JPH09188873A - Antistatic agent - Google Patents

Antistatic agent

Info

Publication number
JPH09188873A
JPH09188873A JP290096A JP290096A JPH09188873A JP H09188873 A JPH09188873 A JP H09188873A JP 290096 A JP290096 A JP 290096A JP 290096 A JP290096 A JP 290096A JP H09188873 A JPH09188873 A JP H09188873A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular weight
antistatic agent
salt
polymer
average molecular
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP290096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhisa Yoshida
和久 吉田
Kenji Date
健次 伊達
Shigeo Kiuchi
茂夫 木内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lion Corp filed Critical Lion Corp
Priority to JP290096A priority Critical patent/JPH09188873A/en
Publication of JPH09188873A publication Critical patent/JPH09188873A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antistatic agent which develops good antistatic properties even when added in a small amount and has good resistance to water washing by using a salt of a specified sulfonated styrene polymer with an organic base. SOLUTION: A sulfonating agent is introduced into a solution prepared by dissolving 100 pts.wt. styrene polymer having a weight-average molecular weight of 1,000-50,000 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 2.0-2.8, 0.1-10 pts.wt. ether compound and/or carbonyl compound in a halohydrocarbon solvent to sulfonate the styrene polymer, and the reaction mixture is neutralized to obtain a sulfonated styrene polymer having a weight-average molecular weight of 3,000-300,000 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 2.0-2.8. This polymer is reacted with an organic base comprising tert. and/or quat. amines each of which has a 6C or higher hydrocarbon group to form a product which has a degree of sulfonation of 30% or above and in which 70-100% of the sulfonic groups of the polymer are in the form of a salt.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止剤、特に
プラスチック用の練り込み型帯電防止剤として優れた耐
水洗性を有する帯電防止剤に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an antistatic agent, and more particularly to an antistatic agent having excellent water wash resistance as a kneading type antistatic agent for plastics.

【従来の技術】プラスチック材料は、その優れた特性に
よって広い分野で使用されているが、電気絶縁性である
ため静電気帯電しやすく、この結果成型品に埃が付着し
て外観を損ねたり、また電気・電子機器等のケースや部
品に使用した場合には、放電により機器の誤動作やIC
の破壊等の原因ともなる。このためプラスチックの帯電
防止性を高める研究が盛んに進められている。プラスチ
ックに帯電防止性を付与するためには、界面活性剤型の
帯電防止剤を添加する方法が一般的であるが、この場
合、成形後の短期的な帯電防止性には優れるものの、長
期的な帯電防止性の持続が難しく、特に水洗後には急激
に性能が低下するという問題がある。また、持続性を持
たせるために、プラスチックにカーボン繊維やカーボン
ブラック等の導電性無機物質を練り込む方法も実用化さ
れているが、色調が黒色に限定されるという問題があ
る。一方、最近では、導電性ポリマーとのポリマーアロ
イによる方法で持続性のある帯電防止効果を持たせる方
法が開示されている。例えば、特開昭61−18555
7号公報、特開昭62−25164号公報及び特開昭6
4−1748号公報等にエピクロルヒドリンゴムのよう
なエピハロヒドリン系ポリマーを添加する方法が、ま
た、特開昭58−118836号公報にはポリエーテル
エステルアミドを添加する方法が開示されている。しか
し、これ等の方法では導電性ポリマーを対象とするプラ
スチックに多量に添加しなければ十分な帯電防止性を発
現できず、プラスチックの機械的物性を低下させてしま
うという問題がある。尚、比較的添加量が少なくてすむ
技術として、特開昭48−65237号公報には、ポリ
スチレンスルホン酸の第3級アミン塩をプラスチックに
添加する方法が開示されているが、この方法では水洗後
の帯電防止性がある程度保持されるものの、効果が未だ
十分ではない。
2. Description of the Related Art Plastic materials have been used in a wide range of fields due to their excellent properties, but because they are electrically insulating, they are apt to be electrostatically charged, and as a result, dust adheres to the molded product and damages its appearance. When used in cases or parts of electric / electronic equipment, malfunction or IC of equipment due to discharge
It also causes the destruction of the. For this reason, studies for improving the antistatic property of plastics have been actively pursued. In order to impart antistatic properties to plastics, a method of adding a surfactant type antistatic agent is generally used. In this case, although the short-term antistatic property after molding is excellent, long-term It is difficult to maintain the antistatic property, and there is a problem that the performance sharply deteriorates especially after washing with water. In addition, a method of kneading a conductive inorganic substance such as carbon fiber or carbon black into a plastic in order to provide sustainability has been put into practical use, but there is a problem that the color tone is limited to black. On the other hand, recently, a method of imparting a durable antistatic effect by a method using a polymer alloy with a conductive polymer has been disclosed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-18555
No. 7, JP-A-62-25164, and JP-A-SHO-6
A method of adding an epihalohydrin-based polymer such as epichlorohydrin rubber is disclosed in JP-A-4-1748, and a method of adding a polyether ester amide is disclosed in JP-A-58-118836. However, these methods have a problem that unless the conductive polymer is added in a large amount to the target plastic, sufficient antistatic properties cannot be exhibited and the mechanical properties of the plastic are deteriorated. As a technique that requires a relatively small amount of addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-65237 discloses a method of adding a tertiary amine salt of polystyrenesulfonic acid to a plastic. Although the antistatic property afterwards is maintained to some extent, the effect is not yet sufficient.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、添加量が少
なくても良好な帯電防止性を発現し、かつ耐水洗性の良
好な帯電防止剤を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an antistatic agent that exhibits good antistatic properties even when it is added in a small amount, and that has good washing resistance with water.

