JPH09152474A - 磁気プローブ及びその製造方法 - Google Patents
磁気プローブ及びその製造方法Info
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- JPH09152474A JPH09152474A JP33410695A JP33410695A JPH09152474A JP H09152474 A JPH09152474 A JP H09152474A JP 33410695 A JP33410695 A JP 33410695A JP 33410695 A JP33410695 A JP 33410695A JP H09152474 A JPH09152474 A JP H09152474A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来より使用されている磁気プローブでは、
先端部のみでなく、先端部の周辺部も磁気記録媒体から
の磁場を検出するため、分解能が先端部の曲率半径より
も大きくなり、局所的な磁区構造や磁区境界の微細な構
造等を正確に検出しにくいという課題があった。 【解決手段】 磁気プローブ１０を、支持体１１と、支
持体１１に形成された磁性体１２と、磁性体１２の一部
を露出させる開口部１５を除いて磁性体１２を磁気的に
遮蔽するシールド材１３とからなる構成とする。
先端部のみでなく、先端部の周辺部も磁気記録媒体から
の磁場を検出するため、分解能が先端部の曲率半径より
も大きくなり、局所的な磁区構造や磁区境界の微細な構
造等を正確に検出しにくいという課題があった。 【解決手段】 磁気プローブ１０を、支持体１１と、支
持体１１に形成された磁性体１２と、磁性体１２の一部
を露出させる開口部１５を除いて磁性体１２を磁気的に
遮蔽するシールド材１３とからなる構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気プローブ及びそ
の製造方法に関し、より詳細には磁気センサや磁気力顕
微鏡等に用いることができ、また磁気記録媒体を利用し
て磁化情報の書き込みや読み出しを行い得る磁気プロー
ブ及びその製造方法に関する。
の製造方法に関し、より詳細には磁気センサや磁気力顕
微鏡等に用いることができ、また磁気記録媒体を利用し
て磁化情報の書き込みや読み出しを行い得る磁気プロー
ブ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い、磁気記録媒
体に書き込まれる記録密度は年々大きくなってきてお
り、このため磁気記録媒体及びヘッドの微細な磁気構造
に対する理解が重要になってきている。このような微細
な磁気構造を観察する手法の一つとして、近年、細い先
端部を有する磁気プローブを用いて試料上を走査し、試
料表面からの漏洩磁場と磁気プローブ間の磁気力の強弱
により、試料の磁化状態の観察を行う磁気力顕微鏡の研
究が進められている。
体に書き込まれる記録密度は年々大きくなってきてお
り、このため磁気記録媒体及びヘッドの微細な磁気構造
に対する理解が重要になってきている。このような微細
な磁気構造を観察する手法の一つとして、近年、細い先
端部を有する磁気プローブを用いて試料上を走査し、試
料表面からの漏洩磁場と磁気プローブ間の磁気力の強弱
により、試料の磁化状態の観察を行う磁気力顕微鏡の研
究が進められている。
【０００３】この細い先端部を有する磁気プローブは、
磁気力顕微鏡として用いられる他、例えば磁気センサ、
磁化情報の書き込みや読み出し用の装置等としても用い
られている。磁気プローブの構造も、例えばその全体が
硬磁性材料や軟磁性材料により形成されたもの、非磁性
材料により軟磁性材料や硬磁性材料が被覆されて形成さ
れたもの等種々のものがある。磁気プローブの材料とし
て軟磁性体が用いられたものでは、基体側に検出コイル
又は磁場センサを設けることにより磁気信号を検出す
る。また、磁気プローブを磁気記録媒体に一時的に近づ
け、大きな磁場を印加したり、基体のコイルに書き込み
電流を流し、先端部に磁場を発生させることにより磁気
記録媒体を磁化させるものもある。
磁気力顕微鏡として用いられる他、例えば磁気センサ、
磁化情報の書き込みや読み出し用の装置等としても用い
られている。磁気プローブの構造も、例えばその全体が
硬磁性材料や軟磁性材料により形成されたもの、非磁性
材料により軟磁性材料や硬磁性材料が被覆されて形成さ
れたもの等種々のものがある。磁気プローブの材料とし
