JPH09188955A - Processing device for sewing data - Google Patents

Processing device for sewing data

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Publication number
JPH09188955A
JPH09188955A JP34371795A JP34371795A JPH09188955A JP H09188955 A JPH09188955 A JP H09188955A JP 34371795 A JP34371795 A JP 34371795A JP 34371795 A JP34371795 A JP 34371795A JP H09188955 A JPH09188955 A JP H09188955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sewing
pattern
embroidery
data
accommodated
Prior art date
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Pending
Application number
JP34371795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shintaro Tomita
信太郎 冨田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Brother Industries Ltd filed Critical Brother Industries Ltd
Priority to JP34371795A priority Critical patent/JPH09188955A/en
Publication of JPH09188955A publication Critical patent/JPH09188955A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sewing date processing device able to judge whether the edited embroidery pattern is admitted in sewing operable zone or not. SOLUTION: This data processing device judges whether an sewing pattern selected according to the sewing pattern data corresponding to the shape of the sewing pattern is admitted in the range capable of sewing operation or not (step S44). In the case when the selected sewing pattern judged not to be admitted in sewing operable zone (step S44, YES), the other alignment capable of admitting the selected sewing pattern in sewing operable zone is detected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用ミシンや工
業用ミシンにおいて、刺繍を形成するための縫製模様デ
ータを処理する縫製データ処理装置の分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sewing data processing device for processing sewing pattern data for forming embroidery in a domestic sewing machine or an industrial sewing machine.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えば工業用ミシンの分野に
おいては、マイクロコンピュータを利用して精度の高い
縫製模様データを短時間で作成する縫製データ処理装置
が提供されている。その縫製データ処理装置は、例えば
汎用のパーソナルコンピュータシステムに、イメージス
キャナ、キーボード、マウス、ハードディスクドライ
ブ、CRTディスプレイ等を接続して構成されており、
任意の刺繍図柄の原画から、多色縫いの縫製模様データ
を作成することができるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of industrial sewing machines, for example, there has been provided a sewing data processing apparatus which utilizes a microcomputer to create highly accurate sewing pattern data in a short time. The sewing data processing device is configured by connecting an image scanner, a keyboard, a mouse, a hard disk drive, a CRT display, etc. to a general-purpose personal computer system, for example.
It is possible to create sewing pattern data for multicolor sewing from an original image of an arbitrary embroidery pattern.

【0003】ところで近年では、需要者の嗜好の多様
化、高級化、刺繍ミシンの性能の向上などの事情を背景
にして、家庭用の刺繍ミシンであっても、あらかじめ記
憶されている縫製模様データに基づく図柄の刺繍だけで
なく、需要者の要望に応じて刺繍模様の編集(例えば、
拡大縮小、回転または模様間隔若しくは配列の変更な
ど)を可能とする、比較的安価で操作の容易な縫製デー
タ処理装置が要望されている。
By the way, in recent years, even in the case of a domestic embroidery sewing machine, the sewing pattern data stored in advance is stored against the backdrop of the circumstances such as the diversification of tastes of consumers, the higher quality, and the improvement of the performance of the embroidery sewing machine. Not only the embroidery of the design based on, but also the editing of the embroidery pattern according to the demand of the user (for example,
There is a demand for a sewing data processing device which is relatively inexpensive and easy to operate, which enables enlargement / reduction, rotation, or change of pattern spacing or arrangement.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の縫製デ
ータ処理装置では、ディスプレイに表示された刺繍模様
を編集する場合、編集後の刺繍模様が縫製可能領域を逸
脱してしまうにも拘らず、そのまま編集後の刺繍模様を
ディスプレイに表示させており、なんら対応処置がなさ
れていなかった。このため、作業者は、編集後の刺繍模
様が縫製可能領域内に収まるように再度編集作業をやり
直さなければならず、非常に煩雑であった。特に、複雑
な刺繍模様の編集をやり直す場合は問題であった。
However, in the conventional sewing data processing apparatus, when the embroidery pattern displayed on the display is edited, the edited embroidery pattern deviates from the sewable area. The edited embroidery pattern was displayed on the display as it was, and no corresponding measures were taken. Therefore, the operator has to perform the editing work again so that the edited embroidery pattern fits within the sewable area, which is very complicated. In particular, this is a problem when redistributing a complicated embroidery pattern.

【0005】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
であり、編集後の刺繍模様が縫製可能領域内に収容され
るか否かを判定可能な縫製データ処理装置を提供するこ
とを課題とする。
The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide a sewing data processing device capable of determining whether or not the edited embroidery pattern is accommodated in the sewable area. And

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、縫製データ処理装置におい
て、縫製模様の形状に対応する縫製模様データに基づ
き、縫製模様を選択する選択手段と、当該選択された縫
製模様が、縫製可能領域内に収容されるか否かを判定す
るための判定手段と、前記選択された縫製模様が縫製可
能領域内に収容されないと判定された場合に、前記選択
された縫製模様が縫製可能領域内に収容可能な他の配置
状態を検出するための検出手段と、を備えているように
構成する。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is a sewing data processing device, in which a sewing pattern is selected based on sewing pattern data corresponding to the shape of the sewing pattern. Means, determining means for determining whether or not the selected sewing pattern is accommodated in the sewable area, and when it is determined that the selected sewing pattern is not accommodated in the sewable area And a detection unit for detecting another arrangement state in which the selected sewing pattern can be accommodated in the sewable area.