【課題を解決するための手段】本発明は、特定の重量平
均分子量を有するスチレン系重合体スルホン化物(又は
かつ分子量分布がシャープな)スチレン系重合体スルホ
ン化物と特定の有機塩基との塩を用いると上記課題を解
決できるとの知見に基づいてなされたのである。すなわ
ち、本発明は、重量平均分子量3,000〜300,0
00のスチレン系重合体スルホン化物と有機塩基との塩
とを含有することを特徴とする帯電防止剤を提供する。
The present invention provides a salt of a styrene-based polymer sulfonate having a specific weight average molecular weight (or a sharp molecular weight distribution) and a specific organic base. This was done based on the finding that the above problems can be solved by using them. That is, the present invention has a weight average molecular weight of 3,000 to 300,0.
An antistatic agent comprising a sulfonated styrene polymer of No. 00 and a salt of an organic base.

【0003】[0003]

【発明の属する技術分野】本発明の帯電防止剤は、重量
平均分子量2,000〜100,000である(好まし
くは、さらにかつ分子量分布(Mw/Mn)が2.0〜2.
8である)スチレン系重合体スルホン化物と有機塩基と
を反応させるか、または該スルホン化物のアルカリ金属
或いはアルカリ土類金属塩と、該金属と不溶性の塩を形
成する対イオンを持つ有機塩基とイオン交換することに
より製造することができる。上記のスチレン系重合体ス
ルホン化物或いはアルカリ(土類)金属塩は、例えば特
願平6−166633号明細書に開示の方法で、重量平
均分子量が1,000〜50,000(好ましくは分子
量分布(Mw/Mn)が2.0〜2.8)であるスチレン系
重合体を、スチレン系重合体100重量部当たり0.1〜
10重量部のエーテル化合物及び/又はカルボニル基含
有化合物とともに溶解してなるハロゲン化炭化水素溶媒
に、スルホン化剤を導入してスチレン系重合体をスルホ
ン化剤と反応させることによって、またアルカリ金属或
いはアルカリ土類金属水酸化物により中和することによ
り製造することができる。特願平6−166633号明
細書の開示内容は、本明細書に含まれるものとする。
TECHNICAL FIELD The antistatic agent of the present invention has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000 (preferably, the molecular weight distribution (Mw / Mn) is 2.0 to 2.0).
8) a styrene polymer sulfonate and an organic base are reacted, or an alkali metal or alkaline earth metal salt of the sulfonate and an organic base having a counter ion which forms an insoluble salt with the metal. It can be produced by ion exchange. The above-mentioned sulfonated styrene polymer or alkali (earth) metal salt has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 (preferably a molecular weight distribution) according to the method disclosed in Japanese Patent Application No. 6-166633. The styrene-based polymer having a (Mw / Mn) of 2.0 to 2.8) is added to the styrene-based polymer in an amount of 0.1 to 100 parts by weight.
By introducing a sulfonating agent into a halogenated hydrocarbon solvent which is dissolved together with 10 parts by weight of an ether compound and / or a carbonyl group-containing compound and reacting the styrenic polymer with the sulfonating agent, alkali metal or It can be produced by neutralizing with an alkaline earth metal hydroxide. The disclosure of Japanese Patent Application No. 6-166633 is included in the present specification.

【0004】ここで使用するスチレン系重合体として
は、ポリスチレンだけでなく、ポリαメチルスチレン、
スチレンーαメチルスチレン共重合体、スチレンアクリ
ル系共重合体等を使用することができる。本発明の帯電
防止剤の分子量が3,000未満であると、帯電防止剤
の耐水洗性が低下し、また300,000より大きいと
粘度が高くなり低添加量で帯電防止効果を発現しにくく
なる。さらに、帯電防止剤自体の製造時の作業性や収率
が低下する。分子量は4,000〜250,000が好
ましく、さらに好ましくは、5,000〜200,00
0である。
As the styrene polymer used here, not only polystyrene but also poly-α-methylstyrene,
A styrene-α-methylstyrene copolymer, a styrene acrylic copolymer, or the like can be used. If the molecular weight of the antistatic agent of the present invention is less than 3,000, the water resistance of the antistatic agent decreases, and if it is more than 300,000, the viscosity becomes high and the antistatic effect is difficult to be exhibited at a low addition amount. Become. Furthermore, the workability and the yield at the time of manufacturing the antistatic agent itself are reduced. The molecular weight is preferably 4,000 to 250,000, more preferably 5,000 to 200,000.
0.

