JPH09165555A - Coating agent for antistatic polymer film and production of the film - Google Patents

Coating agent for antistatic polymer film and production of the film

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JPH09165555A
JPH09165555A JP22706096A JP22706096A JPH09165555A JP H09165555 A JPH09165555 A JP H09165555A JP 22706096 A JP22706096 A JP 22706096A JP 22706096 A JP22706096 A JP 22706096A JP H09165555 A JPH09165555 A JP H09165555A
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JP
Japan
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polymer film
electron beam
coating agent
beads
film
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Application number
JP22706096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Imamura
康宏 今村
Norihiro Kaiya
法博 海谷
Naoyuki Amaya
直之 天谷
Shinobu Kinoshita
忍 木下
Yasuo Yoshida
安雄 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwasaki Denki KK
NOF Corp
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
Nippon Oil and Fats Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a coating agent for antistatic polymer films capable of improving the sliding property of the polymer films and to provide a method for producing the film. SOLUTION: This coating agent 10 is obtained by blending an electron beam curing resin 12, a surfactant 14 and beads 16, and is applied to the surface of a polymer film 2. As the beads 16, a filler made of an inorganic-based, an acrylic or fluorine-based material and having 0.5-10μm mean particle diameter is used. By irradiating the electron beam to the surface of the coating agent 10 applied on the surface of the polymer film 2, a polymer is formed therefrom by the development of a polymerization and a cross-linking reaction, and as a result, a cured membrane of the coating agent 10 for imparting an antistatic effect and smoothness to the polymer film 2, is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば電子機器
部品、粉体等を包装する包装材として用いられる高分子
フィルムの帯電を防止する帯電防止高分子フィルム用コ
ーティング剤及び帯電防止高分子フィルムの製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating agent for an antistatic polymer film and an antistatic polymer film for preventing electrification of a polymer film used as a packaging material for packaging electronic device parts, powders and the like. The present invention relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、プラスチック製品は1014Ω/
□以上の表面抵抗があり、表面に静電気を帯びやすいと
いう性質がある。このため、たとえば高分子フィルム
を、IC等の電子機器部品や、粉体等を包装する包装材
として使用した場合には、静電気により、電子機器部品
が破壊されたり、表面に塵や埃が付着して作業性が悪い
といった問題が生じる。この対策として、かかる高分子
フィルムの表面に帯電防止剤の層を形成することが一般
的に行われている。この帯電防止剤の層を形成する方法
としては、練り込む方法と塗布する方法とがある。いず
れの方法でも、高分子フィルムの表面にある程度の導電
性を与えることにより帯電を防止する。
2. Description of the Related Art Generally, plastic products have 10 14 Ω /
□ It has the above surface resistance and tends to be charged with static electricity on the surface. Therefore, for example, when a polymer film is used as a packaging material for packaging electronic device parts such as ICs or powder, the electronic device parts are destroyed by static electricity, or dust or dirt adheres to the surface. Then, there arises a problem that workability is poor. As a countermeasure against this, a layer of an antistatic agent is generally formed on the surface of such a polymer film. As a method of forming the antistatic agent layer, there are a kneading method and a coating method. In either method, the surface of the polymer film is provided with a certain degree of conductivity to prevent charging.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
帯電防止処理が施された高分子フィルムは、表面の滑り
性が悪いという問題がある。このため、たとえば高分子
フィルムを包装材に加工する場合、高分子フィルムに帯
電防止処理を施した後には、もはやその高分子フィルム
を、包装材に加工する次の工程に機械的に自動で移動す
ることが難しく、従来、かかる作業は人手を介して行わ
れていた。
However, the polymer film which has been subjected to the antistatic treatment has a problem that the surface slipperiness is poor. For this reason, for example, when a polymer film is processed into a packaging material, after the polymer film is subjected to antistatic treatment, the polymer film is no longer mechanically automatically moved to the next step of processing into a packaging material. It is difficult to do so, and conventionally, such work has been performed manually.

【0004】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、高分子フィルム表面の滑り性をよくすることが
できる帯電防止高分子フィルム用コーティング剤及び帯
電防止高分子フィルムの製造方法を提供することを目的
とするものである。
The present invention has been made under the above circumstances, and provides a coating agent for an antistatic polymer film and a method for producing an antistatic polymer film, which can improve the slipperiness of the surface of the polymer film. That is the purpose.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの請求項1記載の発明に係る帯電防止高分子フィルム
用コーティング剤は、電子線硬化樹脂と界面活性剤とビ
ーズとを含むことを特徴とするものである。請求項2記
載の発明に係る帯電防止高分子フィルム用コーティング
剤は、請求項1記載の発明において、前記電子線硬化樹
脂が、分子中に少なくとも二個のアクリロイル基を有
し、ヒドロキシ基を持たない架橋性化合物と、分子中に
少なくとも一個のアクリロイル基及び少なくとも一個の
ヒドロキシ基を有する相溶性化合物とを含むものであ
り、前記界面活性剤が、分子中に少なくとも一個のアク
リロイル基を有する四級アンモニウム塩化合物であるこ
とを特徴とするものである。
The coating agent for an antistatic polymer film according to the present invention for achieving the above object comprises an electron beam curing resin, a surfactant and beads. It is a feature. In the coating agent for an antistatic polymer film according to the invention of claim 2, in the invention of claim 1, the electron beam curing resin has at least two acryloyl groups in a molecule and has a hydroxy group. A non-crosslinkable compound and a compatible compound having at least one acryloyl group and at least one hydroxy group in the molecule, wherein the surfactant is a quaternary compound having at least one acryloyl group in the molecule. It is characterized by being an ammonium salt compound.

【0006】請求項3記載の発明に係る帯電防止高分子
フィルム用コーティング剤は、請求項2記載の発明にお
いて、前記電子線硬化樹脂と前記界面活性剤との混合物
1mol中における、アクリロイル基の含有量が1.3
mol〜2.6mol、ヒドロキシ基の含有量が0.2
mol〜2.8mol及び四級アンモニウム塩の含有量
が0.03mol〜0.4molであることを特徴とす
るものである。
The coating agent for an antistatic polymer film according to a third aspect of the present invention is the coating agent for an antistatic polymer film according to the second aspect, wherein an acryloyl group is contained in 1 mol of the mixture of the electron beam curing resin and the surfactant. The amount is 1.3
mol-2.6 mol, the content of hydroxy groups is 0.2
It is characterized in that the contents of mol to 2.8 mol and the quaternary ammonium salt are 0.03 mol to 0.4 mol.

【0007】請求項4記載の発明に係る帯電防止高分子
フィルム用コーティング剤は、請求項1乃至3記載の発
明において、前記ビーズが、平均粒径0.5μm〜5μ
mのアクリル系フィラであり、前記ビーズを前記電子線
硬化樹脂及び前記界面活性剤に2重量%〜5重量%添加
することを特徴とするものである。請求項5記載の発明
に係る帯電防止高分子フィルム用コーティング剤は、請
求項1乃至3記載の発明において、前記ビーズが、平均
粒径3μm〜10μmの無機系、アクリル系又はフッ素
系フィラであり、前記ビーズを前記電子線硬化樹脂及び
前記界面活性剤に10重量%〜20重量%添加すること
を特徴とするものである。
The coating agent for an antistatic polymer film according to a fourth aspect of the present invention is the coating agent according to the first to third aspects, wherein the beads have an average particle size of 0.5 μm to 5 μm.
The acrylic filler of m, characterized in that the beads are added to the electron beam curable resin and the surfactant in an amount of 2% by weight to 5% by weight. In the coating agent for an antistatic polymer film according to the invention of claim 5, in the invention of claims 1 to 3, the beads are an inorganic, acrylic or fluorine-based filler having an average particle size of 3 μm to 10 μm. The beads are added to the electron beam curable resin and the surfactant in an amount of 10% by weight to 20% by weight.

