JPH09134514A - Manufacture of suspension for magnetic disk device - Google Patents

Manufacture of suspension for magnetic disk device

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JPH09134514A
JPH09134514A JP31375595A JP31375595A JPH09134514A JP H09134514 A JPH09134514 A JP H09134514A JP 31375595 A JP31375595 A JP 31375595A JP 31375595 A JP31375595 A JP 31375595A JP H09134514 A JPH09134514 A JP H09134514A
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JP
Japan
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suspension
insulating layer
shape
stainless steel
polyimide
Prior art date
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Pending
Application number
JP31375595A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazushige Kawazoe
一重 河副
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a suspension for a magnetic disk device by which the shape of a suspension can be accurately formed and an insulating layer of uniform thickness is formed by forming a base board in the shape of a suspension, forming an insulating layer on the base board by a screen printing method and forming a wiring pattern on the insulating layer. SOLUTION: A stainless steel base board is formed in the shape of a suspension 11 by etching. Next, the precursor of polyimide is applied to the stainless steel plate formed in the shape of a suspension by a screen printing method. The base board to which the precursor of polyimide is applied is set inside a furnace, and the temperature of the furnace is increased to harden by heating the precursor of polyimide. Next, exposure treatment and developing treatment are applied to semi-hardened polyimide. After that, the stainless steel base board in which the polyimide is patterned is set again inside the furnace to completely imidize the semi-hardened polyimide, thereby forming an insulating layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、磁気ディスク装
置に備えられた磁気ディスクから信号を読み出し、また
磁気ディスクへ信号を書き込む磁気ヘッドが装着されて
いる浮動ヘッド・スライダ(以下、スライダという)を
支持するサスペンションの製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a floating head slider (hereinafter referred to as slider) equipped with a magnetic head for reading signals from and writing signals to a magnetic disk provided in a magnetic disk device. The present invention relates to a method of manufacturing a suspension to be supported.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気ディスク装置、例えばハード
・ディスク・ドライブを小型にし、かつ大容量とする要
求が高まってきている。この要求に対処するためには、
ハード・ディスク・ドライブに備えられたスライダの形
状を小さくし、かつその浮上量を低くする必要がある。
例えば、長さを2mm以下、幅を1.6mm以下、厚さ
を0.43mm以下の形状とし、0.1μm以下の浮上
量とする必要がある。図5は、従来のスライダの周辺部
を示す斜視図である。スライダ21には磁気ヘッドが装
着されており、このスライダ21はサスペンション22
により支持されている。サスペンション22は、磁気ヘ
ッドが取付けらている長方形状のジンバル23と、この
ジンバル23が一端に取付けられ、図示しないアームが
他端に設けられたベース・プレート24を介して取付け
られるロード・ビーム25により構成されている。そし
て、スライダ21の端子と図示しない駆動回路の端子と
を接続するリード線26が、サスペンション22の周囲
に配線されている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for miniaturizing magnetic disk devices, such as hard disk drives, and increasing their capacity. To address this requirement,
It is necessary to reduce the shape of the slider provided in the hard disk drive and reduce the flying height thereof.
For example, it is necessary to have a shape having a length of 2 mm or less, a width of 1.6 mm or less, and a thickness of 0.43 mm or less and a flying height of 0.1 μm or less. FIG. 5 is a perspective view showing a peripheral portion of a conventional slider. A magnetic head is mounted on the slider 21, and the slider 21 is a suspension 22.
Supported by The suspension 22 has a rectangular gimbal 23 to which a magnetic head is attached, and a load beam 25 to which a gimbal 23 is attached at one end and a base plate 24 having an arm (not shown) at the other end. It is composed by. A lead wire 26 that connects a terminal of the slider 21 and a terminal of a drive circuit (not shown) is provided around the suspension 22.

【0003】ところで、最近の磁気ヘッドには、再生用
として磁気抵抗効果を利用したMRヘッドが使用されて
きている。ところが、このMRヘッドを使用した場合、
スライダには記録用のインダクティブ・ヘッドも搭載す
る必要があるため、これらの磁気ヘッドの端子と駆動回
路の端子とを接続するリード線の数は従来の2倍になっ
てしまう。従って、スライダはこのリード線の影響を受
けやすくなり、その結果浮上量が変化してしまうという
問題があった。
By the way, as a recent magnetic head, an MR head utilizing a magnetoresistive effect has been used for reproduction. However, when using this MR head,
Since it is also necessary to mount an inductive head for recording on the slider, the number of lead wires connecting the terminals of these magnetic heads and the terminals of the drive circuit will be double that of the conventional one. Therefore, there is a problem that the slider is easily affected by the lead wire, and as a result, the flying height changes.

