JPH09160038A - Orientation processing method and its processor - Google Patents

Orientation processing method and its processor

Info

Publication number
JPH09160038A
JPH09160038A JP33987695A JP33987695A JPH09160038A JP H09160038 A JPH09160038 A JP H09160038A JP 33987695 A JP33987695 A JP 33987695A JP 33987695 A JP33987695 A JP 33987695A JP H09160038 A JPH09160038 A JP H09160038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
rubbing
film substrate
frictional force
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33987695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Oshikawa
保夫 押川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP33987695A priority Critical patent/JPH09160038A/en
Publication of JPH09160038A publication Critical patent/JPH09160038A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the production of an alignment defect. SOLUTION: The surface of an alignment layer is continuously rubbed by a rubbing roll 19 while continuously carrying a long film substrate 21 on which the orientation film is formed between the roll 19 and a backup roll 20 oppositely arranged on the lower side of the roll 19. When an adhesive roll 14 arranged on the lower side of the substrate 21 is rotated in the same direction as the rotating direction of the roll 19, the Y component PY of frictional force P by an adhesive roll 14 is applied to the substrate 21 so that the Y component RY of frictional force R to the substrate 21 by the roll 19 is canceled, so that even when the rotational frequency of the roll 19 is increased and rubbing density is increased, the substrate 21 can be prevented from being oscillated and the alignment layer can be uniformly rubbed. Consequently the production of an alignment defect can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は配向処理方法およ
びその処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an alignment treatment method and a treatment apparatus therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶セルにおける液晶分子の配向処理方
法には、基板の表面に配向膜を形成し、この配向膜の表
面をラビングロールによって一方向にラビングする方法
が知られている。ところで、基板としてフィルム基板を
用いる場合、各液晶セルに対応する定尺のフィルム基板
ごとにラビング処理を施すと非能率的であるので、長尺
のフィルム基板を用いてロール・ツー・ロールによる連
続処理でラビングを行なっている。
2. Description of the Related Art As a method of aligning liquid crystal molecules in a liquid crystal cell, there is known a method of forming an alignment film on the surface of a substrate and rubbing the surface of the alignment film in one direction by a rubbing roll. By the way, when a film substrate is used as a substrate, it is inefficient to perform rubbing treatment on each film substrate of a fixed size corresponding to each liquid crystal cell, so continuous roll-to-roll is performed using a long film substrate. The process is rubbing.

【0003】さて、このロール・ツー・ロールによる連
続処理でラビングする方法には、上面に配向膜が形成さ
れた長尺のフィルム基板をラビングステージの上面に沿
って間歇的に搬送し、フィルム基板の搬送を停止した状
態で、ラビングロールによってフィルム基板上の所定の
範囲の配向膜の表面を一方向にラビングする方法があ
る。しかしながら、従来のこのような配向処理方法で
は、フィルム基板を停止させた状態でラビングを行なっ
ているので、ラビングを行なう度にフィルム基板の搬送
を中断することとなり、生産性が悪いという問題があっ
た。そこで、このような問題を解決するものとして、上
面に配向膜が形成された長尺のフィルム基板をラビング
ロールとこのラビングロールに対向して配置されたバッ
クアップロールとの間を連続的に搬送しながら、ラビン
グロールによってフィルム基板上の配向膜の表面を一方
向に連続してラビングする方法が提案されている。
Now, in the method of rubbing by this continuous roll-to-roll process, a long film substrate having an alignment film formed on its upper surface is intermittently conveyed along the upper surface of a rubbing stage to form a film substrate. There is a method in which the surface of the alignment film in a predetermined range on the film substrate is rubbed in one direction by a rubbing roll in a state where the transportation of is stopped. However, in such a conventional orientation treatment method, since rubbing is performed while the film substrate is stopped, the film substrate is interrupted each time rubbing is performed, which causes a problem of poor productivity. It was Therefore, as a solution to such a problem, a long film substrate having an alignment film formed on the upper surface is continuously conveyed between a rubbing roll and a backup roll arranged opposite to the rubbing roll. However, a method has been proposed in which the surface of the alignment film on the film substrate is continuously rubbed in one direction by a rubbing roll.

【0004】図5(A)および(B)は従来のこのよう
な配向処理方法で用いられている配向処理装置の一例を
示したものである。この配向処理装置では、搬入側スプ
ロケット1と搬出側スプロケット2との間にラビングロ
ール3がバックアップロール4と対向して設けられ、長
尺のフィルム基板5がラビングロール3とバックアップ
ロール4との間を両スプロケット1、2によって矢印A
方向に連続的に搬送されるようになっている。フィルム
基板5の上面には、図示していないが、ポリイミドなど
からなる配向膜が形成されている。ラビングロール3
は、ロール本体3aの外周面に植毛布からなるラビング
布3bが巻き付けられたものからなっている。ラビング
ロール3およびバックアップロール4は、ラビング角度
設定のため軸方向中心部を中心にして水平方向に回転自
在とされ、また上下動自在とされるようになっている。
また、ラビングロール3は矢印B方向に回転自在とさ
れ、バックアップロール4は矢印C方向に回転自在とさ
れるようになっている。
FIGS. 5A and 5B show an example of an alignment treatment apparatus used in the conventional alignment treatment method as described above. In this orientation processing apparatus, a rubbing roll 3 is provided between the carry-in side sprocket 1 and the carry-out side sprocket 2 so as to face the backup roll 4, and a long film substrate 5 is provided between the rubbing roll 3 and the backup roll 4. By arrow A with both sprockets 1 and 2
It is designed to be continuously conveyed in the direction. Although not shown, an alignment film made of polyimide or the like is formed on the upper surface of the film substrate 5. Rubbing roll 3
Includes a roll body 3a and a rubbing cloth 3b made of flocked cloth wound around the outer peripheral surface of the roll body 3a. The rubbing roll 3 and the backup roll 4 are configured to be rotatable in the horizontal direction about the center in the axial direction in order to set the rubbing angle, and to be vertically movable.
The rubbing roll 3 is rotatable in the arrow B direction, and the backup roll 4 is rotatable in the arrow C direction.