【0008】上記の目的を達成するための請求項6記載
の発明に係る帯電防止高分子フィルムの製造方法は、請
求項1乃至5のいずれかに記載の帯電防止高分子フィル
ム用コーティング剤を、高分子フィルムの表面に塗布し
た後、前記コーティング剤の表面に電子線を照射して前
記コーティング剤の硬化被膜を形成することを特徴とす
るものである。
A method for producing an antistatic polymer film according to a sixth aspect of the present invention for achieving the above object comprises the antistatic polymer film coating agent according to any one of the first to fifth aspects, After coating on the surface of the polymer film, the surface of the coating agent is irradiated with an electron beam to form a cured coating film of the coating agent.

【0009】電子線硬化樹脂と界面活性剤とビーズとを
含むコーティング剤を、高分子フィルムの表面に塗布し
た後、そのコーティング剤の表面に電子線を照射してコ
ーティング剤の硬化被膜を形成することにより、高分子
フィルムに帯電防止効果を付与することができると共
に、硬化被膜の表面の滑り性をよくすることができる。
ここで、ビーズとは、硬化被膜の表面の滑り性をよくす
るために用いる球状のフィラ(filler)をいう。ビーズ
の素材には、無機系、アクリル系又はフッ素系のものを
用いることが望ましい。また、ビーズの平均粒径は0.
5μm〜10μmであることが望ましい。特に、透明性
が要求されるクリアタイプの高分子フィルムを製造する
場合には、ビーズとして平均粒径0.5μm〜5μmの
アクリル系フィラを用い、ビーズを電子線硬化樹脂及び
界面活性剤に2重量%〜5重量%添加する。一方、つや
消しタイプの高分子フィルムを製造する場合には、ビー
ズとして平均粒径3μm〜10μmの無機系、アクリル
系又はフッ素系フィラを用い、ビーズを電子線硬化樹脂
及び界面活性剤に10重量%〜20重量%添加する。
A coating agent containing an electron beam curing resin, a surfactant and beads is applied to the surface of a polymer film, and then the surface of the coating agent is irradiated with an electron beam to form a cured coating film of the coating agent. As a result, an antistatic effect can be imparted to the polymer film, and the slipperiness of the surface of the cured film can be improved.
Here, the beads are spherical fillers used to improve the slipperiness of the surface of the cured coating. As the material of the beads, it is desirable to use an inorganic type, an acrylic type or a fluorine type. The average particle size of the beads is 0.
The thickness is preferably 5 μm to 10 μm. In particular, in the case of producing a clear type polymer film that requires transparency, an acrylic filler having an average particle size of 0.5 μm to 5 μm is used as beads and the beads are used as an electron beam curing resin and a surfactant. Add 5% to 5% by weight. On the other hand, in the case of producing a matte type polymer film, an inorganic, acrylic or fluorine-based filler having an average particle size of 3 μm to 10 μm is used as beads, and the beads are used as an electron beam curing resin and a surfactant at 10% by weight. Add ~ 20% by weight.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施形態につい
て図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施形態
である帯電防止高分子フィルム用コーティング剤を用い
て帯電防止高分子フィルムを製造する方法を説明するた
めの図、図2はその帯電防止高分子フィルムの製造方法
に使用する電子線照射装置の概略構成図、図3はその電
子線照射装置の電子線発生部の概略回路図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining a method for producing an antistatic polymer film using a coating agent for an antistatic polymer film according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a method for producing the antistatic polymer film. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus used in FIG. 3, and FIG. 3 is a schematic circuit diagram of an electron beam generation unit of the electron beam irradiation apparatus.

【0011】本実施形態では、帯電防止効果を付与する
基材が高分子フィルムである場合について考える。かか
る高分子フィルムには、たとえばポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリエステル等が
使用される。基材の高分子フィルムの膜厚は、利用する
製品に応じて適宜選択することができるが、5μm〜3
00μmの範囲とするのが好ましく、特に、ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニル等のように軟質なものを用いる場合
には、20μm〜200μmの範囲とするのが望まし
い。
In this embodiment, the case where the base material imparting the antistatic effect is a polymer film will be considered. For such a polymer film, for example, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polystyrene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene, polyester, etc. are used. The thickness of the base polymer film can be appropriately selected according to the product to be used, but is 5 μm to 3 μm.
It is preferably in the range of 00 μm, and particularly in the case of using a soft material such as polyethylene or polyvinyl chloride, it is preferably in the range of 20 μm to 200 μm.

【0012】本実施形態の帯電防止高分子フィルム用コ
ーティング剤は、電子線硬化樹脂と界面活性剤との混合
物の中にビーズを添加したものである。電子線硬化樹脂
の主要成分は、架橋性化合物と相溶性化合物である。こ
こで、架橋性化合物としては、アクリル系又はメタクリ
ル系等のものが用いられる。特に、分子中に少なくとも
二個、好ましくは二個乃至六個のアクリロイル基を有
し、ヒドロキシ基を持たない架橋性化合物を用いること
が望ましい。かかる架橋性化合物は、電子線が照射され
ると、ラジカルが生成されて重合体を形成するものであ
る。相溶性化合物としては、分子中に少なくとも一個、
好ましくは一個乃至四個のアクリロイル基及び少なくと
も一個、好ましくは一個乃至三個のヒドロキシ基を有す
るものが用いられる。この相溶性化合物は、一般には混
ざり合わない架橋性化合物と界面活性剤とを相溶化する
ものである。また、界面活性剤としては、カチオン系の
もの、たとえば四級アンモニウム塩や、アニオン系のも
の、たとえばアルキルサルフェートが用いられる。特
に、分子中に少なくとも一個、好ましくは一個又は二個
のアクリロイル基を有する四級アンモニンウム塩化合物
を用いることが望ましい。かかる界面活性剤は、高分子
フィルムの表面にある程度の導電性を与えて帯電を防止
する帯電防止剤として用いられる。
The antistatic polymer film coating agent of the present embodiment is obtained by adding beads to a mixture of an electron beam curing resin and a surfactant. The main component of the electron beam curing resin is a crosslinkable compound and a compatible compound. Here, as the crosslinkable compound, an acrylic or methacrylic compound is used. In particular, it is desirable to use a crosslinkable compound having at least two, preferably two to six acryloyl groups in the molecule and having no hydroxy group. When such a crosslinkable compound is irradiated with an electron beam, radicals are generated to form a polymer. As the compatible compound, at least one in the molecule,
Those having 1 to 4 acryloyl groups and at least 1, preferably 1 to 3 hydroxy groups are preferably used. The compatible compound is a compound that compatibilizes the cross-linkable compound and the surfactant, which are generally immiscible with each other. Further, as the surfactant, a cationic type such as a quaternary ammonium salt or an anionic type such as an alkyl sulfate is used. In particular, it is desirable to use a quaternary ammonium salt compound having at least one, preferably one or two acryloyl groups in the molecule. Such a surfactant is used as an antistatic agent that imparts a certain degree of conductivity to the surface of the polymer film to prevent charging.