て軟磁性体が用いられたものでは、基体側に検出コイル
又は磁場センサを設けることにより磁気信号を検出す
る。また、磁気プローブを磁気記録媒体に一時的に近づ
け、大きな磁場を印加したり、基体のコイルに書き込み
電流を流し、先端部に磁場を発生させることにより磁気
記録媒体を磁化させるものもある。
【０００４】図７は従来より磁気力顕微鏡に用いられて
いる磁気プローブを模式的に示した断面図である。
いる磁気プローブを模式的に示した断面図である。
【０００５】この磁気プローブ３０は、支持体１１と磁
性体１２とから構成されている。支持体１１はＳｉ、Ａ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 等の非磁性体よりなり、細長い板状
の上部支持体１１ａと上部支持体１１ａの下面に形成さ
れたほぼ円錐形状の下部支持体１１ｂとにより構成され
ている。そしてこの支持体１１の下面側には、例えばＮ
ｉＦｅ、ＦｅＳｉＡｌ、ＣｏＮｉＦｅ等の軟磁性を示す
Ｆｅ系合金、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒＮｉ、Ｃｏ
ＣｒＰｔ等の硬磁性を示すＣｏ系合金等よりなる磁性体
１２の被覆層が形成されており、先端部１７は０．５μ
ｍ以下の極めて小さな曲率半径を有する曲面により形成
されている。この磁性体１２の厚みは１０〜５００ｎｍ
程度であり、下部支持体１１ｂの裾の部分の直径はおよ
そ数μｍ〜１０μｍである。
性体１２とから構成されている。支持体１１はＳｉ、Ａ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 等の非磁性体よりなり、細長い板状
の上部支持体１１ａと上部支持体１１ａの下面に形成さ
れたほぼ円錐形状の下部支持体１１ｂとにより構成され
ている。そしてこの支持体１１の下面側には、例えばＮ
ｉＦｅ、ＦｅＳｉＡｌ、ＣｏＮｉＦｅ等の軟磁性を示す
Ｆｅ系合金、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒＮｉ、Ｃｏ
ＣｒＰｔ等の硬磁性を示すＣｏ系合金等よりなる磁性体
１２の被覆層が形成されており、先端部１７は０．５μ
ｍ以下の極めて小さな曲率半径を有する曲面により形成
されている。この磁性体１２の厚みは１０〜５００ｎｍ
程度であり、下部支持体１１ｂの裾の部分の直径はおよ
そ数μｍ〜１０μｍである。
【０００６】図８は磁気プローブの別の一例を模式的に
示した断面図である。この磁気プローブ４０の場合に
は、板状の部分のみが非磁性材料からなる支持体１１に
より構成され、円錐形状の部分は磁性材料からなる磁性
体１２により構成されている。この磁気プローブ４０で
は、図７に示した磁気プローブ３０の場合のような被覆
層である磁性体１２を必要とせず、簡単な構成となって
いる。
示した断面図である。この磁気プローブ４０の場合に
は、板状の部分のみが非磁性材料からなる支持体１１に
より構成され、円錐形状の部分は磁性材料からなる磁性
体１２により構成されている。この磁気プローブ４０で
は、図７に示した磁気プローブ３０の場合のような被覆
層である磁性体１２を必要とせず、簡単な構成となって
いる。
【０００７】次に、このような磁気プローブを用いて、
磁気記録媒体からの磁化情報を得る方法について説明す
る。図９は磁気記録媒体の表面近傍に位置させた磁気プ
ローブ３０（図７）と磁気記録媒体との相互作用を模式
的に示した断面図である。
磁気記録媒体からの磁化情報を得る方法について説明す
る。図９は磁気記録媒体の表面近傍に位置させた磁気プ
ローブ３０（図７）と磁気記録媒体との相互作用を模式
的に示した断面図である。
【０００８】図示したように、磁気記録媒体１４には上
向き又は下向きに磁化された磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄが形成
され、この磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによりそれぞれその近傍
に磁場が形成されている。なお、点線は磁区Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄからの磁束を示している。磁気プローブ３０に形
成された円錐形状部は、磁性体１２で被覆されているた
め、磁気記録媒体１４に形成された磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
