JPH0915885A - Photoreceptor - Google Patents

Photoreceptor

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JPH0915885A
JPH0915885A JP16551395A JP16551395A JPH0915885A JP H0915885 A JPH0915885 A JP H0915885A JP 16551395 A JP16551395 A JP 16551395A JP 16551395 A JP16551395 A JP 16551395A JP H0915885 A JPH0915885 A JP H0915885A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
base body
transparent
transparent base
photoreceptor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP16551395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Yamamura
透 山村
Michiaki Sato
道明 佐藤
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0915885A publication Critical patent/JPH0915885A/en
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a photoreceptor manufactured easily while suppressing the cost by forming a transparent base body of thermoplastic plastic, and coating the transparent base body with a solvent resistant conductive layer. CONSTITUTION: In a photoreceptor 14 with a photosensitive layer 14g formed on a transparent base body 14a, the transparent base body 14a is formed of carbonate, and the transparent base body 14a is coated with a solvent resistant conductive layer. This transparent base body 14a is formed into cylindrical shape by extrusion-molding carbonate. In the photoreceptor 14, a transparent solvent resistant layer 14b is formed on the whole surface of the transparent base body 14a, and a transparent conductive layer 14c, an under coating layer (transparent insulating layer) 14d, a charge generating layer 14e and a charge transport layer 14f are formed in the laminated state at the periphery of the solvent resistant layer 14b. Out of these layers, the charge generating layer 14e and the charge transport layer 14f form the photosensitive layer 14g. Since the transparent base body 14a is thus coated with the solvent resistant conductive layer, the transparent base body 14a is not deformed at the time of washing, and the photoreceptor 14 can be manufactured easily while suppressing the cost.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は感光体に関し、特にた
とえば背面露光式の電子写真装置に用いられ、透明基体
の上に感光層を形成した、感光体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoconductor, and more particularly to a photoconductor used in, for example, a back exposure type electrophotographic apparatus and having a photosensitive layer formed on a transparent substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の背面露光式の電子写真装置では、
感光体の背面(内面)にLEDヘッドを設けて露光する
必要があるため、基体をガラスで構成していた。
2. Description of the Related Art In a conventional back exposure type electrophotographic apparatus,
Since it is necessary to provide an LED head on the back surface (inner surface) of the photoconductor for exposure, the substrate is made of glass.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】背面露光式では、感光
体の表面に適切に露光をかけるためには基体は透明であ
るのが理想である。このため、基体をガラスで構成する
方法の他に、基体をポリカーボネイトで構成しかつその
表面に導電層を形成する方法も考えられる。しかしなが
ら、ガラスで構成するとコストがかかるという問題が生
じ、ポリカーボネイトで構成するとジクロロメタンなど
の溶剤で洗浄するときに基体が変形するため、製造が困
難となるという問題が生じる。なお、基体の洗浄を省略
した場合、基体表面に付着した僅かなごみや油によって
画質の劣化や歩留まりの低下などが生じるため、基体の
洗浄は必ず必要である。
In the back exposure type, the substrate is ideally transparent in order to properly expose the surface of the photoreceptor. Therefore, in addition to the method of forming the substrate with glass, a method of forming the substrate with polycarbonate and forming a conductive layer on its surface is also conceivable. However, if it is made of glass, there is a problem that the cost is high, and if it is made of polycarbonate, the substrate is deformed when it is washed with a solvent such as dichloromethane, so that there is a problem that manufacturing becomes difficult. If the cleaning of the substrate is omitted, a slight amount of dust or oil adhering to the surface of the substrate causes deterioration of image quality and a decrease in yield. Therefore, cleaning of the substrate is indispensable.

【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、コ
ストを抑えることができかつ製造が容易な、感光体を提
供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a photoreceptor which can be manufactured at low cost and is easy to manufacture.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明は、透明基体の
上に感光層を形成した感光体において、透明基体を熱可
塑性プラスチックで構成し、かつ透明基体を耐溶剤導電
層で被覆したことを特徴とする、感光体である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a photoreceptor having a photosensitive layer formed on a transparent substrate, wherein the transparent substrate is made of thermoplastic resin and the transparent substrate is coated with a solvent-resistant conductive layer. The characteristic is a photoconductor.