【0013】ビーズは、電子線硬化樹脂と界面活性剤と
の混合物にフィラ(充填剤;filler)として入れる小球
であり、高分子フィルムに塗布したコーティング剤の硬
化被膜の表面の滑り性をよくするために用いられる。ビ
ーズの素材には、無機系、アクリル系又はフッ素系のも
のを用いる。また、ビーズとしては、平均粒径が0.5
μm〜10μmであるものを用いる。特に、透明性が要
求される、いわゆるクリアタイプの高分子フィルムを製
造する場合には、ビーズとして平均粒径0.5μm〜5
μmのアクリル系フィラを用い、ビーズを電子線硬化樹
脂及び界面活性剤に2重量%〜5重量%、好ましくは3
重量%〜4重量%添加することが望ましい。ビーズの平
均粒径が0.5μmより小さかったり、又はビーズの添
加量が2重量%より少ないと、表面の滑り性が悪くな
り、一方、ビーズの平均粒径が5μmより大きかった
り、又はビーズの添加量が5重量%より多いと、曇価
(ヘイズ)が高くなり透明性の要求に沿わないからであ
る。また、透明性を必要としない、いわゆるつや消しタ
イプの高分子フィルムを製造する場合には、ビーズとし
てはアクリル系フィラに限らず、無機系又はフッ素系フ
ィラを使用することができる。この場合、ビーズとして
は平均粒径が3μm〜10μmであるものを用い、ビー
ズを電子線硬化樹脂及び界面活性剤に10重量%〜20
重量%添加することが望ましい。ビーズの平均粒径が3
μmより小さかったり、又はビーズの添加量が10重量
%より少ないと、表面の光沢を十分消すことができず、
一方、ビーズの平均粒径が10μmより大きかったり、
又はビーズの添加量が20重量%より多いと、コーティ
ング剤の粘度が上昇してしまい、たとえばグラビアコー
トする際の加工性に問題が生じるからである。
The beads are small spheres that are put as a filler in a mixture of an electron beam curing resin and a surfactant, and have good slipperiness on the surface of the cured coating of the coating agent applied to the polymer film. It is used to As the material of the beads, an inorganic type, an acrylic type or a fluorine type is used. The average particle size of the beads is 0.5.
The one having a size of μm to 10 μm is used. In particular, when producing a so-called clear type polymer film that requires transparency, the beads have an average particle size of 0.5 μm to 5 μm.
Using an acrylic filler of μm, the beads are used in an electron beam curing resin and a surfactant in an amount of 2% by weight to 5% by weight, preferably 3%.
It is desirable to add from 4% to 4% by weight. If the average particle size of the beads is less than 0.5 μm or the amount of the beads added is less than 2% by weight, the slipperiness of the surface becomes poor, while the average particle size of the beads is more than 5 μm, or This is because if the addition amount is more than 5% by weight, the haze value becomes high and the transparency is not satisfied. Further, in the case of producing a so-called matte type polymer film that does not require transparency, the beads are not limited to acrylic fillers, but inorganic or fluorine fillers can be used. In this case, beads having an average particle size of 3 μm to 10 μm are used, and the beads are used in an electron beam curing resin and a surfactant in an amount of 10% by weight to 20%.
Addition by weight% is desirable. The average particle size of the beads is 3
If it is less than μm or the amount of beads added is less than 10% by weight, the surface gloss cannot be sufficiently erased,
On the other hand, the average particle size of the beads is larger than 10 μm,
Alternatively, if the amount of the beads added is more than 20% by weight, the viscosity of the coating agent increases, which causes a problem in workability in gravure coating, for example.

【0014】本実施形態の帯電防止高分子フィルム用コ
ーティング剤を用いて帯電防止高分子フィルムを製造す
るには、まず、図1(a)に示すように、電子線硬化樹
脂12と界面活性剤14とビーズ16とを混合したコー
ティング剤10を、高分子フィルム2の表面に塗布す
る。ここで、図1では、界面活性剤14が電子線硬化樹
脂12の中に固形物として存在しているように描いてい
るが、実際には、界面活性剤14は電子線硬化樹脂12
の中によく溶け込んでいる。また、コーティング剤10
を塗布する方法としては、たとえばグラビアコーティン
グ法、メイアーロッド法、カーテンコート法等を用いる
ことができる。
In order to produce an antistatic polymer film using the coating agent for an antistatic polymer film of this embodiment, first, as shown in FIG. 1 (a), the electron beam curing resin 12 and the surfactant are used. The coating agent 10 in which 14 and beads 16 are mixed is applied to the surface of the polymer film 2. Here, in FIG. 1, the surfactant 14 is drawn as if it exists as a solid substance in the electron beam curable resin 12, but in reality, the surfactant 14 is the electron beam curable resin 12.
It blends well in. In addition, the coating agent 10
As a method of applying, a gravure coating method, a Mayer rod method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0015】次に、図1(b)に示すように、高分子フ
ィルム2に塗布したコーティング剤10の表面に電子線
を照射する。すると、ラジカルが生成され、これによ
り、架橋性化合物及び/又は相溶性化合物の重合反応や
架橋反応が起こって重合体が形成される。その結果、コ
ーティング剤10の硬化被膜が得られる。ここで、塗布
したコーティング剤10の硬化被膜の膜厚は、1μm〜
50μmの範囲とすることが好ましい。特に、その硬化
被膜の膜厚の下限は、表面耐久性を確保するため、また
クリアタイプの高分子フィルムでは透明性を確保するた
めに、1.5μmとすることが望ましく、一方、その硬
化被膜の膜厚の上限は、硬化被膜によって高分子フィル
ムに大きな反りが生じるのを防止するために、20μm
とすることが望ましい。また、コーティング剤10の表
面に照射する電子線の線量は、10kGy〜150kG
yの範囲とすることが好ましく、特に20kGy〜10
0kGyの範囲とすることが望ましい。上記のようにし
て、本実施形態である帯電防止高分子フィルムの製造方
法が終了し、高分子フィルム2に帯電防止効果及び滑り
性が付与される。特に、かかる処理を施して得られた高
分子フィルム2は、表面にべとつきがなく、半永久的な
帯電防止効果を有するという特徴がある。
Next, as shown in FIG. 1B, the surface of the coating agent 10 applied to the polymer film 2 is irradiated with an electron beam. Then, radicals are generated, whereby a polymerization reaction or a crosslinking reaction of the crosslinkable compound and / or the compatible compound occurs to form a polymer. As a result, a cured film of the coating agent 10 is obtained. Here, the thickness of the cured film of the applied coating agent 10 is 1 μm to
The range is preferably 50 μm. In particular, the lower limit of the film thickness of the cured film is preferably set to 1.5 μm in order to ensure the surface durability and the transparency of the clear type polymer film. The upper limit of the film thickness is 20 μm in order to prevent a large warp in the polymer film due to the cured film.
It is desirable that Further, the dose of the electron beam applied to the surface of the coating agent 10 is 10 kGy to 150 kG.
The range of y is preferable, and 20 kGy to 10 is particularly preferable.
It is desirable to set it in the range of 0 kGy. As described above, the method for producing the antistatic polymer film of the present embodiment is completed, and the polymer film 2 is provided with the antistatic effect and the slipperiness. In particular, the polymer film 2 obtained by such a treatment is characterized in that it has a non-sticky surface and has a semi-permanent antistatic effect.

