JPH09146087A - Reflection type liquid crystal display device and its production - Google Patents

Reflection type liquid crystal display device and its production

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JPH09146087A
JPH09146087A JP7305880A JP30588095A JPH09146087A JP H09146087 A JPH09146087 A JP H09146087A JP 7305880 A JP7305880 A JP 7305880A JP 30588095 A JP30588095 A JP 30588095A JP H09146087 A JPH09146087 A JP H09146087A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display device
crystal display
reflective
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP7305880A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ran Richiyaado
ラン リチャード
Yuzo Hisatake
雄三 久武
Ryoichi Watanabe
良一 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7305880A priority Critical patent/JPH09146087A/en
Publication of JPH09146087A publication Critical patent/JPH09146087A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a display device having a simple structure and high reflec tion characteristic by forming a reflection layer on a substrate having a rugged surface, of which height, depth and width of the ruggedness respectively have specific values or below, and constituting the device in such a manner that the ruggedness formed by a melt method coexists on this rugged surface. SOLUTION: This device has the substrate 1, a liquid crystal layer and the reflection layer for reflecting the light transmitted through this liquid crystal layer. This reflection layer is formed on the substrate having the rugged surface 3 of approximately <=0.5μm in the height, depth and width of the ruggedness. The ruggedness formed by the melt method coexists on this rugged surface 3. Namely, the reflection layer is so formed that the shapes consisting of the spherical crown shapes 2 by the melt method or the similar shapes to obtain an equivalent effect (the min. constituting unit viewed flatly consists of circular, triangular, square, pentagonal, hexagonal, rectangular, elliptic and other shapes and the shapes similar to the spherical crows when viewed sidewise) and the shapes 3 of a rough substrate or the like to provide the extreme value of reflectivity on the front surface coexist flatly.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective liquid crystal display device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(以下LCDと略称)はワ
ードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、投影型T
V、小型TV等に広く利用されているが、近年、バック
ライト不要の反射型LCDが注目されている。反射型L
CDは、OA機器等の表示においてバックライトを必要
としないため、消費電力の低減が実現でき、携帯用に適
している。反射型LCDは外光の光を利用しているた
め、LCD自体の反射率が低いと実用上問題となる。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices (hereinafter abbreviated as LCD) are word processors, personal computers, and projection type T's.
Although it is widely used for V, small TVs, etc., in recent years, a reflective LCD that does not require a backlight has been drawing attention. Reflective type L
Since a CD does not require a backlight for displaying on OA equipment or the like, it can reduce power consumption and is suitable for being carried. Since the reflective LCD utilizes the light of the outside light, if the reflectance of the LCD itself is low, it poses a practical problem.

【0003】反射型LCDを、LCD自体の反射率の観
点から分類すると、偏光板を2枚用いる表示モード、1
枚用いる表示モード、用いない表示モードの3モードに
分類できる。
When the reflective LCD is classified from the viewpoint of the reflectance of the LCD itself, a display mode using two polarizing plates,
It can be classified into three modes: a display mode in which one sheet is used and a display mode in which it is not used.

【0004】偏光板を2枚用いる表示モードとしては、
例えば図13に示すTN型LCDがある。ここで液晶セル
31は、電極34、35に挾まれた液晶層36、32枚の透明基板
32、33からなり、透明基板の両外側に1対の偏光板371
、372 が貼付されており、さらに一方の偏光板372 の
外面に反射板38が配置されている。図は電極のある変調
部Aと電極のない領域の非変調部Bからなる一画素領域
pを示している。このTN型LCDは光路Lが、偏光板
371 、372 を計4回通過する。これらの部分の透過率の
うち、偏光板の透過率は少なくとも1回分は原理的に50
%以下であり、例えば偏光子の機能を果たす偏光板は実
際は40数%である。他の偏光板や基板においてもそれ自
身の吸収があるので、反射率は著しく低い。
As a display mode using two polarizing plates,
For example, there is a TN type LCD shown in FIG. Liquid crystal cell here
31 is a liquid crystal layer 36 sandwiched between electrodes 34 and 35, and 32 transparent substrates
It consists of 32 and 33, and a pair of polarizing plates 371 on both outer sides of the transparent substrate.
, 372 are attached, and the reflection plate 38 is arranged on the outer surface of one polarizing plate 372. The figure shows one pixel region p consisting of a modulation part A having an electrode and a non-modulation part B having no electrode. In this TN LCD, the optical path L is a polarizing plate.
Pass 371 and 372 four times in total. Of the transmittances of these parts, the transmittance of the polarizing plate is theoretically 50 at least once.
% Or less, and for example, a polarizing plate that functions as a polarizer is actually 40% or more. Since other polarizing plates and substrates also have their own absorption, the reflectance is extremely low.

【0005】偏光板を1枚用いる表示モードとしては、
例えば、図14に示す偏光板1枚モードECB型LCDで
あり、図13と同一符号は同様部分を示す。他の図も同様
である。前記TN型LCDと比較して光路的に、偏光板
371 は2回、基板32も2回しか通過しない。前記TN型
LCD同様偏光板の透過率は少なくとも1回分は、原理
的に50%以下であり、実際には40数%である。しかしな
がら光路的に、偏光板2回、基板2回分の光吸収を削減
できることから前記TN型LCDよりは、若干反射率が
高い。
As a display mode using one polarizing plate,
For example, it is an ECB type LCD with one polarizing plate mode shown in FIG. 14, and the same reference numerals as those in FIG. 13 indicate the same parts. The same applies to the other figures. Polarizing plate in optical path compared to the TN LCD
The 371 only passes twice and the substrate 32 only twice. As in the case of the TN LCD, the transmittance of the polarizing plate is 50% or less in principle at least once, and actually is 40% or more. However, in terms of the optical path, it is possible to reduce the light absorption for two times of the polarizing plate and two times of the substrate, so that the reflectance is slightly higher than that of the TN type LCD.

【0006】これらと比較して偏光板を用いない表示モ
ードは、例えば図15に示すPC−GH型LCD、図16に
示すGH−HOMO型LCD、図17に示す2層型GH−
HOMO型LCD等がある。いずれの方式も偏光板を用
いないので、前記偏光板を用いるモードのように透過率
が少なくとも1回分は50%以下であり、実際は40数%で
ある偏光板を用いない分だけ明るくなる。また、前記図
14の偏光板1枚モードECB型LCD同様、基板2回分
の光吸収を削減することができる。従って前記偏光板を
用いる表示モードと比較して、反射率が著しく高くな
る。
Compared with these, the display mode not using a polarizing plate is, for example, a PC-GH type LCD shown in FIG. 15, a GH-HOMO type LCD shown in FIG. 16, and a two-layer type GH-type shown in FIG.
There is a HOMO type LCD and the like. Since neither of the methods uses a polarizing plate, the transmittance is 50% or less at least once as in the mode using the polarizing plate, and the light is brighter as much as the polarizing plate which is actually 40% is not used. Also, the above figure
As with the 14-polarizer single-mode ECB LCD, it is possible to reduce light absorption for two times of the substrate. Therefore, the reflectance is significantly higher than that in the display mode using the polarizing plate.

【0007】しかしながら、図15に示すPC−GH型L
CDは、暗状態を得るために液晶層61の液晶材料に極め
て強いカイラリティを与えて、強い螺旋構造の分子配列
としている。個々で符号LMは液晶分子、GHは染料を
示している。これを明状態にするには、この強い螺旋構
造をほどいて、且つ液晶分子LMを垂直にチルトさせる
必要がある。したがって極めて高い電圧を印加する必要
があり、実用的に表示容量の大きいディスプレーには応
用できない。
However, the PC-GH type L shown in FIG.
The CD gives the liquid crystal material of the liquid crystal layer 61 extremely strong chirality to obtain a dark state, and has a molecular arrangement of a strong spiral structure. Reference numeral LM indicates liquid crystal molecules and GH indicates a dye. In order to bring this into a bright state, it is necessary to unwind this strong spiral structure and tilt the liquid crystal molecules LM vertically. Therefore, it is necessary to apply an extremely high voltage, which cannot be practically applied to a display having a large display capacity.

【0008】また、カイラリティを与えて、強い螺旋構
造の分子配列である状態及び、極めて高い電圧を印加し
て前記強い螺旋構造をほどいた状態の2状態ともに、あ
る程度の安定性があり、電気光学特性(印加電圧に対す
る反射率若しくは透過率特性)にヒステリシスを生じ
る。このために、中間調表示(階調表示)が困難である
問題を持っている。
In addition, there is a certain degree of stability both in a state in which the molecular arrangement has a strong helical structure by giving chirality and in a state in which the strong helical structure is unwound by applying an extremely high voltage, and there is a certain degree of stability. Hysteresis occurs in the characteristics (reflectance or transmittance characteristics with respect to applied voltage). For this reason, there is a problem that halftone display (gradation display) is difficult.