【0005】本発明の帯電防止剤であるスチレン系重合
体のスルホン化率は30%以上であるのがよい。スルホ
ン化率は40%〜100%が好ましく、特に好ましくは
50〜95%である。本発明の帯電防止剤は、重合体中
のスルホン基の70%〜100%が有機塩基との塩を形
成していることが望ましい。本発明の帯電防止剤におい
て、スチレン系重合体スルホン化物と塩を形成する有機
塩基としては、種々の有機塩基を用いることができる
が、炭素数6以上の炭化水素基を有する第3級アミンが
好ましく、より好ましくは一般式(I)で示される第3
級アミンがあげられる。
The sulfonation rate of the styrene polymer which is the antistatic agent of the present invention is preferably 30% or more. The sulfonation rate is preferably 40% to 100%, particularly preferably 50 to 95%. In the antistatic agent of the present invention, it is desirable that 70% to 100% of the sulfone groups in the polymer form a salt with an organic base. In the antistatic agent of the present invention, various organic bases can be used as the organic base that forms a salt with the sulfonated styrene polymer, but a tertiary amine having a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms is used. Preferably, more preferably the third compound represented by the general formula (I)
Examples include primary amines.

【0006】[0006]

【化1】 R1 N(R2 )R3 (I) (式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ同一または異種
の飽和または不飽和の炭化水素基であり、R1 、R2
びR3 のうちの少なくとも一つが炭素数6以上の炭化水
素基である。R1 、R2 は相互に連結して窒素原子と共
に複素環を形成してもよく、この場合は、R1 とR2
連結した基またはR3 の少なくとも一つが炭素数6以上
の炭化水素基である。) R1 、R2 及びR3 で示される飽和または不飽和炭化水
素基としては、炭素数1〜22のアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基、シ
クロアルキル基等が挙げられる。置換基の導入された飽
和または不飽和の炭化水素基としては、炭素数1〜22
のN−アシルアミノアルキル基、アシロキシアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基にア
ルキレンオキサイドを付加した基等が挙げられる。
1 、R2 及びR3 の少なくとも一つが炭素数6以上の
炭化水素基であることが必須であり、炭素数8〜22の
ものが好ましい。又、炭素数6以上の炭化水素基を有す
る第4級アンモニウム塩も好ましく、このうち一般式
(II)で示される第4級アンモニウム塩が好ましい。
Embedded image R 1 N (R 2 ) R 3 (I) (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same or different saturated or unsaturated hydrocarbon groups, and R 1 , R 2 And at least one of R 3 is a hydrocarbon group having a carbon number of 6 or more, and R 1 and R 2 may be connected to each other to form a heterocycle with a nitrogen atom, and in this case, R 1 and At least one of the groups to which R 2 is linked or R 3 is a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms.) The saturated or unsaturated hydrocarbon group represented by R 1 , R 2 and R 3 has 1 to 1 carbon atoms. 22 alkyl groups, alkenyl groups, phenyl groups, substituted phenyl groups, aralkyl groups, cycloalkyl groups and the like. The saturated or unsaturated hydrocarbon group having a substituent introduced therein has 1 to 22 carbon atoms.
The N-acylaminoalkyl group, the acyloxyalkyl group, the hydroxyalkyl group, the group in which an alkylene oxide is added to the hydroxyalkyl group, and the like can be mentioned.
It is essential that at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and one having 8 to 22 carbon atoms is preferable. Further, a quaternary ammonium salt having a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms is also preferable, and among these, the quaternary ammonium salt represented by the general formula (II) is preferable.

【0007】[0007]

【化2】 R4 + (R5 )(R6 )R7 ・X- [Image Omitted] R 4 N + (R 5 ) (R 6 ) R 7 · X

【0008】(式中、R4 、R5 、R6 及びR7 は、そ
れぞれ同一または異種の飽和または不飽和の炭化水素基
または置換炭化水素基を示し、R4 、R5 、R6 及びR
7 のうち少なくとも一つが炭素数6以上の炭化水素基を
含む。R4 とR5 は相互に連結して窒素原子と共に複素
環を形成してもよく、この場合は、R4 とR5 が連結し
た基またはR6 及びR7 の少なくとも一つが炭素数6以
上の炭化水素基である。Xはハロゲン原子、NO3 、1
/2(SO4)等のアニオンである。)。R4 、R5 、R
6 及びR7 は、非置換または置換基の導入された飽和ま
たは不飽和炭化水素基である。非置換炭化水素基として
は、炭素数1〜22のアルキル基、アルケニル基、フェ
ニル基、シクロアルキル基等が挙げられる。置換基の導
入された炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換フ
ェニル基、アラルキル基、N−アシルアミノアルキル
基、アシロキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基にアルキレンオキサイドを付加した
基等が挙げられる。
[0008] (wherein, R 4, R 5, R 6 and R 7 are each a hydrocarbon group or substituted hydrocarbon group, saturated or unsaturated identical or different, R 4, R 5, R 6 and R
At least one of 7 contains a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms. R 4 and R 5 may be linked to each other to form a heterocycle together with a nitrogen atom. In this case, a group in which R 4 and R 5 are linked or at least one of R 6 and R 7 has 6 or more carbon atoms. Is a hydrocarbon group. X is a halogen atom, NO 3 , 1
It is an anion such as / 2 (SO 4 ). ). R 4 , R 5 , R
6 and R 7 are unsubstituted or substituted saturated or unsaturated hydrocarbon groups. Examples of the unsubstituted hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, an alkenyl group, a phenyl group and a cycloalkyl group. As the hydrocarbon group having a substituent introduced, an alkylene oxide is added to a substituted phenyl group having 1 to 22 carbon atoms, an aralkyl group, an N-acylaminoalkyl group, an acyloxyalkyl group, a hydroxyalkyl group or a hydroxyalkyl group. Groups and the like.

