and then used for copying machine FC310 manufactured by Canon Inc. When the cartridge was incorporated as a charging roller and image formation was performed, a good image was obtained. The JISA hardness of this roller (c) was 27 °.

【0076】実施例2〜5 抵抗調整層の厚みを10μm、50μm、100μm、
200μmとした以外は、実施例1と同様にしてローラ
(d)〜(g)を作製し、前記と同様にしてローラ抵抗
値を測定した。結果を表1に示す。
Examples 2 to 5 The thickness of the resistance adjusting layer is 10 μm, 50 μm, 100 μm,
Rollers (d) to (g) were produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 200 μm, and the roller resistance value was measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 1.

【0077】[0077]

【表1】 [Table 1]

【0078】得られたローラは、いずれも抵抗値が半導
電領域にあり、ローラ抵抗値のばらつきも小さかった。
Each of the obtained rollers had a resistance value in the semiconductive region, and the variation in the roller resistance value was small.

【0079】つぎに、前記ローラ(d)〜(g)の表面
に、実施例1と同様に保護層を形成した後に、キャノン
(株)製コピー機FC310用カートリッジに帯電ロー
ラとして組み込み、画出しを行ったところ、いずれの場
合も良好な画像が得られた。
Next, after forming a protective layer on the surfaces of the rollers (d) to (g) in the same manner as in Example 1, it was incorporated into a cartridge for a copying machine FC310 manufactured by Canon Inc. as a charging roller, and an image was formed. As a result of performing the bleaching, good images were obtained in all cases.

【0080】実施例6 実施例1のポリシロキサンを式:Example 6 The polysiloxane of Example 1 is of the formula:

【0081】[0081]

【化13】 Embedded image

【0082】で示されるポリシロキサン系硬化剤(Si
H価0.97モル/100gのもの)2.7gに変更し
た以外は、実施例1と同様にしてローラ(h)を作製
し、ローラ抵抗値を測定点を変えて4回測定したとこ
ろ、平均で5×105 Ωとなった。またローラ抵抗値の
ばらつきは1.2倍となり、得られたローラ(h)は、
抵抗値が半導電領域にあり、ローラ抵抗値のばらつきも
小さかった。
The polysiloxane curing agent (Si
A roller (h) was produced in the same manner as in Example 1 except that the H value was 0.97 mol / 100 g) was changed to 2.7 g, and the roller resistance value was measured 4 times by changing the measurement points. The average value was 5 × 10 5 Ω. In addition, the variation of the roller resistance value is 1.2 times, and the obtained roller (h) is
The resistance value was in the semiconductive region, and the variation in roller resistance value was small.

【0083】比較例1 導電性弾性層を設けるまでは、実施例1と同様のものを
作製した。つぎに、この導電性弾性層の上に、エピクロ
ルヒドリンとエチレンオキサイドの共重合体(エピクロ
マーC:ダイソ−(株))のメチルエチルケトン溶液を
スプレーにより塗布し、150℃のオーブン内部で60
分間加硫して、抵抗調整層を形成したローラを作製し
た。
Comparative Example 1 The same as Example 1 was prepared until the conductive elastic layer was provided. Next, a methyl ethyl ketone solution of a copolymer of epichlorohydrin and ethylene oxide (Epichromer C: Daiso Co., Ltd.) was applied onto the conductive elastic layer by spraying, and the solution was heated in an oven at 150 ° C. to 60 ° C.
It was vulcanized for a minute to prepare a roller having a resistance adjusting layer.

【0084】抵抗調整層の厚みを、外形測定機(キーエ
ンス(株)製)で測定したところ、60μmであった。
When the thickness of the resistance adjusting layer was measured with an outer shape measuring machine (manufactured by Keyence Corp.), it was 60 μm.

【0085】得られたローラの抵抗値を、測定点を変え
て4回測定したところ、平均で2×106 Ωとなった。
またローラ抵抗値のばらつきは1.5倍となった。
The resistance value of the obtained roller was measured 4 times at different measurement points, and the average value was 2 × 10 6 Ω.
The variation in roller resistance value was 1.5 times.

