JPH09189899A

JPH09189899A - ブラックマトリクス基板、カラーフィルターおよび液晶パネルならびにそれらの製造方法

Info

Publication number: JPH09189899A
Application number: JP107996A
Authority: JP
Inventors: Masafumi Hirose; 雅史広瀬; Shoji Shiba; 昭二芝; Akio Kashiwazaki; 昭夫柏崎; Akinori Shioda; 昭教塩田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1996-01-09
Filing date: 1996-01-09
Publication date: 1997-07-22

Abstract

(57)【要約】【課題】樹脂製ブラックマトリクスを用い、着色画素
部の表面段差の少ないブラックマトリクス基板ならびに
そのブラックマトリクス基板を容易かつ低コストに製造
する方法、さらには優れたカラーフィルターとそのカラ
ーフィルターを組み込んだ画像品位の高い液晶パネルと
それらの製造方法を提供する。【解決手段】透光性基板上に多層の遮光性樹脂層から
なる遮光性樹脂パターンを有し、その遮光性樹脂パター
ンの層厚に中央部が厚く端部に向かって薄くなる傾斜が
あるブラックマトリクス基板を作製し、それを用いてカ
ラーフィルターを作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示装置な
どのカラーフィルターに用いられるブラックマトリクス
基板、そのブラックマトリクス基板を用いたカラーフィ
ルターおよびそれらの製造方法、ならびにそのフィルタ
ーを用いた液晶表示パネルに関し、特にインクジェット
記録技術を用いたカラーフィルターならびにその製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の携帯型パーソナルコンピュータ、
小型液晶テレビ、薄型液晶カラーテレビなどの発達に伴
い、液晶ディスプレイの需要が増加している。その中で
も、カラー画像表示用の液晶ディスプレイの成長は著し
く、そのコストダウンに対する要求も高くなっている。

【０００３】カラー液晶ディスプレイは、液晶組成物、
スイッチング素子、偏光板、配向膜、ガラス基板、カラ
ーフィルター等の材料から構成される。

【０００４】その中での、カラーフィルターの価格に占
める割合は約２０％と大きく、より一層のコストダウン
が求められる。

【０００５】カラー表示装置用のカラーフィルターは、
透明基板上に光透過率の異なる複数の着色部材（一般的
には赤、青、緑）によって構成され、核着色部材が画素
として機能する。各画素の間には表示コントラストを高
めるために、遮光部材が持つ受けられており、一般にそ
の遮光部材は黒色であることから、ブラックマトリクス
と呼ばれている。また、そのブラックマトリクスは、カ
ラーフィルターに対向する基板側に設けられることもあ
る。

【０００６】通常、ブラックマトリクスは金属クロムの
蒸着膜やスパッタリング膜にエッチング処理を施して形
成される。そのほかにも、ガラス等からなる透明基板の
上のそのほぼ全面にわたって、ＩＴＯからなる透明な導
電性下地膜を成膜し、その上に顔料分散法等によりカラ
ーフィルター画素部を形成し、画素間のＩＴＯ膜を利用
して電着法によってブラックマトリクスを形成する方
法、ガラス等からなる透明基板の上に黒色の感光性樹脂
からなる被膜を形成し、上記樹脂膜をフォトリソグラフ
ィーによりパターニングし、赤、緑、青のカラーフィル
ター間の間隙に対応するブラックマトリクスを形成する
方法等が挙げられる。

【０００７】画素を構成する着色部材の形成方法につい
ては、顔料を分散した感光性樹脂を用いる方法、染色性
のある樹脂層をフォトリソグラフィーの手法を用いてパ
ターニングし染色することによる方法、基板上に電極を
パターニングし、電極上に色素を電着させる方法、印刷
を用いる方法のほか、低コストな形成方法としてインク
ジェット法を用いる方法がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】カラー液晶パネルを構
成する部材の中でもブラックマトリクス部の価格に占め
る割合は非常に高く、コストダウンのネックとなってい
る。これを解決する手段としては、金属膜の代りに黒色
の感光性樹脂を用いフォトリソ工程によってブラックマ
トリクスを形成する方法がある。

【０００９】ところが、遮光性の感光性樹脂は、その性
質から自ずと光透過性が低く、膜厚を大きくすると十分
に光が透過しにくく、硬化のための大きな光量を必要と
した。そのため、パターンエッジ精度の低下、耐光性等
の問題を起こしやすく、また十分な品質のものを得るこ
とができなかった。