【0005】そして、図6(A)および(B)に示すよ
うに、ラビング角度θを設定したラビングロール3がフ
ィルム基板5の搬送方向とは逆方向つまり矢印B方向に
回転し、フィルム基板5上の配向膜の表面に接触する
と、フィルム基板5上の配向膜の表面が一方向にラビン
グされる。そして、これによりフィルム基板5上の配向
膜の表面が配向処理される。この場合、フィルム基板5
上のラビング方向にはラビングロール3による摩擦力R
が作用する。この摩擦力RのX成分RX、つまりフィル
ム基板5の長さ方向の成分はフィルム基板5の搬送方向
と逆方向に作用するが、両スプロケット1、2における
フィルム基板5の搬送力によってRX方向へのフィルム
基板5の変位は打ち消されるようになっている。また、
摩擦力RのY成分RY、つまりフィルム基板5の幅方向
の成分はフィルム基板5の搬送方向と直交する方向に作
用するが、フィルム基板5の張力によってRY方向への
フィルム基板5の変位は打ち消されるようになってい
る。
Then, as shown in FIGS. 6A and 6B, the rubbing roll 3 having the rubbing angle θ is rotated in the direction opposite to the transport direction of the film substrate 5, that is, in the direction of arrow B, and the film substrate 5 is moved. When the surface of the upper alignment film is contacted, the surface of the alignment film on the film substrate 5 is rubbed in one direction. Then, by this, the surface of the alignment film on the film substrate 5 is subjected to the alignment treatment. In this case, the film substrate 5
Friction force R by the rubbing roll 3 in the upper rubbing direction
Works. The X component R X of this frictional force R, that is, the component in the length direction of the film substrate 5 acts in the direction opposite to the transport direction of the film substrate 5, but R X is generated by the transport force of the film substrate 5 on both sprockets 1 and 2. The displacement of the film substrate 5 in the direction is canceled. Also,
The Y component R Y of the frictional force R, that is, the component in the width direction of the film substrate 5 acts in the direction orthogonal to the transport direction of the film substrate 5, but the tension of the film substrate 5 causes the displacement of the film substrate 5 in the R Y direction. Is supposed to be canceled.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような配向処理方法では、ラビングロール3の回転
数を上げてラビング密度を高くすると、ラビングロール
3による摩擦力Rが大きくなるので、フィルム基板5の
張力だけでは摩擦力RのY成分RYを打ち消すことがで
きなくなり、フィルム基板5がRY方向に変位してしま
うことがある。この場合、変位した状態と変位しない正
常な状態とでラビング状態が異なり、配向不良が生じる
という問題があった。この発明の課題は、配向不良が生
じないようにすることである。
However, in such a conventional orientation treatment method, when the number of revolutions of the rubbing roll 3 is increased to increase the rubbing density, the frictional force R by the rubbing roll 3 becomes large, so that the film substrate The tension of 5 alone cannot cancel the Y component R Y of the frictional force R, and the film substrate 5 may be displaced in the R Y direction. In this case, there is a problem in that the rubbing state differs between the displaced state and the normal state in which the displacement does not occur, resulting in defective orientation. An object of the present invention is to prevent misalignment.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の配向処理
方法は、一の面に配向膜が形成された長尺のフィルム基
板を連続して搬送しながら、所定方向に回転するラビン
グロールによって前記配向膜の表面を連続的にラビング
して配向処理する際に、前記ラビングロールによる前記
フィルム基板に対する摩擦力によって生じる前記フィル
ム基板の変位を打ち消すように、前記フィルム基板に対
して摩擦力を付与するようにしたものである。請求項2
記載の配向処理装置は、一の面に配向膜が形成された長
尺のフィルム基板を連続的に搬送する搬送手段と、前記
搬送手段によって前記フィルム基板が連続的に搬送され
るとき、所定方向に回転することにより前記配向膜の表
面を連続的にラビングして配向処理するラビングロール
と、前記ラビングロールによって前記配向膜の表面が連
続的にラビングされるとき、前記ラビングロールによる
前記フィルム基板に対する摩擦力によって生じる前記フ
ィルム基板の変位を打ち消すように、前記フィルム基板
に対して摩擦力を付与する摩擦力付与手段とを備えたも
のである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an alignment treatment method in which a long film substrate having an alignment film formed on one surface thereof is continuously conveyed by a rubbing roll that rotates in a predetermined direction. A frictional force is applied to the film substrate so as to cancel the displacement of the film substrate caused by the frictional force of the rubbing roll against the film substrate when the surface of the alignment film is continuously rubbed for alignment treatment. It is something that is done. Claim 2
The alignment treatment apparatus described is a transporting means for continuously transporting a long film substrate having an alignment film formed on one surface thereof, and a predetermined direction when the film substrate is continuously transported by the transporting means. A rubbing roll that continuously rubs the surface of the alignment film by rotating the alignment film, and when the surface of the alignment film is continuously rubbed by the rubbing roll, to the film substrate by the rubbing roll. And a frictional force imparting means for imparting a frictional force to the film substrate so as to cancel the displacement of the film substrate caused by the frictional force.