【0007】上記のように構成された縫製データ処理装
置によれば、選択手段によって、縫製模様の形状に対応
する縫製模様データに基づき縫製模様が選択され、判定
手段によって、当該選択された縫製模様が、縫製可能領
域内に収容されるか否かが判定される。そして、前記選
択された縫製模様が縫製可能領域内に収容されないと判
定された場合には、検出手段によって、前記選択された
縫製模様が縫製可能領域内に収容可能な他の配置状態が
検出される。
According to the sewing data processing apparatus constructed as described above, the selecting means selects the sewing pattern based on the sewing pattern data corresponding to the shape of the sewing pattern, and the judging means selects the selected sewing pattern. However, it is determined whether or not it is accommodated in the sewable area. When it is determined that the selected sewing pattern is not accommodated in the sewable area, the detecting unit detects another arrangement state in which the selected sewing pattern can be accommodated in the sewable area. It

【0008】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の縫製データ処理装置において、前記検出手段によっ
て検出された前記他の配置状態への変更内容を報知する
ための第1報知手段を更に備えているように構成する。
According to a second aspect of the present invention, in the sewing data processing apparatus according to the first aspect, there is provided first notifying means for notifying the contents of the change to the other arrangement state detected by the detecting means. Further, it is configured to be provided.

【0009】上記のように構成された縫製データ処理装
置によれば、第1報知手段によって、前記検出手段によ
って検出された前記他の配置状態への変更内容が報知さ
れる。
According to the sewing data processing apparatus configured as described above, the first notifying means notifies the change content to the other arrangement state detected by the detecting means.

【0010】また、請求項3記載の発明は、請求項1ま
たは2記載の縫製データ処理装置において、前記検出手
段が縫製可能領域内に収容可能な他の配置状態を検出不
可能な場合に、他の配置状態を検出不可能であることを
報知するための第2報知手段を更に備えているように構
成する。
According to a third aspect of the present invention, in the sewing data processing apparatus according to the first or second aspect, when the detecting means cannot detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area, It is configured to further include second notifying means for notifying that it is not possible to detect another arrangement state.

【0011】上記のように構成された縫製データ処理装
置によれば、前記検出手段が縫製可能領域内に収容可能
な他の配置状態を検出不可能な場合に、第2報知手段に
よって、他の配置状態が検出不可能であることが報知さ
れる。
According to the sewing data processing apparatus configured as described above, when the detecting means cannot detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area, the second notifying means causes another It is notified that the arrangement state cannot be detected.

【0012】また、請求項4記載の発明は、請求項1乃
至3のいづれか一項に記載の縫製データ処理装置におい
て、前記検出手段が縫製可能領域内に収容可能な他の配
置状態を検出不可能な場合に、前記縫製模様の選択を無
効にするための選択無効手段を更に備えているように構
成される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the sewing data processing apparatus according to any one of the first to third aspects, the detecting means does not detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area. When possible, it is configured to further include selection invalidating means for invalidating the selection of the sewing pattern.

【0013】上記のように構成された縫製データ処理装
置によれば、前記検出手段が縫製可能領域内に収容可能
な他の配置状態を検出不可能な場合に、選択無効手段に
よって、前記縫製模様の選択が無効にされる。
According to the sewing data processing apparatus configured as described above, when the detecting means cannot detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area, the sewing pattern is sewn by the selection invalidating means. Selection is disabled.

【0014】また、請求項5記載の発明は、請求項1乃
至4のいづれか一項に記載の縫製データ処理装置におい
て、前記選択された縫製模様の縫製模様データを記憶す
るための記憶手段を更に備え、前記検出手段が縫製可能
領域内に収容可能な他の配置状態を検出できた場合に、
前記記憶手段が縫製模様データを当該他の状態における
縫製模様データによって更新するように構成される。
According to a fifth aspect of the present invention, in the sewing data processing device according to any one of the first to fourth aspects, a storage means for storing the sewing pattern data of the selected sewing pattern is further included. Provided, when the detection means can detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area,
The storage means is configured to update the sewing pattern data with the sewing pattern data in the other state.

【0015】上記のように構成された縫製データ処理装
置によれば、記憶手段によって、前記選択された縫製模
様の縫製模様データが記憶され、前記検出手段が縫製可
能領域内に収容可能な他の配置状態を検出できた場合
に、前記記憶手段が、縫製模様データを当該他の状態に
おける縫製模様データによって更新する。
According to the sewing data processing apparatus configured as described above, the storage means stores the sewing pattern data of the selected sewing pattern, and the detecting means stores another sewing pattern data in the sewable area. When the arrangement state can be detected, the storage unit updates the sewing pattern data with the sewing pattern data in the other state.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施の形
態を図面を参照して説明する。なお、以下の説明は、本
発明を家庭用刺繍ミシンに適用した場合について行な
う。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The following description will be made on the case where the present invention is applied to a domestic embroidery sewing machine.

【0017】まず、刺繍を行なうためのシステム全体に
ついて説明する。実際の刺繍作業は、まず刺繍データ処
理回路により刺繍データを作成し、次にその刺繍データ
に基づき刺繍ミシンが希望の図柄の刺繍を行うという手
順で行なわれる。
First, the entire system for performing embroidery will be described. The actual embroidery work is performed by the procedure in which the embroidery data processing circuit first creates embroidery data, and then the embroidery sewing machine embroiders a desired pattern based on the embroidery data.

