JPH09181140A - Semiconductor integrated circuit assembly inspection equipment and inspection method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit assembly inspection equipment and inspection method

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JPH09181140A
JPH09181140A JP7339392A JP33939295A JPH09181140A JP H09181140 A JPH09181140 A JP H09181140A JP 7339392 A JP7339392 A JP 7339392A JP 33939295 A JP33939295 A JP 33939295A JP H09181140 A JPH09181140 A JP H09181140A
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JP
Japan
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lead
camera
chip
connection state
image information
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7339392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoaki Takubo
知章 田窪
Hiroshi Tazawa
浩 田沢
Hidekazu Hosomi
英一 細美
Yasushi Shibazaki
康司 柴崎
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • GPHYSICS
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    • G01R31/50Testing of electric apparatus, lines, cables or components for short-circuits, continuity, leakage current or incorrect line connections
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    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable easily detecting an imperfect bonding state wherein a lead levitates slightly from a bump, in the inspection of a junction part after ILB (inner lead bonding) of TAB technique. SOLUTION: A semiconductor chip 1 is fixed by a stage 6, and leads 3 (3a, 3b) of a TAB tape held by a retaining part 7 are connected with bumps 2 on the chip 1. A CCD camera 5 is installed above the chip 1, and the stage 6 is subjected to movement control in the vertical direction by a movement control mechanism 8. The camera 5 obtains the connection state after ILB wherein the leads 3 are connected with the bumps 2, as first image data, and obtains the connection state of the leads 3 and the bumps 2 in a different positional relation, as second image data. The different positional relation is obtained, e.g. after the stage 6 is moved by the movement control mechanism 8 and only the chip 1 is slightly moved downward. By comparing the image data, the quality of connection state is judged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、TAB技術で使
用するボンディング後のリード電極とバンプとの接続状
態の検査方法及び検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection method and an inspection apparatus for a connection state between a lead electrode and a bump after bonding used in a TAB technique.

【0002】[0002]

【従来の技術】ILB(インナリードボンディング)後
にインナーリードがバンプに正常に接合されているかど
うかを検出する方法として、CCDカメラを用いて画像
データを取り込み、バンプとリードを認識してその位置
ずれを測定する検査方法がある。
2. Description of the Related Art As a method for detecting whether or not inner leads are normally joined to bumps after ILB (Inner Lead Bonding), image data is captured using a CCD camera, bumps and leads are recognized, and their positions are displaced. There is an inspection method to measure.

【0003】図14は上記検査が行われる従来の半導体
集積回路組立検査装置の構成を示す側面図である。半導
体チップ1 上に形成されたバンプ2 において、可撓性の
フィルム4 上に形成されたリード3 が接続されている。
チップ1 はステージ6 に真空吸着により固定されてい
る。7 はリード付きフィルムを保持する支持部である。
チップ1 の上方の位置認識用のCCDカメラ5 によって
バンプとリードの接合部を拡大してその部分の画像デー
タをとりこむようにしている。
FIG. 14 is a side view showing the configuration of a conventional semiconductor integrated circuit assembly inspection device for performing the above inspection. In the bump 2 formed on the semiconductor chip 1, the lead 3 formed on the flexible film 4 is connected.
Chip 1 is fixed to stage 6 by vacuum suction. Reference numeral 7 is a supporting portion for holding the film with leads.
A CCD camera 5 for recognizing the position above the chip 1 enlarges the joint between the bump and the lead so as to capture the image data of that portion.

【0004】カメラ5 はバンプあるいはリード上面に焦
点を合わせて画像データを取得するが、カメラがある焦
点深度を持つので、バンプ上面に焦点を合わせればリー
ド上面にも焦点は合い、逆にリード上面に焦点を合わせ
てもバンプ上面に焦点は合う。その後、画像データが取
り込まれ、バンプ、リードの形状認識が行われるとリー
ドがバンプの外にはみだしていないかどうかの判定をす
る。これにより、ILB後のリードの接合ずれが検出さ
れる。
The camera 5 obtains image data by focusing on the bump or the lead upper surface, but since the camera has a certain depth of focus, if the bump upper surface is focused, the lead upper surface is also focused, and conversely. Even if you focus on, the top surface of the bump is still in focus. After that, when the image data is captured and the shapes of the bumps and leads are recognized, it is determined whether or not the leads are protruding outside the bumps. As a result, the lead misalignment after the ILB is detected.

【0005】ところが、リードがバンプに対して単に接
する程度か、あるいは僅かにバンプから浮いていてリー
ドがバンプに接続されていない場合には、カメラ5 に取
り込まれた画像情報から接続状態の良否を判定すること
は困難であった。
However, if the leads are not in contact with the bumps, or if the leads are slightly floating from the bumps and the leads are not connected to the bumps, it is possible to judge whether the connection state is good or bad from the image information taken in by the camera 5. It was difficult to judge.

【0006】図15は図14のカメラが取得する画像デ
ータの一部を示すリード/バンプ接続状態図である。図
16、図17はそれぞれ、図15におけるF16−F1
6線、F17−F17線に沿った断面図を示している。
図16のリード3aとバンプ2の接続状態は良好である
が、図17では僅かにバンプ2 からリード3bが浮いてお
り、接続不良が生じている。
FIG. 15 is a lead / bump connection state diagram showing a part of the image data acquired by the camera of FIG. 16 and 17 are respectively F16-F1 in FIG.
6 shows a sectional view taken along line 6 and line F17-F17.
The connection between the lead 3a and the bump 2 in FIG. 16 is good, but in FIG. 17, the lead 3b slightly floats from the bump 2 and a connection failure occurs.

