JPH09139110A - Manufacture of reflecting plate - Google Patents
Manufacture of reflecting plateInfo
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- JPH09139110A JPH09139110A JP7296678A JP29667895A JPH09139110A JP H09139110 A JPH09139110 A JP H09139110A JP 7296678 A JP7296678 A JP 7296678A JP 29667895 A JP29667895 A JP 29667895A JP H09139110 A JPH09139110 A JP H09139110A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、各種照明器具の
反射板の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a reflector of various lighting fixtures.
【０００２】[0002]
【従来の技術】各種照明器具の反射板、例えば蛍光灯間
接照明のルーバー材や自動車のヘッドライトの背面板と
しては、表面を光沢処理したアルミニウム板が汎用され
ている。そして、その光沢面は保護のために、アルマイ
ト皮膜や、アルカリケイ酸塩から形成されるＳｉＯ2 皮
膜で被覆することが多い。2. Description of the Related Art Aluminum plates having a glossy surface are generally used as reflectors of various lighting equipment, for example, louver materials for indirect illumination of fluorescent lamps and back plates of automobile headlights. The glossy surface is often covered with an alumite film or a SiO 2 film formed from an alkali silicate for protection.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
アルマイト皮膜の場合は、アルマイト処理の段階でアル
ミニウム基板の表面がエッチングされて粗面化され、反
射率が低下するという問題点があった。またＳｉＯ2 皮
膜の場合は、反射率の低下はないものの、皮膜の出発材
料としてアルカリケイ酸塩を使用するために、皮膜形成
後の光沢劣化防止策として硝酸または温水によりナトリ
ウムまたはカリウムを除去しなければならない。そのた
め、作業工程数が多くなってコストアップするという問
題点があった。However, in the case of the alumite coating described above, there is a problem that the surface of the aluminum substrate is etched and roughened at the stage of the alumite treatment, and the reflectance is lowered. In the case of a SiO 2 film, although the reflectance does not decrease, sodium or potassium is removed with nitric acid or warm water as a measure to prevent gloss deterioration after the film is formed because an alkali silicate is used as a starting material of the film. There must be. Therefore, there is a problem that the number of working steps increases and the cost increases.
【０００４】この発明は、前記問題点を解消し、反射板
の光沢面の反射率を損なうことなく、少ない工程数で保
護用皮膜を形成できる反射板の製造方法を目的とする。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a method for manufacturing a reflection plate in which the protective film can be formed in a small number of steps without impairing the reflectance of the glossy surface of the reflection plate.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】この発明の反射板の製造
方法は、前記目的を達成するために、金属製基板の光沢
面に、無機アルコキシドを加水分解したのち脱水縮合す
ることにより得られるゾル溶液を塗布し、乾燥させ、さ
らに加熱することによりゲル化し、厚さが０．０５〜
３．０μｍの無機酸化物皮膜を形成することを特徴とす
るものである。また、前記無機酸化物は、ＳｉＯ2 、Ｔ
ｉＯ2 またはＺｒＯ2 のうちのいずれかであることが好
ましい。In order to achieve the above object, the method for producing a reflector of the present invention is a sol obtained by hydrolyzing an inorganic alkoxide on a glossy surface of a metal substrate and then dehydrating and condensing the same. The solution is applied, dried, and heated to form a gel, with a thickness of 0.05-
It is characterized by forming an inorganic oxide film of 3.0 μm. The inorganic oxides are SiO 2 , T
It is preferably either iO 2 or ZrO 2 .
【０００６】前記金属製基板の材質は特に限定されない
が、軽量であり加工性も良いことから、従来より反射板
素材として汎用されているアルミニウムまたはその合金
材が好ましい。The material of the metal substrate is not particularly limited, but aluminum or its alloy material, which has been generally used as a reflector material, is preferable because it is lightweight and has good workability.
【０００７】この発明において、光沢面を保護する無機
酸化物［ＭＯ2 ］皮膜は、非晶質で硬く、薄膜でも十分
な保護力が得られるため、光沢面における反射率を損な
わない。このような無機酸化物皮膜は、無機アルコキシ
ド［Ｍ（ＯＲ）］を出発材料として、下記式で示される
加水分解反応および脱水縮合反応を経て得られるゾル溶
液をゲル化する、通常「ゾル−ゲル法」と称される方法
により形成される。In the present invention, the inorganic oxide [MO 2 ] film for protecting the glossy surface is amorphous and hard, and even if it is a thin film, sufficient protection can be obtained, so that the reflectance on the glossy surface is not impaired. Such an inorganic oxide film gels a sol solution obtained by subjecting an inorganic alkoxide [M (OR)] as a starting material to a hydrolysis reaction and a dehydration condensation reaction represented by the following formula, and is usually a “sol-gel”. It is formed by a method called "method".