【００１０】また、感光性樹脂を用いたブラックマトリ
クスパターンの形成には、透過率を下げるために顔料分
散フォトレジストや印刷インクの膜厚を大きくする必要
がある。そのため、顔料分散法や染色法においては、ブ
ラックマトリクス基板にレジストを塗布する際、画素部
とブラックマトリクス上の部分では、大きな段差が生じ
るという問題があった。

【００１１】インクジェット法を用いたカラーフィルタ
ーの製造法において、カラーフィルターの着色部を形成
するためインクを受容する成分を持った樹脂をインク受
容層としてブラックマトリクス基板上に成膜する際、ブ
ラックマトリクス上の部分が大きく盛り上り、インク受
容層に膜厚ムラが生じることが従来から問題となってい
る。そのような膜厚ムラは、画素中心部と画素端部の濃
度ムラの原因となり、また、後工程においてＩＴＯ薄膜
のパターニングが行われる場合に断線を生じやすくす
る。

【００１２】そこで本発明の目的は、従来用いられる金
属製ブラックマトリクスに代る樹脂製ブラックマトリク
スを用い、着色画素部の表面段差の少ないブラックマト
リクス基板ならびにそのブラックマトリクス基板を容易
かつ低コストに製造する方法、さらには優れたカラーフ
ィルターとそのカラーフィルターを組み込んだ画像品位
の高い液晶パネルとそれらの製造方法を提供することに
ある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、透光性基板上
に多層の遮光性樹脂層からなる遮光性樹脂パターンを有
し、該遮光性樹脂パターンの層厚に中央部が厚く端部に
向かって薄くなる傾斜があるカラーフィルター用ブラッ
クマトリクス基板；そのブラックマトリクス基板上に、
未着色の遮光部パターンと所定の色の着色部を有する樹
脂層が形成されているカラーフィルター；ならびにその
カラーフィルターを配した基板と、該基板に対向する対
向基板との間に液晶化合物が封入されてなる液晶パネル
を提供する。

【００１４】上記において、ブラックマトリクス基板に
ついて、前記多層の遮光性樹脂層からなる遮光性樹脂パ
ターンが、上の層が下の層を覆いつつその下の層より広
くなるよう形成されることで前記層厚の傾斜が形成され
ていてもよく、前記多層の遮光性樹脂層からなる遮光性
樹脂パターンが、上の層が下の層より狭くなるよう形成
され、最上層はそれより下の全層を覆いつつそれらの層
より広く形成されることで、前記層厚の傾斜が形成され
ていてもよい。

【００１５】さらに本発明は、透光性基板上に遮光性樹
脂層を形成し、該遮光性樹脂層を光照射および光照射／
熱処理の併用のいずれかにより所定のパターンで硬化さ
せ、未硬化の遮光性樹脂を除去して遮光性樹脂層パター
ンを形成し、該パターン上に、同様の工程で、下の遮光
性樹脂層を覆いつつその樹脂層より広い遮光性樹脂層を
所定数積層して、中央部が厚く端部が薄い層厚の傾斜を
有する遮光性樹脂パターンを形成するカラーフィルター
用ブラックマトリクス基板の製造方法を提供する。

【００１６】さらに本発明は、透光性基板上に遮光性樹
脂層を形成し、該遮光性樹脂層を光照射および光照射／
熱処理の併用のいずれかにより所定のパターンで硬化さ
せ、未硬化の遮光性樹脂を除去して遮光性樹脂層パター
ンを形成し、該パターン上に、同様の工程で、下の遮光
性樹脂層より狭い遮光性樹脂層を所定数積層し、最後に
下のいずれの層も覆いかつそれらの層より広い遮光性樹
脂層を形成して、中央部が厚く端部が薄い層厚の傾斜を
有する遮光性樹脂パターンを形成するカラーフィルター
用ブラックマトリクス基板の製造方法を提供する。

【００１７】さらに本発明は、上記のいずれかの方法で
製造されたブラックマトリクス基板上に、インク受容層
を形成し、前記遮光性樹脂パターン上の該インク受容層
を硬化させ、該インク受容層の未硬化部分を所定の色の
インクによって着色して着色部を形成し、該着色部を硬
化させるカラーフィルターの製造方法；ならびにそのカ
ラーフィルターを配した基板と、該基板に対向基板を対
向配置し、両基板間に液晶化合物を封入する工程を含む
液晶パネルの製造方法を提供する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
を詳しく説明する。

