JPH09185313A - Manufacture of hologram - Google Patents
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- JPH09185313A JPH09185313A JP35306095A JP35306095A JPH09185313A JP H09185313 A JPH09185313 A JP H09185313A JP 35306095 A JP35306095 A JP 35306095A JP 35306095 A JP35306095 A JP 35306095A JP H09185313 A JPH09185313 A JP H09185313A
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- light
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- photosensitive material
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラム作製法
に関し、特に、露光時の界面反射によるノイズ（不所望
な格子）を低減することができるホログラム作製法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hologram manufacturing method, and more particularly to a hologram manufacturing method capable of reducing noise (unwanted grating) due to interface reflection during exposure.
【０００２】[0002]
【従来の技術】エッジリット型ホログラムを作製する
際、臨界角以上の入射角で露光する必要があり、そのた
めにプリズム等を用いて露光を行う。図４は、このよう
なエッジリット型ホログラムの従来の作製法を説明する
ための断面図である。２つの入射光のうち、一方の入射
光２はプリズム１を介して入射させ、他方の入射光２’
はプリズム１を介さずホログラム記録材料３に入射させ
る。プリズム１側から入射した入射光２は、未露光のホ
ログラム記録材料３を積層したガラス基板４と空気との
界面で全反射されホログラム材料３中に戻ってしまい、
他の光と干渉して不所望な干渉縞を形成してしまう。こ
うして作製されたホログラムは非常にノイズの多いホロ
グラムとなってしまっていた。不所望な干渉縞の原因と
なる界面反射光５は全反射光であるため、適切な低減法
は従来存在しなかった。2. Description of the Related Art When manufacturing an edge-lit hologram, it is necessary to expose at an incident angle larger than a critical angle, and for that purpose, exposure is performed using a prism or the like. FIG. 4 is a sectional view for explaining a conventional method for manufacturing such an edge-lit hologram. Of the two incident lights, one incident light 2 is made incident through the prism 1 and the other incident light 2 '
Enters the hologram recording material 3 without going through the prism 1. Incident light 2 incident from the prism 1 side is totally reflected at the interface between the glass substrate 4 on which the unexposed hologram recording material 3 is laminated and air, and returns to the hologram material 3.
It interferes with other light to form undesired interference fringes. The hologram thus produced was a very noisy hologram. Since the interfacial reflected light 5 that causes undesired interference fringes is totally reflected light, there is no suitable reduction method conventionally.
【０００３】一方、図５は、従来のレプリカ法によるホ
ログラム作製法を説明するための断面図である。このレ
プリカ法では、マスターホログラム６上に未露光のホロ
グラム感光材料３を積層したものに、入射光としての一
光束７を入射させてマスターホログラム６をコピーす
る。この場合、マスターホログラム６の未露光のホログ
ラム感光材料３を積層していない側の空気との界面によ
る反射による不所望な干渉縞を低減するために、従来、
マスターホログラム６は黒い吸収体８の上に積層されて
いた。しかしながら、黒い吸収体８だけでは完全に界面
反射が除けず、マスターホログラム６に比べ、ノイズの
多いレプリカしか得られなかった。On the other hand, FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a hologram production method by a conventional replica method. In this replica method, the master hologram 6 is copied by making one light flux 7 as incident light incident on the unexposed hologram photosensitive material 3 laminated on the master hologram 6. In this case, in order to reduce undesired interference fringes due to reflection by the interface of the master hologram 6 on the side where the unexposed hologram photosensitive material 3 is not laminated,
The master hologram 6 was laminated on the black absorber 8. However, the black absorber 8 alone could not completely eliminate the interface reflection, and only a noisy replica was obtained as compared with the master hologram 6.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、露光時の界面反射による不所望な格子によるノイズ
を低減することができるホログラム作製法を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a hologram production method capable of reducing noise due to an unwanted grating due to interface reflection during exposure.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題点
を解決すべくなされたものであり、位相差板を用いて、
界面反射による反射光の偏光方向を入射光の偏光方向と
直交させることにより、さらには、ＮＤ板を用いて、界
面での反射光を減衰させることにより、不所望な干渉縞
の発生を抑制することを特徴とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and uses a retardation plate,
By making the polarization direction of the reflected light due to the interface reflection orthogonal to the polarization direction of the incident light, and further by using the ND plate to attenuate the reflected light at the interface, generation of undesired interference fringes is suppressed. It is characterized by
【０００６】すなわち、本発明によれば、ホログラム感
光材料の一方の側の面に所定の光学系を用いて臨界角以
上の入射角で第１の入射光を入射させ、前記ホログラム
感光材料のもう一方の側の面に第２の入射光を入射させ
て、前記ホログラム感光材料中にホログラム干渉縞を記
録するホログラム作製法において、前記ホログラム感光
材料における第２の入射光を入射させる面側に位相差板
を配し、該位相差板を介して第２の入射光を前記ホログ
ラム感光材料に入射させることを特徴とするホログラム
作製法が提供される。That is, according to the present invention, the first incident light is made incident on one surface of the hologram photosensitive material at an incident angle not smaller than the critical angle by using a predetermined optical system, and the hologram photosensitive material is In a hologram manufacturing method in which second incident light is incident on one surface to record hologram interference fringes in the hologram photosensitive material, the hologram photosensitive material is positioned on the surface side on which the second incident light is incident. There is provided a hologram manufacturing method characterized in that a phase difference plate is arranged and second incident light is made incident on the hologram photosensitive material through the phase difference plate.
