JPH09153299A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH09153299A
JPH09153299A JP7312690A JP31269095A JPH09153299A JP H09153299 A JPH09153299 A JP H09153299A JP 7312690 A JP7312690 A JP 7312690A JP 31269095 A JP31269095 A JP 31269095A JP H09153299 A JPH09153299 A JP H09153299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pulse
circuit
time
signal
test
Prior art date
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Pending
Application number
JP7312690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Miyashita
幸司 宮下
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH09153299A publication Critical patent/JPH09153299A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To embody the detection of the marginal defect of a semiconductor memory device in a short period of time. SOLUTION: A static random access memory has an address transition detection circuit 9 which detects the change in an address signal and generates a pulse A of a prescribed width and a pulse generating circuit which generates a pulse B for determining the activation period of memory cells by receiving this pulse A. The memory described above has a switching means for disconnecting the capacitance constituting an autopower down signal generating circuit 11 at the time of a test mode, thereby making the pulse width of the pulse B shorter by tc than the pulse width at the time of an ordinary mode. The setting of the severer timing condition is thereby made possible. Then, the detection of the marginal defect in the short period of time is made possible without using a test pattern.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置、特
にスタティック型ランダムアクセスメモリ(以下SRA
M)に関し、不良検出を行うためのテスト時間を短縮す
るテスト方法及びそのテスト回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, particularly a static random access memory (hereinafter referred to as SRA).
Regarding M), the present invention relates to a test method and a test circuit for shortening the test time for detecting defects.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置のテスト技術とし
て公開特許広報(A)平3ー154288に示されるよ
うな技術が提案されている。図1、図2を参照しながら
この従来技術の説明を行う。前述の公開特許広報(A)
平3ー154288ではDRAMを例に説明している
が、ここではスタティックRAM(以下SRAM)を例
にとって説明を行う。図1は従来のSRAMのメモリセ
ル周辺の回路図を簡略化した図である。メモリセルA0
における37〜40はNチャネルMOSFET(以下N
MOS)であり、41、42は高抵抗負荷である。43
はワード線である。44、45はメモリセルからデータ
を読み出すビット線b、/bであり前記NMOS39、
40のソースにそれぞれ接続される。46はビット線負
荷回路であり、前記ビット線b、/bに接続される。N
MOS47、48はカラムゲートであり、ソース、ドレ
インがそれぞれ前記ビット線44、データバス50及び
前記ビット線45、データバス49に接続され、ゲート
は列選択信号Φ1により制御される。51はセンスアン
プであり前記データバス49、50に接続される。52
は信号Φを受け前記信号Φ1を発生する制御信号出力手
段である。以上図1におけるSRAMの構成を示した。
2. Description of the Related Art As a conventional technique for testing a semiconductor memory device, a technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-154288 has been proposed. This conventional technique will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The aforementioned public patent information (A)
Although a DRAM is described as an example in Japanese Patent Laid-Open No. 3-154288, a static RAM (hereinafter referred to as SRAM) will be described as an example here. FIG. 1 is a simplified diagram of a circuit diagram around a memory cell of a conventional SRAM. Memory cell A0
37-40 are N-channel MOSFETs (hereinafter referred to as N-channel MOSFETs).
MOS), and 41 and 42 are high resistance loads. 43
Is a word line. Reference numerals 44 and 45 are bit lines b and / b for reading data from the memory cell, and the NMOS 39 and
40 sources, respectively. A bit line load circuit 46 is connected to the bit lines b and / b. N
The MOSs 47 and 48 are column gates, the sources and drains of which are connected to the bit line 44, the data bus 50 and the bit line 45, and the data bus 49, respectively, and the gates are controlled by the column selection signal Φ1. Reference numeral 51 denotes a sense amplifier, which is connected to the data buses 49 and 50. 52
Is a control signal output means for receiving the signal Φ and generating the signal Φ1. The configuration of the SRAM in FIG. 1 has been described above.

【0003】次に図2を用いて動作の説明を行う。Next, the operation will be described with reference to FIG.

