JPH0917184A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JPH0917184A
JPH0917184A JP7164123A JP16412395A JPH0917184A JP H0917184 A JPH0917184 A JP H0917184A JP 7164123 A JP7164123 A JP 7164123A JP 16412395 A JP16412395 A JP 16412395A JP H0917184 A JPH0917184 A JP H0917184A
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JP
Japan
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memory device
semiconductor memory
memory cells
array
bit line
Prior art date
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Pending
Application number
JP7164123A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Hirama
哲也 平間
Norio Tosaka
範雄 東坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to JP7164123A priority Critical patent/JPH0917184A/en
Publication of JPH0917184A publication Critical patent/JPH0917184A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To reduce the power consumption of a semiconductor storage by arranging n pieces of memory cells in series between first second power supplies and reducing power consumption per memory cell. CONSTITUTION: Memory cells MC12 and MC22 consist of two transfer gates consisting of Depletion type FET and Enhanced type FET, respectively. In this state, signals L and H (or H and L) are fed to bit wires BL12 and BL22 and inversion bit wires/BL12 and /BL22. Then current flows between a power supply V1 and a voltage wiring N1 or between a voltage wiring N1 and a power supply V2 via both or either of the memory cells MC12 and MC22. Therefore, a voltage applied to the MC12 and MC22 is half the voltage between the power supplied V1-V2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はSRAMを用いた半導
体記憶装置に関し、特に2つの電源間にメモリセルを複
数個直列に組み込むことにより、消費電力を低減するこ
とができるようにした半導体記憶装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device using an SRAM, and more particularly to a semiconductor memory device in which a plurality of memory cells are serially incorporated between two power supplies to reduce power consumption. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6(a) は従来のSRAMを用いた半導
体記憶装置のブロック図、図6(b) は電界効果トランジ
スタを用いて構成されたSRAMの回路図の一例であ
り、図において、Tr1, Tr2はデプレッション型FET
(DFET)、Tr3, Tr4, Tr5, Tr6はエンハンスメ
ント型FET(EFET)、BLはビット線、/BLは
反転ビット線、WLはワード線、V1 は基準電圧を発生
する電源、V2 は負電圧を発生する電源である。
2. Description of the Related Art FIG. 6 (a) is a block diagram of a semiconductor memory device using a conventional SRAM, and FIG. 6 (b) is an example of a circuit diagram of an SRAM composed of field effect transistors. , Tr1 and Tr2 are depletion type FETs
(DFET), Tr3, Tr4, Tr5, Tr6 are enhancement type FETs (EFET), BL is a bit line, / BL is an inverted bit line, WL is a word line, V1 is a power supply for generating a reference voltage, and V2 is a negative voltage. It is a power source that is generated.

【0003】このようなSRAMは、トランジスタTr1
とTr3とによりなるインバータINV1 と、トランジス
タTr2とTr4とによりなるインバータINV2 とで形成
されるラッチ回路と、該ラッチ回路とビット線対BL,
/BLとをそれぞれ接続するトランスファーゲートTr
5, Tr6とで構成されている。
Such an SRAM has a transistor Tr1.
And Tr3, an inverter INV1 and an inverter INV2, which includes transistors Tr2 and Tr4, and a latch circuit, and a bit line pair BL,
Transfer gate Tr for connecting / BL respectively
5 and Tr6.

【0004】次にSRAMの動作を“L”データを書き
込む場合を例にとって説明する。ビット線対BL,/B
Lにそれぞれ“L”,“H”信号が与えられ、ワード線
WLに“H”信号が与えられるとトランジスタTr5, T
r6が導通状態になるため、ノードN11が“L”,ノード
N12が“H”となる。その後ワード線WLが“L”にな
ればトランジスタTr5, Tr6が非導通状態になり“L”
データはラッチ回路に保持される。ラッチ回路で“L”
データが保持される原理は以下に示す通りである。即
ち、ノードN11の“L”信号がインバータINV2 の入
力I2 に入力されると、トランジスタTr4が非導通状態
になりインバータINV2 の出力O2 (ノードN12と同
電位)は“H”になる。そしてインバータINV2 の出
力O2 はインバータINV1 の入力I1 に入力されてい
るので、トランジスタTr3が導通状態になり、トランジ
スタTr1及びTr3を介して電源V1 −V2 間を電流が流
れ、インバータINV1 の出力O1 (ノードN11と同電
位)は“L”になる。
Next, the operation of the SRAM will be described by taking the case of writing "L" data as an example. Bit line pair BL, / B
When "L" and "H" signals are applied to L and "H" signal is applied to the word line WL, transistors Tr5 and T5 are applied.
Since r6 becomes conductive, the node N11 becomes "L" and the node N12 becomes "H". After that, when the word line WL becomes "L", the transistors Tr5 and Tr6 become non-conductive and become "L".
The data is held in the latch circuit. "L" in the latch circuit
The principle of data retention is as follows. That is, when the "L" signal of the node N11 is input to the input I2 of the inverter INV2, the transistor Tr4 becomes non-conductive and the output O2 of the inverter INV2 (the same potential as the node N12) becomes "H". Since the output O2 of the inverter INV2 is input to the input I1 of the inverter INV1, the transistor Tr3 becomes conductive, a current flows between the power sources V1 and V2 via the transistors Tr1 and Tr3, and the output O1 of the inverter INV1 ( The same potential as the node N11) becomes "L".

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のSRAMを用い
た半導体記憶装置は以上のように構成されており、2つ
の電源間にはメモリセルは直列には1つしか組み込まれ
ていなかったので、周辺回路との関係により電源電圧が
固定されてしまうような場合、これを動作させるのに必
要な電圧以上の電圧がメモリセルにかかってしまい、必
要以上に半導体記憶装置の消費電力が増大してしまうと
いう問題点があった。
The conventional semiconductor memory device using the SRAM is configured as described above, and only one memory cell is incorporated in series between the two power supplies. If the power supply voltage is fixed due to the relationship with the peripheral circuits, a voltage higher than the voltage required to operate it will be applied to the memory cells, and the power consumption of the semiconductor memory device will increase more than necessary. There was a problem that it would end up.