【0009】R4 、R5 、R6 及びR7 の少なくとも一
つが炭素数6以上の炭化水素基であることが必須であ
り、炭素数8〜22のものが特に好ましい。残り3個の
炭化水素基の炭素数は特に限定されない。本発明の帯電
防止剤は、各種広範囲のプラスチックに適用して帯電防
止性を発現させることができる。プラスチックの種類と
しては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アク
リル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、AS樹脂、MS樹脂、塩化ビニル樹脂、ABS樹
脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等を例示
するとができる。本発明の帯電防止剤は上記プラスチッ
ク100重量部に対し、0.1〜15重量部、好ましくは
0.3〜12重量部、特に好ましくは0.5〜10重量部添
加するのが適当である。
It is essential that at least one of R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and one having 8 to 22 carbon atoms is particularly preferable. The carbon number of the remaining three hydrocarbon groups is not particularly limited. The antistatic agent of the present invention can be applied to a wide variety of plastics to exhibit antistatic properties. Examples of plastics include polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyacrylonitrile resin, AS resin, MS resin, vinyl chloride resin, ABS resin, polyethylene terephthalate, polyamide, polycarbonate resin, and polyphenylene ether resin. You can The antistatic agent of the present invention is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the above plastic.
It is suitable to add 0.3 to 12 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 10 parts by weight.

【0010】本発明の帯電防止剤を各種プラスチックに
添加する際には、必要に応じて高級アルコール、脂肪酸
アマイド、脂肪酸金属石鹸等の滑剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、シリコン誘導体、ブロッキング防止剤、着色
剤、充填剤、その他の添加剤等を併用することができ
る。本発明の帯電防止剤をプラスチックに添加する際に
は、粉末状、ワックス状、ペースト状の該帯電防止剤を
ペレットまたは粉末状のプラスチックとヘンシェルミキ
サー等で均一に混合して、或いは、一旦押し出し機にて
帯電防止剤添加コンパウンドを調製した後、各種成形機
に供給して加工することができる。また、該帯電防止剤
を高濃度に添加したマスターバッチに加工し、これを希
釈して使用することも可能である。本発明の帯電防止剤
を添加したプラスチックは、未添加のプラスチックと同
様にプレス成形、射出成形、押出成形、ブロー成形、カ
レンダー成形等を行い、シートフィルムを始め種々の形
状の成型品にすることができる。
When the antistatic agent of the present invention is added to various plastics, lubricants such as higher alcohols, fatty acid amides and fatty acid metal soaps, antioxidants, ultraviolet absorbers, silicon derivatives, antiblocking agents are added as required. , A colorant, a filler, and other additives can be used in combination. When the antistatic agent of the present invention is added to plastic, the antistatic agent in the form of powder, wax or paste is uniformly mixed with pellets or powdery plastic in a Henschel mixer or extruded once. After the compound containing the antistatic agent is prepared by a machine, the compound can be supplied to various molding machines for processing. It is also possible to process the masterbatch containing the antistatic agent in a high concentration and dilute the masterbatch for use. The plastics to which the antistatic agent of the present invention has been added are subjected to press molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, calender molding, etc. in the same manner as unadded plastics to form sheet films and various shaped articles. You can

【0011】[0011]

【発明の効果】本発明の帯電防止剤は、各種プラスチッ
ク中に練り込むことにより、極めて速やかに帯電防止効
果を発現すると共に、その効果を広い温度、湿度範囲で
長時間持続し、かつ対水洗性に優れている。次に、実施
例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこ
れらの例によって何ら限定されるものではない。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The antistatic agent of the present invention, when kneaded into various plastics, exhibits an antistatic effect extremely quickly, maintains the effect in a wide temperature and humidity range for a long time, and is washed with water. It has excellent properties. Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【実施例】【Example】

製造例1 重量平均分子量5000(Mw/Mn=2.1)のポリス
チレン100重量部を1,2−ジクロロエタン400重
量部に溶解し、更にアセトン1.0重量部を添加して原料
溶液を調製した。この原料溶液をタービン型撹拌機付き
のスルホン化反応機にスルホン化剤であるSO3 ととも
に連続的に供給して45℃でスルホン化反応を行った。
この場合、供給速度は原料23.6g/min、SO3 4.
0g/min、SO3 /ポリスチレンのモル比は1.10
とし、また、反応機はジャケット付きで槽容量400m
lのものを使用した。得られたスルホン化物の一部を1
0%NaOHを用いて中和後、分離し、ポリスチレンス
ルホン酸Naを得た。得られたポリスチレンスルホン酸
Naの重量平均分子量は9200、Mw/Mnは2.2、
スルホン化率は88%であった。
Production Example 1 100 parts by weight of polystyrene having a weight average molecular weight of 5000 (Mw / Mn = 2.1) was dissolved in 400 parts by weight of 1,2-dichloroethane, and 1.0 part by weight of acetone was further added to prepare a raw material solution. . This raw material solution was continuously supplied to a sulfonation reactor equipped with a turbine-type stirrer together with SO 3 , which is a sulfonating agent, to perform a sulfonation reaction at 45 ° C.
In this case, the feed rate is 23.6 g / min of raw material and SO 3 4.
0 g / min, SO 3 / polystyrene molar ratio is 1.10
Also, the reactor is equipped with a jacket and the tank capacity is 400 m.
1 was used. 1 part of the obtained sulfonated product
After neutralization with 0% NaOH, separation was carried out to obtain Na polystyrene sulfonate. The obtained polystyrene sulfonate Na had a weight average molecular weight of 9200, Mw / Mn of 2.2,
The sulfonation rate was 88%.

