JPH09204048A - Aluminum or aluminum alloy substrate with hydrophilic property imparting layer and its production - Google Patents

Aluminum or aluminum alloy substrate with hydrophilic property imparting layer and its production

Info

Publication number
JPH09204048A
JPH09204048A JP31351296A JP31351296A JPH09204048A JP H09204048 A JPH09204048 A JP H09204048A JP 31351296 A JP31351296 A JP 31351296A JP 31351296 A JP31351296 A JP 31351296A JP H09204048 A JPH09204048 A JP H09204048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrophilicity
substrate
layer
imparting layer
basic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP31351296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Michael Brenk
ミヒャエル、ブレンク
Werner Riedel
ウェルナー、リーデル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPH09204048A publication Critical patent/JPH09204048A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/14Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
    • B05D7/16Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies using synthetic lacquers or varnishes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/036Chemical or electrical pretreatment characterised by the presence of a polymeric hydrophilic coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for an offset printing plate having a superior hydrophilic property imparting characteristic. SOLUTION: A hydrophilic property imparting layer is formed on an Al or Al alloy substrate subjected to mechanical and/or electrochemical surface roughening or further subjected to anodic oxidation if necessary by a single- process forming method using an aq. soln. The hydrophilic property imparting layer contains two kinds of components, one of the components is a polymer having basic and acidic radicals and the other is an amino acid. A recording material is obtd. by forming a radiation sensitive layer on the substrate having imparted hydrophilic property and a printing plate is produced from the recording material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】本発明は、塩基性および酸性の根源部を有
する少なくとも1種の重合体を含んでなる親水性付与層
を有する、機械的および/または電気化学的に粗面化さ
れ、必要であれば、陽極酸化されたアルミニウムまたは
その合金からなる基材、および該基材の製造法に関す
る。
The present invention has a mechanically and / or electrochemically roughened, optionally surface-roughened, having a hydrophilicity-imparting layer comprising at least one polymer having basic and acidic roots. For example, it relates to a base material made of anodized aluminum or its alloy, and a method for producing the base material.

【0002】オフセット印刷板用の基材は感光層(複写
層)を備えており、その感光層を使用し、写真製版法に
より印刷画像が形成される。印刷画像を形成した後、基
材はその印刷画像部分および同時に、画像のない部分
(非画像部分)に、平版印刷工程のための親水性の画像
背景を形成する。
A base material for an offset printing plate is provided with a photosensitive layer (copying layer), and a printed image is formed by a photoengraving method using the photosensitive layer. After forming the printed image, the substrate forms a hydrophilic image background for the lithographic printing process on the printed image portion and, at the same time, on the non-imaged portion (non-imaged portion).

【0003】その様な基材に適当な基材はアルミニウ
ム、鋼、銅、黄銅または亜鉛であるが、プラスチックフ
ィルムまたは紙も含まれる。印刷板の分野では、アルミ
ニウムおよびその合金の有用性が確立している。原材料
の表面は、公知の方法により機械的、化学的および/ま
たは電気化学的に粗面化され、必要であれば、陽極酸化
される。しかし、その様な基材用の前処理は、下記の必
要条件を満たすには十分ではない。
Suitable substrates for such substrates are aluminum, steel, copper, brass or zinc, but also plastic films or paper. In the field of printing plates, the usefulness of aluminum and its alloys has been established. The surface of the raw material is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened by known methods and, if necessary, anodized. However, such pretreatments for substrates are not sufficient to meet the following requirements.

【0004】(1) 感光層の、露光後に比較的可溶性
になる部分は、親水性の非画像部分を形成させるため
に、現像の際に基材から容易に、且つ完全に除去され
る。必要がある。感光層は一般的に強く着色されるの
で、基材に付着している層の残留物はすべて汚れとして
検出される。その結果、印刷板はこれらの場所で「スカ
ミング」を示すことがある。
(1) The portions of the photosensitive layer that become relatively soluble after exposure are easily and completely removed from the substrate during development to form hydrophilic non-image portions. There is a need. Since the photosensitive layer is generally strongly colored, any residue of the layer adhering to the substrate is detected as a stain. As a result, the printing plate may exhibit "scumming" at these locations.

【0005】露光および現像の後、印刷板を修正し、好
ましくない画像部分を除去しなければならないことがよ
くある。こうして剥き出しにされた非画像部分は、現像
により剥き出しにされた非画像部分と、色および明度に
おいて差があるべきではない。画像部分の面積の比率
を、画像部分と非画像部分の間の明度の差の平均により
測定する測定機器が使用できるためには、均一な明度が
必要である。
After exposure and development, it is often necessary to modify the printing plate to remove unwanted image areas. The non-image areas thus exposed should not differ in color and brightness from the non-image areas exposed by development. Uniform brightness is required in order to be able to use a measuring device which measures the area ratio of the image part by the average of the difference in brightness between the image part and the non-image part.

【0006】修正により形成された非画像部分と、通常
の現像工程の際に形成された非画像部分の間の好ましく
ない明度の差は、修正コントラストと呼ばれる。
The undesired lightness difference between the non-image areas formed by the correction and the non-image areas formed during the normal development process is called the corrected contrast.

【0007】(2) 非画像部分で剥き出しにされた基
材は、平版印刷工程の際に水を迅速に、永久的に吸着す
る必要があるのに充分な親水性を持つ(該水が脂肪性の
印刷インクをはじく)。
(2) The substrate exposed in the non-image area has sufficient hydrophilicity that water needs to be rapidly and permanently adsorbed during the lithographic printing process. Repels printing ink of sex).

【0008】(3) 露光前の感光層およびその層の露
光後の印刷部分は、基材から剥離してはならない。
(3) The photosensitive layer before exposure and the printed portion of the layer after exposure should not be separated from the substrate.

【0009】通常、基材は、水を十分に吸着しないの
で、さらに親水性が付与される。親水性を付与する薬剤
は、好ましくない反応を避け、密着性を損なわない様
に、個々の感光層に合わせて調製しなければならない。
[0009] Usually, the substrate does not adsorb water sufficiently, so that it is rendered more hydrophilic. The agent that imparts hydrophilicity must be prepared for each photosensitive layer so as to avoid undesired reactions and not impair adhesion.

【00010】感光層、現像剤溶液または修正剤によ
り、親水性を付与する公知の方法には、多かれ少なかれ
欠点がある。例えば、良好な現像性および親水性を与え
るアルカリ金属のケイ酸塩で処理した後は、比較的長い
貯蔵期間の後には感光層の劣化を覚悟しなければならな
い。水溶性の重合体で基材を処理する場合、それらの、
特にポジ型層の現像に主として使用されている様な水性
アルカリ現像剤に対する、良好な溶解性が、親水性付与
作用を著しく低下させる。スルホ基を含む重合体の場
合、顕著な悪影響は、遊離の陰イオン系酸官能基がネガ
型感光層のジアゾ陽イオンと相互作用し得るので、現像
後、保持されるジアゾ化合物のために非画像部分の上に
著しい汚れが検出されることである。重合体状アクリル
酸誘導体で処理する場合、明らかな欠点は、汚れを阻止
できる使用形態、すなわち0.1〜10g/lの溶液で、
それらの物質は非常に粘度が高く、基材の表面から過剰
分を取り除くには大変な手間がかかる。汚れの形成に特
に敏感なのは、レーザーによる画像形成に使用され(E
P−A 0364735明細書)、重合体状バインダ
ー、フリーラジカル重合可能で少なくとも1個の重合性
基をを有する化合物、および光還元性の染料、放射線に
より開裂し得るトリハロメチル化合物および光反応開始
剤としてメタロセン化合物を含む感光性の高い層であ
る。したがって、非画像部分で層の成分が後にまったく
残らない親水性基材が非常に好ましい。
The known methods of imparting hydrophilicity with the light-sensitive layer, the developer solution or the modifier have more or less drawbacks. For example, after treatment with alkali metal silicates, which give good developability and hydrophilicity, one must be prepared to degrade the photosensitive layer after a relatively long storage period. When treating the substrate with a water-soluble polymer, those
In particular, good solubility in an aqueous alkaline developer which is mainly used for developing a positive type layer significantly reduces the effect of imparting hydrophilicity. In the case of polymers containing sulfo groups, a significant adverse effect is that the free anionic acid functional groups can interact with the diazo cations of the negative-working photosensitive layer and thus are non-existent due to the diazo compound being retained after development. A significant stain is detected on the image part. When treated with a polymeric acrylic acid derivative, the obvious disadvantage is that it is a form of use which can prevent soiling, ie a solution of 0.1-10 g / l,
These materials are very viscous and it takes a lot of time to remove the excess from the surface of the substrate. Particularly sensitive to the formation of stains are those used in laser imaging (E
P-A 0364735), polymeric binders, compounds capable of free-radical polymerization and having at least one polymerizable group, and photoreducible dyes, radiation-cleavable trihalomethyl compounds and photoinitiators. Is a highly photosensitive layer containing a metallocene compound. Therefore, hydrophilic substrates are highly preferred in which no layer components are left behind in the non-image areas.