から生じる磁場と磁性体１２とで磁気力が発生し、磁気
プローブ３０が力を受け、変位しようとする。そこで、
この力あるいは力の勾配が一定量となるように所定の手
段を用いて制御し、磁気プローブ３０の変位を以下のよ
うな方法で検出することにより、磁気力を検知する。こ
の磁気プローブ３０の変位の検出方法としては、例えば
トンネル電流を用いるもの、レーザの干渉を用いるも
の、集光あるいは反射方向を検出するもの、容量変化を
検出するもの等が挙げられる。
向き又は下向きに磁化された磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄが形成
され、この磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによりそれぞれその近傍
に磁場が形成されている。なお、点線は磁区Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄからの磁束を示している。磁気プローブ３０に形
成された円錐形状部は、磁性体１２で被覆されているた
め、磁気記録媒体１４に形成された磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
から生じる磁場と磁性体１２とで磁気力が発生し、磁気
プローブ３０が力を受け、変位しようとする。そこで、
この力あるいは力の勾配が一定量となるように所定の手
段を用いて制御し、磁気プローブ３０の変位を以下のよ
うな方法で検出することにより、磁気力を検知する。こ
の磁気プローブ３０の変位の検出方法としては、例えば
トンネル電流を用いるもの、レーザの干渉を用いるも
の、集光あるいは反射方向を検出するもの、容量変化を
検出するもの等が挙げられる。
【０００９】上記した二つのタイプの磁気プローブ３
０、４０のうち、図８に示した磁気プローブ４０は先端
部１７を含む円錐形状の部分全体が磁性体１２により形
成されており、安価に製造することはできるが、磁性体
１２自身が異方性を有するため、磁化の方向をコントロ
ールすることが難しい。一方、図７に示した磁気プロー
ブ３０は、支持体１１の表面が磁性体１２で被覆された
構成となっており、着磁により先端部１７の磁化方向を
任意の方向に向けることができる。そのため、磁気記録
媒体１４の一方向成分を観察できるという長所があり、
近年利用されている。
０、４０のうち、図８に示した磁気プローブ４０は先端
部１７を含む円錐形状の部分全体が磁性体１２により形
成されており、安価に製造することはできるが、磁性体
１２自身が異方性を有するため、磁化の方向をコントロ
ールすることが難しい。一方、図７に示した磁気プロー
ブ３０は、支持体１１の表面が磁性体１２で被覆された
構成となっており、着磁により先端部１７の磁化方向を
任意の方向に向けることができる。そのため、磁気記録
媒体１４の一方向成分を観察できるという長所があり、
近年利用されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】図９に示した磁気プロ
ーブ３０により、磁気記録媒体１４の磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、
Ｄから磁気力を検知する際、磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄと磁気
プローブ３０の先端部１７との作用をもう少し詳細にみ
てみることにする。
ーブ３０により、磁気記録媒体１４の磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、
Ｄから磁気力を検知する際、磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄと磁気
プローブ３０の先端部１７との作用をもう少し詳細にみ
てみることにする。
【００１１】この磁気プローブ３０の先端部１７の曲率
半径は０．５μｍ以下と極めて小さい。従って、先端部
１７を磁区Ｂの上に位置させると、先端部１７は磁区Ｂ
の上のみに位置し、磁区Ｂのみからの磁場を検知するこ
とができる。しかし、この磁気プローブ３０は円錐形状
の支持体１１ｂの全面に磁性体１２が形成されているた
め、先端部１７の周辺部１８が磁区Ａや磁区Ｃからの磁
束を拾い、磁区Ａや磁区Ｃからの磁場を検知してしま
う。
半径は０．５μｍ以下と極めて小さい。従って、先端部
１７を磁区Ｂの上に位置させると、先端部１７は磁区Ｂ