【0018】図1に、家庭用刺繍ミシンの外形を示す。
刺繍ミシン20は、ミシンベッド上に配置され、加工布
22を保持する刺繍枠21を水平移動機構により装置固
有のX−Y座標系で示される所定位置に移動させつつ、
縫い針23による縫い動作を行なうことにより、加工布
22上に所定の図柄の刺繍を施す。刺繍ミシン20は、
外部記憶メモリを読み出すための装置であるフラッシュ
メモリ装置と、タッチパネル付き液晶画面25と、刺繍
データ処理装置と、制御装置とを備えて構成されてい
る。作業者が刺繍データを記憶した外部記憶メモリとし
てのフラッシュメモリ10をフラッシュメモリ挿入口2
4に挿入すると、記憶された刺繍データが読みだされ
る。刺繍データは通常、上記X−Y座標系における針落
ち点の位置を示す座標データを含んでいる。また、作業
者は、タッチパネルを用いて刺繍データの編集を行い、
編集された刺繍データが液晶画面に表示される。マイク
ロコンピュータ等から構成される制御装置は、刺繍デー
タ処理装置によって編集された刺繍データに基づいて刺
繍枠21の水平移動機構等を制御し、加工布22上に刺
繍を施す。ここでは、縫製用のデータに基づき、表示を
行うミシンについて説明しているが、表示用のデータ及
び刺繍用のデータ(針落ち位置を示すデータ)の2種類
のデータが予めミシン内部のROMまたは外部ROMカ
ードに記憶されているミシン、表示用のデータから刺繍
位置データを作成するタイプのミシン、共通したデータ
から表示用データ及び刺繍用データを作成するミシンに
ついても以下で説明する本発明の刺繍データ処理回路を
適用できる。
FIG. 1 shows the outer shape of a domestic embroidery sewing machine.
The embroidery sewing machine 20 is arranged on the sewing machine bed, and moves the embroidery frame 21 holding the work cloth 22 to a predetermined position indicated by the XY coordinate system unique to the apparatus by the horizontal movement mechanism.
By performing the sewing operation with the sewing needle 23, the work cloth 22 is embroidered with a predetermined pattern. Embroidery sewing machine 20
A flash memory device, which is a device for reading an external storage memory, a liquid crystal screen 25 with a touch panel, an embroidery data processing device, and a control device. A worker inserts a flash memory 10 as an external storage memory that stores embroidery data into the flash memory insertion port 2
4 is inserted, the stored embroidery data is read out. The embroidery data usually includes coordinate data indicating the position of the needle drop point in the XY coordinate system. In addition, the operator edits the embroidery data using the touch panel,
The edited embroidery data is displayed on the liquid crystal screen. The control device including a microcomputer controls the horizontal movement mechanism of the embroidery frame 21 based on the embroidery data edited by the embroidery data processing device, and embroiders the work cloth 22. Here, the sewing machine that performs display based on the sewing data is described. However, two types of data, that is, display data and embroidery data (data indicating the needle drop position), are stored in the sewing machine in advance in the ROM or The sewing machine stored in the external ROM card, the sewing machine of the type that creates the embroidery position data from the display data, and the sewing machine that creates the display data and the embroidery data from the common data will also be described below. A data processing circuit can be applied.

【0019】次に、刺繍データ処理回路の構成につい
て、図2を参照して説明する。刺繍データ処理回路は、
刺繍データ処理における種々の処理を行なうためのCP
U2、種々の処理プログラムやデータを記憶するROM
3、及び、刺繍模様及び刺繍枠を構成する図形の画像デ
ータ等の種々のデータを記憶するRAM4を有してい
る。後述する刺繍データ作成処理は、ROM3または外
部の記録媒体に記憶されたプログラムをCPU2が実行
することにより行なわれる。
Next, the structure of the embroidery data processing circuit will be described with reference to FIG. The embroidery data processing circuit
CP for performing various processing in embroidery data processing
U2, ROM for storing various processing programs and data
3, and a RAM 4 for storing various data such as image data of embroidery patterns and figures forming an embroidery frame. The embroidery data creation process described later is performed by the CPU 2 executing a program stored in the ROM 3 or an external recording medium.

【0020】さらに、刺繍データ処理回路は、フラッシ
ュメモリ装置5、インターフェイス6、及び入力部11
を有している。フラッシュメモリ10は、フラッシュメ
モリ装置5内に挿入され、作成された刺繍データがフラ
ッシュメモリ10内に記憶される。入力部11は、刺繍
ミシン20に配設された液晶画面上のタッチパネルによ
って構成され、後述する模様の選択及び配置の指示など
の入力に用いられる。タッチパネルから入力された指示
情報は、インターフェイス6を介してCPU2及びRA
M4に供給される。
Further, the embroidery data processing circuit includes a flash memory device 5, an interface 6, and an input section 11.
have. The flash memory 10 is inserted into the flash memory device 5, and the created embroidery data is stored in the flash memory 10. The input unit 11 is configured by a touch panel on a liquid crystal screen provided on the embroidery sewing machine 20, and is used for inputting a pattern selection and a layout instruction, which will be described later. Instruction information input from the touch panel is sent to the CPU 2 and RA via the interface 6.
M4.

【0021】さらに、刺繍データ処理回路は、刺繍図柄
の画像データや刺繍領域等を画面25に表示するための
液晶画面(LCD)7、及び、液晶画面7を制御するた
めの表示制御装置(LCDC)8、を備えている。ま
た、表示制御装置8には、画像記憶装置(VRAM)9
が接続され、モノクロのビットマップグラフィックス表
示が可能なように構成されている。
The embroidery data processing circuit further includes a liquid crystal screen (LCD) 7 for displaying image data of an embroidery pattern, an embroidery area, etc. on the screen 25, and a display control device (LCDC) for controlling the liquid crystal screen 7. ) 8. Further, the display control device 8 includes an image storage device (VRAM) 9
Are connected and configured to enable monochrome bitmap graphics display.