【0011】DE−C 1134093(=US−A
3,276,868)およびUS−A 4,153,4
61各明細書には、ホスホン酸、特にポリビニルホスホ
ン酸またはビニルホスホン酸とアクリル酸および酢酸ビ
ニルの共重合体、で基材に親水性を付与できることが開
示されている。ホスホン酸の塩が適当であることも記載
されている。しかし、このことはあまり詳細に説明され
ていない。
DE-C 1134093 (= US-A
3,276,868) and US-A 4,153,4.
61 Each specification discloses that hydrophilicity can be imparted to a substrate with a phosphonic acid, particularly polyvinylphosphonic acid or a copolymer of vinylphosphonic acid and acrylic acid and vinyl acetate. It is also stated that salts of phosphonic acids are suitable. However, this is not explained in great detail.

【0012】EP−A 0069320(=US−A
4,427,765)明細書は、平版印刷用のアルミニ
ウム基材に親水性を付与する方法が記載されており、そ
こではポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、
ポリビニルメチルホスホン酸の塩、および他の、少なく
とも2価の金属陽イオンを有するポリビニル化合物が使
用されている。
EP-A 0069320 (= US-A
4,427,765) describes a method of imparting hydrophilicity to an aluminum substrate for lithographic printing, in which polyvinylphosphonic acid, polyvinylsulfonic acid,
Salts of polyvinylmethylphosphonic acid and other polyvinyl compounds having at least a divalent metal cation have been used.

【0013】EP−A 0190643明細書によれ
ば、アクリルアミドイソブチレンホスホン酸の単独重合
体またはアクリルアミドイソブチレンホスホン酸とアク
リルアミドの共重合体で、またはこの単独重合体または
共重合体と2価または多価陽イオンの塩で、基材を被覆
している。この被覆には、完成した印刷板が非画像部分
で良好な親水性を示し、汚れが少ないという利点があ
る。
According to EP-A 0190643, it is a homopolymer of acrylamidoisobutylenephosphonic acid or a copolymer of acrylamidoisobutylenephosphonic acid and acrylamide, or a divalent or polyvalent cation with this homopolymer or copolymer. The substrate is coated with an ionic salt. This coating has the advantage that the finished printing plate shows good hydrophilicity in the non-image areas and there is little smearing.

【0014】EP−A 0490231明細書には、−
(CH2 −CH2 −N(X)−)n−型の構造要素を含
むポリエチレンイミンで、または−(CH2 −CH(N
12 )−)n −型の構造要素を含むポリビニルイミ
ンで、印刷板基材を処理する方法が記載されている(こ
こでX、Y1 およびY2 は、必要に応じてC置換された
スルホメチル基またはホスホノメチル基である)。しか
し、この方法でも、最適な結果は得られていない。
EP-A 0 490 231 describes:
(CH 2 -CH 2 -N (X ) -) n - polyethylenimine containing structural elements of type, or - (CH 2 -CH (N
Y 1 Y 2 )-) A method of treating a printing plate substrate with a polyvinyl imine containing structural elements of the n -type is described (where X, Y 1 and Y 2 are optionally C-substituted. Sulfomethyl group or phosphonomethyl group). However, even with this method, optimum results have not been obtained.

【0015】以前に公開されていないDE 44231
40.7明細書には、第一工程でEP−A 04902
31明細書に記載されている物質で操作し、第二工程で
他のホスホン酸化合物で操作する方法が記載されてい
る。この方法は、2工程で経費のかかる手順で行なわな
ければならないという欠点がある。
DE 44231 not previously published
40.7 describes EP-A 04902 in the first step.
31 describes a method of operating with the materials described and operating with other phosphonic acid compounds in the second step. This method has the disadvantage that it has to be carried out in a two-step and expensive procedure.

【0016】本発明の目的は、下記のオフセット印刷印
刷板用の基材を提供することである。非常に良い親水性
付与特性を有し、すべての感光層に等しく適しており、
長期間の貯蔵中に、親水性を付与する薬剤と感光層の間
の反応により感光層が損なわれることがなく、感光層の
印刷部分に対する密着性が非常に良く、技術的に簡単に
製造できる。
It is an object of the present invention to provide a substrate for the following offset printing printing plates. It has very good hydrophilicity-imparting properties and is equally suitable for all photosensitive layers,
The photosensitive layer is not damaged by the reaction between the agent imparting hydrophilicity and the photosensitive layer during long-term storage, and the adhesiveness to the printed portion of the photosensitive layer is very good, which is technically easy to manufacture. .

【0017】この目的は、塩基性および酸性の根源部を
有する少なくとも1種の重合体を含んでなる親水性付与
層を有する、機械的および/または電気化学的に粗面化
され、必要であれば陽極酸化された、アルミニウムまた
はその合金の基材であって、親水性付与層が2成分の混
合物を含んでなり、該2成分の一方がアミノ酸からなる
群に属し、他方が塩基性および酸性の根源部を有する重
合体に属することを特徴とする基材により達成される。
The object is mechanically and / or electrochemically roughened, with a hydrophilicity-imparting layer comprising at least one polymer having basic and acidic roots, if necessary. For example, an anodized substrate of aluminum or its alloys, the hydrophilicity-imparting layer comprising a mixture of two components, one of the two components belonging to the group consisting of amino acids, the other of which is basic and acidic. It is achieved by a base material characterized by belonging to a polymer having a root part of

【0018】基材の他の実施態様は請求項2〜7に記載
されている。
Other embodiments of the substrate are described in claims 2-7.

【0019】基材の製造は、一工程製法において、親水
性を付与する、2成分を含む層が、水溶液で、機械的お
よび/または電気化学的に粗面化され、必要であれば陽
極酸化された、アルミニウムまたはその合金の基材に塗
布されることを特徴とする。その他の製法工程は請求項
9〜13に記載されている。
The substrate is produced by a one-step production method in which the layer containing the two components which imparts hydrophilicity is mechanically and / or electrochemically roughened with an aqueous solution and, if necessary, anodized. Applied to a base material of aluminum or its alloy. Other manufacturing process steps are described in claims 9 to 13.

【0020】親水性付与層は、対応する溶液を噴霧する
ことにより塗布することができる。この溶液中の親水性
付与化合物の濃度は広い範囲内で変えることができる
が、濃度が0.1〜20 g/l、好ましくは0.3〜5 g
/l、である溶液が特に有利であることが確認されてい
る。上記の量は、両方の成分に当てはまる。
The hydrophilicity-imparting layer can be applied by spraying the corresponding solution. The concentration of the hydrophilicity-imparting compound in this solution can be varied within a wide range, but the concentration is 0.1 to 20 g / l, preferably 0.3 to 5 g.
It has been found that a solution of / l, is particularly advantageous. The above amounts apply for both ingredients.

【0021】親水性付与層を塗布した後、その物質を洗
い流し、過剰の親水性付与剤を除去することができる。
親水性の付与は、20〜95℃の温度で行なうことがで
きるが、30〜65℃の温度が好ましい。被覆されるべ
き物質は、一般的に噴霧するか、または1秒間〜5分間
浸漬することにより塗布される。処理時間が1秒間未満
では不利であるが、5分間より長くても不利ではない。
After applying the hydrophilicity-imparting layer, the substance can be washed away to remove excess hydrophilicity-imparting agent.
The hydrophilicity can be imparted at a temperature of 20 to 95 ° C, but a temperature of 30 to 65 ° C is preferable. The material to be coated is generally applied by spraying or dipping for 1 second to 5 minutes. A treatment time of less than 1 second is disadvantageous, but a treatment time of more than 5 minutes is not disadvantageous.

【0022】親水性付与工程の後、被覆された基材を温
度100〜130℃で乾燥させるのが有利である。
After the step of imparting hydrophilicity, it is advantageous to dry the coated substrate at a temperature of 100 ° to 130 ° C.

【0023】親水性を付与するために加えた物質が実際
に基材表面上に吸着されたことを確認するために、表面
感応性の測定方法、例えばEDX(エネルギー分散性X
線(Energy Dispersive X-ray) )、Auger 電子分光法、
SIMS(二次イオン質量分光法(Secondary Ion Mass
Spectroscopy) )、およびその他を使用することができ
る。しかし、少量の物質でも著しい親水性付与効果があ
るので、塗布された親水性被覆の重量測定には問題があ
る。その上、親水性付与剤は基材表面に比較的強く付着
する。しかし、塗布される量はいずれの場合も0.5 m
g/dm2 未満であり、恐らく0.25 mg/dm2 未満であろ
う。最少量は約0.02 mg/dm2 未満である。
In order to confirm that the substance added for imparting hydrophilicity is actually adsorbed on the surface of the substrate, a method for measuring surface sensitivity, for example, EDX (energy dispersiveness X
Line (E nergy D ispersive X -ray) ), Auger electron spectroscopy,
SIMS (secondary ion mass spectrometry (S econdary I on M ass
S pectroscopy)), and others can be used. However, even a small amount of substance has a significant hydrophilicity-imparting effect, and thus there is a problem in measuring the weight of the applied hydrophilic coating. Moreover, the hydrophilicity-imparting agent adheres to the surface of the substrate relatively strongly. However, the amount applied is 0.5 m in each case.
It is less than g / dm 2 and probably less than 0.25 mg / dm 2 . The minimum amount is less than about 0.02 mg / dm 2 .