の上のみに位置し、磁区Ｂのみからの磁場を検知するこ
とができる。しかし、この磁気プローブ３０は円錐形状
の支持体１１ｂの全面に磁性体１２が形成されているた
め、先端部１７の周辺部１８が磁区Ａや磁区Ｃからの磁
束を拾い、磁区Ａや磁区Ｃからの磁場を検知してしま
う。
【００１２】このように、従来より使用されている磁気
プローブ３０では、磁気プローブ３０の先端部１７のみ
でなく、周辺部１８も磁気記録媒体１４からの磁場を検
出してしまうため、分解能が曲率半径よりも大きくな
り、局所的な磁区構造や磁区境界の微細な構造等を正確
に検出しにくいという課題があった。
プローブ３０では、磁気プローブ３０の先端部１７のみ
でなく、周辺部１８も磁気記録媒体１４からの磁場を検
出してしまうため、分解能が曲率半径よりも大きくな
り、局所的な磁区構造や磁区境界の微細な構造等を正確
に検出しにくいという課題があった。
【００１３】前記問題を解決するために、従来より更に
微細な加工を先端部１７に施し、先端部１７の曲率半径
をより小さくするという方法も提案されているが、加工
の際の工程数が多くなりすぎるため、製造された磁気プ
ローブが高価になるという問題が生ずる。
微細な加工を先端部１７に施し、先端部１７の曲率半径
をより小さくするという方法も提案されているが、加工
の際の工程数が多くなりすぎるため、製造された磁気プ
ローブが高価になるという問題が生ずる。
【００１４】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、磁気記録媒体や磁気ヘッド等のより微細な磁気構造
を正確に検出することができるともに、磁気記録媒体に
対してより高密度な情報の読み出しや書き込みを行わせ
ることができる磁気プローブ及びその製造方法を提供す
ることを目的としている。
り、磁気記録媒体や磁気ヘッド等のより微細な磁気構造
を正確に検出することができるともに、磁気記録媒体に
対してより高密度な情報の読み出しや書き込みを行わせ
ることができる磁気プローブ及びその製造方法を提供す
ることを目的としている。
【００１５】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記目的を
達成するために本発明に係る磁気プローブは、支持体
と、該支持体に形成された磁性体と、該磁性体の一部を
露出させる開口部を除いて前記磁性体を磁気的に遮蔽す
るシールド材とからなることを特徴としている。
達成するために本発明に係る磁気プローブは、支持体
と、該支持体に形成された磁性体と、該磁性体の一部を
露出させる開口部を除いて前記磁性体を磁気的に遮蔽す
るシールド材とからなることを特徴としている。
【００１６】上記磁気プローブによれば、先端の開口部
を除いて、前記磁性体が該磁性体を磁気的に遮蔽するシ
ールド材で被覆されているので、先端部のみで磁気記録
媒体からの磁場を検出することができるため分解能が上
り、磁気記録媒体等に形成されたより微細な磁区構造を
検知することができる。また、この磁気プローブを使用
することにより、磁気記録媒体に対してより高密度な情
報の読み出しや書き込みを行わせることができる。
を除いて、前記磁性体が該磁性体を磁気的に遮蔽するシ
ールド材で被覆されているので、先端部のみで磁気記録
媒体からの磁場を検出することができるため分解能が上
り、磁気記録媒体等に形成されたより微細な磁区構造を
検知することができる。また、この磁気プローブを使用
することにより、磁気記録媒体に対してより高密度な情
報の読み出しや書き込みを行わせることができる。
【００１７】また本発明に係る磁気プローブの製造方法
は、上記磁気プローブの製造方法であって、支持体上に
磁性体を形成し、該磁性体上の全面に該磁性体を磁気的
に遮蔽するシールド材で被覆された後、該シールド材で
被覆された先端部分を選択的にエッチングするようにイ
オンビームを照射することを特徴としている。
は、上記磁気プローブの製造方法であって、支持体上に
磁性体を形成し、該磁性体上の全面に該磁性体を磁気的
に遮蔽するシールド材で被覆された後、該シールド材で
被覆された先端部分を選択的にエッチングするようにイ
オンビームを照射することを特徴としている。
【００１８】上記磁気プローブの製造方法によれば、支
持体表面に形成された磁性体の一部、すなわち磁気プロ
ーブの先端部を、容易に露出させることができるため、
磁気記録媒体等の微細な磁区構造の検知や、磁気記録媒
体に高密度な情報の読み出しや書き込みを行わせること