【0008】この発明によれば、ラビングロールによる
フィルム基板に対する摩擦力によって生じるフィルム基
板の変位を打ち消すように、フィルム基板に対して摩擦
力を付与するので、ラビングロールの回転数を上げてラ
ビング密度を高くしても、フィルム基板が変位しないよ
うにすることができ、配向膜を均一にラビングすること
ができ、配向不良が生じないようにすることができる。
According to this invention, since the frictional force is applied to the film substrate so as to cancel the displacement of the film substrate caused by the frictional force on the film substrate by the rubbing roll, the number of revolutions of the rubbing roll is increased to increase the rubbing density. It is possible to prevent the film substrate from displacing even when the value is increased, to uniformly rub the alignment film, and to prevent alignment failure.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1(A)および(B)はこの発
明の第1実施形態における配向処理装置の要部の待機状
態を示したものである。この配向処理装置は、搬入側基
板搬送部11と搬出側基板搬送部12との間にラビング
部13が設けられ、搬入側基板搬送部11とラビング部
13との間に粘着ロール(摩擦力付与手段)14が設け
られた構造となっている。このうち搬入側基板搬送部1
1は、搬入側スプロケット15とこの搬入側スプロケッ
ト15の上側に対向配置された搬入側押えロール16と
を備えている。搬出側基板搬送部12は、搬出側スプロ
ケット17とこの搬出側スプロケット17の上側に対向
配置された搬出側押えロール18とを備えている。ラビ
ング部13は、ラビングロール19とこのラビングロー
ル19の下側に対向配置されたバックアップロール20
とを備えている。ラビングロール19は、ロール本体1
9aの外周面に植毛布からなるラビング布19bが巻き
付けられたものからなっている。また、バックアップロ
ール20は、フィルム基板21との間で摩擦力がほとん
ど生じないものとなっている。ラビングロール19とバ
ックアップロール20とは、ラビング角度設定のための
軸方向中心部を中心にして水平方向に回転自在とされ、
また上下動自在とされている。また、ラビングロール1
9は矢印C方向に回転自在とされ、バックアップロール
20はラビングロール19と同方向つまり矢印D方向に
回転自在とされるようになっている。粘着ロール14
は、ロール本体14aの外周面に粘着性の樹脂14bが
設けられたものからなり、ラビングロール19よりも小
径に形成されている。粘着ロール14は、軸角度設定の
ための軸方向中心部を中心にして水平方向に回転自在と
され、また上下動自在とされ、さらにラビングロール1
9と同方向つまり矢印E方向に回転自在とされるように
なっている。一方、長尺のフィルム基板21の幅方向両
側にはスプロケットホール22が形成され、上面には図
示していないがポリイミドなどからなる配向膜が形成さ
れている。
1 (A) and 1 (B) show a standby state of a main part of an alignment treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention. In this orientation processing device, a rubbing unit 13 is provided between the carry-in side substrate transport unit 11 and the carry-out side substrate transport unit 12, and an adhesive roll (friction force application) is provided between the carry-in side substrate transport unit 11 and the rubbing unit 13. (Means) 14 is provided. Of these, the loading-side board transport unit 1
The reference numeral 1 includes a carry-in side sprocket 15 and a carry-in side pressing roll 16 which is arranged above the carry-in side sprocket 15 so as to face each other. The carry-out side substrate transport unit 12 is provided with a carry-out side sprocket 17 and a carry-out side pressing roll 18 that is disposed above the carry-out side sprocket 17 so as to face it. The rubbing unit 13 includes a rubbing roll 19 and a backup roll 20 arranged below the rubbing roll 19 so as to face each other.
And The rubbing roll 19 is the roll body 1
A rubbing cloth 19b made of a flocked cloth is wound around the outer peripheral surface of 9a. Further, the backup roll 20 has almost no frictional force with the film substrate 21. The rubbing roll 19 and the backup roll 20 are rotatable in the horizontal direction about the axial center part for setting the rubbing angle,
Also, it can move up and down. Also, rubbing roll 1
9 is rotatable in the direction of arrow C, and the backup roll 20 is rotatable in the same direction as the rubbing roll 19, that is, in the direction of arrow D. Adhesive roll 14
The roll main body 14 a is provided with an adhesive resin 14 b on the outer peripheral surface thereof, and has a smaller diameter than the rubbing roll 19. The pressure-sensitive adhesive roll 14 is rotatable in the horizontal direction about the center in the axial direction for setting the shaft angle, and is also movable in the vertical direction.
It is designed to be rotatable in the same direction as 9, that is, in the direction of arrow E. On the other hand, sprocket holes 22 are formed on both sides of the long film substrate 21 in the width direction, and an alignment film made of polyimide or the like is formed on the upper surface, which is not shown.