【0022】なお、上記の構成において、CPU2、R
OM3、RAM4、インターフェイス6及びタッチパネ
ル11が、選択手段に対応し、CPU2、ROM3及び
RAM4が、判定手段、検出手段、選択無効手段に対応
し、液晶画面7が第1及び第2報知手段に対応し、RA
M4またはフラッシュメモリ10が記憶手段に対応して
いる。
In the above structure, the CPU2, R
The OM3, the RAM4, the interface 6 and the touch panel 11 correspond to the selecting means, the CPU2, the ROM3 and the RAM4 correspond to the judging means, the detecting means and the selection invalidating means, and the liquid crystal screen 7 corresponds to the first and second notifying means. And RA
The M4 or the flash memory 10 corresponds to the storage means.

【0023】また、図3及び図4のフローチャートで、
ステップS10で選択手段が機能し、ステップS40,
S42及びS44で判定手段が機能し、ステップS50
で検出手段が機能し、ステップS52で第1報知手段が
機能し、ステップS62で第2報知手段が機能し、ステ
ップS64で選択無効手段が機能し、ステップS48及
びS58で記憶手段が機能する。
Further, in the flow charts of FIGS. 3 and 4,
In step S10, the selecting means operates, and in step S40,
The determination means functions in S42 and S44, and in step S50.
The detection means functions in step S52, the first notification means functions in step S52, the second notification means functions in step S62, the selection invalidating means functions in step S64, and the storage means functions in steps S48 and S58.

【0024】次に、図3乃至図9を参照して、本発明に
よる縫製データ処理回路の動作を説明する。図3は、刺
繍データの作成処理を示すフローチャートである。な
お、以下の処理では、図5乃至図9に示す画面表示を例
にとって説明する。ここで、図5は液晶画面に表示され
た模様種類選択画面の一例であり、図6は液晶画面に表
示された模様選択画面の一例であり、図7は選択された
模様を示す画面の一例であり、図8は、他の配置状態へ
の変更内容を報知するための画面の一例であり、図9は
液晶画面に表示されたレイアウト画面の一例である。
Next, the operation of the sewing data processing circuit according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a flowchart showing a process of creating embroidery data. In the following processing, the screen display shown in FIGS. 5 to 9 will be described as an example. Here, FIG. 5 is an example of the pattern type selection screen displayed on the liquid crystal screen, FIG. 6 is an example of the pattern selection screen displayed on the liquid crystal screen, and FIG. 7 is an example of the screen showing the selected pattern. FIG. 8 is an example of a screen for notifying the content of change to another arrangement state, and FIG. 9 is an example of a layout screen displayed on the liquid crystal screen.

【0025】まず、刺繍ミシン20の電源がオンされる
と(ステップS2)、図5に示す模様種類選択画面が液
晶画面25に表示される(ステップS4)。次に、刺繍
データ処理回路は、表示された模様種類選択画面の中か
ら1つの模様種類が選択されるまで待機状態となる(ス
テップS6)。ここでは、図5の模様種類101が選択
されたものとする。図5の模様種類101が選択される
と(ステップS6,YES)、図6に示す模様選択画面
が液晶画面25に表示される(ステップS8)。
First, when the power source of the embroidery sewing machine 20 is turned on (step S2), the pattern type selection screen shown in FIG. 5 is displayed on the liquid crystal screen 25 (step S4). Next, the embroidery data processing circuit is in a standby state until one pattern type is selected from the displayed pattern type selection screen (step S6). Here, it is assumed that the pattern type 101 in FIG. 5 is selected. When the pattern type 101 of FIG. 5 is selected (step S6, YES), the pattern selection screen shown in FIG. 6 is displayed on the liquid crystal screen 25 (step S8).

【0026】この時、「戻る」(戻るキー)が押される
と(ステップS9,YES)、模様種類選択画面(図
5)に再び戻り、上記ステップS4〜S9が繰り返され
る。一方、模様選択画面(図6)が表示されている時
に、表示された模様「a,b,c,…z」の中から刺繍模様を
選択することができる(ステップS10)。
At this time, when the "return" (return key) is pressed (step S9, YES), the screen returns to the pattern type selection screen (FIG. 5) again, and steps S4 to S9 are repeated. On the other hand, when the pattern selection screen (FIG. 6) is displayed, the embroidery pattern can be selected from the displayed patterns “a, b, c, ... Z” (step S10).

【0027】ここでは、文字列「DragonDrag
c」から成る模様が選択された場合について説明する。
以下で説明する縫製開始キー26(図1)及びレイアウ
トキーが押されていない場合(ステップS16,NO且
つステップS20,NO)には、順次ステップS10、
S12及びS14が繰り返される。すなわち、表示され
た模様「a,b,c,…z 」の中から順次1つの模様が選択さ
れ(ステップS10)、図7に示すように、選択された
模様が順次液晶画面25に表示され(ステップS1
2)、順次図4に示すサブルーチンが読み出される(ス
テップS14)。
Here, the character string "DragonDrag
A case where a pattern composed of "c" is selected will be described.
When the sewing start key 26 (FIG. 1) and the layout key described below are not pressed (step S16, NO and step S20, NO), step S10,
S12 and S14 are repeated. That is, one pattern is sequentially selected from the displayed patterns "a, b, c, ... Z" (step S10), and the selected patterns are sequentially displayed on the liquid crystal screen 25 as shown in FIG. (Step S1
2), the subroutine shown in FIG. 4 is sequentially read (step S14).