【０００８】 加水分解反応：Ｍ（ＯＲ）4 ＋２Ｈ2 Ｏ → Ｍ（ＯＨ）4 ＋４ＲＯＨ 脱水縮合反応：ｍＭ（ＯＨ）4 → ｍＭＯ2 ＋２ｍＨ2 Ｏ 前記無機アルコキシド［Ｍ（ＯＲ）］において、無機元
素ＭとしてはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒが好ましく、非常に硬い
酸化物（ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 ）を形成する。
また、Ｒはアルキル基（Ｃn Ｈ2n+1）であり、特にＣ数
（ｎ）が２〜４のアルキル基からなるアルコキシドを使
用することが好ましい。Hydrolysis reaction: M (OR) 4 + 2H 2 O → M (OH) 4 + 4ROH Dehydration condensation reaction: mM (OH) 4 → mMO 2 +2 mH 2 O In the inorganic alkoxide [M (OR)], an inorganic element M is preferably Si, Ti, or Zr, and forms a very hard oxide (SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 ).
Also, R is an alkyl group (C n H 2n + 1) , it is particularly preferable to C number (n) uses the alkoxide consisting of alkyl groups of 2-4.
【０００９】ゾル溶液は、前記無機アルコキシドに、溶
媒としてのアルコール、触媒としての酸を加え、さらに
水を加えて調製する。これらの材料を混合することによ
り、系内で加水分解反応および脱水縮合反応がおこり、
粘性のあるゾル溶液となる。前記アルコールは、前記無
機アルコキシドの溶解性が良好である点でアルコキシド
のアルキル基と同じＣ数のものを使用することが好まし
い。The sol solution is prepared by adding alcohol as a solvent, an acid as a catalyst, and water to the inorganic alkoxide. By mixing these materials, hydrolysis reaction and dehydration condensation reaction occur in the system,
It becomes a viscous sol solution. It is preferable to use the alcohol having the same C number as that of the alkyl group of the alkoxide in that the solubility of the inorganic alkoxide is good.
【００１０】ゾル溶液の塗布方法は、ディップコート、
ロールコート、スプレー、スピンコート等を例示でき、
所要の厚さに塗布できる方法であれば特に限定されな
い。The sol solution is applied by dip coating,
Roll coat, spray, spin coat etc. can be exemplified,
The method is not particularly limited as long as it can be applied to a required thickness.
【００１１】前記ゾル溶液は、塗布面を乾燥させること
によりゲル体に変化するが、この発明においては、さら
に加熱により水分を除去してより硬い無機酸化物皮膜を
形成する。このときの加熱条件は、水分除去が目的であ
るから、高温である必要はなく２００〜５００℃が好ま
しく、また薄膜であるから加熱時間も１〜１０分程度の
短時間で良い。The sol solution changes into a gel by drying the coated surface, but in the present invention, moisture is further removed by heating to form a harder inorganic oxide film. Since the purpose of heating at this time is to remove water, it is not necessary to have a high temperature and preferably 200 to 500 ° C. Further, since it is a thin film, the heating time may be a short time of about 1 to 10 minutes.
【００１２】ゲル化により得られる無機酸化物皮膜の厚
さは、０．０５〜３．０μｍの範囲とする必要がある。
０．０５μｍ未満では基板の光沢面を保護するには足り
ず、３．０μｍを超えて厚くなると光沢面の反射率を低
下させるおそれがある。特に好ましい無機酸化物皮膜の
厚さは、下限値で０．１μｍ、上限値で０．５μｍであ
る。The thickness of the inorganic oxide film obtained by gelation must be in the range of 0.05 to 3.0 μm.
If it is less than 0.05 μm, it is not enough to protect the glossy surface of the substrate, and if it exceeds 3.0 μm, the reflectance of the glossy surface may decrease. Particularly preferable thickness of the inorganic oxide film is 0.1 μm at the lower limit and 0.5 μm at the upper limit.
【００１３】この発明の方法によれば、無機酸化物皮膜
は塗布された無機アルコキシドゾル溶液のゲル化によっ
て形成されるため、光沢面は皮膜形成後によって粗面化
されることがなく平滑性が保たれ、かつ無機酸化物皮膜
自体も表面平滑性が高い。さらに、無機酸化物は硬質で
あるから、０．０５〜３．０μｍという薄膜でも十分に
光沢面を保護することができる。これらのことから、光
沢面本来の反射率を損なわず、優れた反射板を製造でき
る。According to the method of the present invention, since the inorganic oxide film is formed by gelation of the applied inorganic alkoxide sol solution, the glossy surface is not roughened after the film is formed, and the smoothness is smooth. The inorganic oxide film itself has high surface smoothness. Further, since the inorganic oxide is hard, even a thin film of 0.05 to 3.0 μm can sufficiently protect the glossy surface. For these reasons, an excellent reflector can be manufactured without impairing the original reflectance of the glossy surface.