【0010】フィルム基板21は、搬入側スプロケット
15と搬入側押えロール16との間を通され、次いで粘
着ロール14の上側を通され、次いでラビングロール1
9とバックアップロール20との間を通され、次いで搬
出側スプロケット17と搬出側押えロール18との間を
通され、そして、スプロケットホール22に両スプロケ
ット15、17がそれぞれ嵌合されていることにより、
両スプロケット15、17間において緊張されている。
また、待機状態では、ラビングロール19はフィルム基
板21と直交した状態で上昇位置に位置し、バックアッ
プロール20はラビングロール19と平行した状態で下
降位置に位置し、粘着ロール14はフィルム基板21と
直交した状態で下降位置に位置している。
The film substrate 21 is passed between the sprocket 15 on the loading side and the pressing roll 16 on the loading side, then on the upper side of the adhesive roll 14, and then on the rubbing roll 1.
9 and the backup roll 20, and then between the carry-out side sprocket 17 and the carry-out side pressing roll 18, and by fitting both sprockets 15 and 17 into the sprocket holes 22, respectively. ,
There is tension between the sprockets 15 and 17.
Further, in the standby state, the rubbing roll 19 is located in a raised position in a state of being orthogonal to the film substrate 21, the backup roll 20 is located in a lowered position in a state of being parallel to the rubbing roll 19, and the adhesive roll 14 is in contact with the film substrate 21. It is in the descending position in a state of being orthogonal.

【0011】次に、この配向処理装置でラビングを行な
う場合について図2(A)および(B)を参照しながら
説明する。まず、ラビングロール19とバックアップロ
ール20とを共に軸方向中心部を中心にして水平方向に
回転させてラビング角度ψを設定し、同時に粘着ロール
14を軸方向中心部を中心にして水平方向に回転させて
軸角度αを設定する。すなわち、ラビングロール19の
ラビング角度ψを0<ψ<90度に設定した場合は、粘
着ロール14の軸角度αを0<α<90度に設定し、ラ
ビングロール19のラビング角度ψを90<ψ<180
度に設定した場合は、粘着ロール14の軸角度αを90
<α<180度に設定する(ただし、ψ=αである必要
はない)。この場合、粘着ロール14の軸角度αが0<
α<90度では、軸角度αが小さいほど粘着ロール14
による摩擦力PのY成分PYが大きくなり、粘着ロール
14の軸角度αが90<α<180度では、軸角度αが
大きいほど粘着ロール14による摩擦力PのY成分PY
が大きくなることを考慮して、粘着ロール14によるフ
ィルム基板21に対する摩擦力PのY成分PYの大きさ
がラビングロール19によるフィルム基板21に対する
摩擦力RのY成分RYの大きさと等しくなるように、粘
着ロール14の軸角度αを設定する。
Next, a case where rubbing is performed by this alignment treatment apparatus will be described with reference to FIGS. 2 (A) and 2 (B). First, both the rubbing roll 19 and the backup roll 20 are rotated in the horizontal direction about the center in the axial direction to set the rubbing angle ψ, and at the same time, the adhesive roll 14 is rotated in the horizontal direction about the center in the axial direction. Then, the axis angle α is set. That is, when the rubbing angle ψ of the rubbing roll 19 is set to 0 <ψ <90 degrees, the axial angle α of the adhesive roll 14 is set to 0 <α <90 degrees, and the rubbing angle ψ of the rubbing roll 19 is 90 <. ψ <180
If the angle is set to 0, the axis angle α of the adhesive roll 14 is set to 90.
<Α <180 degrees (however, ψ = α need not be set). In this case, the axis angle α of the adhesive roll 14 is 0 <
When α <90 degrees, the smaller the shaft angle α, the more the adhesive roll 14
Y component P Y frictional force P due to increases, the axial angle alpha of the adhesive roll 14 is 90 <alpha <In 180, axial angle alpha as the frictional force P by the adhesive roll 14 is larger Y component P Y
In consideration of the increase in the friction coefficient R, the Y component P Y of the frictional force P of the adhesive roll 14 on the film substrate 21 becomes equal to the Y component R Y of the frictional force R of the rubbing roll 19 on the film substrate 21. Thus, the axis angle α of the adhesive roll 14 is set.

【0012】次に、ラビングロール19を下降させると
ともにバックアップロール20を上昇させ、ラビングロ
ール19をフィルム基板21上の配向膜の表面に接触さ
せるとともにバックアップロール20をフィルム基板2
1の下面に接触させ、次いで粘着ロール14を上昇させ
てフィルム基板21の下面に接触させる。次に、両スプ
ロケット15、17を同期させて図2(B)において時
計回りに回転させ、フィルム基板21を矢印F方向に連
続的に搬送する。また、ラビングロール19をフィルム
基板21の搬送方向とは逆方向つまり矢印C方向に回転
させるとともに、バックアップロール20をフィルム基
板21の搬送方向と同方向つまり矢印D方向にフィルム
基板21の搬送速度と同期させて回転させ、粘着ロール
14をフィルム基板21の搬送方向と同方向つまり矢印
E方向にラビングロール19の回転速度に対応した回転
速度で回転させると、ラビングロール19とバックアッ
プロール20との間を連続的に搬送されるフィルム基板
21上の配向膜の表面がラビングロール19によって連
続的にラビングされる。そして、これによりフィルム基
板21上の配向膜の表面が配向処理される。この場合、
粘着ロール14によるフィルム基板21に対する摩擦力
PのY成分PYの大きさがラビングロール19によるフ
ィルム基板21に対する摩擦力RのY成分RYの大きさ
と等しくなるように、粘着ロール14の軸角度αが設定
されているので、ラビングロール19によるフィルム基
板21に対する摩擦力RのY成分RYによって生じるRY
方向へのフィルム基板21の変位は、逆方向に作用する
粘着ロール14によるフィルム基板21に対する摩擦力
PのY成分PYによって打ち消される。
Next, the rubbing roll 19 is lowered and the backup roll 20 is raised to bring the rubbing roll 19 into contact with the surface of the alignment film on the film substrate 21 and the backup roll 20 to the film substrate 2.
The lower surface of the film substrate 21 is brought into contact with the lower surface of the film substrate 21. Next, both sprockets 15 and 17 are synchronized and rotated clockwise in FIG. 2B, and the film substrate 21 is continuously conveyed in the arrow F direction. Further, the rubbing roll 19 is rotated in the direction opposite to the transport direction of the film substrate 21, that is, in the direction of arrow C, and the backup roll 20 is rotated in the same direction as the transport direction of the film substrate 21, that is, in the direction of arrow D, with the transport speed of the film substrate 21. When the pressure-sensitive adhesive roll 14 is rotated synchronously and rotated in the same direction as the transport direction of the film substrate 21, that is, in the arrow E direction at a rotation speed corresponding to the rotation speed of the rubbing roll 19, the gap between the rubbing roll 19 and the backup roll 20 is increased. The surface of the alignment film on the film substrate 21 that is continuously conveyed is rubbed by the rubbing roll 19 continuously. Then, by this, the surface of the alignment film on the film substrate 21 is subjected to the alignment treatment. in this case,
The axial angle of the adhesive roll 14 is adjusted so that the magnitude of the Y component P Y of the frictional force P of the adhesive roll 14 on the film substrate 21 becomes equal to the magnitude of the Y component R Y of the frictional force R of the rubbing roll 19 on the film substrate 21. since α is set, caused by the Y component R Y frictional force R due to the rubbing roll 19 to the film substrate 21 R Y
The displacement of the film substrate 21 in the direction is canceled by the Y component P Y of the frictional force P with respect to the film substrate 21 by the adhesive roll 14 acting in the opposite direction.

