JPH09128958A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH09128958A
JPH09128958A JP28518995A JP28518995A JPH09128958A JP H09128958 A JPH09128958 A JP H09128958A JP 28518995 A JP28518995 A JP 28518995A JP 28518995 A JP28518995 A JP 28518995A JP H09128958 A JPH09128958 A JP H09128958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
time
dummy
writing
output
Prior art date
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Pending
Application number
JP28518995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Senoo
克徳 妹尾
Kiyoshi Miura
清志 三浦
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP28518995A priority Critical patent/JPH09128958A/en
Publication of JPH09128958A publication Critical patent/JPH09128958A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device which avoids the increase of area and complex control, can deal with the size structure variable parametric RAM and allows easy and exact control and the reduction of current consumption at the time of writing operation. SOLUTION: A control circuit 1a detects the readout data of the dummy memory cell DMC arranged in the cell array and makes the enable signal EN inactive to control the finish of the readout operation at the time of readout. Similarly at the time of writing, it inactivates the enable signal EN based on the output of the dummy memory cell DMC to control the finish of the writing operation. By this, the installation of an exclusive pulse generator is made unnecessary and the increase of area and complex control is avoided. And since even the parametric RAM of variable size constitution can produce activated pulses in accordance with its delay, control is kept easy and exact.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、メモリセルが接続
されるビット線に対する充放電によりデータの読み出し
/書き込みを行うスタティックRAM(SRAM)等の
半導体メモリ装置に係り、特に、書き込み系回路の改良
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as a static RAM (SRAM) which reads / writes data by charging / discharging a bit line to which a memory cell is connected, and more particularly, to an improvement of a write circuit. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ダミーメモリセルを利用して
読み出しデータが出力されたことを検知し、センスアン
プを活性化させたり、またはセンス完了を検知してセン
スアンプを不活性化させ、読み出し動作を終了させたり
するメモリ装置が知られている。また、書き込み動作に
関しては、内部に書き込みパスルを発生させるタイミン
グ回路を設け、一定時間後に書き込み動作を終了させる
メモリ装置や、ASIC等で広く用いられている同期型
でクロックの前半でメモリセルが接続されるビット線を
プリチャージし、後半でワード線をアクティブにして書
き込みを行うメモリ装置が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a dummy memory cell is used to detect the output of read data to activate a sense amplifier, or to detect the completion of sensing to deactivate a sense amplifier to read data. A memory device that terminates an operation is known. Regarding the write operation, a timing circuit for generating a write pulse is provided inside, and a memory device that terminates the write operation after a certain period of time, or a synchronous type that is widely used in ASICs and the like, connects memory cells in the first half of the clock. There is known a memory device that precharges a bit line to be written and activates a word line in the latter half to perform writing.

【0003】図11は、ダミーメモリセルを利用して読
み出しデータが出力されたことを検知し、読み出し動作
を終了させる回路と、内部に書き込みパスルを発生させ
るタイミング回路を持ち、一定時間後に書き込み動作を
終了させるメモリ装置の従来例の概念図である。また、
図12は、図11の装置の読み出しおよび書き込み時の
タイミングチャートである。
FIG. 11 has a circuit for detecting the output of read data using a dummy memory cell and ending the read operation, and a timing circuit for internally generating a write pulse. FIG. 10 is a conceptual diagram of a conventional example of a memory device that ends the process. Also,
FIG. 12 is a timing chart at the time of reading and writing of the device of FIG.

【0004】このメモリ装置は、行列状にメモリセル、
たとえばSRAMセルが配列され、図11に示すよう
に、同一列に属すメモリセルMC1k,MC2k,MC3k,
MC4k(図11では4行としている)が一対のビット線
BLk,BLBkに接続され、これらビット線BLk、
BLBkはnチャネルMOS(NMOS)トランジスタ
からなるカラムゲートCGk,CGBkを介してセンス
アンプSAkに接続されている。そして、通常のメモリ
セルアレイに加えて1列のダミーメモリセルDMC1,
DMC2,DMC3,DMC4が各行毎に設けられてい
る。これらダミーメモリセルDMC1,DMC2,DM
C3,DMC4は一対のダミービット線DBL,DBL
Bに接続され、これらダミービット線DBL,DBLB
はカラムゲートDCG,DCGBを介してダミー用出力
判定器および制御回路1に接続されている。そして、各
行のメモリセルおよびダミーメモリセルは共通のワード
線WL1,WL2,WL3,WL4に接続され、これら
ワード線WL1,WL2,WL3,WL4はバッファB
F1,BF2,BF3,BF4を介してロウデコーダR
DCにより駆動される。また、カラムゲートCGk,C
GBk,DCG,DCGBの各ゲート電極はカラムデコ
ーダCDCの共通の出力ラインに接続されている。
This memory device has memory cells arranged in rows and columns.
For example, SRAM cells are arranged and, as shown in FIG. 11, memory cells MC1k, MC2k, MC3k,
MC4k (four rows in FIG. 11) is connected to a pair of bit lines BLk, BLBk, and these bit lines BLk, BLk,
BLBk is connected to the sense amplifier SAk via column gates CGk and CGBk which are n-channel MOS (NMOS) transistors. In addition to the normal memory cell array, one column of dummy memory cells DMC1,
DMC2, DMC3, DMC4 are provided for each row. These dummy memory cells DMC1, DMC2, DM
C3 and DMC4 are a pair of dummy bit lines DBL, DBL
B of the dummy bit lines DBL, DBLB
Is connected to the dummy output determiner and the control circuit 1 through column gates DCG and DCGB. The memory cells and dummy memory cells in each row are connected to common word lines WL1, WL2, WL3, WL4, and these word lines WL1, WL2, WL3, WL4 are buffer B.
Row decoder R via F1, BF2, BF3, BF4
It is driven by DC. Also, the column gates CGk, C
The gate electrodes of GBk, DCG and DCGB are connected to the common output line of the column decoder CDC.

【0005】また、書き込みパルス発生器2で発生され
る書き込みイネーブル信号WENはロウデコーダRD
C、カラムデコーダCDCおよび書き込み回路3に供給
される。また、制御回路1の出力制御信号である読み出
しイネーブル信号RENはセンスアンプSAk、ロウデ
コーダRDCおよびカラムデコーダCDCに供給され
る。また、センスアンプSAkは出力回路4に接続され
ている。
The write enable signal WEN generated by the write pulse generator 2 is a row decoder RD.
C, column decoder CDC and write circuit 3 are supplied. Further, the read enable signal REN which is an output control signal of the control circuit 1 is supplied to the sense amplifier SAk, the row decoder RDC and the column decoder CDC. The sense amplifier SAk is connected to the output circuit 4.

【0006】このような構成において、読み出しおよび
書き込み動作の終了手順は次のように行われる。まず、
読み出し時は、図12(a)に示すように、読み出しサ
イクルの始めにハイレベルとなった読み出しイネーブル
信号RENが、セルアレイ中に配置されたダミーメモリ
セルからの読み出しデータが制御回路1で検知された結
果、ローレベルに切り替えられてセンスアンプSAk、
ロウデコーダRDCおよびカラムデコーダCDCに供給
される。これにより、センスアンプSAk、ロウデコー
ダRDCおよびカラムデコーダCDCはディセイブル状
態となり、内部読み出し動作が終了され、次サイクルの
ためのプリチャージが開始される。
In such a structure, the procedure for ending the read and write operations is performed as follows. First,
At the time of reading, as shown in FIG. 12A, the control circuit 1 detects the read data from the dummy memory cells arranged in the cell array when the read enable signal REN which becomes high level at the beginning of the read cycle. As a result, the sense amplifier SAk is switched to the low level,
It is supplied to the row decoder RDC and the column decoder CDC. As a result, the sense amplifier SAk, the row decoder RDC, and the column decoder CDC enter the disable state, the internal read operation is completed, and the precharge for the next cycle is started.

【0007】書き込み時は、図12(b)に示すよう
に、書き込みパルス発生器2によりハイレベルの書き込
みイネーブル信号WENが発生され、ロウデコーダRD
C、カラムデコーダCDCおよび書き込み回路3に供給
される。これにより、書き込み回路3により書き込み動
作が行われ、その終了の制御も書き込みイネーブル信号
WENにレベルの切り替えに基づいて行われる。
At the time of writing, as shown in FIG. 12B, a high level write enable signal WEN is generated by the write pulse generator 2, and the row decoder RD is generated.
C, column decoder CDC and write circuit 3 are supplied. As a result, the write operation is performed by the write circuit 3, and the end control is also performed based on the level switching of the write enable signal WEN.

【0008】図13は、同期型でクロックの前半でメモ
リセルが接続されるビット線をプリチャージし、後半で
ワード線をアクティブにして書き込みを行う従来のメモ
リ装置の回路図である。また、図14は、図13の装置
の読み出しおよび書き込み時のタイミングチャートであ
る。
FIG. 13 is a circuit diagram of a conventional memory device which is synchronous and precharges a bit line to which a memory cell is connected in the first half of a clock and activates a word line in the latter half to perform writing. Further, FIG. 14 is a timing chart at the time of reading and writing of the device of FIG.

【0009】この回路では、メモリセルMC1k,MC1m
等は,インバータI1,I2の入出力同士を接続したフ
リップフロップからなるSRAMセルを例に示してお
り、同一行に配置されたメモリセルMC1k,MC1mのア
クセストランジスタA1,A2のゲート電極が共通のワ
ード線WL1等に接続されている。
In this circuit, the memory cells MC1k, MC1m
Show an example of an SRAM cell composed of a flip-flop in which the inputs and outputs of the inverters I1 and I2 are connected, and the gate electrodes of the access transistors A1 and A2 of the memory cells MC1k and MC1m arranged in the same row are common. It is connected to the word line WL1 and the like.