【０００７】このように、ホログラム感光材料の臨界角
以上の入射角で第１の入射光を入射させる側の面とは反
対側の面であって第２の入射光を入射させる面側に位相
差板を設けることにより、ホログラム感光材料あるいは
ホログラム感光材料が積層される透明基板と空気との界
面でおきる全反射光を、位相差板を用いて入射光の偏光
方向と直交する偏光に変えることができ、その結果、界
面の全反射光による不所望な干渉縞の発生を低減するこ
とができる。なお、ホログラム感光材料を透明基板に積
層して支持しておく場合、透明基板と位相差板との間に
は好ましくは屈折率整合液を介在させる。As described above, the hologram photosensitive material is positioned on the side opposite to the surface on which the first incident light is incident at an incident angle equal to or greater than the critical angle and on the side on which the second incident light is incident. By providing a phase difference plate, the total reflection light that occurs at the interface between the hologram photosensitive material or the transparent substrate on which the hologram photosensitive material is laminated and the air is converted into polarized light that is orthogonal to the polarization direction of the incident light using the phase difference plate. As a result, it is possible to reduce the generation of undesired interference fringes due to the total reflected light from the interface. When the hologram photosensitive material is laminated and supported on a transparent substrate, a refractive index matching liquid is preferably interposed between the transparent substrate and the retardation plate.
【０００８】また、好ましくは、透明基板と位相差板と
の間に、さらにＮＤ板を設けてホログラム感光材料中に
ホログラム干渉縞を記録する。このように、ＮＤ板を用
いることにより、界面での反射光を減衰させることがで
き、その結果、不所望な干渉縞の発生をさらに抑制する
ことができる。Further, preferably, an ND plate is further provided between the transparent substrate and the retardation plate to record hologram interference fringes in the hologram photosensitive material. As described above, by using the ND plate, the reflected light at the interface can be attenuated, and as a result, the generation of undesired interference fringes can be further suppressed.
【０００９】また、本発明によれば、反射型のマスター
ホログラム上に未露光のホログラム感光材料を積層した
ものに、前記未露光のホログラム感光材料側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記マスターホログラムの前記未露
光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に位相
差板を設けた状態で前記未露光のホログラム感光材料側
から一光束を入射させて前記マスターホログラムに記録
されている干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーす
ることを特徴とするホログラム作製法が提供される。Further, according to the present invention, one light flux is incident from the unexposed hologram photosensitive material side to a reflection type master hologram on which an unexposed hologram photosensitive material is laminated to record on the master hologram. In the hologram production method for copying the interference fringes to the hologram photosensitive material, the unexposed state in which a retardation plate is provided on the side opposite to the side where the unexposed hologram photosensitive material of the master hologram is laminated. There is provided a hologram manufacturing method characterized in that a single light flux is made incident from the hologram photosensitive material side to copy the interference fringes recorded in the master hologram onto the hologram photosensitive material.
【００１０】このように、反射型マスターホログラムの
未露光のホログラム感光材料を積層した側とは反対側に
位相差板を設けることにより、マスターホログラムと空
気または黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方
向を入射光の偏光方向と直交させることができ、その結
果、不所望な干渉縞の発生を低減することができる。な
お、好ましくは、マスターホログラムと位相差板との間
に屈折率整合液を介在させる。As described above, by providing the retardation plate on the side opposite to the side where the unexposed hologram photosensitive material of the reflection type master hologram is laminated, the interface reflection occurring at the interface between the master hologram and the air or the black absorber. Can be made orthogonal to the polarization direction of the incident light, and as a result, generation of undesired interference fringes can be reduced. A refractive index matching liquid is preferably interposed between the master hologram and the retardation plate.