【0004】この問題を解消する方法として、サスペン
ション上にリード線を薄膜で形成する方法がある。これ
は、磁気ヘッドの端子とリード線とを直接接続せずに、
磁気ヘッドの端子とサスペンション上に形成された薄膜
リード線とを接続する方法である。この方法によれば、
特に、サスペンションを構成するジンバルとロード・ビ
ームが一体成形されている場合には、薄膜リード線をサ
スペンションのアーム取付け部まで延長することが可能
であるため、使用上有利となる。
As a method of solving this problem, there is a method of forming a lead wire with a thin film on the suspension. This is because without directly connecting the terminals of the magnetic head to the lead wires,
This is a method of connecting a terminal of a magnetic head and a thin film lead wire formed on a suspension. According to this method,
In particular, when the gimbal and the load beam forming the suspension are integrally formed, the thin film lead wire can be extended to the arm attachment portion of the suspension, which is advantageous in use.

【0005】この薄膜リード線の断面構造は、例えば特
開平6−215513号公報に記載されているように、
下層から絶縁層、配線パターン層、保護層の3層構造と
なっている。この薄膜リード線が形成されたサスペンシ
ョンの製造方法を図6のフローチャートで説明する。ス
ピン・コート法によりステンレス基板上にポリ・イミド
前駆体を塗布する(ステップSTP1)。そして、ポリ
・イミド前駆体が塗布されたステンレス基板を炉内にセ
ットし(ステップSTP2)、炉内温度を100°C程
度に上昇させてポリ・イミド前駆体を加熱硬化(プリ・
ベーク)する(ステップSTP3)。
The cross-sectional structure of this thin film lead wire is, for example, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 6-215513.
It has a three-layer structure including a lower layer, an insulating layer, a wiring pattern layer, and a protective layer. A method of manufacturing the suspension in which the thin film lead wire is formed will be described with reference to the flowchart of FIG. A poly-imide precursor is applied onto a stainless substrate by spin coating (step STP1). Then, the stainless steel substrate coated with the poly-imide precursor is set in the furnace (step STP2), and the temperature in the furnace is raised to about 100 ° C. to heat-cure the poly-imide precursor (pre-press).
Bake) (step STP3).

【0006】ポリ・イミド前駆体がある程度硬化(半硬
化)したら(ステップSTP4)、ステンレス基板を炉
内から取り出し(ステップSTP5)、半硬化したポリ
・イミドに対して露光処理及び現像処理、即ちフォト・
リソグラフィ法によるパターニングを行う(ステップS
TP6)。その後、ポリ・イミドがパターニングされた
ステンレス基板を炉内に再度セットし(ステップSTP
7)、炉内温度を350°C程度に上昇させて半硬化し
たポリ・イミドを加熱硬化(ポスト・ベーク)し(ステ
ップSTP8)、ポリ・イミドを完全にイミド化させる
(ステップSTP9)。以上の工程により、絶縁層を形
成する。
When the poly-imide precursor is cured (semi-cured) to some extent (step STP4), the stainless substrate is taken out of the furnace (step STP5), and the semi-cured poly-imide is exposed and developed, that is, photo-treated.・
Patterning is performed by the lithography method (step S
TP6). After that, the stainless steel substrate on which the poly-imide is patterned is set again in the furnace (step STP
7) The furnace temperature is raised to about 350 ° C. to heat-cure (post-bak) the semi-cured poly-imide (step STP8) to completely imidize the poly-imide (step STP9). An insulating layer is formed through the above steps.