【0006】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、半導体記憶装置を構成する各メ
モリセルの消費電力を抑えることにより、ランニングコ
ストの低減を図ることができる半導体記憶装置を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and a semiconductor memory capable of reducing the running cost by suppressing the power consumption of each memory cell constituting the semiconductor memory device. The purpose is to provide a device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明(請求項1)に
かかる半導体記憶装置は、SRAMで形成されるメモリ
セルアレイを有してなる半導体記憶装置において、上記
メモリセルアレイは、第1の電源と第2の電源との間に
n×m個(m,nは2以上の整数)の上記メモリセルを
アレイ状にn段配列してなり、上記第1の電源と第2の
電源との間にn個の上記メモリセルを相互に直列に接続
してなるものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 1) is a semiconductor memory device having a memory cell array formed of an SRAM, wherein the memory cell array is a first power source. Between the first power supply and the second power supply, n × m (m and n are integers of 2 or more) memory cells are arranged in an array in n stages between the second power supply and the second power supply. And n memory cells are connected in series with each other.

【0008】またこの発明(請求項2)にかかる半導体
記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記n×m個のメモリセルは、それぞれ異なるビッ
ト線対に接続されているものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 2) is the semiconductor memory device according to claim 1, wherein the n × m memory cells are connected to different bit line pairs. Is.

【0009】またこの発明(請求項3)にかかる半導体
記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記n×m個のメモリセルのうち第1の電源と第2
の電源との間に相互に直列接続されているn個のメモリ
セルは、共通のビット線対に接続されているものであ
る。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 3) is the semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first power supply and the second power supply are included in the n × m memory cells.
The n memory cells connected in series with the power supply of 1 are connected to a common bit line pair.

【0010】またこの発明(請求項4)にかかる半導体
記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記メモリセルアレイは、上記n段の各段における
m個のメモリセルを、各段毎に複数の各メモリ領域にア
レイ状に配列してなるn個のサブアレイからなるもので
ある。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 4) is the semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell array has m memory cells in each of the n stages. Each of them is composed of n sub-arrays arranged in an array in a plurality of memory areas.

【0011】またこの発明(請求項5)にかかる半導体
記憶装置は、請求項4に記載の半導体記憶装置におい
て、上記サブアレイを構成するm個のメモリセルは、そ
れぞれ異なるビット線対に接続されているものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 5) is the semiconductor memory device according to claim 4, wherein m memory cells forming the sub-array are connected to different bit line pairs. There is something.

【0012】またこの発明(請求項6)にかかる半導体
記憶装置は、請求項4に記載の半導体記憶装置におい
て、上記サブアレイを構成するm個のメモリセルのうち
ワード線と垂直な方向の直線上に配列されているメモリ
セルは、共通のビット線対に接続されているものであ
る。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 6) is the semiconductor memory device according to claim 4, wherein among the m memory cells forming the sub-array, a straight line in a direction perpendicular to the word line is formed. The memory cells arranged in 1 are connected to a common bit line pair.

【0013】またこの発明(請求項7)にかかる半導体
記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記メモリセルアレイは、上記n段のうちのl段分
(lは2以上n以下の整数)の電源間メモリ配列のメモ
リセルがビット線と垂直な方向の直線上に配列されてい
るものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 7) is the semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell array is for one stage of the n stages (1 is 2 or more and n or less). (Integer of) memory cells of a memory array between power supplies are arranged on a straight line perpendicular to the bit line.

【0014】またこの発明(請求項8)にかかる半導体
記憶装置は、請求項7に記載の半導体記憶装置におい
て、上記各メモリセルは、それぞれ異なるビット線対に
接続されているものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 8) is the semiconductor memory device according to claim 7, wherein each of the memory cells is connected to a different bit line pair.

【0015】またこの発明(請求項9)にかかる半導体
記憶装置は、請求項7に記載の半導体記憶装置におい
て、上記各メモリセルのうちワード線と垂直の方向に直
線上に配列されているメモリセルは、共通のビット線対
に接続されているものである。
A semiconductor memory device according to the present invention (claim 9) is the semiconductor memory device according to claim 7, wherein the memory cells among the memory cells are arranged linearly in a direction perpendicular to the word line. The cells are connected to a common bit line pair.

【0016】[0016]

【作用】この発明(請求項1)にかかる半導体記憶装置
においては、SRAMで形成されるメモリセルアレイを
有してなる半導体記憶装置において、上記メモリセルア
レイは、第1の電源と第2の電源との間にn×m個
(m,nは2以上の整数)の上記メモリセルをアレイ状
にn段配列してなり、上記第1の電源と第2の電源との
間にn個の上記メモリセルを相互に直列に接続してなる
ものとしたので、各メモリセルの消費電力を低減させる
ことができる。
In the semiconductor memory device according to the present invention (claim 1), the semiconductor memory device has a memory cell array formed of SRAM, and the memory cell array includes a first power supply and a second power supply. N × m (m, n is an integer of 2 or more) of the above memory cells are arranged in an array in n stages, and n number of the above memory cells are provided between the first power supply and the second power supply. Since the memory cells are connected in series with each other, the power consumption of each memory cell can be reduced.

【0017】またこの発明(請求項2)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項1に記載の半導体記憶装置
において、上記n×m個のメモリセルは、それぞれ異な
るビット線対に接続されているものとしたので、全ての
メモリセルを同時にアクセスすることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 2), in the semiconductor memory device according to claim 1, the n × m memory cells are connected to different bit line pairs. Since this is the case, all memory cells can be accessed at the same time.

【0018】またこの発明(請求項3)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項1に記載の半導体記憶装置
において、上記n×m個のメモリセルのうち第1の電源
と第2の電源との間に相互に直列接続されているn個の
メモリセルは、共通のビット線対に接続されているもの
としたので、ビット線数を低減させることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 3), in the semiconductor memory device according to claim 1, a first power source and a second power source out of the n × m memory cells are provided. Since the n memory cells connected in series with each other are connected to the common bit line pair, the number of bit lines can be reduced.

【0019】またこの発明(請求項4)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項1に記載の半導体記憶装置
において、上記メモリセルアレイは、上記n段の各段に
おけるm個のメモリセルを、各段毎に複数の各メモリ領
域にアレイ状に配列してなるn個のサブアレイからなる
ものとしたので、従来のメモリ配列からなるメモリセル
アレイをサブアレイとして適用することができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 4), in the semiconductor memory device according to claim 1, the memory cell array includes m memory cells in each of the n stages. Since each sub-array has n sub-arrays arranged in a plurality of memory areas in an array, it is possible to apply a memory cell array having a conventional memory arrangement as a sub-array.

【0020】またこの発明(請求項5)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項4に記載の半導体記憶装置
において、上記サブアレイを構成するm個のメモリセル
は、それぞれ異なるビット線対に接続されているものと
したので、全てのメモリセルを同時にアクセスすること
ができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 5), in the semiconductor memory device according to claim 4, m memory cells forming the sub-array are connected to different bit line pairs. Since it is assumed that all memory cells can be accessed at the same time.