【0007】しかし、図15に示したようにカメラ5 の
持つ焦点深度のためにリード3b及びバンプ2 には焦点が
合っており、このような微少なバンプ2 からのリード3b
の浮きを不良検出することができなかった。
However, as shown in FIG. 15, the leads 3b and the bumps 2 are in focus due to the depth of focus of the camera 5, and the leads 3b from such minute bumps 2 are in focus.
It was not possible to detect the floating of the defect.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように従来では、
リードが、バンプに接するだけ、あるいは僅かにバンプ
から浮いていてバンプとの接続が不十分な状態は、チッ
プ上方のカメラに取り込まれた画像からは接続不良を検
出することは非常に困難であるという問題があった。
As described above, conventionally,
If the lead is only in contact with the bump or is slightly floating from the bump and the connection with the bump is insufficient, it is very difficult to detect the poor connection from the image captured by the camera above the chip. There was a problem.

【0009】この発明は上記事情を考慮してなされたも
のであり、その目的は、僅かなリードの浮きもカメラか
ら取り込まれた画像データで認識できるような半導体集
積回路組立検査装置及びその検査方法を提供することに
ある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is a semiconductor integrated circuit assembly inspecting apparatus and an inspecting method thereof in which even a slight floating of a lead can be recognized by image data taken from a camera. To provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明の半導体集積回
路組立検査装置は、半導体チップが固定されるステージ
と、前記半導体チップの所定箇所にリードが接続される
ように制御する組み立て手段と、前記組み立て手段によ
るリード接続状態と、このリード接続状態とは異なる位
置関係に変化させた前記組み立て手段におけるリード接
続状態との少なくとも2種類を画像情報として取得する
カメラとを具備し、前記画像情報を比較して前記リード
と所定箇所との接続状態の良否を判定することを具備し
たことを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit assembly / inspection apparatus comprising: a stage to which a semiconductor chip is fixed; and an assembly means for controlling a lead to be connected to a predetermined portion of the semiconductor chip. The image information is compared by including a camera for acquiring at least two types of the lead connection state by the assembling means and the lead connection state in the assembling means changed to a positional relationship different from the lead connection state as image information. Then, the quality of the connection between the lead and the predetermined portion is determined.

【0011】この発明の第一の半導体集積回路組立検査
方法は、半導体チップのバンプにTABテープのリード
が接続されるように制御する組み立て工程と、前記組み
立て工程によるリードとバンプとの接続位置においてカ
メラにより前記リードとバンプの接続状態を第1の画像
情報として取得する第1工程と、前記チップを移動させ
ることにより前記第1工程による前記チップから前記カ
メラまでの距離を変化させた後、前記カメラにより前記
リードとバンプの接続状態を第2の画像情報として取得
する第2工程と、前記第1の画像情報と第2の画像情報
とを比較して前記リードとバンプとの接続状態の良否を
判定する検出工程とを具備したことを特徴とする。
A first semiconductor integrated circuit assembly inspection method according to the present invention comprises an assembly step of controlling the leads of the TAB tape to be connected to the bumps of the semiconductor chip, and a step of connecting the leads and the bumps by the assembly step. A first step of obtaining a connection state between the lead and the bump as first image information by a camera; and changing the distance from the chip to the camera in the first step by moving the chip, The second step of obtaining the connection state of the lead and the bump as second image information by a camera and the first image information and the second image information are compared to determine whether the connection state of the lead and the bump is good or bad. And a detection step of determining.

【0012】この発明の第二の半導体集積回路組立検査
方法は、TABテープを所定位置に保持し半導体チップ
上のバンプにTABテープのリードが接続されるように
制御する組み立て工程と、前記組み立て工程によるリー
ドとバンプとの接続状態をカメラにより第1の画像情報
として取得する第1工程と、前記組み立て工程における
前記TABテープの所定位置を保ったまま前記チップと
カメラを移動させ移動後も前記第1工程における前記チ
ップとカメラの間の距離と同じにして前記リードとバン
プの接続状態を第2の画像情報として取得する第2工程
と、前記第1の画像情報と第2の画像情報とを比較して
前記リードとバンプとの接続状態の良否を判定する検出
工程とを具備したことを特徴とする。
A second semiconductor integrated circuit assembly inspection method according to the present invention comprises an assembly step of holding the TAB tape at a predetermined position and controlling the leads of the TAB tape to be connected to bumps on the semiconductor chip, and the assembly step. The first step of obtaining the connection state between the lead and the bump by the camera as the first image information by the camera, and the chip and the camera are moved while the predetermined position of the TAB tape in the assembling step is kept and the first step is performed after the movement. The second step of obtaining the connection state of the lead and the bump as the second image information at the same distance as the distance between the chip and the camera in the one step, and the first image information and the second image information. And a detecting step of comparing the lead and the bump to determine whether or not the connection state between the lead and the bump is good.