【0007】ここで、ステンレス基板上が上記絶縁層、
銅パターン層、保護層の3層構造に形成されたか否かを
確認し(ステップSTP10)、まだ3層構造に形成さ
れていないときは、フォト・リソグラフィ法により絶縁
層上に銅の配線パターニングを行う(ステップSTP1
1)。この工程により、絶縁層上に配線パターン層を形
成する。さらに、絶縁層の形成法と同様の工程を行う
(ステップSTP1〜9)。この工程により、配線パタ
ーン層上に保護層を形成する。そして、ステンレス基板
上が3層構造に形成されたときは(ステップSTP1
0)、ステンレス基板をエッチングし(ステップSTP
12)、サスペンション形状に成形し、全ての処理を終
了する。
Here, the above-mentioned insulating layer is on the stainless steel substrate,
It is confirmed whether or not it is formed in the three-layer structure of the copper pattern layer and the protective layer (step STP10), and if it is not formed in the three-layer structure, the copper wiring patterning is performed on the insulating layer by the photolithography method. Do (Step STP1
1). By this step, a wiring pattern layer is formed on the insulating layer. Further, the same process as the method for forming the insulating layer is performed (steps STP1 to 9). By this step, a protective layer is formed on the wiring pattern layer. When the stainless steel substrate has a three-layer structure (step STP1
0), etching the stainless steel substrate (step STP
12), the suspension shape is formed, and all processing is completed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のサスペ
ンションの製造方法の工程中、絶縁層と保護層を形成す
るためのポスト・ベークは、通常は大気雰囲気中で行わ
れる。ところが、このポスト・ベークの際に、ステンレ
ス基板の表面が酸化して酸化膜が形成されるため、その
後にステンレス基板をサスペンション形状にエッチング
する際に、その形状精度が悪化するおそれがあった。こ
の酸化を防止するためには、ポスト・ベーク時の雰囲気
を窒素等に置換して無酸化雰囲気中で行う必要がある。
しかし、無酸化雰囲気の状態にするには、真空チャンバ
等の特殊な装置が必要となる上、真空チャンバ内を真空
に引く手間が掛かるという欠点があった。
During the steps of the above-described conventional method for manufacturing a suspension, the post-baking for forming the insulating layer and the protective layer is usually performed in the atmosphere. However, during this post-baking, the surface of the stainless steel substrate is oxidized to form an oxide film, so that when the stainless steel substrate is subsequently etched into a suspension shape, the shape accuracy may be deteriorated. In order to prevent this oxidation, it is necessary to replace the atmosphere during post-baking with nitrogen or the like and carry out in a non-oxidizing atmosphere.
However, there are drawbacks in that a special apparatus such as a vacuum chamber is required to bring the non-oxidizing atmosphere into a state, and it takes time and effort to draw a vacuum inside the vacuum chamber.

【0009】また、ステンレス基板をサスペンション形
状にエッチングする工程を、ポスト・ベークの工程より
前に行えば、ステンレス基板の表面の酸化を抑えること
ができる。ところが、上記エッチング工程によりステン
レス基板にはサスペンション各部の開口部が形成されて
しまうため、スピン・コート法によりステンレス基板上
にポリ・イミド前駆体を均一の厚さで塗布することがで
きないという問題があった。
If the step of etching the stainless steel substrate into the suspension shape is performed before the post-baking step, the oxidation of the surface of the stainless steel substrate can be suppressed. However, since the opening of each suspension portion is formed in the stainless steel substrate by the above etching process, there is a problem that the poly-imide precursor cannot be applied to the stainless steel substrate with a uniform thickness by the spin coating method. there were.

【0010】この発明は、以上の点に鑑み、サスペンシ
ョン形状を精度良く成形でき、かつサスペンション上に
均一な厚さの絶縁層等を形成できる磁気ディスク装置用
サスペンションの製造方法を提供することを目的として
いる。
In view of the above points, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a suspension for a magnetic disk device, which is capable of accurately forming a suspension shape and forming an insulating layer or the like having a uniform thickness on the suspension. I am trying.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的は、この発明に
よれば、磁気ディスク装置用のサスペンションを製造す
る方法において、基板を前記サスペンションの形状に成
形し、スクリーン印刷法により前記基板上に絶縁層を形
成し、前記絶縁層上に配線パターンを形成することによ
り達成される。
According to the present invention, in the method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device, a substrate is formed into the shape of the suspension, and an insulating film is formed on the substrate by a screen printing method. This is achieved by forming a layer and forming a wiring pattern on the insulating layer.