【0021】またこの発明(請求項6)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項4に記載の半導体記憶装置
において、上記サブアレイを構成するm個のメモリセル
のうちワード線と垂直な方向の直線上に配列されている
メモリセルは、共通のビット線対に接続されているもの
としたので、ビット線数を低減させることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 6), in the semiconductor memory device according to claim 4, among the m memory cells forming the sub-array, a straight line in a direction perpendicular to the word line. Since the memory cells arranged above are connected to a common bit line pair, the number of bit lines can be reduced.

【0022】またこの発明(請求項7)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項1に記載の半導体記憶装置
において、上記メモリセルアレイは、上記n段のうちの
l段分(lは2以上n以下の整数)の電源間メモリ配列
のメモリセルがビット線と垂直な方向の直線上に配列さ
れているものとしたので、メモリセルアレイの面積を縮
小させることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 7), in the semiconductor memory device according to claim 1, the memory cell array corresponds to one of the n stages (1 is 2 or more and n or more). Since the memory cells of the memory array between power supplies of (the following integers) are arranged on a straight line in a direction perpendicular to the bit lines, the area of the memory cell array can be reduced.

【0023】またこの発明(請求項8)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項7に記載の半導体記憶装置
において、上記各メモリセルは、それぞれ異なるビット
線対に接続されているものとしたので、全てのメモリセ
ルを同時にアクセスすることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 8), in the semiconductor memory device according to claim 7, the memory cells are connected to different bit line pairs. , All memory cells can be accessed simultaneously.

【0024】またこの発明(請求項9)にかかる半導体
記憶装置においては、請求項7に記載の半導体記憶装置
において、上記各メモリセルのうちワード線と垂直の方
向に直線上に配列されているメモリセルは、共通のビッ
ト線対に接続されているものとしたので、ビット線数を
低減させることができる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention (claim 9), in the semiconductor memory device according to claim 7, the memory cells are arranged linearly in a direction perpendicular to the word line. Since the memory cells are connected to the common bit line pair, the number of bit lines can be reduced.

【0025】[0025]

【実施例】【Example】

実施例1.図1(a) に本発明の第1の実施例による半導
体記憶装置の模式図を、図1(b)に図1(a) におけるA
部の詳細な図を示す。本実施例1の半導体記憶装置は、
メモリセルアレイ100と、第1のセンスアンプ110
と、第2のセンスアンプ120と、コラムデコーダ13
0と、ロウデコーダ140とからなり、メモリセルアレ
イ100では、メモリセルMC11とMC21,MC12とM
C22,及びMC13とMC23が、それぞれ電源V1 −V2
間に電圧配線N1 を挟んで直列に接続されており、メモ
リセルMC11,MC12及びMC13からなる電源間メモリ
配列VL1 と、メモリセルMC21,MC22及びMC23か
らなる電源間メモリ配列VL2 との2段の電源間メモリ
配列を備えている。また、メモリセルMC11,MC12,
及びMC13はワード線WL1 に、メモリセルMC21,M
C22,及びMC23はワード線WL2 にそれぞれ接続され
ている。また、メモリセルMC11はビット線対BL11,
/BL11に、メモリセルMC21はビット線対BL21,/
BL21に、メモリセルMC12はビット線対BL12,/B
L12に、メモリセルMC22はビット線対BL22,/BL
22に、メモリセルMC13はビット線対BL13,/BL13
に、メモリセルMC23はビット線対BL23,/BL23
に、それぞれ接続されている。
Embodiment 1 FIG. FIG. 1 (a) is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) is a schematic view of A in FIG. 1 (a).
The detailed figure of a part is shown. The semiconductor memory device of the first embodiment is
Memory cell array 100 and first sense amplifier 110
, The second sense amplifier 120, and the column decoder 13
0 and a row decoder 140. In the memory cell array 100, memory cells MC11 and MC21, MC12 and M are provided.
C22, and MC13 and MC23 are the power sources V1 and V2, respectively.
They are connected in series with a voltage wire N1 interposed therebetween, and have two stages of a power supply memory array VL1 composed of memory cells MC11, MC12 and MC13 and a power supply memory array VL2 composed of memory cells MC21, MC22 and MC23. It has a memory array between power supplies. In addition, memory cells MC11, MC12,
And MC13 are connected to the word line WL1 and memory cells MC21, M
C22 and MC23 are connected to the word line WL2, respectively. Further, the memory cell MC11 has a bit line pair BL11,
/ BL11 has a bit line pair BL21, /
The memory cell MC12 is connected to BL21 by a bit line pair BL12, / B.
The memory cell MC22 is connected to the bit line pair BL22, / BL at L12.
At 22, the memory cell MC13 has a bit line pair BL13, / BL13.
In addition, the memory cell MC23 has a bit line pair BL23, / BL23.
, Respectively.

【0026】また、図2はメモリセルMC12,MC22の
回路図であり、図において、Tr12-1,Tr12-2,Tr22-1,
Tr22-2 はデプレッション型FET(DFET)、Tr1
2-3〜Tr12-6,Tr22-3 〜Tr22-6 はエンハンスメント
型FET(EFET)、INV12-1はトランジスタTr1
2-1 とTr12-3 からなるインバータ、INV12-2はトラ
ンジスタTr12-2 とTr12-4 からなるインバータ、IN
V22-1はトランジスタTr22-1 とTr22-3 からなるイン
バータ、INV22-2はトランジスタTr22-2 とTr22-4
からなるインバータ、BLはビット線、/BLは反転ビ
ット線、WLはワード線、V1 は基準電圧を発生する電
源、V2 は負電圧を発生する電源、N1は電源間配線で
あり、メモリセルMC12,MC22は、それぞれ、2つ
のインバータからなるラッチ回路と、トランジスタより
なる2つのトランスファーゲートとにより構成されてい
る。
FIG. 2 is a circuit diagram of the memory cells MC12 and MC22. In the figure, Tr12-1, Tr12-2, Tr22-1,
Tr22-2 is a depletion type FET (DFET), Tr1
2-3 to Tr12-6, Tr22-3 to Tr22-6 are enhancement type FET (EFET), INV12-1 is transistor Tr1.
INV12-2 is an inverter composed of 2-1 and Tr12-3, INV12-2 is an inverter composed of transistors Tr12-2 and Tr12-4, IN
V22-1 is an inverter composed of transistors Tr22-1 and Tr22-3, and INV22-2 is transistors Tr22-2 and Tr22-4.
, BL is a bit line, / BL is an inverted bit line, WL is a word line, V1 is a power supply for generating a reference voltage, V2 is a power supply for generating a negative voltage, N1 is a wiring between power supplies, and a memory cell MC12 , MC22 each include a latch circuit including two inverters and two transfer gates including transistors.