【0010】そして、書き込み時、ロウデコーダRDC
において、ローアドレスRADから選択すべきワード線
WLが1本選ばれる。その選択信号は所定の2入力アン
ドゲートAD1,AD2,…の一方の入力端子に供給さ
れる。そして、2入力アンドゲートAD1等の他方の入
力端子には、インバータINV1を介したクロック信号
CLKが供給される。したがって、クロック信号CLK
がローレベルのときのみ、被選択ワード線WLがハイレ
ベルになるように駆動される。ビット線対BLk,BL
Bk、BLm,BLBmは、カラムゲートCGk,CG
Bk、CGm,CGBmを介してデータ線D、DBに接
続されている。カラムゲートCGk,CGBk、CG
m,CGBmはカラムアドレスCADからカラムデコー
ダCDCにおいて、1対のみオン状態に制御され、残り
はオフ状態に制御される。
At the time of writing, the row decoder RDC
, One word line WL to be selected is selected from the row address RAD. The selection signal is supplied to one input terminal of a predetermined 2-input AND gate AD1, AD2, .... Then, the clock signal CLK via the inverter INV1 is supplied to the other input terminal of the 2-input AND gate AD1 and the like. Therefore, clock signal CLK
The selected word line WL is driven to the high level only when is at the low level. Bit line pair BLk, BL
Bk, BLm, BLBm are column gates CGk, CG
The data lines D and DB are connected through Bk, CGm, and CGBm. Column gate CGk, CGBk, CG
In the column decoder CDC, only one pair of m and CGBm are controlled to be in the on state and the rest are controlled to be in the off state.

【0011】書き込みデータDinはバッファBUF2
を介してクロック信号CLKの立ち下がりのタイミング
でラッチ回路LTCにラッチされるようになっている。
そして、ラッチ回路LTCの出力データはバッファBU
F3,BUF4を介してデータ線Dに伝搬され、バッフ
ァBUF3,BUF5,INV2を介して反転用データ
線DBに伝搬される。また、PTk,PTBk、PT
m,PTBmはビット線のプリチャージ用トランジスタ
であり、ゲート電極にバッファBUF1を介したクロッ
ク信号CLKが入力されて、オン、オフ制御される。
The write data Din is stored in the buffer BUF2.
Is latched in the latch circuit LTC at the timing of the fall of the clock signal CLK.
The output data of the latch circuit LTC is stored in the buffer BU.
It is propagated to the data line D via F3 and BUF4, and is propagated to the inversion data line DB via buffers BUF3, BUF5 and INV2. Also, PTk, PTBk, PT
m and PTBm are precharge transistors for bit lines, and the gate electrode receives the clock signal CLK via the buffer BUF1 to be turned on / off.

【0012】このような構成において、書き込み時は、
図14に示すように、クロック信号CLKがハイレベル
の期間、全ワード線WLのレベルはローレベルに保持さ
れ、全ビット線BLk,BLBk、BLm,BLBmは
電源電圧VCCレベル(ハイレベル)にプリチャージされ
る。そして、クロック信号CLKがローレベルの切り換
わると、選択されたワード線(WLi )がハイレベルに
なり、選択されたカラム信号CLMがハイレベルに保持
される。このときに、ビット線BLkとBLBkは書き
込みデータDinの値に応じて、いずれかはハイレベル
のままに保持され、もう一方はローレベルの遷移し、メ
モリセルMC1k等にそのデータが書き込まれる。
In such a structure, at the time of writing,
As shown in FIG. 14, while the clock signal CLK is at the high level, the levels of all the word lines WL are held at the low level, and all the bit lines BLk, BLBk, BLm, BLBm are set to the power supply voltage V CC level (high level). Precharged. Then, when the clock signal CLK switches to the low level, the selected word line (WL i ) becomes the high level, and the selected column signal CLM is held at the high level. At this time, one of the bit lines BLk and BLBk is held at the high level and the other is changed to the low level according to the value of the write data Din, and the data is written to the memory cell MC1k or the like.

【0013】選択されなかったビット線BLm ,BLB
m 等はメモリセルMC1m等のデータに応じて、メモリセ
ルを通じて、どちらか一方がローレベルに放電される。
このスピードはメモリセルの能力によるが、通常は書き
込みのスピードより遅い。この電荷の放電は書き込み動
作そのものには不要なものであり、無駄な電力消費であ
る。しかし、このプリチャージを行わないと非選択ビッ
ト線では予期しないメモリセルへの書き込みが発生する
ため、少なくとも通常はメモリセルのアクセストランジ
スタがオフなる程度の電位へのプリチャージが必要であ
る。
Unselected bit lines BL m , BLB
Either m or the like is discharged to a low level through the memory cell according to the data of the memory cell MC1m or the like.
This speed depends on the capacity of the memory cell, but is usually slower than the writing speed. This discharge of electric charge is unnecessary for the writing operation itself, and wastes power. However, if this precharge is not performed, unpredictable writing to the memory cell occurs in the non-selected bit line, so that at least normally, it is necessary to precharge to a potential at which the access transistor of the memory cell is turned off.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た図11のメモリ装置では、読み出し系のタイミング回
路と書き込み系のタイミング回路は、その片方もしくは
両方であるが別々に設けられていることから、チップ面
積の増加や制御の煩雑化等の無駄が生じていた。また、
構成サイズ可変のパラメトリック型では読み出し時間は
ダミーメモリセルを使ってその構成に応じてフレキシブ
ルにタイミングを発生させることができるが、書き込み
時間のタイミング生成は難しかった。
However, in the above-described memory device of FIG. 11, the read-related timing circuit and the write-related timing circuit are provided separately for one or both of them. There is waste such as an increase in area and complicated control. Also,
In the parametric type with variable configuration size, the read time can be generated flexibly according to the configuration by using the dummy memory cells, but it was difficult to generate the write time timing.

【0015】また、図13のメモリ装置の同期型プリチ
ャージ方式の書き込みでは、サイクルの後半はワード線
はずっとアクティブで、その間書き込み状態が続く。こ
れはプリチャージタイプであるため、書き込み時ビット
線の負荷はオフのためDC電流は流れないが、非選択カ
ラムのビット線ではビット線対のどちらか一方はメモリ
セルによって放電が行われる。この電流は書き込みの点
からは無駄なものである。特にサイクル時間の半分がこ
の放電時間と同等以上のとき、最大となる。
Further, in the writing of the synchronous precharge method of the memory device of FIG. 13, the word line is active during the latter half of the cycle, and the writing state continues during that time. Since this is a precharge type, no DC current flows because the load of the bit line is off at the time of writing, but in the bit line of the non-selected column, either one of the bit line pairs is discharged by the memory cell. This current is useless in terms of writing. Especially, when the half of the cycle time is equal to or longer than this discharge time, it becomes the maximum.

【0016】こののように、同期型SRAMでDC電流
はないものの、ビット線充放電電流がAC電流の大半で
ある。通常カラム数は2〜16程度が用いられ、そのう
ち1本のみが書き込みに使われ、残るビット線での充放
電は書き込みの観点からは無駄なものである。
As described above, although the synchronous SRAM has no DC current, the bit line charging / discharging current is the majority of the AC current. Usually, about 2 to 16 columns are used, and only one of them is used for writing, and charging / discharging of the remaining bit lines is useless from the viewpoint of writing.

【0017】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、面積増加や制御の煩雑化を防
ぎ、サイズ構成可変のパラメトリック型RAMにも対応
可能で、制御が容易かつ正確にでき、また、書き込み動
作時の消費電流を小さくできる半導体メモリ装置を提供
することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to prevent an increase in area and complication of control, and to be compatible with a parametric RAM having a variable size configuration, which is easy and accurate to control. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of achieving low power consumption and reducing current consumption during a write operation.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、ダミーメモリセルの出力に基づいてメ
モリ動作を制御する半導体メモリ装置であって、読み出
し時に、上記ダミーメモリセルからのデータ出力を受け
ると、読み出し動作を終了させ、かつ、書き込み時に、
上記ダミーメモリセルからのデータ出力を受けると、書
き込み動作を終了させる制御手段を有する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor memory device for controlling a memory operation based on an output of a dummy memory cell, wherein the data from the dummy memory cell is read at the time of reading. When the output is received, the read operation is completed, and at the time of writing,
It has a control means for ending the write operation when receiving the data output from the dummy memory cell.

【0019】また、本発明の半導体メモリ装置では、上
記制御手段は、書き込み動作を終了させ、次サイクルの
ためのビット線のプリチャージ動作を行う。
Further, in the semiconductor memory device of the present invention, the control means terminates the write operation and performs the bit line precharge operation for the next cycle.

【0020】また、本発明は、同期型でクロックの前半
でメモリセルが接続されるビット線をプリチャージし、
後半でワード線をアクティブにして書き込みを行う半導
体メモリ装置であって、書き込み時間を、メモリセルが
反転するのに必要な時間より長く、1/2サイクル時間
より短い時間およびビット線が放電してしまう時間より
短い時間に設定し、その時間のみワード線をアクティブ
にする手段を有する。
Further, according to the present invention, the bit line to which the memory cell is connected is precharged in the first half of the clock in the synchronous type,
In a semiconductor memory device for performing writing by activating the word line in the latter half, the write time is longer than the time required to invert the memory cell and shorter than 1/2 cycle time, and the bit line is discharged. It has a means for setting the time shorter than the dead time and activating the word line only for that time.

【0021】また、本発明は、同期型でクロックの前半
でメモリセルが接続されるビット線をプリチャージし、
後半でワード線をアクティブにして書き込みを行う半導
体メモリ装置であって、ダミーメモリセルを備え、上記
ダミーメモリセルへの書き込み完了を検知して、ワード
線のアクティブ時間を制御する手段を有する。
Further, according to the present invention, the bit line to which the memory cell is connected is precharged in the first half of the clock in the synchronous type,
A semiconductor memory device for performing writing by activating a word line in the latter half, including a dummy memory cell, and having means for detecting completion of writing to the dummy memory cell and controlling an active time of the word line.

【0022】本発明の半導体メモリ装置によれば、読み
出し時には、セルアレイ中に配置したダミーメモリセル
の読み出し遅延が検知され読み出し動作の終了制御が行
われる。同様に、書き込み時にも、ダミーメモリセルの
出力に基づき書き込み動作の終了制御が行われる。した
がって、書き込み専用のパスル発生器を設ける必要がな
く、面積増加や制御の煩雑化を防げ、また、サイズ構成
可変のパラメトリック型RAMでもその遅延に追従した
活性化パルスを生成できるので、制御が容易かつ正確に
できる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, at the time of reading, the read delay of the dummy memory cells arranged in the cell array is detected and the end control of the read operation is performed. Similarly, also at the time of writing, the end control of the writing operation is performed based on the output of the dummy memory cell. Therefore, it is not necessary to provide a pulse generator dedicated to writing, an increase in area and complexity of control can be prevented, and an activation pulse that follows the delay can be generated even in a parametric RAM with a variable size configuration, which facilitates control. And can be accurate.