【0012】上記構成によれば、絶縁層の形成工程にス
クリーン印刷法を用いているので、サスペンション形状
の成形を先に行うことができると共に、パターニング等
の処理が不要となり、サスペンション形状を精度良く成
形することができ、かつサスペンション上に均一な厚さ
の絶縁層を形成することができる。
According to the above construction, since the screen printing method is used in the step of forming the insulating layer, the suspension shape can be formed first, and the processing such as patterning becomes unnecessary, so that the suspension shape can be accurately formed. The insulating layer can be molded and can have a uniform thickness on the suspension.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施の形
態を添付図面を参照して詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施の形態は、この発明の好適な具体例であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、こ
の発明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限
定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるも
のではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below are preferred specific examples of the present invention, and therefore, various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention is not limited to the following description. It is not limited to these forms unless otherwise stated.

【0014】図1(A)及び(B)は、この発明による
磁気ディスク装置用サスペンションの製造方法の実施形
態により製造されたサスペンションを備えたハード・デ
ィスク・ドライブの内部構造例を示す平面図及び側面図
である。このハード・ディスク・ドライブ1のシャーシ
2上には、スピンドル・モータ3及び回動型アクチュエ
ータ4が配設されている。スピンドル・モータ3の軸上
には、ディスク5がクランパ6により挟み込まれてい
る。
FIGS. 1A and 1B are plan views showing an internal structure example of a hard disk drive having a suspension manufactured by an embodiment of a method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to the present invention. It is a side view. A spindle motor 3 and a rotary actuator 4 are arranged on a chassis 2 of the hard disk drive 1. A disk 5 is sandwiched by a clamper 6 on the shaft of the spindle motor 3.

【0015】回動型アクチュエータ4は、回動軸7を挟
んで一方の側にアクチュエータを回動するためのコイル
8及びマグネット9が配設され、他方の側にアクチュエ
ータ長を規定の長さとするためのアーム10が配設され
ている。このアーム10の開放端にはサスペンション1
1が取り付けられている。このサスペンション11の開
放端には磁気ヘッドが装着されたスライダ12が取り付
けられている。サスペンション11は、スライダ12を
所定の荷重でディスク5表面に押しつける役割を担う。
The rotary actuator 4 is provided with a coil 8 and a magnet 9 for rotating the actuator on one side of the rotary shaft 7, and the actuator length is set to a prescribed length on the other side. The arm 10 for is arranged. At the open end of this arm 10, the suspension 1
1 is attached. A slider 12 having a magnetic head is attached to the open end of the suspension 11. The suspension 11 plays a role of pressing the slider 12 against the surface of the disk 5 with a predetermined load.

【0016】このような構成において、その動作例を説
明する。スピンドル・モータ3を駆動させて、ディスク
5を図示矢印R1方向に回転させる。そして、回動型ア
クチュエータ4を駆動させて、磁気ヘッドをディスク5
上の任意のトラックに位置決めさせる。即ち、コイル8
とマグネット9との間で電磁力を発生させ、コイル8を
図示矢印R2方向に回転させ、一体となっているアーム
10、サスペンション11及びスライダ12も連動させ
て図示矢印R3方向に回転させる。そして、ディスク5
上の任意のトラックに位置決めされた磁気ヘッドによ
り、信号を読み書きさせる。
An operation example of such a configuration will be described. The spindle motor 3 is driven to rotate the disk 5 in the direction of arrow R1 in the figure. Then, the rotary actuator 4 is driven to move the magnetic head to the disk 5
Position on any track above. That is, the coil 8
An electromagnetic force is generated between the magnet 9 and the magnet 9 to rotate the coil 8 in the direction of arrow R2 in the figure, and the arm 10, the suspension 11, and the slider 12 which are integrated together are rotated in the direction of arrow R3 in the figure. And disk 5
Signals are read and written by a magnetic head positioned on an arbitrary track above.

【0017】図2は、この発明による磁気ディスク装置
用サスペンションの製造方法の実施形態を示すフローチ
ャートである。ステンレス基板をエッチングし(ステッ
プSTP21)、サスペンション形状に成形する。スク
リーン印刷法によりサスペンション形状に成形されたス
テンレス基板上にポリ・イミド前駆体を塗布する(ステ
ップSTP22)。そして、ポリ・イミド前駆体が塗布
されたステンレス基板を炉内にセットし(ステップST
P23)、炉内温度を350°C程度に上昇させてポリ
・イミド前駆体を加熱硬化(ポスト・ベーク)し(ステ
ップSTP24)、ポリ・イミドを完全にイミド化させ
る(ステップSTP25)。以上の工程により、絶縁層
を形成する。
FIG. 2 is a flow chart showing an embodiment of a method of manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to the present invention. The stainless steel substrate is etched (step STP21) to form a suspension shape. A poly-imide precursor is applied onto a stainless steel substrate formed into a suspension shape by a screen printing method (step STP22). Then, the stainless steel substrate coated with the poly-imide precursor is set in the furnace (step ST
P23), the furnace temperature is raised to about 350 ° C. to heat-cure (post-bak) the poly-imide precursor (step STP24), and the poly-imide is completely imidized (step STP25). An insulating layer is formed through the above steps.