【0016】尚、電子線硬化樹脂と界面活性剤との混合
物として、分子中に少なくとも二個のアクリロイル基を
有し、ヒドロキシ基を持たない架橋性化合物と、分子中
に少なくとも一個のアクリロイル基及び少なくとも一個
のヒドロキシ基を有する相溶性化合物と、分子中に少な
くとも一個のアクリロイル基を有する四級アンモニウム
塩化合物とを混合したものを用いる場合には、その混合
物1mol中における、アクリロイル基の含有量が1.
3mol〜2.6mol、ヒドロキシ基の含有量が0.
2mol〜2.8mol及び四級アンモニウム塩の含有
量が0.03mol〜0.4molであることが望まし
い。これにより、コーティング剤の表面硬度の向上を図
ることができると共に、高分子フィルムに十分な帯電防
止効果を付与することができる。
As a mixture of the electron beam curing resin and the surfactant, a crosslinkable compound having at least two acryloyl groups in the molecule and not having a hydroxy group, at least one acryloyl group in the molecule, and When a mixture of a compatible compound having at least one hydroxy group and a quaternary ammonium salt compound having at least one acryloyl group in the molecule is used, the content of the acryloyl group in 1 mol of the mixture is 1.
3 mol to 2.6 mol, the content of hydroxy groups is 0.
The content of 2 mol to 2.8 mol and the quaternary ammonium salt is preferably 0.03 mol to 0.4 mol. As a result, the surface hardness of the coating agent can be improved and a sufficient antistatic effect can be imparted to the polymer film.

【0017】次に、本実施形態の方法で使用する電子線
照射装置について説明する。かかる電子線照射装置は、
被処理物の表面における重合や架橋処理に使用されるも
のであり、図2に示すように、電子線発生部50と、照
射室60と、照射窓部70とを備える。電子線発生部5
0は、電子線を発生するターミナル52と、ターミナル
52で発生した電子線を真空空間(加速空間)で加速す
る加速管54とを有するものである。また、電子線発生
部50の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギー
を失うことを防ぐため、及びフィラメント52aの酸化
を防止するため、図示しないポンプ等により1.3×1
-4〜1.3×10-5Paの真空に保たれている。ター
ミナル52は、熱電子を放出する線状のフィラメント5
2aと、フィラメント52aを支持するガン構造体52
bと、フィラメント52aで発生した熱電子をコントロ
ールするグリッド52cとを有する。
Next, the electron beam irradiation apparatus used in the method of this embodiment will be described. Such an electron beam irradiation device,
It is used for polymerization or cross-linking treatment on the surface of the object to be treated, and as shown in FIG. 2, it is provided with an electron beam generator 50, an irradiation chamber 60, and an irradiation window 70. Electron beam generator 5
Reference numeral 0 has a terminal 52 for generating an electron beam and an accelerating tube 54 for accelerating the electron beam generated at the terminal 52 in a vacuum space (acceleration space). In addition, in order to prevent electrons from colliding with gas molecules to lose energy and to prevent oxidation of the filament 52a, the inside of the electron beam generator 50 is 1.3 × 1 by a pump or the like not shown.
The vacuum is maintained at 0 −4 to 1.3 × 10 −5 Pa. The terminal 52 is a linear filament 5 that emits thermoelectrons.
2a and a gun structure 52 supporting the filament 52a
b and a grid 52c for controlling thermoelectrons generated in the filament 52a.

【0018】また、図3に示すように、電子線発生部5
0には、フィラメント52aを加熱して熱電子を発生さ
せるための加熱用電源56aと、フィラメント52aと
グリッド52cとの間に電圧を印加する制御用直流電源
56bと、グリッド52cと照射窓部70に設けられた
窓箔72との間に電圧(加速電圧)を印加する加速用直
流電源56cとが設けられている。
Further, as shown in FIG. 3, the electron beam generator 5
0 is a heating power source 56a for heating the filament 52a to generate thermoelectrons, a control DC power source 56b for applying a voltage between the filament 52a and the grid 52c, a grid 52c and an irradiation window portion 70. A DC power source 56c for acceleration that applies a voltage (acceleration voltage) is provided between the window foil 72 and the window foil 72.

【0019】照射室60は、被処理物に電子線を照射す
る照射空間62を含むものである。また、被処理物は照
射室60内をローラ等を用いた搬送手段(不図示)によ
り、図2において左側から右側に移動する。尚、電子線
発生部50及び照射室60の周囲は電子線照射時に二次
的に発生するX線が外部へ漏出しないように、鉛遮蔽が
施されている。
The irradiation chamber 60 includes an irradiation space 62 for irradiating an object with an electron beam. Further, the object to be processed is moved in the irradiation chamber 60 from the left side to the right side in FIG. 2 by a conveying means (not shown) using rollers or the like. The periphery of the electron beam generator 50 and the irradiation chamber 60 is lead-shielded so that X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation do not leak outside.

【0020】照射窓部70は、金属箔からなる窓箔72
と、窓箔72を冷却すると共に窓箔72を支持する窓枠
構造体74とを有するものである。窓箔72は、電子線
発生部50内の真空雰囲気と照射室60内の照射雰囲気
とを仕切るものであり、また窓箔72を介して照射室6
0内に電子線を取り出すものである。窓箔72に使用さ
れる金属としては、厚さ約10μm程度のTi箔が最も
よく使用されている。
The irradiation window portion 70 is a window foil 72 made of metal foil.
And a window frame structure 74 that supports the window foil 72 while cooling the window foil 72. The window foil 72 separates the vacuum atmosphere in the electron beam generating unit 50 from the irradiation atmosphere in the irradiation chamber 60, and the irradiation chamber 6 is separated by the window foil 72.
The electron beam is taken out within 0. As the metal used for the window foil 72, Ti foil having a thickness of about 10 μm is most often used.

【0021】加熱用電源56aによりフィラメント52
aに電流を通じて加熱するとフィラメント52aは熱電
子を放出し、この熱電子は、フィラメント52aとグリ
ッド52cとの間に印加された制御用直流電源56bの
制御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、
グリッド52cを通過したものだけが電子線として有効
に取り出される。そして、このグリッド52cから取り
出された電子線は、グリッド52cと窓箔72との間に
印加された加速用直流電源56cの加速電圧により加速
管54内の加速空間で加速された後、窓箔72を突き抜
け、照射窓部70の下方の照射室60内を搬送される被
処理物に照射される。尚、通常は、加熱用電源56aと
加速用直流電源56cとを所定の値に設定し、制御用直
流電源56bを可変にすることにより、ビーム電流の調
整を行っている。一般に、電子線照射装置では、被処理
物が吸収する線量はビーム電流に比例する。このため、
ビーム電流を変えることにより、電子線の吸収線量を調
整することができる。
The filament 52 is heated by the heating power source 56a.
When the filament 52a is heated by applying a current to a, the filament 52a emits thermoelectrons, and the thermoelectrons are attracted in all directions by the control voltage of the control DC power supply 56b applied between the filament 52a and the grid 52c. this house,
Only those that have passed through the grid 52c are effectively taken out as electron beams. The electron beam extracted from the grid 52c is accelerated in the acceleration space in the accelerating tube 54 by the acceleration voltage of the accelerating DC power supply 56c applied between the grid 52c and the window foil 72, and then the window foil. The object to be processed which passes through 72 and is conveyed in the irradiation chamber 60 below the irradiation window 70 is irradiated. The beam current is usually adjusted by setting the heating power supply 56a and the acceleration DC power supply 56c to predetermined values and making the control DC power supply 56b variable. In general, in an electron beam irradiation apparatus, the dose absorbed by an object to be processed is proportional to the beam current. For this reason,
The absorbed dose of the electron beam can be adjusted by changing the beam current.