【0006】[0006]

【作用】透明基体はポリカーボネイトで構成され、さら
に透明基体が耐溶剤導電層で被覆される。たとえば透明
基体の全面が2μmの耐溶剤層で被覆され、耐溶剤層の
表面が導電層で被覆される。また、導電層の表面にはた
とえば絶縁層が形成され、絶縁層の表面に感光層が形成
される。感光層は、たとえばフタロシアニンにチタニー
ルを組み合わせたものを材料とする電荷発生層とバイン
ダ樹脂を材料とする電荷輸送層を含む。
The transparent substrate is made of polycarbonate, and the transparent substrate is covered with the solvent resistant conductive layer. For example, the entire surface of the transparent substrate is coated with a solvent resistant layer having a thickness of 2 μm, and the surface of the solvent resistant layer is coated with a conductive layer. An insulating layer is formed on the surface of the conductive layer, and a photosensitive layer is formed on the surface of the insulating layer. The photosensitive layer includes, for example, a charge generation layer made of a combination of phthalocyanine and titanyl and a charge transport layer made of a binder resin.

【0007】[0007]

【発明の効果】この発明によれば、ポリカーボネイトで
構成された透明基体が耐溶剤導電層で被覆されるため、
透明基体が洗浄時に変形することがなく、感光体をコス
トを抑えつつ容易に製造することができる。この発明の
上述の目的,その他の目的,特徴および利点は、図面を
参照して行う以下の実施例の詳細な説明から一層明らか
となろう。
According to the present invention, since the transparent substrate composed of polycarbonate is coated with the solvent resistant conductive layer,
The transparent substrate does not deform during cleaning, and the photoreceptor can be easily manufactured while suppressing the cost. The above and other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of embodiments with reference to the drawings.

【0008】[0008]

【実施例】図1を参照して、この実施例の像形成装置1
0は現像装置12および有機系の感光体14を含む。現
像装置12はトナーボックス16の下端部の開口に、周
面にS極とN極とを交互に形成した磁気ローラ18を配
置し、その外周に現像スリーブ20が回転可能に被せら
れる。現像スリーブ20には、バイアス電源22によっ
て−400Vのバイアス電圧が印加される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIG. 1, an image forming apparatus 1 of this embodiment.
Reference numeral 0 includes a developing device 12 and an organic photoconductor 14. In the developing device 12, a magnetic roller 18 having S poles and N poles alternately formed on the peripheral surface is arranged in the opening at the lower end of the toner box 16, and a developing sleeve 20 is rotatably covered on the outer periphery of the magnetic roller 18. A bias voltage of −400 V is applied to the developing sleeve 20 by the bias power source 22.

【0009】感光体14は図2に示すように透明基体1
4aの全面に透明の耐溶剤層14bが形成される。そし
て、耐溶剤層14bの外周に透明の導電層14c,下引
き層(透明絶縁層)14d,電荷発生層14eおよび電
荷輸送層14fが積層して形成される。このうち、電荷
発生層14eおよび電荷輸送層14fが感光層14gを
なす。このように構成された感光体14は、バイアス電
源24が印加されるクリーニング兼帯電ブレード26に
よって−1.5kV〜−800Vの範囲内で帯電されれ
る。
The photoreceptor 14 is a transparent substrate 1 as shown in FIG.
A transparent solvent resistant layer 14b is formed on the entire surface of 4a. Then, a transparent conductive layer 14c, an undercoat layer (transparent insulating layer) 14d, a charge generation layer 14e, and a charge transport layer 14f are laminated on the outer periphery of the solvent resistant layer 14b. Of these, the charge generation layer 14e and the charge transport layer 14f form the photosensitive layer 14g. The photoconductor 14 thus configured is charged within the range of -1.5 kV to -800 V by the cleaning / charging blade 26 to which the bias power source 24 is applied.