【0009】また、図16に示すGH−HOMO型LCD
は液晶層362 が一方向の偏光成分しか吸収しないので、
暗状態の明るさは、明状態の半分以上になり、コントラ
スト比は2:1以下と極めて低い値になり実用的でな
い。
A GH-HOMO type LCD shown in FIG.
Since the liquid crystal layer 362 only absorbs the polarized component in one direction,
The brightness in the dark state is more than half that in the bright state, and the contrast ratio is extremely low at 2: 1 or less, which is not practical.

【0010】また、図17に示す2層型GH−HOMO型
LCDは図16に示すGH−HOMO型LCDと異なり配
向を交差させた2層の液晶層362 、362 を用いることに
より2方向の偏光成分を吸収でき、高いコントラストが
得られるが、2層の液晶層ともに駆動する必要があり、
2層の液晶層間の基板2aの厚み分の視差が生じる。よ
って高精細表示には応用できないし、コストも高くな
る。
The two-layer GH-HOMO LCD shown in FIG. 17 is different from the GH-HOMO LCD shown in FIG. 16 in that two layers of liquid crystal layers 362 and 362 having crossed orientations are used to polarize light in two directions. Can absorb components and obtain high contrast, but both liquid crystal layers need to be driven,
A parallax corresponding to the thickness of the substrate 2a occurs between the two liquid crystal layers. Therefore, it cannot be applied to high-definition display and the cost becomes high.

【0011】また、コールとカシュノウ(H.S.ColeとR.
A.Kashnow Applied Physics Letters, vol.30, No.20,
pp619-621(15 June 1977))は、GH−HOMO型LCD
に4分の一波長板と拡散反射板を加えた構成の反射型L
CDを提案している。このLCDの構成を図18に示す。
図18に示す反射型LCDは,図19に示す様に液晶セルの
液晶層62を出射した入射光Liが,4分の1波長板39を
透過し、拡散反射板38でLrとして反射され、再び4分
の1波長板39を透過することによって、位相を2分の1
ずらされ、再び液晶セル31に入射する機能を得るもので
ある。ここで直線偏光のみが4分の1波長板39によって
位相が変化する。よって、図17に示す2層型GH−HO
MO型LCDと同様の光制御が1層の液晶層362 すなわ
ち1層の液晶セル31で得られるものである。
Cole and Kashnow (HS Cole and R.
A. Kashnow Applied Physics Letters, vol.30, No.20,
pp619-621 (15 June 1977)) is a GH-HOMO type LCD.
Reflective type L consisting of a quarter-wave plate and a diffuse reflector
Proposing a CD. The structure of this LCD is shown in FIG.
In the reflective LCD shown in FIG. 18, as shown in FIG. 19, incident light Li emitted from the liquid crystal layer 62 of the liquid crystal cell passes through the quarter-wave plate 39 and is reflected by the diffuse reflection plate 38 as Lr. By transmitting again through the quarter-wave plate 39, the phase is halved.
The function to shift and enter the liquid crystal cell 31 again is obtained. Here, only the linearly polarized light changes its phase by the quarter-wave plate 39. Therefore, the two-layer type GH-HO shown in FIG.
The same light control as that of the MO type LCD is obtained by the single liquid crystal layer 362, that is, the single liquid crystal cell 31.

【0012】これら反射型LCDは必然的に光を反射さ
せる反射層を形成している。一般的に反射層はセルの外
面に貼り付けた反射面からなる反射板として従来は、ア
ルミホイルをプラスチックフィルムに貼り付けた構造
や、表面に凹凸を設けたプラスチックにアルミニウムを
蒸着した構造、さらに白色の上質紙等を用いている。ま
た、セル内面にアルミニウムを蒸着した構造と同様に基
板表面に凹凸を設け、その上にアルミニウムを蒸着し反
射層とすることも提案されている。この場合、この反射
層自体を電極として用いる方式(反射電極)と反射層と
は別に電極を形成する方式(この場合、反射層は反射
膜)とがある。
These reflective LCDs necessarily form a reflective layer that reflects light. Generally, the reflection layer is a reflection plate consisting of a reflection surface attached to the outer surface of the cell, and conventionally, a structure in which an aluminum foil is attached to a plastic film, a structure in which aluminum is vapor-deposited on a plastic with unevenness on the surface, White fine paper is used. It has also been proposed to provide irregularities on the substrate surface similarly to the structure in which aluminum is vapor-deposited on the inner surface of the cell, and aluminum is vapor-deposited thereon to form a reflective layer. In this case, there are a method of using the reflection layer itself as an electrode (reflection electrode) and a method of forming an electrode separately from the reflection layer (in this case, the reflection layer is a reflection film).

【0013】前述したアルミホイルをプラスチックフィ
ルムに貼り付けた反射板や、表面に凹凸を設けたプラス
チックにアルミニウムを蒸着した反射板は、前記いずれ
の表示モードにも応用されており、セル内面の基板表面
に凹凸を設け、その上にアルミニウムを蒸着して反射層
とするものが、偏光板一枚モードECB型LCDや、P
C−GH型LCDや、GH−HOMO型LCDや、2層
型GH−HOMO型LCDへ応用することが検討されて
いる。これらの表示モードは反射層と液晶層の間に光制
御を行う光学媒体(偏光板や位相差板)を必要としない
ため、光学媒体を反射層上、つまりセル内面に形成する
必要が無く比較的容易にセルを作製することが可能であ
る。
The above-mentioned reflector having the aluminum foil attached to the plastic film and the reflector having aluminum vapor-deposited on the plastic having the uneven surface are applied to any of the above-mentioned display modes, and the substrate on the inner surface of the cell is used. One having a polarizing plate single mode ECB type LCD or P
Application to C-GH type LCD, GH-HOMO type LCD, and two-layer type GH-HOMO type LCD is under study. Since these display modes do not require an optical medium (polarizing plate or retardation plate) for controlling light between the reflective layer and the liquid crystal layer, there is no need to form the optical medium on the reflective layer, that is, on the inner surface of the cell. It is possible to easily manufacture a cell.

【0014】また、白色の上質紙からなる反射板h、反
射層における光反射が表示の明暗を制御する光制御にか
かわっていない表示モード、つまり偏光板1枚モードE
CB型LCDやGH−HOMO型LCDに4分の1波長
板と拡散反射板を加えた構成の反射型LCD以外の表示
モードへの応用がなされている。
In addition, a display mode in which the reflection plate h made of white high-quality paper and the light reflection in the reflection layer are not involved in the light control for controlling the brightness of the display, that is, the single-polarizer mode E
It has been applied to display modes other than the reflection type LCD having a configuration in which a quarter wavelength plate and a diffuse reflection plate are added to the CB type LCD or the GH-HOMO type LCD.

【0015】これら反射型LCDにおける反射層は、表
示の「明るさ」及び「コントラスト比」特性、及びそれ
らの視角依存性、光源とLCDとの角度依存性に大きく
影響を及ぼす。
The reflective layer in these reflective LCDs greatly affects the "brightness" and "contrast ratio" characteristics of the display, their viewing angle dependence, and the angle dependence between the light source and the LCD.

【0016】従来の反射型LCDに用いられる反射層
は、前述した表示の「明るさ」及び「コントラスト比」
特性、及びそれらの視角依存性、光源とLCDとの角度
依存性が十分なものではなく、「明るさ」及びそれらの
視角依存性、光源とLCDとの角度依存性を決め得る反
射層の反射率及びそれらの視角依存性、光源LCDとの
角度依存性は低く狭いものであり、したがって「コント
ラスト比」についても同様悪かった。さらに、反射層に
おける光反射が表示の明暗を制御する光制御にかかわっ
ている表示モード、つまり偏光板1枚モードECB型L
CDやGH−HOMO型LCDに4分の1波長板と拡散
反射板を加えた構成の反射型LCDに従来の反射層を用
いた場合は、反射層で光が反射する際に、反射層に入射
した光の偏光状態が著しく変化して反射され、表示の制
御に影響して「コントラスト比」特性を低下させてい
た。
The reflective layer used in the conventional reflective LCD has the "brightness" and "contrast ratio" of the above-mentioned display.
The characteristics and their viewing angle dependency, the angle dependency between the light source and the LCD are not sufficient, and the "brightness" and their viewing angle dependency, the reflection of the reflective layer that can determine the angle dependency between the light source and the LCD The rates, their viewing angle dependence, and the angle dependence with the light source LCD are low and narrow, and therefore the "contrast ratio" was also poor. Further, the display mode in which the light reflection in the reflective layer is involved in the light control for controlling the brightness of the display, that is, the single-polarizer mode ECB type L
When a conventional reflection layer is used in a reflection type LCD having a structure in which a quarter wave plate and a diffuse reflection plate are added to a CD or GH-HOMO type LCD, when the light is reflected by the reflection layer, the reflection layer is used as a reflection layer. The polarization state of the incident light is remarkably changed and reflected, which affects the control of display and deteriorates the "contrast ratio" characteristic.