【0028】次に、図4を参照して、選択された刺繍模
様が縫製可能領域内に収容可能か否かの判定処理につい
て説明する。図4において、Wは選択された刺繍模様全
体の幅を示し、Hは選択された刺繍模様の高さの最大値
を示している。また、当該実施の形態において、縫製可
能領域は縦方向(高さ)180mm、横方向(幅)13
0mmの領域を有しているものとする。この縫製可能領
域は、ミシン前後方向がミシン左右方向より長い刺繍枠
21に基づき設定されている。
Next, with reference to FIG. 4, a process for determining whether or not the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area will be described. In FIG. 4, W indicates the width of the entire selected embroidery pattern, and H indicates the maximum height of the selected embroidery pattern. In the embodiment, the sewable area is 180 mm in the vertical direction (height) and 13 in the horizontal direction (width).
It is assumed to have an area of 0 mm. The sewable area is set based on the embroidery frame 21 in which the front-back direction of the sewing machine is longer than the left-right direction of the sewing machine.

【0029】図3のステップS14において図4のサブ
ルーチンが読み出されると、CPU2は、前回までに選
択された模様に、今回選択された模様を追加処理する
(ステップS40)。当該実施の形態では、図7に示す
ように各文字から成る刺繍模様が横方向に近接して配置
されるように追加処理されるものとする。次に、CPU
2は、選択された刺繍模様の最大外形を計算する(ステ
ップS42)。すなわち、 W=W+Wi(Wi:今回選択された模様の幅) を演算すると共に、H<Hi(Hi:今回選択された模
様の高さ)の時に H=Hi を演算する。つまり、幅Wについては、前回までに選択
された模様の幅Wに今回選択された模様の幅Wiを加算
し、高さの最大値Hについては、前回までに選択された
模様の高さの最大値Hよりも今回選択した模様の高さH
iの方が大きい場合にのみHの値をHiに更新する。
When the subroutine of FIG. 4 is read in step S14 of FIG. 3, the CPU 2 additionally processes the pattern selected this time to the pattern selected so far (step S40). In the embodiment, as shown in FIG. 7, it is assumed that the embroidery pattern made up of characters is additionally processed so as to be arranged laterally close to each other. Next, CPU
2 calculates the maximum outer shape of the selected embroidery pattern (step S42). That is, W = W + Wi (Wi: width of pattern selected this time) is calculated, and when H <Hi (Hi: height of pattern selected this time), H = Hi is calculated. That is, for the width W, the width Wi of the pattern selected this time is added to the width W of the pattern selected up to the previous time, and the maximum value H of the height is the width W of the pattern selected up to the previous time. The height H of the pattern selected this time rather than the maximum value H
The value of H is updated to Hi only when i is larger.

【0030】次に、CPU2は、 W>130mm または H>180mm であるか否かを判断する(ステップS44)。すなわ
ち、ステップS44において、CPU2は、選択された
刺繍模様が縫製可能領域内に収容されるか否かを判定す
る。W>130mmまたはH>180mmでない場合
(ステップS44,NO)には、選択された刺繍模様が
縫製可能領域内に収容可能であるため、今回選択された
模様を追加して表示し(ステップS46)選択された刺
繍模様の刺繍データをRAM4または外部記憶媒体に格
納し(ステップS48)図3のメインルーチンに戻る。
Next, the CPU 2 determines whether or not W> 130 mm or H> 180 mm (step S44). That is, in step S44, the CPU 2 determines whether or not the selected embroidery pattern is accommodated in the sewable area. When W> 130 mm or H> 180 mm is not satisfied (step S44, NO), the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area, and thus the pattern selected this time is additionally displayed (step S46). The embroidery data of the selected embroidery pattern is stored in the RAM 4 or the external storage medium (step S48), and the process returns to the main routine of FIG.

【0031】一方、W>130mmまたはH>180m
mの場合(ステップS44,YES)には、選択された
刺繍模様が縫製可能領域内に収容不可能であるため、 130mm<W≦180mm 且つ H≦130mm であるか否かを判断する(ステップS50)。すなわ
ち、ステップS50において、CPU2は、選択された
刺繍模様を90度回転させれば縫製可能領域内に収容で
きるか否かを判断する。130mm<W≦180mm且
つH≦130mmの場合(ステップS50,YES)に
は、選択された刺繍模様を90度回転させれば縫製可能
領域内に収容可能であるため、例えば図8に示すように
液晶画面25上に「模様が枠からはみ出します。
On the other hand, W> 130 mm or H> 180 m
In the case of m (step S44, YES), since the selected embroidery pattern cannot be accommodated in the sewable area, it is determined whether 130 mm <W ≦ 180 mm and H ≦ 130 mm (step S50). ). That is, in step S50, the CPU 2 determines whether or not the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area by rotating 90 degrees. In the case of 130 mm <W ≦ 180 mm and H ≦ 130 mm (step S50, YES), the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area by rotating it by 90 degrees, and as shown in FIG. 8, for example. On the LCD screen 25, "The pattern will stick out of the frame.