【００１９】前述のような問題を解決する方法として、
遮光性部材を多層とすることにより、所望の断面形状を
もつブラックマトリクスパターンを得ることが可能とな
る方法を挙げる。

【００２０】遮光性樹脂層の作製法として、次のような
方法が用いられる。透光性基板上に硬化処理により硬化
可能な遮光性の樹脂層を設ける。その樹脂層に選択的な
硬化処理を施し、一層目の遮光部材を設ける領域を選択
的に硬化させ、現像処理を行し、非硬化領域を除去す
る。硬化の方法は、フォトマスクを介して紫外光の照射
を行い露光により硬化領域を形成してもよいし、電子線
による硬化法を用いてもよい。

【００２１】次いで２層目以降も下層のパターン上に同
一または異なる成分を持つ樹脂であり、硬化処理により
硬化可能な遮光性の樹脂層を配し、１層目と同様にパタ
ーニングを行う。

【００２２】このような樹脂層の形成法を用いて、前記
のような断面形状をもつ遮光性樹脂層を作製するには、
次のような方法が考えられる。

【００２３】第一の方法として、それぞれの層の遮光部
材を設けるパターンが下層の樹脂層のパターンよりも大
きい面積を有するものであり、下層のパターンを完全に
覆うものが考えられる（図１）。この場合、２層目以降
の膜形成、パターニングの操作を繰り返し、最終層の樹
脂層パターンをもってブラックマトリクスパターンとす
る。

【００２４】このような操作により、遮光性樹脂のそれ
ぞれの層の断面形状が最下層を除いて、下層のパターン
のエッジにかかる部位が斜面となるのを利用し、所望の
断面形状を持つブラックマトリクスパターンを形成す
る。

【００２５】第二の方法として、逆に２層目以降の遮光
部材のパターンは、この工程が最終層を形成する場合を
除き、下層の樹脂層よりも小さな面積を持つパターンと
して形成するものが考えられる。この場合、２層目以降
の膜形成・パターニング操作を繰り返してから、最上層
の遮光部材を設ける際にはその遮光部材パターンは最終
的に得られるブラックマトリクスパターンと同じ領域に
形成する。すなわち、最上層の遮光部材はそれ以下の層
を全て覆う形で形成するものである。

【００２６】これらの操作によって、多層の樹脂により
階段状のパターンが形成されており、最終層を塗布する
ことによりこの段差を埋めるような斜面を形成できる。

【００２７】本発明はこれらの方法に限られるものでは
なく、多層の遮光性樹脂層によって所望の断面形状を形
成し得る方法であればいかなる製造方法を採ることも可
能である。

【００２８】また、この方法においてはブラックマトリ
クスを多層とし、露光する樹脂層の膜厚を小さくするこ
とにより、各層の露光量の低減も可能となり、パターン
精度の向上にも効果がある。

【００２９】本発明に用いられる透光性基板としては、
一般的なガラス基板のほか、液晶用カラーフィルターと
しての透明性、機械的強度等の必要特性を有するもので
あればガラス基板に限定されるものではなく、ブラスチ
ックなどの基板を採用することもできる。

【００３０】黒色レジストとしては染料あるいは顔料を
溶解あるいは分散したネガ型のレジストを用いることが
好ましいが、これらに限定されるものではない。本発明
において用いることができるインク受容層を構成する材
料は、光照射あるいは光照射と熱処理の併用により、架
橋反応が進行した領域（硬化領域）は水性の着色インク
に対してぬれ性が悪くインク吸収性が低下し、未反応の
領域（非硬化領城）はぬれ性に優れインク吸収性が高い
ものを選択するのが望ましい。

【００３１】図６に、本発明によるカラーフィルターを
組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの１例の断面を示
す。なおその形態はその図に示した例に限定されるもの
ではない。