【0024】変性ポリエチレンイミンおよび変性ポリビ
ニルアミン、およびそれらの製造法はEP−A 049
0231明細書に記載されている。原則的にこれらの物
質は、対応する未変性前駆物質から、ホスホノメチル化
および/またはスルホメチル化により製造される。
Modified polyethyleneimine and modified polyvinylamine, and their production are described in EP-A 049.
0231 specification. In principle, these substances are prepared from the corresponding unmodified precursors by phosphonomethylation and / or sulfomethylation.

【0025】次いで、本発明による基材を各種の感光性
混合物で被覆することができる。原則的に、像様露光に
続く現像および/または定着の後に陽画像または陰画像
を与える被覆を形成するすべての混合物が適当である。
非画像部分において、印刷板として適当な材料はその優
れた親水性を保持し、汚れは事実上検出されない。
The substrate according to the invention can then be coated with various photosensitive mixtures. In principle, all mixtures which form a coating which gives a positive or negative image after imagewise exposure and subsequent development and / or fixing are suitable.
In the non-image areas, the material suitable as a printing plate retains its excellent hydrophilicity and virtually no stain is detected.

【0026】本発明は、親水性が付与され、放射線感応
性層で被覆された、アルミニウムまたはその合金の基材
を有する記録材料にも関する。
The invention also relates to a recording material having a substrate of aluminum or its alloys, which is rendered hydrophilic and coated with a radiation-sensitive layer.

【0027】下記の諸例により本発明を説明するが、こ
れらの例は本発明を限定するものではない。この目的に
は、下記の粗面化され、陽極酸化された印刷板を使用す
る。
The invention is illustrated by the following examples, which are not intended to limit the invention. For this purpose the following roughened and anodized printing plate is used.

【0028】タイプ1 厚さ0.3mmの光沢圧延されたアルミニウム(DIN材
料No. 3.0255)を50〜70℃の2%濃度NaO
H洗浄水溶液で脱脂した。次いで、HNO3 含有電解液
中、交流で表面を電気化学的に粗面化した。表面粗さの
z 値は6μmであった。続いて、硫酸を含む電解液中
で陽極酸化を行なった。酸化物層の重量は約3.0 g/m
2 であった。
Type 1 Gloss-rolled aluminum having a thickness of 0.3 mm (DIN material No. 3.0255) was treated with 2% concentration NaO at 50 to 70 ° C.
It was degreased with an H 2 washing aqueous solution. Then, the surface was electrochemically roughened by alternating current in a HNO 3 -containing electrolyte. The R z value of the surface roughness was 6 μm. Subsequently, anodic oxidation was performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid. The weight of the oxide layer is about 3.0 g / m
Was 2 .

【0029】タイプ2 厚さ0.3mmの光沢圧延されたアルミニウム(DIN材
料No. 3.0515)を50〜70℃の2%濃度NaO
H洗浄水溶液で脱脂した。次いで、塩酸含有電解液中、
交流で表面を電気化学的に粗面化した。表面粗さのRz
値は6μm であった。続いて、硫酸を含む電解液中で陽
極酸化を行なった。酸化物層の重量は約2.0 g/m2
あった。
Type 2 Gloss-rolled aluminum having a thickness of 0.3 mm (DIN material No. 3.0515) was added with 2% concentration NaO at 50 to 70 ° C.
It was degreased with an H 2 washing aqueous solution. Then, in an electrolyte containing hydrochloric acid,
The surface was electrochemically roughened by alternating current. Surface roughness R z
The value was 6 μm. Subsequently, anodic oxidation was performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid. The weight of the oxide layer was about 2.0 g / m 2 .

【0030】タイプ3 厚さ0.2mmの光沢圧延されたアルミニウム(DIN材
料No. 3.0255)を50〜70℃の2%濃度NaO
H洗浄水溶液で脱脂し、次いで、研磨材(例えば石英粉
末またはアルミナ)で機械的に粗面化した。表面粗さの
z 値は4μmであった。続いて、リン酸を含む電解液
中で陽極酸化を行なった。酸化物層の重量は約0.9 g
/m2 であった。
Type 3 0.2 mm thick gloss-rolled aluminum (DIN material No. 3.0255) was added to 2% NaO at 50-70 ° C.
It was degreased with an aqueous H 2 wash solution and then mechanically roughened with an abrasive (eg, quartz powder or alumina). The R z value of the surface roughness was 4 μm. Subsequently, anodic oxidation was performed in an electrolytic solution containing phosphoric acid. The weight of the oxide layer is about 0.9 g
/ m 2 .

【0031】タイプ4 基材をタイプ2で説明した様に処理したが、酸化物層重
量が1.5 g/m2 になるまで陽極酸化した。
The Type 4 substrate was treated as described for Type 2, but anodized until the oxide layer weight was 1.5 g / m 2 .

【0032】下記の諸例により、本発明の基材の利点を
例示する。表1に示す親水性付与A* 〜D* は比較実験
に使用したのに対し、本発明の基材はEにより親水性付
与した。
The following examples illustrate the advantages of the substrate of the present invention. The hydrophilicity-imparting A * to D * shown in Table 1 were used in the comparative experiment, while the substrate of the present invention was hydrophilically imparted by E.

【0033】塩基性および酸性の根源部を含む重合体の
塩基性根源部は、第1級、第2級または第3級アミノ基
であるのに対し、酸性根源部はカルボキシル、ホスホノ
またはスルホ基である。重合体のpHは4〜9、特に4.
5〜7.5、である。親水性付与層の一成分は、例えば
スルホ−またはホスホノメチル化したポリエチレンイミ
ンおよびポリビニルアミンからなる群から選択する。こ
の成分は、置換されたアミノアクリレート、ビニルピロ
リドンおよびビニルイミダゾールからなる群から選択さ
れた共重合体またはターポリマーでもよい。親水性付与
層のもう一つの成分は、例えば単塩基性アミノ酸、例え
ばグリシン、アミノヘキサン酸、アミノ安息香酸、ジア
ミノ安息香酸およびロイシン、からなる群から選択す
る。その他の添加剤は、例6〜34の場合、N〜Sの文
字で表す。
The basic roots of polymers containing basic and acidic roots are primary, secondary or tertiary amino groups, while the acidic roots are carboxyl, phosphono or sulfo groups. Is. The pH of the polymer is 4-9, especially 4.
5 to 7.5. One component of the hydrophilicity-imparting layer is selected, for example, from the group consisting of sulfo- or phosphonomethylated polyethyleneimine and polyvinylamine. This component may be a copolymer or terpolymer selected from the group consisting of substituted aminoacrylates, vinylpyrrolidone and vinylimidazole. Another component of the hydrophilicity-imparting layer is selected, for example, from the group consisting of monobasic amino acids such as glycine, aminohexanoic acid, aminobenzoic acid, diaminobenzoic acid and leucine. In the case of Examples 6 to 34, other additives are represented by letters N to S.

【0034】表1 親水性付与 * なし B* ポリビニルホスホン酸(2 g/l、75℃、pH2)で C* N−ホスホノメチルポリエチレンイミン(1 g/l、65℃、pH4.5)で D* 最初にC)、次いでB)E 本発明により、C* と同様に、さらに溶液中にグリシン1 g/l Table 1 Hydrophilization A * None B * Polyvinylphosphonic acid (2 g / l, 75 ° C., pH 2) C * N-phosphonomethyl polyethyleneimine (1 g / l, 65 ° C., pH 4.5) D * first C), then B) E According to the invention, as in C * , additionally 1 g / l of glycine in solution

【0035】例1 タイプ2の基材を表1により親水性付与し、下記の混合
物を含んでなるポジ型ジアゾ層で被覆した。5.00重
量%の、DIN53783/53240によるヒドロキ
シル価が420であり、GPCによる重量平均値が60
00(ポリスチレン標準)であるクレゾール/キシレノ
ール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、1.20重量
%の、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スル
ホニルクロライド1.5モルと2,3,4−トリヒドロ
キシベンゾフェノン1モルのエステル、0.15重量%
の1,2−ナフトキノンジアジド−2−ジアジド−4−
スルホニルクロライド、0.05重量%のビクトリアス
カイブルー(C.I. 44045)および合計して1
00重量%になる量の、メチルエチルケトンおよびポリ
エチレングリコールモノメチルエーテル(40/60)
を含んでなる溶剤混合物。
Example 1 A Type 2 substrate was rendered hydrophilic according to Table 1 and was coated with a positive-working diazo layer comprising the following mixture: 5.00% by weight, hydroxyl number according to DIN 53783/53240 of 420, weight average value according to GPC of 60
100 (polystyrene standard) cresol / xylenol / formaldehyde novolac resin, 1.20% by weight of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride 1.5 mol and 2,3,4-trihydroxybenzophenone. 1 mol ester, 0.15% by weight
1,2-naphthoquinonediazide-2-diazide-4-
Sulfonyl chloride, 0.05% by weight Victoria Sky Blue (CI 44045) and a total of 1
Methyl ethyl ketone and polyethylene glycol monomethyl ether (40/60) in an amount of 00% by weight
A solvent mixture comprising.