【0032】これ以上組み合わせるならば模様を回転し
てください。」と表示し、選択された刺繍模様が縫製可
能領域を逸脱する旨を警告すると共に、選択された模様
を90度回転させるためのキーである90度回転キーを
液晶画面25上に表示する(ステップS52)。このよ
うに構成することによって、どのキーを操作すれば選択
された刺繍模様を縫製可能領域内に収容させることがで
きるかを迅速且つ容易に見いだすことができる。次に、
CPU2は、90度回転キーが押されたか否かを判断し
(ステップS54)、90度回転キーが押された場合
(ステップS54,YES)には刺繍模様を90度回転
させ(ステップS56)、90度回転させられた状態に
おける刺繍模様の刺繍データをRAM4または外部記憶
媒体に格納して(ステップS58)図3のメインルーチ
ンに戻る。このように、縫製可能領域内に収容可能な選
択された刺繍模様の刺繍データを記憶しておくことによ
って、後に同一の刺繍模様を選択した場合に、縫製可能
領域内に収容可能な刺繍模様の刺繍データを迅速且つ容
易に読み出すことができる。また、90度回転キーが押
されない場合(ステップS54,NO)、CPU2は、
「確認」(確認キー)が押されたか否かを判断する(ス
テップS60)。確認キーが押された場合(ステップS
60,YES)には、刺繍模様を90度回転させずに図
3のメインルーチンに戻る。
If you want to combine more, please rotate the pattern. Is displayed to warn that the selected embroidery pattern deviates from the sewable area, and a 90-degree rotation key which is a key for rotating the selected pattern by 90 degrees is displayed on the liquid crystal screen 25 ( Step S52). With this configuration, it is possible to quickly and easily find out which key is operated to store the selected embroidery pattern in the sewable area. next,
The CPU 2 determines whether the 90-degree rotation key is pressed (step S54), and when the 90-degree rotation key is pressed (step S54, YES), the embroidery pattern is rotated 90 degrees (step S56). The embroidery data of the embroidery pattern rotated by 90 degrees is stored in the RAM 4 or the external storage medium (step S58), and the process returns to the main routine of FIG. By storing the embroidery data of the selected embroidery pattern that can be accommodated in the sewable area in this manner, when the same embroidery pattern is selected later, the embroidery pattern that can be accommodated in the sewable area is stored. The embroidery data can be read quickly and easily. If the 90-degree rotation key is not pressed (step S54, NO), the CPU 2
It is determined whether or not "confirm" (confirmation key) has been pressed (step S60). When the confirmation key is pressed (step S
If YES, the process returns to the main routine of FIG. 3 without rotating the embroidery pattern by 90 degrees.

【0033】一方、130mm<W≦180mm且つH
≦130mmでない場合(ステップS50,NO)に
は、90度回転させても縫製可能領域内に選択された刺
繍模様を収容させることができないため、その旨の警告
を画面に表示させる(ステップS62)と共に今回の模
様選択入力を無効にし(ステップS64)、図3のメイ
ンルーチンに戻る。このように警告画面を表示させると
共に、今回の模様選択入力を無効にすることによって、
縫製可能領域内に収容不可能な刺繍模様が誤って選択さ
れることを防止することができる。
On the other hand, 130 mm <W ≦ 180 mm and H
If it is not ≦ 130 mm (step S50, NO), the selected embroidery pattern cannot be accommodated in the sewable area even if it is rotated by 90 degrees, and a warning to that effect is displayed on the screen (step S62). At the same time, the pattern selection input this time is invalidated (step S64), and the process returns to the main routine of FIG. By displaying the warning screen in this way and invalidating the pattern selection input this time,
It is possible to prevent erroneous selection of an embroidery pattern that cannot be accommodated in the sewable area.

【0034】以上の説明では、本発明による選択された
刺繍模様が縫製可能領域内に収容可能か否かの判定処理
に関して、90度回転キーを一例にあげて説明したが、
他のキー例えば、選択された刺繍模様を縮小させるため
のキー、選択された刺繍模様の配列を変更若しくは変形
させるためのキー、選択された刺繍模様を所定角度回転
させるためのキーに関しても同様に本発明を適用するこ
とができる。
In the above description, the 90-degree rotation key is taken as an example for the process of determining whether or not the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area according to the present invention.
The same applies to other keys such as a key for reducing the selected embroidery pattern, a key for changing or changing the arrangement of the selected embroidery pattern, and a key for rotating the selected embroidery pattern by a predetermined angle. The present invention can be applied.

【0035】図4における判定処理の終了後、「レイア
ウト」(レイアウトキー)が押されると(ステップS2
0,YES)、図9に示すようなレイアウト画面が液晶
画面25上に表示される(ステップS22)。図9は、
ステップS54において90度回転キーが押された場合
を示しており、刺繍模様を90度回転させることによっ
て刺繍模様が縫製可能領域内に収容可能となっているこ
とが視覚的に確認できる。図9のレイアウト画面は、刺
繍ミシンの縫製可能領域103、選択された刺繍模様の
それぞれの大きさを示す矩形状の枠104、8個の矢印
キー105、リセットキー106、90度回転キー10
7及び完了キー108が表示されるものとする。なお、
矢印キー105は縫製可能領域103内で矢印の方向に
選択された刺繍模様(矩形状の枠104)を移動させる
ためのキーである。(当該実施の形態では、矢印キーを
1回押すことによって、選択された刺繍模様(矩形状の
枠104)を矢印方向に0.1mm移動させることがで
きるように構成する。)リセットキー106は編集され
た刺繍模様を編集前の状態に戻すためのキーであり、9
0度回転キー107は、前記90度回転キーと同様に、
選択された刺繍模様を当該刺繍模様の中心を回転軸とし
て90度回転させるためのキーである。完了キー108
については、後述する。
When the "layout" (layout key) is pressed after the determination process in FIG. 4 is completed (step S2).
0, YES), a layout screen as shown in FIG. 9 is displayed on the liquid crystal screen 25 (step S22). FIG.
This shows the case where the 90-degree rotation key is pressed in step S54, and it can be visually confirmed that the embroidery pattern can be accommodated in the sewable area by rotating the embroidery pattern by 90 degrees. The layout screen of FIG. 9 includes a sewable area 103 of the embroidery sewing machine, a rectangular frame 104 indicating the size of each selected embroidery pattern, eight arrow keys 105, a reset key 106, and a 90-degree rotation key 10.
7 and the completion key 108 are displayed. In addition,
The arrow key 105 is a key for moving the selected embroidery pattern (rectangular frame 104) in the sewable area 103 in the arrow direction. (In this embodiment, the arrow key is pressed once to move the selected embroidery pattern (rectangular frame 104) by 0.1 mm in the arrow direction.) The reset key 106 It is a key to return the edited embroidery pattern to the state before editing.
The 0 degree rotation key 107, like the 90 degree rotation key,
A key for rotating the selected embroidery pattern by 90 degrees about the center of the embroidery pattern as a rotation axis. Finish key 108
Will be described later.