【0013】このように、この配向処理装置では、フィ
ルム基板21の下側に配置した粘着ロール14をフィル
ム基板21の上側に配置したラビングロール19と同方
向に回転させることにより、ラビングロール19による
フィルム基板21に対する摩擦力RのY成分RYによっ
て生じるフィルム基板21の変位を打ち消すように、フ
ィルム基板21に対して粘着ロール14による摩擦力P
のY成分PYを付与するので、ラビングロール19の回
転数を上げてラビング密度を高くしても、フィルム基板
21がPY方向に変位しないようにすることができ、配
向膜を均一にラビングすることができ、配向不良が生じ
ないようにすることができる。また、粘着ロール14は
ラビングロール19やバックアップロール20よりも小
径に形成されているので、バックアップロール20に近
づけることができ、フィルム基板21に対して摩擦力P
を付与しやすい。
As described above, in this orientation processing apparatus, the adhesive roll 14 arranged on the lower side of the film substrate 21 is rotated in the same direction as the rubbing roll 19 arranged on the upper side of the film substrate 21 so that the rubbing roll 19 is used. The friction force P exerted by the adhesive roll 14 on the film substrate 21 so as to cancel the displacement of the film substrate 21 caused by the Y component R Y of the friction force R on the film substrate 21.
Since the Y component P Y is given, the film substrate 21 can be prevented from being displaced in the P Y direction even if the number of rotations of the rubbing roll 19 is increased to increase the rubbing density, and the alignment film is uniformly rubbed. It is possible to prevent misalignment. Further, since the adhesive roll 14 is formed to have a smaller diameter than the rubbing roll 19 and the backup roll 20, the adhesive roll 14 can be brought closer to the backup roll 20 and the frictional force P with respect to the film substrate 21.
It is easy to give.

【0014】なお、上記第1実施形態では、バックアッ
プロール20と別に粘着ロール14を設けたが、これに
限らず、バックアップロール自体を粘着ロールとしても
よい。
Although the adhesive roll 14 is provided separately from the backup roll 20 in the first embodiment, the present invention is not limited to this, and the backup roll itself may be an adhesive roll.

【0015】図3(A)および(B)はこの発明の第2
実施形態における配向処理装置の要部の待機状態を示し
たものである。この図において、図1(A)および
(B)と同一部分には同一の符号を付し、その説明を適
宜省略する。この配向処理装置では、搬入側基板搬送部
11と搬出側基板搬送部12との間に第1ラビング部3
1が設けられ、第1ラビング部31と搬入側基板搬送部
11との間に第2ラビング部(摩擦力付与手段)32が
設けられた構造となっている。第1ラビング部31は、
第1ラビングロール33とこの第1ラビングロール33
の下側に対向配置された第1バックアップロール34と
を備えている。第2ラビング部32は、第2ラビングロ
ール35とこの第2ラビングロール35の下側に対向配
置された第2バックアップロール36とを備えている。
両ラビングロール33、35は、ロール本体33a、3
5aの外周面に植毛布からなるラビング布33b、35
bが巻き付けられたものからなっていて、同径となって
いる。また、両バックアップロール34、36は、フィ
ルム基板21との間で摩擦力がほとんど生じないものと
なっている。両ラビングロール33、35と両バックア
ップロール34、36とは、ラビング角度設定のための
軸方向中心部を中心にして水平方向に回転自在とされ、
また上下動自在とされている。第1ラビングロール33
は矢印G方向に回転自在とされ、第1バックアップロー
ル34は第1ラビングロール33と同方向つまり矢印H
方向に回転自在とされるようになっている。第2ラビン
グロール35は第1ラビングロール33とは逆方向つま
り矢印I方向に回転自在とされ、第2バックアップロー
ル36は第2ラビングロール35とは逆方向つまり矢印
J方向に回転自在とされるようになっている。
FIGS. 3A and 3B show a second embodiment of the present invention.
3 illustrates a standby state of a main part of the alignment treatment device according to the embodiment. In this figure, the same parts as those in FIGS. 1A and 1B are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be appropriately omitted. In this alignment treatment apparatus, the first rubbing unit 3 is provided between the carry-in side substrate transport unit 11 and the carry-out side substrate transport unit 12.
1 is provided, and the second rubbing section (friction force applying means) 32 is provided between the first rubbing section 31 and the loading-side substrate transport section 11. The first rubbing section 31 is
First rubbing roll 33 and this first rubbing roll 33
And a first backup roll 34 which is arranged to face the lower side of the first backup roll 34. The second rubbing unit 32 includes a second rubbing roll 35 and a second backup roll 36 that is disposed below and facing the second rubbing roll 35.
Both rubbing rolls 33, 35 are roll bodies 33a, 3
Rubbing cloth 33b, 35 made of flocked cloth on the outer peripheral surface of 5a
It consists of a wound b and has the same diameter. Further, both backup rolls 34 and 36 are such that a frictional force is hardly generated between the backup rolls 34 and 36 and the film substrate 21. Both rubbing rolls 33 and 35 and both backup rolls 34 and 36 are rotatable in the horizontal direction around the axial center part for setting the rubbing angle,
Also, it can move up and down. First rubbing roll 33
Is rotatable in the direction of arrow G, and the first backup roll 34 is in the same direction as the first rubbing roll 33, that is, arrow H.
It is designed to be rotatable in any direction. The second rubbing roll 35 is rotatable in the opposite direction to the first rubbing roll 33, that is, the arrow I direction, and the second backup roll 36 is rotatable in the opposite direction to the second rubbing roll 35, that is, the arrow J direction. It is like this.