【0036】被覆された基材を125℃で1分間乾燥さ
せた。被膜の重量は2.4 g/m2 であった。次いで、突
出部の平均高さが4μm になる様に、放射線感応性層上
に曇り溶液(ビニルスルホン酸、アクリル酸エチルおよ
びスチレンのターポリマーの20%濃度水溶液)を静電
気的に吹き付けた。
The coated substrate was dried at 125 ° C for 1 minute. The weight of the coating was 2.4 g / m 2 . A cloudy solution (20% strength aqueous solution of vinyl sulfonic acid, ethyl acrylate and styrene terpolymer) was then electrostatically sprayed onto the radiation-sensitive layer so that the average height of the protrusions was 4 μm.

【0037】これらの板を、真空焼枠中で排気してテス
トフラットと接触させ、現像後にフィルムエッジを除去
するための高露光に相当するUGRAオフセット試験ウ
ェッジでオープンステップ4が得られる様に、110cm
の距離で、ハロゲン化金属ドーピングした5kW水銀蒸気
ランプで露光した。
These plates were evacuated in a vacuum baking frame and brought into contact with the test flats so that open step 4 was obtained with a UGRA offset test wedge corresponding to high exposure to remove film edges after development. 110 cm
Was exposed with a metal halide-doped 5 kW mercury vapor lamp.

【0038】現像装置(Hoechst AG製のVA86)中、
20℃で、ケイ酸カリウム現像剤(総アルカリ含有量
0.5モル/l、K2 O:SiO2 比=1:1.2、以
下、「現像剤タイプ1」と呼ぶ)を使用し、処理速度
1.4m/分で現像した。
In the developing device (VA86 manufactured by Hoechst AG),
Using potassium silicate developer (total alkali content 0.5 mol / l, K 2 O: SiO 2 ratio = 1: 1.2, hereinafter referred to as “developer type 1”) at 20 ° C., Development was performed at a processing speed of 1.4 m / min.

【0039】現像剤1リットルあたり4 m2 の記録材料
(画像画分25%)を処理した後の、残留層汚れの発生
を検査した。結果は表2に示す通りである。
After processing 4 m 2 of recording material per liter of developer (image fraction 25%), the occurrence of residual layer smearing was examined. The results are as shown in Table 2.

【0040】例2 タイプ1の基材を表1にしたがって親水性付与し、下記
の混合物を含んでなる反転ポジ型層を施した。4.80
重量%の、DIN53783/53240によるヒドロ
キシル価が420であり、GPCによる重量平均値が6
000であるクレゾール/キシレノール/ホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂、1.05重量%の、1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−4−スルホニルクロライド
3.4モルと2,3,4,2’,3’,4’−ヘキサヒ
ドロキシ−5,5’−ジベンゾイルしフェニルメタン1
モルのエステル、0.5重量%の2−(4−スチリルフ
ェニル)−4,6−ビストリクロロメチル−s−トリア
ジン、0.10重量%のクリスタルバイオレット(C.
I. 42555)、1.00重量%の、平均粒子径
3.9μm のシリカ充填材、0.10重量%の、ジメチ
ルシロキサン単位およびエチレンオキシド単位を含んで
なる界面活性剤および合計して100重量%になる量
の、テトラヒドロフランおよびプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル(55/45)を含んでなる溶剤混合
物。
Example 2 A type 1 substrate was rendered hydrophilic according to Table 1 and was provided with an inverted positive tone layer comprising the following mixture. 4.80
% By weight, according to DIN 53783/53240, a hydroxyl number of 420, weight average according to GPC of 6
Cresol / xylenol / formaldehyde novolac resin, 1.05% by weight of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonyl chloride 3.4 mol and 2,3,4,2 ', 3', 4 '-Hexahydroxy-5,5'-dibenzoyl phenylmethane 1
Mole ester, 0.5 wt% 2- (4-styrylphenyl) -4,6-bistrichloromethyl-s-triazine, 0.10 wt% crystal violet (C.I.
I. 42555), 1.00% by weight of a silica filler having an average particle size of 3.9 μm, 0.10% by weight of a surfactant comprising dimethylsiloxane units and ethylene oxide units and a total of 100% by weight. A solvent mixture comprising an amount of tetrahydrofuran and propylene glycol monomethyl ether (55/45).

【0041】被覆された基材を125℃で1分間乾燥さ
せた。被膜の重量は1.8 g/m2 であった。次いで、こ
の基材を下記の様に処理した。 1.例1と同様に焼枠中で試験原画を通して60秒間露
光。 2.連続加熱炉中、135℃で60秒間加熱。 3.循環空気で10秒間冷却。 4.連続装置中、原画なしに、240ワットの放射力を
有するUV−A蛍光ランプで30秒間均一露光。 5.例1と同様の装置中、処理速度1.2m/分で現像。
The coated substrate was dried at 125 ° C for 1 minute. The coating weight was 1.8 g / m 2 . The substrate was then processed as follows. 1. Exposing for 60 seconds through the original test image in the baking frame as in Example 1. 2. Heat in a continuous heating furnace at 135 ° C for 60 seconds. 3. Cool with circulating air for 10 seconds. 4. Uniform exposure for 30 seconds with a UV-A fluorescent lamp with a radiant power of 240 watts, in the continuous device, without the original image. 5. Developing in the same apparatus as in Example 1 at a processing speed of 1.2 m / min.

【0042】現像は、DE−A 4027299明細書
による、総アルカリ含有量0.8モル/l(Na2 O:S
iO2 比=1:1)およびポリグリコール−1000−
ジカルボン酸含有量0.6重量%のケイ酸ナトリウム現
像剤(以下、「現像剤タイプ2」と呼ぶ)で行なった。
The development is carried out according to DE-A 4027299 specification, with a total alkali content of 0.8 mol / l (Na 2 O: S).
iO 2 ratio = 1: 1) and polyglycol-1000-
A sodium silicate developer having a dicarboxylic acid content of 0.6% by weight (hereinafter, referred to as "developer type 2") was used.

【0043】現像剤1リットルあたり4 m2 の記録材料
(画像画分25%)を処理した後の、残留層汚れの発生
を検査した。結果は表2に示す通りである。
After processing 4 m 2 of recording material (25% image fraction) per liter of developer, the occurrence of residual layer smearing was examined. The results are as shown in Table 2.

【0044】例3 タイプ4の基材を、表1に記載する5種類の後処理にか
け、下記の組成物を有するネガ型層を施した。2.5重
量%の、平均分子量Mw が24,000(GPC)であ
る、メタクリル酸(20重量%)、メタクリル酸メチル
(30重量%)およびモノメタクリル酸グリセリル(5
0重量%)の共重合体、0.5重量%の、スルホン酸メ
シチレンとして沈殿する、3−メトキシジフェニルアミ
ン−4−ジアゾニウム硫酸塩1モルと4,4’−ビスメ
トキシメチルジフェニルエーテルのジアゾニウム塩重縮
合物、0.09重量%のビクトリアスカイブルーFGA
(ベーシックブルー81)、0.07重量%のフェニル
ホスホン酸、0.1重量%の、0.1重量%の、平均粒
子径3μm のシリカ充填材、および合計して100重量
%になる量の、テトラヒドロフランおよびエチレングリ
コールモノメチルエーテル(40/60)を含んでなる
溶剤混合物。
Example 3 A Type 4 substrate was subjected to the 5 post-treatments listed in Table 1 to provide a negative working layer having the following composition. Methacrylic acid (20% by weight), methyl methacrylate (30% by weight) and glyceryl monomethacrylate (5%) having an average molecular weight M w of 24,000 (GPC) of 2.5% by weight.
0% by weight of the copolymer, 0.5% by weight, polycondensation of 1 mol of 4,4′-bismethoxymethyldiphenyl ether with 1 mol of 3-methoxydiphenylamine-4-diazonium sulfate, which precipitates as mesitylene sulfonate. Object, 0.09% by weight Victoria Sky Blue FGA
(Basic Blue 81), 0.07% by weight of phenylphosphonic acid, 0.1% by weight, 0.1% by weight of silica filler with an average particle size of 3 μm, and a total amount of 100% by weight. , A solvent mixture comprising tetrahydrofuran, and ethylene glycol monomethyl ether (40/60).