【0023】また、本発明の半導体メモリ装置によれ
ば、ワード線をアクティブにする時間をメモリセル時間
より長く、1/2サイクルより短く設定される。これに
より、非選択カラムのビット線の放電量が小さくなり、
書き込み時の消費電流を小さくできる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the time for activating the word line is set longer than the memory cell time and shorter than 1/2 cycle. This reduces the amount of discharge on the bit lines in the non-selected columns,
The current consumption during writing can be reduced.

【0024】また、本発明の半導体メモリ装置によれ
ば、ダミーメモリセルへの書き込み完了が検知され、そ
の結果に基づきワード線のアクティブ時間が制御され
る。これにより、ワード線およびビット線遅延、あるい
はプロセスバラツキなどがあっても、メモリセルへの書
き込みを保証することができ、同時に消費電流を小さく
することができる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the completion of writing to the dummy memory cell is detected, and the active time of the word line is controlled based on the result. As a result, even if there is a word line and bit line delay or process variations, writing to the memory cell can be guaranteed, and at the same time current consumption can be reduced.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】第1実施形態 図1は、本発明に係る半導体メモリ装置の第1の実施形
態を示すブロック図である。本装置は、ダミーメモリセ
ルを利用して読み出しデータが出力されたことを検知
し、メモリ動作を制御する半導体メモリ装置において、
ダミーメモリセルからの読み出しデータ出力検知による
制御信号を読み出しだけでなく、書き込み動作の制御に
も利用するような構成となっている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First Embodiment FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. This device detects a read data output using a dummy memory cell and controls the memory operation in a semiconductor memory device,
The control signal based on the detection of the read data output from the dummy memory cell is used not only for reading but also for controlling the writing operation.

【0026】図1においては、従来例を示す図12と同
一構成部分は同一符号をもって表している。すなわち、
このメモリ装置は、行列状にメモリセル、たとえばSR
AMセルが配列され、同一列に属すメモリセルMC1k,
MC2k,MC3k,MC4k(図1では4行)が一対のビッ
ト線BLk,BLBkに接続され、これらビット線BL
k、BLBkはnチャネルMOS(NMOS)トランジ
スタからなるカラムゲートCGk,CGBkを介してセ
ンスアンプSAkに接続されている。そして、通常のメ
モリセルアレイに加えて1列のダミーメモリセルDMC
1,DMC2,DMC3,DMC4が各行毎に設けられ
ている。これらダミーメモリセルDMC1,DMC2,
DMC3,DMC4は一対のダミービット線DBL,D
BLBに接続され、これらダミービット線DBL,DB
LBはカラムゲートDCG,DCGBを介してダミー用
出力判定器および制御回路(以下、制御回路という)1
aに接続されている。そして、各行のメモリセルおよび
ダミーメモリセルは共通のワード線WL1,WL2,W
L3,WL4に接続され、これらワード線WL1,WL
2,WL3,WL4はバッファBF1,BF2,BF
3,BF4を介してロウデコーダRDCにより駆動され
る。また、カラムゲートCGk,CGBk,DCG,D
CGBの各ゲート電極はカラムデコーダCDCの共通の
出力ラインに接続されている。
In FIG. 1, the same components as in FIG. 12 showing the conventional example are represented by the same reference numerals. That is,
This memory device has memory cells, for example, SRs, arranged in a matrix.
Memory cells MC1k in which AM cells are arranged and belong to the same column,
MC2k, MC3k, MC4k (four rows in FIG. 1) are connected to a pair of bit lines BLk, BLBk, and these bit lines BL
k and BLBk are connected to a sense amplifier SAk via column gates CGk and CGBk which are n-channel MOS (NMOS) transistors. In addition to the normal memory cell array, one column of dummy memory cells DMC
1, DMC2, DMC3, DMC4 are provided for each row. These dummy memory cells DMC1, DMC2,
DMC3 and DMC4 are a pair of dummy bit lines DBL and D
Connected to the BLB, and these dummy bit lines DBL, DB
LB is a dummy output determiner and control circuit (hereinafter referred to as a control circuit) 1 via column gates DCG and DCGB.
a. The memory cells and the dummy memory cells in each row share the common word lines WL1, WL2, W
These word lines WL1 and WL are connected to L3 and WL4.
2, WL3, WL4 are buffers BF1, BF2, BF
3, driven by the row decoder RDC via BF4. In addition, column gates CGk, CGBk, DCG, D
Each gate electrode of CGB is connected to a common output line of the column decoder CDC.

【0027】制御回路1aは、読み出し時および書き込
み時に、アクセスが開始されると、イネーブル信号EN
をハイレベルでセンスアンプSAk、ロウデコーダRD
C、カラムデコーダCDCおよび書き込み回路3に供給
し、これら回路をアクティブ状態とし、ダミーメモリセ
ルが読み出されダミービット線DBL,DBLBに現れ
た信号を受けると、イネーブル信号ENをローレベルに
切り換えてセンスアンプSAk、ロウデコーダRDC、
カラムデコーダCDC、書き込み回路3を非アクティブ
状態に制御する。
The control circuit 1a enables the enable signal EN when access is started during reading and writing.
At a high level, the sense amplifier SAk and the row decoder RD
C, the column decoder CDC and the write circuit 3 are supplied to activate these circuits, and when the dummy memory cells are read and the signals appearing on the dummy bit lines DBL and DBLB are received, the enable signal EN is switched to the low level. Sense amplifier SAk, row decoder RDC,
The column decoder CDC and the write circuit 3 are controlled to the inactive state.

【0028】次に、上記構成による動作を、図2のタイ
ミングチャートを参照しつつ説明する。読み出し時は、
クロックが変わるかアドレスが変わりアクセスが開始さ
れると、図2(a)に示すように、制御回路1aからハ
イレベルのイネーブル信号ENがセンスアンプSAk、
ロウデコーダRDCおよびカラムデコーダCDCに供給
される。これにより、センスアンプSAk、ロウデコー
ダRDCおよびカラムデコーダCDCはアクティブ状態
に制御される。そして、ロウデコーダRDCにおいて、
ローアドレスRADから選択すべきワード線WLが1本
選ばれ、被選択ワード線WLがハイレベルになるように
駆動される。同時に、カラムデコーダCDCにおいて、
カラムアドレスに基づきカラムゲートCGk,CGB
k、DCG,DCGBが導通状態に制御される。これに
より、アドレス指定されたメモリセル、たとえばMC1k
に記憶されているデータに応じたレベルの信号がビット
線BLk,BLBkに現れ、この信号がセンスアンプS
Akで増幅されて出力回路4から出力データDout とし
て出力される。
Next, the operation of the above configuration will be described with reference to the timing chart of FIG. When reading
When the clock is changed or the address is changed and the access is started, as shown in FIG. 2A, the high level enable signal EN is sent from the control circuit 1a to the sense amplifier SAk,
It is supplied to the row decoder RDC and the column decoder CDC. As a result, the sense amplifier SAk, the row decoder RDC and the column decoder CDC are controlled in the active state. Then, in the row decoder RDC,
One word line WL to be selected is selected from the row address RAD, and the selected word line WL is driven to the high level. At the same time, in the column decoder CDC,
Column gates CGk, CGB based on column address
k, DCG, and DCGB are controlled to be conductive. This allows addressed memory cells, eg MC1k
A signal of a level corresponding to the data stored in the bit line BLk, BLBk appears on the sense amplifier S
It is amplified by Ak and output from the output circuit 4 as output data Dout.

【0029】また、ワード線WLが駆動されると、所定
のダミーメモリセルのデータがダミービット線DBL/
DBLBに信号として現れ、制御回路1aに入力され
る。制御回路1aでは、ダミービット線DBL/DBL
Bの信号入力に基づき、データが出力されたことが検知
され、その結果、イネーブル信号ENがハイレベルから
ローレベルに切り換えられる。これに伴い、センスアン
プSAk、ロウデコーダRDCおよびカラムデコーダC
DCが非アクティブ状態に制御されて、内部の読み出し
動作が終了し、次のサイクルのためにプリチャージ動作
に入る。
When the word line WL is driven, the data of a predetermined dummy memory cell is transferred to the dummy bit line DBL /
It appears as a signal on DBLB and is input to the control circuit 1a. In the control circuit 1a, the dummy bit lines DBL / DBL
Based on the B signal input, it is detected that the data is output, and as a result, the enable signal EN is switched from the high level to the low level. Along with this, the sense amplifier SAk, the row decoder RDC, and the column decoder C
The DC is controlled to the inactive state, the internal read operation is completed, and the precharge operation is started for the next cycle.

【0030】書き込み時は、図2(b)に示すように、
読み出しと同様の機構によりアクセス開始時にイネーブ
ル信号ENがハイレベルに設定されて、書き込み回路
3、センスアンプSAk、ロウデコーダRDCおよびカ
ラムデコーダCDCはアクティブ状態に制御される。そ
して、ロウデコーダRDCにおいて、ローアドレスRA
Dから選択すべきワード線WLが1本選ばれ、被選択ワ
ード線WLがハイレベルになるように駆動される。同時
に、カラムデコーダCDCにおいて、カラムアドレスに
基づきカラムゲートCGk,CGBk、DCG,DCG
Bが導通状態に制御される。これにより、アドレス指定
されたメモリセルに対して、書き込み回路3により書き
込みデータDinがビット線BLk,BLBkに伝搬さ
れ、アドレス信号のメモリセルに書き込まれる。
At the time of writing, as shown in FIG.
The enable signal EN is set to a high level at the start of access by a mechanism similar to reading, and the write circuit 3, the sense amplifier SAk, the row decoder RDC, and the column decoder CDC are controlled to be in an active state. Then, in the row decoder RDC, the row address RA
One word line WL to be selected is selected from D, and the selected word line WL is driven so as to have a high level. At the same time, in the column decoder CDC, the column gates CGk, CGBk, DCG, DCG based on the column address.
B is controlled to be conductive. As a result, with respect to the addressed memory cell, the write data Din is propagated to the bit lines BLk and BLBk by the write circuit 3 and written in the memory cell of the address signal.

