JPH09204994A - Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator - Google Patents

Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator

Info

Publication number
JPH09204994A
JPH09204994A JP1172696A JP1172696A JPH09204994A JP H09204994 A JPH09204994 A JP H09204994A JP 1172696 A JP1172696 A JP 1172696A JP 1172696 A JP1172696 A JP 1172696A JP H09204994 A JPH09204994 A JP H09204994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
pump
electron beam
neg
duct
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1172696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Arai
秀幸 荒井
Masao Tsuchiya
将夫 土屋
Toshiro Nishidono
敏朗 西殿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp filed Critical IHI Corp
Priority to JP1172696A priority Critical patent/JPH09204994A/en
Publication of JPH09204994A publication Critical patent/JPH09204994A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate the manufacture. SOLUTION: A vacuum chamber body 29 has a simple cylindrical form having a single cavity part 28 in the inner part, a bulkhead forming part 34 is formed on one side of a base plate 31 for supporting a NEG(non-evaporable getter) pump 42 is formed in the vacuum chamber 29, a cavity part 28 is partitioned into an electron beam passage 32 and a pump chamber 33 by the bulkhead forming part 34, whereby the manufacturing process is simplified, so that the manufacturing cost can be suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、リサーキュレーシ
ョン装置やシンクロトロンや電子蓄積リングなどの粒子
加速装置に適用する粒子加速装置用ポンプ内蔵型真空チ
ェンバに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum chamber with a built-in pump for a particle accelerator, which is applied to a particle accelerator such as a recirculation device, a synchrotron or an electron storage ring.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2はリサーキュレーション装置の一例
を示すもので、図中、1は線形加速装置であり、該線形
加速装置1は、電子(荷電粒子)を射出する電子発生装
置2と、一端が電子発生装置2に接続された直管状の加
速ダクト3と、該加速ダクト3の内部を移動する電子を
高周波電流によって増速する加速装置4とを備えてい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of a recirculation apparatus. In the figure, 1 is a linear accelerator, and the linear accelerator 1 includes an electron generator 2 for ejecting electrons (charged particles). A straight tubular acceleration duct 3 having one end connected to the electron generator 2 and an accelerator 4 for accelerating electrons moving inside the acceleration duct 3 by a high frequency current.

【0003】加速ダクト3の他端には、偏向ダクト5の
湾曲された一端が接続されており、偏向ダクト5の湾曲
部分には、その内部を移動する電子の軌道を曲げるため
の偏向電磁石6が設けられている。
A curved end of the deflection duct 5 is connected to the other end of the acceleration duct 3, and the curved portion of the deflection duct 5 has a deflection electromagnet 6 for bending the trajectory of electrons moving therein. Is provided.

【0004】7は電子を周回させるための無端状ダクト
であり該無端状ダクト7は、図3に示すような断面を有
する真空チェンバ8を複数連結することによって所要長
さとなるよう構成されている。
Reference numeral 7 is an endless duct for circulating electrons. The endless duct 7 is constructed to have a required length by connecting a plurality of vacuum chambers 8 each having a cross section as shown in FIG. .

【0005】この無端状ダクト7の湾曲部分には、その
内部を移動する電子の軌道を曲げるための偏向電磁石9
が設けられ、無端状ダクト7の所定の直管部分には、該
無端状ダクト7の内部を周回する電子を高周波電流によ
って増速する加速装置10が設けられている。
At the curved portion of the endless duct 7, a bending electromagnet 9 for bending the orbit of electrons moving inside the endless duct 7 is formed.
An accelerating device 10 for accelerating the electrons circulating inside the endless duct 7 by a high-frequency current is provided at a predetermined straight pipe portion of the endless duct 7.

【0006】又、無端状ダクト7の所要箇所には、前記
した偏向ダクト5の他端が接続されている。
The other end of the deflection duct 5 is connected to a required portion of the endless duct 7.

【0007】更に、無端状ダクト7所要箇所の湾曲部に
は、無端状ダクト7から外部へ電子を導くための放出ダ
クト11の一端が接続されている。
Further, one end of an emission duct 11 for guiding electrons from the endless duct 7 to the outside is connected to the curved portion of the required portion of the endless duct 7.