【0045】被覆された基材を乾燥トンネル中、120
℃で乾燥させた。乾燥層の重量は1.4 g/m2 であっ
た。再現層を写真ネガの下で、5kWのハロゲン化金属ラ
ンプで35秒間露光し、摩擦素子を有する現像機械中、
23℃で、下記の溶液で現像した。5重量%のラウリル
硫酸ナトリウム、2重量%のフェノキシエタノール、1
重量%のメタケイ酸ナトリウム・5H2 O、および92
重量%の水。
The coated substrate is placed in a drying tunnel at 120
Dry at ℃. The dry layer weight was 1.4 g / m 2 . The reproduction layer was exposed under a photographic negative for 35 seconds with a 5 kW metal halide lamp in a developing machine with friction elements,
Development was carried out with the following solution at 23 ° C. 5% by weight sodium lauryl sulfate, 2% by weight phenoxyethanol, 1
Wt% sodium metasilicate 5H 2 O, and 92
Wt% water.

【0046】現像剤1リットルあたり4 m2 を処理した
後の、残留層汚れの発生を検査した。ここでも、本発明
による基材の工程Eによる親水性付与処理はより有利で
あり、より簡単に実行できることが立証された。
After processing 4 m 2 per liter of developer, the generation of residual layer contamination was examined. Here again, it was proved that the hydrophilicity-imparting treatment of the substrate according to the invention in step E is more advantageous and easier to carry out.

【0047】例4 タイプ3の基材を、表1により親水性付与し、下記の溶
液で被覆した。3.1重量%の2,5−ビス−(4−ジ
エチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル、3.1重量%の、軟化点210℃を有する、スチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体、0.02重量%のRhod
amin(R) FB(C.I. 45170)および合計して1
00重量%になる量のエチレングリコールモノメチルエ
ーテル次いで連続乾燥加熱炉中、120℃で乾燥させ
た。この層を暗所でコロナを使用して450Vに負に帯
電させ、帯電した板をプロセスカメラ中で像様露光し、
次いで、0.6重量%の硫酸マグネシウム分散液および
1.4重量%ペンタエリスリトール樹脂エステルの、沸
点範囲185〜210℃のイソパラフィン混合物98重
量%の溶液を含んでなる電子写真懸濁液現像剤で現像し
た。過剰の現像剤液体を除去した後、トナーを定着させ
下記の溶液中24℃、処理速度1.4m/分でデラミネー
ションした。エタノールアミン10重量%、プロピレン
グリコールモノフェニルエーテル10重量%、K2 HP
4 2重量%および合計して100重量%になる量の水
からなる溶液。その後、板を強力な水噴射で洗浄し、デ
ラミネーション剤の残留を除去した。デラミネーション
剤1リットルあたり10 m2 を処理した後の、残留層汚
れの発生を検査した。
Example 4 A type 3 substrate was rendered hydrophilic according to Table 1 and coated with the following solution. 3.1% by weight of 2,5-bis- (4-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 3.1% by weight of styrene and maleic anhydride having a softening point of 210 ° C. Polymer, 0.02 wt% Rhod
amin (R) FB (C.I. 45170) and 1 in total
Ethylene glycol monomethyl ether in an amount of 00% by weight was then dried at 120 ° C. in a continuous drying heating oven. This layer was negatively charged to 450V using corona in the dark and the charged plate was imagewise exposed in a process camera,
Then an electrophotographic suspension developer comprising a 0.6% by weight magnesium sulphate dispersion and a 98% by weight solution of 1.4% by weight pentaerythritol resin ester in an isoparaffin mixture in the boiling range 185-210 ° C. Developed. After removing the excess developer liquid, the toner was fixed and delaminated in the following solution at 24 ° C. and a processing speed of 1.4 m / min. Ethanolamine 10% by weight, propylene glycol monophenyl ether 10% by weight, K 2 HP
A solution consisting of 2% by weight of O 4 and water in an amount of 100% by weight in total. The plate was then washed with a strong jet of water to remove the delamination agent residue. The occurrence of residual layer fouling was examined after treating 10 m 2 per liter of delamination agent.

【0048】例5 タイプ1の基材を表1にしたがって親水性付与し、下記
の組成を有する溶液を、それぞれの場合に層重量が2.
5 g/m2 になる様にスピンコーティングにより塗布し
た。10.7重量%の、例3に記載のターポリマー溶
液、5.3重量%のトリエチレングリコールジメタクリ
レート、0.15重量%のオラソールブルー(C.I.
50315)、0.15重量%のエオシン、アルコー
ル可溶性(C.I. 46386)、0.11重量%の
2,4−ビストリクロロメチル−6−(4−スチリルフ
ェニル)−s−トリアジン、0.23重量%のジシクロ
ペンタジエニルチタンビスペンタフルオロフェニル、4
2重量%のブタノールおよび合計して100重量%にな
る量の酢酸ブチル。
Example 5 A substrate of type 1 was rendered hydrophilic according to Table 1 and a solution having the following composition was added in each case to a layer weight of 2.
It was applied by spin coating so as to be 5 g / m 2 . 10.7% by weight of the terpolymer solution described in Example 3, 5.3% by weight of triethylene glycol dimethacrylate, 0.15% by weight of olasol blue (C.I.
50315), 0.15 wt% eosin, alcohol soluble (CI 46386), 0.11 wt% 2,4-bistrichloromethyl-6- (4-styrylphenyl) -s-triazine, 0. 23% by weight of dicyclopentadienyl titanium bispentafluorophenyl, 4
2% by weight butanol and butyl acetate in a total amount of 100% by weight.

【0049】乾燥後、板をポリビニルアルコールで被覆
し、露光および現像した。
After drying, the plates were coated with polyvinyl alcohol, exposed and developed.

【0050】例1〜5の記録材料を下記の様に濃度計に
より評価した(入射光濃度計、マゼンタまたはシアンフ
ィルター)。 + 残留層汚れなし、濃度計測定値<0.01 0 僅かな残留層汚れ、濃度計測定値0.01〜0.0
2 − 残留層汚れあり、濃度計測定値>0.02表2 親水性 例の評価 1 2 3 4 5 * − − − − − B* 0 0 0 0 0 C* 0 0 0 0 0 D* 0 0 0 0 0E + + + + +
The recording materials of Examples 1 to 5 were evaluated with a densitometer as follows (incident light densitometer, magenta or cyan filter). + No residual layer stain, densitometer measurement value <0.01 0 Slight residual layer stain, densitometer measurement value 0.01 to 0.0
2- Residual layer dirt, densitometer measurement value> 0.02 Table 2 Evaluation of hydrophilic examples 1 2 3 4 5 A * − − − − − − B * 0 0 0 0 0 C * 0 0 0 0 0 0 D * 0 0 0 0 0 0 E + + + + + +

【0051】例および比較例 例6〜34は、本発明による基材の、表1のA〜Dによ
り親水性付与した比較例V6〜V37に対する優位性を
示す。この表に示す条件により製造した記録材料を下記
の様に試験した。
Examples and Comparative Examples 6-34 show the superiority of the substrate according to the invention over Comparative Examples V6-V37, which have been rendered hydrophilic according to Table 1 AD. The recording materials produced under the conditions shown in this table were tested as follows.

【0052】1.汚れの測定 非画像部分の反射は、被覆されていない基材の試料、お
よび被覆、露光および現像後の非画像部分の両方で可視
領域で測定した。この目的には、Datacolor 製の2チャ
ネル同時分光計MCS512を使用した。測定の結果を、CI
E(CommissionInternational de l'Eclairage, Public
ation No. 15)による基材表面の明度L* を計算するの
に使用した。これらの計算の詳細はDIN標準6174
(1979)および5033(1970)に記載されて
いる。この場合、発光体D65を使用し、CIEによる
推奨に対して、2°オブザーバーで計算した。被覆され
ていない基材のこの明度L* は、下記の表5および6の
6欄に記載されている通りである。実際には、色度座標
* およびb* もこの計算で自動的に得られるが、ここ
で問題とする印刷板の基材に対する試験では明度L*
値と対応するので、これらの座標は考慮に入れない。こ
れらの計算の後、被覆前の明度と、被覆、露光および現
像後の非画像部分の明度の差dL* 1を計算した。感光
層は実際には暗色を有する(明るい灰色の基材表面と比
較して)ので、好ましくない層の残留物は非画像部分に
おける黒い汚れとして知覚し得る。被覆、露光および現
像後の非画像部分の明度は、被覆前の明度より小さいで
あろう。差の計算により正の数値dL* 1が得られる
が、この値が大きい程、好ましくない汚れが著しいこと
になる。この値dL* 1は表5および6の7欄に示す通
りである。
1. Stain Measurements The reflection of non-image areas was measured in the visible region both on uncoated substrate samples and on non-image areas after coating, exposure and development. A two-channel simultaneous spectrometer MCS512 from Datacolor was used for this purpose. The measurement results are
E (Commission International de l'Eclairage, Public
It was used to calculate the lightness L * of the substrate surface according to ation No. 15). Details of these calculations can be found in DIN standard 6174
(1979) and 5033 (1970). In this case, illuminant D65 was used and calculated with a 2 ° observer as recommended by CIE. This lightness L * of the uncoated substrate is as set forth in columns 6 of Tables 5 and 6 below. Actually, the chromaticity coordinates a * and b * are also automatically obtained by this calculation, but since these correspond to the value of the lightness L * in the test on the substrate of the printing plate in question, these coordinates are Not taken into account. After these calculations, the difference dL * 1 between the lightness before coating and the lightness of the non-image areas after coating, exposure and development was calculated. Since the photosensitive layer actually has a dark color (compared to a light gray substrate surface), objectionable layer residues can be perceived as black stains in the non-image areas. The lightness of the non-image areas after coating, exposure and development will be less than the lightness before coating. The calculation of the difference gives a positive value dL * 1, the higher this value, the more pronounced the undesired stain. This value dL * 1 is as shown in column 7 of Tables 5 and 6.