が可能な磁気プローブを安価に製造することができる。
持体表面に形成された磁性体の一部、すなわち磁気プロ
ーブの先端部を、容易に露出させることができるため、
磁気記録媒体等の微細な磁区構造の検知や、磁気記録媒
体に高密度な情報の読み出しや書き込みを行わせること
が可能な磁気プローブを安価に製造することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気プローブ
及びその製造方法の実施の形態を図面に基づいて説明す
る。
及びその製造方法の実施の形態を図面に基づいて説明す
る。
【００２０】図１は実施の形態（１）に係る磁気プロー
ブを模式的に示した断面図である。この磁気プローブ１
０は、図７に示した従来の磁気プローブ３０の下面が先
端部１７を除いてシールド材１３で被覆された構成とな
っている。従来の磁気プローブ３０については、上記し
た「従来の技術」の項で説明したので、これらの説明を
ここでは省略し、シールド材１３及びその形状等につい
て説明する。
ブを模式的に示した断面図である。この磁気プローブ１
０は、図７に示した従来の磁気プローブ３０の下面が先
端部１７を除いてシールド材１３で被覆された構成とな
っている。従来の磁気プローブ３０については、上記し
た「従来の技術」の項で説明したので、これらの説明を
ここでは省略し、シールド材１３及びその形状等につい
て説明する。
【００２１】このシールド材１３の材料は、例えばＮｉ
Ｆｅ、ＦｅＳｉＡｌ、ＣｏＺｒＴａ、ＣｏＺｒＲｅ等の
Ｃｏ系非晶質材料等、軟磁気特性に優れ、比透磁率が１
０００以上と透磁率の高いものが好ましい。また、シー
ルド材１３の厚みは５００〜３０００ｎｍ程度が好まし
い。先端部１７には、その直径が０．１〜０．３μｍ程
度の平面視ほぼ円形の開口部１５が形成されており、磁
気プローブ１０の下面では開口部１５のみにおいて磁性
体１２が露出している。
Ｆｅ、ＦｅＳｉＡｌ、ＣｏＺｒＴａ、ＣｏＺｒＲｅ等の
Ｃｏ系非晶質材料等、軟磁気特性に優れ、比透磁率が１
０００以上と透磁率の高いものが好ましい。また、シー
ルド材１３の厚みは５００〜３０００ｎｍ程度が好まし
い。先端部１７には、その直径が０．１〜０．３μｍ程
度の平面視ほぼ円形の開口部１５が形成されており、磁
気プローブ１０の下面では開口部１５のみにおいて磁性
体１２が露出している。
【００２２】次に、図１に示した磁気プローブ１０の製
造方法を説明する。
造方法を説明する。
【００２３】図２（ａ）〜（ｅ）は、磁気プローブ１０
を製造する際の各工程を示した断面図である。
を製造する際の各工程を示した断面図である。
【００２４】まず、図２（ａ）に示したように、Ｓｉ等
からなる非磁性体に加工処理を施すことにより、支持体
１１を形成する。フォトリソグラフィの手法を用いて微
細な加工処理を施すことができる点から、支持体１１の
材料としてはＳｉが好ましい。下部支持体１１ｂをほぼ
円錐形状に加工するためには、Ｓｉの結晶面を利用した
ウエット又はドライプロセスでの異方性エッチングを用
いる。
からなる非磁性体に加工処理を施すことにより、支持体
１１を形成する。フォトリソグラフィの手法を用いて微
細な加工処理を施すことができる点から、支持体１１の
材料としてはＳｉが好ましい。下部支持体１１ｂをほぼ
円錐形状に加工するためには、Ｓｉの結晶面を利用した
ウエット又はドライプロセスでの異方性エッチングを用
いる。
【００２５】次に、図２（ｂ）に示したように、支持体
１１の下面をスパッタ法により約１０〜５００ｎｍの厚
みの磁性体１２を被覆する。磁性体１２の種類は磁気プ
ローブ１０の用途に合わせて選択する。
１１の下面をスパッタ法により約１０〜５００ｎｍの厚
みの磁性体１２を被覆する。磁性体１２の種類は磁気プ
ローブ１０の用途に合わせて選択する。
【００２６】次に、図２（ｃ）に示したように、磁性体
１２の上にスパッタ法により磁性体１２を被覆するシー
ルド材１３を形成する。
１２の上にスパッタ法により磁性体１２を被覆するシー
ルド材１３を形成する。
【００２７】次に、イオンビームエッチングによりシー
ルド材１３で被覆された先端部１７をエッチングする。
その方法としては、図２（ｄ）に示したように、アルゴ
ンイオンからなるイオンビーム１６をシールド材１３に
照射するが、このときイオンビーム１６が円錐形状部の
斜面にほぼ垂直の角度になるように照射する。このとき
先端部１７では、イオンビーム１６の入射角度が低くな
り、実効エッチング速度が速くなるため、先端部１７が