【００１４】また、前記無機酸化物皮膜はゾル−ゲル法
により形成されるため、皮膜形成後の脱アルカリ処理は
必要なく、製造工程が簡単である。Further, since the inorganic oxide film is formed by a sol-gel method, dealkalization treatment is not required after the film formation, and the manufacturing process is simple.
【００１５】[0015]
【実施例】次に、この発明に係る反射板の製造方法の具
体的実施例について説明する。EXAMPLES Next, specific examples of the method for manufacturing a reflector according to the present invention will be described.
【００１６】基板としてＪＩＳ Ａ１０５０からなる、
厚さ０．５mmの平板を多数用意し、常法により脱脂およ
び水洗したのち、次の各処理を施して皮膜を形成した。The board is made of JIS A1050,
A large number of flat plates having a thickness of 0.5 mm were prepared, degreased and washed with water by a conventional method, and then subjected to the following respective treatments to form a film.
【００１７】（実施例１）前記基板を乾燥させた後、下
記組成のＳｉアルコキシドゾル溶液中に浸漬し、引上げ
速度の調節により所定の厚さにゾル溶液を塗布した。こ
れを乾燥させた後に、さらに２００〜５００℃で１〜５
分間焼付けた。乾燥および焼付けの間に、塗布されたゾ
ル溶液はゲル化し、さらに水分が抜けて、硬く緻密な厚
さ０．２μｍのＳｉＯ2 皮膜が形成された。Example 1 After drying the substrate, it was immersed in a Si alkoxide sol solution having the following composition, and the sol solution was applied to a predetermined thickness by adjusting the pulling rate. After this is dried, it is further heated at 200 to 500 ° C. for 1 to 5
Bake for a minute. During the drying and baking, the applied sol solution was gelled, and the water was drained off to form a hard and dense SiO 2 film having a thickness of 0.2 μm.
【００１８】［Ｓｉアルコキシドゾル溶液組成（モル
比）］ Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 … １ Ｃ2 Ｈ5 ＯＨ … ７ Ｈ2 Ｏ … １１ ＨＣｌ … ０．０７ （実施例２）実施例１と同じＳｉアルコキシドゾル溶液
を用い、引上げ速度を遅くして厚さ１．０μｍのＳｉＯ
2 皮膜を形成した。[Si alkoxide sol solution composition (molar ratio)] Si (OC 2 H 5 ) 4 ... 1 C 2 H 5 OH ... 7 H 2 O ... 11 HCl ... 0.07 (Example 2) Example 1 The same Si alkoxide sol solution was used, and the pulling rate was slowed to a thickness of 1.0 μm of SiO 2.
Two films were formed.
【００１９】（実施例３、４）前記基板を電解研磨によ
り光沢処理したのち、実施例１、２と同じ処理により、
それぞれ厚さが０．２μｍ、１．０μｍのＳｉＯ2 皮膜
を形成した。(Examples 3 and 4) The substrates were subjected to gloss treatment by electrolytic polishing, and then the same treatments as in Examples 1 and 2 were carried out.
SiO 2 coatings having thicknesses of 0.2 μm and 1.0 μm were formed, respectively.
【００２０】（比較例１）実施例１と同じＳｉアルコキ
シドゾル溶液を用い、引上げ速度を調節して厚さ４．０
μｍのＳｉＯ2 皮膜を形成した。(Comparative Example 1) Using the same Si alkoxide sol solution as in Example 1, the pulling rate was adjusted and the thickness was 4.0.
A μm SiO 2 film was formed.
【００２１】（比較例２）前記基板について、常法によ
りアルマイト処理を施し、厚さ１．５μｍのアルマイト
皮膜を形成し、さらに水洗したのち沸騰水により封孔処
理を行った。Comparative Example 2 The substrate was anodized by a conventional method to form an alumite film having a thickness of 1.5 μm, washed with water, and then sealed with boiling water.
【００２２】（比較例３）電解研磨により光沢処理した
基板について、脱膜処理後、常法によりアルマイト処理
を施し、厚さ１．５μｍのアルマイト皮膜を形成し、さ
らに水洗したのち沸騰水により封孔処理を行った。(Comparative Example 3) A substrate subjected to a gloss treatment by electrolytic polishing was subjected to a film-removing treatment, and then subjected to an alumite treatment by a conventional method to form an alumite coating having a thickness of 1.5 μm, further washed with water and then sealed with boiling water. Pore treatment was performed.
【００２３】（比較例５）前記基板をさらに湯洗し、三
洋化成（株）製のケイ酸ナトリウム塗布液ＡＬＨ−２
４；５ｋｇに対して純水２０ｋｇを混合した調製塗布液
をロールで塗布し、１８０〜３００℃で２〜２０秒間焼
付け、さらに硝酸洗浄により脱ナトリウム処理し、水洗
後乾燥させた。この処理により厚さ０．２μｍのＳｉＯ
2 皮膜が形成された。Comparative Example 5 The substrate was further washed with hot water, and a sodium silicate coating liquid ALH-2 manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.