【0027】次に本実施例1による半導体記憶装置の動
作を、メモリセルMC12及びMC22に“L”データを書
き込む場合を例にとって説明する。まず、ビット線BL
12とBL22とに“L”信号が、反転ビット線/BL12と
/BL22とに“H”信号が、それぞれ与えられ、ワード
線WL1 及びWL2 に“H”信号が与えられると、トラ
ンジスタTr12-5,Tr12-6,及びTr22-5,Tr22-6 が導通
状態になるため、ノードN12-1, 及びN22-1が“L”,
ノードN12-2, 及びN22-2が“H”となる。その後ワー
ド線WL1,及びWL2 が“L”になれば、トランジスタ
Tr12-5,Tr12-6 , 及びTr22-5,Tr22-6 が非導通状態
になる。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment will be described by taking the case of writing "L" data in the memory cells MC12 and MC22 as an example. First, the bit line BL
When the "L" signal is applied to 12 and BL22, the "H" signal is applied to the inverted bit lines / BL12 and / BL22, and the "H" signal is applied to the word lines WL1 and WL2, the transistor Tr12-5 is supplied. , Tr12-6, and Tr22-5, Tr22-6 become conductive, so that the nodes N12-1, and N22-1 are "L",
The nodes N12-2 and N22-2 become "H". After that, when the word lines WL1 and WL2 become "L", the transistors Tr12-5, Tr12-6, Tr22-5 and Tr22-6 are turned off.

【0028】ここで、まず、メモリセルMC12の動作に
ついて説明する。ノードN12-1の“L”信号はインバー
タINV12-2の入力I12-2に入力され、トランジスタT
r12-4 が非導通状態になり、インバータINV12-2の出
力O12-2(ノードN12-2と同電位)は“H”になる。そ
してインバータINV12-2の出力O12-2はインバータI
NV12-1の入力I12-1に入力されているので、トランジ
スタTr12-3 が導通状態になり、トランジスタTr12-1
とTr12-3 からなるインバータINV12-1を介して電源
V1 −電圧配線N1 間を電流が流れ、インバータINV
12-1の出力O12-1(ノードN12-1と同電位)は“L”に
なる。そして、このメモリセルMC12は、インバータI
NV12-1とINV12-2からなるラッチ回路を、その一方
のインバータの入力を反転して他方のインバータの入力
に帰還するように構成しているので、トランジスタTr1
2-5,Tr12-6 が非導通状態となった後も該ラッチ回路に
電源が供給されている限り、ノードN12-1, 及びN12-2
は、それぞれ、最初に与えられたデータ“L”及び
“H”を保持する状態で安定し、該データを記憶するこ
ととなる。
First, the operation of the memory cell MC12 will be described. The "L" signal of the node N12-1 is input to the input I12-2 of the inverter INV12-2, and the transistor T
The r12-4 becomes non-conductive, and the output O12-2 (the same potential as the node N12-2) of the inverter INV12-2 becomes "H". The output O12-2 of the inverter INV12-2 is the inverter I
Since it is input to the input I12-1 of NV12-1, the transistor Tr12-3 becomes conductive, and the transistor Tr12-1
Current flows between the power source V1 and the voltage wiring N1 via the inverter INV12-1 composed of the inverter Tr2 and Tr12-3,
The output O12-1 of 12-1 (the same potential as the node N12-1) becomes "L". The memory cell MC12 is connected to the inverter I
Since the latch circuit composed of NV12-1 and INV12-2 is configured to invert the input of one of the inverters and feed it back to the input of the other inverter, the transistor Tr1
As long as power is supplied to the latch circuit even after 2-5 and Tr12-6 are turned off, nodes N12-1, N12-2
Will be stable in the state of holding the initially given data "L" and "H", respectively, and store the data.

【0029】そして、メモリセルMC22においても同様
の動作が行なわれ、トランジスタTr22-1 とTr22-3 か
らなるインバータINV22-1を介して電圧配線N1 −電
源V2 間を電流が流れる。即ち、電源V1 −V2 間にイ
ンバータINV12-1及びINV22-1が相互に直列接続さ
れることとなり電源V1 −V2 間の電圧が分圧されるた
め、メモリセルMC12, 及びMC22のそれぞれにかかる
電圧はV1 −V2 間の電圧の半分になる。
The same operation is performed in the memory cell MC22, and a current flows between the voltage wire N1 and the power supply V2 via the inverter INV22-1 composed of the transistors Tr22-1 and Tr22-3. That is, since the inverters INV12-1 and INV22-1 are connected in series between the power sources V1 and V2, the voltage between the power sources V1 and V2 is divided, so that the voltage applied to each of the memory cells MC12 and MC22. Is half the voltage between V1 and V2.

【0030】なお、以上の動作説明は、ビット線BL12
とBL22に“L”信号が、反転ビット線/BL12と/B
L22に“H”信号が、それぞれ与えられる場合について
のものであるが、これ以外のどのような信号の組み合わ
せであってもメモリセルMC12とMC22においては、そ
れぞれ、そのいずれか一方のインバータを介して電源V
1 −電圧配線N1 間または電圧配線N1 −電源V2 間に
電流が流れるため、メモリセルMC12, 及びMC22のそ
れぞれにかかる電圧は電源V1 −V2 間の電圧の半分に
なる。
The above description of the operation is made in the bit line BL12.
And "L" signal to BL22, inverted bit lines / BL12 and / B
Although the "H" signal is applied to L22 respectively, any other combination of signals is applied to each of the memory cells MC12 and MC22 through one of the inverters. Power supply V
Since a current flows between 1-the voltage wire N1 or between the voltage wire N1-the power supply V2, the voltage applied to each of the memory cells MC12 and MC22 is half of the voltage between the power supply V1-V2.

【0031】このような本実施例1による半導体記憶装
置においては、メモリセルアレイ100を、電源V1 −
V2 間にn×m個(本実施例ではn=2)のメモリセル
をアレイ状にn段(n=2)配列してなり、上記電源V
1 −V2 間にn個(n=2)のメモリセルを相互に直列
に接続するようにしたものとしたので、各メモリセルに
かかる電圧を電源V1 −V2 間の電圧の半分に抑えるこ
とができ、これによりビット数を従来のものと同じとし
た場合、半導体記憶装置の消費電力をその半分にするこ
とができる。
In the semiconductor memory device according to the first embodiment, the memory cell array 100 is connected to the power source V1 −
N × m (n = 2 in this embodiment) memory cells are arranged in an array of n stages (n = 2) between V2 and the power source V
Since n (n = 2) memory cells are connected in series between 1 and V2, the voltage applied to each memory cell can be suppressed to half the voltage between the power sources V1 and V2. Therefore, if the number of bits is the same as that of the conventional one, the power consumption of the semiconductor memory device can be halved.