【0022】このような電子線照射装置を本実施形態で
ある帯電防止高分子フィルムの製造方法に使用する場合
には、一般に、加速電圧を100kV〜500kVの範
囲内の値に設定することが好ましい。特に、高分子フィ
ルムが、ポリカーボネートやポリプロピレン等のように
電子線により劣化しやすいものである場合には、加速電
圧を100kV〜150kVの範囲内の値に設定するこ
とが望ましい。また、本実施形態のように、表面処理を
行う場合には、被処理物の周囲に多量の酸素が存在する
と、電子線を照射することで生成されたラジカルが酸素
と反応してしまい、ラジカル重合反応が阻害される。こ
のため、照射室60内の照射雰囲気を窒素雰囲気として
いる。具体的には照射雰囲気の酸素濃度を1000pp
m以下とするのが好ましく、特に500ppm以下にす
るのが望ましい。
When such an electron beam irradiation apparatus is used in the method for producing the antistatic polymer film of this embodiment, it is generally preferable to set the acceleration voltage to a value within the range of 100 kV to 500 kV. . In particular, when the polymer film is one that is easily deteriorated by an electron beam such as polycarbonate or polypropylene, it is desirable to set the acceleration voltage to a value within the range of 100 kV to 150 kV. Further, in the case of performing the surface treatment as in the present embodiment, if a large amount of oxygen exists around the object to be treated, the radicals generated by irradiating the electron beam react with oxygen and the radicals are generated. The polymerization reaction is hindered. Therefore, the irradiation atmosphere in the irradiation chamber 60 is a nitrogen atmosphere. Specifically, the oxygen concentration in the irradiation atmosphere is 1000 pp
It is preferably m or less, and particularly preferably 500 ppm or less.

【0023】次に、本発明者等は、本実施形態である帯
電防止高分子フィルムの製造方法による処理を施したク
リアタイプの高分子フィルムとつや消しタイプの高分子
フィルムとについて、帯電防止効果や滑り性等を確認す
る試験を行った。最初に、クリアタイプの高分子フィル
ムについての試験を行った。かかる試験では、高分子フ
ィルムとして、ポリエステルフィルム(PET)を使用
した。この高分子フィルムの厚さは50μmである。ま
た、コーティング剤として、次の四種類のものを混合し
て使用した。すなわち、架橋性化合物としてのペンタエ
リスリトールトリアクリレート(PE3A)と、相溶性
化合物としての2−ヒドロキシプロピルアクリレート
(HPA)と、界面活性剤としてのジメチルアミノエチ
ルアクリレート,四級塩(DMAEAQ)と、アクリル
系のビーズとしてのメタクリル樹脂(MMA)とを混合
したものを用いた。ここで、ビーズとしては、その平均
粒径が1.0μm、1.5μm、3.5μm、5.0μ
mであるものを用いた。そして、各平均粒径のビーズ
を、架橋性化合物50部、相溶性化合物30部及び界面
活性剤20部の混合物に対して、3〜4重量%の割合で
添加して、四種類のコーティング剤を作製した。次に、
各コーティング剤を三つの高分子フィルムにグラビアコ
ータで、それぞれ厚さ1.5μm、3.0μm、6.0
μmになるように塗布した。その後、電子線照射装置の
加速電圧を150kVに設定し、塗布したコーティング
剤の表面に電子線を30kGyの線量で照射することに
より、コーティング剤の硬化被膜を形成した。ここで、
電子線照射装置として、岩崎電気(株)製CB250/
15/180Lを使用した。こうして得られた各サンプ
ルを用いて、以下の各試験を行った。
Next, the inventors of the present invention have described the antistatic effect and the clear type polymer film and the matte type polymer film which have been treated by the method for producing an antistatic polymer film according to the present embodiment. A test for confirming slipperiness and the like was conducted. First, a test was conducted on a clear type polymer film. In this test, a polyester film (PET) was used as the polymer film. The thickness of this polymer film is 50 μm. The following four types of coating agents were mixed and used. That is, pentaerythritol triacrylate (PE3A) as a crosslinkable compound, 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) as a compatible compound, dimethylaminoethyl acrylate, a quaternary salt (DMAEAQ) as a surfactant, and acrylic A mixture of methacrylic resin (MMA) as the system beads was used. Here, the beads have an average particle size of 1.0 μm, 1.5 μm, 3.5 μm, 5.0 μm.
m. Then, beads having each average particle diameter are added at a ratio of 3 to 4% by weight to a mixture of 50 parts of a crosslinkable compound, 30 parts of a compatible compound and 20 parts of a surfactant, and four kinds of coating agents are added. Was produced. next,
Each coating agent was applied to three polymer films with a gravure coater to a thickness of 1.5 μm, 3.0 μm, and 6.0, respectively.
It was applied to a thickness of μm. Then, the accelerating voltage of the electron beam irradiation device was set to 150 kV, and the surface of the applied coating agent was irradiated with an electron beam at a dose of 30 kGy to form a cured coating film of the coating agent. here,
CB250 / manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.
15/180 L was used. The following tests were carried out using the samples thus obtained.

【0024】まず、本発明者等は、各サンプルについて
帯電防止効果を調べた。この帯電防止効果を調べる試験
では、上記の方法により処理して得られた各サンプルに
ついて、表面抵抗値を測定した。ここで、表面抵抗値
は、三菱油化(株)製 HirestaHT-210 を用いて測定し
た。また、測定時の環境は、温度25℃、湿度60%R
Hであった。一般に、フィルムの帯電を防止するために
は、表面抵抗値を1012Ω/□以下にする必要がある。
帯電防止効果を調べる試験の結果、ビーズの平均粒径及
びコーティング剤の膜厚に関係なく、すべてのサンプル
について表面抵抗値が約3×1010Ω/□であった。し
たがって、本実施形態の方法により処理された高分子フ
ィルムは、十分な帯電防止効果を有することが確認され
た。
First, the present inventors investigated the antistatic effect of each sample. In the test for examining the antistatic effect, the surface resistance value was measured for each sample obtained by the above method. Here, the surface resistance value was measured using Hiresta HT-210 manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. Also, the environment at the time of measurement is temperature 25 ° C, humidity 60% R
H. Generally, in order to prevent the film from being charged, the surface resistance value needs to be 10 12 Ω / □ or less.
As a result of the test for examining the antistatic effect, the surface resistance value of all the samples was about 3 × 10 10 Ω / □ regardless of the average particle diameter of the beads and the film thickness of the coating agent. Therefore, it was confirmed that the polymer film treated by the method of the present embodiment has a sufficient antistatic effect.