【００３２】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルター基板と対向基板を合わせ込み、液晶化合物を封入
することにより形成される。液晶パネルの―方の基板の
内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極がマトリク
ス状に形成される。また、もう―方の基板の内側には、
画素電極に対向する位置にＲＧＢの色材が配列するよう
カラーフィルターが設置され、その上に透明な対向電極
（共通電極）が一面に形成される。さらに、両基板の面
内には配向膜が形成されており、これをラビング処理す
ることにより液晶分子を一定方向に配列させることがで
きる。また、それぞれのガラス基板の外側には偏光板が
接着されており、液晶化合物は、これらのガラス基板の
間隙（２〜５μｍ程度）に充填される。また、バックラ
イトとしては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組
合せが一般的に用いられており、液晶化合物をバックラ
イト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能さ
せることにより表示を行う。

【００３３】

【実施例】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発
明は本発明の目的が達成される範囲内で構成要素を公知
技術と変更、置換したものをも包含する。

【００３４】（実施例１）図１の工程図に示した手順に
従って本発明のブラックマトリクス基板を製造した。な
お、図１において、１は基板、２は光硬化型遮光性樹
脂、４はフォトマスクである。

【００３５】表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍ
ｍ角、厚さ１．１ｍｍ）上にネガ型の黒色レジストＶ−
２５９ＢＫ（商品名、新日鐵化学製）を膜厚０．５μｍ
となるようスピンコートし、９０℃で２０分のプリベー
クを行って黒色レジスト層を形成した（図１（ａ））。

【００３６】次いで、１層目のブラックマトリクス用の
フォトマスクを介して露光し（図１（ｂ））、現像処理
を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行ってパタ
ーニングされた黒色レジストを硬化させ、１層目の黒色
レジスト層を形成した（図１（ｃ））。

【００３７】次いで、１層目の黒色レジスト層を有する
ガラス基板上に再び前記黒色レジストをガラス基板上に
塗布された部分が膜厚０．８μｍとなるようスピンコー
トし、９０℃で２０分のプリベークを行って２層目の黒
色レジスト層を形成した（図１（ｄ））。

【００３８】次いで、露光部分が１層目より２μｍだけ
幅の広いフォトマスクを介して露光し（図１（ｅ））、
現像処理を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行
ってパターニングされた黒色レジストを硬化させた（図
１（ｆ））。

【００３９】そのようにして、断面形状が矩形ではなく
端部に向かい傾斜しているブラックマトリクスパターン
を持つブラックマトリクス基板が形成された。

【００４０】こうして作製したブラックマトリクス基板
を光学顕微鏡により観察したところ、エッジ形状は問題
なく、精度の高いブラックマトリクス基板が得られた。
最終的にはブラックマトリクスパターンの最大膜厚は
１．２０μｍ、最小膜厚は０．７４μｍとなった。

【００４１】次に、そのブラックマトリクス基板を用い
てインクジェット法によってカラーフィルタを作製し
た。

【００４２】具体的には、ブラックマトリクス基板上に
下記感光性樹脂組成物をスピンナー塗布した後、９０℃
で２０分間プリベーク処理を行い、膜厚１μｍの感光性
樹脂層を形成した。感光性樹脂組成物メチルメタクリレート５．０重量部ヒドロキシメチルメタクリレート３．０重量部Ｎ−メチロールアクリルアミド２．０重量部からなる３元共重合体トリフェニルスルホニウムトリフルフラート（ミドリ化学製ＴＰＳ−１０５）０．３重量部エチルセルソルブ８９．７重量部次いで、ブラックマトリクスの遮光幅よりも狭い開口部
を有するマスクを用い感光性樹脂層の一部をパターン露
光し、さらに１２０℃のホットプレート上で１分間熱処
理を行った。この工程により、樹脂層の部分的な硬化処
理がなされた。

【００４３】次いで、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色のインクをインク
ジェットヘッドより吐出させ、未硬化部位にインクを浸
潤させ着色した。

【００４４】インクドット形成後９０℃で２０分間イン
クの乾燥を行った。引き続き２３０℃で３０分間の熱処
理を行って樹脂組成物層を硬化させた。このようにして
作製されたカラーフィルターの断面形状は図４に示した
ようになった。なお、図４において、１は基板、３は光
硬化型インク受容層、５はブラックマトリクス、６は着
色部、７は未着色部である。