【0032】実施例2.図3(a) に本発明の第2の実施
例による半導体記憶装置の模式図を、図3(b)に図3(a)
におけるB部及びB′部の詳細な図を示す。本実施例
2の半導体記憶装置は、第1のサブアレイ210と第2
のサブアレイ250とからなるメモリセルアレイ200
と、第1のサブアレイ210用の第1のセンスアンプ2
20,第1のコラムデコーダ230,及び第1のロウデ
コーダ240と、第2のサブアレイ220用の第2のセ
ンスアンプ260,第2のコラムデコーダ270,及び
第2のロウデコーダ280とからなり、サブアレイ21
0では、メモリセルMC11,MC12及びMC13が、それ
ぞれ、電源V1 −電圧配線N1 間に接続され、またそれ
ぞれ、ビット線対BL10,/BL10に接続されており、
他のメモリセルと共に一つのサブアレイを構成してい
る。一方、サブアレイ250では、メモリセルMC21,
MC22及びMC23が、それぞれ、電圧配線N1 −電源V
2 間に接続され、またそれぞれ、ビット線対BL20,/
BL20に接続されており、他のメモリセルと共に一つの
サブアレイを構成している。各メモリセルは従来の技術
の欄で説明したSRAMと同じものである。
Embodiment 2 FIG. FIG. 3 (a) is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 3 (b) is FIG.
3 is a detailed view of a B part and a B ′ part in FIG. The semiconductor memory device according to the second embodiment includes a first sub array 210 and a second sub array 210.
Memory cell array 200 including a sub-array 250 of
And the first sense amplifier 2 for the first sub-array 210
20, a first column decoder 230, a first row decoder 240, a second sense amplifier 260 for the second sub-array 220, a second column decoder 270, and a second row decoder 280, Sub array 21
At 0, the memory cells MC11, MC12 and MC13 are connected between the power source V1 and the voltage wire N1, respectively, and are also connected to the bit line pair BL10, / BL10, respectively.
One sub-array is formed with other memory cells. On the other hand, in the sub-array 250, the memory cell MC21,
MC22 and MC23 are respectively the voltage wiring N1-power source V
It is connected between the two, and each bit line pair BL20, /
It is connected to BL20 and constitutes one sub-array with other memory cells. Each memory cell is the same as the SRAM described in the section of the related art.

【0033】即ち、本実施例2の半導体記憶装置は、上
記実施例1の半導体記憶装置において、図1に示すメモ
リセルアレイ100に代えて,即ちメモリセルの駆動電
圧間である電源V1 −V2 間にn×m個(上記実施例で
はn=2)のメモリセルをアレイ状にn段配列してな
り、上記電源V1 −V2 間にn個のメモリセルを相互に
直列に接続するように配列したメモリセルアレイに代え
て、当該メモリセルアレイ200を、図3に示すよう
に、上記n段(n=2)の各段におけるm個のメモリセ
ルを、各段毎に複数の各メモリ領域にアレイ状に配列し
てなるn個(n=2)のサブアレイ210,250から
なるものとしたものである。
That is, the semiconductor memory device according to the second embodiment is different from the semiconductor memory device according to the first embodiment in that it replaces the memory cell array 100 shown in FIG. 1, that is, between the power supply V1 and V2 which is the drive voltage of the memory cells. , N × m memory cells (n = 2 in the above embodiment) are arranged in an array of n stages, and n memory cells are connected in series between the power sources V1 and V2. 3, the memory cell array 200 is replaced by m memory cells in each of the n stages (n = 2) arranged in a plurality of memory regions in each stage as shown in FIG. It is made up of n (n = 2) sub-arrays 210 and 250 arranged in a matrix.

【0034】このような本実施例2による半導体記憶装
置においては、上述のような構成としたので、上記サブ
アレイ210は、メモリセルの駆動電圧間,即ち電源V
1 −電圧配線N1 間にメモリセルが直列には1つしか接
続されないよう配列され、また、上記サブアレイ250
は、メモリセルの駆動電圧間,即ち電圧配線N1 −電源
V2 間にメモリセルが直列には1つしか接続されないよ
う配列されたものとすることができ、サブアレイ21
0,250として従来のメモリセルアレイと同じ構成で
配列されたメモリセルアレイ,即ちメモリセルの駆動電
圧間にはメモリセルが直列には1つしか接続されないよ
うに配列されたメモリセルアレイを用いることができ、
特別なメモリセル配列のメモリセルアレイを作製するこ
となく、従来のメモリセルアレイだけを用いて消費電力
を半分にすることができる半導体記憶装置を得ることが
できる。
In the semiconductor memory device according to the second embodiment as described above, since the sub-array 210 has the above-mentioned configuration, the sub-array 210 is between the drive voltages of the memory cells, that is, the power source V.
The memory cells are arranged so that only one memory cell is connected in series between the 1-voltage line N1 and the sub-array 250.
Can be arranged such that only one memory cell is connected in series between the drive voltages of the memory cells, that is, between the voltage wiring N1 and the power supply V2.
As 0 and 250, a memory cell array arranged in the same configuration as a conventional memory cell array, that is, a memory cell array in which only one memory cell is connected in series between drive voltages of the memory cells can be used. ,
It is possible to obtain a semiconductor memory device capable of halving the power consumption by using only the conventional memory cell array without manufacturing a memory cell array having a special memory cell arrangement.