【0017】また、偏光状態を維持した反射層として特
願平7−22762号が提案されている。反射層は多数
の球冠形状をした凸部のハニカム構成をしており、偏光
を維持しつつ効率よく光を反射する。さらに2種類の球
冠1画素内で混合し、視野特性を改善する提案が特願平
7−244567号にてされている。
Further, Japanese Patent Application No. 7-22762 is proposed as a reflective layer which maintains the polarization state. The reflective layer has a honeycomb structure of a large number of convex portions having a spherical crown shape, and efficiently reflects light while maintaining polarized light. Further, Japanese Patent Application No. 7-244567 proposes to improve visual field characteristics by mixing two kinds of spherical caps in one pixel.

【0018】また、特開平4−243226号公報によ
れば、凸部をレジストを露光し、熱を加えてメルトする
ことにより作成することが記載されている。この方法に
よれば大面積の反射板を均一に作成することができる。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-243226 describes that the convex portion is formed by exposing the resist to light and then applying heat to melt it. According to this method, a large-area reflecting plate can be uniformly formed.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】従来の反射型LCDに
用いられる反射層は、表示の「明るさ」及び「コントラ
スト比」特性、及びそれらの視角依存性、光源とLCD
との角度依存性が十分なものはなく、特に反射層におけ
る光反射が表示の明暗を制御する光制御に係わっていな
い表示モード、つまりは偏光板1枚モードECB型LC
DやGH−HOMO型LCDに4分の1波長板と拡散反
射板を加えた構成の反射型LCDの表示モードに従来の
反射層を用いた場合は、反射層で光が反射する際に、反
射層に、入射した光の偏光状態が著しく変化して反射さ
れ、表示の制御に影響して「コントラスト比」特性を低
下させていた。この課題を改善する方法として特願平7
−22762号や特願平7−244567号が提案され
ているが、反射率の角度依存性は十分ではない。
The reflective layer used in the conventional reflective LCD is the "brightness" and "contrast ratio" characteristics of the display and their viewing angle dependence, the light source and the LCD.
The ECB type LC has a display mode that does not have a sufficient angle dependence with respect to the display mode, and in particular, the light reflection in the reflection layer is not involved in the light control for controlling the brightness of the display, that is, the single-polarizer mode.
When a conventional reflective layer is used for the display mode of a reflective LCD having a configuration in which a quarter-wave plate and a diffuse reflective plate are added to a D or GH-HOMO type LCD, when light is reflected by the reflective layer, The polarization state of the incident light is remarkably changed and reflected by the reflective layer, which affects the control of display and deteriorates the "contrast ratio" characteristic. As a method for improving this problem, Japanese Patent Application No. 7
No. 22762 and Japanese Patent Application No. 7-244567 have been proposed, but the angle dependence of the reflectance is not sufficient.

【0020】本発明は、これらの問題点を改善、解決
し、反射型LCDに用いる反射層は、表示の「明るさ」
および「コントラスト比」特性、及びそれらの角度依存
性、光源とLCDとの角度依存性が著しく優れた反射型
LCDに用いる反射層の構成、構造及びその製造方法を
提案することを目的とする。
The present invention solves and solves these problems, and the reflective layer used in the reflective LCD has a "brightness" of display.
It is an object of the present invention to propose a structure, a structure, and a manufacturing method of a reflective layer used in a reflective LCD, which is excellent in "contrast ratio" characteristics, their angular dependence, and the angular dependence between a light source and an LCD.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述した問題
点を解決する手段として、1対の基板と、この1対の基
板の間に挾持される液晶層と、この液晶層を透過した光
を反射する反射層とを有する反射型液晶表示装置におい
て、この反射層は、凹凸の高さ、深さ、幅それぞれが、
略 0.5μm以下の凹凸面を有する基板上であって、この
凹凸面上にはメルト法により形成された凹凸が混在して
いることを特徴とする反射型液晶表示装置である。
According to the present invention, as a means for solving the above-mentioned problems, a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and a liquid crystal layer transmitted through the liquid crystal layer. In a reflective liquid crystal display device having a reflective layer that reflects light, the reflective layer has a height, a depth, and a width of unevenness,
A reflective liquid crystal display device is characterized in that it is on a substrate having an uneven surface of approximately 0.5 μm or less, and unevenness formed by a melt method is mixed on this uneven surface.

【0022】また他の実施態様においては、この前記反
射層は、その開孔直径が 0.5μm以下で且つその深さが
0.5μm以下である溝が複数からなる凹凸面上にメルト
法により形成された凹凸が混在していることを特徴とす
る反射型液晶表示装置である。 また他の発明において
は、1対の基板と、この1対の基板の間に挾持される液
晶層と、この液晶層を透過した光を反射する反射層とを
有する反射型液晶表示装置において、前記反射層は、平
坦な鏡面基板の上にメルト法からなる凹凸が構成されて
いることを特徴とする反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the reflective layer has an opening diameter of 0.5 μm or less and a depth of 0.5 μm or less.
A reflective liquid crystal display device is characterized in that unevenness formed by a melt method is mixed on an uneven surface having a plurality of grooves of 0.5 μm or less. In another invention, in a reflective liquid crystal display device having a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and a reflective layer that reflects light transmitted through the liquid crystal layer, The reflection layer is a reflection-type liquid crystal display device characterized in that unevenness formed by a melt method is formed on a flat mirror surface substrate.

【0023】また他の実施態様においては、この反射層
は、前記凹凸面はブラッグ反射を行なうことを特徴とす
る反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the reflection layer is a reflection type liquid crystal display device characterized in that the uneven surface performs Bragg reflection.

【0024】また他の実施態様においては、この反射層
はその凹凸面が、0<(凹凸面の面積)/(メルト法に
より形成された凹凸の広面の底面積の合計)≦0.5 の関
係にあることを特徴とする反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the reflecting layer has an uneven surface having a relation of 0 <(area of uneven surface) / (total bottom area of wide surface of unevenness formed by melt method) ≦ 0.5. A reflective liquid crystal display device characterized by the above.

【0025】他の実施態様においては、メルト法による
この凹凸は、その形状が平面的に見て、丸、三角形、四
角形、五角形、六角形、八角形、長方形、楕円のいずれ
かであり、且つ側面的に見て球冠状であることを特徴と
する反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the unevenness obtained by the melt method is a circle, a triangle, a quadrangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, a rectangle or an ellipse in a plan view, and The reflective liquid crystal display device is characterized in that it has a spherical crown shape in a side view.

【0026】他の実施態様においては、この凹凸はその
平面的形状が複数混在してなることを特徴とする反射型
液晶表示装置である。
In another embodiment, the unevenness is a reflection type liquid crystal display device characterized in that a plurality of planar shapes thereof are mixed.

【0027】他の実施態様においては、この凹凸は、そ
の主材が耐熱性の材料からなり、ブラッグ反射を起こす
ため、この主材上に高反射性金属を被着させたことを特
徴とする反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the unevenness is characterized in that the main material is made of a heat-resistant material and causes Bragg reflection, so that a highly reflective metal is deposited on the main material. It is a reflective liquid crystal display device.

【0028】他の実施態様においては、この反射層は、
液晶層を挾持する前記基板の一方に構成されていること
を特徴とする反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the reflective layer is
A reflective liquid crystal display device, characterized in that it is formed on one side of the substrate that holds a liquid crystal layer.

【0029】他の実施態様においては、この反射層は、
反射面上の部材の屈折率が1.6 以上であることを特徴と
する反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the reflective layer is
The reflective liquid crystal display device is characterized in that the refractive index of the member on the reflective surface is 1.6 or more.

【0030】他の実施態様においては、この液晶層は、
誘電異方性を有するネマティック液晶に2色性を有する
黒色系染料を天下してなり、且つ前記液晶層と前記反射
層との間には通過する光の位相を1/4波長ずらす1/
4波長位相差板を有することを特徴とする反射型液晶表
示装置である。
In another embodiment, the liquid crystal layer is
A nematic liquid crystal having dielectric anisotropy is filled with a black dye having dichroism, and the phase of light passing therethrough is shifted by 1/4 wavelength between the liquid crystal layer and the reflection layer.
A reflective liquid crystal display device having a four-wavelength phase difference plate.

【0031】他の実施態様においては、この反射層を前
記反射層と挾持する様に1枚の偏光板が構成されている
ことを特徴とする反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, a reflection type liquid crystal display device is characterized in that one polarizing plate is constituted so as to sandwich the reflection layer with the reflection layer.

【0032】他の実施態様においては、この液晶層を挾
持する様に2枚の偏光板が構成され、且つこの偏光板の
外側に前記反射層が構成されていることを特徴とする反
射型液晶表示装置である。
In another embodiment, a reflection type liquid crystal is characterized in that two polarizing plates are formed so as to hold the liquid crystal layer and the reflection layer is formed outside the polarizing plate. It is a display device.

【0033】他の実施態様においては、カラーフィルタ
ーが構成されていることを特徴とする反射型液晶表示装
置である。
In another embodiment, a reflective liquid crystal display device is characterized in that a color filter is formed.