【0025】次に、本発明者等は、各サンプルについて
硬化被膜表面の滑り性と曇価(ヘイズ)とを調べた。こ
の結果を図4に示す。ここでは、滑り性及び曇価(ヘイ
ズ)を四段階で評価した。すなわち、非常に良好なもの
(二重丸印で示す。)、良好なもの(丸印で示す。)、
少し程度は落ちるが実用上は問題のないもの(三角印で
示す。)、劣悪なもの(×印で示す。)の四段階であ
る。滑り性に関しては、図4の上段に示すように、ここ
で作製したすべてのサンプルは実用上問題のない滑り性
を有することが確認された。そして、この結果から、ビ
ーズの平均粒径がコーティング剤の膜厚より大きくなる
ほど、滑り性がよくなることがわかる。一方、曇価に関
しては、図4の下段に示すように、ビーズの平均粒径が
3.5μmで膜厚が1.5μmのサンプル、ビーズの平
均粒径が5.0μmで膜厚が1.5μmのサンプル、ビ
ーズの平均粒径が5.0μmで膜厚が3.0μmのサン
プルについては、曇価が高く、クリアタイプのフィルム
としては不適格であったが、それ以外のサンプルについ
ては、実用上問題のない曇価を有することが確認され
た。そして、ビーズの平均粒径がコーティング剤の膜厚
より小さいほうが、曇価がよくなる。かかる滑り性と曇
価とに関する結果を総合すると、滑り性や曇価は、ビー
ズの平均粒径及びコーティング剤の膜厚と関係があり、
特に、高分子フィルムに実用上問題のない滑り性と曇価
とを与えるためには、ビーズの平均粒径をコーティング
剤の膜厚と同程度か又はそれ以下とすればよいことがわ
かる。
Next, the present inventors examined the slidability and haze value (haze) of the surface of the cured coating for each sample. The result is shown in FIG. Here, the slidability and the haze value (haze) were evaluated in four stages. That is, very good (indicated by double circles), good (indicated by circles),
There are four levels: those that fall a little but practically no problem (indicated by triangles) and those that are poor (indicated by x). Regarding the slipperiness, as shown in the upper part of FIG. 4, it was confirmed that all the samples prepared here had the slipperiness which was practically no problem. From these results, it can be seen that the slipperiness becomes better as the average particle diameter of the beads becomes larger than the film thickness of the coating agent. On the other hand, regarding the haze value, as shown in the lower part of FIG. 4, a sample having an average particle diameter of beads of 3.5 μm and a film thickness of 1.5 μm, and an average particle diameter of beads of 5.0 μm and a film thickness of 1. The sample of 5 μm, the sample having an average particle diameter of beads of 5.0 μm and the film thickness of 3.0 μm had a high haze value and was not suitable as a clear type film, but for other samples, It was confirmed to have a haze value which was practically no problem. Then, the haze value is improved when the average particle size of the beads is smaller than the film thickness of the coating agent. Summarizing the results regarding the slipperiness and the haze value, the slipperiness and the haze value are related to the average particle diameter of the beads and the film thickness of the coating agent,
In particular, it is understood that the average particle diameter of the beads should be set to the same level as or smaller than the film thickness of the coating agent in order to give the polymer film slipperiness and haze value which are practically unproblematic.

【0026】次に、つや消しタイプの高分子フィルムに
ついての試験を行った。かかる試験では、高分子フィル
ムとして、ポリエステルフィルム(PET)を使用し
た。この高分子フィルムの厚さは50μmである。ま
た、コーティング剤として、次の四種類のものを混合し
て使用した。すなわち、架橋性化合物としてのペンタエ
リスリトールトリアクリレート(PE3A)と、相溶性
化合物としてのポリエチレングリコールジグリシリルエ
ーテルのアクリル酸付加物(EP400EA)と、界面
活性剤としてのジメチルアミノエチルアクリレート,四
級塩(DMAEAQ)と、アクリル系のビーズとしての
メタクリル樹脂(MMA)とを混合したものを用いた。
ここで、ビーズとしては、0.5μmから20μmの範
囲で所定の平均粒径を有するものを用いた。そして、各
平均粒径のビーズを、架橋性化合物50部、相溶性化合
物30部及び界面活性剤20部の混合物に対して、5重
量%から50重量%の範囲で所定の割合で添加して、各
種のコーティング剤を作製した。次に、各コーティング
剤を高分子フィルムにグラビアコータで、所定の厚さに
なるように塗布した。その後、電子線照射装置の加速電
圧を150kVに設定し、塗布したコーティング剤の表
面に電子線を30kGyの線量で照射することにより、
コーティング剤の硬化被膜を形成した。ここで、電子線
照射装置として、岩崎電気(株)製CB250/15/
180Lを使用した。こうして得られた各サンプルを用
いて、以下の各試験を行った。
Next, a test was conducted on a matte type polymer film. In this test, a polyester film (PET) was used as the polymer film. The thickness of this polymer film is 50 μm. The following four types of coating agents were mixed and used. That is, pentaerythritol triacrylate (PE3A) as a crosslinkable compound, an acrylic acid adduct of polyethylene glycol diglycyl ether (EP400EA) as a compatible compound, dimethylaminoethyl acrylate as a surfactant, and a quaternary salt ( A mixture of DMAEAQ) and methacrylic resin (MMA) as acrylic beads was used.
Here, as the beads, those having a predetermined average particle size in the range of 0.5 μm to 20 μm were used. Then, the beads having each average particle diameter are added at a predetermined ratio within a range of 5% by weight to 50% by weight to a mixture of 50 parts of the crosslinkable compound, 30 parts of the compatible compound and 20 parts of the surfactant. , Various coating agents were prepared. Next, each coating agent was applied to the polymer film with a gravure coater so as to have a predetermined thickness. Then, by setting the acceleration voltage of the electron beam irradiation device to 150 kV and irradiating the surface of the applied coating agent with an electron beam at a dose of 30 kGy,
A cured film of the coating agent was formed. Here, as an electron beam irradiation device, CB250 / 15 / manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.
180 L was used. The following tests were carried out using the samples thus obtained.