【0010】現像剤は磁性トナー30aと磁性キャリア
30bとを混在させた状態でトナーボックス16内に収
容されており、磁性トナー30aには負の電荷が帯電さ
せられる。したがって、同じ負のバイアス電圧の下で現
像スリーブ20を回転させると、磁気ローラ18のS極
およびN極に磁力吸引された磁性キャリアが現像スリー
ブ20の回転に伴って移動する。また、この磁性キャリ
ア30bとクーロン力にて結合されている磁性トナー3
0aも同様に現像スリーブ20によってトナーボックス
16から引き出されて、感光体14表面と対向する側に
向けて移動する。より詳しく説明すると、磁気ローラ1
8の周面にその周方向に交互に形成されているN極,S
極間の磁力線に沿って、磁性キャリアと磁性トナーとの
現像剤の磁気ブラシ28が形成される。
The developer is contained in the toner box 16 in a state where the magnetic toner 30a and the magnetic carrier 30b are mixed, and the magnetic toner 30a is charged with a negative charge. Therefore, when the developing sleeve 20 is rotated under the same negative bias voltage, the magnetic carrier magnetically attracted to the S pole and the N pole of the magnetic roller 18 moves as the developing sleeve 20 rotates. Further, the magnetic toner 3 which is coupled to the magnetic carrier 30b by Coulomb force.
Similarly, 0a is also pulled out from the toner box 16 by the developing sleeve 20 and moves toward the side facing the surface of the photoconductor 14. More specifically, the magnetic roller 1
N poles and S which are alternately formed on the circumferential surface of 8 in the circumferential direction.
A magnetic brush 28, which is a developer of a magnetic carrier and a magnetic toner, is formed along the line of magnetic force between the poles.

【0011】磁気ブラシ28には磁気キャリア30bに
よる導電路が形成され、感光体14表面には磁気ブラシ
と接触している間に現像バイアス電圧と同電位になるま
で電荷が注入される。すなわち、この電荷注入によって
感光体14が十分に帯電される。これによって感光体1
4の表面と現像スリーブ20とが同電位,同極性とな
り、磁性キャリア30bに働くクーロン力は0となり、
磁性キャリア30bを感光体14へ付着させる電気的な
力は存在しない状態となる。一方、磁性トナー30aは
磁性キャリア30bとの間に強い局部クーロン力が作用
しているため、磁性トナー30aの感光体14側へ移動
する力も同様に0である。しかも、感光体14の帯電極
性と磁性トナー30aの帯電極性とは同じであるため、
感光体14の表面に対し反発する向きの力が作用してい
る。
A conductive path is formed by the magnetic carrier 30b on the magnetic brush 28, and charges are injected onto the surface of the photoconductor 14 until the potential becomes the same as the developing bias voltage while being in contact with the magnetic brush. That is, the photoconductor 14 is sufficiently charged by this charge injection. As a result, the photoconductor 1
The surface of 4 and the developing sleeve 20 have the same potential and the same polarity, and the Coulomb force acting on the magnetic carrier 30b becomes 0,
There is no electric force to attach the magnetic carrier 30b to the photoconductor 14. On the other hand, since a strong local Coulomb force acts on the magnetic toner 30a with the magnetic carrier 30b, the force of moving the magnetic toner 30a toward the photoconductor 14 is also zero. Moreover, since the charging polarity of the photoconductor 14 and the charging polarity of the magnetic toner 30a are the same,
A repulsive force acts on the surface of the photoconductor 14.

【0012】このような感光体14の帯電状態下におい
て、感光体14の内面側からLEDアレイヘッド32を
用いて露光した場合、露光した部分のみ感光体14の表
面電位が0となって井戸型ポテンシャルが形成される。
したがって、磁性キャリア30bに対するクーロン力0
の関係が崩れ、磁性キャリア30bの感光体14への最
近接部を中心に過渡的電荷注入による微力なクーロン力
が作用し、感光体14表面の静電潜像へ磁性キャリア3
0bが定電位で移動する。同時に、磁性キャリア30b
との間の局部クーロン力によって磁性トナー30aも移
動し、感光体14表面の静電潜像が現像される。
When the LED array head 32 is used to perform exposure from the inner surface side of the photoconductor 14 in such a charged state of the photoconductor 14, the surface potential of the photoconductor 14 becomes 0 only in the exposed portion and the well type is formed. A potential is formed.
Therefore, the Coulomb force on the magnetic carrier 30b is 0
Is broken, and a weak Coulomb force due to the transient charge injection acts around the closest portion of the magnetic carrier 30b to the photoconductor 14, and the magnetic carrier 3 is transferred to the electrostatic latent image on the surface of the photoconductor 14.
0b moves at a constant potential. At the same time, the magnetic carrier 30b
The magnetic Coulomb force between the magnetic toner 30a and the magnetic toner 30a also moves, and the electrostatic latent image on the surface of the photoconductor 14 is developed.