【0036】なお、図9に示されているキー配置は、単
なる一例であって、例えば、選択された刺繍模様を左右
反転させるための左右反転キー、刺繍模様の配列を変更
するためのキー、刺繍模様の間隔を変更するためのキ
ー、刺繍模様の大きさを拡大縮小させるためのキーを設
け、縫製模様の配置状態を変更させることもできる。
The key arrangement shown in FIG. 9 is merely an example, and, for example, a horizontal inversion key for horizontally inverting the selected embroidery pattern, a key for changing the arrangement of the embroidery pattern, A key for changing the interval of the embroidery pattern and a key for enlarging / reducing the size of the embroidery pattern can be provided to change the arrangement state of the sewing pattern.

【0037】レイアウト画面上では、完了キー108が
押されるまで、上記キーによる刺繍模様の編集が可能で
ある(ステップS24,NO)。完了キー108が押さ
れると(ステップS24,YES)、図7に示す画面
(ステップS12)に戻る。この時、作業者が刺繍ミシ
ン本体に設けられた縫製開始キー26(図1)を押すと
(ステップS16,YES)選択された刺繍模様・配置
・大きさ等に基づき刺繍データが作成され、制御部の制
御の下で縫製が開始される(ステップS18)。
On the layout screen, the embroidery pattern can be edited with the above keys until the completion key 108 is pressed (step S24, NO). When the completion key 108 is pressed (step S24, YES), the screen returns to the screen (step S12) shown in FIG. At this time, when the worker presses the sewing start key 26 (FIG. 1) provided on the main body of the embroidery sewing machine (step S16, YES), embroidery data is created based on the selected embroidery pattern, arrangement, size, etc., and is controlled. Sewing is started under the control of the section (step S18).

【0038】なお、模様種類選択画面(図5)、模様選
択画面(図6)、変更内容を報知するための画面(図
8)及びレイアウト画面(図9)のそれぞれのデータ
は、2値のビットマップデータとして、刺繍ミシン20
内のROM3またはフロッピーディスク、フラッシュメ
モリ等の外部の記録媒体に記録されている。これらのデ
ータは、CPU2からの命令に従って必要に応じて読み
出され、液晶画面25上に表示される。
The data of the pattern type selection screen (FIG. 5), the pattern selection screen (FIG. 6), the screen for notifying the changed contents (FIG. 8) and the layout screen (FIG. 9) are binary data. As the bitmap data, the embroidery sewing machine 20
The data is recorded in the internal ROM 3 or an external recording medium such as a floppy disk or a flash memory. These data are read out as needed in accordance with an instruction from the CPU 2 and displayed on the liquid crystal screen 25.

【0039】本実施の形態は、縫製機構を有するミシン
を例にとって説明したが、縫製機構を有していないデー
タ作成装置に本発明を適用できることは勿論のことであ
る。
Although the present embodiment has been described by taking a sewing machine having a sewing mechanism as an example, it is needless to say that the present invention can be applied to a data creating apparatus having no sewing mechanism.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の縫
製データ処理装置によれば、選択された縫製模様が縫製
可能領域内に収容されないと判定された場合に、選択さ
れた縫製模様が縫製可能領域内に収容可能な他の配置状
態が検出されるので、迅速且つ容易に選択された刺繍模
様を縫製可能領域内に収容させることができる。
As described above, according to the sewing data processing apparatus of the first aspect, when it is determined that the selected sewing pattern is not accommodated in the sewable area, the selected sewing pattern is Since another arrangement state that can be accommodated in the sewable area is detected, the selected embroidery pattern can be accommodated in the sewable area quickly and easily.

【0041】また、請求項2記載の縫製データ処理装置
によれば、他の配置状態への変更内容が報知されるの
で、選択された刺繍模様を縫製可能領域内に収容させる
ための操作を迅速且つ容易に見いだすことができる。
Further, according to the sewing data processing apparatus of the second aspect, since the contents of the change to the other arrangement state are notified, the operation for accommodating the selected embroidery pattern in the sewable area is prompt. And it can be easily found.

【0042】また、請求項3記載の縫製データ処理装置
によれば、縫製可能領域内に収容可能な他の配置状態を
検出不可能な場合に、他の配置状態を検出不可能である
ことが報知されるので、選択された刺繍模様が縫製可能
領域内に収容不可能であることを迅速且つ容易に認識す
ることができる。
Further, according to the sewing data processing apparatus of the third aspect, when another arrangement state that can be accommodated in the sewable area cannot be detected, the other arrangement state cannot be detected. Since the notification is given, it is possible to quickly and easily recognize that the selected embroidery pattern cannot be accommodated in the sewable area.

【0043】また、請求項4記載の縫製データ処理装置
によれば、縫製可能領域内に収容可能な他の配置状態を
検出不可能な場合に、縫製模様の選択が無効にされるの
で、縫製可能領域内に収容不可能な刺繍模様が誤って選
択されることを防止することができる。
Further, according to the sewing data processing device of the fourth aspect, the selection of the sewing pattern is invalidated when another arrangement state that can be accommodated in the sewable area cannot be detected. It is possible to prevent erroneous selection of an embroidery pattern that cannot be accommodated in the possible area.