【0004】まず通常モード時の動作はワード線43が
「H」に立ち上がり、メモリセルA0からビット線負荷
回路及びイコライズ回路46によりプリチャージ、イコ
ライズされたビット線44、45にデータが読み出さ
れ、前記ビット線44、45に電位差が生じる。同時に
外部入力信号Φを制御信号出力手段52に入力する事に
より、制御信号Φ1がVDDレベルに立ち上がり、列選
択ゲートであるNMOS47、48を同時にONさせ
る。この時Φ1が「H」レベルにあるため、前記NMO
S47、48は完全にONした状態となる。その後前記
列選択ゲート47、48を介しビット線44、45より
データがデータバス49、50に読み出され、データバ
ス49、50との電位差△Vdbが得られる。そしてセ
ンスアンプ51により増幅され出力される。
First, in the operation in the normal mode, the word line 43 rises to "H", and data is read from the memory cell A0 to the bit lines 44 and 45 precharged and equalized by the bit line load circuit and the equalize circuit 46. A potential difference is generated between the bit lines 44 and 45. At the same time, by inputting the external input signal Φ to the control signal output means 52, the control signal Φ1 rises to the VDD level and the column selection gates NMOS 47 and 48 are turned on at the same time. At this time, since Φ1 is at the “H” level, the NMO
S47 and S48 are completely turned on. After that, the data is read to the data buses 49 and 50 from the bit lines 44 and 45 through the column selection gates 47 and 48, and the potential difference ΔVdb from the data buses 49 and 50 is obtained. Then, it is amplified by the sense amplifier 51 and output.

【0005】次にテストモード時であるが、ワード線4
3が「H」に立ち上がり、メモリセルA0からビット線
負荷回路及びイコライズ回路46によりプリチャージ、
イコライズされたビット線44、45にデータが読み出
され、前記ビット線44、45に電位差が生じる。同時
に外部入力信号Φを制御信号出力手段52に入力する事
により、制御信号Φ1が中間レベル1/2VDDに立ち
上がり、列選択ゲートであるNMOS47、48を同時
にONさせる。この時Φ1が中間レベルにあるため、V
DDレベルに比べNMOS47、48は完全にON状態
にはならないため伝達能力が劣化する。従ってビット線
44、45の電位差に比べ、データバス49、50の電
位差は小さくなり、△Vdb`となる。このデータバス
49、50の電位差△Vdb`がセンスアンプの検出感
度以下であれれば、センスアンプ51により正常な増幅
がされず誤動作が生じる。このように出力データの良否
を判定する事によりテストが行われる。すなわち充分な
動作マージンを持たないメモリセルの検出を行う事が可
能となる。
Next, in the test mode, the word line 4
3 rises to "H", precharges from the memory cell A0 by the bit line load circuit and the equalize circuit 46,
Data is read to the equalized bit lines 44 and 45, and a potential difference is generated on the bit lines 44 and 45. At the same time, by inputting the external input signal Φ to the control signal output means 52, the control signal Φ1 rises to the intermediate level ½ VDD and the column selection gates NMOS 47 and 48 are turned on at the same time. At this time, since Φ1 is at the intermediate level, V
As compared with the DD level, the NMOS 47 and 48 are not completely turned on, so that the transmission capability is deteriorated. Therefore, the potential difference between the data buses 49 and 50 is smaller than the potential difference between the bit lines 44 and 45 and is ΔVdb ′. If the potential difference ΔVdb ′ between the data buses 49 and 50 is equal to or lower than the detection sensitivity of the sense amplifier, the sense amplifier 51 does not normally amplify the signal and malfunctions. In this way, the test is performed by determining the quality of the output data. That is, it is possible to detect a memory cell that does not have a sufficient operation margin.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】近年、1M、4M、1
6Mビットとスタティック型ランダムアクセスメモリの
大容量化が進み、それに伴いテスト時間も4倍、16倍
と増加してきており、コストの点から見ても非常に大き
な問題となってきている。従来のスタティック型ランダ
ムアクセスメモリにおいてマスクずれ等によるメモリセ
ル内のトランジスタのアンバランスや、寄生抵抗等によ
りメモリセルのストアノード電位が正常なメモリセルよ
り悪化し、ビット線の電位差が充分得られないようなマ
ージナルセル不良、ワード線の高抵抗化、センスアンプ
特性不良等によるアクセス遅れの検出には種々のN系、
3/2系、N2系パターン等を使用している。例えば、1
MSRAM(128K×8、アドレス17本、N=
17)と4MSRAM(512K×8、アドレス19
本、N=219)とで1組のメモリセルにデータを書き込
んで、読み出すテストに1条件で100nsの時間を要
す場合で比較すると図7の様になる。この表からも判る
ように記憶容量の増加に伴い、かつ検出能力の高いパタ
ーンを使用するほど非常にテスト時間を要する事がわか
る。
In recent years, 1M, 4M, 1
Since the capacity of 6 Mbits and static random access memory has been increased, the test time has been increased to 4 times and 16 times accordingly, which is a very big problem from the viewpoint of cost. In the conventional static random access memory, the unbalance of the transistors in the memory cell due to mask shift or the like, the storage node potential of the memory cell becomes worse than the normal memory cell due to parasitic resistance, etc., and the potential difference of the bit line cannot be obtained sufficiently. In order to detect an access delay due to such a marginal cell defect, an increase in the resistance of the word line, a defect in the sense amplifier characteristic, etc.
N 3/2 series, N 2 series patterns, etc. are used. For example, 1
MSRAM (128K × 8, 17 addresses, N =
2 17 ) and 4 MSRAM (512K × 8, address 19
7 and N = 2 < 19 >), data is written in one set of memory cells, and a read test requires 100 ns for one condition. A comparison is shown in FIG. As can be seen from this table, it can be seen that as the storage capacity increases and the pattern having the higher detection capability is used, the test time becomes extremely long.