【0013】注目すべきは感光体14の構成である。透
明基体14aは、ポリカーボネイトを押出成形すること
によって、厚さが1mm、外径が30mmの円筒となる。透
明性を有する熱可塑性プラスチック材料としては、塩化
ビニル樹脂、スチロール樹脂、メタクリル樹脂等があ
る。これらの材料は成形性、耐熱性等の問題があるた
め、この実施例ではポリカーボネイトを用いた。この透
明基体14aには密着性のよいアクリル系UV硬化型樹
脂がディッピング法で塗布され、これによって透明基体
14aの全面に耐溶剤層14bが被覆される。なお、耐
溶剤層14bの性能は、その厚みを大きくすればするほ
ど向上する。しかし、厚みを大きくするにつれて均一化
が困難となり、塗布むらによる品質低下を招く。特に、
10μm以上で塗布むらが極端に大きくなる。膜厚とし
ては、塗工後のむらの少なさや耐溶剤性の点から1μm
から10μmまでの範囲が良好であるが、塗工後の膜の
均一性は、10μm近傍においては、塗工の薄い場合に
比べ相対的に悪くなるという傾向がある。また、耐溶剤
性は、10μmに近づくほど、膜厚の薄い場合に比べて
より向上するが、コスト上昇は避けられない。したがっ
て、信頼性,膜厚の均一化およびコストの点を考慮し
て、膜厚は1μm〜5μmの範囲で設定すべきである。
ただし、より好ましい膜厚の大きさは2μmである。
What should be noted is the structure of the photoconductor 14. The transparent substrate 14a becomes a cylinder having a thickness of 1 mm and an outer diameter of 30 mm by extruding polycarbonate. Examples of transparent thermoplastic materials include vinyl chloride resin, styrene resin, and methacrylic resin. Polycarbonate was used in this example because these materials have problems such as moldability and heat resistance. Acrylic UV curable resin having good adhesion is applied to the transparent substrate 14a by a dipping method, so that the entire surface of the transparent substrate 14a is covered with the solvent resistant layer 14b. The performance of the solvent resistant layer 14b improves as the thickness increases. However, as the thickness increases, it becomes difficult to make the film uniform, which leads to deterioration in quality due to uneven coating. Especially,
If it is 10 μm or more, coating unevenness becomes extremely large. The film thickness is 1 μm from the viewpoint of less unevenness after coating and solvent resistance.
However, the uniformity of the film after coating tends to be relatively poor in the vicinity of 10 μm as compared with the case where the coating is thin. Further, the solvent resistance is improved as it approaches 10 μm as compared with the case where the film thickness is thin, but an increase in cost cannot be avoided. Therefore, the film thickness should be set in the range of 1 μm to 5 μm in consideration of reliability, uniformity of film thickness, and cost.
However, the more preferable thickness is 2 μm.

【0014】耐溶剤層14bの表面に形成される導電層
14cには、UV硬化型ITO導電塗料が用いられる。
この塗料は、耐溶剤性および恒久的な電気特性を有する
透明度の高いコーティング材であり、主に透明プラスチ
ックフィルムの帯電防止や静電容量の調整に使用され
る。ITOにも耐溶剤性をもたせる理由は、感光体を塗
布していく段階において、感光層材料に使用されている
ポリカーボネイトの溶媒として、ジクロロメタンが用い
られているためである。また、低い表面抵抗(105
106 Ω/sq)および85%以上の可視光透過率を有
し、固形分は40%程度である。このような性質を有す
る導電層14bが形成されることによって、耐溶剤性が
さらに向上する。
A UV curable ITO conductive paint is used for the conductive layer 14c formed on the surface of the solvent resistant layer 14b.
This paint is a highly transparent coating material having solvent resistance and permanent electrical characteristics, and is mainly used for preventing static electricity of a transparent plastic film and adjusting the electrostatic capacity. The reason why ITO also has solvent resistance is that dichloromethane is used as a solvent for the polycarbonate used in the photosensitive layer material in the step of coating the photoreceptor. In addition, low surface resistance (10 5 ~
10 6 Ω / sq) and a visible light transmittance of 85% or more, and the solid content is about 40%. By forming the conductive layer 14b having such properties, the solvent resistance is further improved.