選択的にエッチングされる。
ルド材１３で被覆された先端部１７をエッチングする。
その方法としては、図２（ｄ）に示したように、アルゴ
ンイオンからなるイオンビーム１６をシールド材１３に
照射するが、このときイオンビーム１６が円錐形状部の
斜面にほぼ垂直の角度になるように照射する。このとき
先端部１７では、イオンビーム１６の入射角度が低くな
り、実効エッチング速度が速くなるため、先端部１７が
選択的にエッチングされる。
【００２８】その結果、図２（ｅ）に示したように、先
端部１７のみシールド材１３が除去され、磁性体１２が
露出した部分（開口部１５）を有する磁気プローブ１０
が製造される。
端部１７のみシールド材１３が除去され、磁性体１２が
露出した部分（開口部１５）を有する磁気プローブ１０
が製造される。
【００２９】次に、本発明に係る磁気プローブの別の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【００３０】図３は実施の形態（２）に係る磁気プロー
ブを模式的に示した断面図である。この磁気プローブ２
０は、図８に示した磁気プローブ４０の下面が先端部１
７（開口部１５）を除いてシールド材１３で被覆された
構成となっている。この磁気プローブ２０のシールド材
１３の厚み及び開口部１５の大きさは図１に示した磁気
プローブ１０の場合と同様であり、開口部１５を形成す
る方法も磁気プローブ１０の場合と同様である。
ブを模式的に示した断面図である。この磁気プローブ２
０は、図８に示した磁気プローブ４０の下面が先端部１
７（開口部１５）を除いてシールド材１３で被覆された
構成となっている。この磁気プローブ２０のシールド材
１３の厚み及び開口部１５の大きさは図１に示した磁気
プローブ１０の場合と同様であり、開口部１５を形成す
る方法も磁気プローブ１０の場合と同様である。
【００３１】次に、実施の形態（１）に係る磁気プロー
ブ１０を用いて、磁気記録媒体からの磁化情報を得る方
法を説明する。図４は磁気記録媒体１４の表面近傍に位
置させた磁気プローブ１０（図１）と磁気記録媒体１４
との相互作用を模式的に示した断面図である。
ブ１０を用いて、磁気記録媒体からの磁化情報を得る方
法を説明する。図４は磁気記録媒体１４の表面近傍に位
置させた磁気プローブ１０（図１）と磁気記録媒体１４
との相互作用を模式的に示した断面図である。
【００３２】図９に示した磁気記録媒体１４と同様、磁
気記録媒体１４には上向き又は下向きに磁化された磁区
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄが形成され、この磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに
よりそれぞれ磁場が形成されている。磁気プローブ１０
の先端部１７には磁性体１２が露出した開口部１５が形
成されているため、磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにより形成され
た磁場と開口部１５から露出した磁性体１２との間で磁
気力が発生する。
気記録媒体１４には上向き又は下向きに磁化された磁区
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄが形成され、この磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに
よりそれぞれ磁場が形成されている。磁気プローブ１０
の先端部１７には磁性体１２が露出した開口部１５が形
成されているため、磁区Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄにより形成され
た磁場と開口部１５から露出した磁性体１２との間で磁
気力が発生する。
【００３３】そして、この開口部１５の直径は０．１μ
ｍ程度と極めて小さく絞られているため、開口部１５を
磁区Ｂの上に位置させると、開口部１５は磁区Ｂの上の
みに位置し、磁区Ｂのみからの磁場を検知する。また、
開口部１５の周囲はシールド材１３で覆われているた
め、周辺部１８が磁区Ａや磁区Ｃからの磁束を拾うこと
はない。すなわち磁区Ａや磁区Ｃからの磁場は、シール
ド材１３により遮蔽され、磁気プローブ１０がこれらの
磁場を検知することはなく、極所的な磁区Ｂからの磁場
を磁性体１２で拾うことができる。
ｍ程度と極めて小さく絞られているため、開口部１５を
磁区Ｂの上に位置させると、開口部１５は磁区Ｂの上の