【００１１】さらに、また、本発明によれば、透過型の
マスターホログラム上に未露光のホログラム感光材料を
積層したものに、前記マスターホログラム側から一光束
を入射させて前記マスターホログラムに記録されている
干渉縞を前記ホログラム感光材料にコピーするホログラ
ム作製法において、前記未露光のホログラム感光材料の
前記マスターホログラムとは反対側に位相差板を設けた
状態で前記マスターホログラム側から一光束を入射させ
て前記マスターホログラムに記録されている干渉縞を前
記ホログラム感光材料にコピーすることを特徴とするホ
ログラム作製法が提供される。Further, according to the present invention, one light flux is made incident from the master hologram side on a transmissive master hologram on which an unexposed hologram photosensitive material is laminated and recorded on the master hologram. In the hologram manufacturing method of copying interference fringes to the hologram photosensitive material, one light flux is made incident from the master hologram side in a state where a phase difference plate is provided on the opposite side of the unexposed hologram photosensitive material from the master hologram. A hologram manufacturing method is provided, characterized in that the interference fringes recorded on the master hologram are copied onto the hologram photosensitive material.
【００１２】このように、未露光のホログラム感光材料
の透過型マスターホログラムとは反対側に位相差板を設
けることにより、未露光のホログラム感光材料と空気ま
たは黒い吸収体との界面で起きる界面反射の偏光方向を
入射光の偏光方向と直交させることができ、その結果、
不所望な干渉縞の発生を低減することができる。なお、
好ましくは、未露光のホログラム感光材料と位相差板と
の間に屈折率整合液を介在させる。By thus providing the retardation plate on the side of the unexposed hologram photosensitive material opposite to the transmission master hologram, the interface reflection that occurs at the interface between the unexposed hologram photosensitive material and the air or the black absorber. The polarization direction of can be made orthogonal to the polarization direction of the incident light, and as a result,
The generation of undesired interference fringes can be reduced. In addition,
Preferably, a refractive index matching liquid is interposed between the unexposed hologram photosensitive material and the retardation plate.
【００１３】以上のように、本発明によるホログラム作
製法を用いれば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非
常に高品質なエッジリット型ホログラムを簡便に作製す
ることが可能である。また、レプリカ法においても、ノ
イズ（不所望な格子）の非常に少ないコピーが可能とな
る。As described above, by using the hologram producing method according to the present invention, it is possible to easily produce an extremely high quality edge-lit hologram with less noise (unwanted grating). Further, even in the replica method, it is possible to make a copy with very little noise (unwanted lattice).
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１５】（第１の実施の形態）図１は、本実施の形
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。ガラス基板４に積層された未
露光ホログラム感光材料３を、６０゜プリズム１０と位
相差板１１とで屈折率整合液をそれぞれ介して挟持し、
プリズム１０側からプリズム１０内で６０゜の第１の入
射光１５をホログラム感光材料３に入射させ、位相差板
１１側からは空気中で５０゜の第２の入射光１３をホロ
グラム感光材料３に入射させてホログラムを記録した。
ホログラム記録に用いた光は、発振波長５５５ｎｍの色
素レーザー光であった。(First Embodiment) FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view for explaining an edge-lit hologram manufacturing method in the present embodiment. An unexposed hologram photosensitive material 3 laminated on a glass substrate 4 is sandwiched between a 60 ° prism 10 and a phase difference plate 11 with a refractive index matching liquid interposed therebetween,
The first incident light 15 of 60 ° is incident on the hologram photosensitive material 3 from the prism 10 side, and the second incident light 13 of 50 ° in the air is incident on the hologram photosensitive material 3 from the phase difference plate 11 side. And recorded the hologram.
The light used for hologram recording was dye laser light with an oscillation wavelength of 555 nm.