【0018】ここで、ステンレス基板上が絶縁層、配線
パターン層、保護層の3層構造に形成されたか否かを確
認し(ステップSTP26)、まだ3層構造に形成され
ていないときは、フォト・リソグラフィ法により絶縁層
上に銅の配線パターニングを行う(ステップSTP2
7)。この工程により、絶縁層上に配線パターン層を形
成する。さらに、絶縁層の形成法と同様の工程を行う
(ステップSTP21〜25)。この工程により、銅パ
ターン層上に保護層を形成する。そして、ステンレス基
板上が3層構造に形成されたときは(ステップSTP2
6)、全ての処理を終了する。
Here, it is confirmed whether or not the three-layer structure of the insulating layer, the wiring pattern layer, and the protective layer is formed on the stainless steel substrate (step STP26). If the three-layer structure is not formed yet, the photo is performed. -Copper wiring patterning is performed on the insulating layer by the lithography method (step STP2
7). By this step, a wiring pattern layer is formed on the insulating layer. Further, the same process as the method for forming the insulating layer is performed (steps STP21 to 25). By this step, a protective layer is formed on the copper pattern layer. Then, when the three-layer structure is formed on the stainless steel substrate (step STP2
6), all processing is completed.

【0019】このようにして製造されたサスペンション
11は、例えば図3に示す斜視図のような構造となる。
即ち、絶縁層及び保護層は、図に示すような長方形状の
サスペンション11の一端部のC形状の空白部を除くサ
スペンション11の表面に形成される。配線パターン層
は、上記空白部の内部から開口部及び周辺部を通ってサ
スペンション11の他端部まで形成される。従って、ス
ライダ12は、上記空白部の内部に取付けられ、スライ
ダ12の端子と配線パターン層の一端が接続される。
The suspension 11 thus manufactured has a structure as shown in the perspective view of FIG. 3, for example.
That is, the insulating layer and the protective layer are formed on the surface of the suspension 11 excluding the C-shaped blank portion at one end of the rectangular suspension 11 as shown in the figure. The wiring pattern layer is formed from the inside of the blank portion to the other end of the suspension 11 through the opening and the peripheral portion. Therefore, the slider 12 is mounted inside the blank portion, and the terminal of the slider 12 and one end of the wiring pattern layer are connected.

【0020】上述したスクリーン印刷法によりサスペン
ション形状に成形されたステンレス基板上に塗布するポ
リ・イミド前駆体としては、印刷後の加熱硬化時に溶解
し、さらに結合材と相溶して成膜するポリ・イミド微粒
子のフィラ、可溶性ポリ・イミド結合材及び溶解性と乾
燥性が異なる2種類の溶剤から成る混合溶剤を構成成分
とし、チキソトロピ性を持つペースト状ポリ・イミド
(例えば、製品名 PIQ−P100 日立化成工業
(株)製)が用いられる。
The poly-imide precursor to be applied on the stainless steel substrate formed into a suspension shape by the above-mentioned screen printing method is a poly-imide precursor which is dissolved at the time of heating and curing after printing and is further compatible with the binder to form a film. -A paste-like polyimide having thixotropic properties, which is composed of a mixed solvent composed of a filler of imide fine particles, a soluble poly-imide binder, and two kinds of solvents having different solubilities and drying properties (for example, product name PIQ-P100 Hitachi Chemical Co., Ltd. is used.