【0007】よって従来技術に示した提案がなされた訳
であるが、従来技術の場合、制御信号Φ1を中間レベル
(NMOS47、48のVthと電源電位VDDとの中
間)にするための制御信号出力手段25が必要になると
同時に低電圧動作時のテストを行う時、非常に微妙な調
整が必要になってくるため回路設計が複雑になるという
問題点があった。
Therefore, although the proposal shown in the prior art has been made, in the case of the prior art, the control signal output for setting the control signal Φ1 to the intermediate level (the intermediate between Vth of the NMOS 47 and 48 and the power supply potential VDD). At the same time that the means 25 is required, a very delicate adjustment is required when conducting a test at low voltage operation, which makes the circuit design complicated.

【0008】そこで、本発明の目的とするところは、簡
単でかつ短時間でマージナルセルの検出を可能とした半
導体記憶装置を提供するところにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of detecting marginal cells easily and in a short time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】マトリクス状に配置され
た複数個のスタティック型メモリセルを有し、アドレス
信号の変化を検出し、所定幅のパルスAを発生するアド
レス遷移検出回路を有し、前記パルスAを受けて、メモ
リセル活性化期間を決定するパルスBを発生するパルス
発生回路を有するスタティック型ランダムアクセスメモ
リで、テストモード時、前記パルスBのパルス幅を通常
モードよりも短くする事を特徴とする。
An address transition detection circuit having a plurality of static memory cells arranged in a matrix and detecting a change in an address signal and generating a pulse A having a predetermined width is provided. A static random access memory having a pulse generation circuit that receives the pulse A and generates a pulse B that determines a memory cell activation period. In a test mode, the pulse width of the pulse B is made shorter than that in the normal mode. Is characterized by.