【００１６】プリズム側からの第１の入射光１５はＳ偏
光の光とした。この第１の入射光１５が位相差板１１と
空気との界面で全反射されて界面反射光１２を生じる
が、界面反射光１２は、Ｓ偏光の第１の入射光１５が結
晶軸を偏光方向に対し４５゜回転させた位相差板１１を
２回通過することで生じるから、Ｐ偏光となる。一方、
５０゜側からの第２の入射光１３は、位相差板１１を１
回通過後にＳ偏光になるよう予め波長板１４で偏光状態
を変えて入射させている。The first incident light 15 from the prism side is S-polarized light. The first incident light 15 is totally reflected at the interface between the retardation plate 11 and the air to generate the interface reflected light 12. The interface reflected light 12 is the S-polarized first incident light 15 whose crystal axis is polarized. Since it is generated by passing through the retardation plate 11 rotated by 45 ° with respect to the direction twice, it becomes P-polarized light. on the other hand,
The second incident light 13 from the 50 ° side is transmitted through the phase difference plate 11 by 1
The polarization state is changed in advance by the wave plate 14 so that it becomes S-polarized light after passing through the light.
【００１７】この場合、ホログラム感光材料３に入射す
る第１の入射光１５および第２の入射光１３は、共にＳ
偏光であるので、これらの第２の入射光１３および第１
の入射光１５によってホログラム感光材料３にホログラ
ムが記録される。一方、界面反射光１２はＰ偏光である
ため、Ｓ偏光である第２の入射光１３や第１の入射光１
５とは干渉せず、不所望な干渉縞は発生しない。In this case, the first incident light 15 and the second incident light 13 incident on the hologram photosensitive material 3 are both S
Since it is polarized light, these second incident light 13 and first
A hologram is recorded on the hologram photosensitive material 3 by the incident light 15 of. On the other hand, since the interface reflected light 12 is P-polarized light, the second incident light 13 and the first incident light 1 that are S-polarized light
No interference with 5 and no unwanted interference fringes are generated.
【００１８】ここで、使用する位相差板１１は、６０゜
入射光に関して、２回通過してπ／２の位相差が生まれ
る様なリタデーション値（本実施例の場合５５５ｎｍ／
４＝１３９ｎｍ）を持たなくてはならず、そのような位
相差板１１は、次式を満足する。Here, the retardation plate 11 used has a retardation value (in the case of this embodiment, 555 nm / 555 nm / in this embodiment, a phase difference of π / 2 is produced by passing twice for 60 ° incident light.
4 = 139 nm), and such a retardation plate 11 satisfies the following equation.
【００１９】 Ｒｄθ＝１３９ｎｍ＝ｄ（Ｘ1−Ｘ2）／cosθ （１） sin2θcos2φ／（Ｘ-2−ｎx ー2）＋sin2θcos2φ／（Ｘ-2−ｎy ー2） ＋cos2θ／（Ｘ-2−ｎz ー2）＝０ （２） ここで、Ｒｄθはθ＝６０゜入射時のリタデーション、
ｄは位相差板１１の厚さで６０μｍ、Ｘ1、Ｘ2は（２）
式の解で６０゜入射時の位相差板１１の光学軸に平行な
屈折率と垂直な屈折率、θは入射角でθ＝６０゜、φは
入射偏光に対する位相差板１１の結晶軸の回転角でφ＝
４５゜である。ｎx 、ｎy 、ｎz は垂直入射時の位相差
板１１の光学軸に平行な屈折率と垂直な屈折率と厚み方
向の屈折率である。[0019] Rdθ = 139nm = d (X 1 -X 2) / cosθ (1) sin 2 θcos 2 φ / (X -2 -n x over 2) + sin 2 θcos 2 φ / (X -2 -n y over 2) + cos 2 θ / ( X -2 -n z -2) = 0 (2) where, Rdshita the theta = 60 ° incident upon the retardation,
d is the thickness of the retardation plate 11, 60 μm, and X 1 and X 2 are (2)
According to the solution of the equation, the refractive index parallel to the optical axis of the retardation plate 11 at the time of incidence of 60 ° and the refractive index perpendicular to the optical axis are: Φ in rotation angle
It is 45 °. n x , n y , and nz are the refractive index parallel to the optical axis of the retardation plate 11 at the time of vertical incidence, the refractive index perpendicular to the optical axis, and the refractive index in the thickness direction.
【００２０】本実施の形態で使用した位相差板１１は日
合フィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロー
ス）保護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フ
ィルムであり、その特性として（３）、（４）式の特徴
がある。The retardation plate 11 used in this embodiment is a PVA (polyvinyl alcohol) film with a TAC (triacetyl cellulose) protective sheet manufactured by Nigo Film Co., Ltd., and its characteristics are (3) and (4). ) There is a feature of the formula.