【0034】他の実施態様においては、TFTまたはT
FDアクティブマトリックス素子を有することを特徴と
する反射型液晶表示装置である。
In another embodiment, the TFT or T
A reflective liquid crystal display device having an FD active matrix element.

【0035】他の実施態様においては、この反射層は、
アクティブマトリックス素子の上に画素電極として構成
されていることを特徴とする反射型液晶表示装置であ
る。
In another embodiment, the reflective layer is
A reflective liquid crystal display device characterized in that it is formed as a pixel electrode on an active matrix element.

【0036】他の実施態様においては、この反射層のそ
の表面は、アルミニウムまたは銀等からなる高反射性金
属から構成されていることを特徴とする反射型液晶表示
装置である。
In another embodiment, a reflective liquid crystal display device is characterized in that the surface of the reflective layer is made of a highly reflective metal such as aluminum or silver.

【0037】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法で
は、凹凸面を有する基板上に、レジストを被着し、所定
の手段により凹凸を形成し、この後高反射性の金属で被
覆し反射層を形成することを特徴とするものである。
In the method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device of the present invention, a resist is applied on a substrate having an uneven surface, the unevenness is formed by a predetermined means, and thereafter, the resist is coated with a highly reflective metal. It is characterized by forming a layer.

【0038】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法の
他の実施態様としてこの所定の手段は、凹凸を有する基
板表面に被着したレジストを、露光、現像、エッチング
し、凹凸を形成し、その後加温し、凹凸面をなだらかに
することを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法が
ある。
As another embodiment of the method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device of the present invention, the predetermined means is to expose, develop and etch a resist adhered to the surface of a substrate having irregularities to form irregularities, Then, there is a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device, which is characterized by heating and then smoothing the uneven surface.

【0039】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法の
他の実施態様として、この高反射性の金属を被覆する方
法は、スパッタリングまたは蒸着であることを特徴とす
る反射型液晶表示装置の製造方法がある。
As another embodiment of the method of manufacturing the reflective liquid crystal display device of the present invention, the method of coating the highly reflective metal is sputtering or vapor deposition. There is a way.

【0040】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法で
あって、この凹凸を加温する際には、加圧または減圧を
行なうことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法
がある。 また本発明の特徴部分である反射層をプロジ
ェクションスクリーンに用いれば、より鮮明な映像が得
られる。この具体的な構成は、プロジェクトスクリーン
が、凹凸の高さ、深さ、幅それぞれが略 0.5μm以下の
凹凸面(または開孔直径が略 0.5μmでその深さが略
0.5μmの溝からなる凹凸面)であって、この凹凸面上
にメルト法により形成された凹凸が混在していることに
よりなる。またプロジェクトスクリーンの他の実施態様
は、本発明の反射型液晶表示装置およびその製造方法と
同等である。以上において、メルト法とは、基板表面に
被熱溶融物質層を島状、メッシュ状、ストライプ状また
は乱れ形状等にパターニング形成し、熱により前記被熱
溶融性物質層を溶かし、表面張力によりその表面を湾曲
面に形成する方法である。湾曲面は基板に被着する部分
の面積形状を問わず、球冠状等になる。
There is a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device according to the present invention, characterized in that pressure is applied or pressure is reduced when heating the unevenness. Further, if a reflection layer, which is a feature of the present invention, is used in a projection screen, a clearer image can be obtained. In this concrete configuration, the project screen has an uneven surface with heights, depths, and widths of about 0.5 μm or less (or an opening diameter of about 0.5 μm and a depth of about 0.5 μm).
The uneven surface is formed by grooves of 0.5 μm), and the uneven surface formed by the melt method is mixed on the uneven surface. Another embodiment of the project screen is equivalent to the reflective liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention. In the above, the melt method is to form a layer of the heat-meltable substance on the surface of the substrate is patterned in an island shape, a mesh shape, a stripe shape or a disordered shape, to melt the heat-meltable substance layer by heat, the surface tension This is a method of forming a curved surface. The curved surface has a spherical crown shape or the like regardless of the area shape of the portion adhered to the substrate.

【0041】パターニングのレジストそのものを被熱溶
融物質層として、またはレジストをマスクとして別の被
熱溶融物質層をパターニング形成することができる。
The resist itself for patterning can be used as a heat-meltable substance layer or another heat-meltable substance layer can be patterned by using the resist as a mask.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施例について図面
を用いて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0043】ラフ(凹凸粒の大きさが(凹凸を山および
谷と考えた場合、その高さ、深さ、幅) 0.5μm以下の
凹凸からなる)基板の表面にA1を蒸着した反射板(日
東電工(株)製Mタイプ反射板)の反射率特性の測定結
果を図2に示す。
Rough (refractive irregularity grain size (when the irregularities are considered to be peaks and valleys, the height, depth, width) is 0.5 μm or less) A1 vapor-deposited reflector on the surface of the substrate ( FIG. 2 shows the measurement results of the reflectance characteristics of the N-type electric reflector manufactured by Nitto Denko Corporation.

【0044】また、図3はメルト法で作成した反射板の
反射率測定結果を示す。いずれの測定も図4に示す測定
系で行った。
FIG. 3 shows the results of measuring the reflectance of the reflector prepared by the melt method. Both measurements were performed by the measurement system shown in FIG.

【0045】ラフ基板を用いた反射板は正面の反射特性
が高く、ある程度の範囲内において高い反射率を得てい
る。しかしながら高い反射率を得ている角度(θ)の範
囲は狭い。これに対して、図3に示すメルト法による反
射板は反射率の視角特性に二つの極値を持つ。これはメ
ルト法による反射板の形状に起因するものである。図5
はこの原理(二つの極値をとる原理)を説明するための
概念図である。特願平7−22762号(ハニカム反射
板特許)に示すようにメルト法による反射板の表面形状
は中心角が90°以下の球冠であることが望ましい。球冠
である場合、図5に示す様に断面的に見て対称形の斜面
形状となる球冠の中心角が小さいほど、より斜面とみな
せることになり、反射光の分散性が弱まり大きな極値を
取ることになる。
The reflecting plate using the rough substrate has a high frontal reflection characteristic, and a high reflectance is obtained within a certain range. However, the range of the angle (θ) where the high reflectance is obtained is narrow. In contrast, the melting plate shown in FIG. 3 has two extreme values in the viewing angle characteristic of reflectance. This is due to the shape of the reflector by the melt method. FIG.
Is a conceptual diagram for explaining this principle (the principle of taking two extreme values). As shown in Japanese Patent Application No. 7-22762 (Honeycomb reflector plate patent), the surface shape of the reflector plate by the melt method is preferably a spherical crown having a central angle of 90 ° or less. In the case of a spherical crown, as shown in FIG. 5, the smaller the central angle of the spherical crown, which is a symmetric slope when viewed in cross section, the more it can be regarded as a slope, and the dispersion of reflected light is weakened, resulting in a large pole. Will take a value.

【0046】また、球冠の中心角を制御することにより
(二つの極値は常に発生するが)極値を取るθの値は制
御できる。
Further, by controlling the central angle of the spherical cap (although two extreme values are always generated), the value of θ taking the extreme value can be controlled.

【0047】以上のことから、ラフ基板による反射板と
メルト法による反射板を平面的に合成した反射板を作成
すれば、およそ図6に示すような反射特性が得られるこ
とになる。
From the above, if a reflecting plate in which a reflecting plate made of a rough substrate and a reflecting plate made by the melt method are combined two-dimensionally is prepared, the reflection characteristic as shown in FIG. 6 can be obtained.

【0048】こうした表面形状を平面的に混在させた反
射板の表面形状の一例を図1に示す。 図1に示す様
に、本発明の反射板(層)は基板1に第一の特徴として
メルト法による球冠状2もしくは同等の効果を得る同様
の形状(平面的に見て最小構成単位が円、三角形状、四
角形状、五角形状、六角形状、長方形状、楕円形状など
からなり側面的に見て球冠と同様の形状)からなる形状
とラフ基板のように正面に反射率の極値を得るような形
状3を平面的に混在されるようにしている。
FIG. 1 shows an example of the surface shape of a reflecting plate in which such surface shapes are mixed in a plane. As shown in FIG. 1, the reflector (layer) of the present invention has a substrate 1 having a spherical shape 2 as a first feature by the melt method or a similar shape (the minimum constitutional unit in plan view is a circle). , A triangular shape, a quadrangular shape, a pentagonal shape, a hexagonal shape, a rectangular shape, an elliptical shape and the like, which has a shape similar to a spherical crown when viewed from the side) and an extreme value of the reflectance on the front surface like a rough substrate. The shapes 3 to be obtained are mixed in a plane.

【0049】混在されることにより、前述した3つの極
値が合成されて優れた反射率の視角特性を得ることとな
る。
By being mixed, the above-mentioned three extreme values are combined to obtain an excellent visual angle characteristic of reflectance.