【0010】及び前記パルスBのパルス幅を決定するた
めのタイマー回路を構成する容量をテストモード時切り
離すスイッチ手段を有する事を特徴とする。
And a switch means for disconnecting the capacitor constituting the timer circuit for determining the pulse width of the pulse B in the test mode.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図3、図4、図5、図6を用いて
本発明の実施例の説明を行う。図3は本実施例における
スタティック型ランダムアクセスメモリのブロック図で
ある。1はメモリセル群、2はビット線負荷回路及びイ
コライズ回路。3は行選択デコーダ、4、8は列選択ゲ
ート及び列選択デコーダである。5はセンスアンプ、6
はデータラッチ回路、7は入出力バッファである。9は
アドレス遷移検出回路、10制御回路である。11、1
2はオートパワーダウン信号発生回路(以下APD信号
発生回路と呼ぶ)及び制御回路である。Ax0〜Axiは
Xアドレス信号、Ay0〜AyjはYアドレス信号であ
る。図2は、オートパワーダウン信号(以下APD信号
と呼ぶ)発生回路の一実施例である。13〜17はディ
レイインバータであり、20〜22はPチャネル型MO
SFET(以下PMOS)、23〜25はNチャネル型
MOSFET(以下NMOS)である。26〜28はP
MOS、19、30はNMOSでありそのゲートを容量
として使用する。18、33はインバータである。信号
tstはテストモード、ノーマルモード切り替え信号で
ある。図4は本実施例のAPD信号発生回路の一実施
例、図5は本実施例のタイミングチャートを示す図であ
り、実線はノーマルモード時のものであり、点線は本実
施例を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3, 4, 5, and 6. FIG. 3 is a block diagram of the static random access memory in this embodiment. 1 is a memory cell group, 2 is a bit line load circuit and an equalize circuit. Reference numeral 3 is a row selection decoder, and 4 and 8 are column selection gates and column selection decoders. 5 is a sense amplifier, 6
Is a data latch circuit, and 7 is an input / output buffer. Reference numeral 9 is an address transition detection circuit and 10 a control circuit. 11, 1
Reference numeral 2 denotes an auto power down signal generation circuit (hereinafter referred to as an APD signal generation circuit) and a control circuit. Ax0 to Axi are X address signals, and Ay0 to Ayj are Y address signals. FIG. 2 shows an embodiment of an automatic power down signal (hereinafter referred to as APD signal) generation circuit. Reference numerals 13 to 17 are delay inverters, and 20 to 22 are P channel type MOs.
SFET (hereinafter PMOS) and 23 to 25 are N-channel MOSFETs (hereinafter NMOS). 26-28 is P
MOS, 19 and 30 are NMOSs, and their gates are used as capacitors. Reference numerals 18 and 33 are inverters. The signal tst is a test mode / normal mode switching signal. FIG. 4 is an example of the APD signal generation circuit of the present embodiment, and FIG. 5 is a timing chart of the present embodiment. The solid line shows the one in the normal mode and the dotted line shows the present embodiment.

【0012】信号tstが論理「H」の状態、すなわち
ノーマルモード時の状態とする。アドレス信号Ax0〜
Axi及びAy0〜Ayjのいずれか、もしくは複数本が
変化した場合アドレス遷移検出回路9により、パルスが
発生される(以下ATDパルスと呼ぶ)。前記ATDパ
ルス「H」は、タイマー回路INに入力される。この
時、ノード1の電位はATDパルスに応答して論理
「L」から論理「H」に立ち上がる。同時に、PMOS
20、21、22、NMOS23、24、25により高
速にディレイインバータ間のノードを充放電するため、
ノード2のレベルは、論理「H」に立ち上がる。この
時、NOR31の出力は論理「L」となる。やがて前記
ATDパルスは時間tの後、論理「L」に立ち下がる。
同時に前記PMOS20、21、22、NMOS23、
24、25はオフ状態になり、ディレイインバータ間の
ノードの充放電が停止する。前記したように、PMOS
26〜28、NMOS19、30のゲートは各ディレイ
インバータ間のノードに接続されたゲート容量である。
各ディレイインバータ間の遅延時間は、この接続された
ゲート容量と次段ディレイインバータを構成するNMO
S、PMOSのゲート容量、配線容量及び配線抵抗によ
って決定される。ここで、入力INからノード2までの
遅延時間をtdとする。ノード2は時間t経過後さらに
時間tdの遅延を経てから論理「L」に変化する。ノー
ド1論理「L」、ノード2論理「H」でNOR31はさ
らに論理「L」を時間tdの間出力する。つまりこのA
PD信号発生回路の出力は論理「L」のパルス幅t+t
dのAPD信号を発生させる。APD信号は制御回路1
2を介して行選択デコーダ3、列選択デコーダ8、ビッ
ト線イコライズ及びプリチャージ回路2、センスアンプ
5、データラッチ回路6に入力される。
It is assumed that the signal tst is in the logic "H" state, that is, in the normal mode. Address signal Ax0
When any one of Axi and Ay0 to Ayj or a plurality of them change, a pulse is generated by the address transition detection circuit 9 (hereinafter referred to as an ATD pulse). The ATD pulse “H” is input to the timer circuit IN. At this time, the potential of the node 1 rises from the logic "L" to the logic "H" in response to the ATD pulse. At the same time, PMOS
In order to charge and discharge the node between the delay inverters at high speed by 20, 21, 22 and NMOSs 23, 24, 25,
The level of node 2 rises to logic "H". At this time, the output of NOR31 becomes logic "L". Eventually, the ATD pulse falls to logic "L" after time t.
At the same time, the PMOS 20, 21, 22, NMOS 23,
24 and 25 are turned off, and charging / discharging of the node between the delay inverters is stopped. As mentioned above, the PMOS
The gates of 26 to 28 and the NMOSs 19 and 30 are gate capacitors connected to the nodes between the delay inverters.
The delay time between the delay inverters depends on the gate capacitance connected to this delay inverter and the NMO forming the next stage delay inverter.
It is determined by the gate capacitance of S, PMOS, wiring capacitance and wiring resistance. Here, the delay time from the input IN to the node 2 is td. The node 2 changes to the logic "L" after the delay of the time td after the time t. The NOR 31 further outputs the logic "L" for the time td at the logic "L" of the node 1 and the logic "H" of the node 2. In other words, this A
The output of the PD signal generating circuit is the pulse width t + t of logic "L".
The APD signal of d is generated. APD signal is control circuit 1
It is input to the row selection decoder 3, the column selection decoder 8, the bit line equalize and precharge circuit 2, the sense amplifier 5, and the data latch circuit 6 via 2.