【0016】次に、この配向処理装置でラビングを行な
う場合について図4(A)および(B)を参照しながら
説明する。まず、第1および第2ラビングロール33、
35と第1および第2バックアップロール34、36と
を共に軸方向中心部を中心にして水平方向に回転させ
て、ラビング角度ψを設定する。次に、両ラビングロー
ル33、35を下降させるとともに両バックアップロー
ル34、36を上昇させ、両ラビングロール33、35
をフィルム基板21上の配向膜の表面に接触させるとと
もに両バックアップロール34、36をフィルム基板2
1の下面に接触させる。この場合、両ラビングロール3
3、35の毛先押し込み量などのラビング条件は同じに
なっている。次に、両スプロケット15、17を同期さ
せて図4(B)において時計回りに回転させ、フィルム
基板21を矢印F方向に連続的に搬送する。また、第1
ラビングロール33をフィルム基板21の搬送方向とは
逆方向つまり矢印G方向に回転させるとともに、第1バ
ックアップロール34をフィルム基板21の搬送方向と
同方向つまり矢印H方向に回転させ、第2ラビングロー
ル35をフィルム基板21の搬送方向と同方向つまり矢
印I方向に第1ラビングロール33と同一速度で回転さ
せるとともに、第2バックアップロール36をフィルム
基板21の搬送方向と同方向つまり矢印J方向に回転さ
せると、両ラビングロール33、35と両バックアップ
ロール34、36との間を連続的に搬送されるフィルム
基板21上の配向膜の表面が第2ラビングロール35に
よって連続的にラビングされ、次いで第1ラビングロー
ル33によって第2ラビングロール35とは逆方向に再
度連続的にラビングされる。この場合、両ラビングロー
ル33、35はラビング角度ψが設定され、同一速度で
逆方向に回転されているので、第1ラビングロール33
によるフィルム基板21に対する摩擦力RのY成分RY
と第2ラビングロール35によるフィルム基板21に対
する摩擦力QのY成分QYとは向きが逆で大きさが等し
くなり、第1ラビングロール33によるフィルム基板2
1に対する摩擦力RのY成分RYによって生じるRY方向
へのフィルム基板21の変位が、第2ラビングロール3
5によるフィルム基板21に対する摩擦力QのY成分Q
Yによって打ち消される。
Next, a case of performing rubbing with this alignment treatment apparatus will be described with reference to FIGS. 4 (A) and 4 (B). First, the first and second rubbing rolls 33,
The rubbing angle ψ is set by rotating 35 and the first and second backup rolls 34 and 36 in the horizontal direction about the center in the axial direction. Next, both rubbing rolls 33 and 35 are lowered, and both backup rolls 34 and 36 are raised, so that both rubbing rolls 33 and 35
Contact the surface of the alignment film on the film substrate 21 and attach both backup rolls 34 and 36 to the film substrate 2.
1. Contact the lower surface of 1. In this case, both rubbing rolls 3
The rubbing conditions such as the hair tip pushing amount of Nos. 3 and 35 are the same. Next, both sprockets 15 and 17 are synchronized and rotated clockwise in FIG. 4 (B), and the film substrate 21 is continuously conveyed in the arrow F direction. Also, the first
The rubbing roll 33 is rotated in the direction opposite to the transport direction of the film substrate 21, that is, in the arrow G direction, and the first backup roll 34 is rotated in the same direction as the transport direction of the film substrate 21, that is, in the arrow H direction. 35 is rotated at the same speed as the first rubbing roll 33 in the same direction as the transport direction of the film substrate 21, that is, the arrow I direction, and the second backup roll 36 is rotated in the same direction as the transport direction of the film substrate 21, that is, the arrow J direction. Then, the surface of the alignment film on the film substrate 21, which is continuously conveyed between the both rubbing rolls 33 and 35 and the both backup rolls 34 and 36, is continuously rubbed by the second rubbing roll 35, and then the second rubbing roll 35 is rubbed. The first rubbing roll 33 continuously re-rubbins the second rubbing roll 35 in the opposite direction. It is. In this case, since the rubbing angles ψ of both rubbing rolls 33 and 35 are set and they are rotated at the same speed in the opposite directions, the first rubbing roll 33
Y component R Y of frictional force R on the film substrate 21 due to
And the Y component Q Y of the frictional force Q applied to the film substrate 21 by the second rubbing roll 35 have the opposite directions and the same size.
The displacement of the film substrate 21 in the R Y direction caused by the Y component R Y of the frictional force R against the first rubbing roll 3
Y component Q of frictional force Q with respect to the film substrate 21
Canceled by Y.