【0008】そして、図2に示すリサーキュレーション
装置では、加速ダクト3、偏向ダクト5、無端状ダクト
7、放出ダクト11の内部を真空状態にした後、電子発
生装置2から電子を出射させると、該電子は、加速ダク
ト3の加速装置4によって増速され、偏向ダクト5の偏
向電磁石6によって軌道を曲げられることにより無端状
ダクト7へ入射される。
In the recirculation apparatus shown in FIG. 2, after the interior of the acceleration duct 3, the deflection duct 5, the endless duct 7 and the emission duct 11 is evacuated, electrons are emitted from the electron generator 2. The electrons are accelerated by the accelerating device 4 of the accelerating duct 3, and the trajectory is bent by the deflecting electromagnet 6 of the deflecting duct 5, so that the electrons are incident on the endless duct 7.

【0009】無端状ダクト7に入射した電子は、該無端
状ダクト7の屈曲部分において偏向電磁石9によって軌
道を曲げられることにより無端状ダクト7を周回し、
又、無端状ダクト7を周回するごとに加速装置10によ
り増速されて高エネルギーになって行き、放出ダクト1
1から外部へ取り出される。
The electrons that have entered the endless duct 7 circulate in the endless duct 7 by being bent by the deflection electromagnet 9 at the bent portion of the endless duct 7.
Also, each time it goes around the endless duct 7, it is accelerated by the accelerator 10 to become high energy, and the discharge duct 1
It is taken out from 1.

【0010】上記真空チェンバ8は、図3に示すよう
に、その内部に長手方向へ延びる電子ビーム通路12と
ポンプ室13とを隔壁14を隔てて備えており、隔壁1
4には両者の間を連通する排気小孔15が形成されてい
る。
As shown in FIG. 3, the vacuum chamber 8 includes an electron beam passage 12 extending in the longitudinal direction and a pump chamber 13 inside the partition wall 14 with a partition wall 14 therebetween.
An exhaust small hole 15 is formed at 4 to communicate the two.

【0011】又、ポンプ室13には、図4に示すよう
に、長手方向へ延びるプレート係止用溝16が形成され
ており、該プレート係止用溝16には、長手方向に間隔
を置いて複数のベースプレート23が嵌合係止され、該
ベースプレート23には絶縁材17,18及びボルト2
0,ナット21を介して、サポートアーム19が取付け
られ、該サポートアーム19には、リボン状をしたNE
Gストリップ22(NEG:Non Evaporable Getter)
が支持されている。
As shown in FIG. 4, a plate locking groove 16 extending in the longitudinal direction is formed in the pump chamber 13, and the plate locking groove 16 is spaced in the longitudinal direction. A plurality of base plates 23 are fitted and locked, and the base plates 23 have insulating materials 17, 18 and bolts 2
A support arm 19 is attached via a 0 and a nut 21, and a ribbon-shaped NE is attached to the support arm 19.
G Strip 22 (NEG: Non Evaporable Getter)
Is supported.

【0012】上記NEGストリップ22は、コンスタン
タンの薄板にジルコニウムやバナジウムなどの粉末を圧
着させたものであり、長手方向の両端部に、図示しない
電源に接続させるための端子24,25が取付けられ
て、NEGポンプ26を構成している。
The NEG strip 22 is formed by pressing powder of zirconium, vanadium, etc. on a thin plate of constantan, and has terminals 24, 25 for connecting to a power source (not shown) attached to both ends in the longitudinal direction. , NEG pump 26.

【0013】そして、図示しないターボポンプなどによ
って真空チェンバ8の電子ビーム通路12やポンプ室1
3内を減圧した後、図示しない電源によりNEGストリ
ップ22に通電してジュール熱によりNEGストリップ
22を摂氏450度程度に加熱させる。
Then, the electron beam passage 12 of the vacuum chamber 8 and the pump chamber 1 are controlled by a turbo pump (not shown).
After depressurizing the inside of 3, the NEG strip 22 is energized by a power source (not shown) to heat the NEG strip 22 to about 450 degrees Celsius by Joule heat.

【0014】すると、コンスタンタンの薄板に圧着され
たジルコニウムやバナジウムなどの粉末が高温により活
性化され、活性化された上記粉末が気体分子を吸着する
ことにより、電子ビーム通路12内が超高真空状態とな
る。
Then, the powder of zirconium, vanadium, or the like pressed onto the thin plate of constantan is activated at a high temperature, and the activated powder adsorbs gas molecules, so that the inside of the electron beam passage 12 is in an ultrahigh vacuum state. Becomes

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の粒子加速装置用ポンプ内蔵型真空チェンバには、以
下のような問題があった。
However, the conventional vacuum chamber with a built-in pump for a particle accelerator has the following problems.