みに位置し、磁区Ｂのみからの磁場を検知する。また、
開口部１５の周囲はシールド材１３で覆われているた
め、周辺部１８が磁区Ａや磁区Ｃからの磁束を拾うこと
はない。すなわち磁区Ａや磁区Ｃからの磁場は、シール
ド材１３により遮蔽され、磁気プローブ１０がこれらの
磁場を検知することはなく、極所的な磁区Ｂからの磁場
を磁性体１２で拾うことができる。
【００３４】この磁気力を従来の技術でも説明したよう
に、例えばレーザ光を用いることにより検出するが、こ
の場合、磁区Ｂのみの磁化情報が検出されることにな
る。
に、例えばレーザ光を用いることにより検出するが、こ
の場合、磁区Ｂのみの磁化情報が検出されることにな
る。
【００３５】
【実施例及び比較例】以下、実施例に係る磁気プローブ
及びその製造方法を説明する。本実施例においては、実
施の形態（１）に係る磁気プローブ１０と同様のものを
製造し、この磁気プローブ１０を用いて磁気記録媒体の
磁気構造の検出を行った。以下にその条件を記載する。
及びその製造方法を説明する。本実施例においては、実
施の形態（１）に係る磁気プローブ１０と同様のものを
製造し、この磁気プローブ１０を用いて磁気記録媒体の
磁気構造の検出を行った。以下にその条件を記載する。
【００３６】 （１） 磁気プローブの製造条件 支持体１１の材料：Ｓｉ 磁性体１２の材料：ＣｏＮｉ合金（Ｃｏ：７０ｗｔ％、Ｎｉ：３０ｗｔ％） 厚み：約２００ｎｍ シールド材１３の材料：ＮｉＦｅ合金（Ｆｅ：１８ｗｔ％、Ｎｉ：８２ｗｔ％） 厚み：約３００ｎｍ 開口部１５の形成 イオンビームの種類：アルゴンイオン 照射条件 加速電圧：５００Ｖ （２） 磁気プローブの形状 円錐形状部の裾の部分の直径：約２０μｍ 円錐形状部の高さ：約２０μｍ 先端部１７の曲率半径：約０．５μｍ 開口部１５の直径：約０．１μｍ なお、比較例に係る磁気プローブとして、図７に示した
ものと同様の磁気プローブ３０を製造し、この磁気プロ
ーブ３０を用いて磁気記録媒体の磁気構造の検出を行っ
た。製造条件はシールド材を形成しない点を除いて、実
施例の場合と同様であり、円錐形状部の裾の部分の直
径、高さ及び先端部１７の曲率半径も実施例の場合と同
様である。
ものと同様の磁気プローブ３０を製造し、この磁気プロ
ーブ３０を用いて磁気記録媒体の磁気構造の検出を行っ
た。製造条件はシールド材を形成しない点を除いて、実
施例の場合と同様であり、円錐形状部の裾の部分の直
径、高さ及び先端部１７の曲率半径も実施例の場合と同
様である。
【００３７】図５は実施例に係る磁気プローブ１０を用
いて磁気記録媒体の表面磁化状態を調べた結果を示す図
であり、図６は比較例に係る磁気プローブ３０を用いて
磁気記録媒体の表面磁化状態を調べた結果を示す図であ
る。
いて磁気記録媒体の表面磁化状態を調べた結果を示す図
であり、図６は比較例に係る磁気プローブ３０を用いて
磁気記録媒体の表面磁化状態を調べた結果を示す図であ
る。
【００３８】図５及び図６より明らかなように、実施例
に係る磁気プローブ１０を使用したものでは、コントラ
ストの良い磁区像が得られているが、比較例に係る磁気
プローブ３０を使用したものでは、コントラストも悪く
シャープな磁区像が得られていない。
に係る磁気プローブ１０を使用したものでは、コントラ
ストの良い磁区像が得られているが、比較例に係る磁気
プローブ３０を使用したものでは、コントラストも悪く
シャープな磁区像が得られていない。
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気プローブを模式
的に示した断面図である。
的に示した断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、磁気プローブを製造する際
の各工程を示した断面図である。
の各工程を示した断面図である。
【図３】別の実施の形態に係る磁気プローブを模式的に
示した断面図である。
示した断面図である。
【図４】磁気記録媒体の表面近傍に位置させた磁気プロ
ーブと磁気記録媒体との相互作用を模式的に示した断面
図である。
ーブと磁気記録媒体との相互作用を模式的に示した断面
図である。
【図５】実施例に係る磁気プローブを用いて磁気記録媒
体の表面磁化状態を調べた結果を示す図である。
体の表面磁化状態を調べた結果を示す図である。
【図６】比較例に係る磁気プローブを用いて磁気記録媒
体の表面磁化状態を調べた結果を示す図である。
体の表面磁化状態を調べた結果を示す図である。
【図７】従来より磁気力顕微鏡に用いられている磁気プ