【００２１】 ｎz／ｎy＝０．９９７８ （３） ｎ＝（ｎx＋ｎy＋ｎz）／３＝１．５５６０ （４） ここで、ｎは位相差板１１の平均屈折率である。この位
相差板１１の垂直入射時のリタデーション値Ｒｄ0は、
（１）、（２）、（３）、（４）式より得られ、 Ｒｄ0＝ｄ（ｎx−ｎy）＝１８０ｎｍ である。N z / n y = 0.9978 (3) n = (n x + n y + n z ) /3=1.5560 (4) Here, n is the average refractive index of the retardation plate 11. The retardation value Rd 0 of this retardation plate 11 at the time of vertical incidence is
(1), (2), (3), (4) obtained from the equation, it is Rd 0 = d (n x -n y) = 180nm.
【００２２】一方、５０゜側からの第２の入射光１３
は、上記の位相差板１１を一回通過後、Ｓ偏光になるよ
う、予め波長板（本実施の形態ではλ＝５１５ｎｍ用λ
／２板）１４で楕円偏光にしてから入射させている。On the other hand, the second incident light 13 from the 50 ° side
Is a wavelength plate (λ = 515 nm for λ in this embodiment) so as to become S-polarized light after passing through the retardation plate 11 once.
(/ 2 plate) 14 to make the light elliptically polarized and then make it incident.
【００２３】（第２の実施の形態）図２は、本実施の形
態におけるエッジリット型ホログラム作製法を説明する
ための概念断面図である。(Second Embodiment) FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view for explaining an edge-lit hologram manufacturing method in this embodiment.
【００２４】本実施の形態では、界面反射光１７に起因
する不所望な干渉縞をさらに低減する為に、位相差板１
１と未露光ホログラム感光材料３を積層したガラス基板
４との間にキシレン等の屈折率整合液を介してＮＤ板１
６（本実施例では透過率７０％のブロンズガラス）を挿
入した。界面反射光１７は、ＮＤ板１６を２回通過した
第１の入射光１５であるため、第１の入射光１５に比べ
７０％×７０％＝４９％の強度しかなく、界面反射光１
７による不所望な干渉縞をさらに低減できる。In the present embodiment, in order to further reduce undesired interference fringes caused by the interface reflected light 17, the phase difference plate 1 is used.
1 and a glass substrate 4 on which an unexposed hologram photosensitive material 3 is laminated, with an index matching liquid such as xylene interposed between the ND plate 1
6 (in this example, bronze glass having a transmittance of 70%) was inserted. Since the interface reflected light 17 is the first incident light 15 that has passed through the ND plate 16 twice, it has an intensity of 70% × 70% = 49% compared to the first incident light 15, and the interface reflected light 1
Undesired interference fringes due to 7 can be further reduced.
【００２５】本発明の第１および第２の実施の形態なら
びに従来技術における、界面反射光に起因する不所望な
干渉縞の回折効率と所望の干渉縞の回折効率を表１に示
す。Table 1 shows the diffraction efficiency of the unwanted interference fringes and the diffraction efficiency of the desired interference fringes due to the interface reflected light in the first and second embodiments of the present invention and the prior art.
【００２６】[0026]
【表１】 [Table 1]
【００２７】表１からも明らかなように、本発明によ
り、所望の干渉縞を損なうことなく不所望な干渉縞を、
第１の実施の形態では従来の約１／４に低減することが
でき、第２の実施の形態では従来の約１／８に低減する
ことができた。As is clear from Table 1, according to the present invention, undesired interference fringes can be generated without impairing the desired interference fringes.
In the first embodiment, it can be reduced to about 1/4 of the conventional value, and in the second embodiment, it can be reduced to about 1/8 of the conventional value.
【００２８】（第３の実施の形態）図３（Ａ）は、本実
施の形態におけるレプリカ法による反射型ホログラム作
製法を説明するための概念断面図である。(Third Embodiment) FIG. 3A is a conceptual cross-sectional view for explaining a reflection hologram fabrication method by a replica method in the present embodiment.