【0027】まず、本発明者等は、各サンプルについて
帯電防止効果を調べた。この帯電防止効果を調べる試験
は、上記のクリアタイプの高分子フィルムについて行っ
た試験と同様にして、各サンプルについて表面抵抗値を
測定した。その結果、すべてのサンプルが十分な帯電防
止効果を有することが確認された。次に、本発明者等
は、各サンプルについて硬化被膜表面の滑り性とつや消
し性とを調べた。滑り性に関しては、ここで作製したす
べてのサンプルは実用上問題のない滑り性を有すること
が確認された。一方、つや消し性に関しては、ビーズの
平均粒径が3.0μmより小さく各サンプル、及びビー
ズの添加量が10重量%より少ない各サンプルについて
は、良好なつや消し性が得られず、また、ビーズの平均
粒径が10.0μmより大きい各サンプル、及びビーズ
の添加量が20重量%より多い各サンプルについては、
グラビアコーティング、特に数μmの薄膜コーティング
が容易にできないという作業上の問題が生じた。しか
し、それ以外のサンプル、すなわち、ビーズの平均粒径
が3.0μm〜10.0μmの範囲にあって、ビーズの
添加量が10重量%〜20重量%の範囲にある各サンプ
ルは良好なつや消し調を有することが確認された。
First, the present inventors investigated the antistatic effect of each sample. In the test for examining the antistatic effect, the surface resistance value of each sample was measured in the same manner as the test performed for the clear type polymer film described above. As a result, it was confirmed that all the samples had a sufficient antistatic effect. Next, the present inventors examined the slipperiness and matteness of the surface of the cured coating for each sample. With respect to the slipperiness, it was confirmed that all the samples prepared here had slipperiness which was practically no problem. On the other hand, with respect to the matte property, good matte property was not obtained for each sample having an average particle diameter of beads smaller than 3.0 μm and each sample having the bead addition amount less than 10% by weight, and the bead For each sample having an average particle size of more than 10.0 μm and each of the beads added in an amount of more than 20% by weight,
There was a working problem that gravure coating, especially thin film coating of several μm, could not be performed easily. However, the other samples, that is, the samples in which the average particle diameter of the beads is in the range of 3.0 μm to 10.0 μm and the amount of the beads added is in the range of 10% by weight to 20% by weight, have good matte properties. It was confirmed to have a tone.

【0028】本実施形態の帯電防止高分子フィルム用コ
ーティング剤は、電子線硬化樹脂と界面活性剤とを混合
したものにビーズを添加したものを用いているため、そ
のコーティング剤を高分子フィルムの表面に塗布した
後、そのコーティング剤の表面に電子線を照射してコー
ティング剤の硬化被膜を形成することにより、高分子フ
ィルムに帯電防止効果を付与することができると共に、
硬化被膜の表面の滑り性をよくすることができる。した
がって、かかる処理を施して得られた高分子フィルムは
滑りやすいため、たとえば高分子フィルムを包装材に加
工する場合に、高分子フィルムに帯電防止処理を施した
後でも、その高分子フィルムを機械的に自動で次の包装
材加工工程に移動することができるという利点がある。
The antistatic polymer film coating agent of the present embodiment is a mixture of an electron beam curable resin and a surface-active agent to which beads are added. After applying to the surface, by irradiating the surface of the coating agent with an electron beam to form a cured coating film of the coating agent, it is possible to impart an antistatic effect to the polymer film,
The slipperiness of the surface of the cured film can be improved. Therefore, the polymer film obtained by such treatment is slippery, and therefore, for example, when the polymer film is processed into a packaging material, even after the polymer film is subjected to the antistatic treatment, the polymer film is mechanically treated. There is an advantage that it can automatically move to the next packaging material processing step.

【0029】[0029]

【実施例】まず、以下の実施例1−1,1−2,1−3
に本発明の帯電防止高分子フィルム用コーティング剤の
作製例を示す。 実施例1−1 電子線硬化樹脂としてペンタエリスリトールトリアクリ
レート(PE3A)を50gと、界面活性剤としてジメ
チルアミノエチルアクリレート,四級塩(DMAEA
Q)を20gと、相溶性化合物として2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート(HPA)を30gと、平均粒径
3.5μmのメタクリル樹脂(MMA)ビーズ3.5g
とを混合してコーティング剤を作製した。
EXAMPLES First, the following Examples 1-1, 1-2, 1-3
An example of producing the coating agent for an antistatic polymer film of the present invention is shown in FIG. Example 1-1 50 g of pentaerythritol triacrylate (PE3A) as an electron beam curing resin, dimethylaminoethyl acrylate and a quaternary salt (DMAEA) as a surfactant.
20 g of Q), 30 g of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) as a compatible compound, and 3.5 g of methacrylic resin (MMA) beads having an average particle diameter of 3.5 μm.
And were mixed to prepare a coating agent.

【0030】実施例1−2 電子線硬化樹脂としてペンタエリスリトールトリアクリ
レート(PE3A)を50gと、界面活性剤としてジメ
チルアミノエチルアクリレート,四級塩(DMAEA
Q)を20gと、相溶性化合物として2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート(HPA)を30gと、平均粒径5
μmのメタクリル樹脂(MMA)ビーズ3.5gとを混
合してコーティング剤を作製した。
Example 1-2 50 g of pentaerythritol triacrylate (PE3A) as an electron beam curing resin, dimethylaminoethyl acrylate as a surfactant, and a quaternary salt (DMAEA).
20 g of Q), 30 g of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) as a compatible compound, and an average particle size of 5
A coating agent was prepared by mixing with 3.5 g of methacrylic resin (MMA) beads having a diameter of μm.

【0031】実施例1−3 電子線硬化樹脂としてペンタエリスリトールトリアクリ
レート(PE3A)を50gと、界面活性剤としてジメ
チルアミノエチルアクリレート,四級塩(DMAEA
Q)を20gと、相溶性化合物としてポリエチレングリ
コールジグリシリルエーテルのアクリル酸付加物(EP
400EA)を30gと、平均粒径5μmのメタクリル
樹脂(MMA)ビーズ15gとを混合してコーティング
剤を作製した。
Example 1-3 50 g of pentaerythritol triacrylate (PE3A) as an electron beam curing resin, dimethylaminoethyl acrylate as a surfactant, and a quaternary salt (DMAEA).
20 g of Q) and an acrylic acid adduct of polyethylene glycol diglycyl ether as a compatible compound (EP
A coating agent was prepared by mixing 30 g of 400 EA) with 15 g of methacrylic resin (MMA) beads having an average particle size of 5 μm.

【0032】実施例2 次に、実施例1−1〜1−3で作製した三種のコーティ
ング剤を、三つの厚さ50μmのポリエステル(PE
T)フィルムにグラビアコータを用いて、それぞれ厚さ
3.0μmになるように塗布した。その後、電子線照射
装置(岩崎電気(株)製CB250/15/180L)
を使用し、加速電圧を150kVに設定し、塗布したコ
ーティング剤の表面に電子線を30kGyの線量で照射
した。いずれのコーティング剤も、電子線照射により硬
化被膜を形成した。
Example 2 Next, the three types of coating agents prepared in Examples 1-1 to 1-3 were applied to three polyesters (PE) having a thickness of 50 μm.
T) Using a gravure coater, each film was applied to a thickness of 3.0 μm. After that, electron beam irradiation device (CB250 / 15 / 180L manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.)
Was used, the acceleration voltage was set to 150 kV, and the surface of the applied coating agent was irradiated with an electron beam at a dose of 30 kGy. All coating agents formed a cured film by electron beam irradiation.

【0033】こうして得られた各サンプルについて、三
菱油化(株)製 Hiresta HT-210 を用いて、温度25
℃、湿度60%RHにおける表面抵抗値を測定した。そ
の結果、すべのサンプルについて表面抵抗値が約3×1
10Ω/□であり、十分な帯電防止効果を有することを
確認した。尚、本発明は上記の実施形態・実施例に限定
されるものではなく、その要旨の範囲内において種々の
変形が可能である。
For each of the samples thus obtained, a Hiresta HT-210 manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.
The surface resistance value was measured at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 60% RH. As a result, the surface resistance of all samples was about 3 × 1
It was 0 10 Ω / □, and it was confirmed to have a sufficient antistatic effect. The present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made within the scope of the gist thereof.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
子線硬化樹脂と界面活性剤とビーズとを含むことによ
り、高分子フィルムの表面に塗布した後、その表面に電
子線を照射して硬化被膜を形成することによって、高分
子フィルムに帯電防止効果を付与することができると共
に、硬化被膜の表面の滑り性をよくすることができる帯
電防止高分子フィルム用コーティング剤を提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention, by containing an electron beam curable resin, a surfactant and beads, the polymer film is coated on the surface and then the surface is irradiated with an electron beam. By forming a cured coating by using the above method, it is possible to provide a coating agent for an antistatic polymer film, which can impart an antistatic effect to a polymer film and can improve the slipperiness of the surface of the cured coating. it can.