【0035】実施例3.図4(a) に本発明の第3の実施
例による半導体記憶装置の模式図を、図4(b)に図4(a)
におけるC部の詳細な図を示す。本実施例3の半導体
記憶装置は、メモリセルアレイ300と、第1のセンス
アンプ310と、第2のセンスアンプ320と、コラム
デコーダ330と、第1のロウデコーダ340と、第2
のロウデコーダ350とからなり、メモリセルアレイ3
00では、メモリセルMC11,MC12及びMC13からな
る電源間メモリ配列VL1 が、それぞれ、電源V1 −電
圧配線N1 間に、またワード線WL1に接続され、メモ
リセルMC21, MC22, 及びMC23からなる電源間メモ
リ配列VL2 は、それぞれ、電圧配線N1 −電源V2 間
に、またワード線WL2に接続されており、そしてメモ
リセルMC11はビット線対BL11,/BL11に、メモリ
セルMC21はビット線対BL21,/BL21に、メモリセ
ルMC12はビット線対BL12,/BL12に、メモリセル
MC22はビット線対BL22,/BL22に、メモリセルM
C13はビット線対BL13,/BL13に、メモリセルMC
23はビット線対BL23,/BL23に接続されている。各
メモリセルは従来の技術の欄で説明したSRAMと同じ
ものである。
Embodiment 3 FIG. FIG. 4 (a) is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 4 (b) is FIG. 4 (a).
3 shows a detailed view of a C part in FIG. The semiconductor memory device of the third embodiment includes a memory cell array 300, a first sense amplifier 310, a second sense amplifier 320, a column decoder 330, a first row decoder 340, and a second row decoder 340.
Row decoder 350 of the memory cell array 3
In 00, the inter-power supply memory array VL1 composed of the memory cells MC11, MC12 and MC13 is connected between the power supply V1 and the voltage wire N1 and the word line WL1 and connected between the power supplies composed of the memory cells MC21, MC22 and MC23. The memory array VL2 is connected between the voltage wire N1 and the power supply V2 and to the word line WL2, respectively, and the memory cell MC11 is connected to the bit line pair BL11, / BL11 and the memory cell MC21 is connected to the bit line pair BL21, /. BL21, the memory cell MC12 is a bit line pair BL12, / BL12, the memory cell MC22 is a bit line pair BL22, / BL22, a memory cell M.
C13 is connected to the bit line pair BL13, / BL13 and is connected to the memory cell MC
23 is connected to the bit line pair BL23, / BL23. Each memory cell is the same as the SRAM described in the section of the related art.

【0036】即ち、本実施例3の半導体記憶装置は、上
記実施例1の半導体記憶装置において、n段(n=2)
の電源間メモリ配列VL1 ,VL2 の2段分のメモリセ
ルを、ビット線と垂直な方向の直線上にレイアウトした
ものであるが、これはn段(nは2以上の整数)の電源
間メモリ配列を有するメモリセルアレイにおいて、該n
段の電源間メモリ配列のうちのl段(lは2以上n以下
の整数)分の電源間メモリ配列のメモリセルをビット線
と垂直な方向の直線上にレイアウトしたものであっても
良い。
That is, the semiconductor memory device according to the third embodiment is the same as the semiconductor memory device according to the first embodiment except that n stages (n = 2).
The memory cells for two stages of the inter-power supply memory arrays VL1 and VL2 are laid out on a straight line in a direction perpendicular to the bit line. This is an n-stage (n is an integer of 2 or more) inter-power supply memory. In a memory cell array having an array, the n
The memory cells of the inter-power supply memory array for one stage (l is an integer of 2 or more and n or less) of the inter-power supply memory array of stages may be laid out on a straight line in a direction perpendicular to the bit line.

【0037】このような本実施例3による半導体記憶装
置においては、上述のような構成としたので、上記実施
例1では一つのメモリセル内に、駆動電圧間に相互に直
列に接続されたn個(n=2)のメモリセルのビット線
対,即ちn組のビット線対が配線されていたものを、一
つのメモリセル内には一組のビット線対のみが配線され
るようにすることができるので、半導体記憶装置を構成
する各メモリセルの面積を縮小させることができ、結果
として、消費電力を半分にすることができる半導体記憶
装置のチップ面積を低減させることができる。
Since the semiconductor memory device according to the third embodiment is configured as described above, in the first embodiment, n connected in series between drive voltages in one memory cell. Bit line pairs of n (2) memory cells, that is, n bit line pairs are wired, but only one bit line pair is wired in one memory cell. Therefore, the area of each memory cell forming the semiconductor memory device can be reduced, and as a result, the chip area of the semiconductor memory device that can reduce the power consumption to half can be reduced.

【0038】実施例4.図5(a) に本発明の第4の実施
例による半導体記憶装置の模式図を、図5(b)に図5(a)
におけるD部の詳細な図を示す。本実施例4の半導体
記憶装置は、メモリセルアレイ400と、センスアンプ
410と、コラムデコーダ420と、ロウデコーダ43
0とからなり、メモリセルアレイ400では、メモリセ
ルMC11とMC21,MC12とMC22,及びMC13とMC
23とが、それぞれ電源V1 −V2間に電圧配線N1 を挟
んで直列に接続されており、メモリセルMC11,MC1
2,及びMC13からなる電源間メモリ配列VL1 はワー
ド線WL1 に、メモリセルMC21,MC22,及びMC23
からなる電源間メモリ配列VL2 はワード線WL2 にそ
れぞれ接続され、メモリセルMC11とMC21はビット線
対BL11,/BL11に、メモリセルMC12とMC22はビ
ット線対BL21,/BL21に、メモリセルMC13とMC
23はビット線対BL21,/BL21に、それぞれ接続され
ている。各メモリセルは従来の技術の欄で説明したSR
AMと同じである。つまり、本実施例4の半導体記憶装
置は、上記実施例1の半導体記憶装置において、同一列
に位置するメモリセルのビット線対を共通化したもので
あり、各メモリセルにおける動作は上記実施例1と同様
である。
Embodiment 4 FIG. FIG. 5 (a) is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 5 (b) is FIG. 5 (a).
3 shows a detailed view of a section D in FIG. The semiconductor memory device according to the fourth embodiment includes a memory cell array 400, a sense amplifier 410, a column decoder 420, and a row decoder 43.
0, and in the memory cell array 400, memory cells MC11 and MC21, MC12 and MC22, and MC13 and MC.
23 and 23 are connected in series between the power supplies V1 and V2 with the voltage wire N1 interposed therebetween, and memory cells MC11 and MC1 are connected.
An inter-power supply memory array VL1 composed of 2 and MC13 is connected to a word line WL1 and memory cells MC21, MC22, and MC23.
The memory array VL2 between the power supplies is connected to the word line WL2, the memory cells MC11 and MC21 are connected to the bit line pair BL11, / BL11, the memory cells MC12 and MC22 are connected to the bit line pair BL21, / BL21, and the memory cell MC13 is connected. MC
Reference numeral 23 is connected to the bit line pair BL21, / BL21, respectively. Each memory cell has the SR described in the section of the related art.
Same as AM. That is, the semiconductor memory device according to the fourth embodiment is the same as the semiconductor memory device according to the first embodiment described above except that the bit line pairs of the memory cells located in the same column are shared. The same as 1.