【００２９】本実施の形態は、反射型のマスターホログ
ラム上に未露光のホログラム感光材料を積層したもの
に、一光束を入射させてマスターホログラムをコピーす
るレプリカ法において、界面反射による不所望な干渉縞
の低減を行ったものである。本実施の形態で使用した反
射型のマスターホログラム６ａは、４５゜入射、６０゜
入射の２つの平行光の干渉縞を波長５４５ｎｍで記録し
たものである。黒吸収体８、位相差板１８、マスターホ
ログラム６ａ、未露光ホログラム感光材料３、ＡＲコー
トガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層し
たものに、ＡＲコートガラス９側から４５゜入射の平行
光７でコピーを行う。The present embodiment is a replica method in which a master light hologram is laminated on an unexposed hologram photosensitive material on a reflection type master hologram to copy the master hologram by injecting one light flux, and undesired interference due to interface reflection. The stripes are reduced. The reflection type master hologram 6a used in the present embodiment is one in which interference fringes of two parallel light beams of 45 ° incidence and 60 ° incidence are recorded at a wavelength of 545 nm. The black absorber 8, the phase difference plate 18, the master hologram 6a, the unexposed hologram photosensitive material 3, and the AR coat glass 9 are laminated in this order through a refractive index matching liquid, and are incident at 45 ° from the AR coat glass 9 side. Copy with parallel light 7.
【００３０】ここで、４５゜入射の平行光７はＳ偏光で
ある。４５゜入射光７はマスターホログラム６ａで６０
゜回折され回折光１９ａとなり、４５゜入射光７の一部
７ａと未露光ホログラム感光材料３中で干渉しマスター
ホログラム６ａと同じ干渉縞が未露光ホログラム感光材
料３中に記録される。Here, the 45 ° incident parallel light 7 is S-polarized light. The 45 ° incident light 7 is 60 at the master hologram 6a.
The light is diffracted to become diffracted light 19a, which interferes with part of the 45 ° incident light 7 in the unexposed hologram photosensitive material 3 and the same interference fringes as the master hologram 6a are recorded in the unexposed hologram photosensitive material 3.
【００３１】不所望な干渉縞の原因となるマスターホロ
グラム６ａで回折されず通り抜けた光は、位相差板１８
を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光２０ａと
なり未露光ホログラム感光材料３中に入射する。しかし
ながら、この界面反射光２０ａは位相差板１８を２回透
過してＰ偏光に偏光方向を変えられているからＳ偏光の
入射光７と干渉せず、従って、ホログラム感光材料３中
に不所望な干渉縞を発生させることはない。The light passing through without being diffracted by the master hologram 6a, which causes an unwanted interference fringe, passes through the phase difference plate 18
After passing through, the light is reflected by the black absorber 8 and becomes the interface reflected light 20a, which is incident on the unexposed hologram photosensitive material 3. However, this interface reflected light 20a does not interfere with the S-polarized incident light 7 because it is transmitted through the retardation plate 18 twice and the polarization direction is changed to P-polarized light. Therefore, it is not desirable in the hologram photosensitive material 3. It does not generate a large interference fringe.
【００３２】なお、本実施の形態で使用した位相差板１
８は、前記第１および第２の実施の形態と同様、日合フ
ィルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロース）保
護シート付きＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フィルム
で、その垂直入射時のリタデーションＲｄ0は（１）、
（２）式のθに４５゜を代入して（３）、（４）式から
得られる。この方法により、従来よりもノイズの少ない
高品質なコピーが得られた。Incidentally, the retardation plate 1 used in this embodiment
8 is a PVA (polyvinyl alcohol) film with a TAC (triacetyl cellulose) protective sheet manufactured by Nigo Film Co., Ltd. as in the first and second embodiments, and the retardation Rd 0 at the time of vertical incidence is (1),
Substituting 45 ° for θ in equation (2), it is obtained from equations (3) and (4). By this method, a high-quality copy with less noise than before was obtained.
【００３３】（第４の実施の形態）図３（Ｂ）は、透過
型ホログラムについての、レプリカ法による反射型ホロ
グラム作製法を説明するための概念断面図である。(Fourth Embodiment) FIG. 3B is a conceptual cross-sectional view for explaining a reflection hologram production method by a replica method for a transmission hologram.
【００３４】黒吸収体８、位相差板１８、未露光ホログ
ラム感光材料３、マスターホログラム６ｂ、ＡＲコート
ガラス９の順に屈折率整合液をそれぞれ介して積層した
ものに、ＡＲコートガラス９側から平行光７でコピーを
行う。The black absorber 8, the retardation film 18, the unexposed hologram photosensitive material 3, the master hologram 6b, and the AR coat glass 9 are laminated in this order on the AR coat glass 9 side in parallel. Copy with light 7.
【００３５】ここで、平行光７を例えばＳ偏光とする。
入射光７はマスターホログラム６ｂで回折され回折光１
９ｂとなり、入射光７の一部７ｂと未露光ホログラム感
光材料３中で干渉しマスターホログラム６ｂと同じ干渉
縞が未露光ホログラム感光材料３中に記録される。Here, the parallel light 7 is, for example, S-polarized light.