【００４５】そのカラーフィルタを光学顕微鏡により観
察したところ、混色、色ムラ、色抜け等の障害は観察さ
れなかった。

【００４６】さらに、このようにして作製された液晶用
カラーフィルタを用いてＴＦＴ液晶パネルを作成し駆動
したところ高精細なカラー表示が可能であった。

【００４７】（実施例２）図２および図３の工程図に示
した手順に従って、本発明のブラックマトリクス基板を
製造した。

【００４８】表面研磨した無アルカリガラス（２００ｍ
ｍ角、厚さ１．１ｍｍ）上にネガ型の黒色レジストＶ−
２５９ＢＫ（商品名、新日鐵化学製）を膜厚０．５μｍ
となるようスピンコートし、９０℃で２０分のプリベー
クを行って黒色レジスト層を形成した（図２（ａ））。

【００４９】次いで、１層目のブラックマトリクス用の
フォトマスクを介して露光し（図２（ｂ））、現像処理
を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行ってパタ
ーニングされた黒色レジストを硬化し、１層目の黒色レ
ジスト層を形成した（図２（ｃ））。

【００５０】次いで、１層目の黒色レジスト層を有する
ガラス基板上に再び前記黒色レジストをガラス基板上に
塗布された部分が膜厚０．３μｍとなるようスピンコー
トし（図２（ｄ））、９０℃で２０分のプリベークを行
って２層目の黒色レジスト層を形成させた。

【００５１】次いで、露光部分が１層目より２μｍだけ
幅の狭いフォトマスクを介して露光し（図２（ｅ））、
現像処理を行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行
ってパターニングした黒色レジストを硬化させた（図３
（ｆ））。

【００５２】さらに、２層の黒色レジスト層を有するガ
ラス基板上に、前記黒色レジストをガラス基板上に塗布
された部分が膜厚０．５μｍとなるようスピンコートし
（図３（ｇ））、９０℃で２０分のプリベークを行って
３層目の黒色レジスト層を形成した。

【００５３】次いで、露光部分が１層目と同じ形状のフ
ォトマスクを介して露光し（図３（ｈ））、現像処理を
行った後、２００℃で３０分間の熱処理を行ってパター
ニングされた黒色レジストを硬化させた（図３
（ｉ））。

【００５４】以上により、その断面形状が矩形ではなく
端部に向かい傾斜をもつブラックマトリクスパターンを
持つブラックマトリクス基板が形成された。

【００５５】このようにして作製したブラックマトリク
ス基板を光学顕微鏡により観察したところ、エッジ形状
は問題なく、精度の高いブラックマトリクス基板が得ら
れた。最終的にはブラックマトリクスパターンの最大膜
厚は１．２５μｍ、最小膜厚は０．９８μｍとなった。

【００５６】次に、そのブラックマトリクス基板上を用
いて実施例１と同様の方法でインクジェット法によりカ
ラーフィルターを作製した。このようにして作製したカ
ラーフィルターの断面形状は実施例１の場合同様図４の
ようになっていた。

【００５７】そのカラーフィルターを光学顕微鏡により
観察したところ、画素内の色ムラは少なく、色抜け等の
障害は観察されなかった。

【００５８】さらに、このようにして作製された液晶用
カラーフィルターを用いてＳＴＮ液晶パネルを作製し駆
動したところ、ＩＴＯパターンの断線等の障害はなく、
高精細なカラー表示が可能であった。

【００５９】（比較例１）ガラス基板上に、前記ネガ型
の黒色レジストを膜厚１μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で２０分のプリベークを行って黒色レジスト
層を形成した。次いで、ブラックマトリクス用のフォト
マスクを介して露光し、現像処理を行った後、２００℃
で３０分間の熱処理を行って、パターニングした黒色レ
ジストを硬化させ、ブラックマトリクスを形成した。

【００６０】以上により、膜厚が実施例１で得られたブ
ラックマトリクスの最大膜厚と同等でありかつ面積が同
じであって、またその断面形状が矩形であるブラックマ
トリクスパターンを持つブラックマトリクス基板を形成
した。

【００６１】次に、そのブラックマトリクス基板を用い
て実施例１と同様の方法でインクジェット法によりカラ
ーフィルターを作製した。このようにして作製したカラ
ーフィルターの断面形状は図５のようになっていた。

【００６２】そのカラーフィルターは、画素上での表面
段差が最大０．７μｍであり、そのカラーフィルターを
光学顕微鏡により観察したところ、各着色画素内の中心
部付近が色が薄く、周辺部が濃くなる色ムラが観察され
た。