【0053】観測者の経験および目の感度により、汚れ
は大体0.8の測定値から目に見える。汚れは常に印刷
板の外見上の欠点となり、この理由だけからも、購入者
の苦情につながることがある。汚れの程度が非常に大き
い場合、非画像部分に大量の層残留物がある徴候であ
り、場合によっては、特に少量の湿し水を計量する場合
(これが望ましいことが多い)には、好ましくないスカ
ミングを生じることがある。この場合、汚れの正確な値
を示すことはできない。
Due to the experience of the observer and the sensitivity of the eyes, the stain is visible from a measured value of approximately 0.8. Contamination is always a cosmetic drawback of the printing plate and can, for this reason alone, lead to buyer complaints. A very high degree of smear is an indication of a large amount of layer residue in the non-image areas, which is sometimes undesirable, especially when weighing small amounts of fountain solution, which is often desirable. This may result in skimming. In this case, it is not possible to indicate the exact value of the stain.

【0054】2.修正コントラストの測定 印刷板の非画像部分を市販の修正剤で処理し、次いで明
度を、修正区域および未修正区域で測定した。ここで
も、差dL* 2を計算した。この差が0から大きく異な
る場合、すなわちその差が0.5〜1の範囲内にある場
合、修正剤が表面から層残留物をさらに除去できたか、
または非画像部分自体の表面を攻撃し、損傷を与えたの
である。
[0054] 2. Corrected Contrast Measurement The non-image areas of the printing plate were treated with a commercially available corrector and then the lightness was measured in the corrected and uncorrected areas. Again, the difference dL * 2 was calculated. If this difference is significantly different from 0, i.e. the difference is in the range 0.5 to 1, then was the corrector able to further remove layer residues from the surface?
Or it attacked and damaged the surface of the non-image part itself.

【0055】3.親水性の測定 手動のゴムローラーで印刷板の非画像部分に印刷インク
を塗布し、希釈したリン酸の中に入れ、希釈リン酸が非
画像部分からインクを除去する時間を測定した。基材が
良好な親水性を有する場合、この時間は30秒間を超え
てはならない。希釈リン酸は、印刷工程で使用する一般
的に酸性の湿し水を模擬している。
[0055] 3. Hydrophilicity Measurement The printing ink was applied to the non-image area of the printing plate with a manual rubber roller and placed in diluted phosphoric acid to measure the time for diluted phosphoric acid to remove ink from the non-image area. If the substrate has good hydrophilicity, this time should not exceed 30 seconds. Diluted phosphoric acid simulates the generally acidic fountain solution used in the printing process.

【0056】比較例V6〜V37 タイプ1および2の基材を陽極酸化し、浸漬浴中で5秒
間親水性付与処理した。それらの条件は表3に示す通り
である。親水性付与処理の種類は下記の表3〜6の2欄
に記載した通りである。そこに示す記号は表1に示す記
号と対応している。親水性付与処理の後、板を例1に記
載の溶液で被覆し、露光し、上記の現像装置VA86
中、タイプ1および2の現像剤で現像した。
The substrates of Comparative Examples V6 to V37 Types 1 and 2 were anodized and treated to impart hydrophilicity for 5 seconds in an immersion bath. The conditions are as shown in Table 3. The types of hydrophilicity imparting treatment are as described in the second column of Tables 3 to 6 below. The symbols shown there correspond to the symbols shown in Table 1. After the hydrophilicity-imparting treatment, the plate was coated with the solution described in Example 1 and exposed to light, and the above-mentioned developing apparatus VA86 was used.
And developed with type 1 and 2 developers.

【0057】表3 番号 親水性付 基材 現像剤 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ タイプ タイプ L* dL* 1 dL* 2 s V6 B* 1 1 78.33 1.33 1.39 15 V7 C* 1 1 78.33 1.02 1.13 15 V8 D* 1 1 78.28 0.33 0.17 5 V9 B* 1 1 78.25 2.15 2.02 15 V10 C* 1 1 78.37 1.24 1.34 5 V11 D* 1 1 78.37 0.24 0.54 5 V12 B* 1 2 78.33 2.24 1.83 5 V13 C* 1 2 78.00 1.92 2.12 5 V14 D* 1 2 78.39 0.43 0.41 15 V15 B* 2 1 79.10 3.01 1.72 15 V16 C* 2 1 79.03 1.75 1.43 15V17 D* 2 1 79.04 0.30 0.54 5 Table 3 No. Hydrophilized base material Developer Brightness Stain Corrected hydrophilicity Treatment Trust type Type Type L * dL * 1 dL * 2 s V6 B * 1 1 78.33 1.33 1.39 15 V7 C * 1 1 78.33 1.02 1.13 15 V8 D * 1 1 78.28 0.33 0.17 5 V9 B * 1 1 78.25 2.15 2.02 15 V10 C * 1 1 78.37 1.24 1.34 5 V11 D * 1 1 78.37 0.24 0.54 5 V12 B * 1 2 78.33 2.24 1.83 5 V13 C * 1 2 78.00 1.92 2.12 5 V14 D * 1 2 78.39 0.43 0.41 15 V15 B * 2 1 79.10 3.01 1.72 15 V16 C * 2 1 79.03 1.75 1.43 15 V17 D * 2 1 79.04 0.30 0.54 5

【0058】表3により、本発明にしたがって製造され
なかった印刷板は、非画像部分で十分に良好な親水性を
有しているが、著しい汚れを有しているか、または修正
剤による攻撃を受けて、非画像部分における変色を起こ
しているか、またはそれらの両方の現象を示しているこ
とが分かる。2種類の異なった基材および2種類の異な
った現像剤を使用したが、表中に記載した組合せのどれ
も、すべての特性に対して良好な結果を与えることはで
きなかった。親水性付与処理自体は、ある程度良好な結
果を与えるが、これは2工程処理であり、技術的に不利
である。
According to Table 3, the printing plates not produced according to the invention have a sufficiently good hydrophilicity in the non-image areas, but also have significant stains or attack by corrective agents. On the other hand, it can be seen that discoloration occurs in the non-image portion, or both of them appear. Two different substrates and two different developers were used, but none of the combinations listed in the table could give good results for all properties. The hydrophilicity imparting treatment itself gives some good results, but this is a two-step treatment and is technically disadvantageous.

【0059】タイプ2の基材を使用して表4の記録材料
を製造した。これらの記録材料を、本発明にしたがわな
い親水性付与処理、すなわち1成分としてホスホノメチ
ル化ポリイミンおよび他の添加剤を含む水溶液に浸漬、
を行なった。ポリイミンの濃度はすべての場合で1 g/l
であった。第二成分の種類および処理温度は以下に示す
通りである。
Recording materials of Table 4 were prepared using a type 2 substrate. These recording materials are subjected to a hydrophilicity-imparting treatment which is not in accordance with the present invention, that is, they are immersed in an aqueous solution containing phosphonomethylated polyimine as one component and other additives,
Was performed. Polyimine concentration is 1 g / l in all cases
Met. The type of the second component and the treatment temperature are as shown below.

【0060】本発明にしたがわない添加剤の例 F 60℃でフタル酸 G 65℃でマレイン酸 H 65℃でリンゴ酸 I 55℃でジオキサオクタン酸 J 55℃でリンゴ酸 K 60℃でニコチン酸 L 60℃でフマル酸 M 55℃で乳酸Examples of additives not according to the invention F 60 ° C. phthalic acid G 65 ° C. maleic acid H 65 ° C. malic acid I 55 ° C. dioxaoctanoic acid J 55 ° C. malic acid K 60 ° C. nicotinic acid L Fumaric acid at 60 ℃ M Lactic acid at 55 ℃