【0012】このポリスチレンスルホン酸Naの10%
水溶液とオクタデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ドのIPA溶液とを撹拌下に混合後、濾別水洗ししてポ
リスチレンスルホン酸のオクタデシルトリメチルアンモ
ニウム塩(帯電防止剤A)を得た。なお、オクタデシル
トリメチルアンモニウムクロライドとポリスチレンスル
ホン酸Na中のスルホン基とは等モルとなるように反応
させた。帯電防止剤Aの分子量は24000、Mw/M
n=2.2であった。ついで残りのスルホン化物に対し、
スルホン化物中のスルホン基のモル数と同量のオクタデ
シルジメチルアミンを加え反応させて、ポリスチレンス
ルホン酸のオクタデシルジメチルアミン塩(帯電防止剤
B)を合成した。帯電防止剤Bの分子量は、2300
0、Mw/Mn=2.2であった。
10% of this polystyrene sulfonate Na
The aqueous solution and an IPA solution of octadecyltrimethylammonium chloride were mixed with stirring, then filtered and washed with water to obtain octadecyltrimethylammonium salt of polystyrenesulfonic acid (antistatic agent A). The octadecyltrimethylammonium chloride and the sulfone group in Na polystyrene sulfonate were reacted in equimolar amounts. The molecular weight of the antistatic agent A is 24,000, Mw / M
It was n = 2.2. Then, for the remaining sulfonates,
Octadecyldimethylamine in the same amount as the number of moles of sulfone groups in the sulfonated product was added and reacted to synthesize an octadecyldimethylamine salt of polystyrenesulfonic acid (antistatic agent B). The molecular weight of the antistatic agent B is 2300
0 and Mw / Mn = 2.2.

【0013】製造例2 重量平均分子量9000(Mw/Mn=2.1)のポリス
チレン100重量部を1,2−ジクロロエタン400重
量部に溶解し、更に安息香酸5.0重量部を添加して原料
溶液を調製した。この原料溶液を参考例1と同様にして
55℃でスルホン化反応を行い、得られたスルホン化物
の一部を10%NaOHを用いて中和後、分離し、ポリ
スチレンスルホン酸Naを得た。得られたポリスチレン
スルホン酸Naの重量平均分子量は20500、Mw/
Mnは2.8、スルホン化率は92%であった。このポリ
スチレンスルホン酸Naを使用し、製造例1と同様の方
法でポリスチレンスルホン酸のオクタデシルトリメチル
アンモニウム塩(帯電防止剤C)を得た。帯電防止剤C
の分子量は56000、Mw/Mn=2.8であった。ま
た残りのスルホン化物を使用し、製造例1と同様の方法
でポリスチレンスルホン酸のオクタデシルジメチルアミ
ン塩(帯電防止剤D)を合成した。帯電防止剤Dの分子
量は、53000、Mw/Mn=2.8であった。
Production Example 2 100 parts by weight of polystyrene having a weight average molecular weight of 9000 (Mw / Mn = 2.1) was dissolved in 400 parts by weight of 1,2-dichloroethane, and 5.0 parts by weight of benzoic acid was further added to prepare a raw material. A solution was prepared. This raw material solution was subjected to a sulfonation reaction at 55 ° C. in the same manner as in Reference Example 1, a part of the obtained sulfonated product was neutralized with 10% NaOH, and then separated to obtain Na polystyrene sulfonate. The weight average molecular weight of the obtained polystyrene sulfonate Na was 20,500 and Mw /
Mn was 2.8 and the sulfonation rate was 92%. Using this polystyrene sulfonate Na, a octadecyl trimethyl ammonium salt of polystyrene sulfonate (antistatic agent C) was obtained in the same manner as in Production Example 1. Antistatic agent C
Had a molecular weight of 56000 and Mw / Mn = 2.8. Using the remaining sulfonated product, an octadecyldimethylamine salt of polystyrenesulfonic acid (antistatic agent D) was synthesized in the same manner as in Production Example 1. The molecular weight of the antistatic agent D was 53,000 and Mw / Mn = 2.8.

【0014】製造例3 重量平均分子量5000(Mw/Mn=2.1)のポリス
チレンを使用し、アセトンを使用しない他は製造例1と
全く同様にしてポリスチレンスルホン酸Naおよびポリ
スチレンのスルホン化物を得た。得られたポリスチレン
スルホン酸Naの重量平均分子量は15400、Mw/
Mnは3.5、スルホン化率は89%であった。このポリ
スチレンスルホン酸Naを使用し、製造例1と同様の方
法でポリスチレンスルホン酸のオクタデシルトリメチル
アンモニウム塩(帯電防止剤E)を合成した。帯電防止
剤Eの分子量は41000、Mw/Mn=3.6であっ
た。また残りのスルホン化物を使用し、製造例1と同様
の方法でポリスチレンスルホン酸のオクタデシルジメチ
ルアミン塩(帯電防止剤F)を合成した。帯電防止剤F
の分子量は、39000、Mw/Mn=3.7であった。
Production Example 3 Polystyrene having a weight average molecular weight of 5000 (Mw / Mn = 2.1) was used, and acetone was not used. In the same manner as in Production Example 1, Na polystyrene sulfonate and a sulfonated product of polystyrene were obtained. It was The weight average molecular weight of the obtained polystyrene sulfonate Na was 15400, Mw /
Mn was 3.5 and the sulfonation rate was 89%. Using this polystyrene sulfonate Na, the octadecyl trimethyl ammonium salt of polystyrene sulfonate (antistatic agent E) was synthesized in the same manner as in Production Example 1. The molecular weight of the antistatic agent E was 41,000 and Mw / Mn = 3.6. Further, octadecyldimethylamine salt of polystyrene sulfonic acid (antistatic agent F) was synthesized in the same manner as in Production Example 1 using the remaining sulfonated compound. Antistatic agent F
Had a molecular weight of 39000 and Mw / Mn = 3.7.