【0013】アドレス信号Ax0〜Axi及びAy0〜Ay
jが行選択デコーダ3及び列選択デコーダ8に入力さ
れ、かつ前記APD信号が論理「L」の時、前記アドレ
ス信号の対応したワード線及び列選択ゲートが選択され
る(但しAPD信号が論理「H」の時にビット線のプリ
チャージ及びイコライズは終了しているものとする)。
Address signals Ax0-Axi and Ay0-Ay
When j is input to the row selection decoder 3 and the column selection decoder 8 and the APD signal is logic "L", the word line and the column selection gate corresponding to the address signal are selected (however, the APD signal is logic "L"). It is assumed that precharge and equalization of the bit line have been completed at the time of "H").

【0014】ワード線が選択された後、該当メモリセル
からデータがビット線BL、/BL、及び列選択ゲート
を介して読み出される。同時にセンスアンプ活性化信号
SAONが論理「H」となりセンスアンプは活性化さ
れ、データは増幅される。SAONが論理「H」となる
のを追ってデータラッチ回路を活性化するLONが論理
「H」となりデータはラッチされる。ここで、ワード線
はアドレス信号が変化しなくとも、APDパルス幅t+
tdの後オフ状態となる。この後、センスアンプもSA
ONが論理「L」となりオフ状態となるが、センスアン
プがオフ状態になる前にデータラッチ回路もLAONが
論理「L」となりオフ状態となる。これによりラッチ保
持データが誤データにより反転する事なく出力バッファ
7に伝達される。
After the word line is selected, data is read from the corresponding memory cell via the bit lines BL and / BL and the column selection gate. At the same time, the sense amplifier activation signal SAON becomes logic "H", the sense amplifier is activated, and the data is amplified. LON which activates the data latch circuit becomes logical "H" as SAON becomes logical "H" and data is latched. Here, even if the address signal does not change in the word line, the APD pulse width t +
It is turned off after td. After this, the sense amplifier is also SA
ON turns to logic "L" and turns off, but before the sense amplifier turns off, LAON turns to logic "L" and turns off. As a result, the latched data is transmitted to the output buffer 7 without being inverted due to erroneous data.