ローブを模式的に示した断面図である。
ローブを模式的に示した断面図である。
【図８】従来の磁気プローブの別の一例を模式的に示し
た断面図である。
た断面図である。
【図９】磁気記録媒体の表面近傍に位置させた従来の磁
気プローブと磁気記録媒体との相互作用を模式的に示し
た断面図である。
気プローブと磁気記録媒体との相互作用を模式的に示し
た断面図である。
１０、２０ 磁気プローブ １１ 支持体 １２ 磁性体 １３ シールド材 １５ 開口部
Claims (2)
- 【請求項１】 支持体と、該支持体に形成された磁性体
と、該磁性体の一部を露出させる開口部を除いて前記磁
性体を磁気的に遮蔽するシールド材とからなることを特
徴とする磁気プローブ。 - 【請求項２】 支持体上に磁性体を形成し、該磁性体上
の全面に該磁性体を磁気的に遮蔽するシールド材を形成
した後、該シールド材で被覆された先端部分を選択的に
エッチングするようにイオンビームを照射することを特
徴とする請求項１記載の磁気プローブの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33410695A JPH09152474A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 磁気プローブ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33410695A JPH09152474A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 磁気プローブ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09152474A true JPH09152474A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18273598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33410695A Pending JPH09152474A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 磁気プローブ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09152474A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002357529A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Olympus Optical Co Ltd | Ｓｐｍカンチレバー |
| JP2010032368A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁場分布測定装置 |
| JP2011117872A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Toshiba Corp | 渦電流探傷プローブおよびそれを用いた渦電流探傷試験装置 |
| CN102778589A (zh) * | 2011-05-09 | 2012-11-14 | 株式会社日立高新技术 | 磁力显微镜用悬臂及其制造方法 |
| JP2013137318A (ja) * | 2013-02-12 | 2013-07-11 | Toshiba Corp | 渦電流探傷プローブおよびそれを用いた渦電流探傷試験装置 |
| CN111089988A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-05-01 | 季华实验室 | 一种高均匀性磁性探针及其制备方法 |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP33410695A patent/JPH09152474A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN111089988A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-05-01 | 季华实验室 | 一种高均匀性磁性探针及其制备方法 |
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