【0015】なお、上記製造例において調製したポリス
チレンスルホン酸塩の各特性は次のようにして求めた。 (1)ポリスチレンの分子量 標準物質として標準ポリスチレンを用い、分離カラムに
東ソー(株)製TSKG1000HXL(7.8mmID×
30cm)を使用し、紫外線検出器(波長266nm)
を用いてGPCにより求めた。なお、試料中にスチレン
が検出された場合は、スチレンを除外して重量平均分子
量を求めた。 (2)スルホン化スチレン系重合体の分子量 標準物質として、標準ポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ムを用い、分離カラムとして東ソー(株)製TSK G
3000SW(7.5mmID×30cm)とTSK G
4000SW(7.5mmID×30cm)を使用し、紫
外線検出器(測定波長238nm)を用いてGPC法に
より求めた。なお、試料中にスチレンスルホン酸塩が検
出された場合は、スチレンスルホン酸塩を除外して、重
量平均分子量、数平均分子量を求めた。また、分子量分
布は、メインピークにおける重量平均分子量(Mw)/
数平均分子量(Mn)を算出して求めた。
The properties of the polystyrene sulfonate prepared in the above Production Example were determined as follows. (1) Molecular weight of polystyrene Standard polystyrene is used as a standard substance, and Tosoh Corporation's TSKG1000HXL (7.8 mm ID ×
30cm), UV detector (wavelength 266nm)
And determined by GPC. When styrene was detected in the sample, styrene was excluded and the weight average molecular weight was determined. (2) Molecular Weight of Sulfonated Styrene Polymer Standard sodium standard polystyrene sulfonate was used as a standard substance, and TSK G manufactured by Tosoh Corporation as a separation column.
3000SW (7.5mm ID x 30cm) and TSK G
It was measured by GPC method using 4000 SW (7.5 mm ID × 30 cm) and an ultraviolet ray detector (measurement wavelength 238 nm). When a styrene sulfonate was detected in the sample, the weight average molecular weight and the number average molecular weight were determined, excluding the styrene sulfonate. The molecular weight distribution is the weight average molecular weight (Mw) /
The number average molecular weight (Mn) was calculated and determined.

【0016】(3)スルホン化率 元素分析により全S、Cを求め、次式により算出した。 (4)スルホン化スチレン系重合体の第3級アミン塩及
び第4級アンモニウム塩の分子量 標準物質として、標準ポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ムとオクタデシルトリメチルアンモニウムクロライドと
から合成した標準ポリスチレンスルホン酸のオクタデシ
ルトリメチルアンモニウム塩を用い、分離カラムとして
東ソー(株)製TSK G1000HXL(7.8mmID
×30cm)とを使用し、紫外線検出器(測定波長26
6nm)を用いてGPC法により求めた。なお、ポリス
チレンスルホン酸のオクタデシルジメチルアミン塩の分
子量は、上記標準物質換算の数値とした。また、分子量
分布は、メインピークにおける重量平均分子量(Mw)
/数平均分子量(Mn)を算出して求めた。
(3) Sulfonation rate Total S and C were obtained by elemental analysis and calculated by the following equation. (4) Molecular Weight of Tertiary Amine Salt and Quaternary Ammonium Salt of Sulfonated Styrene Polymer As a standard substance, octadecyltrimethylammonium salt of standard polystyrene sulfonate synthesized from standard sodium sodium polystyrenesulfonate and octadecyltrimethylammonium chloride Using TSK G1000HXL (7.8 mm ID) manufactured by Tosoh Corporation as a separation column.
X 30 cm) and an ultraviolet detector (measurement wavelength 26
6 nm) and determined by the GPC method. The molecular weight of the octadecyldimethylamine salt of polystyrene sulfonic acid is the numerical value in terms of the standard substance. The molecular weight distribution is the weight average molecular weight (Mw) at the main peak.
/ The number average molecular weight (Mn) was calculated and calculated.