【0015】ここで信号tstが論理「L」に変化し、
テストモードの状態に変化したとする。オートパワーダ
ウン信号発生回路に接続されたゲート容量28、30及
びディレイインバータ16、17がトランスミションゲ
ート35、36がオフする事により切り離される。同時
にトランスミッションゲート37がオンする。これによ
りノーマルモード時のAPDパルス幅t+tdは、切り
離されたゲート容量及び抵抗、ディレイインバータ1
6、17のゲート容量で決定される時間tcだけ短くな
る。すなわちt+td−tcとなる。APD信号は制御
回路12を介して行選択デコーダ3、列選択デコーダ
8、ビット線イコライズ及びプリチャージ回路2、セン
スアンプ5、データラッチ回路6に入力される。アドレ
ス信号Ax0〜Axi及びAy0〜Ayjが行選択デコーダ
3及び列選択デコーダ8に入力され、かつ前記APD信
号が論理「L」の時、前記アドレス信号に対応したワー
ド線及び列選択ゲートが選択される(但しAPD信号が
論理「H」の時にビット線のプリチャージ及びイコライ
ズは終了しているものとする)。
Here, the signal tst changes to logic "L",
It is assumed that the state has changed to the test mode. The gate capacitors 28 and 30 and the delay inverters 16 and 17 connected to the automatic power-down signal generating circuit are separated by turning off the transmission gates 35 and 36. At the same time, the transmission gate 37 turns on. As a result, the APD pulse width t + td in the normal mode is determined by the separated gate capacitance and resistance, the delay inverter 1
It is shortened by the time tc determined by the gate capacitances of 6 and 17. That is, t + td-tc. The APD signal is input to the row selection decoder 3, the column selection decoder 8, the bit line equalize and precharge circuit 2, the sense amplifier 5, and the data latch circuit 6 via the control circuit 12. When the address signals Ax0 to Axi and Ay0 to Ayj are input to the row selection decoder 3 and the column selection decoder 8 and the APD signal is logic "L", the word line and the column selection gate corresponding to the address signal are selected. (However, it is assumed that the bit line precharge and equalization have been completed when the APD signal is logic "H").

【0016】ここでいくつかの不良モードを例にとって
説明を行う。図6において実線は、良品の波形であり、
点線は不良品の波形である。
Here, some failure modes will be described as examples. In FIG. 6, the solid line is the waveform of a good product,
The dotted line is the waveform of the defective product.

【0017】1、ワード線WLがプロセス起因により設
計値より細ったりして高抵抗化した場合やシミやゴミ等
によりリークが発生した場合は図6−1に示すようにワ
ード線WLの立ち上がりが非常になまってしまったりV
DDまで充分に上がりきらなかったりする。従来(ノー
マルモード時)は、ワード線WLが活性化されている時
間がt+tdでありデータを読み出すには充分な時間で
あり、テスト結果はパスとなり不良は検出する事ができ
なかったが本発明では活性化時間がt+td−tcと短
くなるため、データを充分な振幅を持つレベルまで読み
出す前にワード線WLが非活性となるためセンスアンプ
で増幅しきれずにテスト結果はフェイルとなる。
1. When the word line WL becomes higher in resistance due to process-related narrowing than the design value or when leak occurs due to stains or dust, the word line WL rises as shown in FIG. 6-1. I'm very addicted to V
It may not reach the DD level. In the past (in the normal mode), the time during which the word line WL is activated is t + td, which is a sufficient time for reading the data, and the test result becomes a pass and the defect cannot be detected. In this case, since the activation time is shortened to t + td-tc, the word line WL becomes inactive before the data is read to a level having a sufficient amplitude, so that the sense amplifier cannot fully amplify it and the test result becomes a failure.

【0018】2、マスクずれ等によるアンバランスやス
トアノード上の寄生抵抗によるマージナルな特性を持つ
メモリセルの場合、図6ー2に示す様に充分なデータ振
幅を持ってビット線BL、/BL上に読み出す事が出来
ない場合がある。しかし、従来(ノーマルモード時)は
ワード線の活性化時間やセンスアンプの活性化時間が長
いためテスト結果はパスとなる可能性があった。しかし
本実施例ではワード線及びセンスアンプの活性化期間が
tcだけ短くなるため、ビット線上に正確にデータを読
み出す前にワード線が非活性化し、かつセンスアンプも
短時間に非活性化するため、正確にデータを増幅しラッ
チする事ができず、テスト結果はフェイルとなる。
2. In the case of a memory cell having an imbalance due to mask shift or the like and a marginal characteristic due to parasitic resistance on the store node, the bit lines BL and / BL have a sufficient data amplitude as shown in FIG. 6-2. It may not be possible to read it above. However, conventionally (in the normal mode), the activation time of the word line and the activation time of the sense amplifier are long, so that the test result may pass. However, in this embodiment, since the activation period of the word line and the sense amplifier is shortened by tc, the word line is deactivated before the data is accurately read onto the bit line, and the sense amplifier is deactivated in a short time. , The data cannot be accurately amplified and latched, and the test result becomes fail.