【0013】この発明によれば、第1工程後、リードの
位置ずれ、リード浮き検査時に、TABテープの所定位
置に対してチップの位置関係を変えた状態で第2の画像
データとして、再度画像データを取り込むことにより、
焦点ずれや位置ずれが明らかになり不良検出の対象とな
る。
According to the present invention, after the first step, at the time of the lead displacement inspection and the lead floating test, the image is re-imaged as the second image data in a state where the positional relationship of the chip is changed with respect to the predetermined position of the TAB tape. By capturing the data,
Defocus and position shift become clear and are the targets of defect detection.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1はこの発明の第一の実施形態
に係る半導体集積回路組立検査装置の構成を示す側面図
である。半導体チップ1 がステージ6 に真空吸着により
固定されている。半導体チップ1 上に形成されたバンプ
2 には、可撓性フィルム4 上に形成されたTABテープ
のリード3 (3-a ,3-b )が接続される。このリード3
が付いているTABテープは支持部7 により保持され
る。チップ上方にはCCDカメラ5 が配備されている。
ステージ6 は移動制御機構8 により上下方向に移動制御
される。
1 is a side view showing the structure of a semiconductor integrated circuit assembly inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. The semiconductor chip 1 is fixed to the stage 6 by vacuum suction. Bumps formed on semiconductor chip 1
The lead 3 (3-a, 3-b) of the TAB tape formed on the flexible film 4 is connected to 2. This lead 3
The TAB tape marked with is held by the support 7. A CCD camera 5 is provided above the chip.
The stage 6 is vertically controlled by a movement control mechanism 8.

【0015】カメラ5 は、それぞれのバンプ2 とリード
3 とが接続されるILB(インナリードボンディング)
後、リード3 とバンプ2 との接続状態を画像情報として
取得する。ここではカメラ5 は、ILB直後の位置関係
におけるリード3 とバンプ2の接続状態を第1の画像デ
ータとして、さらに異なる位置関係、例えばステージ6
を動かして僅かにチップだけを下方に移動した後のリー
ド3 とバンプ2 の接続状態を第2の画像データとして取
得する。そのため、ステージ6 は移動制御機構8 により
図中矢印18の方向に所定距離移動するように制御され
る。
The camera 5 has each bump 2 and lead
ILB (inner lead bonding) connected to 3
Then, the connection state between the lead 3 and the bump 2 is acquired as image information. Here, the camera 5 uses the connection state between the lead 3 and the bump 2 in the positional relationship immediately after the ILB as the first image data, and further uses a different positional relationship, for example, the stage 6
Is moved to move the chip slightly downward, and the connection state between the lead 3 and the bump 2 is acquired as the second image data. Therefore, the stage 6 is controlled by the movement control mechanism 8 so as to move a predetermined distance in the direction of the arrow 18 in the drawing.

【0016】図2は図1のカメラ5 が取得する第2の画
像データの一部をイメージ的に示すリード/バンプ接続
状態図である。リード3 (3a,3b)の伸長方向の断面は
図示しないが上面の幅が下面の幅より狭い台形であるの
でリード3 (3a,3b)は図示のようになる。図3、図4
はそれぞれ、図2のF3−F3線、F4−F4線に沿っ
た断面図を示している。図3のリード3aとバンプ2 の接
続状態は良好であるが、図4ではバンプ2 からリード3b
が浮いており、接続不良が生じている。
FIG. 2 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of the second image data acquired by the camera 5 of FIG. Although the cross section of the lead 3 (3a, 3b) in the extension direction is not shown, the lead 3 (3a, 3b) has a trapezoidal shape in which the width of the upper surface is narrower than the width of the lower surface. 3 and 4
Shows cross-sectional views taken along lines F3-F3 and F4-F4 of FIG. 2, respectively. The connection between the lead 3a and the bump 2 in FIG. 3 is good, but in FIG.
Is floating and a poor connection has occurred.

【0017】すなわち、ILB直後に上記第1の画像デ
ータを取得した後、TABテープ4の保持位置を保った
まま、移動制御機構8 によりステージ6 が矢印18方向に
引き下げられる。これにより、バンプ2 と良好に接合さ
れているリード3aは、図3に示したようにチップ1 と共
に引き下げられるが、バンプ2 から僅かに浮いて接合が
不十分だったリード3bは、図4に示したようにそのまま
の位置を保っている(図1にも図示)。
That is, after the first image data is obtained immediately after the ILB, the movement control mechanism 8 pulls down the stage 6 in the direction of arrow 18 while maintaining the holding position of the TAB tape 4. As a result, the lead 3a which is well bonded to the bump 2 is pulled down together with the chip 1 as shown in FIG. 3, but the lead 3b which is slightly floated from the bump 2 and is insufficiently bonded is shown in FIG. It remains in that position as shown (also shown in Figure 1).

【0018】このような状態で上記第2の画像データを
取り込むと、図2のバンプ及びリードの画像に示される
ように、バンプ2 から浮いているリード3bは第1の画像
データ取得時と変わらずリード(3 )に焦点が合ったま
まであるが、バンプ2 に良好に接続されたリード3aは焦
点がずれて画像がぼけた状態になりリード3a及びバンプ
2 を画像で認識できなくなる。
When the second image data is taken in in such a state, as shown in the image of the bumps and leads of FIG. 2, the leads 3b floating from the bumps 2 are the same as those at the time of obtaining the first image data. The lead (3) is still in focus, but the lead 3a that is well connected to the bump 2 is out of focus and the image is out of focus.
2 cannot be recognized in the image.