【0015】下引き層14dはバインダ樹脂によって形
成され、その厚みは0.6μm〜5.0μmの範囲内で
設定される。この厚みの最低値は、電荷輸送層14fの
絶縁破壊に基づくピンホールの発生によって耐圧が局部
的に低下することを考慮して設定される。また、厚みの
最大値は、膜厚むらによって透明度(可視光透過率)が
変化することによって感光体14の感度特性にむらが生
じることを考慮して設定される。下引き層14dの膜厚
を0.6μm〜5.0μmの範囲に設定した感光体14
の感度特性を図6に示す。これはLEDアレイヘッド3
2のデューティ比に対する感光体14の表面電位を表し
たものであり、曲線Aは膜厚を0.6μmとしたときの
特性であり、曲線Bは膜厚を1μm,3μmおよび5μ
mとしたときの特性である。これより、0.6μm〜5
μmの範囲においては特性はほとんど変わらないことが
わかる。なお、製造コストや耐圧を考慮したより好まし
い膜厚の範囲は1.0μm〜3.0μmと考えられる。
The undercoat layer 14d is made of a binder resin, and its thickness is set within the range of 0.6 μm to 5.0 μm. The minimum value of this thickness is set in consideration that the breakdown voltage is locally reduced due to the generation of pinholes due to the dielectric breakdown of the charge transport layer 14f. In addition, the maximum value of the thickness is set in consideration that the transparency (visible light transmittance) changes due to the unevenness of the film thickness, which causes unevenness in the sensitivity characteristics of the photoconductor 14. Photoconductor 14 in which the thickness of the undercoat layer 14d is set in the range of 0.6 μm to 5.0 μm
FIG. 6 shows the sensitivity characteristics of. This is the LED array head 3
2 shows the surface potential of the photoconductor 14 with respect to the duty ratio of 2, the curve A shows the characteristics when the film thickness is 0.6 μm, and the curve B shows the film thickness of 1 μm, 3 μm and 5 μm.
This is the characteristic when m is set. From this, 0.6 μm-5
It can be seen that the characteristics hardly change in the range of μm. The more preferable range of the film thickness is considered to be 1.0 μm to 3.0 μm in consideration of the manufacturing cost and the breakdown voltage.

【0016】下引き層14dの材料としては、アルコー
ル可溶性ポリアミドおよびスチレン−マイレンサン樹脂
を10重量%〜40重量%含むものが用いられる。この
ような材料は、たとえばポリアミド樹脂(東レ株式会社
製“CM8000”)をメタノールに溶解することによ
って生成され、これを導電層14cの表面に浸漬塗布し
90℃の温度で20分間乾燥させることによって、下引
き層14dが形成される。
As the material of the undercoat layer 14d, a material containing 10% by weight to 40% by weight of alcohol-soluble polyamide and styrene-myrensan resin is used. Such a material is produced, for example, by dissolving a polyamide resin (“CM8000” manufactured by Toray Industries, Inc.) in methanol, dip-coating this on the surface of the conductive layer 14c, and drying it at a temperature of 90 ° C. for 20 minutes. The undercoat layer 14d is formed.

【0017】電荷発生層14eの材料としては、感度を
向上させるためにフタロシアニン系材料にチタニール系
材料を組み合わせたものが用いられ、これによって0.
2μm〜0.5μmの膜厚を有する電荷発生層14eが
下引き層14dの表面に形成される。このような高感度
タイプの電荷発生層14eおよびX型無金属フタロシア
ニンを組み合わせた標準感度タイプの電荷発生層の感度
特性を図7に示す。これはLEDアレイヘッドのデュー
ティ比に対する感光体の表面電位を表したものであり、
曲線Cが高感度タイプの特性であり、曲線Dが標準感度
タイプの特性である。これよりこの実施例の電荷発生層
14eの方が感度が向上していることがわかる。なお、
膜厚は両者とも同じ値に設定されている。
As the material of the charge generation layer 14e, a combination of a phthalocyanine-based material and a titanyl-based material is used in order to improve sensitivity.
A charge generation layer 14e having a film thickness of 2 μm to 0.5 μm is formed on the surface of the undercoat layer 14d. FIG. 7 shows the sensitivity characteristics of the standard-sensitivity type charge generation layer in which the high-sensitivity type charge generation layer 14e and the X-type metal-free phthalocyanine are combined. This represents the surface potential of the photoconductor with respect to the duty ratio of the LED array head,
A curve C is a high sensitivity type characteristic, and a curve D is a standard sensitivity type characteristic. From this, it can be seen that the charge generation layer 14e of this example has improved sensitivity. In addition,
Both film thicknesses are set to the same value.