【0031】また、ワード線WLが駆動されると、所定
のダミーメモリセルのデータがダミービット線DBL/
DBLBに信号として現れ、制御回路1aに入力され
る。制御回路1aでは、ダミービット線DBL/DBL
Bの信号入力に基づき、データが出力されたことが検知
され、その結果、イネーブル信号ENがハイレベルから
ローレベルに切り換えられる。これに伴い、書き込み回
路3、センスアンプSAk、ロウデコーダRDCおよび
カラムデコーダCDCが非アクティブ状態に制御され
て、内部の書き込み動作が終了し、上述した読み出し動
作と同様に、次のサイクルのためにプリチャージ動作に
入る。
When the word line WL is driven, the data of a predetermined dummy memory cell is transferred to the dummy bit line DBL /
It appears as a signal on DBLB and is input to the control circuit 1a. In the control circuit 1a, the dummy bit lines DBL / DBL
Based on the B signal input, it is detected that the data is output, and as a result, the enable signal EN is switched from the high level to the low level. Along with this, the write circuit 3, the sense amplifier SAk, the row decoder RDC, and the column decoder CDC are controlled to the inactive state, and the internal write operation ends, and like the read operation described above, for the next cycle. Enter the precharge operation.

【0032】なお、ダミーメモリセルの読み出し遅延で
書き込みタイミングを制御できる理由は、書き込み時間
より読み出し時間の方が長いからである。読み出しはメ
モリセルの小さなトランジスタよりビット線が放電され
る動作となるが、書き込みは大きなサイズのトランジス
タ(ライトバッファ)により同じビット線が放電される
動作となるからである。
The reason why the write timing can be controlled by the read delay of the dummy memory cell is that the read time is longer than the write time. This is because the read operation is an operation in which the bit line is discharged from the small transistor of the memory cell, while the write operation is an operation in which the same bit line is discharged by the large size transistor (write buffer).

【0033】以上説明したように、本第1の実施形態に
よれば、セルアレイ中に配置したダミーメモリセルの読
み出し遅延を検知して読み出し制御だけでなく、書き込
み動作の制御も行うようにしたので、書き込み専用のパ
スル発生器を設ける必要がなく、面積増加や制御の煩雑
化を防げる。また、サイズ構成可変のパラメトリック型
RAMでもその遅延に追従した活性化パルスを生成でき
るので、制御が容易かつ正確にできる。
As described above, according to the first embodiment, the read delay of the dummy memory cells arranged in the cell array is detected to perform not only the read control but also the write operation control. Since it is not necessary to provide a pulse generator dedicated to writing, it is possible to prevent an increase in area and complication of control. In addition, even in a parametric RAM having a variable size configuration, an activation pulse can be generated following the delay, so that control can be performed easily and accurately.

【0034】第2実施形態 図3は、本発明に係る半導体メモリ装置の第2の実施形
態を示す回路図である。図3の装置は、図1に示す概念
的なメモリ装置の具体的な回路例を示すものであって、
アドレス入力にフリップフロップを持った同期型メモリ
装置である。
Second Embodiment FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. The device of FIG. 3 shows a specific circuit example of the conceptual memory device shown in FIG.
This is a synchronous memory device having a flip-flop for address input.

【0035】この装置では、通常のメモリセルMCk
は、TFT負荷型のCMOSインバータI1,I2の入
出力同士を交差結合したSRAMセルにより構成され、
その結合ノードがアクセストランジスタA1,A2を介
してビット線BLk,BLBkにそれぞれ接続されてい
る。また、ダミーメモリセルDMCは、ダミービット線
DBLと接地ラインとの間に直列に接続されたNMOS
トランジスタDT1,DT2、およびダミービット線D
BLBと電源電圧VCCの供給ラインとの間に接続された
NMOSトランジスタDT3により構成されている。そ
して、NMOSトランジスタDT1,DT3のゲートが
ワード線WLに接続され、NMOSトランジスタDT2
のゲートが電源電圧VCCの供給ラインに接続されてい
る。
In this device, a normal memory cell MCk
Is constituted by an SRAM cell in which the inputs and outputs of the TFT load type CMOS inverters I1 and I2 are cross-coupled,
The coupling nodes are connected to bit lines BLk and BLBk via access transistors A1 and A2, respectively. The dummy memory cell DMC is an NMOS connected in series between the dummy bit line DBL and the ground line.
Transistors DT1 and DT2 and dummy bit line D
It is constituted by an NMOS transistor DT3 connected between BLB and the supply line of the power supply voltage V CC . The gates of the NMOS transistors DT1 and DT3 are connected to the word line WL, and the NMOS transistor DT2
Is connected to the supply line of the power supply voltage V CC .

【0036】ビット線対BLk,BLBk間には、pチ
ャネルMOS(PMOS)トランジスタからなるイコラ
イズ用トランジスタE1が接続されている。さらに、P
MOSトランジスタからなプリチャージ/プルアップ用
トランジスタP1が電源電圧VCCの供給ラインとビット
線BLkとの間に接続され、プリチャージ/プルアップ
用トランジスタP2が電源電圧VCCの供給ラインとビッ
ト線BLBkとの間に接続されている。そして、トラン
ジスタE1,P1,P2のゲート電極は、カラムゲート
CGk,CGBkのゲート電極と同様に、カラムデコー
ダCDCのカラム選択信号COLの出力ラインに接続さ
れている。
An equalizing transistor E1 which is a p-channel MOS (PMOS) transistor is connected between the bit line pair BLk and BLBk. Furthermore, P
A precharge / pullup transistor P1 formed of a MOS transistor is connected between the supply line of the power supply voltage V CC and the bit line BLk, and a precharge / pullup transistor P2 is supplied of the power supply voltage V CC and the bit line. It is connected to BLBk. The gate electrodes of the transistors E1, P1, P2 are connected to the output line of the column selection signal COL of the column decoder CDC, like the gate electrodes of the column gates CGk, CGBk.

【0037】同様に、ダミービット線対DBL,DBL
B間には、PMOSトランジスタからなるイコライズ用
トランジスタDE1が接続されている。さらに、PMO
Sトランジスタからなプリチャージ/プルアップ用トラ
ンジスタDP1が電源電圧V CCの供給ラインとビット線
DBLとの間に接続され、プリチャージ/プルアップ用
トランジスタDP2が電源電圧VCCの供給ラインとビッ
ト線DBLBとの間に接続されている。そして、トラン
ジスタDE1,DP1,DP2のゲート電極は、カラム
ゲートDCG,DCGBのゲート電極と同様に、カラム
デコーダCDCのカラム選択信号COLの出力ラインに
接続されている。
Similarly, the dummy bit line pair DBL, DBL
Between B, for equalization consisting of PMOS transistor
The transistor DE1 is connected. Furthermore, PMO
Precharge / pull-up tiger that is composed of S-transistor
Power supply voltage V CCSupply line and bit line
Connected to DBL for precharge / pull-up
Transistor DP2 has power supply voltage VCCSupply line and bit
It is connected to the output line DBLB. And Tran
The gate electrodes of the transistors DE1, DP1, DP2 are column
Like the gate electrodes of the gates DCG and DCGB, the column
To the output line of the column selection signal COL of the decoder CDC
It is connected.

【0038】センスアンプSAkは、PMOSトランジ
スタPS1,PS2,PS3、およびインバータINV
S1により構成されている。PMOSトランジスタPS
1がビット線対BLk,BLBk間に接続され、PMO
SトランジスタPS2が電源電圧VCCの供給ラインとビ
ット線BLkとの間に接続され、PMOSトランジスタ
PS3が電源電圧VCCの供給ラインとビット線BLBk
との間に接続されている。そして、トランジスタPS1
〜PS3のゲート電極は、カラムゲートCGk,CGB
kのゲート電極と同様に、カラムデコーダCDCのカラ
ム選択信号COLの出力ラインに接続されている。そし
て、インバータINVS1の入力がビット線BLkに接
続されている。
The sense amplifier SAk includes PMOS transistors PS1, PS2 and PS3, and an inverter INV.
It is composed of S1. PMOS transistor PS
1 is connected between the bit line pair BLk, BLBk, and PMO
The S transistor PS2 is connected between the supply line of the power supply voltage V CC and the bit line BLk, and the PMOS transistor PS3 is connected to the supply line of the power supply voltage V CC and the bit line BLBk.
Is connected between. And the transistor PS1
The gate electrodes of PS3 are column gates CGk and CGB.
Similarly to the gate electrode of k, it is connected to the output line of the column selection signal COL of the column decoder CDC. The input of the inverter INVS1 is connected to the bit line BLk.

【0039】制御回路1aは、PMOSトランジスタP
D1,PD2,PD3、インバータINVD1、および
RS型フリップフロップFFD1により構成されてい
る。PMOSトランジスタPD1がダミービット線対D
BL,DBLB間に接続され、PMOSトランジスタP
D2が電源電圧VCCの供給ラインとダミービット線DB
Lとの間に接続され、PMOSトランジスタPD3が電
源電圧VCCの供給ラインとダミービット線DBLBとの
間に接続されている。そして、トランジスタPD1〜P
D3のゲート電極は、カラムゲートDCG,DCGBの
ゲート電極と同様に、カラムデコーダCDCのカラム選
択信号COLの出力ラインに接続されている。そして、
インバータINVS1の入力がダミービット線DBLに
接続され,出力がフリップフロップFFD1のリセット
端子Rに接続されている。フリップフロップFFD1の
セット端子Sがクロック信号CLKの入力ラインに接続
され、出力端子Qからイネーブル信号ENを、書き込み
回路3、ゲート回路5、ロウデコーダRDC、およびカ
ラムデコーダCDCに出力する。
The control circuit 1a includes a PMOS transistor P
It is composed of D1, PD2, PD3, an inverter INVD1, and an RS type flip-flop FFD1. The PMOS transistor PD1 is a dummy bit line pair D
It is connected between BL and DBLB, and the PMOS transistor P
D2 is the supply line of the power supply voltage V CC and the dummy bit line DB
It is connected between L, and is connected between the PMOS transistor PD3 is the supply line and the dummy bit line DBLB supply voltage V CC. Then, the transistors PD1 to P
The gate electrode of D3 is connected to the output line of the column selection signal COL of the column decoder CDC, like the gate electrodes of the column gates DCG and DCGB. And
The input of the inverter INVS1 is connected to the dummy bit line DBL, and the output is connected to the reset terminal R of the flip-flop FFD1. The set terminal S of the flip-flop FFD1 is connected to the input line of the clock signal CLK, and the enable signal EN is output from the output terminal Q to the write circuit 3, the gate circuit 5, the row decoder RDC, and the column decoder CDC.