【0019】3、上記1、2の場合もしくはマスクずれ
等によるセンスアンプ(差動増幅器)の特性アンバラン
スにより充分な利得をもって増幅できない場合でもタイ
ミング上余裕があれば、テスト上はパスしてしまうケー
スがあった。しかし本実施例では、センスアンプの活性
期間及びデータラッチ期間をテストモード時短縮する事
により図6ー3に示す様にテスト結果をフェイルとする
事が可能となる。
3. In the above cases 1 and 2, or even when amplification is not possible with a sufficient gain due to the characteristic imbalance of the sense amplifier (differential amplifier) due to mask shift or the like, if there is a timing margin, it passes the test. There was a case. However, in this embodiment, by shortening the active period of the sense amplifier and the data latch period in the test mode, the test result can be failed as shown in FIG. 6C.

【0020】次に再びノーマルモード、すなわち信号t
stが論理「L」となると、テストモード時に切り離さ
れていたオートパワーダウン信号発生回路のゲート容量
28、30及びディレイインバータ16、17が接続さ
れ、前記APDパルスの幅はt+tdに戻る。
Next, again in the normal mode, that is, the signal t
When st becomes logic "L", the gate capacitors 28 and 30 and the delay inverters 16 and 17 of the auto power-down signal generating circuit which were disconnected in the test mode are connected, and the width of the APD pulse returns to t + td.

【0021】以上は本発明の一実施例であり、本発明の
趣旨から逸脱しない範囲で変更可能なのは言うまでもな
い。
The above is one embodiment of the present invention, and it goes without saying that it can be changed without departing from the spirit of the present invention.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によると従来技術のような複雑な
回路構成を必要とせず、テスト時のみAPDパルスを短
くする事によりワード線、センスアンプ、データラッチ
回路の活性化時間を短くする事が可能とし、データ読み
出しタイミングを厳しくした状態でマージナルな特性を
持つ不良を、簡易テストパターンを使用し検出をする事
が可能となる。それによりテスト時間の大幅な短縮及び
コスト削減が可能であると共に信頼性の高いサンプルを
出荷する事が可能となった。又、オートパワーダウン信
号発生回路においてスイッチング手段を用いて容量の切
り離しを行っているため、新たに別のオートパワーダウ
ン信号発生回を設ける必要がなくレイアウト面積の増加
を最小限におさえる事が可能となる。
According to the present invention, it is possible to shorten the activation time of the word line, the sense amplifier, and the data latch circuit by shortening the APD pulse only at the time of testing without requiring a complicated circuit configuration as in the prior art. Therefore, it becomes possible to detect a defect having marginal characteristics with a strict data read timing by using a simple test pattern. As a result, it is possible to significantly reduce the test time and cost, and it is possible to ship highly reliable samples. Also, since the switching means is used to disconnect the capacitance in the auto power-down signal generation circuit, it is not necessary to newly provide another auto-power-down signal generation circuit, and it is possible to minimize the increase in layout area. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来例を示すSRAMのテスト回路図。FIG. 1 is a test circuit diagram of an SRAM showing a conventional example.

【図2】従来例のタイミングチャート。FIG. 2 is a timing chart of a conventional example.

【図3】本発明の実施例を示すSRAMのブロック図。FIG. 3 is a block diagram of an SRAM showing an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例におけるオートパワーダウン信
号発生回路を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an auto power-down signal generation circuit according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例を示すタイミングチャート。FIG. 5 is a timing chart showing an example of the present invention.

【図6】不良モードの一例を示すを示す波形図。FIG. 6 is a waveform chart showing an example of a failure mode.