【0019】上記構成の方法によれば、チップ1 を引き
下げた後に依然としてリード(3 )が認識できたところ
が接続不良である。このように、カメラの焦点ずれを利
用して、リード浮き検査が精度良く、容易に実施可能に
なる。なお、チップ1 を引き下げる量は、カメラ5 の焦
点深度より大きくする必要がある。
According to the method of the above configuration, the connection is defective where the lead (3) can still be recognized after the chip 1 is pulled down. As described above, by utilizing the defocus of the camera, the lead floating inspection can be performed accurately and easily. The amount by which the chip 1 is pulled down must be larger than the depth of focus of the camera 5.

【0020】焦点深度は使用するカメラや倍率による
が、一般に倍率を上げれば焦点深度が浅くなる。焦点深
度が浅ければチップを引き下げる量が少なくてもバンプ
に接続されたリードは焦点がぼける。しかし、焦点深度
が浅すぎると画像認識自体が困難になってくる。例え
ば、リード上面に焦点を合わせるとバンプ上面の焦点が
合わなくなる、またはバンプ上面に焦点を合わせるとリ
ード上面の焦点が合わなくなるといった問題が起こるの
で、カメラ5 はある程度画像認識が容易なように適当な
倍率を選べば良い。
The depth of focus depends on the camera used and the magnification, but generally the higher the magnification, the shallower the depth of focus. If the depth of focus is shallow, the leads connected to the bumps will be out of focus even if the amount of pulling down the chip is small. However, if the depth of focus is too shallow, image recognition itself becomes difficult. For example, if the focus is on the top surface of the lead, the bump top surface is out of focus, or if the focus is on the bump top surface, the top surface of the lead is out of focus. You can choose a suitable magnification.

【0021】図5はこの発明の第二の実施形態に係る半
導体集積回路組立検査装置の構成を示す側面図である。
前記第一の実施形態と異なる点は、ILB後の第2の画
像データを取得するにあたって、ステージ6 を移動制御
機構8 により図中矢印18の方向に移動すると共にその同
じ量だけカメラ5 も移動制御機構9 により引き下げると
ころにある(図中矢印19)。そのため、チップとカメラ
は第1の画像データ取得後移動し、かつ移動後もチップ
とカメラの間の距離を第1の画像データ取得時と同じに
保つように制御される。
FIG. 5 is a side view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection apparatus according to the second embodiment of the present invention.
The difference from the first embodiment is that when acquiring the second image data after ILB, the stage 6 is moved in the direction of the arrow 18 in the figure by the movement control mechanism 8 and the camera 5 is also moved by the same amount. It is being pulled down by the control mechanism 9 (arrow 19 in the figure). Therefore, the chip and the camera are moved after the first image data is acquired, and the distance between the chip and the camera is controlled to be the same after the first image data is acquired as after the movement.

【0022】図6は図5のカメラ5 が取得する第2の画
像データの一部をイメージ的に示すリード/バンプ接続
状態図である。図7、図8はそれぞれ、図6のF7−F
7線、F8−F8線に沿った断面図を示している。図7
のリード3aとバンプ2 の接続状態は良好であるが、図8
ではバンプ2 からリード3bが浮いており、接続不良が生
じている。
FIG. 6 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of the second image data acquired by the camera 5 of FIG. 7 and 8 are respectively F7-F in FIG.
7 shows a sectional view taken along line 7 and line F8-F8. Figure 7
Although the connection between the lead 3a and the bump 2 is good,
Then, the lead 3b floats from the bump 2 and a connection failure occurs.

【0023】すなわち、ILB直後に上記第1の画像デ
ータを取得した後、TABテープ4の保持位置を保った
まま移動制御機構8 によりステージ6 が矢印18方向に引
き下げられ、これに伴いカメラ5 も移動制御機構9 によ
り矢印19方向に引き下げられる。ただし、この移動によ
り第1の画像データを取得時のリード接続位置でのチッ
プ1 とカメラ5 の間の距離は変わらないようになってい
る。
That is, after the first image data is acquired immediately after the ILB, the movement control mechanism 8 pulls down the stage 6 in the direction of the arrow 18 while keeping the holding position of the TAB tape 4, and accordingly the camera 5 also. It is pulled down in the direction of arrow 19 by the movement control mechanism 9. However, this movement does not change the distance between the chip 1 and the camera 5 at the lead connection position when acquiring the first image data.

【0024】この結果、バンプ2 と良好に接合されてい
るリード3aは、図7に示したようにチップ1 と共に引き
下げられるが、バンプ2 から僅かに浮いて接合が不十分
だったリード3bは、図8に示したようにそのままの位置
を保っている(図5にも図示)。
As a result, the lead 3a which is well bonded to the bump 2 is pulled down together with the chip 1 as shown in FIG. 7, but the lead 3b which is slightly floated from the bump 2 and is insufficiently bonded is The position is maintained as it is as shown in FIG. 8 (also shown in FIG. 5).

【0025】このような状態で上記第2の画像データを
取り込むと、図6のバンプ及びリードの画像に示される
ように、今度はカメラもチップと同じだけ移動している
ので、バンプ2 に良好に接続されたリード3aは第1の画
像データ取得時と変わらずリード(3 )に焦点が合った
ままであるが、バンプ2 から浮いているリード3bは焦点
がずれて画像がぼけた状態になりリード3a及びバンプ2
を画像で認識できなくなる。
When the second image data is fetched in such a state, as shown in the image of bumps and leads in FIG. 6, the camera also moves by the same amount as the chip this time, so that the bump 2 is good. The lead 3a connected to is still in focus on the lead (3) as it was when the first image data was acquired, but the lead 3b floating from the bump 2 is out of focus and the image is blurred. Lead 3a and bump 2
Can not be recognized in the image.