【0016】即ち、真空チェンバ8には、内部を電子ビ
ームが通る時に、壁面にイメージカレントと呼ばれる電
流が流れるが、該イメージカレントが乱れると電子ビー
ムのエネルギーを低下させたり電子ビームの軌道を不安
定にしたりするなどの悪影響を与えるため、電子ビーム
通路12とポンプ室13とを隔壁14で隔てると共に、
電子ビーム通路12がなめらかな面によって囲まれた閉
空間となるようにし、電子ビームに悪影響が及ぼされな
いようにしている。
That is, when the electron beam passes through the inside of the vacuum chamber 8, a current called an image current flows on the wall surface. If the image current is disturbed, the energy of the electron beam is lowered or the trajectory of the electron beam is impaired. The electron beam passage 12 and the pump chamber 13 are separated from each other by the partition wall 14 in order to exert a bad influence such as stabilization.
The electron beam passage 12 is a closed space surrounded by a smooth surface so that the electron beam is not adversely affected.

【0017】しかし、このような、隔壁14を介して電
子ビーム通路12とポンプ室13とを有する複雑形状の
真空チェンバ8を製作するのには、多数の工程が必要と
なるので、製作コストが高く付いていた。
However, in order to manufacture the vacuum chamber 8 having a complicated shape having the electron beam passage 12 and the pump chamber 13 through the partition wall 14 as described above, a large number of steps are required, so that the manufacturing cost is high. It was expensive.

【0018】又、真空性能の良い無酸素銅などの素材
は、成形性や溶接性などの加工性が、アルミ合金やステ
ンレス鋼などに比べて劣るため、上記複雑形状の真空チ
ェンバ8を無酸素銅によって製作するのが極めて困難で
あった。
Since materials such as oxygen-free copper having good vacuum performance are inferior in workability such as formability and weldability to aluminum alloy and stainless steel, the vacuum chamber 8 having the complicated shape is oxygen-free. It was extremely difficult to make with copper.

【0019】本発明は、上述の実情に鑑み、簡単に製造
し得るようにした粒子加速装置用ポンプ内蔵型真空チェ
ンバを提供することを目的とするものである。
In view of the above situation, it is an object of the present invention to provide a pump built-in type vacuum chamber for a particle accelerator which can be easily manufactured.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、内部に単一の
空洞部を有する筒型の真空チェンバ本体を設け、空洞部
に片側に寄せてNEGポンプを配設すると共に、NEG
ポンプを真空チェンバ本体内に支持させるベースプレー
トの一側に、空洞部を電子ビーム通路とポンプ室に仕切
る隔壁形成部を形成したことを特徴とする粒子加速装置
用ポンプ内蔵型真空チェンバにかかるものである。
According to the present invention, a cylindrical vacuum chamber main body having a single hollow portion inside is provided, and the NEG pump is arranged in the hollow portion toward one side, and at the same time, the NEG pump is provided.
A vacuum chamber with a built-in pump for a particle accelerating device, characterized in that, on one side of a base plate that supports the pump in the main body of the vacuum chamber, a partition forming part that partitions the cavity into an electron beam passage and a pump chamber is formed. is there.

【0021】上記手段によれば、以下のような作用が得
られる。
According to the above means, the following effects can be obtained.

【0022】真空チェンバ本体を、内部に単一の空洞部
を有する単純な筒型とし、真空チェンバ本体内にNEG
ポンプを支持するためのベースプレートの一側に隔壁形
成部を形成して、空洞部を電子ビーム通路とポンプ室に
仕切らせるようにすることにより、真空チェンバ本体の
製作工程が簡易化され、製作コストを抑えることができ
るようになると共に、無酸素銅などの加工性の悪い素材
からでも簡単に真空チェンバ本体を製作することができ
るようになる。
The vacuum chamber body is a simple cylinder type having a single cavity inside, and the NEG is housed in the vacuum chamber body.
By forming a partition wall forming part on one side of the base plate for supporting the pump and partitioning the hollow part into the electron beam passage and the pump chamber, the manufacturing process of the vacuum chamber main body is simplified and the manufacturing cost is reduced. In addition to being able to suppress the above, it becomes possible to easily manufacture the vacuum chamber body even from a material having poor workability such as oxygen-free copper.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
示例と共に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は、本発明の実施の形態の一例であ
る。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.