【0018】電荷輸送層14fは磁気ローラ18やクリ
ーニング兼帯電ブレード26の圧接によってダメージを
受ける。実験によれば、従来の分子数が2000程度の
材料では、数千枚印字した程度で絶縁破壊によるピンホ
ールが発生していた。このため、電荷輸送層14fの材
料としては分子数が5000程度のバインダ樹脂を用い
ている。この電荷発生層14fについての実験によれ
ば、15000枚印字した時点でも絶縁破壊によるピン
ホールなどは発生していない。なお、膜厚は20μmで
ある。
The charge transport layer 14f is damaged by the pressure contact of the magnetic roller 18 and the cleaning / charging blade 26. According to experiments, in the conventional material having a molecular number of about 2000, pinholes were generated due to dielectric breakdown after printing several thousand sheets. Therefore, a binder resin having a molecular number of about 5,000 is used as the material of the charge transport layer 14f. According to the experiment on the charge generation layer 14f, pinholes due to dielectric breakdown did not occur even after printing 15,000 sheets. The film thickness is 20 μm.

【0019】感光体14が帯電されてからLEDアレイ
ヘッド26によって露光され、さらに次回帯電されるま
での感光体14の動作プロセスについて図4を参照して
説明する。なお、説明の便宜上、接触帯電ではなくコロ
ナ帯電器34による放電帯電を用いて説明する。まず、
(A)に示すようにコロナ帯電器34によって感光体1
4が帯電されると、感光層14gの表面に負帯電電荷が
印加される。このとき、従来であれば導電性の基体に対
し電子注入がなされたが、この実施例においては下引き
層14dが形成されているために、導電層14cから感
光層14gへの電子注入が阻止され、漏れ電流が生じな
いので、結果的に感光体14表面の電位は減衰せず、一
定に保たれる。
The operation process of the photosensitive member 14 from the charging of the photosensitive member 14 to the exposure by the LED array head 26 and the subsequent charging will be described with reference to FIG. For convenience of description, the discharge charging by the corona charger 34 will be used instead of the contact charging. First,
As shown in (A), the corona charger 34 is used to
When No. 4 is charged, a negative charge is applied to the surface of the photosensitive layer 14g. At this time, conventionally, electrons were injected into the conductive substrate, but in this embodiment, since the undercoat layer 14d is formed, the injection of electrons from the conductive layer 14c to the photosensitive layer 14g is blocked. As a result, no leakage current is generated, and as a result, the potential on the surface of the photoconductor 14 is not attenuated and kept constant.

【0020】次に、感光体14の内面から露光される
と、電荷発生層14eで発生した電荷対のうち、キャリ
ア36が電荷輸送層14fを経て表面に向かって移動
し、負電荷は下引き層14dの方へ運ばれる。このと
き、導電層14cからの電子注入がないので、露光によ
って発生したキャリア36だけで領域Aの負帯電電荷が
打ち消される。したがって、電荷輸送層14f内へ漂流
するキャリア36が存在することはなく、(C)に示す
ように露光後の電位も安定する。
Next, when the light is exposed from the inner surface of the photoconductor 14, the carrier 36 among the charge pairs generated in the charge generation layer 14e moves toward the surface through the charge transport layer 14f, and the negative charge is underdrawn. It is carried towards layer 14d. At this time, since electrons are not injected from the conductive layer 14c, the negatively charged charges in the region A are canceled by only the carriers 36 generated by the exposure. Therefore, there is no carrier 36 drifting in the charge transport layer 14f, and the potential after exposure is stable as shown in FIG.