【0040】書き込み回路3は、ディレイ回路DL3
1,3入力アンドゲートAD31、インバータINV3
1,INV32,INV33、およびバッファBUF3
1により構成されている。ディレイ回路DL31は、そ
の入力がイネーブル信号ENの供給ラインに接続され、
イネーブル信号ENを所定時間遅延させて3入力アンド
ゲート31の一入力に入力させる。3入力アンドゲート
AD31の他の2入力端子は、イネーブル信号ENの供
給ラインおよび、書き込みイネーブル信号WENをクロ
ック信号CLKに同期してラッチしたフリップフロップ
7の出力端子Qに接続されている。アンドゲートAD3
1の出力はバッファBUF31およびインバータINV
33の正側制御端子に接続されるとともに、インバータ
INV32を介して負側制御端子に接続されている。そ
して、バッファBUF31およびインバータINV33
の入力は書き込みデータDinの入力ラインに接続さ
れ、バッファBUF31の出力がビット線BLkに接続
され、インバータINV33の出力がビット線BLBk
に接続されている。また、インバータINV32の入力
はフリップフロップ7の出力端子Qに接続され、出力が
ゲート回路5に接続されている。
The writing circuit 3 is a delay circuit DL3.
1,3 input AND gate AD31, inverter INV3
1, INV32, INV33, and buffer BUF3
1. The input of the delay circuit DL31 is connected to the supply line of the enable signal EN,
The enable signal EN is delayed by a predetermined time and input to one input of the 3-input AND gate 31. The other two input terminals of the three-input AND gate AD31 are connected to the supply line of the enable signal EN and the output terminal Q of the flip-flop 7 which latches the write enable signal WEN in synchronization with the clock signal CLK. And gate AD3
The output of 1 is the buffer BUF31 and the inverter INV
It is connected to the positive side control terminal 33 and is also connected to the negative side control terminal via the inverter INV32. Then, the buffer BUF31 and the inverter INV33
Is connected to the input line of the write data Din, the output of the buffer BUF31 is connected to the bit line BLk, and the output of the inverter INV33 is connected to the bit line BLBk.
It is connected to the. The input of the inverter INV32 is connected to the output terminal Q of the flip-flop 7, and the output is connected to the gate circuit 5.

【0041】ゲート回路5は、転送ゲートTG51、2
入力アンドゲートAD51、およびインバータINV5
1により構成されている。転送ゲートTG51の一方の
入出力端子がセンスアンプSAkのインバータINVS
1の出力に接続され、他方の入出力端子が出力回路4に
接続されている。そして、2入力アンドゲートAD51
の一方の入力端子が書き込み回路3のインバータINV
32の出力に接続され、他方の入力端子がイネーブル信
号ENの供給ラインに接続されている。アンドゲートA
D51の出力は転送ゲートTG51を構成するNMOS
トランジスタのゲート電極に接続されているとともに、
インバータINV51を介して転送ゲートTG51を構
成するPMOSトランジスタのゲート電極に接続されて
いる。
The gate circuit 5 includes transfer gates TG51, 2
Input AND gate AD51 and inverter INV5
1. One input / output terminal of the transfer gate TG51 is an inverter INVS of the sense amplifier SAk.
1 and the other input / output terminal is connected to the output circuit 4. And two-input AND gate AD51
One input terminal of the inverter INV of the writing circuit 3
32 is connected to the output, and the other input terminal is connected to the supply line of the enable signal EN. And Gate A
The output of D51 is an NMOS that constitutes the transfer gate TG51.
While connected to the gate electrode of the transistor,
The gate electrode of the PMOS transistor that constitutes the transfer gate TG51 is connected via the inverter INV51.

【0042】アドレスバッファ6は、クロック信号CL
Kに同期してアドレスADRをラッチするフリップフロ
ップFF61,FF62、およびインバータINV6
1,INV62により構成されている。フリップフロッ
プFF61の出力端子QがインバータINV61の入力
に接続され、フリップフロップFF62の出力端子Qが
インバータINV62の入力に接続されている。
The address buffer 6 has a clock signal CL.
Flip-flops FF61 and FF62 that latch the address ADR in synchronization with K, and an inverter INV6
1, INV62. The output terminal Q of the flip-flop FF61 is connected to the input of the inverter INV61, and the output terminal Q of the flip-flop FF62 is connected to the input of the inverter INV62.

【0043】ロウデコーダRDCは、ロウアドレスデコ
ード線RAD1〜4、および複数の3入力アンドゲート
ADR1,ADR2,…により構成されている。ロウア
ドレスデコード線RAD1はアドレスバッファ6のフリ
ップフロップFF61の出力に接続され、ロウアドレス
デコード線RAD2はインバータINV61の出力に接
続され、ロウアドレスデコード線RAD3はアドレスバ
ッファ6のフリップフロップFF63の出力に接続さ
れ、ロウアドレスデコード線RAD4はインバータIN
V62の出力に接続されている。アンドゲートADR1
の入力端子はアドレスデコード線RAD1、RAD3お
よびイネーブル信号ENの供給ラインに接続され、アン
ドゲートADR2の入力端子はアドレスデコード線RA
D2、RAD3およびイネーブル信号ENの供給ライン
に接続されている。
The row decoder RDC is composed of row address decode lines RAD1 to RAD4 and a plurality of 3-input AND gates ADR1, ADR2, .... The row address decode line RAD1 is connected to the output of the flip-flop FF61 of the address buffer 6, the row address decode line RAD2 is connected to the output of the inverter INV61, and the row address decode line RAD3 is connected to the output of the flip-flop FF63 of the address buffer 6. The row address decode line RAD4 is connected to the inverter IN.
It is connected to the output of V62. AND Gate ADR1
Is connected to the address decode lines RAD1 and RAD3 and the supply line of the enable signal EN, and the input terminal of the AND gate ADR2 is connected to the address decode line RA.
It is connected to the supply lines of D2, RAD3 and the enable signal EN.

【0044】カラムデコーダCDCは、2入力アンドゲ
ートADC、およびバッファBUFCにより構成されて
いる。2入力アンドゲートADCの一方の入力端子はイ
ネーブル信号ENの供給ラインに接続され、他方の入力
端子がバッファBUFCを介してクロック信号CLKの
入力ラインに接続されている。そして、アンドゲートA
DCの出力がカラム選択信号COLの供給ラインとして
カラムゲートCGk,CGBk、DCG,DCGBのゲ
ート電極に接続されている。
The column decoder CDC is composed of a 2-input AND gate ADC and a buffer BUFC. One input terminal of the 2-input AND gate ADC is connected to the supply line of the enable signal EN, and the other input terminal is connected to the input line of the clock signal CLK via the buffer BUFC. And gate A
The output of DC is connected to the gate electrodes of the column gates CGk, CGBk, DCG, DCGB as a supply line of the column selection signal COL.

【0045】次に、図3の装置の動作を、図4および図
5のタイミングチャートを参照しつつ説明する。読み出
し時は、図4に示すように、クロック信号CLKがハイ
レベルに立ち上がるとダミー用制御回路1のフリップフ
ロップFFD1がセットされ、イネーブル信号ENがハ
イレベルで書き込み回路3、ゲート回路5、ロウデコー
ダRDC、およびカラムデコーダCDCに出力される。
このとき、書き込みイネーブル信号ENはローレベルで
あるから書き込み回路3のアンドゲートAD31の出力
はローレベルに保持され、バッファBU31およびイン
バータINV33は非導通状態に保持される。そして、
インバータINV32の出力はハイレベルになることか
ら、ゲート回路5のアンドゲートAD5の出力はハイレ
ベルに保持され、転送ゲートTG51は導通状態の保持
され、センサアンプSAkと出力回路4との信号転送路
が確立される。
Next, the operation of the apparatus of FIG. 3 will be described with reference to the timing charts of FIGS. 4 and 5. At the time of reading, as shown in FIG. 4, when the clock signal CLK rises to the high level, the flip-flop FFD1 of the dummy control circuit 1 is set, and the enable signal EN is at the high level, the write circuit 3, the gate circuit 5, and the row decoder. It is output to the RDC and the column decoder CDC.
At this time, since the write enable signal EN is at low level, the output of the AND gate AD31 of the writing circuit 3 is held at low level, and the buffer BU31 and the inverter INV33 are held in the non-conducting state. And
Since the output of the inverter INV32 becomes high level, the output of the AND gate AD5 of the gate circuit 5 is held at high level, the transfer gate TG51 is held in the conductive state, and the signal transfer path between the sensor amplifier SAk and the output circuit 4 is held. Is established.

【0046】この状態で、ロウデコーダRDCにおい
て、ローアドレスRADから選択すべきワード線WLが
1本選ばれ、被選択ワード線WLがハイレベルになるよ
うに駆動される。同時に、カラムデコーダCDCにおい
て、クロック信号CLKの入力に基づき、カラム選択信
号COLがハイレベルになり、カラムゲートCGk,C
GBk、DCG,DCGBが導通状態に制御される。こ
れにより、アドレス指定されたメモリセル、たとえばM
C1kに記憶されているデータに応じたレベルの信号がビ
ット線BLk,BLBkに現れ、この信号がセンスアン
プSAkで増幅されて出力回路4から出力データDout
として出力される。
In this state, the row decoder RDC selects one word line WL to be selected from the row address RAD and drives the selected word line WL to the high level. At the same time, in the column decoder CDC, the column selection signal COL becomes high level based on the input of the clock signal CLK, and the column gates CGk, C
GBk, DCG, and DCGB are controlled to be conductive. This allows the addressed memory cell, eg M
A signal of a level corresponding to the data stored in C1k appears on the bit lines BLk and BLBk, this signal is amplified by the sense amplifier SAk, and the output circuit 4 outputs the output data Dout.
Is output as

【0047】また、ワード線WLが駆動されると、所定
のダミーメモリセルのデータがダミービット線DBL/
DBLBに信号として現れ、制御回路1aに入力され
る。ここで、ダミーメモリセルDMCは,ローレベルの
データが出力されるようになっている。そのため、ダミ
ーデータが読み出されると、制御回路1aのインバータ
INVD1の出力信号DSはハイレベルに遷移し、その
結果、フリップフロップFFD1はリセットされ、イネ
ーブル信号ENがローレベルに切り換わる。これによ
り、ロウデコーダRDCのアンドゲートADR1,AD
R2,…、カラムデコーダCDCのアンドゲートAD
C、およびゲート回路5のアンドゲートAD51がオフ
状態となり内部の読み出し動作が終了し、次のサイクル
のためにプリチャージ動作に入る。
When the word line WL is driven, the data of a predetermined dummy memory cell is transferred to the dummy bit line DBL /
It appears as a signal on DBLB and is input to the control circuit 1a. Here, the dummy memory cell DMC is adapted to output low level data. Therefore, when the dummy data is read, the output signal DS of the inverter INVD1 of the control circuit 1a transits to the high level, and as a result, the flip-flop FFD1 is reset and the enable signal EN switches to the low level. As a result, the AND gates ADR1 and AD of the row decoder RDC are
R2, ..., AND gate AD of column decoder CDC
C and the AND gate AD51 of the gate circuit 5 are turned off to complete the internal read operation and start the precharge operation for the next cycle.