【0017】実施例1 メルトフローレート9のポリプロピレンホモポリマー9
0%と、製造例1及び2で調製した帯電防止剤A〜Dの
それぞれ10%とをヘンシェルミキサーを使用して混合
後、二軸押し出し機を用いて混練し、ストランドカット
ペレットを調製した。次いでこのペレットを日精樹脂工
業(株) 製TS−150型射出成形機を用いてシリン
ダー温度230℃で、76mm×76mm×1.6mmの
板状試料に成形した。この試料を20℃、相対湿度60
%の恒温室に1日保存後、該試料の表面抵抗率を測定し
た。次にこの試料をビーカーに入れ1時間水道水を流し
た後、表面の水分をガーゼでふき取り20℃、相対湿度
60%の恒温室に1日保存後、該試料の表面抵抗率を測
定した。結果を表−1に示す。なお、表面抵抗率の測定
は三菱油化(株)製ハイレスターH−210型抵抗測定
装置を用いて印荷電圧500Vで測定した。製造例3で
調製した帯電防止剤E、Fを使用し、上記と全く同様の
方法で、板状試料を調製後、全く同一の評価を行った。
測定結果を表−1に示す。
Example 1 Polypropylene homopolymer 9 with melt flow rate 9
0% and 10% of each of the antistatic agents A to D prepared in Production Examples 1 and 2 were mixed using a Henschel mixer and then kneaded using a twin-screw extruder to prepare strand cut pellets. Next, the pellets were molded into a 76 mm × 76 mm × 1.6 mm plate-shaped sample at a cylinder temperature of 230 ° C. using a TS-150 type injection molding machine manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd. This sample is 20 ° C, relative humidity 60
% Of the sample was stored in a thermostatic chamber for 1 day, and then the surface resistivity of the sample was measured. Next, this sample was placed in a beaker and flushed with tap water for 1 hour. Then, the surface moisture was wiped off with gauze and stored in a thermostatic chamber at 20 ° C. and 60% relative humidity for 1 day, and then the surface resistivity of the sample was measured. The results are shown in Table 1. The surface resistivity was measured using a Hiresta H-210 type resistance measuring device manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. at a printing voltage of 500V. The antistatic agents E and F prepared in Production Example 3 were used, and a plate-shaped sample was prepared in the same manner as above, and then the same evaluation was performed.
Table 1 shows the measurement results.

【0018】[0018]

【表1】 表−1(ポリプロピレンに対する帯電防止
性能の評価結果) ───────────────────────────────── No. 帯電防止剤 表面抵抗率(Ω) 種 類 Mw/Mn 水洗前 水洗後 本発明1 帯電防止剤A 2.2 8×1011 9×1011 本発明2 帯電防止剤B 2.2 6×1011 7×1011 本発明3 帯電防止剤C 2.8 5×1011 7×1011 本発明4 帯電防止剤D 2.8 7×1011 9×1011 本発明5 帯電防止剤E 3.6 9×1011 2×1012 本発明6 帯電防止剤F 3.7 1×1012 3×1012 比較例 無添加 − >2×1014 >2×1014
[Table 1] Table-1 (Evaluation result of antistatic performance for polypropylene) ────────────────────────────────── No. Antistatic agent Surface resistivity (Ω) type Mw / Mn Before washing After washing With water Present invention 1 Antistatic agent A 2.2 8 × 10 11 9 × 10 11 Present invention 2 Antistatic agent B 2.2 6 × 10 11 7 × 10 11 Invention 3 Antistatic Agent C 2.8 5 × 10 11 7 × 10 11 Invention 4 Antistatic Agent D 2.8 7 × 10 11 9 × 10 11 Invention 5 Antistatic Agent E 3 .6 9 × 10 11 2 × 10 12 Invention 6 Antistatic agent F 3.7 1 × 10 12 3 × 10 12 Comparative example No additive-> 2 × 10 14 > 2 × 10 14

【0019】実施例2 メルトフローレート2のアクリル樹脂90%と、製造例
1及び2で調製した帯電防止剤A〜Dのそれぞれ10%
とをヘンシェルミキサーを使用して混合後、二軸押し出
し機を用いて混練し、ストランドカットペレットを調製
した。次いでこのペレットを日精樹脂工業(株)製TS
−150型射出成形機を用いてシリンダー温度250℃
で、76mm×76mm×1.6mmの板状試料に成形し
た。この試料を20℃、相対湿度60%の恒温室に1日
保存後、該試料の抵抗率を測定した。次にこの試料をビ
ーカーに入れ1時間水道水を流した後、表面の水分をガ
ーゼでふき取り、20℃、相対湿度60%の恒温室に1
日保存後、該試料の表面抵抗率を測定した。結果を表−
2に示す。また、水に浸漬前後の試料の白濁の変化の程
度を目視で比較し、下記の基準で評価した。 変化無し :◎ 極わずかに白濁する:○ 少し白濁する :△ かなり白濁する :× 又、製造例3で調製した帯電防止剤E、Fを使用し、上
記と全く同様の方法で、板状試料を調製後、全く同一の
評価を行った。測定結果を表−2に示す。
Example 2 90% of an acrylic resin having a melt flow rate of 2 and 10% of each of the antistatic agents A to D prepared in Production Examples 1 and 2
And were mixed using a Henschel mixer, and then kneaded using a twin-screw extruder to prepare strand cut pellets. Next, this pellet is TS manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.
Cylinder temperature 250 ° C using -150 type injection molding machine
Then, it was molded into a plate sample of 76 mm × 76 mm × 1.6 mm. This sample was stored in a thermostatic chamber at 20 ° C. and a relative humidity of 60% for 1 day, and then the resistivity of the sample was measured. Next, after putting this sample in a beaker and running tap water for 1 hour, the surface water was wiped off with gauze, and the sample was placed in a thermostatic chamber at 20 ° C and 60% relative humidity for 1 hour.
After storage for a day, the surface resistivity of the sample was measured. Table-Results
It is shown in FIG. Further, the degree of change in white turbidity of the sample before and after immersion in water was visually compared and evaluated according to the following criteria. No change: ◎ Very slightly turbid: ○ Slightly turbid: △ Quite turbid: × Also, using the antistatic agents E and F prepared in Production Example 3, a plate-shaped sample was prepared in exactly the same manner as above. After the preparation, the same evaluation was performed. Table 2 shows the measurement results.