【0026】上記構成の方法によれば、チップ1 を引き
下げた後にリード(3 )が認識できなくなったところが
接続不良である。これにより、第1の実施形態と同様に
カメラの焦点ずれを利用して、リード浮き検査が精度良
く、容易に実施可能になる。なお、チップ1 及びカメラ
5 を引き下げる量は、第1の実施形態と同様にカメラ5
の焦点深度より大きくする必要があり、焦点深度は使用
するカメラの倍率はある程度画像認識が容易なように適
当な倍率を選べば良い。
According to the method of the above configuration, the connection is defective where the lead (3) cannot be recognized after the chip 1 is pulled down. As a result, similarly to the first embodiment, the lead floating inspection can be performed accurately and easily by utilizing the defocus of the camera. Chip 1 and camera
The amount of pulling down 5 is the same as in the first embodiment.
It is necessary to make the depth of focus larger than the depth of focus of the camera used, and the depth of focus of the camera to be used may be appropriately selected so that image recognition is easy to some extent.

【0027】図9はこの発明の第三の実施形態に係る半
導体集積回路組立検査装置の構成を示す側面図である。
前記第一の実施形態と異なる点は、ILB後の第2の画
像データを取得するにあたって、ステージ6 が移動制御
機構10によって図中矢印20の方向に移動すると共にその
同じ量だけカメラ5 も移動制御機構11によって引き上げ
られるところにある(図中矢印21)。そのため、チップ
とカメラは第1の画像データ取得後移動し、かつ移動後
もチップとカメラの間の距離を第1の画像データ取得時
と同じに保つように制御される。
FIG. 9 is a side view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection apparatus according to the third embodiment of the present invention.
The difference from the first embodiment is that the stage 6 moves in the direction of arrow 20 in the figure by the movement control mechanism 10 and the camera 5 moves by the same amount when acquiring the second image data after ILB. It is being pulled up by the control mechanism 11 (arrow 21 in the figure). Therefore, the chip and the camera are moved after the first image data is acquired, and the distance between the chip and the camera is controlled to be the same after the first image data is acquired as after the movement.

【0028】図10は図9のカメラ5 が取得する第2の
画像データの一部をイメージ的に示すリード/バンプ接
続状態図である。図11、図12はそれぞれ、図10に
おけるF11−F11線、F12−F12線に沿った断
面図を示している。図11のリード3aとバンプ2 の接続
状態は良好であるが、図12ではバンプ2 とリード3bが
接合されておらず、接続不良が生じている。
FIG. 10 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of the second image data acquired by the camera 5 of FIG. 11 and 12 are cross-sectional views taken along lines F11-F11 and F12-F12 in FIG. 10, respectively. Although the connection state between the lead 3a and the bump 2 in FIG. 11 is good, the bump 2 and the lead 3b are not joined in FIG. 12, and a connection failure occurs.

【0029】すなわち、ILB直後に上記第1の画像デ
ータを取得した後、TABテープ4の保持位置を保った
まま移動制御機構10によりステージ6 が矢印20方向に引
き上げられ、これに伴いカメラ5 も移動制御機構11によ
り矢印21方向に引き上げられる。ただし、この移動によ
り第1の画像データを取得時のリード接続位置でのチッ
プ1 とカメラ5 の間の距離は変わらないようになってい
る。
That is, after the first image data is acquired immediately after the ILB, the stage 6 is pulled up in the direction of the arrow 20 by the movement control mechanism 10 while maintaining the holding position of the TAB tape 4, and accordingly the camera 5 is also pulled. It is pulled up in the direction of arrow 21 by the movement control mechanism 11. However, this movement does not change the distance between the chip 1 and the camera 5 at the lead connection position when acquiring the first image data.

【0030】この結果、バンプ2 と良好に接合されてい
るリード3aは、図11に示したようにチップ1 と共に引
き上げられ接合部に位置ずれは生じないが、バンプ2 か
ら僅かに浮いて接合が不十分だったリード3bは、図12
に示したようにチップ1 と共に引き上げられ、位置ずれ
が生じるようになる。
As a result, the lead 3a, which is well bonded to the bump 2, is pulled up together with the chip 1 as shown in FIG. Inadequate lead 3b is shown in Figure 12.
As shown in (1), the chip 1 is pulled up together with the chip 1, and the positional deviation occurs.

【0031】このような状態で上記第2の画像データを
取り込むと、図10のバンプ及びリードの画像に示され
るように、カメラもチップと同じだけ移動しているので
焦点は合っている。そして、バンプ2 に良好に接続され
たリード3aは第1の画像データ取得時と変わらず接合部
の位置ずれは生じていないが、バンプ2 から浮いていた
リード3bは接合部の位置ずれが画像認識される。
When the second image data is taken in such a state, as shown in the image of bumps and leads in FIG. 10, the camera is also moved by the same amount as the chip, so that the image is in focus. Then, the lead 3a that is well connected to the bump 2 does not have the displacement of the joint portion as it did when the first image data was acquired, but the lead 3b that floated from the bump 2 has the displacement of the joint image. Be recognized.

【0032】上記構成の方法によれば、チップ1 を引き
上げた後にリード(3 )の位置ずれが生じたところが接
続不良である。これにより、リード浮き検査が精度良
く、容易に実施可能になる。
According to the method of the above construction, the connection is defective where the lead (3) is displaced after the chip 1 is pulled up. As a result, the lead floating inspection can be performed accurately and easily.