Incident light 7 is diffracted by master hologram 6b and diffracted light 1
9b, a part 7b of the incident light 7 interferes with the unexposed hologram photosensitive material 3 and the same interference fringes as the master hologram 6b are recorded in the unexposed hologram photosensitive material 3.
【００３６】透過型については、４種類の不所望な干渉
縞が考えられる。このうちの１つを例示すると、マスタ
ーホログラム６ｂで回折されず直接透過した光は、位相
差板１８を透過後、黒吸収体８で反射されて界面反射光
２０ｂとなり未露光ホログラム感光材料３中に入射す
る。ほかに界面反射光としては、回折光１９ｂの黒吸収
体８での反射等がある。しかしながら、この界面反射光
２０ｂは位相差板１８を２回透過してＰ偏光に偏光方向
を変えられているからＳ偏光の入射光７と干渉せず、従
って、ホログラム感光材料３中に不所望な干渉縞を発生
させることはない。For the transmission type, four types of undesired interference fringes are considered. To exemplify one of them, the light that is directly transmitted without being diffracted by the master hologram 6b is transmitted through the retardation plate 18 and then reflected by the black absorber 8 to become the interface reflected light 20b. Incident on. In addition, as the interface reflected light, there is reflection of the diffracted light 19b on the black absorber 8. However, the interface reflected light 20b does not interfere with the S-polarized incident light 7 because it is transmitted through the retardation plate 18 twice and the polarization direction is changed to P-polarized light. Therefore, it is not desirable in the hologram photosensitive material 3. It does not generate a large interference fringe.
【００３７】[0037]
【発明の効果】本発明によるホログラム作製法を用いれ
ば、ノイズ（不所望な格子）の少ない、非常に高品質な
エッジリット型ホログラムを簡便に作製することが可能
である。また、従来、困難であった大型化も可能であ
る。By using the hologram manufacturing method according to the present invention, it is possible to easily manufacture a very high quality edge-lit hologram with less noise (unwanted grating). Further, it is possible to increase the size, which has been difficult in the past.
【００３８】更に、レプリカ法においては、ノイズ（不
所望な格子）の非常に少ないコピーが可能となる。Furthermore, in the replica method, it is possible to make a copy with very little noise (unwanted lattice).
【図１】本発明の第１の実施の形態におけるエッジリッ
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining an edge-lit hologram manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施の形態におけるエッジリッ
ト型ホログラム作製法を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an edge-lit hologram manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第３および第４の実施の形態における
レプリカ法によるホログラム作製法を説明するための断
面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a hologram production method by a replica method according to the third and fourth embodiments of the present invention.
【図４】従来のエッジリット型ホログラム作製法を説明
するための断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a conventional edge-lit hologram manufacturing method.
【図５】従来のレプリカ法によるホログラム作製法を説
明するための断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a hologram production method by a conventional replica method.
１…プリズム ２…プリズム側入射光 ３…未露光ホログラム記録材料 ４…ガラス基板 ５…界面反射光 ６…マスターホログラム ７…入射光（一光束） ７ａ… 入射光の一部 ８…黒吸収体 ９…ＡＲコートガラス １０…６０゜プリズム １１…位相差板 １２…界面反射光 １３…５０゜側の第２の入射光 １４…波長板 １５…プリズム側の第１の入射光 １６…ＮＤ板 １７…界面反射光 １８…位相差板 １９…６０゜回折光 ２０…界面反射光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Prism 2 ... Incident light on prism side 3 ... Unexposed hologram recording material 4 ... Glass substrate 5 ... Interface reflected light 6 ... Master hologram 7 ... Incident light (one light beam) 7a ... Part of incident light 8 ... Black absorber 9 AR coated glass 10 60 degree prism 11 Phase difference plate 12 Interface reflected light 13 50 second incident light 14 wavelength plate 15 Prism first incident light 16 ND plate 17 Interface reflected light 18 ... Phase difference plate 19 ... 60 ° diffracted light 20 ... Interface reflected light
Claims (3)
の光学系を用いて臨界角以上の入射角で第１の入射光を
入射させ、前記ホログラム感光材料のもう一方の側の面
に第２の入射光を入射させて、前記ホログラム感光材料
中にホログラム干渉縞を記録するホログラム作製法にお
いて、 前記ホログラム感光材料における第２の入射光を入射さ
せる面側に位相差板を配し、該位相差板を介して第２の
入射光を前記ホログラム感光材料に入射させることを特
徴とするホログラム作製法。1. A hologram light-sensitive material, wherein a first optical beam is incident on a surface on one side of the hologram light-sensitive material at an incident angle equal to or more than a critical angle, and the surface on the other side of the hologram light-sensitive material is incident. In a hologram manufacturing method of recording a hologram interference fringe in the hologram photosensitive material by making second incident light incident, a phase difference plate is arranged on a surface side of the hologram photosensitive material on which the second incident light is made incident, A method for producing a hologram, wherein a second incident light is made incident on the hologram photosensitive material through the retardation plate.