【0025】尚、リサーキュレーション装置などの粒子
加速装置の構造については図2と同様であるため、必要
に応じてこの図を参照する。
Since the structure of the particle accelerating device such as the recirculation device is the same as that shown in FIG. 2, this drawing will be referred to as necessary.

【0026】内部に単一の空洞部28を有する筒型の真
空チェンバ本体29を形成し、該真空チェンバ本体29
における空洞部28の図中左右方向の一側(図では右
側)における上面又は下面の少くとも一方(図では下
側)に長手方向へ延びるプレート係止用溝30を形成す
る。
A cylindrical vacuum chamber body 29 having a single hollow portion 28 therein is formed, and the vacuum chamber body 29 is formed.
A plate locking groove 30 extending in the longitudinal direction is formed on at least one (upper side in the figure) of the upper surface or the lower surface on one side (right side in the figure) of the cavity portion 28 in the left-right direction in the figure.

【0027】該プレート係止用溝30に長手方向へ延び
る一枚物のベースプレート31を嵌合係止すると共に、
ベースプレート31の側部(図では左側)に、上下方向
へ延びて空洞部28を電子ビーム通路32とポンプ室3
3に仕切る隔壁形成部34を一体形成し、隔壁形成部3
4に両者間を連通する排気小孔35を形成する。
A single base plate 31 extending in the longitudinal direction is fitted and locked in the plate locking groove 30, and
A cavity 28 is formed on the side portion (left side in the figure) of the base plate 31 so as to extend in the vertical direction, and the cavity portion 28 is provided with the electron beam passage 32 and the pump chamber 3.
The partition forming portion 34 for partitioning into 3 is integrally formed, and the partition forming portion 3
4, an exhaust small hole 35 is formed to connect the both.

【0028】そして、前記ベースプレート31の長手方
向の数箇所の位置に、絶縁材36,37及びボルト3
8、ナット39を介して、複数のサポートアーム40を
取付け、サポートアーム40に、前記長手方向へ延びる
リボン状をしたNEGストリップ41(NEG:Non Ev
aporable Getter)をベースプレート31に対し絶縁状
態となるよう取付ける。
Then, the insulating materials 36 and 37 and the bolt 3 are provided at several positions in the longitudinal direction of the base plate 31.
8, a plurality of support arms 40 are attached via nuts 39, and ribbon-shaped NEG strips 41 (NEG: Non Ev) extending in the longitudinal direction are attached to the support arms 40.
aporable Getter) to the base plate 31 so as to be insulated.

【0029】上記NEGストリップ41は、コンスタン
タンの薄板にジルコニウムやバナジウムなどの粉末を圧
着したものであり、両端部を、図示しない電源に接続さ
れて、NEGポンプ42が構成されている。
The NEG strip 41 is formed by pressing powder of zirconium, vanadium or the like onto a thin plate of constantan, and both ends thereof are connected to a power source (not shown) to form the NEG pump 42.

【0030】尚、43は空洞部28の上面に突設された
隔壁形成部34の上端を係止するための係止爪であり、
該係止爪43及び電子ビーム通路32側のプレート係止
用溝根本部44には、電子ビーム通路32の内部にコー
ナー部ができないようにするための凹面加工(凹面加工
部45)を施してある。
Reference numeral 43 is a locking claw for locking the upper end of the partition wall forming portion 34 provided on the upper surface of the cavity 28,
The locking claw 43 and the plate locking groove root portion 44 on the electron beam passage 32 side are provided with a concave surface processing (concave surface processing portion 45) for preventing a corner portion from being formed inside the electron beam passage 32. is there.

【0031】次に、作動について説明する。Next, the operation will be described.

【0032】電子ビームが加速されて高エネルギー化さ
れる過程については図2と同様なので説明を省略する。
The process of accelerating the electron beam to increase the energy is the same as in FIG. 2 and its explanation is omitted.

【0033】そして、図示しないターボポンプなどによ
って真空チェンバ本体29の電子ビーム通路32やポン
プ室33内を減圧した後、図示しない電源によりNEG
ストリップ41に通電してジュール熱によりNEGスト
リップ41を摂氏450度程度に加熱させる。
After depressurizing the electron beam passage 32 and the pump chamber 33 of the vacuum chamber body 29 by a turbo pump (not shown) or the like, the NEG is powered by a power source (not shown).
The strip 41 is energized to heat the NEG strip 41 to about 450 degrees Celsius by Joule heat.