【0050】このように2種の形状を混合させる場合、
その面積的な混在比率は、それぞれの反射率特性(図
2、3参照)から決めればよい。前述した2種の反射板
は2次反射(反射層における反射の回数が2回以上であ
る反射)による光吸収は殆ど無いので、全体の反射光量
は双方とも、ほぼ同じ値となる。混在されることにより
相互間の影響も殆どない。したがって、双方の特性を単
純に面積比でもって合成すれば、図6に示す本発明の反
射板の視角特性が得られることになる。ラフ基板による
反射板(粒の大きさ< 0.5μm)は一つの極値しか持っ
ていないので、その極値における反射率は、メルト法の
反射板の極値における反射率の値のおよそ倍以上とな
る。したがって、反射率がある範囲の視角内でなるべく
一定であり、且つ、高い値とするにはラフ基板の反射面
の形状とメルト法による反射面の形状の混合比率SR/
SMは1/2以下とすることが望ましい。120mm ×90mm
にさい断した日東電工(株)製のNPF−F3225上
に東京応化工業(株)製のメルトレジスト(OFPR8
00:商品名)を、10μm厚となるようにラビングコー
トし、図16に示すパターンとなるよう露光現像した後、
90℃30分間のプリペークを行なった。しかる後、200 ℃
にて30分間の加熱を常圧(1atm)にて行ない、前記
メルトレジスト(OFPR800:商品名)を溶融し
た。その結果、前記NPF−F3225Mの素地上に中
心角70度底面の半径3.5 μmの球冠形状の凸部が前記メ
ルトレジスト(OFPR800:商品名)にてパターン
形成された。前記NPF−F3225M(商品名)が露
出した領域SR とメルトレジストの球冠パターン領域S
M の面積比はSR :SM =10:90であった。
When two types of shapes are mixed in this way,
The area mixture ratio may be determined from the respective reflectance characteristics (see FIGS. 2 and 3). Since the above-mentioned two types of reflectors have almost no light absorption due to secondary reflection (reflection in which the number of reflections in the reflection layer is two or more), the total amount of reflected light is substantially the same. Since they are mixed, there is almost no influence on each other. Therefore, if the two characteristics are simply combined by the area ratio, the viewing angle characteristics of the reflector of the present invention shown in FIG. 6 can be obtained. Since the reflector with rough substrate (grain size <0.5 μm) has only one extreme value, the reflectance at that extreme value is more than about twice the reflectance value at the extreme value of the melt method reflector. Becomes Therefore, in order to make the reflectance as constant as possible within a certain viewing angle range and to have a high value, the mixing ratio SR / of the shape of the reflecting surface of the rough substrate and the shape of the reflecting surface by the melt method
It is desirable that SM be 1/2 or less. 120mm x 90mm
Nitto Denko Co., Ltd.'s NPF-F3225, which was cut off, was melted by Tokyo Ohka Kogyo's melt resist (OFPR8).
00: product name) is rubbed coated to have a thickness of 10 μm, exposed and developed to have a pattern shown in FIG.
Pre-baking was performed at 90 ° C. for 30 minutes. After that, 200 ℃
Was heated for 30 minutes at normal pressure (1 atm) to melt the melt resist (OFPR800: trade name). As a result, spherical crown-shaped projections having a central angle of 70 degrees and a radius of 3.5 μm were patterned on the substrate of NPF-F3225M with the melt resist (OFPR800: trade name). The area S R where the NPF-F3225M (trade name) is exposed and the spherical surface pattern area S of the melt resist
The area ratio of M was S R : S M = 10: 90.

【0051】しかる後、常温でアルミニウムを2000A蒸
着して、本発明の反射板を得た。このアルミニウムによ
り、ブラッグ反射(結晶の空間格子面群のなかの一群の
平行な格子面の間隔をdとし、この格子面群による反射
波を考えるとき、視射角(入射の余角)をθ、入射X線
または入射粒子の波長をλ、nを正の整数とすれば、ブ
ラッグ条件2dsin θ=nλが成立するとき、各格子面
からの反射波が同位相になって強めあうので、その方向
に回折が現われる。これをブラッグ反射とよぶ。(岩波
理化学辞典第4版より))が生じる。
Thereafter, 2000 A of aluminum was vapor-deposited at room temperature to obtain the reflector of the present invention. With this aluminum, the spacing between parallel lattice planes of a group of spatial lattice planes of the crystal is defined as d, and when the reflected wave by this lattice plane group is considered, the glancing angle (the complementary angle of incidence) is θ. , If the wavelength of the incident X-ray or the incident particle is λ and n is a positive integer, then when the Bragg condition 2d sin θ = nλ holds, the reflected waves from the respective lattice planes become in phase and strengthen each other. Diffraction appears in the direction. This is called Bragg reflection (from Iwanami Rikagaku Dictionary 4th edition)).

【0052】メルト法による球冠状の形状と(これとは
全く異なる)ラフ基板の形状を平面的に混在させるに
は、前述したラフ基板上にメルト法により、必要な部分
に球冠状の凸部を設けるようにすればよい。
In order to mix the spherical shape of the spherical shape by the melt method and the shape of the rough substrate (which is completely different from this) in a plane, the spherical shape of the convex portion is formed on the rough substrate by the melt method. Should be provided.

【0053】図7は、ラフ基板として幅(d2 )8が0.
05〜 0.5μmで、高さ又は深さ(d1 )7が0.05〜 0.5
μmである多数の溝を有する基板1及びその表面3にA
l等を蒸着した反射板の形状を説明する図である。こう
した形状では一般的に市販されているアルミニウムの梨
地面(光沢面の裏側)に見られる。こうしたホイルの梨
地面は反射板としても応用されている(例えば、日東電
工(株)NPF-F3225 )。我々は、こうした形状を以下フ
ォイルタイプ凹凸と称する。図10はフォイルタイプ凹凸
を有するAl反射板の反射率測定結果の一例である(用
いたサンプルは前述したヘアライン反射板である)。図
8のAは溝方位の反射率の視角依存性をしめすもので、
図8のBはこれと直交する方位の反射率の視角依存性を
しめすものである。
FIG. 7 shows a rough substrate having a width (d2) 8 of 0.
05-0.5 μm, height or depth (d1) 7 is 0.05-0.5
Substrate 1 having a large number of grooves of μm and A on its surface 3
It is a figure explaining the shape of the reflector which vapor-deposited 1 etc. Such shapes are commonly found on commercially available aluminum matte surfaces (behind the shiny side). The surface of the foil is also used as a reflector (eg NPF-F3225 from Nitto Denko Corporation). We will hereinafter refer to these shapes as foil-type irregularities. FIG. 10 shows an example of the reflectance measurement results of an Al reflector having a foil type unevenness (the sample used is the above-mentioned hairline reflector). A in FIG. 8 shows the viewing angle dependence of the reflectance of the groove orientation.
FIG. 8B shows the viewing angle dependence of the reflectance in the direction orthogonal to this.

【0054】前述した、ラフ基板同様、フォイルタイプ
凹凸とメルト法による球冠状の凹凸を平面的に混在させ
れば、ラフ基板の場合と同様の効果が得られる。このフ
ォイルタイプ凹凸の場合、方位性を持った視角特性を持
っているので、混在させた反射板も方位性を持った特性
となる。このことは、LCDを固定した応用用途におい
て有用となる。このフィルムタイプ凹凸を混在させる場
合も、平面的な混在比SF/SMはラフ基板同様、 0.5
以下とすればよい。
Similar to the rough substrate described above, if the foil type irregularities and the spherical crown irregularities formed by the melt method are mixed in a plane, the same effect as in the case of the rough substrate can be obtained. In the case of this foil type unevenness, since it has a viewing angle characteristic having azimuth, a mixed reflector also has a characteristic having azimuth. This is useful in applications where the LCD is fixed. Even when this film type unevenness is mixed, the planar mixing ratio SF / SM is 0.5 as with the rough substrate.
The following may be performed.

【0055】また日本電工(株)製のNPF−F322
5(商品名)上にも前述した手法にて、メルト法の凸部
を形成した。
NPF-F322 manufactured by Nippon Denko Co., Ltd.
5 (trade name) was also formed with the protrusions of the melt method by the method described above.

【0056】また、前述した凹凸のある基板上にメルト
法で形成した球冠状の凹凸を部分的に設けた反射層で、
前記球冠状の凹凸形状として球冠の中心角や底面の半径
が異なる2種以上の形状を平面的に混在させれば、さら
に視角特性が向上する。
Further, in the above-mentioned reflective layer in which spherical corrugated irregularities formed by the melt method are partially provided on the irregular substrate,
If two or more shapes having different central angles and bottom radii are mixed in a plane as the spherical crown-shaped concavo-convex shape, the viewing angle characteristics are further improved.