【0048】書き込み時は、図5に示すように、読み出
しと同様の機構によりクロック信号CLKが立ち上がる
とダミー用制御回路1のフリップフロップFFD1がセ
ットされ、イネーブル信号ENがハイレベルで書き込み
回路3、ゲート回路5、ロウデコーダRDC、およびカ
ラムデコーダCDCに出力される。このとき、書き込み
イネーブル信号ENはハイレベルであるから書き込み回
路3のアンドゲートAD31の出力はハイレベルに保持
され、バッファBU31およびインバータINV33は
導通状態に保持される。これにより、書き込みデータD
inがビット線BLk,BLBkに伝搬される。そし
て、インバータINV32の出力はローレベルになるこ
とから、ゲート回路5のアンドゲートAD5の出力はロ
ーレベルに保持され、転送ゲートTG51は非導通状態
の保持され、センサアンプSAkと出力回路4との信号
転送路は確立されない。
At the time of writing, as shown in FIG. 5, when the clock signal CLK rises by a mechanism similar to that of reading, the flip-flop FFD1 of the dummy control circuit 1 is set, and the enable signal EN is at the high level, and the writing circuit 3, It is output to the gate circuit 5, the row decoder RDC, and the column decoder CDC. At this time, since the write enable signal EN is at high level, the output of the AND gate AD31 of the writing circuit 3 is held at high level, and the buffer BU31 and the inverter INV33 are held conductive. Thus, the write data D
in is propagated to the bit lines BLk and BLBk. Since the output of the inverter INV32 becomes low level, the output of the AND gate AD5 of the gate circuit 5 is held at low level, the transfer gate TG51 is held in the non-conductive state, and the sensor amplifier SAk and the output circuit 4 are connected. No signal transfer path is established.

【0049】この状態で、ロウデコーダRDCにおい
て、ローアドレスRADから選択すべきワード線WLが
1本選ばれ、被選択ワード線WLがハイレベルになるよ
うに駆動される。同時に、カラムデコーダCDCにおい
て、クロック信号CLKの入力に基づきカラム選択信号
COLがハイレベルになり、カラムゲートCGk,CG
Bk、DCG,DCGBが導通状態に制御される。これ
により、アドレス指定されたメモリセルに対して、書き
込み回路3により書き込みデータDinがビット線BL
k,BLBkに伝搬され、アドレス信号のメモリセルに
書き込まれる。
In this state, the row decoder RDC selects one word line WL to be selected from the row address RAD and drives the selected word line WL to the high level. At the same time, in the column decoder CDC, the column selection signal COL becomes high level based on the input of the clock signal CLK, and the column gates CGk and CG.
Bk, DCG, and DCGB are controlled to be conductive. This causes the write circuit 3 to write the write data Din to the bit line BL in the addressed memory cell.
k, BLBk, and written into the memory cell of the address signal.

【0050】また、ワード線WLが駆動されると、所定
のダミーメモリセルのデータがダミービット線DBL/
DBLBに信号として現れ、制御回路1aに入力され
る。ダミーデータが読み出されると、制御回路1aのイ
ンバータINVD1の出力信号DSはハイレベルに遷移
し、その結果、フリップフロップFFD1はリセットさ
れ、イネーブル信号ENがローレベルに切り換わる。こ
れにより、ロウデコーダRDCのアンドゲートADR
1,ADR2,…、カラムデコーダCDCのアンドゲー
トADC、および書き込み回路5のアンドゲートAD3
1がオフ状態となり内部の書き込み動作が終了し、次の
サイクルのためにプリチャージ動作に入る。
When the word line WL is driven, the data of a predetermined dummy memory cell is transferred to the dummy bit line DBL /
It appears as a signal on DBLB and is input to the control circuit 1a. When the dummy data is read, the output signal DS of the inverter INVD1 of the control circuit 1a transits to the high level, and as a result, the flip-flop FFD1 is reset and the enable signal EN switches to the low level. As a result, the AND gate ADR of the row decoder RDC
1, ADR2, ..., AND gate ADC of column decoder CD, and AND gate AD3 of write circuit 5
1 is turned off, the internal write operation is completed, and the precharge operation is started for the next cycle.

【0051】ここで、前述したように読み出し遅延より
書き込み遅延の方が短いため、このようにダミーメモリ
セルの読み出し遅延を利用してセルフタイム回路を構成
してもマージンが増えるだけで動作には影響ない。
Since the write delay is shorter than the read delay as described above, even if the self-time circuit is constructed by using the read delay of the dummy memory cell as described above, the margin is increased and the operation is not performed. No effect.

【0052】実際のセルアレイ中のダミーメモリセルを
使っているため、サイズ可変のパラメトリック型RAM
でもそのサイズにあった遅延を再現できる。また、ダミ
ーメモリセルはセルアレイ中のロウデコーダから一番遠
い位置に配置して最悪のアクセスがエミュレート可能な
ようにすることが望ましい。
Parametric RAM of variable size because dummy memory cells in the actual cell array are used
But you can reproduce the delay that matches the size. Further, it is desirable that the dummy memory cell is arranged at a position farthest from the row decoder in the cell array so that the worst access can be emulated.

【0053】本第2の実施形態においても、上述した第
1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
Also in the second embodiment, the same effect as that of the above-described first embodiment can be obtained.

【0054】第3実施形態 図6は、同期型でクロックの前半でメモリセルが接続さ
れるビット線をプリチャージし、後半でワード線をアク
ティブにして書き込みを行うメモリ装置の回路図でっ
て、従来例を示す図13と同一構成部分は同一符号をも
って表している。すなわち、この回路では、メモリセル
MC1k,MC1m等は,インバータI1,I2の入出力同
士を接続したフリップフロップからなるSRAMセルを
例に示しており、同一行に配置されたメモリセルメモリ
セルMC1k,MC1mのアクセストランジスタA1,A2
のゲート電極が共通のワード線WL1等に接続されてい
る。
Third Embodiment FIG. 6 is a circuit diagram of a synchronous type memory device which precharges a bit line to which a memory cell is connected in the first half of a clock and activates a word line in the latter half of the clock to perform writing. The same components as those in FIG. 13 showing the conventional example are denoted by the same reference numerals. That is, in this circuit, the memory cells MC1k, MC1m, etc. are shown as an example of an SRAM cell composed of a flip-flop in which the input and output of the inverters I1, I2 are connected, and the memory cells MC1k, MC1k, Access transistors A1 and A2 of MC1m
Of the gate electrodes are connected to a common word line WL1 or the like.

【0055】そして、書き込み時、ロウデコーダRDC
において、ローアドレスRADから選択すべきワード線
WLが1本選ばれる。その選択信号は所定の2入力アン
ドゲートAD1,AD2,…の一方の入力端子に供給さ
れる。そして、2入力アンドゲートAD1等の他方の入
力端子には、クロック信号CLKに基づくタイミング調
整回路10の出力信号S10が供給される。そして、被
選択ワード線WLの駆動をクロック信号CLKの立ち下
がりから幅Dのパルスで行う。この幅はメモリセルへの
書き込みが完了するためには十分長く、使用される最小
サイクルの1/2より短い時間およびビット線が放電し
てしまう時間より短い時間に設定なるように調整され、
設定される。
At the time of writing, the row decoder RDC
, One word line WL to be selected is selected from the row address RAD. The selection signal is supplied to one input terminal of a predetermined 2-input AND gate AD1, AD2, .... The output signal S10 of the timing adjustment circuit 10 based on the clock signal CLK is supplied to the other input terminal of the 2-input AND gate AD1 or the like. Then, the selected word line WL is driven by the pulse having the width D from the fall of the clock signal CLK. This width is long enough to complete writing to the memory cell and is adjusted to be less than half the minimum cycle used and less than the time the bit line is discharged,
Is set.

【0056】また、ビット線対BLk,BLBk、BL
m,BLBmは、カラムゲートCGk,CGBk、CG
m,CGBmを介してデータ線D、DBに接続されてい
る。カラムゲートCGk,CGBk、CGm,CGBm
はカラムアドレスCADからカラムデコーダCDCにお
いて、1対のみオン状態に制御され、残りはオフ状態に
制御される。書き込みデータDinはバッファBUF2
を介してクロック信号CLKの立ち下がりのタイミング
でラッチ回路LTCにラッチされるようになっている。
そして、ラッチ回路LTCの出力データはバッファBU
F3,BUF4を介してデータ線Dに伝搬され、バッフ
ァBUF3,BUF5,INV2を介して反転用データ
線DBに伝搬される。また、PTk,PTBk、PT
m,PTBmはビット線のプリチャージ用トランジスタ
であり、ゲート電極にバッファBUF1を介したクロッ
ク信号CLKが入力されて、オン、オフ制御される。
The bit line pair BLk, BLBk, BL
m, BLBm are column gates CGk, CGBk, CG
m, CGBm to the data lines D, DB. Column gates CGk, CGBk, CGm, CGBm
In the column decoder CAD from the column address CAD, only one pair is controlled to be in the ON state, and the rest is controlled to be in the OFF state. The write data Din is stored in the buffer BUF2.
Is latched in the latch circuit LTC at the timing of the fall of the clock signal CLK.
The output data of the latch circuit LTC is stored in the buffer BU.
It is propagated to the data line D via F3 and BUF4, and is propagated to the inversion data line DB via buffers BUF3, BUF5 and INV2. Also, PTk, PTBk, PT
m and PTBm are precharge transistors for bit lines, and the gate electrode receives the clock signal CLK via the buffer BUF1 to be turned on / off.