【0021】その後、(D)に示すように再び感光体1
4を帯電するときは、電子注入がないため帯電時の表面
電位の凹凸もなく、余分な帯電エネルギを投入する必要
もない。感光体14内に下引き層14dを形成した場合
と形成しない場合とにおける印字枚数に対する表面電位
の変化を図5に示す。直線Xが下引き層14dを形成し
た感光体14に露光をかけなかった場合の特性であり、
曲線Yが下引き層14dを形成しない感光体に露光をか
けなかった場合の特性である。また、直線Zは両方の感
光体に露光をかけた場合の特性である。これより、下引
き層14dを施した場合に表面電位の変化が小さくなる
ことがわかる。
After that, as shown in FIG.
When charging No. 4, since there is no electron injection, there is no unevenness in the surface potential at the time of charging, and it is not necessary to input extra charging energy. FIG. 5 shows changes in the surface potential with respect to the number of printed sheets when the undercoat layer 14d is formed inside the photoreceptor 14 and when it is not formed. The straight line X is the characteristic when the photoreceptor 14 having the undercoat layer 14d is not exposed,
The curve Y represents the characteristics when the photoreceptor having no undercoat layer 14d is not exposed. Further, the straight line Z is the characteristic when both the photoconductors are exposed. From this, it can be seen that the surface potential change is small when the undercoat layer 14d is applied.

【0022】次に、下引き層14dを形成する場合と形
成しない場合とにおけるかぶり濃度の違いを図6に示
す。これより、下引き層14dを形成した場合、かぶり
濃度が許容値以下となることがわかる。この実施例によ
れば、感光体14内に下引き層14dを形成することに
よって、電子注入および電荷輸送層14f内のキャリア
36の漂流がなくなるので、感光層14gの表面電位が
低下することはなく、形成画像へのかぶりを防止するこ
とができる。また、ポリカーボネイトで構成された透明
基体14aが耐溶剤層14bで被覆されるため、透明基
体14aが洗浄時に変形することがなく、感光体14を
コストを抑えつつ容易に製造することができる。さら
に、下引き層14dの膜厚を上述の範囲に設定したた
め、電荷輸送層14fに生じるピンホールが原因で発生
する局部的な耐圧の低下を回避できるとともに、膜厚む
らに伴う感光体特性のむらの発生を防止することができ
る。さらにまた、電荷発生層14eの材料としてフタロ
シアニン系材料にチタニール系材料を組み合わせたもの
を用いたため、感度を向上させることができる。また、
電荷輸送層14fの材料としてバインダ樹脂を用いたた
め、絶縁破壊によるピンホールの発生などを防止するこ
とができる。
Next, FIG. 6 shows the difference in fog density between the case where the undercoat layer 14d is formed and the case where it is not formed. From this, it can be seen that the fog density becomes less than the allowable value when the undercoat layer 14d is formed. According to this embodiment, by forming the undercoat layer 14d in the photoconductor 14, the electron injection and the drift of the carrier 36 in the charge transport layer 14f are eliminated, so that the surface potential of the photoconductive layer 14g is not lowered. It is possible to prevent fogging of a formed image. Further, since the transparent substrate 14a made of polycarbonate is covered with the solvent resistant layer 14b, the transparent substrate 14a is not deformed during cleaning, and the photoreceptor 14 can be easily manufactured while suppressing the cost. Furthermore, since the film thickness of the undercoat layer 14d is set within the above range, it is possible to avoid a local decrease in breakdown voltage caused by pinholes in the charge transport layer 14f, and also to cause unevenness in the photoconductor characteristics due to the uneven film thickness. Can be prevented. Furthermore, since the phthalocyanine-based material combined with the titanyl-based material is used as the material of the charge generation layer 14e, the sensitivity can be improved. Also,
Since the binder resin is used as the material of the charge transport layer 14f, it is possible to prevent generation of pinholes due to dielectric breakdown.

【0023】なお、この実施例では耐溶剤層と導電層を
別々に形成するようにしたが、アクリル系UV硬化型塗
料にUV硬化型ITO導電塗料を混合することによって
耐溶剤性および導電性を有する層を形成するようにして
もよい。また、下引き層の膜厚を5.0μm以上とした
状態で感光体特性のむらを回避するためには、従来から
使用されている公知の下引き層材料から酸化チタンを除
去し、その透明性(可視光透過率)を向上させる必要が
ある。
In this embodiment, the solvent resistant layer and the conductive layer are formed separately, but the solvent resistance and conductivity can be improved by mixing the acrylic UV curable paint with the UV curable ITO conductive paint. You may make it form the layer which has. Further, in order to avoid unevenness in the characteristics of the photoconductor in a state where the thickness of the undercoat layer is 5.0 μm or more, titanium oxide is removed from a conventionally used undercoat layer material, and its transparency is improved. It is necessary to improve (visible light transmittance).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例を示す図解図である。FIG. 1 is an illustrative view showing one embodiment of the present invention;