【0057】一例として、中心角70度、底面の半径7.0
μmの球冠状部と中心角53.1度、底面の半径7.0 μmの
球冠状部を1:1に混在させ、前述したラフ基板の凹凸
と95:5(球冠:ラフ)にて混在させたときの反射率の
測定結果を図9に、個々の反射率の測定結果を図10に示
す。図10からも分かるように、メルト法による球冠状の
凹凸形状からなる反射層は、その中心角を変えることに
よって、反射率の視角特性に生じる2つの極値を取る角
度θを制御できる。よって、異なる球冠形状を平面的に
混在させることにより、図9に示すような平均的視角特
性が得られるわけである。また、混在の面積的比率を変
えることによって、異なった視角特性を実現できる。
As an example, the central angle is 70 degrees and the bottom radius is 7.0.
When the spherical corrugated part of μm and the central angle of 53.1 degrees and the radius of the bottom surface of 7.0 μm are mixed in a ratio of 1: 1, and they are mixed with the unevenness of the rough substrate described above at 95: 5 (spherical cap: rough). FIG. 9 shows the measurement result of the reflectance of the above, and FIG. 10 shows the measurement result of each reflectance. As can be seen from FIG. 10, the angle θ of the two extreme values occurring in the viewing angle characteristic of reflectance can be controlled by changing the central angle of the reflecting layer having a spherical corrugated shape formed by the melt method. Therefore, by mixing different spherical crown shapes in a plane, the average viewing angle characteristics as shown in FIG. 9 can be obtained. In addition, different viewing angle characteristics can be realized by changing the area ratio of the mixture.

【0058】これら凹凸のある基板とメルト法による球
冠状の凹凸形状を平面的に混在させた反射層を形成する
には、少なくとも、メルト法のプロセス温度(レジスト
を溶融させるのに必要な温度)に対し、耐熱性のある基
板を用いる必要がある。したがって、凹凸のある基板材
料としては、金属や高耐熱性プラスチックが適してい
る。中でも、高耐熱性プラスチックは、軽さ、(変形に
対しての)強度の点で特に優れている。一例としては、
ポリイミド、ポリエチレン、トリアセチルセルロース、
ポリアリエート等が挙げられる。
In order to form a reflective layer in which these uneven substrate and the spherical crown-shaped uneven shape formed by the melt method are mixed in a plane, at least the process temperature of the melt method (the temperature required to melt the resist). On the other hand, it is necessary to use a substrate having heat resistance. Therefore, metal or high heat resistant plastic is suitable as the substrate material having irregularities. Among them, the high heat resistant plastic is particularly excellent in lightness and strength (against deformation). As an example,
Polyimide, polyethylene, triacetyl cellulose,
Polyaryate and the like can be mentioned.

【0059】図13に本発明の反射層の製造フローチャー
トの一例を示す。
FIG. 13 shows an example of a manufacturing flow chart of the reflective layer of the present invention.

【0060】図11(a)〜(d)に示す様に、微細な
0.5μm以下の凹凸を有する基板表面凹凸面3に被着
したレジスト14を、マスク15を介して露光19、現象、エ
ッチングし、凹凸16を形成し、その後加温し、凹凸面を
なだらかにすれば、凹凸面3を有する基板1の表面凹凸
17がレジストパターンの存在しない領域に露出する。さ
らにA■又は銀18を蒸着し、ブラッグ反射を得る。よっ
て、本発明の反射板の構造が容易に得られる。
As shown in FIGS. 11 (a) to 11 (d), the resist 14 deposited on the uneven surface 3 of the substrate surface having fine unevenness of 0.5 μm or less is exposed through the mask 15 to the exposure 19, phenomenon, If the unevenness 16 is formed by etching and then heated to make the uneven surface gentle, the surface unevenness of the substrate 1 having the uneven surface 3
17 is exposed in the area where the resist pattern does not exist. Further, A (1) or silver 18 is vapor-deposited to obtain Bragg reflection. Therefore, the structure of the reflector of the present invention can be easily obtained.

【0061】なお、図11に示す製造方法等を用いて、本
発明の反射板の構造は、図12(a)〜(b)に示すよう
な2通りの形状を得ることができる。
By using the manufacturing method shown in FIG. 11 and the like, the structure of the reflector of the present invention can be obtained in two shapes as shown in FIGS. 12 (a) and 12 (b).

【0062】いずれの形状においても、一表示領域内に
おいて、前述した2種の表面形状を平面的に混在させれ
ば、同様の効果が得られる。
In any shape, the same effect can be obtained by planarly mixing the above-mentioned two kinds of surface shapes in one display area.

【0063】また、前述した図16の構成は図12(b)の
構成の具体的な実施例である。
The structure shown in FIG. 16 is a concrete example of the structure shown in FIG. 12 (b).

【0064】また、前述した製造方法等を用いて試作し
た本発明の反射板を用いて、その型を耐熱性の高い部材
にて作成し、この型を用いて本発明の反射板を製造すれ
ば、大量生産に対応できる。この場合、型を用いて本発
明の表面凹凸からなる基板をプラスチックガラス等にて
作成し、その表面に高反射性の金属を被膜してもよい
し、直接高反射性の金属を型に流し込み製造してもよ
い。
Further, using the reflector of the present invention prototyped using the above-described manufacturing method, the mold is made of a member having high heat resistance, and the reflector of the present invention is manufactured using this mold. For example, mass production is possible. In this case, a mold may be used to form a substrate having surface irregularities according to the present invention with plastic glass or the like, and a highly reflective metal may be coated on the surface, or a highly reflective metal may be directly poured into the mold. It may be manufactured.

【0065】次いで、図12(c)に本発明の反射板の構
造及び製造を応用した反射板の構造を示す。
Next, FIG. 12C shows the structure of the reflector of the present invention and the structure of the reflector to which the manufacturing is applied.

【0066】図12(c)に示す反射板の構造は、図1に
示す本発明の2種の表面凹凸17を平面的に混在させた基
板上に(高反射性の金属を被膜する前に)レジスト19等
を被膜することにより凹凸の形状を被膜前と異なるよう
にしたものである。このように前記本発明の表面凹凸上
に、別途A■膜18を被膜すれば、前述した球冠の中心角
や、球冠の大きさ及び下地基板1の凹凸の大きさ等は、
被膜前と異なる値に制御できる。よってこの方法によっ
ても種々の構造が実現できる。
The structure of the reflector shown in FIG. 12 (c) is formed on a substrate having two kinds of surface irregularities 17 of the present invention shown in FIG. 1 mixed in a plane (before coating a highly reflective metal. ) By coating the resist 19 etc., the shape of the unevenness is made different from that before the coating. As described above, if the A film 18 is separately coated on the surface irregularities of the present invention, the central angle of the spherical crown, the size of the spherical crown, the irregularities of the base substrate 1 and the like described above can be obtained.
It can be controlled to a value different from that before coating. Therefore, various structures can be realized by this method.

【0067】また、前記試作した反射板を6000クラスの
サンドペーパーで研磨し、前記凹凸の表面に極めて微細
な凹凸を形成してみた。
Further, the prototype reflector was polished with sandpaper of 6000 class to form extremely fine irregularities on the surface of the irregularities.

【0068】研磨前と比較して、見た目により白色にな
った。
Compared with the state before polishing, it became white in appearance.

【0069】図20は本実施例の液晶表示素子110 を示す
ものであり、観察側基板112 とその対向基板113 は各対
向する面にそれぞれ電極114 、115 を有し、両基板112
、113 の間隙に液晶層116 を挟んでなる液晶セル111
と、対向基板113 の外面に貼付した4分の1波長板119
と、さらに4分の1波長板119 面に上述構成の反射層
(反射板)118 を貼付した構造を有する。
FIG. 20 shows a liquid crystal display device 110 of this embodiment. An observation side substrate 112 and a counter substrate 113 thereof have electrodes 114 and 115 respectively on opposite surfaces, and both substrates 112 are provided.
, A liquid crystal cell 111 in which a liquid crystal layer 116 is sandwiched between the liquid crystal cells 111.
And a quarter-wave plate 119 attached to the outer surface of the counter substrate 113.
Further, it has a structure in which the reflection layer (reflection plate) 118 having the above-mentioned configuration is further attached to the surface of the quarter-wave plate 119.