【0034】すると、コンスタンタンの薄板に圧着され
たジルコニウムやバナジウムなどの粉末が高温により活
性化され、活性化された上記粉末が気体分子を吸着する
ことにより、電子ビーム通路32内が超高真空状態とな
る。
Then, the powder of zirconium, vanadium, or the like, which is pressure-bonded to the thin plate of constantan, is activated by high temperature, and the activated powder adsorbs gas molecules, so that the inside of the electron beam passage 32 is in an ultrahigh vacuum state. Becomes

【0035】そして、真空チェンバ本体29には、内部
を電子ビームが通る時に、壁面にイメージカレントと呼
ばれる電流が流れるが、該イメージカレントが乱れると
電子ビームのエネルギーを低下させたり電子ビームの軌
道を不安定にしたりするなどの悪影響を与えるため、電
子ビーム通路32とポンプ室33とを隔壁で隔てると共
に、電子ビーム通路32がなめらかな面によって囲まれ
た閉空間となるようにし、電子ビームに悪影響が及ぼさ
れないようにする必要がある。
When the electron beam passes through the inside of the vacuum chamber main body 29, a current called an image current flows on the wall surface. If the image current is disturbed, the energy of the electron beam is lowered or the trajectory of the electron beam is changed. Since the electron beam passage 32 and the pump chamber 33 are separated by a partition wall so as to have an adverse effect such as instability, the electron beam passage 32 becomes a closed space surrounded by a smooth surface, which adversely affects the electron beam. Must be prevented.

【0036】ところが、このような隔壁を介して電子ビ
ーム通路32とポンプ室33とを有する複雑形状の真空
チェンバ本体29を製作しようとすると、多数の工程が
必要となるので、製作コストが高く付いてしまう。
However, in order to manufacture a vacuum chamber main body 29 having a complicated shape having the electron beam passage 32 and the pump chamber 33 via such a partition wall, a large number of steps are required, and the manufacturing cost is high. Will end up.

【0037】又、真空性能の良い無酸素銅などの素材
は、成形性や溶接性などの加工性が、アルミ合金やステ
ンレス鋼などに比べて劣るため、上記複雑形状の真空チ
ェンバ本体29を無酸素銅で製作するのが極めて困難で
ある。
Further, since materials such as oxygen-free copper having good vacuum performance are inferior in workability such as formability and weldability to aluminum alloy, stainless steel, etc., the above-mentioned complicated vacuum chamber body 29 can be omitted. Very difficult to make with oxygen copper.

【0038】そこで、本発明では、真空チェンバ本体2
9は、内部に単一の空洞部28を有する単純な筒型と
し、真空チェンバ本体29内にNEGポンプ42を支持
させるためのベースプレート31の一側の側部に、上下
方向へ延びる隔壁形成部34を一体形成して、隔壁形成
部34により空洞部28を電子ビーム通路32とポンプ
室33に仕切らせるようにしている。
Therefore, in the present invention, the vacuum chamber body 2
Reference numeral 9 is a simple tubular shape having a single hollow portion 28 therein, and a partition wall forming portion extending vertically is provided on one side portion of a base plate 31 for supporting the NEG pump 42 in the vacuum chamber main body 29. 34 is integrally formed, and the cavity 28 is partitioned by the partition wall forming portion 34 into the electron beam passage 32 and the pump chamber 33.

【0039】これにより、真空チェンバ本体29の製作
工程が簡易化され、製作コストを抑えることができるよ
うになると共に、無酸素銅などの加工性の悪い素材から
でも簡単に真空チェンバ本体29を製作することができ
るようになる。
As a result, the manufacturing process of the vacuum chamber main body 29 is simplified, the manufacturing cost can be suppressed, and the vacuum chamber main body 29 can be easily manufactured even from a material with poor workability such as oxygen-free copper. You will be able to.

【0040】尚、本発明は、上述の実施の形態にのみ限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
内において種々変更を加え得ることは勿論である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes can be made without departing from the scope of the present invention.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の粒子加速
装置用ポンプ内蔵型真空チェンバによれば、簡単且つ安
価に製造することができるという優れた効果を奏し得
る。
As described above, according to the vacuum chamber with a built-in pump for a particle accelerator of the present invention, the excellent effect that it can be easily manufactured at low cost can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of an example of an embodiment of the present invention.