【0057】図7は、タイミング調整回路10の構成例
を示す回路図である。このタイミング調整回路10は、
遅延回路101,インバータ102,103、およびノ
アゲート104により構成されている。遅延回路101
とインバータ102が直列に接続され、遅延回路101
の入力がクロック信CLKの入力ラインに接続され、イ
ンバータ102の出力がノアゲート104の一方の入力
端子に接続され、ノアゲート104の他方の入力端子が
クロック信号の入力ラインに接続されている。そして、
ノアゲート104の出力がインバータ103の入力に接
続されている。ここで、遅延回路10の遅延時間は、上
述したように、ワード線をアクティブにする期間を書き
込みに必要な時間(tw)より短くし、1/2サイクル
時間より短くなるように設定される。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration example of the timing adjustment circuit 10. This timing adjustment circuit 10
The delay circuit 101, the inverters 102 and 103, and the NOR gate 104 are included. Delay circuit 101
And the inverter 102 are connected in series, and the delay circuit 101
Is connected to the input line of the clock signal CLK, the output of the inverter 102 is connected to one input terminal of the NOR gate 104, and the other input terminal of the NOR gate 104 is connected to the input line of the clock signal. And
The output of NOR gate 104 is connected to the input of inverter 103. Here, as described above, the delay time of the delay circuit 10 is set so that the period for activating the word line is shorter than the time (tw) required for writing and shorter than 1/2 cycle time.

【0058】次に、上記構成による書き込み動作を、図
8のタイミングチャートを参照しつつ説明する。このよ
うな構成において、書き込み時は、図14に示すよう
に、クロック信号CLKがハイレベルの期間、全ワード
線WLのレベルはローレベルに保持され、全ビット線B
Lk,BLBk、BLm,BLBmは電源電圧VCCレベ
ル(ハイレベル)にプリチャージされる。そして、クロ
ック信号CLKがローレベルに切り換わると、タイミン
グ調整回路10においてクロック信号CLKに基づきワ
ード線駆動時間が調整され、信号S10に基づき、被選
択ワード線WLがクロック信号CLKの立ち下がりから
幅Dのパルスで駆動される。
Next, the write operation with the above configuration will be described with reference to the timing chart of FIG. In such a configuration, at the time of writing, as shown in FIG. 14, while the clock signal CLK is at the high level, the levels of all the word lines WL are held at the low level, and all the bit lines B are held.
Lk, BLBk, BLm, BLBm are precharged to the power supply voltage V CC level (high level). Then, when the clock signal CLK is switched to the low level, the word line drive time is adjusted in the timing adjustment circuit 10 based on the clock signal CLK, and the selected word line WL is changed from the fall of the clock signal CLK based on the signal S10. It is driven by the D pulse.

【0059】このとき、選択されたワード線(WLi
がハイレベルになり、選択されたカラム信号CLMがハ
イレベルに保持される。このときに、ビット線BLkと
BLBkは書き込みデータDinの値に応じて、いずれ
かはハイレベルのままに保持され、もう一方はローレベ
ルの遷移し、メモリセルMC1k等にそのデータが書き込
まれる。
At this time, the selected word line (WL i )
Becomes high level, and the selected column signal CLM is held at high level. At this time, one of the bit lines BLk and BLBk is held at the high level and the other is changed to the low level according to the value of the write data Din, and the data is written to the memory cell MC1k or the like.

【0060】選択されなかった非選択ビット線BLm
BLBm 等の波形は、図8に示すようになる。すなわ
ち、ワード線WLが遅延Dのあとローレベルになる非選
択ビット線は、フローティングとなり、放電が止まり、
ビット線振幅ΔVが小さくなり、消費電流が抑えられ
る。なお、図8中、破線で示す波形は図13の従来装置
の場合を示している。セルMC1m等のデータに応じて、
メモリセルを通じて、どちらか一方がローレベルに放電
される。
Unselected bit lines BL m not selected
The waveform of BLB m or the like is as shown in FIG. That is, the non-selected bit line in which the word line WL becomes low level after the delay D becomes floating and the discharge is stopped,
The bit line amplitude ΔV is reduced, and the current consumption is suppressed. The waveform shown by the broken line in FIG. 8 indicates the case of the conventional device of FIG. Depending on the data of cell MC1m, etc.
Either one of them is discharged to a low level through the memory cell.

【0061】以上説明したように、本第3の実施形態に
よれば、同期型SRAMにおいて、ワード線をアクティ
ブにする時間をメモリセル時間より長く、1/2サイク
ルより短くするようにしたので、非選択カラムのビット
線の放電量を小さくし、書き込み時の消費電流を小さく
することが可能になる。
As described above, according to the third embodiment, in the synchronous SRAM, the time for activating the word line is set to be longer than the memory cell time and shorter than 1/2 cycle. It is possible to reduce the discharge amount of the bit line of the non-selected column and reduce the current consumption during writing.

【0062】第4実施形態 図9は、本発明に係る半導体メモリ装置の第4の実施形
態を示す回路図である。本装置は、図13に示す回路
に、ダミーワード線DWL、ダミービット線DBL,D
BLB、ダミーメモリセルDMCMを設け、ダミーメモ
リセルDMCMへに書き込み完了を検知して、ワード線
WL1等のアクティブ時間を制御するように構成されて
いる。なお、図9においては、通常のメモリセル等は簡
単化のため省略し、要部のみを示している。
Fourth Embodiment FIG. 9 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. This device includes a dummy word line DWL and dummy bit lines DBL, D in the circuit shown in FIG.
A BLB and a dummy memory cell DMCM are provided, the completion of writing in the dummy memory cell DMCM is detected, and the active time of the word line WL1 and the like is controlled. Note that, in FIG. 9, ordinary memory cells and the like are omitted for simplification, and only essential parts are shown.

【0063】ダミーメモリセルDMCMは、通常のメモ
リセルと同様に、インバータI11,I12の入出力同
士を接続したフリップフロップからなるSRAMセルで
あり、アクセストランジスタA11,A12のゲート電
極がダミーワード線DWLに接続されている。そして、
このセルのノードは、そのレベルがインバータINV1
3,INV14により外部に取り出せるようになってい
る。また、ダミーメモリセルDMCMは、NMOSトラ
ンジスタNT11とインバータINV14を介したクロ
ック信号CLKによりリセットがかけられるように構成
されている。また、NMOSトランジスタNT12は、
対称性を保証するためのダミートランジスタである。
The dummy memory cell DMCM is an SRAM cell consisting of a flip-flop in which the inputs and outputs of the inverters I11 and I12 are connected to each other, like the normal memory cell, and the gate electrodes of the access transistors A11 and A12 are dummy word lines DWL. It is connected to the. And
The level of the node of this cell is inverter INV1.
3, INV14 can be taken out. Further, the dummy memory cell DMCM is configured to be reset by the clock signal CLK via the NMOS transistor NT11 and the inverter INV14. Further, the NMOS transistor NT12 is
This is a dummy transistor for guaranteeing symmetry.

【0064】また、ダミービット線DBL,DBLBに
はカラムゲートCGM,CGBMが接続され、カラムゲ
ートCGMはバッファBUF11を介して電源電圧VCC
の供給ラインに接続され、カラムゲートCGBMはイン
バータINV16を介して電源電圧VCCの供給ラインに
接続されている。カラムゲートCGM,CGBMのゲー
ト電極が2入力アンドゲートAD12の出力に接続され
ている。2入力アンドゲートAD12の一方の入力端子
は電源電圧VCCの供給ラインに接続され、他方の入力端
子がクロック信号CLKの入力端子に接続されている。
Column gates CGM and CGBM are connected to the dummy bit lines DBL and DBLB, and the column gate CGM is connected to the power supply voltage V CC through the buffer BUF11.
, And the column gate CGBM is connected to the supply line of the power supply voltage V CC via the inverter INV16. The gate electrodes of the column gates CGM and CGBM are connected to the output of the 2-input AND gate AD12. One input terminal of the 2-input AND gate AD12 is connected to the supply line of the power supply voltage V CC , and the other input terminal is connected to the input terminal of the clock signal CLK.

【0065】そして、インバータINV14の出力がイ
ンバータINV17を介して、ダミーワード線DWL駆
動用のアンドゲートAD12および通常のワード線WL
駆動用のアンドゲートAD1,…の一入力端子に接続さ
れている。すなわち、ダミーメモリセルDMCMのトラ
ンジスタのダミートランジスタNT12が接続されたノ
ードから取り出し信号がWMASKとしてワード線のア
クティブ時間を制御できるように構成されている。
The output of the inverter INV14 is passed through the inverter INV17 to the AND gate AD12 for driving the dummy word line DWL and the normal word line WL.
It is connected to one input terminal of driving AND gates AD1, .... In other words, the signal taken out from the node connected to the dummy transistor NT12 of the dummy memory cell DMCM is WMASK so that the active time of the word line can be controlled.

【0066】次に、図9の装置の書き込み時の動作を、
図10のタイミングチャートを参照しつつ説明する。図
10に示すように、クロック信号CLKがローレベルに
切り換わると、ダミーメモリセルDMCMがリセットさ
れ、信号WMASKがハイレベルとなり、被選択ワード
線WLがアクティブのハイレベルになると同時に、ダミ
ーワード線DWLもハイレベルになる。このとき、カラ
ムゲートCGM,CGBMが導通状態になり、その結
果、ダミービット線DBLはハイレベルに、ダミービッ
ト線DBLBはローレベルにドライブされる。これによ
り、ダミーメモリセルDMCMのアクセストランジスタ
A11を介してデータ「1」が書き込まれて、書き込み
が完了し、書き込みが完了すると信号WMASKがロー
レベルとなり、被選択ワード線WLが非アクティブのロ
ーレベルになると同時に、ダミーワード線DWLもロー
レベルになる。
Next, the write operation of the device of FIG.
This will be described with reference to the timing chart of FIG. As shown in FIG. 10, when the clock signal CLK is switched to the low level, the dummy memory cell DMCM is reset, the signal WMASK becomes the high level, the selected word line WL becomes the active high level, and at the same time, the dummy word line DWL also goes high. At this time, the column gates CGM and CGBM are rendered conductive, and as a result, the dummy bit line DBL is driven to the high level and the dummy bit line DBLB is driven to the low level. As a result, the data "1" is written through the access transistor A11 of the dummy memory cell DMCM, the writing is completed, and when the writing is completed, the signal WMASK becomes low level and the selected word line WL becomes inactive low level. At the same time, the dummy word line DWL also goes low.

【0067】この場合、ダミーメモリセルDMCMのノ
ードは、通常のメモリセルよりトランジスタNT11,
NT12、インバータ13,INV14が接続されてい
ることから負荷が大きく、書き込み時間は通常のメモリ
セルより大きくなり、確実に書き込み時間twがワード
線遅延やビット線遅延があっても保証されることにな
る。このことは、メモリアレイ構成を変えることが必要
となるパラメトリックSRAMモジュールやプロセス等
のバラツキにより書き込み時間twが変化する場合に有
利である。
In this case, the node of the dummy memory cell DMCM has a transistor NT11,
Since the NT12, the inverter 13, and the INV14 are connected, the load is large, the write time becomes longer than that of a normal memory cell, and the write time tw can be guaranteed even if there is a word line delay or a bit line delay. Become. This is advantageous when the write time tw changes due to variations in the parametric SRAM module, process, etc. that require changing the memory array configuration.