【0039】本実施例4による半導体記憶装置において
は、このように電源V1 −V2 間に相互に直列に接続さ
れたn個(n=2)のメモリセルのビット線対を共通化
したので、消費電力を半分にすることのできる半導体記
憶装置のチップ面積を低減させることができ、また、ビ
ット線対の共通化によりビット線総数を低減させること
ができるので、センスアンプ等の周辺回路の部品点数の
低減を図ることができる。
In the semiconductor memory device according to the fourth embodiment, the bit line pair of n (n = 2) memory cells connected in series between the power supplies V1 and V2 is shared in this way. The chip area of the semiconductor memory device that can reduce the power consumption to half can be reduced, and the total number of bit lines can be reduced by using a common bit line pair. Therefore, peripheral circuit parts such as sense amplifiers can be reduced. The number of points can be reduced.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上のように、この発明(請求項1)に
かかる半導体記憶装置によれば、SRAMで形成される
メモリセルアレイを有してなる半導体記憶装置におい
て、上記メモリセルアレイは、第1の電源と第2の電源
との間にn×m個(m,nは2以上の整数)の上記メモ
リセルをアレイ状にn段配列してなり、上記第1の電源
と第2の電源との間にn個の上記メモリセルを相互に直
列に接続してなるものとしたので、各メモリセルの消費
電力を低減させることができ、これにより半導体記憶装
置の消費電力を大幅に低減できる効果がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention (Claim 1), in the semiconductor memory device having the memory cell array formed by the SRAM, the memory cell array is the first memory cell. N × m (m, n is an integer of 2 or more) memory cells arranged in an array of n stages between the first power supply and the second power supply. And n memory cells are connected in series with each other, the power consumption of each memory cell can be reduced, and thus the power consumption of the semiconductor memory device can be significantly reduced. effective.

【0041】またこの発明(請求項2)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記n×m個のメモリセルは、それぞれ異なる
ビット線対に接続されているものとしたので、全てのメ
モリセルを同時にアクセスすることができる効果があ
る。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 2), in the semiconductor memory device according to claim 1, the n × m memory cells are connected to different bit line pairs. Since all the memory cells are simultaneously accessed, there is an effect that all the memory cells can be simultaneously accessed.

【0042】またこの発明(請求項3)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記n×m個のメモリセルのうち第1の電源と
第2の電源との間に相互に直列接続されているn個のメ
モリセルは、共通のビット線対に接続されているものと
したので、ビット線数を低減させることができ、これに
より半導体記憶装置の集積度を向上,及びセンスアンプ
等の周辺回路の部品点数の低減を図ることができる効果
がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 3), in the semiconductor memory device according to claim 1, a first power source and a second power source out of the n × m memory cells. Since the n memory cells connected in series with each other are connected to the common bit line pair, it is possible to reduce the number of bit lines. There is an effect that the degree of improvement can be improved and the number of parts of peripheral circuits such as a sense amplifier can be reduced.

【0043】またこの発明(請求項4)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記メモリセルアレイは、上記n段の各段にお
けるm個のメモリセルを、各段毎に複数の各メモリ領域
にアレイ状に配列してなるn個のサブアレイからなるも
のとしたので、従来のメモリ配列からなるメモリセルア
レイをサブアレイとして適用することができ、より簡易
に消費電力を低減させることができる半導体記憶装置を
得ることができる効果がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 4), in the semiconductor memory device according to claim 1, the memory cell array includes m memory cells in each of the n stages. Since each sub-array has n sub-arrays arranged in a plurality of memory areas in each row, a memory cell array having a conventional memory arrangement can be applied as the sub-array, and power consumption can be further simplified. There is an effect that a semiconductor memory device that can reduce the

【0044】またこの発明(請求項5)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項4に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記サブアレイを構成するm個のメモリセル
は、それぞれ異なるビット線対に接続されているものと
したので、全てのメモリセルを同時にアクセスすること
ができる効果がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 5), in the semiconductor memory device according to claim 4, the m memory cells forming the sub-array are connected to different bit line pairs. Since it is assumed that all memory cells are accessed at the same time, there is an effect.

【0045】またこの発明(請求項6)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項4に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記サブアレイを構成するm個のメモリセルの
うちワード線と垂直な方向の直線上に配列されているメ
モリセルは、共通のビット線対に接続されているものと
したので、ビット線数を低減させることができ、これに
より半導体記憶装置の集積度を向上,及びセンスアンプ
等の周辺回路の部品点数の低減を図ることができる効果
がある。
Further, according to the semiconductor memory device of the present invention (claim 6), in the semiconductor memory device according to claim 4, of the m memory cells forming the sub-array, the memory cells in the direction perpendicular to the word line are arranged. Since the memory cells arranged in a straight line are connected to a common bit line pair, the number of bit lines can be reduced, which improves the integration degree of the semiconductor memory device and sense amplifiers. This has the effect of reducing the number of parts of peripheral circuits such as.

【0046】またこの発明(請求項7)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記メモリセルアレイは、上記n段のうちのl
段分(lは2以上n以下の整数)の電源間メモリ配列の
メモリセルがビット線と垂直な方向の直線上に配列され
ているものとしたので、メモリセルアレイの面積を縮小
させることができ、これにより半導体記憶装置の集積度
を向上させることができる効果がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 7), in the semiconductor memory device according to claim 1, the memory cell array is one of the n stages.
Since the memory cells of the inter-power supply memory array of the number of stages (l is an integer of 2 or more and n or less) are arranged on a straight line perpendicular to the bit lines, the area of the memory cell array can be reduced. Therefore, there is an effect that the degree of integration of the semiconductor memory device can be improved.

【0047】またこの発明(請求項8)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項7に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記各メモリセルは、それぞれ異なるビット線
対に接続されているものとしたので、全てのメモリセル
を同時にアクセスすることができる効果がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 8), in the semiconductor memory device of claim 7, the memory cells are connected to different bit line pairs. Therefore, there is an effect that all the memory cells can be simultaneously accessed.

【0048】またこの発明(請求項9)にかかる半導体
記憶装置によれば、請求項7に記載の半導体記憶装置に
おいて、上記各メモリセルのうちワード線と垂直の方向
に直線上に配列されているメモリセルは、共通のビット
線対に接続されているものとしたので、ビット線数を低
減させることができ、これにより半導体記憶装置の集積
度を向上,及びセンスアンプ等の周辺回路の部品点数の
低減を図ることができる効果がある。
According to the semiconductor memory device of the present invention (claim 9), in the semiconductor memory device according to claim 7, the memory cells are arranged in a straight line in a direction perpendicular to the word line. Since the existing memory cells are connected to a common bit line pair, the number of bit lines can be reduced, which improves the integration degree of the semiconductor memory device and parts of peripheral circuits such as sense amplifiers. There is an effect that the number of points can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例による半導体記憶装置
の模式図(図1(a)),図1(a) におけるA部の詳細な
図(図1(b) )である。
1 is a schematic view of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention (FIG. 1 (a)), and a detailed view of a portion A in FIG. 1 (a) (FIG. 1 (b)).