【図2】リサーキュレーション装置などの粒子加速装置
の概略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view of a particle accelerator such as a recirculation device.

【図3】従来の真空チャンバの断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional vacuum chamber.

【図4】図3のIV−IV矢視図である。4 is a view taken in the direction of arrows IV-IV in FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

28 空洞部 29 真空チェンバ本体 31 ベースプレート 32 電子ビーム通路 33 ポンプ室 34 隔壁形成部 42 NEGポンプ 28 Cavity 29 Vacuum Chamber Main Body 31 Base Plate 32 Electron Beam Passage 33 Pump Chamber 34 Partition Forming Section 42 NEG Pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西殿 敏朗 神奈川県横浜市磯子区新中原町1番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiro Nishino 1 Shin Nakahara-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Ishi Kawashima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Yokohama Engineering Center

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部に単一の空洞部を有する筒型の真空
チェンバ本体を設け、空洞部に片側に寄せてNEGポン
プを配設すると共に、NEGポンプを真空チェンバ本体
内に支持させるベースプレートの一側に、空洞部を電子
ビーム通路とポンプ室に仕切る隔壁形成部を形成したこ
とを特徴とする粒子加速装置用ポンプ内蔵型真空チェン
バ。
1. A cylindrical vacuum chamber main body having a single hollow portion inside, a NEG pump is disposed near the one side in the hollow portion, and a base plate for supporting the NEG pump in the vacuum chamber main body. A vacuum chamber with a built-in pump for a particle accelerating device, characterized in that a partition wall forming part is formed on one side to partition the cavity into an electron beam passage and a pump chamber.
JP1172696A 1996-01-26 1996-01-26 Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator Pending JPH09204994A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1172696A JPH09204994A (en) 1996-01-26 1996-01-26 Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1172696A JPH09204994A (en) 1996-01-26 1996-01-26 Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09204994A true JPH09204994A (en) 1997-08-05

Family

ID=11786046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1172696A Pending JPH09204994A (en) 1996-01-26 1996-01-26 Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09204994A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009149751A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 R&B Energy Research Sarl Evacuated solar panel with a non evaporable getter pump
JP2010165540A (en) * 2009-01-15 2010-07-29 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Method and structure for mounting partition plates for shielding electromagnetic noises in vacuum chamber for charged particle accelerator

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009149751A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 R&B Energy Research Sarl Evacuated solar panel with a non evaporable getter pump
JP2010165540A (en) * 2009-01-15 2010-07-29 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Method and structure for mounting partition plates for shielding electromagnetic noises in vacuum chamber for charged particle accelerator
JP4691169B2 (en) * 2009-01-15 2011-06-01 三菱重工業株式会社 Mounting method of electromagnetic noise shielding partition plate in vacuum chamber for charged particle accelerator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2883568A (en) Apparatus for producing thermallycool charged particles
JP2016146248A (en) Ion pump and charged particle beam device including the same
US5899666A (en) Ion drag vacuum pump
JPH09204994A (en) Vacuum chamber with built-in pump for particle accelerator
US6341157B1 (en) Rotation anticathode-X ray generating equipment
US2808980A (en) Electrical vacuum pump
US3416722A (en) High vacuum pump employing apertured penning cells driving ion beams into a target covered by a getter sublimator
US3112864A (en) Modular electronic ultrahigh vacuum pump
JP3165342B2 (en) Magnetron
JPS63939A (en) Collector of traveling wave tube
JPH07169426A (en) Ion beam generator
JPH0465057A (en) Charge particle beam apparatus
US3073987A (en) Electron discharge device with getter
JP2003162966A (en) Ion source
JP3178658B2 (en) Ion plasma type electron gun and its manufacturing method
JPH02273443A (en) Multistage acceleration type charged particle beam source
CN218998349U (en) Integral sealing type electronic curtain accelerator
JP2008507811A (en) Electronic equipment
JP2694665B2 (en) Beam accelerator built-in pump for particle accelerator
JP2002014200A (en) Taking-out window structure for particle beam and the like
JPH09270234A (en) Chamber inserted ecr low energy ion gun
JP2679377B2 (en) Collector for electron beam tube
JPH0765762A (en) Electron gun
US2714165A (en) Isotope separating apparatus
JPH11162699A (en) Vacuum chamber for particle accelerator