ホログラム感光材料を積層したものに、前記未露光のホ
ログラム感光材料側から一光束を入射させて前記マスタ
ーホログラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム
感光材料にコピーするホログラム作製法において、 前記マスターホログラムの前記未露光のホログラム感光
材料を積層した側とは反対側に位相差板を設けた状態で
前記未露光のホログラム感光材料側から一光束を入射さ
せて前記マスターホログラムに記録されている干渉縞を
前記ホログラム感光材料にコピーすることを特徴とする
ホログラム作製法。2. An interference fringe recorded on the master hologram is obtained by allowing one light flux to enter from a non-exposed hologram photosensitive material laminated on a reflective master hologram. In the hologram production method for copying to the hologram photosensitive material, in the state in which a phase difference plate is provided on the opposite side of the master hologram from the side where the unexposed hologram photosensitive material is laminated, one side from the unexposed hologram photosensitive material side is provided. A hologram production method, characterized in that a light beam is incident to copy the interference fringes recorded in the master hologram onto the hologram photosensitive material.
ホログラム感光材料を積層したものに、前記マスターホ
ログラム側から一光束を入射させて前記マスターホログ
ラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム感光材料
にコピーするホログラム作製法において、 前記未露光のホログラム感光材料の前記マスターホログ
ラムとは反対側に位相差板を設けた状態で前記マスター
ホログラム側から一光束を入射させて前記マスターホロ
グラムに記録されている干渉縞を前記ホログラム感光材
料にコピーすることを特徴とするホログラム作製法。3. A hologram photosensitive material, wherein an unexposed hologram photosensitive material is laminated on a transmissive master hologram, and an interference fringe recorded on the master hologram is caused by making one light beam incident from the master hologram side. In the method for producing a hologram to be copied to, in the state in which a retardation plate is provided on the side opposite to the master hologram of the unexposed hologram photosensitive material, one light flux is incident from the master hologram side and recorded on the master hologram. A method for producing a hologram, characterized in that the existing interference fringes are copied onto the hologram photosensitive material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35306095A JPH09185313A (en) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | Manufacture of hologram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35306095A JPH09185313A (en) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | Manufacture of hologram |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09185313A true JPH09185313A (en) | 1997-07-15 |
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ID=18428296
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP35306095A Withdrawn JPH09185313A (en) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | Manufacture of hologram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09185313A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000049467A1 (en) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Zebra Imaging, Inc. | System and method for producing and displaying a one-step, edge-lit hologram |
| WO2012042793A1 (en) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | パナソニック株式会社 | See-through display device and vehicle having see-through display device mounted thereon |
| US11703799B2 (en) | 2018-01-08 | 2023-07-18 | Digilens Inc. | Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells |
| EP4119994A4 (en) * | 2020-09-14 | 2023-12-20 | Lg Chem, Ltd. | Holographic optical element and method for manufacturing same |
-
1995
- 1995-12-27 JP JP35306095A patent/JPH09185313A/en not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000049467A1 (en) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Zebra Imaging, Inc. | System and method for producing and displaying a one-step, edge-lit hologram |
| WO2012042793A1 (en) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | パナソニック株式会社 | See-through display device and vehicle having see-through display device mounted thereon |
| CN103140791A (en) * | 2010-10-01 | 2013-06-05 | 松下电器产业株式会社 | See-through display device and vehicle having see-through display device mounted thereon |
| US9285588B2 (en) | 2010-10-01 | 2016-03-15 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | See-through display device and vehicle having see-through display device mounted thereon |
| JP5950233B2 (en) * | 2010-10-01 | 2016-07-13 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | See-through display device and vehicle equipped with see-through display device |
| US11703799B2 (en) | 2018-01-08 | 2023-07-18 | Digilens Inc. | Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells |
| EP4119994A4 (en) * | 2020-09-14 | 2023-12-20 | Lg Chem, Ltd. | Holographic optical element and method for manufacturing same |
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