A prepared coating solution prepared by mixing 20 kg of pure water with 4 kg of 5; was coated with a roll, baked at 180 to 300 ° C. for 2 to 20 seconds, further treated with nitric acid to remove sodium, washed with water, and dried. By this treatment, 0.2 μm thick SiO
Two coats were formed.
【００２４】上述の各処理方法で作製した反射板につい
て、白色光を６０°で入射したときの反射率を測定し、
表面に保護用皮膜を形成しない基板の反射率と比較し
た。表１に各処理法の概要および膜厚を再掲するととも
に、反射率を示す。With respect to the reflection plate produced by each of the above-mentioned processing methods, the reflectance when white light was incident at 60 ° was measured,
The reflectance was compared with that of a substrate on which a protective film was not formed on the surface. Table 1 shows the outline of each processing method and the film thickness again, and shows the reflectance.
【００２５】[0025]
【表１】 [Table 1]
【００２６】表１から明らかなように、各実施例の反射
板は基板本来の反射率をほとんど低下させることなく、
保護用皮膜を形成することができた。また、これらの反
射率は、従来のアルカリケイ酸塩によるＳｉＯ2 皮膜
（比較例５）に比べて何等遜色のないものであり、出発
材料としてアルカリケイ酸塩を使用するよりも、無機ア
ルコキシドを使用してゾル−ゲル法による方が簡単な工
程で保護用皮膜を形成できることも確認できた。As is clear from Table 1, the reflectors of the respective examples hardly reduce the original reflectance of the substrate,
A protective film could be formed. In addition, these reflectances are comparable with those of the conventional SiO 2 film (comparative example 5) using an alkali silicate, and the use of an inorganic alkoxide is better than that of using an alkali silicate as a starting material. It was also confirmed that the sol-gel method can be used to form a protective film in a simpler process.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、この発明に反射板
の製造方法は、金属製基板の光沢面に、無機アルコキシ
ドを加水分解したのち脱水縮合することにより得られる
ゾル溶液を塗布し、乾燥させ、さらに加熱することによ
りゲル化し、厚さが０．０５〜３．０μｍの無機酸化物
皮膜を形成するものであるから、反射板の光沢面の反射
率を損なうことなく、少ない工程数で保護用皮膜を形成
することができる。As described above, according to the present invention, the method for producing a reflection plate comprises applying a sol solution obtained by hydrolyzing an inorganic alkoxide and then dehydrating and condensing it to a glossy surface of a metal substrate and then drying it. It is then gelled by further heating to form an inorganic oxide film having a thickness of 0.05 to 3.0 μm, so that the number of steps can be reduced without impairing the reflectance of the glossy surface of the reflector. A protective film can be formed.
【００２８】また、前記無機酸化物が、ＳｉＯ2 、Ｔｉ
Ｏ2 またはＺｒＯ2 のうちのいずれかである場合は、特
に硬質でかつ反射率の低下の少ない優れた保護用皮膜を
形成することができる。The inorganic oxide may be SiO 2 , Ti.
When it is either O 2 or ZrO 2 , it is possible to form an excellent protective film that is particularly hard and has a small decrease in reflectance.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島尾 良介 堺市海山町６丁224番地 昭和アルミニウ ム株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ryosuke Shimao 6-224, Kaiyamacho, Sakai City Showa Aluminum Co., Ltd.
Claims (2)
ドを加水分解したのち脱水縮合することにより得られる
ゾル溶液を塗布し、乾燥させ、さらに加熱することによ
りゲル化し、厚さが０．０５〜３．０μｍの無機酸化物
皮膜を形成することを特徴する反射板の製造方法。1. A glossy surface of a metal substrate is coated with a sol solution obtained by hydrolyzing an inorganic alkoxide and then dehydration-condensed, dried, and heated to form a gel having a thickness of 0.05. A method for producing a reflector, which comprises forming an inorganic oxide film having a thickness of about 3.0 μm.
またはＺｒＯ2 のうちのいずれかである請求項１に記載
の反射板の製造方法。2. The inorganic oxide is SiO 2 , TiO 2
The method for manufacturing a reflector according to claim 1, wherein the reflector is ZrO 2 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7296678A JPH09139110A (en) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | Manufacture of reflecting plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7296678A JPH09139110A (en) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | Manufacture of reflecting plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09139110A true JPH09139110A (en) | 1997-05-27 |
Family
ID=17836668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7296678A Pending JPH09139110A (en) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | Manufacture of reflecting plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09139110A (en) |
-
1995
- 1995-11-15 JP JP7296678A patent/JPH09139110A/en active Pending
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