【0033】以上説明したように、第1〜第3の各実施
の形態によれば、ILB後のリード浮き検査が位置認識
用のカメラによって可能になる。よって、例えばILB
後のリード浮き検査がリード位置ずれ検出と共に短時間
で実施できるようになる。また、各実施の形態で示した
方法により接続不良を生じているインナーリードが検出
された場合、再度ボンディング工程、接続状態の検査の
工程を繰り返せば、接続不良による不良製品が激減し、
組立歩留まりを飛躍的に向上させることができる。ま
た、検査用の画像を取得するカメラは上記各実施の形態
で示すようにボンディング時に位置合わせのために用い
ているカメラ1個を用いるだけでも良いし、別の専用の
カメラを用いても良い。
As described above, according to the first to third embodiments, the lead floating inspection after ILB can be performed by the position recognition camera. Thus, for example, ILB
The subsequent lead floating inspection can be performed in a short time together with the lead position deviation detection. Further, when the inner lead causing the connection failure is detected by the method shown in each of the embodiments, if the bonding step and the connection state inspection step are repeated again, the defective products due to the connection failure are drastically reduced,
The assembly yield can be dramatically improved. Further, as the camera for acquiring the image for inspection, it is possible to use only one camera used for alignment during bonding as shown in each of the above embodiments, or another dedicated camera may be used. .

【0034】また、第2、第3の実施の形態についてカ
メラは移動制御機構によって移動するように示したが、
カメラ自体移動しなくても、ステージの移動分だけ焦点
位置を変えるように設定することもできる。また、図1
3に示すように、ステージ6とカメラ5 が連動して動く
ような共通の移動制御機構12を構成しても良い。
Although the camera is shown to move by the movement control mechanism in the second and third embodiments,
Even if the camera itself does not move, the focus position can be changed by the amount of movement of the stage. Also, FIG.
As shown in FIG. 3, a common movement control mechanism 12 may be configured so that the stage 6 and the camera 5 move together.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ILB後のリード浮き検査がリード位置ずれ検出と
同時にできるようになる。また、接続不良を生じている
インナーリードが検出された場合、ボンディングをもう
一度行うようにすれば、接続不良による不良製品が低減
し組立歩留まりを飛躍的に向上させることができる半導
体集積回路組立検査装置及び検査方法が提供できる。
As described above, according to the present invention, the lead floating inspection after ILB can be performed simultaneously with the detection of the lead position deviation. Further, when an inner lead causing a connection failure is detected, if the bonding is performed again, the number of defective products due to the connection failure can be reduced and the assembly yield can be dramatically improved. And an inspection method can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第一の実施形態に係る半導体集積回
路組立検査装置の構成を示す側面図。
FIG. 1 is a side view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のカメラが取得する第2の画像データの一
部をイメージ的に示すリード/バンプ接続状態図。
FIG. 2 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of the second image data acquired by the camera of FIG.

【図3】図2のF3−F3線に沿った断面図。3 is a cross-sectional view taken along line F3-F3 of FIG.

【図4】図2のF4−F4線に沿った断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line F4-F4 of FIG.

【図5】この発明の第二の実施形態に係る半導体集積回
路組立検査装置の構成を示す側面図。
FIG. 5 is a side view showing a configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図5のカメラが取得する第2の画像データの一
部をイメージ的に示すリード/バンプ接続状態図。
FIG. 6 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of second image data acquired by the camera of FIG.

【図7】図6のF7−F7線に沿った断面図。7 is a cross-sectional view taken along line F7-F7 of FIG.

【図8】図6のF8−F8線に沿った断面図。8 is a cross-sectional view taken along line F8-F8 of FIG.

【図9】この発明の第三の実施形態に係る半導体集積回
路組立検査装置の構成を示す側面図。
FIG. 9 is a side view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection device according to a third embodiment of the present invention.

【図10】図9のカメラが取得する第2の画像データの
一部をイメージ的に示すリード/バンプ接続状態図。
FIG. 10 is a lead / bump connection state diagram conceptually showing a part of the second image data acquired by the camera of FIG. 9.

【図11】図10のF11−F11線に沿った断面図。11 is a cross-sectional view taken along line F11-F11 of FIG.

【図12】図10のF12−F12線に沿った断面図。12 is a cross-sectional view taken along line F12-F12 of FIG.

【図13】この発明の第二、第三の実施形態の応用に係
る半導体集積回路組立検査装置の構成を示す側面図。
FIG. 13 is a side view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit assembly inspection device according to an application of the second and third embodiments of the present invention.

【図14】従来の半導体集積回路組立検査装置の構成を
示す側面図。
FIG. 14 is a side view showing the configuration of a conventional semiconductor integrated circuit assembly inspection device.

【図15】図14のカメラが取得する画像データの一部
を示すリード/バンプ接続状態図。
FIG. 15 is a lead / bump connection state diagram showing a part of image data acquired by the camera of FIG.

【図16】図15のF16−F16線に沿った断面図。16 is a cross-sectional view taken along line F16-F16 of FIG.