【0070】両基板112 、113 は、0.7mm 厚のガラス基
板であり、一方の基板すなわち対向基板113 は図20
(b)、(c)に示すようなMIM素子120 付き基板で
ある。図20(b)は一画素の電極115 の形状を示し、図
20(c)は有効表示領域1131の形状を示している。画素
数を横480 ×縦320 であり、各画素pはMIM素子120
をスイッチング素子としw有し、一画素電極サイズは18
0 μm×180 μmである。また、観察側基板112 として
図20(d)、(e)に示すITOストライプパターン電
極114 を形成した基板を作成した。ここで図20(d)は
一画素に該当するパターン形状を示し、図20(e)は、
有効表示領域1121の形状を示している。図20(d)に示
すITOストライプパターン電極114 を形成した基板の
ストライプパターン幅は180 μm(ライン幅175 μm)
である。
Both the substrates 112 and 113 are glass substrates having a thickness of 0.7 mm, and one substrate, that is, the counter substrate 113 is shown in FIG.
The substrate with the MIM element 120 as shown in (b) and (c). FIG. 20B shows the shape of the electrode 115 of one pixel.
20 (c) shows the shape of the effective display area 1131. The number of pixels is 480 horizontal × 320 vertical, and each pixel p is a MIM element 120.
Is a switching element and has a pixel electrode size of 18
It is 0 μm × 180 μm. Further, a substrate on which the ITO stripe pattern electrode 114 shown in FIGS. 20D and 20E was formed was prepared as the observation side substrate 112. Here, FIG. 20D shows the pattern shape corresponding to one pixel, and FIG.
The shape of the effective display area 1121 is shown. The stripe pattern width of the substrate on which the ITO stripe pattern electrode 114 shown in FIG. 20 (d) is formed is 180 μm (line width 175 μm).
It is.

【0071】これら2枚の基板112 、113 に、配向膜12
1 、122 としてポリイミド配向剤(商品名AL−105
1、(株)日本合成ゴム製)を有効表示領域に印刷、焼
成し、前記ITOストライプパターンと平行であり、且
つ対向する基板間で向きが180 °逆となる方向にラビン
グする。しかる後、観察側基板112 に粒径8μmの基板
間隙材123 (商品名ミクロパール、(株)積水ファイン
ケミカル製)を散布密度100 /mm2 にて散布し、対向基
板の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シ
ールパターンをスクリーン印刷法にて形成した。ここで
用いたシール材料は1液性エポキシ樹脂(商品名XN−
21、三井東圧化学(株)製)である。しかる後、前記
2枚の基板112 、113 を電極面が対向するようにして重
ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙材123 の粒径と等
しくなるよう加圧しながら180℃で2時間焼成し、本実
施例の液晶表示素子110 に用いる空セルを得た。しかる
後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異方性を示す
ネマティック液晶材料(商品名ZLI−4801−10
0、(株)メルクジャパン製。Δn=0.1055。Δε=+
4.9 )に黒色の染料(商品名LA103/4、(株)三
菱化成製)を2.0wt%添加したものを減圧注入法にて
注入して液晶層116 とし、前記周辺シールパターンの開
口部を紫外線硬化樹脂(商品名UV−1000、(株)
ソニーケミカル製)にて封止し、本実施例のLCDに用
いる液晶セル111 を得た。
The alignment film 12 is formed on the two substrates 112 and 113.
1, 122 as a polyimide aligning agent (trade name AL-105
1) (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) is printed in an effective display area, baked, and rubbed in a direction parallel to the ITO stripe pattern and 180 ° opposite between the opposing substrates. Then, a substrate interstitial material 123 (trade name: Micropearl, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 8 μm was sprayed on the observation-side substrate 112 at a spraying density of 100 / mm 2, and 5 mm around the effective display area of the counter substrate. A peripheral seal pattern having a width opening was formed by a screen printing method. The sealing material used here is a one-component epoxy resin (trade name: XN-
21, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Then, the two substrates 112 and 113 are superposed so that the electrode surfaces face each other, and baked at 180 ° C. for 2 hours while pressurizing so that the substrate gap becomes equal to the grain size of the substrate gap material 123. An empty cell used for the liquid crystal display element 110 of this example was obtained. Then, a nematic liquid crystal material having a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material in the empty cell (trade name ZLI-4801-10
0, manufactured by Merck Japan Co., Ltd. Δn = 0.1055. Δε = +
2.0 wt% of a black dye (trade name: LA103 / 4, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) was added to 4.9) by a reduced pressure injection method to form a liquid crystal layer 116, and the peripheral seal pattern openings were exposed to ultraviolet rays. Cured resin (trade name: UV-1000, Ltd.)
A liquid crystal cell 111 used in the LCD of this example was obtained by sealing with Sony Chemical.

【0072】このセルに4分の1波長板119 及び上述の
反射板118 を貼り付けて素子(LCD)110 を得た。
A quarter-wave plate 119 and the above-mentioned reflection plate 118 were attached to this cell to obtain a device (LCD) 110.

【0073】こうして得られたLCDは、観察側基板11
2 から入射した光が液晶セル111 を透過して反射層118
で反射し、再び液晶セル111 を透過して観察側基板から
出射するが、電極114 、115 で制御される液晶層116 に
より光スイッチングする。反射層118 で反射し液晶セル
111 を透過した光を測定し、LCDの反射率及びコント
ラスト比を図21に示す測定装置で測定した。測定はサン
プル143 の配置位置の中央から法線方向の位置に距離30
cmで輝度計140 を配置し、ほぼ同じ高さに前記法線方向
と30°の角度をなす方向に図示するように赤緑青3波長
に発光する高演色性蛍光灯141 、142 を2灯配置して、
サンプル143 部分の照度が580 ルクスとなるようにし
て、標準拡散板(MgO板)の輝度を測定し、この輝度
を反射率100 %とし、サンプルの反射率及びコントラス
ト比を測定した。
The LCD thus obtained has the observing side substrate 11
Light incident from 2 passes through the liquid crystal cell 111 and is reflected by the reflective layer 118.
The light is reflected by the liquid crystal cell 111, is transmitted again through the liquid crystal cell 111, and is emitted from the substrate on the observation side. Liquid crystal cell that reflects on the reflective layer 118
The light transmitted through 111 was measured, and the reflectance and contrast ratio of the LCD were measured by the measuring device shown in FIG. The measurement is a distance of 30 from the center of the sample 143 position to the position in the normal direction.
A luminance meter 140 is arranged at a height of 2 cm, and two high color rendering fluorescent lamps 141 and 142 which emit light of three wavelengths of red, green and blue are arranged at substantially the same height in a direction forming an angle of 30 ° with the normal direction. do it,
The brightness of a standard diffuser plate (MgO plate) was measured while the illuminance of the 143 part of the sample was 580 lux, and the reflectivity and the contrast ratio of the sample were measured with this brightness being 100%.

【0074】液晶層への印加電圧が4VとなるようMI
M素子を用いて全面(全画素)に電圧を印加して反射率
を測定したところ、反射率は65%と極めて高い値であ
り、また、液晶層への印加電圧が0Vと4Vとなるよう
MIM素子を用いて全面(全画素)に電圧を印加してコ
ントラスト比を測定したところ、10:1で高く、反射率
同様に角度依存が少なく、視角、光源の環境に左右され
ることが従来より少なくなっていることがわかった。
MI is applied so that the applied voltage to the liquid crystal layer becomes 4V.
When the reflectance was measured by applying a voltage to the entire surface (all pixels) using the M element, the reflectance was a very high value of 65%, and the applied voltage to the liquid crystal layer was 0V and 4V. When the contrast ratio was measured by applying a voltage to the entire surface (all pixels) using the MIM element, it was high at 10: 1 and had little angle dependence like the reflectance, which was conventionally affected by the viewing angle and the environment of the light source. Turned out to be less.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上、詳細な説明で明示した様に、本発
明では、高い反射率を有する反射型液晶表示装置及びそ
の製造方法を実現することができる。
As described above in detail, the present invention can realize a reflective liquid crystal display device having a high reflectance and a manufacturing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例の特性図である。FIG. 2 is a characteristic diagram of the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例の特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図4】反射率測定系の簡略図である。FIG. 4 is a simplified diagram of a reflectance measurement system.

【図5】本発明の実施例を説明する模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating an example of the present invention.

【図6】本発明の実施例の特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図7】本発明の実施例の特性図である。FIG. 7 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図8】本発明の実施例の特性図である。FIG. 8 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図9】本発明の実施例の特性図である。FIG. 9 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図10】本発明の実施例の特性図である。FIG. 10 is a characteristic diagram of an example of the present invention.

【図11】本発明の実施例の製造工程略図である。FIG. 11 is a schematic view of manufacturing process of an embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施例の模式図である。FIG. 12 is a schematic view of an example of the present invention.

【図13】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図14】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図15】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 15 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図16】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 16 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図17】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 17 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図18】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 18 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図19】従来技術を説明するための模式図である。FIG. 19 is a schematic diagram for explaining a conventional technique.

【図20】本発明の実施例を説明するための模式図であ
る。
FIG. 20 is a schematic diagram for explaining an example of the present invention.