【0020】[0020]

【表2】 表−2(アクリル樹脂に対する評価結果) ─────────────────────────────────── No. 帯電防止剤 表面抵抗率(Ω) 水洗後の 種類 Mw/Mn 水洗前 水洗後 白濁 本発明7 A 2.2 6×1011 8×1011 ○ 本発明8 B 2.2 5×1011 7×1011 ○ 本発明9 C 2.8 6×1011 8×1011 ○ 本発明10 D 2.8 7×1011 9×1011 ○ 本発明11 E 3.6 9×1011 3×1012 本発明12 F 3.7 8×1011 2×1012 比較例 無添加 − >2×1014 >2×1014 [Table 2] Table-2 (Evaluation result for acrylic resin) ──────────────────────────────────── No Antistatic agent Surface resistivity (Ω) Kind after washing Mw / Mn Before washing After washing White turbidity Present invention 7 A 2.2 6 × 10 11 8 × 10 11 ○ Present invention 8 B 2.2 5 × 10 11 7 × 10 11 ○ Invention 9 C 2.8 6 × 10 11 8 × 10 11 ○ Invention 10 D 2.8 7 × 10 11 9 × 10 11 ○ Invention 11 E 3.6 9 × 10 11 3 × 10 12 △ Present invention 12 F 3.7 8 × 10 11 2 × 10 12 Comparative example No additive-> 2 × 10 14 > 2 × 10 14

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重量平均分子量3,000〜300,0
00のスチレン系重合体スルホン化物と有機塩基との塩
とを含有することを特徴とする帯電防止剤。
1. A weight average molecular weight of 3,000 to 300,0.
An antistatic agent containing the sulfonated styrene polymer of No. 00 and a salt of an organic base.
【請求項2】 有機塩基が炭素数6以上の炭化水素基を
有する第3級アミン及び/または第4級アンモニウム塩
である請求項1記載の帯電防止剤。
2. The antistatic agent according to claim 1, wherein the organic base is a tertiary amine and / or a quaternary ammonium salt having a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms.
【請求項3】 スチレン系重合体の分子量分布(Mw/
Mn)が2.0〜2.8である請求項1記載の帯電防止剤。
3. A molecular weight distribution (Mw /
The Mn) is 2.0 to 2.8, and the antistatic agent according to claim 1.
JP290096A 1996-01-11 1996-01-11 Antistatic agent Pending JPH09188873A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP290096A JPH09188873A (en) 1996-01-11 1996-01-11 Antistatic agent

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP290096A JPH09188873A (en) 1996-01-11 1996-01-11 Antistatic agent

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09188873A true JPH09188873A (en) 1997-07-22

Family

ID=11542237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP290096A Pending JPH09188873A (en) 1996-01-11 1996-01-11 Antistatic agent

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09188873A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7910673B2 (en) 2008-08-12 2011-03-22 Sony Corporation Antistatic agent for thermoplastic resin and antistatic resin composition
CN114561034A (en) * 2022-03-31 2022-05-31 中国科学院长春应用化学研究所 Antimicrobial modified sulfonated styrene-based polymer compound and preparation method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7910673B2 (en) 2008-08-12 2011-03-22 Sony Corporation Antistatic agent for thermoplastic resin and antistatic resin composition
CN114561034A (en) * 2022-03-31 2022-05-31 中国科学院长春应用化学研究所 Antimicrobial modified sulfonated styrene-based polymer compound and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07126384A (en) Electrically conductive composition
JPH09188873A (en) Antistatic agent
JP2681517B2 (en) Antistatic agent and resin composition
JP3394558B2 (en) Resin modifier
JPH0625538A (en) Highly antistatic resin composition
JPS6254819B2 (en)
JP4684395B2 (en) Antistatic polyurethane resin composition
JPH06200171A (en) Resin composition having excellent antistaticity
JP4236083B2 (en) Antistatic resin composition
JP4451639B2 (en) Antistatic resin composition
JP3930346B2 (en) Antistatic resin composition
JP2000319638A (en) Antistatic agent
JPH10316960A (en) Antistatic agent
JP2684310B2 (en) Antistatic agent for resin
JP4074093B2 (en) Antistatic resin composition
JPH08259927A (en) Antistatic agent and synthetic resin containing the same
JPH09188821A (en) Thermoplastic polymer composition containing polymer having quaternary cathonic salt group
JP4447862B2 (en) Antistatic resin composition
JPH11323145A (en) Thermoplastic resin composition
JPH10140142A (en) Antistatic agent
JPH0625541A (en) Antistatic resin composition
JPH11189769A (en) Antistatic agent
JP2007137915A (en) Synthetic resin composition, method for producing the same and synthetic resin-molded article
JP2006045488A (en) Antistatic agent
JPS5936159A (en) Antistatic composition and antistatic film, sheet, or formed item