【0044】また、請求項5記載の縫製データ処理装置
によれば、縫製可能領域内に収容可能な他の配置状態を
検出された場合に、縫製模様データが当該他の状態にお
ける縫製模様データによって更新されるので、後に同一
の刺繍模様を選択した場合に、迅速且つ容易に縫製可能
領域内に収容可能な刺繍模様の状態を読み出すことがで
きる。
Further, according to the sewing data processing device of the fifth aspect, when another arrangement state that can be accommodated in the sewable area is detected, the sewing pattern data is detected by the sewing pattern data in the other state. Since it is updated, when the same embroidery pattern is selected later, the state of the embroidery pattern that can be accommodated in the sewable area can be read out quickly and easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】家庭用刺繍ミシンの外観を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of a home embroidery sewing machine.

【図2】刺繍データ処理回路の内部構成を示すブロック
図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an internal configuration of an embroidery data processing circuit.

【図3】刺繍データの作成処理を示すフローチャートで
ある。
FIG. 3 is a flowchart showing a process of creating embroidery data.

【図4】回転後の刺繍模様が縫製可能領域内に収容され
るか否かの判定処理を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a process of determining whether or not a rotated embroidery pattern is accommodated in a sewable area.

【図5】液晶画面に表示された模様種類選択画面の一例
である。
FIG. 5 is an example of a pattern type selection screen displayed on a liquid crystal screen.

【図6】液晶画面に表示された模様選択画面の一例であ
る。
FIG. 6 is an example of a pattern selection screen displayed on a liquid crystal screen.

【図7】液晶画面に表示された選択された模様を示す画
面の一例である。
FIG. 7 is an example of a screen showing a selected pattern displayed on the liquid crystal screen.

【図8】他の配置状態への変更内容を報知するための画
面の一例である。
FIG. 8 is an example of a screen for notifying the contents of change to another arrangement state.

【図9】液晶画面に表示されたレイアウト画面の一例で
ある。
FIG. 9 is an example of a layout screen displayed on a liquid crystal screen.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…CPU 3…ROM 4…RAM 5…フラッシュメモリ装置 7…液晶ディスプレイ 10…フラッシュメモリ 20…家庭用ミシン 2 ... CPU 3 ... ROM 4 ... RAM 5 ... Flash memory device 7 ... Liquid crystal display 10 ... Flash memory 20 ... Home sewing machine

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 縫製模様の形状に対応する縫製模様デー
タに基づき、縫製模様を選択する選択手段と、 当該選択された縫製模様が、縫製可能領域内に収容され
るか否かを判定するための判定手段と、 前記選択された縫製模様が縫製可能領域内に収容されな
いと判定された場合に、前記選択された縫製模様が縫製
可能領域内に収容可能な他の配置状態を検出するための
検出手段と、 を備えていることを特徴とする縫製データ処理装置。
1. A selection means for selecting a sewing pattern based on sewing pattern data corresponding to the shape of the sewing pattern, and determining whether or not the selected sewing pattern is accommodated in a sewable area. For determining another arrangement state in which the selected sewing pattern can be accommodated in the sewable area when it is determined that the selected sewing pattern is not accommodated in the sewable area. A sewing data processing device comprising: a detecting unit.
【請求項2】 前記検出手段によって検出された前記他
の配置状態への変更内容を報知するための第1報知手段
を更に備えていることを特徴とする請求項1に記載の縫
製データ処理装置。
2. The sewing data processing apparatus according to claim 1, further comprising a first notifying unit for notifying a change content to the other arrangement state detected by the detecting unit. .
【請求項3】 前記検出手段が縫製可能領域内に収容可
能な他の配置状態を検出不可能な場合に、他の配置状態
を検出不可能であることを報知するための第2報知手段
を更に備えていることを特徴とする請求項1または2に
記載の縫製データ処理装置。
3. A second notifying unit for notifying that the other arrangement state cannot be detected when the detection unit cannot detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area. The sewing data processing device according to claim 1 or 2, further comprising:
【請求項4】 前記検出手段が縫製可能領域内に収容可
能な他の配置状態を検出不可能な場合に、前記縫製模様
の選択を無効にするための選択無効手段を更に備えてい
ることを特徴とする請求項1乃至3のいづれか一項に記
載の縫製データ処理装置。
4. A selection invalidating means for invalidating the selection of the sewing pattern when the detecting means cannot detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area. The sewing data processing device according to any one of claims 1 to 3, which is characterized in that.
【請求項5】 前記選択された縫製模様の縫製模様デー
タを記憶するための記憶手段を更に備え、 前記検出手段が縫製可能領域内に収容可能な他の配置状
態を検出できた場合に、前記記憶手段が縫製模様データ
を当該他の状態における縫製模様データによって更新す
ることを特徴とする請求項1乃至4のいづれか一項に記
載の縫製データ処理装置。
5. A storage means for storing sewing pattern data of the selected sewing pattern is further provided, and when the detection means can detect another arrangement state that can be accommodated in the sewable area, 5. The sewing data processing device according to claim 1, wherein the storage unit updates the sewing pattern data with the sewing pattern data in the other state.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006043038A (en) * 2004-08-03 2006-02-16 Brother Ind Ltd Sewing machine
JP2010136822A (en) * 2008-12-10 2010-06-24 Brother Ind Ltd System, device and program for providing embroidery data and sewing machine

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006043038A (en) * 2004-08-03 2006-02-16 Brother Ind Ltd Sewing machine
JP2010136822A (en) * 2008-12-10 2010-06-24 Brother Ind Ltd System, device and program for providing embroidery data and sewing machine
US8276531B2 (en) 2008-12-10 2012-10-02 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Embroidery data providing apparatus, computer-readable medium storing embroidery data providing program, and embroidery data providing system

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