【0035】以上説明したように本発明によれば、電子
線硬化樹脂と界面活性剤とビーズとを含むコーティング
剤を、高分子フィルムの表面に塗布した後、そのコーテ
ィング剤の表面に電子線を照射してコーティング剤の硬
化被膜を形成することにより、高分子フィルムに帯電防
止効果を付与することができると共に、硬化被膜の表面
の滑り性をよくすることができる帯電防止高分子フィル
ムの製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a coating agent containing an electron beam curing resin, a surfactant and beads is applied to the surface of a polymer film, and then an electron beam is applied to the surface of the coating agent. A method for producing an antistatic polymer film capable of imparting an antistatic effect to a polymer film and improving the slipperiness of the surface of the cured film by forming a cured coating film of a coating agent by irradiation. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態である帯電防止高分子フィ
ルム用コーティング剤を用いて帯電防止高分子フィルム
を製造する方法を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a method for producing an antistatic polymer film using a coating agent for an antistatic polymer film according to an embodiment of the present invention.

【図2】その帯電防止高分子フィルムの製造方法に使用
する電子線照射装置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus used in the method for producing the antistatic polymer film.

【図3】その電子線照射装置の電子線発生部の概略回路
図である。
FIG. 3 is a schematic circuit diagram of an electron beam generator of the electron beam irradiation device.

【図4】本実施形態である帯電防止高分子フィルムの製
造方法による処理を施したクリアタイプのフィルムにつ
いて滑り性と曇価とに関する試験を行った結果を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing the results of tests on the slipperiness and the haze value of a clear type film that has been treated by the method for producing an antistatic polymer film according to the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 高分子フィルム 10 コーティング剤 12 電子線硬化樹脂 14 界面活性剤 16 ビーズ 2 Polymer Film 10 Coating Agent 12 Electron Beam Curing Resin 14 Surfactant 16 Beads

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 天谷 直之 愛知県知多郡武豊町字西門8 ファミール 西門202号 (72)発明者 木下 忍 埼玉県行田市壱里山町1丁目1番地 岩崎 電気株式会社埼玉製作所内 (72)発明者 吉田 安雄 埼玉県行田市藤原町1−30−10 株式会社 アイエレクトロンビーム内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Naoyuki Amaya No. 202, Famir Nishimon 8 Nishimon, Taketoyo-cho, Chita-gun, Aichi (72) Inventor Shinobu Kinoshita 1-1 Ichiriyama-cho, Gyoda-shi, Saitama Iwasaki Electric Saitama Co., Ltd. (72) Inventor Yasuo Yoshida 1-30-10 Fujiwara-cho, Gyoda-shi, Saitama I-Electron Beam Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子線硬化樹脂と界面活性剤とビーズと
を含むことを特徴とする帯電防止高分子フィルム用コー
ティング剤。
1. A coating agent for an antistatic polymer film, which comprises an electron beam curing resin, a surfactant and beads.
【請求項2】 前記電子線硬化樹脂が、分子中に少なく
とも二個のアクリロイル基を有し、ヒドロキシ基を持た
ない架橋性化合物と、分子中に少なくとも一個のアクリ
ロイル基及び少なくとも一個のヒドロキシ基を有する相
溶性化合物とを含むものであり、前記界面活性剤が、分
子中に少なくとも一個のアクリロイル基を有する四級ア
ンモニウム塩化合物であることを特徴とする請求項1記
載の帯電防止高分子フィルム用コーティング剤。
2. The electron beam curable resin comprises a crosslinkable compound having at least two acryloyl groups in a molecule and no hydroxy group, and at least one acryloyl group and at least one hydroxy group in a molecule. 2. The antistatic polymer film according to claim 1, wherein the surfactant is a quaternary ammonium salt compound having at least one acryloyl group in the molecule. Coating agent.
【請求項3】 前記電子線硬化樹脂と前記界面活性剤と
の混合物1mol中における、アクリロイル基の含有量
が1.3mol〜2.6mol、ヒドロキシ基の含有量
が0.2mol〜2.8mol及び四級アンモニウム塩
の含有量が0.03mol〜0.4molであることを
特徴とする請求項2記載の帯電防止高分子フィルム用コ
ーティング剤。
3. The acryloyl group content is 1.3 mol to 2.6 mol, and the hydroxy group content is 0.2 mol to 2.8 mol in 1 mol of the mixture of the electron beam curing resin and the surfactant. The coating agent for an antistatic polymer film according to claim 2, wherein the content of the quaternary ammonium salt is 0.03 mol to 0.4 mol.
【請求項4】 前記ビーズが、平均粒径0.5μm〜5
μmのアクリル系フィラであり、前記ビーズを前記電子
線硬化樹脂及び前記界面活性剤に2重量%〜5重量%添
加することを特徴とする請求項1乃至3記載の帯電防止
高分子フィルム用コーティング剤。
4. The beads have an average particle size of 0.5 μm to 5 μm.
A coating for an antistatic polymer film according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating is an acrylic filler having a thickness of μm, and the beads are added to the electron beam curing resin and the surfactant in an amount of 2% by weight to 5% by weight. Agent.
【請求項5】 前記ビーズが、平均粒径3μm〜10μ
mの無機系、アクリル系又はフッ素系フィラであり、前
記ビーズを前記電子線硬化樹脂及び前記界面活性剤に1
0重量%〜20重量%添加することを特徴とする請求項
1乃至3記載の帯電防止高分子フィルム用コーティング
剤。
5. The beads have an average particle size of 3 μm to 10 μm.
m of an inorganic, acrylic or fluorine filler, and the beads are added to the electron beam curable resin and the surfactant.
The coating agent for an antistatic polymer film according to claim 1, which is added in an amount of 0% by weight to 20% by weight.
【請求項6】 請求項1乃至5のいずれかに記載の帯電
防止高分子フィルム用コーティング剤を、高分子フィル
ムの表面に塗布した後、前記コーティング剤の表面に電
子線を照射して前記コーティング剤の硬化被膜を形成す
ることを特徴とする帯電防止高分子フィルムの製造方
法。
6. The coating agent for an antistatic polymer film according to claim 1 is applied to the surface of a polymer film, and then the surface of the coating agent is irradiated with an electron beam to perform the coating. A method for producing an antistatic polymer film, which comprises forming a cured film of an agent.
JP22706096A 1995-08-31 1996-08-28 Coating agent for antistatic polymer film and production of the film Pending JPH09165555A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001323206A (en) * 2000-05-11 2001-11-22 Toppan Printing Co Ltd Glare-proof and antistatic hard coat resin composition, hard coat film and hard coat film molding artilce

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