【0021】また、スクリーン印刷は、例えば以下の条
件で行われる。スクリーンとしては、材質をアモルファ
ス合金、メッシュ数を200、マスクを3次元硬化アク
リル樹脂、ステンシルの厚さを72μmで作製したもの
を用いる。スキージとしては、材質をシリコン・ゴム、
型を角型、ショア硬度を80で作製したものを用いる。
印刷機は、クリアランスを1.5mm、スキージ圧を
0.2MPa、スキージ速度を100m/s、スクレッ
パ速度を100m/sとして駆動する。
Screen printing is performed under the following conditions, for example. As the screen, a screen made of an amorphous alloy, a mesh number of 200, a mask of three-dimensional cured acrylic resin, and a stencil thickness of 72 μm is used. As a squeegee, the material is silicone rubber,
A mold having a square shape and a Shore hardness of 80 is used.
The printing machine is driven with a clearance of 1.5 mm, a squeegee pressure of 0.2 MPa, a squeegee speed of 100 m / s, and a scraper speed of 100 m / s.

【0022】尚、上記実施形態においては、絶縁層及び
保護層をポリ・イミドで形成するようにしたが、これに
限定されるものではなく、絶縁層においては絶縁体であ
ってスクリーン印刷法が適用できるもの、例えばレジス
ト等の高分子膜で形成しても良く、また保護層において
は例えば金メッキ等で形成しても良い。また、保護層自
体を形成しなくても良い。
In the above embodiment, the insulating layer and the protective layer are made of poly-imide. However, the present invention is not limited to this, and the insulating layer is an insulator and the screen printing method is used. Applicable materials such as a polymer film such as a resist may be formed, and the protective layer may be formed by gold plating or the like. Further, the protective layer itself may not be formed.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
真空チャンバ等の特殊な装置を必要とせずに、サスペン
ション形状を精度良く成形でき、かつサスペンション上
に均一な厚さの絶縁層等を形成できるので、大幅なコス
ト・ダウンを図ることができる。
As described above, according to the present invention,
The suspension shape can be accurately formed without forming a special device such as a vacuum chamber, and an insulating layer or the like having a uniform thickness can be formed on the suspension, so that a significant cost reduction can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明による磁気ディスク装置用サスペンシ
ョンの製造方法の実施形態により製造されたサスペンシ
ョンを備えたハード・ディスク・ドライブの内部構造例
を示す平面図及び側面図。
FIG. 1 is a plan view and a side view showing an internal structure example of a hard disk drive including a suspension manufactured by an embodiment of a method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to the present invention.

【図2】この発明による磁気ディスク装置用サスペンシ
ョンの製造方法の実施形態を示すフローチャート。
FIG. 2 is a flowchart showing an embodiment of a method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to the present invention.

【図3】この発明による磁気ディスク装置用サスペンシ
ョンの製造方法の実施形態により製造されたサスペンシ
ョン例を示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a suspension manufactured by an embodiment of a method of manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to the present invention.

【図4】図3に示すサスペンションのA−A線断面斜視
図。
4 is a cross-sectional perspective view of the suspension shown in FIG. 3, taken along the line AA.

【図5】従来のサスペンション例を示す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a conventional suspension.

【図6】従来の磁気ディスク装置用サスペンションの製
造方法の一例を示すフローチャート。
FIG. 6 is a flowchart showing an example of a conventional method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ハード・ディスク・ドライブ 2 シャーシ 3 スピンドル・モータ 4 回動型アクチュエータ 5 ディスク 6 クランパ 7 回動軸 8 コイル 9 マグネット 10 アーム 11 サスペンション 12 スライダ 1 Hard Disk Drive 2 Chassis 3 Spindle Motor 4 Rotating Actuator 5 Disk 6 Clamper 7 Rotating Shaft 8 Coil 9 Magnet 10 Arm 11 Suspension 12 Slider

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ディスク装置用のサスペンションを
製造する方法において、 基板を前記サスペンションの形状に成形し、 スクリーン印刷法により前記基板上に絶縁層を形成し、 前記絶縁層上に配線パターンを形成することを特徴とす
る磁気ディスク装置用サスペンションの製造方法。
1. A method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device, wherein a substrate is formed into the shape of the suspension, an insulating layer is formed on the substrate by a screen printing method, and a wiring pattern is formed on the insulating layer. A method of manufacturing a suspension for a magnetic disk device, comprising:
【請求項2】 前記スクリーン印刷法により前記配線パ
ターン上に保護層を形成する請求項1に記載の磁気ディ
スク装置用サスペンションの製造方法。
2. The method for manufacturing a suspension for a magnetic disk device according to claim 1, wherein a protective layer is formed on the wiring pattern by the screen printing method.
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