【００６３】さらに、このようにして作製された液晶用
カラーフィルターを用いてＳＴＮ液晶パネルを作製し駆
動したところ、ＩＴＯパターンの断線が数カ所で発生
し、画像不良を生じた。

【００６４】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明により、樹脂
製ブラックマトリクスを用い、着色画素部の表面段差の
少ないブラックマトリクス基板ならびにそのブラックマ
トリクス基板を容易かつ低コストに製造することがで
き、さらには優れたカラーフィルターとそのカラーフィ
ルターを組み込んだ画像品位の高い液晶パネルを得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブラックマトリクス基板製造方法の１
例（実施例１）の手順を示す工程図である。

【図２】実施例２のブラックマトリクス基板製造の手順
の前半を示す工程図である。

【図３】実施例２のブラックマトリクス基板製造の手順
の後半を示す工程図である。

【図４】本発明のブラックマトリクス基板を具備するカ
ラーフィルターの１例の断面図である。

【図５】従来の樹脂製ブラックマトリクス基板を具備す
るカラーフィルターの断面図である。

【図６】本発明のカラーフィルターを具備した液晶パネ
ルの１例の断面図である。

【符号の説明】

１基板２光硬化型遮光性樹脂３光硬化型インク受容層４フォトマスク５ブラックマトリクス６着色部７未着色部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者塩田昭教東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性基板上に多層の遮光性樹脂層から
なる遮光性樹脂パターンを有し、該遮光性樹脂パターン
の層厚に中央部が厚く端部に向かって薄くなる傾斜があ
るカラーフィルター用ブラックマトリクス基板。
【請求項２】前記多層の遮光性樹脂層からなる遮光性
樹脂パターンが、上の層が下の層を覆いつつその下の層
より広くなるよう形成されることで前記層厚の傾斜が形
成されている請求項１記載のブラックマトリクス基板。
【請求項３】前記多層の遮光性樹脂層からなる遮光性
樹脂パターンが、上の層が下の層より狭くなるよう形成
され、最上層はそれより下の全層を覆いつつそれらの層
より広く形成されることで、前記層厚の傾斜が形成され
ている請求項１記載のブラックマトリクス基板。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載のブ
ラックマトリクス基板上に、未着色の遮光部パターンと
所定の色の着色部を有する樹脂層が形成されているカラ
ーフィルター。
【請求項５】請求項４記載のカラーフィルターを配し
た基板と、該基板に対向する対向基板との間に液晶化合
物が封入されてなる液晶パネル。
【請求項６】透光性基板上に遮光性樹脂層を形成し、
該遮光性樹脂層を光照射および光照射／熱処理の併用の
いずれかにより所定のパターンで硬化させ、未硬化の遮
光性樹脂を除去して遮光性樹脂層パターンを形成し、該
パターン上に、同様の工程で、下の遮光性樹脂層を覆い
つつその樹脂層より広い遮光性樹脂層を所定数積層し
て、中央部が厚く端部が薄い層厚の傾斜を有する遮光性
樹脂パターンを形成するカラーフィルター用ブラックマ
トリクス基板の製造方法。
【請求項７】透光性基板上に遮光性樹脂層を形成し、
該遮光性樹脂層を光照射および光照射／熱処理の併用の
いずれかにより所定のパターンで硬化させ、未硬化の遮
光性樹脂を除去して遮光性樹脂層パターンを形成し、該
パターン上に、同様の工程で、下の遮光性樹脂層より狭
い遮光性樹脂層を所定数積層し、最後に下のいずれの層
も覆いかつそれらの層より広い遮光性樹脂層を形成し
て、中央部が厚く端部が薄い層厚の傾斜を有する遮光性
樹脂パターンを形成するカラーフィルター用ブラックマ
トリクス基板の製造方法。
【請求項８】請求項６または７記載の方法で製造され
たブラックマトリクス基板上に、インク受容層を形成
し、前記遮光性樹脂パターン上の該インク受容層を硬化
させ、該インク受容層の未硬化部分を所定の色のインク
によって着色して着色部を形成し、該着色部を硬化させ
るカラーフィルターの製造方法。
【請求項９】請求項８記載のカラーフィルターを配し
た基板と、該基板に対向基板を対向配置し、両基板間に
液晶化合物を封入する工程を含む液晶パネルの製造方
法。