【0017】このように、この配向処理装置では、フィ
ルム基板21の上側に配置した2本のラビングロール3
3、35を互いに逆方向に回転させることにより、第1
ラビングロール33によるフィルム基板に対する摩擦力
RのY成分RYによって生じるフィルム基板21の変位
を打ち消すように、フィルム基板21に対して第2ラビ
ングロール35による摩擦力QのY成分QYを付与する
ので、ラビングロール33、35の回転数を上げてラビ
ング密度を高くしても、フィルム基板21がRY方向に
変位しないようにすることができ、配向膜を均一にラビ
ングすることができ、配向不良が生じないようにするこ
とができる。
As described above, in this orientation processing apparatus, the two rubbing rolls 3 arranged on the upper side of the film substrate 21.
By rotating 3, 35 in opposite directions, the first
The Y component Q Y of the frictional force Q by the second rubbing roll 35 is applied to the film substrate 21 so as to cancel the displacement of the film substrate 21 caused by the Y component R Y of the frictional force R with respect to the film substrate by the rubbing roll 33. Therefore, even if the number of rotations of the rubbing rolls 33 and 35 is increased to increase the rubbing density, the film substrate 21 can be prevented from being displaced in the R Y direction, and the alignment film can be uniformly rubbed. It is possible to prevent defects.

【0018】なお、上記第2実施形態では、径が同一の
2本のラビングロール33、35を用いたが、これに限
らず、径が異なる2本のラビングロールを用いてもよ
い。この場合、各ラビングロールのラビング角度は各ラ
ビングロールの摩擦力のY成分が打ち消し合うように設
定される。
Although the two rubbing rolls 33 and 35 having the same diameter are used in the second embodiment, the present invention is not limited to this, and two rubbing rolls having different diameters may be used. In this case, the rubbing angle of each rubbing roll is set so that the Y components of the frictional force of each rubbing roll cancel each other out.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ラビングロールによるフィルム基板に対する摩擦力
によって生じるフィルム基板の変位を打ち消すように、
フィルム基板に対して摩擦力を付与するので、ラビング
ロールの回転数を上げてラビング密度を高くしても、フ
ィルム基板が変位しないようにすることができ、配向膜
を均一にラビングすることができ、配向不良が生じない
ようにすることができる。
As described above, according to the present invention, the displacement of the film substrate caused by the frictional force of the rubbing roll against the film substrate is canceled.
Since a frictional force is applied to the film substrate, the film substrate can be prevented from being displaced even if the rubbing roll rotation speed is increased to increase the rubbing density, and the alignment film can be uniformly rubbed. Thus, it is possible to prevent alignment failure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)はこの発明の第1実施形態における配向
処理装置の要部の待機状態を示す平面図、(B)はその
正面図。
1A is a plan view showing a standby state of a main part of an alignment treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a front view thereof.

【図2】(A)は同配向処理装置のラビング状態を示す
平面図、(B)はその正面図。
2A is a plan view showing a rubbing state of the alignment treatment apparatus, and FIG. 2B is a front view thereof.

【図3】(A)はこの発明の第2実施形態における配向
処理装置の要部の待機状態を示す平面図、(B)はその
正面図。
3A is a plan view showing a standby state of a main part of an alignment treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a front view thereof.

【図4】(A)は同配向処理装置のラビング状態を示す
平面図、(B)はその正面図。
4A is a plan view showing a rubbing state of the alignment treatment apparatus, and FIG. 4B is a front view thereof.

【図5】(A)は従来の配向処理装置の要部の待機状態
を示す平面図、(B)はその正面図。
5A is a plan view showing a standby state of a main part of a conventional alignment treatment apparatus, and FIG. 5B is a front view thereof.