【図17】図15のF17−F17線に沿った断面図。17 is a cross-sectional view taken along line F17-F17 of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…チップ、 2…バンプ、 3(3a,3b)…リード、 4…フィルム、 5…カメラ、 6…ステージ、 7…TABテープの支持部、 8, 9,10,11…移動制御機構。 1 ... Chip, 2 ... Bump, 3 (3a, 3b) ... Lead, 4 ... Film, 5 ... Camera, 6 ... Stage, 7 ... TAB tape support, 8, 9, 10, 11 ... Movement control mechanism.

フロントページの続き (72)発明者 細美 英一 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 柴崎 康司 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内Front page continued (72) Inventor Eiichi Hosomi 1 Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Inside Toshiba Research & Development Center, Inc. (72) Inventor Koji Shibazaki 25-1, Ekimaehonmachi, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Microelectronics Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップが固定されるステージと、 前記半導体チップの所定箇所にリードが接続されるよう
に制御する組み立て手段と、 前記組み立て手段によるリード接続状態と、このリード
接続状態とは異なる位置関係に変化させた前記組み立て
手段におけるリード接続状態との少なくとも2種類を画
像情報として取得するカメラとを具備し、 前記画像情報を比較して前記リードと所定箇所との接続
状態の良否を判定することを具備したことを特徴とする
半導体集積回路組立検査装置。
1. A stage to which a semiconductor chip is fixed, an assembly means for controlling a lead to be connected to a predetermined portion of the semiconductor chip, a lead connection state by the assembly means, and a lead connection state different from each other. A camera that acquires, as image information, at least two types of lead connection states in the assembling means that have been changed in the positional relationship, and compares the image information to determine whether the connection state between the leads and a predetermined location is good or bad. A semiconductor integrated circuit assembly inspecting apparatus, comprising:
【請求項2】 半導体チップが固定されるステージと、 前記半導体チップの所定箇所にTABテープのリードが
接続されるように制御する組み立て手段と、 前記リードと所定箇所との接続状態を画像情報として取
得するカメラと、 前記組み立て手段によるリード接続位置での前記チップ
から前記カメラまでの第1距離と、この第1距離から変
化した前記チップから前記カメラまでの第2距離とを設
定できる移動手段とを具備し、 前記カメラによって前記第1距離と第2距離とでそれぞ
れ取得した画像情報を比較して前記リードと所定箇所と
の接続状態の良否を判定することを特徴とする半導体集
積回路組立検査装置。
2. A stage to which a semiconductor chip is fixed, an assembly means for controlling a lead of a TAB tape to be connected to a predetermined portion of the semiconductor chip, and a connection state of the lead and the predetermined portion as image information. A camera to be acquired, a moving means capable of setting a first distance from the chip to the camera at a lead connection position by the assembling means, and a second distance from the chip to the camera changed from the first distance. The semiconductor integrated circuit assembly inspection, comprising: comparing the image information acquired by the camera at the first distance and the image information acquired at the second distance, and determining the quality of the connection between the lead and a predetermined location. apparatus.
【請求項3】 前記組み立て手段は前記TABテープを
保持する保持手段を含み、前記移動手段による第1距離
から第2距離の変化では前記リード接続位置における、
前記保持手段による前記TABテープの保持位置はその
まま保たれることを特徴とする請求項2記載の半導体集
積回路組立検査装置。
3. The assembling means includes holding means for holding the TAB tape, and at the lead connection position when the first distance changes to the second distance by the moving means.
3. The semiconductor integrated circuit assembly inspection device according to claim 2, wherein the holding position of the TAB tape by the holding means is maintained as it is.
【請求項4】 前記移動手段による第1距離から第2距
離の変化は前記カメラの焦点深度より大きくしたことを
特徴とする請求項3記載の半導体集積回路組立検査装
置。
4. The semiconductor integrated circuit assembly inspection apparatus according to claim 3, wherein the change from the first distance to the second distance by the moving means is made larger than the depth of focus of the camera.
【請求項5】 半導体チップが固定されるステージと、 TABテープを保持する支持部を備え前記半導体チップ
の所定箇所にTABテープのリードが接続されるように
制御する組み立て手段と、 前記リードと所定箇所との接続状態を画像情報として取
得するカメラと、 前記組み立て手段によるリード接続位置での前記支持部
の位置を保ったまま前記チップとカメラを移動させ移動
後も前記組み立て手段によるリード接続位置での前記チ
ップとカメラの間の距離と同じにする移動手段とを具備
し、 前記移動手段を機能させる前と後で前記カメラが取得し
たそれぞれの画像情報を比較して前記リードと所定箇所
との接続状態の良否を判定することを特徴とする半導体
集積回路組立検査装置。
5. A stage to which a semiconductor chip is fixed, and a support means for holding a TAB tape, and assembly means for controlling the lead of the TAB tape to be connected to a predetermined portion of the semiconductor chip, and the lead and the predetermined portion. A camera that obtains the connection state with a location as image information, and the chip and the camera are moved while the position of the support portion is maintained at the lead connection position by the assembling means, and at the lead connection position by the assembling means even after the movement. And a moving unit that makes the distance equal to the distance between the chip and the camera, comparing the respective image information acquired by the camera before and after the moving unit is operated, and comparing the lead and the predetermined position. A semiconductor integrated circuit assembly / inspection device, characterized by determining whether the connection state is good or bad.
【請求項6】 前記移動手段による移動距離は前記カメ
ラの焦点深度より大きくしたことを特徴とする請求項5
記載の半導体集積回路組立検査装置。
6. The distance moved by the moving means is larger than the depth of focus of the camera.
The semiconductor integrated circuit assembly inspection device described.
【請求項7】 半導体チップのバンプにTABテープの
リードが接続されるように制御する組み立て工程と、 前記組み立て工程によるリードとバンプとの接続位置に
おいてカメラにより前記リードとバンプの接続状態を第
1の画像情報として取得する第1工程と、 前記チップを移動させることにより前記第1工程による
前記チップから前記カメラまでの距離を変化させた後、
前記カメラにより前記リードとバンプの接続状態を第2
の画像情報として取得する第2工程と、 前記第1の画像情報と第2の画像情報とを比較して前記
リードとバンプとの接続状態の良否を判定する検出工程
とを具備したことを特徴とする半導体集積回路組立検査
方法。
7. An assembly process for controlling a lead of a TAB tape to be connected to a bump of a semiconductor chip, and a connection state between the lead and the bump is first detected by a camera at a connection position of the lead and the bump in the assembly process. After changing the distance from the chip to the camera according to the first step by moving the chip,
The second connection state of the lead and the bump is measured by the camera.
And a detection step of comparing the first image information and the second image information to determine whether the connection state between the lead and the bump is good or bad. Semiconductor integrated circuit assembly inspection method.
【請求項8】 TABテープを所定位置に保持し半導体
チップ上のバンプにTABテープのリードが接続される
ように制御する組み立て工程と、 前記組み立て工程によるリードとバンプとの接続状態を
カメラにより第1の画像情報として取得する第1工程
と、 前記組み立て工程における前記TABテープの所定位置
を保ったまま前記チップとカメラを移動させ移動後も前
記第1工程における前記チップとカメラの間の距離と同
じにして前記リードとバンプの接続状態を第2の画像情
報として取得する第2工程と、 前記第1の画像情報と第2の画像情報とを比較して前記
リードとバンプとの接続状態の良否を判定する検出工程
とを具備したことを特徴とする半導体集積回路組立検査
方法。
8. An assembling step of holding the TAB tape in a predetermined position and controlling so that leads of the TAB tape are connected to bumps on a semiconductor chip, and a connection state between the leads and bumps by the assembling step is detected by a camera. And a distance between the chip and the camera in the first step after moving the chip and the camera while keeping a predetermined position of the TAB tape in the assembling step. In the same manner, the second step of acquiring the connection state of the leads and the bumps as the second image information, and comparing the first image information and the second image information with each other to determine the connection state of the leads and the bumps. A semiconductor integrated circuit assembly inspection method, comprising: a detection step of determining pass / fail.
【請求項9】 前記検出工程により不良と判定された場
合、少なくとも不良箇所は再度前記組み立て工程から第
1、第2工程を経て検出工程がなされることを特徴とす
る請求項7または8記載の半導体集積回路組立検査方
法。
9. The method according to claim 7, wherein when the detection step determines that there is a defect, at least the defective portion is detected again through the assembling step and the first and second steps. Semiconductor integrated circuit assembly inspection method.
【請求項10】 前記第1の画像情報と第2の画像情報
との比較は前記カメラの焦点ずれの情報を利用すること
を特徴とする請求項7または8記載の半導体集積回路組
立検査方法。
10. The semiconductor integrated circuit assembly inspecting method according to claim 7, wherein the first image information and the second image information are compared with each other by using information on the defocus of the camera.
JP7339392A 1995-12-26 1995-12-26 Semiconductor integrated circuit assembly inspection equipment and inspection method Withdrawn JPH09181140A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107895362A (en) * 2017-10-30 2018-04-10 华中师范大学 A kind of machine vision method of miniature binding post quality testing
WO2020184644A1 (en) * 2019-03-13 2020-09-17 株式会社新川 Wire non-attachment inspection system, wire non-attachment detection device, and wire non-attachment detection method