【0086】つぎに、このローラの上に保護層としてア
ルコール可溶性ナイロン(CM:東レ株式会社)を膜厚
が50μmとなるようにスプレー塗布した後に、キャノ
ン(株)製コピー機FC310用カートリッジに帯電ロ
ーラとして組み込み、画出しをした結果、帯電不良に起
因する白抜けが画像上に見られ、良好な画像が得られな
かった。なお、このローラのJIS A 硬度は40°
であった。
Next, alcohol-soluble nylon (CM: Toray Industries, Inc.) was spray-coated on this roller as a protective layer to a film thickness of 50 μm, and then a cartridge for copying machine FC310 manufactured by Canon Inc. was charged. As a result of incorporating it as a roller and forming an image, white spots due to poor charging were observed on the image, and a good image could not be obtained. The JIS A hardness of this roller is 40 °.
Met.

【0087】[0087]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電子複
写機が有する、感光体に接触させ、もしくは紙を介して
接触させて使用する各種ローラや、用紙給送用のローラ
などに用いる半導電性ローラとして、ローラ抵抗値のば
らつきが小さく、かつゴム硬度が小さいローラを得るこ
とができる。
As described above, according to the present invention, various rollers, which are used by being brought into contact with a photoconductor or through paper, which are included in an electronic copying machine, rollers for feeding paper, and the like are used. As the semiconductive roller to be used, it is possible to obtain a roller having a small variation in roller resistance value and a small rubber hardness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に係る半導電性ローラの1実施例を示
す断面図。 1 ローラ、 2 金属製シャフト、3 導電性弾性
層、 4 抵抗調整層、5 保護層。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a semi-conductive roller according to the present invention. 1 roller, 2 metal shaft, 3 conductive elastic layer, 4 resistance adjusting layer, 5 protective layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大越 洋 滋賀県大津市比叡辻2−1−1 鐘淵化学 工業株式会社内 (72)発明者 三村 和義 滋賀県大津市比叡辻2−1−1 鐘淵化学 工業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Ogoshi 2-1-1 Hiei Tsuji, Otsu City, Shiga Prefecture Kanebuchi Chemical Industry Co., Ltd. (72) Kazuyoshi Mimura 2-1-1 Hiei Tsuji, Otsu City Shiga Prefecture Kanebuchi Chemical Industry Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子写真機に用いる半導電性ローラであ
って、金属製シャフトの上に導電性弾性層を設けてなる
半導電性ローラにおいて、前記導電性弾性層の外周面
に、(A)分子中に少なくとも1個のアルケニル基を有
し、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン単
位である重合体、(B)分子中に2個以上のヒドロシリ
ル基を有する硬化剤、および、(C)ヒドロシリル化触
媒、を含む硬化性組成物からなる抵抗調整層を設けたこ
とを特徴とする半導電性ローラ。
1. A semi-conductive roller used in an electrophotographic machine, comprising a metal shaft and a conductive elastic layer provided on the shaft, wherein (A) is provided on the outer peripheral surface of the conductive elastic layer. ) A polymer having at least one alkenyl group in the molecule and a repeating unit constituting the main chain being an oxyalkylene unit, (B) a curing agent having two or more hydrosilyl groups in the molecule, and ( A semiconductive roller provided with a resistance adjusting layer made of a curable composition containing C) a hydrosilylation catalyst.
【請求項2】 前記抵抗調整層の厚みが5〜300μm
である請求項1記載の半導電性ローラ。
2. The thickness of the resistance adjusting layer is 5 to 300 μm.
The semiconductive roller according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記導電性弾性層として、前記(A)、
(B)、(C)に加え、(D)導電性付与剤、からなる
硬化性組成物を使用したことを特徴とする請求項1記載
の半導電性ローラ。
3. The (A), as the conductive elastic layer,
The semiconductive roller according to claim 1, wherein a curable composition comprising (D) a conductivity-imparting agent in addition to (B) and (C) is used.
【請求項4】 請求項1記載の抵抗調整層を有する半導
電性ローラ表面に、さらに保護層を設けてなる半導電性
ローラ。
4. A semiconductive roller having a protective layer further provided on the surface of the semiconductive roller having the resistance adjusting layer according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0977096A2 (en) * 1998-07-28 2000-02-02 Tokai Rubber Industries, Ltd. Conductive roll
KR100854664B1 (en) * 2005-08-08 2008-08-27 스미도모 고무 고교 가부시기가이샤 Semiconductive roller

Cited By (3)

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EP0977096A3 (en) * 1998-07-28 2001-02-14 Tokai Rubber Industries, Ltd. Conductive roll
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