【図6】(A)は同配向処理装置のラビング状態を示す
平面図、(B)はその正面図。
6A is a plan view showing a rubbing state of the alignment treatment apparatus, and FIG. 6B is a front view thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 搬入側基板搬送部 12 搬出側基板搬送部 13、31、32 ラビング部 19、33、35 ラビングロール 20、34、36 バックアップロール 14 粘着ロール 21 フィルム基板 11 Carrying-In Side Substrate Conveying Section 12 Carrying Out Side Substrate Conveying Section 13, 31, 32 Rubbing Section 19, 33, 35 Rubbing Roll 20, 34, 36 Backup Roll 14 Adhesive Roll 21 Film Substrate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一の面に配向膜が形成された長尺のフィ
ルム基板を連続して搬送しながら、所定方向に回転する
ラビングロールによって前記配向膜の表面を連続的にラ
ビングして配向処理する際に、 前記ラビングロールによる前記フィルム基板に対する摩
擦力によって生じる前記フィルム基板の変位を打ち消す
ように、前記フィルム基板に対して摩擦力を付与するこ
とを特徴とする配向処理方法。
1. An alignment treatment by continuously rubbing the surface of the alignment film with a rubbing roll that rotates in a predetermined direction while continuously transporting a long film substrate having an alignment film formed on one surface. In this case, a frictional force is applied to the film substrate so as to cancel the displacement of the film substrate caused by the frictional force of the rubbing roll against the film substrate.
【請求項2】 一の面に配向膜が形成された長尺のフィ
ルム基板を連続的に搬送する搬送手段と、 前記搬送手段によって前記フィルム基板が連続的に搬送
されるとき、所定方向に回転することにより前記配向膜
の表面を連続的にラビングして配向処理するラビングロ
ールと、 前記ラビングロールによって前記配向膜の表面が連続的
にラビングされるとき、前記ラビングロールによる前記
フィルム基板に対する摩擦力によって生じる前記フィル
ム基板の変位を打ち消すように、前記フィルム基板に対
して摩擦力を付与する摩擦力付与手段と、 を備えたことを特徴とする配向処理装置。
2. A transport means for continuously transporting a long film substrate having an alignment film formed on one surface, and a rotation in a predetermined direction when the film substrate is continuously transported by the transport means. A rubbing roll that continuously rubs the surface of the alignment film by performing an alignment treatment, and when the surface of the alignment film is continuously rubbed by the rubbing roll, a frictional force on the film substrate by the rubbing roll. And a frictional force imparting means for imparting a frictional force to the film substrate so as to cancel the displacement of the film substrate caused by the alignment treatment device.
【請求項3】 前記摩擦力付与手段は、前記フィルム基
板に対して前記ラビングロールとは反対側に配置され、
前記ラビングロールと同方向に回転する粘着ロールを有
することを特徴とする請求項2記載の配向処理装置。
3. The frictional force imparting means is disposed on the side opposite to the rubbing roll with respect to the film substrate,
The alignment treatment apparatus according to claim 2, further comprising an adhesive roll that rotates in the same direction as the rubbing roll.
【請求項4】 前記摩擦力付与手段は、前記フィルム基
板に対して前記ラビングロールと同一側に配置され、前
記ラビングロールと逆方向に回転するラビングロールを
有することを特徴とする請求項2記載の配向処理装置。
4. The rubbing force applying means includes a rubbing roll which is disposed on the same side as the rubbing roll with respect to the film substrate and which rotates in a direction opposite to the rubbing roll. Alignment treatment device.
JP33987695A 1995-12-05 1995-12-05 Orientation processing method and its processor Pending JPH09160038A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33987695A JPH09160038A (en) 1995-12-05 1995-12-05 Orientation processing method and its processor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33987695A JPH09160038A (en) 1995-12-05 1995-12-05 Orientation processing method and its processor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09160038A true JPH09160038A (en) 1997-06-20

Family

ID=18331662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33987695A Pending JPH09160038A (en) 1995-12-05 1995-12-05 Orientation processing method and its processor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09160038A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100828455B1 (en) * 2000-12-18 2008-05-13 엘지디스플레이 주식회사 method for fabricating an alignment film of a liquid crystal display device
KR101221762B1 (en) * 2011-04-29 2013-01-14 하이디스 테크놀로지 주식회사 Rubbing Apparatus and Rubbing Method
KR101251055B1 (en) * 2011-08-26 2013-04-05 최승규 Apparatus of fabricating optical film and optical film fabricated thereby
CN103439834A (en) * 2013-08-09 2013-12-11 昆山龙腾光电有限公司 Rubbing carrying and conveying device and rubbing system

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100828455B1 (en) * 2000-12-18 2008-05-13 엘지디스플레이 주식회사 method for fabricating an alignment film of a liquid crystal display device
KR101221762B1 (en) * 2011-04-29 2013-01-14 하이디스 테크놀로지 주식회사 Rubbing Apparatus and Rubbing Method
KR101251055B1 (en) * 2011-08-26 2013-04-05 최승규 Apparatus of fabricating optical film and optical film fabricated thereby
CN103439834A (en) * 2013-08-09 2013-12-11 昆山龙腾光电有限公司 Rubbing carrying and conveying device and rubbing system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06110059A (en) Method and device for orientation processing
JPH09160038A (en) Orientation processing method and its processor
JPH08234207A (en) Orientation treatment of orienting film and device therefor
JP4698257B2 (en) Method and apparatus for aligning flexible film
JP2007017475A (en) Rubbing processing method and method for manufacturing liquid crystal display panel using rubbing processing method
JP2003255130A (en) Rubbing method, optical compensation sheet and method for manufacturing the same
US7218368B2 (en) Rubbing roll orientation processor for liquid crystal display manufacturing
JP2002006322A (en) Method for rubbing liquid crystal display device, liquid crystal display device and rubbing device
JPH08184833A (en) Substrate transporting mechanism and orientation treating device formed by using the same
US20060222764A1 (en) Method and apparatus for rubbing alignment films
JP2579492B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
JPH10148830A (en) Apparatus for production of liquid crystal display element
JP2004073925A (en) Coating method of substrate with treatment liquid and coating apparatus therefor
JP2800793B2 (en) Rubbing equipment
JP3022872B1 (en) Rubbing apparatus and rubbing method for liquid crystal element
JPS6024519A (en) Manufacture of liquid crystal display element
JPS61185726A (en) Orienting treatment of substrate for liquid crystal display cell
JPH05265000A (en) Orientation treatment
JPH10244191A (en) Adhesive coater
JP2006201431A (en) Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same
US7340322B2 (en) Rubbing apparatus for liquid crystal display panel and method thereof
JPH0462521A (en) Production of liquid crystal device
JP2001066600A (en) Device for rubbing alignment treatment of alignment layer
JPH0588181A (en) Orientation treatment
JPH10123551A (en) Liquid crystal display device