【0068】以上説明したように、本第4の実施形態に
よれば、書き込み制御をダミーワード線、ダミービット
線、ダミーメモリセルを用いるようにしたので、ワード
線およびビット線遅延、あるいはプロセスバラツキなど
があっても、メモリセルへの書き込みを保証することが
でき、同時に消費電流を小さくすることが可能になる。
As described above, according to the fourth embodiment, since the dummy word line, the dummy bit line, and the dummy memory cell are used for the write control, the word line and the bit line delay, or the process variation. Even if there is such a case, writing to the memory cell can be guaranteed, and at the same time, current consumption can be reduced.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
書き込み専用のパスル発生器を設ける必要がないので、
面積増加や制御の煩雑化を防げる。また、サイズ構成可
変のパラメトリック型RAMでもその遅延に追従した活
性化パルスを生成できるので、制御が容易かつ正確にで
きる。
As described above, according to the present invention,
Since there is no need to provide a pulse generator for writing only,
It is possible to prevent an increase in area and complicated control. In addition, even in a parametric RAM having a variable size configuration, an activation pulse can be generated following the delay, so that control can be performed easily and accurately.

【0070】また、同期型メモリ装置において、ワード
線をアクティブにする時間をメモリセル時間より長く、
1/2サイクルより短くすることで、非選択カラムのビ
ット線の放電量を小さくし、書き込み時の消費電流を小
さくすることが可能になる。ダミーメモリセルを用いる
ことにより、ワード線およびビット線遅延、あるいはプ
ロセスバラツキなどがあっても、メモリセルへの書き込
みを保証することができ、同時に消費電流を小さくする
ことが可能になる。
In the synchronous memory device, the time for activating the word line is longer than the memory cell time,
By making the cycle shorter than 1/2 cycle, it is possible to reduce the discharge amount of the bit line of the non-selected column and reduce the current consumption during writing. By using the dummy memory cells, it is possible to guarantee writing to the memory cells even if there are word line and bit line delays or process variations, and at the same time it is possible to reduce current consumption.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体メモリ装置の第1の実施形
態を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】図1の装置のタイミングチャートである。FIG. 2 is a timing chart of the device shown in FIG.

【図3】本発明に係る半導体メモリ装置の第2の実施形
態を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a second embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】図3の装置の読み出し時のタイミングチャート
である。
FIG. 4 is a timing chart at the time of reading by the device of FIG.

【図5】図3の装置の書き込み時のタイミングチャート
である。
5 is a timing chart at the time of writing in the device of FIG.

【図6】本発明に係る半導体メモリ装置の第3の実施形
態を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a third embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図7】図6の装置のタイミング調整回路の具体例を示
す回路図である。
7 is a circuit diagram showing a specific example of a timing adjustment circuit of the device of FIG.

【図8】図6の装置の書き込み時のタイミングチャート
である。
8 is a timing chart at the time of writing in the device of FIG.

【図9】本発明に係る半導体メモリ装置の第4の実施形
態を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図10】図9の装置の書き込み時のタイミングチャー
トである。
10 is a timing chart at the time of writing in the device of FIG.

【図11】ダミーメモリセルを利用して読み出しデータ
が出力されたことを検知し、読み出し動作を終了させる
回路と、内部に書き込みパスルを発生させるタイミング
回路を持ち、一定時間後に書き込み動作を終了させるメ
モリ装置の従来例の概念図である。
FIG. 11 includes a circuit that detects the output of read data by using a dummy memory cell and ends the read operation, and a timing circuit that internally generates a write pulse, and ends the write operation after a fixed time. It is a conceptual diagram of the conventional example of a memory device.

【図12】図11の装置の読み出しおよび書き込み時の
タイミングチャートである。
12 is a timing chart at the time of reading and writing of the device of FIG.

【図13】同期型でクロックの前半でメモリセルが接続
されるビット線をプリチャージし、後半でワード線をア
クティブにして書き込みを行う従来のメモリ装置の回路
図である。
FIG. 13 is a circuit diagram of a conventional memory device that is synchronous and precharges a bit line to which a memory cell is connected in the first half of a clock and activates a word line in the second half for writing.

【図14】図13の装置の書き込み時のタイミングチャ
ートである。
14 is a timing chart at the time of writing in the device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

RDC…ロウデコーダ CDC…カラムデコーダ WL1〜WL4…ワード線 DWL…ダミーワード線 BLk,BLBk、BLm,BLBm…ビット線 DBL,DBLB…ダミービット線 MC1k〜MC4k…メモリセル DMC1〜DMC4,DMCM…ダミーメモリセル SAk…センスアンプ 1a…ダミー用判定器および制御回路 3…書き込み回路 4…出力回路 5…ゲート回路 6…アドレスバッファ RDC ... Row decoder CDC ... Column decoder WL1 to WL4 ... Word line DWL ... Dummy word line BLk, BLBk, BLm, BLBm ... Bit line DBL, DBLB ... Dummy bit line MC1k to MC4k ... Memory cells DMC1 to DMC4, DMCM ... Dummy memory Cell SAk ... Sense amplifier 1a ... Dummy judging device and control circuit 3 ... Write circuit 4 ... Output circuit 5 ... Gate circuit 6 ... Address buffer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ダミーメモリセルの出力に基づいてメモ
リ動作を制御する半導体メモリ装置であって、 読み出し時に、上記ダミーメモリセルからのデータ出力
を受けると、読み出し動作を終了させ、かつ、書き込み
時に、上記ダミーメモリセルからのデータ出力を受ける
と、書き込み動作を終了させる制御手段を有する半導体
メモリ装置。
1. A semiconductor memory device for controlling a memory operation based on an output of a dummy memory cell, wherein when the data output from the dummy memory cell is received at the time of reading, the read operation is ended and at the time of writing. A semiconductor memory device having control means for terminating a write operation when receiving data output from the dummy memory cell.
【請求項2】 上記制御手段は、書き込み動作を終了さ
せ、次サイクルのためのビット線のプリチャージ動作を
行う請求項1記載の半導体メモリ装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said control means terminates the write operation and performs a bit line precharge operation for the next cycle.
【請求項3】 クロックの前半でメモリセルが接続され
るビット線をプリチャージし、後半でワード線をアクテ
ィブにして書き込みを行う半導体メモリ装置であって、 書き込み時間を、メモリセルが反転するのに必要な時間
より長く、1/2サイクル時間より短い時間に設定し、
その時間のみワード線をアクティブにする手段を有する
半導体メモリ装置。
3. A semiconductor memory device in which a bit line to which a memory cell is connected is precharged in the first half of a clock, and a word line is activated in the second half to perform writing, in which the write time is inverted by the memory cell. Set to a time longer than the time required for
A semiconductor memory device having means for activating a word line only during that time.
【請求項4】 クロックの前半でメモリセルが接続され
るビット線をプリチャージし、後半でワード線をアクテ
ィブにして書き込みを行う半導体メモリ装置であって、 ダミーメモリセルを備え、 上記ダミーメモリセルへの書き込み完了を検知して、ワ
ード線のアクティブ時間を制御する手段半導体メモリ装
置。
4. A semiconductor memory device that precharges a bit line to which a memory cell is connected in the first half of a clock and activates a word line in the second half to perform writing, the dummy memory cell being provided, Means for detecting the completion of writing to the word line and controlling the active time of the word line.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005004165A1 (en) * 2003-07-04 2005-01-13 Sony Corporation Semiconductor storage device and method for reading from semiconductor storage device
JP2005302182A (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Ricoh Co Ltd Semiconductor storage device
JP2006155703A (en) * 2004-11-26 2006-06-15 Ricoh Co Ltd Semiconductor integrated circuit
JP2006164399A (en) * 2004-12-07 2006-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device
JP2007018584A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device
JP2007250020A (en) * 2006-03-13 2007-09-27 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JP2007531957A (en) * 2003-07-14 2007-11-08 フルクラム・マイクロシステムズ・インコーポレーテッド Asynchronous static random access memory
CN100353455C (en) * 2004-05-26 2007-12-05 钰创科技股份有限公司 Semiconductor integrated circuit with full speed data transition architecture and design method thereof
JP2010529583A (en) * 2007-05-31 2010-08-26 クゥアルコム・インコーポレイテッド Memory device with delay tracking for improved timing margin
JP2010529582A (en) * 2007-05-31 2010-08-26 クゥアルコム・インコーポレイテッド Clock and control signal generation for high performance memory devices
JP2010225231A (en) * 2009-03-24 2010-10-07 Hitachi Ltd Semiconductor memory

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005004165A1 (en) * 2003-07-04 2005-01-13 Sony Corporation Semiconductor storage device and method for reading from semiconductor storage device
US7376028B2 (en) 2003-07-04 2008-05-20 Sony Corporation Semiconductor memory device and method for reading semiconductor memory device
JP2007531957A (en) * 2003-07-14 2007-11-08 フルクラム・マイクロシステムズ・インコーポレーテッド Asynchronous static random access memory
JP2005302182A (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Ricoh Co Ltd Semiconductor storage device
JP4568522B2 (en) * 2004-04-14 2010-10-27 株式会社リコー Semiconductor memory device
CN100353455C (en) * 2004-05-26 2007-12-05 钰创科技股份有限公司 Semiconductor integrated circuit with full speed data transition architecture and design method thereof
JP2006155703A (en) * 2004-11-26 2006-06-15 Ricoh Co Ltd Semiconductor integrated circuit
JP2006164399A (en) * 2004-12-07 2006-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device
JP2007018584A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device
JP2007250020A (en) * 2006-03-13 2007-09-27 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JP2010529583A (en) * 2007-05-31 2010-08-26 クゥアルコム・インコーポレイテッド Memory device with delay tracking for improved timing margin
JP2010529582A (en) * 2007-05-31 2010-08-26 クゥアルコム・インコーポレイテッド Clock and control signal generation for high performance memory devices
KR101253533B1 (en) * 2007-05-31 2013-04-11 퀄컴 인코포레이티드 Memory device with delay tracking for improved timing margin
JP2010225231A (en) * 2009-03-24 2010-10-07 Hitachi Ltd Semiconductor memory

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