【0061】表4 番号 親水性付 濃度 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ g/l L* dL* 1 dL* 2 s V18 F 2.0 77.83 1.08 1.64 5 V19 G 2.0 77.94 1.66 1.24 15 V20 H 2.0 77.95 0.96 1.32 5 V21 I 2.0 77.52 0.93 1.21 5 V22 J 2.0 79.60 0.81 0.44 5 V23 K 2.0 78.07 2.13 1.76 5 V24 L 2.0 79.41 0.88 1.69 5 V25 M 2.0 79.54 0.97 1.78 5 V26 F 5.0 79.60 0.55 0.95 15 V27 G 1.0 78.06 0.77 0.57 15 V28 H 5.0 78.95 1.56 1.01 5 V29 I 5.0 79.02 2.20 0.85 5 V30 J 5.0 79.10 2.09 0.63 5 V31 K 5.0 78.07 0.12 1.11 15 V32 L 5.0 77.83 0.12 1.41 5 V33 M 5.0 78.88 2.01 1.55 5 V34 M 1.0 78.27 2.53 1.34 5 V35 M 0.2 28.97 2.08 1.73 15 V36 M 10.0 79.01 2.42 1.75 5V37 M 20.0 78.92 2.22 1.21 5 Table 4 No. Hydrophilic Concentration Lightness Dirt Stain Corrected Hydrophilic Treatment Trust Type g / l L * dL * 1 dL * 2 s V18 F 2.0 77.83 1.08 1.64 5 V19 G 2.0 77.94 1.66 1.24 15 V20 H 2.0 77.95 0.96 1.32 5 V21 I 2.0 77.52 0.93 1.21 5 V22 J 2.0 79.60 0.81 0.44 5 V23 K 2.0 78.07 2.13 1.76 5 V24 L 2.0 79.41 0.88 1.69 5 V25 M 2.0 79.54 0.97 1.78 5 V26 F 5.0 79.60 0.55 0.95 15 V27 G 1.0 78.06 0.77 0.57 15 V28 H 78.95 1.56 1.01 5 V29 I 5.0 79.02 2.20 0.85 5 V30 J 5.0 79.10 2.09 0.63 5 V31 K 5.0 78.07 0.12 1.11 15 V32 L 5.0 77.83 0.12 1.41 5 V33 M 5.0 78.88 2.01 1.55 5 V34 M 1.0 78.27 2.53 1.34 5 V35 35 2.08 1.73 15 V36 M 10.0 79.01 2.42 1.75 5 V37 M 20.0 78.92 2.22 1.21 5

【0062】これらの印刷板の場合、すべて非画像部分
では良好な親水性を有するが、汚れおよび/または修正
コントラストに関して測定した値は好ましくない。
In the case of these printing plates, all have good hydrophilicity in the non-image areas, but the values measured for smear and / or modified contrast are not preferred.

【0063】例6〜34 表5には、タイプ2の基材で得た結果を、表6にはタイ
プ4の基材で得た結果が示されている。これらの基材
を、本発明による親水性付与処理、すなわち1成分とし
てホスホノメチル化ポリイミンおよび他の添加剤として
アミノ酸を含む水溶液に浸漬、を行なった。ポリイミン
の濃度を「濃度1」として、第二成分を「濃度2」とし
て表示する。第二成分の種類および処理温度は以下に示
す通りである。浸漬時間はほとんどの場合5秒間であ
る。15秒間〜数分間の浸漬時間は同じ効果を有する。
しかし、浸漬時間は1秒間より短くすべきではない。
Examples 6-34 Table 5 shows the results obtained with the type 2 substrate and Table 6 shows the results obtained with the type 4 substrate. These substrates were subjected to the hydrophilicity-imparting treatment according to the present invention, that is, they were immersed in an aqueous solution containing phosphonomethylated polyimine as one component and amino acid as another additive. The concentration of polyimine is displayed as "concentration 1" and the second component is displayed as "concentration 2". The type of the second component and the treatment temperature are as shown below. Immersion time is 5 seconds in most cases. Immersion times of 15 seconds to several minutes have the same effect.
However, the immersion time should not be less than 1 second.

【0064】本発明による他の添加剤の例 N 2−アミノアジピン酸 O アミノプロピオン酸 P フェニルグリシン Q アミノヘキサン酸 R ジアミノ安息香酸 S メチルグルタミン酸Examples of other additives according to the invention N 2-aminoadipic acid O aminopropionic acid P phenylglycine Q aminohexanoic acid R diaminobenzoic acid S methylglutamic acid

【0065】表5 タイプ2の基材による実験 番号 親水性付 温度 濃度1 濃度2 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ ℃ g/l g/l L* dL* 1 dL* 2 s 6 E 40 5.0 0.5 78.9 -0.20 0.00 15 7 E 50 5.0 0.5 78.5 -0.24 0.05 5 8 E 60 5.0 0.5 78.3 -0.51 0.06 15 9 E 40 2.0 0.5 78.4 -0.14 0.20 5 10 E 50 2.0 0.5 78.3 -0.46 0.24 5 11 E 60 2.0 0.5 77.9 0.55 0.01 5 12 E 40 1.0 1.0 77.7 0.22 0.06 5 13 E 50 1.0 1.0 78.1 0.23 0.15 5 14 E 60 1.0 1.0 77.6 -0.41 0.41 5 15 E 40 0.5 1.0 77.8 -0.16 0.55 5 16 E 50 0.5 1.0 78.9 -0.14 0.27 5 17 E 60 0.5 1.0 77.9 0.12 0.22 5 18 E 40 0.2 1.0 77.6 0.11 0.59 15 19 E 50 0.2 1.0 78.1 0.03 0.55 1520 E 60 0.2 1.0 77.8 -0.07 0.61 15 Table 5 Type 2 substrate experiments No. Hydrophilic Temperature Density 1 Density 2 Brightness Dirt Correction Con Hydrophilic Treatment Trust Type ℃ g / lg / l L * dL * 1 dL * 2 s 6 E 40 5.0 0.5 78.9 -0.20 0.00 15 7 E 50 5.0 0.5 78.5 -0.24 0.05 5 8 E 60 5.0 0.5 78.3 -0.51 0.06 15 9 E 40 2.0 0.5 78.4 -0.14 0.20 5 10 E 50 2.0 0.5 78.3 -0.46 0.24 5 11 E 60 2.0 0.5 77.9 0.55 0.01 5 12 E 40 1.0 1.0 77.7 0.22 0.06 5 13 E 50 1.0 1.0 78.1 0.23 0.15 5 14 E 60 1.0 1.0 77.6 -0.41 0.41 5 15 E 40 0.5 1.0 77.8 -0.16 0.55 5 16 E 50 0.5 1.0 78.9 -0.14 0.27 5 17 E 60 0.5 1.0 77.9 0.12 0.22 5 18 E 40 0.2 1.0 77.6 0.11 0.59 15 19 E 50 0.2 1.0 78.1 0.03 0.55 15 20 E 60 0.2 1.0 77.8 -0.07 0.61 15

【0066】表6 タイプ4の基材による実験 番号 親水性付 温度 濃度1 濃度2 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ ℃ g/l g/l L* dL* 1 dL* 2 s 21 E 40 2.0 4.0 78.5 0.09 0.45 5 22 E 50 2.0 4.0 78.5 0.65 0.32 5 23 E 60 2.0 4.0 78.4 0.45 0.30 5 24 E 40 1.0 2.0 78.0 0.50 0.32 5 25 E 50 1.0 2.0 78.7 0.24 0.16 5 26 E 60 1.0 2.0 77.7 0.37 0.07 5 27 E 40 1.0 1.0 78.3 0.21 0.50 5 28 E 50 1.0 1.0 78.3 0.19 0.49 5 29 E 60 1.0 1.0 78.4 0.34 0.50 15 30 E 40 0.5 1.0 78.4 0.27 0.43 5 31 E 50 0.5 1.0 78.4 0.23 0.43 5 32 E 60 0.5 1.0 78.0 0.43 0.40 5 33 E 50 0.5 1.0 78.3 0.50 0.34 534 E 60 0.5 1.0 78.9 0.45 0.32 5 Table 6 Experiments with Type 4 Substrates No. Hydrophilic Temperature Density 1 Density 2 Brightness Dirt Stain Corrected Hydrophilic treatment Trust type ℃ g / lg / l L * dL * 1 dL * 2 s 21 E 40 2.0 4.0 78.5 0.09 0.45 5 22 E 50 2.0 4.0 78.5 0.65 0.32 5 23 E 60 2.0 4.0 78.4 0.45 0.30 5 24 E 40 1.0 2.0 78.0 0.50 0.32 5 25 E 50 1.0 2.0 78.7 0.24 0.16 5 26 E 60 1.0 2.0 77.7 0.37 0.07 5 27 E 40 1.0 1.0 78.3 0.21 0.50 5 28 E 50 1.0 1.0 78.3 0.19 0.49 5 29 E 60 1.0 1.0 78.4 0.34 0.50 15 30 E 40 0.5 1.0 78.4 0.27 0.43 5 31 E 50 0.5 1.0 78.4 0.23 0.43 5 32 E 60 0.5 1.0 78.0 0.43 0.40 5 33 E 50 0.5 1.0 78.3 0.50 0.34 5 34 E 60 0.5 1.0 78.9 0.45 0.32 5

【0067】すべての場合で汚れおよび修正コントラス
トに関して良好な値が達成されている。負の数値は、現
像工程で、感光層が除去されただけではなく、基材表面
も洗浄されたことを意味し、これは利点と考えるべきで
ある。親水性も他の場合と同様に良好である。
Good values have been achieved in all cases for dirt and modified contrast. A negative number means that not only the photosensitive layer was removed in the development step, but also the substrate surface was washed, which should be considered as an advantage. The hydrophilicity is as good as in other cases.