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4651886B2 (en) * 2001-09-14 2011-03-16 東北パイオニア株式会社 Electronic device and method for manufacturing electronic device
CZ302231B6 (en) * 2006-10-19 2011-01-05 Ceské vysoké ucení technické v Praze Fakulta elektrotechnická Device to simulate influence of different thermal expansion coefficients of printed circuit board and terminal-free component connected thereto on properties of soldered and bonded connections
ATE535970T1 (en) * 2008-03-13 2011-12-15 Siemens Ag MANUAL CONNECTION SETUP

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5495424A (en) * 1990-04-18 1996-02-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for inspecting solder portions
JP2870142B2 (en) * 1990-07-17 1999-03-10 日本電気株式会社 Coplanarity measuring method and apparatus
US5598345A (en) * 1990-11-29 1997-01-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for inspecting solder portions
US5581632A (en) * 1994-05-02 1996-12-03 Cognex Corporation Method and apparatus for ball bond inspection system
US5909285A (en) * 1997-05-05 1999-06-01 Beaty; Elwin M. Three dimensional inspection system

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107895362A (en) * 2017-10-30 2018-04-10 华中师范大学 A kind of machine vision method of miniature binding post quality testing
CN107895362B (en) * 2017-10-30 2021-05-14 华中师范大学 Machine vision method for detecting quality of miniature wiring terminal
WO2020184644A1 (en) * 2019-03-13 2020-09-17 株式会社新川 Wire non-attachment inspection system, wire non-attachment detection device, and wire non-attachment detection method
JPWO2020184644A1 (en) * 2019-03-13 2021-06-03 株式会社新川 Wire non-delivery inspection system, wire non-delivery detection device and wire non-delivery detection method

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