【図2】 上記実施例1の半導体記憶装置におけるメモ
リセルの回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell in the semiconductor memory device according to the first embodiment.

【図3】 本発明の第2の実施例による半導体記憶装置
の模式図(図3(a)),図3(a) におけるB部及びB′
部の詳細な図(図3(b) )である。
FIG. 3 is a schematic view of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention (FIG. 3 (a)), B portion and B ′ in FIG. 3 (a).
3 is a detailed view of the part (FIG. 3 (b)).

【図4】 本発明の第3の実施例による半導体記憶装置
の模式図(図4(a)),図4(a) におけるC部及びC′
部の詳細な図(図4(b) )である。
FIG. 4 is a schematic view of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention (FIG. 4 (a)), a C portion and C ′ in FIG. 4 (a).
FIG. 4 is a detailed view of the part (FIG. 4 (b)).

【図5】 本発明の第4の実施例による半導体記憶装置
の模式図(図5(a)),図5(a) におけるC部及びC′
部の詳細な図(図5(b) )である。
FIG. 5 is a schematic view of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention (FIG. 5 (a)), a C portion and C ′ in FIG. 5 (a).
FIG. 6 is a detailed view of the part (FIG. 5 (b)).

【図6】 従来のSRAMを用いた半導体記憶装置のブ
ロック図(図6(a)),電界効果トランジスタを用いて
構成されたSRAMの回路図(図6(b) )である。
FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory device using a conventional SRAM (FIG. 6A), and a circuit diagram of an SRAM configured using field effect transistors (FIG. 6B).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MC メモリセル、VL 電源間メモリ配列、BL,/
BL ビット線対、WL ワード線、V1 基準電圧、
V2 電源電圧、N1 電圧配線、Tr12-1,Tr12-2,T
r22-1,Tr22-2 デプレッション型FET、Tr12-3 〜
Tr12-6,Tr22-3 〜Tr22-6 エンハンスメント型FE
T、INV インバータ。
MC memory cell, memory array between VL power supplies, BL, /
BL bit line pair, WL word line, V1 reference voltage,
V2 power supply voltage, N1 voltage wiring, Tr12-1, Tr12-2, T
r22-1, Tr22-2 Depletion type FET, Tr12-3 ~
Tr12-6, Tr22-3 to Tr22-6 enhancement type FE
T, INV inverter.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタティック型メモリセル(以下、SR
AMと言う)で形成されるメモリセルアレイを有してな
る半導体記憶装置において、 上記メモリセルアレイは、第1の電源と第2の電源との
間にn×m個(m,nは2以上の整数)の上記メモリセ
ルをアレイ状にn段配列してなり、 上記第1の電源と第2の電源との間にn個の上記メモリ
セルを相互に直列に接続してなるものであることを特徴
とする半導体記憶装置。
1. A static memory cell (hereinafter, SR
In a semiconductor memory device having a memory cell array formed of AM), the memory cell array has n × m pieces (m and n are 2 or more) between a first power supply and a second power supply. (Integer) memory cells are arranged in an array of n stages, and n memory cells are connected in series between the first power supply and the second power supply. A semiconductor memory device characterized by:
【請求項2】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記n×m個のメモリセルは、それぞれ異なるビット線
対に接続されていることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the n × m memory cells are connected to different bit line pairs.
【請求項3】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記n×m個のメモリセルのうち第1の電源と第2の電
源との間に相互に直列接続されているn個のメモリセル
は、共通のビット線対に接続されていることを特徴とす
る半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein among the n × m memory cells, n memories connected in series between a first power supply and a second power supply. A semiconductor memory device characterized in that cells are connected to a common bit line pair.
【請求項4】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記メモリセルアレイは、上記n段の各段におけるm個
のメモリセルを、各段毎に複数の各メモリ領域にアレイ
状に配列してなるn個のサブアレイからなるものである
ことを特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell array has m memory cells in each of the n stages arranged in an array in a plurality of memory regions for each stage. A semiconductor memory device characterized by comprising n sub-arrays.
【請求項5】 請求項4に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記サブアレイを構成するm個のメモリセルは、それぞ
れ異なるビット線対に接続されていることを特徴とする
半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein the m memory cells forming the sub-array are connected to different bit line pairs.
【請求項6】 請求項4に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記サブアレイを構成するm個のメモリセルのうちワー
ド線と垂直な方向の直線上に配列されているメモリセル
は、共通のビット線対に接続されていることを特徴とす
る半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein among the m memory cells forming the sub-array, memory cells arranged on a straight line in a direction perpendicular to a word line have a common bit line. A semiconductor memory device characterized by being connected in pairs.
【請求項7】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記メモリセルアレイは、上記n段のうちのl段分(l
は2以上n以下の整数)の電源間メモリ配列のメモリセ
ルがビット線と垂直な方向の直線上に配列されているも
のであることを特徴とする半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell array includes one of the n stages (l
Is an integer of 2 or more and n or less), and the memory cells of the memory array between power supplies are arranged on a straight line in a direction perpendicular to the bit line.
【請求項8】 請求項7に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記各メモリセルは、それぞれ異なるビット線対に接続
されていることを特徴とする半導体記憶装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the memory cells are connected to different bit line pairs.
【請求項9】 請求項7に記載の半導体記憶装置におい
て、 上記各メモリセルのうちワード線と垂直の方向に直線上
に配列されているメモリセルは、共通のビット線対に接
続されていることを特徴とする半導体記憶装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein among the memory cells, memory cells arranged linearly in a direction perpendicular to a word line are connected to a common bit line pair. A semiconductor memory device characterized by the above.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030054030A (en) * 2001-12-24 2003-07-02 주식회사 하이닉스반도체 Low power consumption Mask ROM and Micro controller having the same
EP1923948A1 (en) 2006-10-17 2008-05-21 Samsung SDI Co., Ltd. Electrolyte for high voltage lithium rechargeable battery and battery employing the same
US8884397B2 (en) 2003-11-28 2014-11-11 Sony Corporation Memory device and storage apparatus

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