【図21】測定系を説明するための模式図である。FIG. 21 is a schematic diagram for explaining a measurement system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……基板 2……球冠状 3……凹凸面 110……液晶表示素子 112……観測側基板 113……対向基板 116……液晶層 118……反射層 1 ... Substrate 2 ... Spherical crown 3 ... Uneven surface 110 ... Liquid crystal display element 112 ... Observation side substrate 113 ... Counter substrate 116 ... Liquid crystal layer 118 ... Reflection layer

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】1対の基板と、この1対の基板の間に鋏持
される液晶層と、この液晶層を透過した光を反射する反
射層とを有する反射型液晶表示装置において、前記反射
層は、凹凸の高さ、深さ、幅それぞれが、略 0.5μm以
下の凹凸面を有する基板上であって、この凹凸面上には
メルト法により形成された凹凸が混在していることを特
徴とする反射型液晶表示装置。
1. A reflection type liquid crystal display device comprising a pair of substrates, a liquid crystal layer held between the pair of substrates, and a reflection layer for reflecting light transmitted through the liquid crystal layer. The reflection layer is on a substrate having an uneven surface with a height, depth, and width of approximately 0.5 μm or less, and the unevenness formed by the melt method is mixed on this uneven surface. A reflective liquid crystal display device characterized by:
【請求項2】請求項1記載の反射型液晶表示装置におい
て、前記反射層は、その開孔直径が0.5μm以下で且つ
その深さが 0.5μm以下である溝が複数からなる凹凸面
上にメルト法により形成された凹凸が混在していること
を特徴とする反射型液晶表示装置。
2. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflective layer is provided on an uneven surface having a plurality of grooves each having an opening diameter of 0.5 μm or less and a depth of 0.5 μm or less. A reflection type liquid crystal display device characterized in that unevenness formed by a melt method is mixed.
【請求項3】1対の基板と、この1対の基板の間に挾持
される液晶層と、この液晶層を透過した光を反射する反
射層とを有する反射型液晶表示装置において、前記反射
層は、平坦な鏡面基板の上にメルト法からなる凹凸が構
成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
3. A reflection type liquid crystal display device comprising a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and a reflective layer for reflecting light transmitted through the liquid crystal layer. The layer is a reflective liquid crystal display device characterized in that unevenness formed by a melt method is formed on a flat mirror substrate.
【請求項4】請求項1,2,または3記載の反射型液晶
表示装置において、前記反射層は、前記凹凸面はブラッ
グ反射を行なうことを特徴とする反射型液晶表示装置。
4. A reflection type liquid crystal display device according to claim 1, 2 or 3, wherein said uneven surface of said reflection layer performs Bragg reflection.
【請求項5】請求項1または2記載の反射型液晶表示装
置において、前記反射層はその凹凸面が、0<(凹凸面
の面積)/(メルト法により形成された凹凸の広面の底
面積の合計)≦0.5 の関係にあることを特徴とする反射
型液晶表示装置。
5. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflective layer has a concave and convex surface of 0 <(area of the concave and convex surface) / (a wide bottom area of the concave and convex formed by a melt method). A total of) ≦ 0.5, which is a reflective liquid crystal display device.
【請求項6】請求項1乃至5いずれかに記載の反射型液
晶表示装置において、メルト法による前記凹凸は、その
形状が平面的に見て、丸、三角形、四角形、五角形、六
角形、八角形、長方形、楕円のいずれかであり、且つ側
面的に見て球冠状であることを特徴とする反射型液晶表
示装置。
6. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the concavities and convexities formed by the melt method are circular, triangular, quadrangular, pentagonal, hexagonal and octagonal when viewed in plan. A reflective liquid crystal display device, which is one of a prism, a rectangle, and an ellipse, and has a spherical crown shape in a side view.
【請求項7】請求項6に記載の反射型液晶表示装置にお
いて、前記凹凸はその平面的形状が複数混在してなるこ
とを特徴とする反射型液晶表示装置。
7. The reflective liquid crystal display device according to claim 6, wherein the unevenness has a plurality of planar shapes mixed therein.
【請求項8】請求項1乃至7いずれに記載の反射型液晶
表示装置において、メルト法による前記凹凸は、その主
材が耐熱性の材料からなり、ブラッグ反射を起こすた
め、この主材上に高反射性金属を被着させたことを特徴
とする反射型液晶表示装置。
8. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the unevenness formed by the melt method has a main material made of a heat resistant material and causes Bragg reflection. A reflective liquid crystal display device characterized by being coated with a highly reflective metal.
【請求項9】請求項1乃至8のいずれかに記載の反射型
液晶表示装置において、前記反射層は、液晶層を挾持す
る前記基板の一方に構成されていることを特徴とする反
射型液晶表示装置。
9. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflection layer is formed on one side of the substrate that holds the liquid crystal layer. Display device.
【請求項10】請求項1乃至9のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置において、前記反射層は、その反射面上
の部材の屈折率が1.6 以上であることを特徴とする反射
型液晶表示装置。
10. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein a member on the reflective surface of the reflective layer has a refractive index of 1.6 or more. Display device.
【請求項11】請求項1乃至10のいずれに記載の反射型
液晶表示装置において、前記液晶層は、誘電異方性を有
するネマティック液晶に2色性を有する黒色系染料を添
加してなり、且つ前記液晶層と前記反射層との間には通
過する光の位相を1/4波長ずらす1/4波長位相差板
を有することを特徴とする反射型液晶表示装置。
11. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is formed by adding a black dye having dichroism to nematic liquid crystal having dielectric anisotropy. Further, a reflection type liquid crystal display device is provided between the liquid crystal layer and the reflection layer with a quarter wave retardation plate for shifting a phase of light passing therethrough by a quarter wavelength.
【請求項12】請求項11記載の反射型液晶表示装置にお
いて、前記液晶層を前記反射層を前記反射層と挾持する
様に1枚の偏光板が構成されていることを特徴とする反
射型液晶表示装置。
12. The reflection type liquid crystal display device according to claim 11, wherein one polarizing plate is configured so that the liquid crystal layer is sandwiched between the reflection layer and the reflection layer. Liquid crystal display device.
【請求項13】請求項12記載の反射型液晶表示装置にお
いて、前記液晶層を挾持する様に2枚の偏光板が構成さ
れ、且つこの偏光板の外側に前記反射層が構成されてい
ることを特徴とする反射型液晶表示装置。
13. The reflective liquid crystal display device according to claim 12, wherein two polarizing plates are formed so as to sandwich the liquid crystal layer, and the reflective layer is formed outside the polarizing plate. A reflective liquid crystal display device characterized by:
【請求項14】請求項1乃至13のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置において、カラーフィルターが構成され
ていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
14. A reflective liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a color filter.
【請求項15】請求項1乃至14のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置において、TFTまたはTFDアクティ
ブマトリックス素子を有することを特徴とする反射型液
晶表示装置。
15. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a TFT or a TFD active matrix element.
【請求項16】請求項1乃至15のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置において、前記反射層は、アクティブマ
トリックス素子の上に画素電極として構成されているこ
とを特徴とする反射型液晶表示装置。
16. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflective layer is formed as a pixel electrode on an active matrix element. apparatus.
【請求項17】請求項1乃至16のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置において、前記反射層のその表面は、ア
ルミニウムまたは銀等からなる高反射性金属から構成さ
れていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
17. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface of the reflective layer is made of a highly reflective metal such as aluminum or silver. Reflective liquid crystal display device.
【請求項18】請求項1乃至17のいずれかに記載の反射
型液晶表示装置の製造方法であって、凹凸面を有する基
板上に、レジストを被着し、所定の手段により凹凸を形
成し、この後高反射性の金属で被覆し反射層を形成する
ことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
18. A method of manufacturing a reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein a resist is applied on a substrate having an uneven surface, and the unevenness is formed by a predetermined means. A method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device, characterized in that after that, a reflective layer is formed by coating with a highly reflective metal.
【請求項19】請求項18記載の反射型液晶表示装置の製
造方法において、前記所定の手段は、凹凸を有する基板
表面に被着したレジストを、露光、現像、エッチング
し、凹凸を形成し、その後加温し、凹凸面をなだらかに
することを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
19. The method for manufacturing a reflective liquid crystal display device according to claim 18, wherein the predetermined means exposes, develops, and etches a resist deposited on the surface of a substrate having irregularities to form irregularities, A method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device, which is characterized by comprising heating thereafter and smoothing the uneven surface.
【請求項20】請求項18記載の反射型液晶表示装置の製
造方法において、前記高反射性の金属を被覆する方法
は、スパッタリングまたは蒸着であることを特徴とする
反射型液晶表示装置の製造方法。
20. The method of manufacturing a reflective liquid crystal display device according to claim 18, wherein the method of coating the highly reflective metal is sputtering or vapor deposition. .
【請求項21】請求項19記載の反射型液晶表示装置の製
造方法において、前記凹凸を加温する際には、加圧また
は減圧を行なうことを特徴とする反射型液晶表示装置の
製造方法。
21. The method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device according to claim 19, wherein pressure is applied or pressure is reduced when the unevenness is heated.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6879359B1 (en) 1998-11-18 2005-04-12 Nec Lcd Technologies, Ltd. Reflection type liquid crystal display provided with reflective layer, coplanar gate electrode, color filter layer and transparent pixel electrode and manufacture method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6879359B1 (en) 1998-11-18 2005-04-12 Nec Lcd Technologies, Ltd. Reflection type liquid crystal display provided with reflective layer, coplanar gate electrode, color filter layer and transparent pixel electrode and manufacture method thereof

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