【図7】テストパターン及び記憶容量によるテスト時間
比較図。
FIG. 7 is a test time comparison diagram based on a test pattern and a storage capacity.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・メモリセルアレイ 2、46・・・ビット線イコライズ回路及びプリチャー
ジ回路 3・・・行選択デコーダ 4・・・列選択ゲート 5・・・センスアンプ 6・・・データラッチ回路 7・・・入出力バッファ 8・・・列選択デコーダ 9・・・アドレス遷移検出回路 10、12・・・制御回路 11・・・オートパワーダウン信号発生回路 13〜17・・・ディレイインバータ 18、33、34・・・インバータ 23〜25、37〜40、47、48・・・NMOS 20〜22・・・PMOS 35、36、37・・・トランスミッションゲート 29、30・・・NMOS(容量) 26〜28・・・PMOS(容量) 31・・・NORゲート 16・・・制御信号出力手段 49、50・・・データバス 43・・・ワード線 ADD・・・アドレス信号 ATD・・・アドレス遷移検出信号 APD・・・オートパワーダウン信号 WL・・・ワード線 BL、/BL・・・ビット線 SAON・・・センスアンプ活性化信号 SAout・・・センスアンプ出力 LON・・・データラッチ回路活性化信号 Lout・・・データラッチ回路出力 tst・・・ノーマルモード、テストモード切り替え信
号 Ax0〜Axi・・・行アドレス信号 Ay0〜Ayj・・・列アドレス信号
1 ... Memory cell array 2, 46 ... Bit line equalize circuit and precharge circuit 3 ... Row selection decoder 4 ... Column selection gate 5 ... Sense amplifier 6 ... Data latch circuit 7 ... Input / output buffer 8 ... Column selection decoder 9 ... Address transition detection circuit 10, 12 ... Control circuit 11 ... Auto power down signal generation circuit 13-17 ... Delay inverter 18, 33, 34 ... Inverter 23-25, 37-40, 47, 48 ... NMOS 20-20 ... PMOS 35, 36, 37 ... Transmission gate 29, 30 ... NMOS (capacitance) 26-28. ..PMOS (capacitance) 31 ... NOR gate 16 ... Control signal output means 49, 50 ... Data bus 43 ... Word line ADD ...・ Address signal ATD ・ ・ ・ Address transition detection signal APD ・ ・ ・ Auto power down signal WL ・ ・ ・ Word line BL, / BL ・ ・ ・ Bit line SAON ・ ・ ・ Sense amplifier activation signal SAout ・ ・ ・ Sense amplifier output LON ... Data latch circuit activation signal Lout ... Data latch circuit output tst ... Normal mode / test mode switching signal Ax0 to Axi ... Row address signal Ay0 to Ayj ... Column address signal

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリクス状に配置された複数個のスタテ
ィック型メモリセルを有し、アドレス信号の変化を検出
し、所定幅のパルスAを発生するアドレス遷移検出回路
を有し、前記パルスAを受けて、メモリセル活性化期間
を決定するパルスBを発生するパルス発生回路を有する
スタティック型ランダムアクセスメモリで、 テストモード時、前記パルスBのパルス幅を通常モード
よりも短くする事を特徴とする半導体記憶装置。
1. An address transition detection circuit having a plurality of static memory cells arranged in a matrix and detecting a change in an address signal and generating a pulse A having a predetermined width. In response to this, a static random access memory having a pulse generation circuit for generating a pulse B for determining a memory cell activation period is characterized in that the pulse width of the pulse B in the test mode is shorter than that in the normal mode. Semiconductor memory device.
【請求項2】請求項1に記載されたスタティック型ラン
ダムアクセスメモリで、前記パルスBのパルス幅を決定
するためのタイマー回路(以下オートパワーダウン信号
発生回路)を構成する容量をテストモード時切り離すス
イッチ手段を有する事を特徴とする半導体記憶装置。
2. The static random access memory according to claim 1, wherein a capacitor forming a timer circuit (hereinafter referred to as an auto power down signal generating circuit) for determining the pulse width of the pulse B is disconnected in a test mode. A semiconductor memory device having switch means.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006331511A (en) * 2005-05-25 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device and its testing procedures
JP2007157282A (en) * 2005-12-07 2007-06-21 Elpida Memory Inc Wafer burn-in test method, wafer burn-in test apparatus, and semiconductor storage device
JP2008192253A (en) * 2007-02-06 2008-08-21 Ricoh Co Ltd Semiconductor storage device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006331511A (en) * 2005-05-25 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device and its testing procedures
JP2007157282A (en) * 2005-12-07 2007-06-21 Elpida Memory Inc Wafer burn-in test method, wafer burn-in test apparatus, and semiconductor storage device
JP2008192253A (en) * 2007-02-06 2008-08-21 Ricoh Co Ltd Semiconductor storage device

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