【図2】図1実施例の動作の一部を示す図解図である。FIG. 2 is an illustrative view showing one portion of an operation of the embodiment in FIG. 1;

【図3】図1実施例の動作の一部を示す図解図である。FIG. 3 is an illustrative view showing one portion of an operation of the embodiment in FIG. 1;

【図4】(A)は帯電プロセスを示す図解図であり、
(B)は露光プロセスを示す図解図であり、(C)は露
光後のプロセスを示す図解図であり、(D)は再帯電プ
ロセスを示す図解図である。
FIG. 4A is an illustrative view showing a charging process,
(B) is an illustration showing an exposure process, (C) is an illustration showing a process after exposure, and (D) is an illustration showing a recharging process.

【図5】印字枚数と表面電位との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the number of printed sheets and the surface potential.

【図6】感度特性を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing sensitivity characteristics.

【図7】感度特性を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing sensitivity characteristics.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 …像形成装置 12 …現像装置 14 …感光体 14a …透明基体 14b …耐溶剤層 14c …導電層 14d …下引き層 14e …電荷発生層 14f …電荷輸送層 32 …LEDアレイヘッド 10 ... Image forming device 12 ... Developing device 14 ... Photosensitive member 14a ... Transparent substrate 14b ... Solvent resistant layer 14c ... Conductive layer 14d ... Undercoat layer 14e ... Charge generation layer 14f ... Charge transport layer 32 ... LED array head

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基体の上に感光層を形成した感光体に
おいて、 前記透明基体を熱可塑性プラスチックで構成し、かつ前
記透明基体を耐溶剤導電層で被覆したことを特徴とす
る、感光体。
1. A photoconductor in which a photosensitive layer is formed on a transparent substrate, wherein the transparent substrate is made of a thermoplastic and the transparent substrate is coated with a solvent resistant conductive layer. .
【請求項2】前記耐溶剤導電層は前記透明基体の全面に
被覆された透明の耐溶剤層および前記耐溶剤層の表面に
被覆された透明の導電層を含む、請求項1記載の感光
体。
2. The photoreceptor according to claim 1, wherein the solvent-resistant conductive layer includes a transparent solvent-resistant layer coated on the entire surface of the transparent substrate and a transparent conductive layer coated on the surface of the solvent-resistant layer. .
【請求項3】前記耐溶剤層の厚みは1μm〜10μmで
ある、請求項1または2記載の感光体。
3. The photoreceptor according to claim 1, wherein the solvent resistant layer has a thickness of 1 μm to 10 μm.
【請求項4】前記耐溶剤導電層ないし前記導電層の表面
に形成された透明の絶縁層をさらに備える、請求項1な
いし3のいずれかに記載の感光体。
4. The photoreceptor according to claim 1, further comprising a transparent insulating layer formed on the surface of the solvent resistant conductive layer or the conductive layer.
【請求項5】前記感光層は電荷発生層および前記電荷発
生層の表面に形成された電荷輸送層を含む、請求項1な
いし4のいずれかに記載の感光体。
5. The photoreceptor according to claim 1, wherein the photosensitive layer includes a charge generation layer and a charge transport layer formed on the surface of the charge generation layer.
【請求項6】前記電荷発生層はフタロシアニン系材料に
チタニール系材料を組み合わせたものを材料として形成
した、請求項5記載の感光体。
6. The photoconductor according to claim 5, wherein the charge generation layer is formed of a material in which a phthalocyanine material is combined with a titanyl material.
【請求項7】前記電荷輸送層はバインダ樹脂を材料とし
て形成した、請求項5または6記載の感光体。
7. The photoreceptor according to claim 5, wherein the charge transport layer is made of a binder resin.
JP16551395A 1995-06-30 1995-06-30 Photoreceptor Withdrawn JPH0915885A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100467989B1 (en) * 1996-08-26 2005-12-21 후지 덴키 가부시끼가이샤 Photoconductor for Internal Irradiation Electrophotography

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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