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】塩基性および酸性の根源部を有する少なく
とも1種の重合体を含んでなる親水性付与層を有する、
機械的および/または電気化学的に粗面化され、必要で
あれば陽極酸化された、アルミニウムまたはその合金の
基材であって、この親水性付与層が2成分の混合物を含
んでなり、この2成分の一方がアミノ酸からなる群に属
し、他方が塩基性および酸性の根源部を有する重合体に
属することを特徴とする基材。
1. A hydrophilicity-imparting layer comprising at least one polymer having basic and acidic roots,
A mechanically and / or electrochemically roughened and optionally anodized substrate of aluminum or its alloys, the hydrophilicity-providing layer comprising a mixture of two components, A base material characterized in that one of the two components belongs to the group consisting of amino acids and the other belongs to a polymer having basic and acidic roots.
【請求項2】塩基性および酸性の根源部を含む重合体の
塩基性根源部が、第1級、第2級または第3級アミノ基
であり、酸性根源部がカルボキシル、ホスホノまたはス
ルホ基である、請求項1に記載の基材。
2. A polymer having a basic and acidic root moiety, wherein the basic root moiety is a primary, secondary or tertiary amino group, and the acidic root moiety is a carboxyl, phosphono or sulfo group. The substrate according to claim 1, which is present.
【請求項3】塩基性および酸性の根源部を有する重合体
のpHが4〜9である、請求項1または2に記載の基材。
3. The substrate according to claim 1, wherein the pH of the polymer having basic and acidic roots is 4-9.
【請求項4】塩基性および酸性の根源部を有する重合体
のpHが4.5〜7.5である、請求項3に記載の基材。
4. The substrate according to claim 3, wherein the pH of the polymer having basic and acidic roots is 4.5 to 7.5.
【請求項5】一方の成分が、スルホメチル化またはホス
ホノメチル化されたポリエチレンイミンおよびポリビニ
ルアミンからなる群から選択される、請求項1に記載の
基材。
5. The substrate according to claim 1, wherein one component is selected from the group consisting of sulfomethylated or phosphonomethylated polyethyleneimine and polyvinylamine.
【請求項6】一方の成分が、置換されたアミノアクリレ
ート、ビニルピロリドンおよびビニルイミダゾールから
なる群から選択された共重合体またはターポリマーであ
る、請求項1に記載の基材。
6. A substrate according to claim 1, wherein one component is a copolymer or terpolymer selected from the group consisting of substituted amino acrylates, vinylpyrrolidone and vinylimidazole.
【請求項7】他方の成分が、単塩基性アミノ酸、例えば
グリシン、アミノヘキサン酸、アミノ安息香酸、ジアミ
ノ安息香酸およびロイシン、からなる群から選択され
る、請求項1に記載の基材。
7. The substrate according to claim 1, wherein the other component is selected from the group consisting of monobasic amino acids such as glycine, aminohexanoic acid, aminobenzoic acid, diaminobenzoic acid and leucine.
【請求項8】一工程製法において、2成分を含む親水性
付与層を、水溶液で、機械的および/または電気化学的
に粗面化され、必要であれば陽極酸化された、アルミニ
ウムまたはその合金の基材に塗布されることを特徴とす
る請求項1〜7のいずれか1項に記載の基材の製造法。
8. A one-step production method, wherein a hydrophilicity-imparting layer containing two components is mechanically and / or electrochemically surface-roughened with an aqueous solution and, if necessary, anodized, aluminum or an alloy thereof. The method for producing a base material according to claim 1, wherein the base material is applied to the base material.
【請求項9】親水性付与層が、水溶液の噴霧または水溶
液中への浸漬により塗布される、請求項8に記載の方
法。
9. The method according to claim 8, wherein the hydrophilicity-imparting layer is applied by spraying or dipping in an aqueous solution.
【請求項10】親水性付与が、温度20〜95℃、特に
30〜65℃、の親水性付与層で行なわれる、請求項8
または9に記載の方法。
10. The hydrophilicity-imparting layer is formed at a temperature of 20 to 95 ° C., particularly 30 to 65 ° C., in the hydrophilicity imparting layer.
Or the method of 9.
【請求項11】親水性付与層の水溶液の濃度が0.1〜
50 g/l、特に0.3〜5 g/l、である、請求項8また
は9に記載の方法。
11. The hydrophilicity-imparting layer has an aqueous solution concentration of 0.1 to 10.
The method according to claim 8 or 9, which is 50 g / l, in particular 0.3 to 5 g / l.
【請求項12】親水性付与層を塗布した後、過剰の親水
性付与層を洗い流し、次いで被覆した基材を温度100
〜130℃で乾燥させる、請求項8〜10のいずれか1
項に記載の方法。
12. After coating the hydrophilicity-imparting layer, the excess hydrophilicity-imparting layer is washed off, and then the coated substrate is heated to a temperature of 100.
Drying at ˜130 ° C. 11.
The method described in the section.
【請求項13】基材上への噴霧時間または基材の浸漬時
間が1秒間〜5分間である、請求項9に記載の方法。
13. The method according to claim 9, wherein the spraying time on the substrate or the dipping time of the substrate is 1 second to 5 minutes.
【請求項14】請求項8〜13のいずれか1項に記載の
方法により親水性付与され、放射線感応性層で被覆され
たアルミニウムまたはその合金の基材を有する記録材
料。
14. A recording material having a base material of aluminum or its alloy, which has been rendered hydrophilic by the method according to any one of claims 8 to 13 and is coated with a radiation-sensitive layer.
JP31351296A 1995-11-25 1996-11-25 Aluminum or aluminum alloy substrate with hydrophilic property imparting layer and its production Pending JPH09204048A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19543934.1 1995-11-25
DE1995143934 DE19543934A1 (en) 1995-11-25 1995-11-25 Carrier material made of aluminum or its alloys, with a hydrophilizing layer, and method for producing the carrier material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09204048A true JPH09204048A (en) 1997-08-05

Family

ID=7778379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31351296A Pending JPH09204048A (en) 1995-11-25 1996-11-25 Aluminum or aluminum alloy substrate with hydrophilic property imparting layer and its production

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0776770A1 (en)
JP (1) JPH09204048A (en)
DE (1) DE19543934A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012008214B4 (en) 2011-10-18 2022-03-03 Leibniz-Institut Für Polymerforschung Dresden E.V. Method for the integral connection of components, an integral connection produced with the method and a use of the method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL267931A (en) 1960-08-05 1900-01-01
ZA6807938B (en) 1967-12-04
DE3126636A1 (en) 1981-07-06 1983-01-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt HYDROPHILIZED CARRIER MATERIALS FOR OFFSET PRINTING PLATES, A METHOD FOR THEIR PRODUCTION AND THEIR USE
DE3569703D1 (en) * 1984-01-17 1989-06-01 Fuji Photo Film Co Ltd Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer
DE3504331A1 (en) 1985-02-08 1986-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt HYDROPHILIZED CARRIER MATERIALS FOR OFFSET PRINTING PLATES, A METHOD FOR THEIR PRODUCTION AND THEIR USE
DE3832032A1 (en) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE AND RECORDING MATERIAL MANUFACTURED THEREOF
DE4039920A1 (en) 1990-12-14 1992-06-17 Basf Ag NEW POLYETHYLENIMINE AND POLYVINYLAMINE DERIVATIVES, CARRIER MATERIALS COATED WITH THESE DERIVATIVES ON THE BASIS OF ALUMINUM AND THE USE THEREOF FOR THE PRODUCTION OF OFFSET PRINTING PLATES
JPH06247070A (en) * 1993-02-25 1994-09-06 Fuji Photo Film Co Ltd Aluminum support for lithographic printing block

Also Published As

Publication number Publication date
EP0776770A1 (en) 1997-06-04
DE19543934A1 (en) 1997-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5637441A (en) Hydrophilized base material and recording material produced therefrom
CN111867838B (en) Lithographic printing plate precursor
US5314787A (en) Process for treating lithographic printing forms and lithographic printing forms produced thereby
JP2709535B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0340377B2 (en)
JPS60212395A (en) Gummed liquid used for baking of irradiated and developed offset printing plate
JPH05246171A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH0516558A (en) Support for photosensitive lithographic form plate
JPH04275333A (en) New polyethylene-imine and polyvinyl-amine derivative
JPH0347495B2 (en)
JPS59222842A (en) Photosensitive composition for lithographic plate
JPH09204048A (en) Aluminum or aluminum alloy substrate with hydrophilic property imparting layer and its production
JP2648981B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
EP0547578B1 (en) Light-sensitive composition
JPS60143345A (en) Positive type lighographic printing plate material
JPH062435B2 (en) Support for planographic printing plates
JPH062434B2 (en) Support for planographic printing plates
JP3743174B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
US5213950A (en) Pre-bake printing plate composition
JPH0570813B2 (en)
JPH11301135A (en) Manufacture of photosensitive lithographic printing plate
JPH06297875A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0798433B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
ITRM990401A1 (en) PROCEDURE FOR FORMING AN ALUMINUM SUBSTRATE FOR A LITHOGRAPHIC SHEET, AND PRESENSITIZED LITHOGRAPHIC SHEET.
AU643118B2 (en) Pre-bake printing plate composition