JPH09114045A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

Info

Publication number
JPH09114045A
JPH09114045A JP7270193A JP27019395A JPH09114045A JP H09114045 A JPH09114045 A JP H09114045A JP 7270193 A JP7270193 A JP 7270193A JP 27019395 A JP27019395 A JP 27019395A JP H09114045 A JPH09114045 A JP H09114045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
acid
silver halide
polymer
sensitive material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7270193A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Adachi
仁 安達
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP7270193A priority Critical patent/JPH09114045A/en
Publication of JPH09114045A publication Critical patent/JPH09114045A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sensitive material using a lightweight syndiotactic polystyrene film as the photographic substrate, not causing trouble due to oil sludge in development and having a permanent antistatic effect even after development. SOLUTION: This sensitive material has at least one layer of an antistatic agent contg. electrically conductive particles with a water-soluble polymer positioned around polymer particles and has a photographic substrate of biaxially stretched syndiotactic polystyrene. The weight of the water-soluble polymer is 35-500% of that of the polymer particles and the water-soluble polymer has sulfo groups and carboxyl groups.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は二軸延伸シンジオタクテ
ィックポリスチレン系フィルムを写真用支持体とするハ
ロゲン化銀写真感光材料に関し、特に新規な軽量なシン
ジオタクティックポリスチレン系写真用支持体を有し、
帯電防止効果の優れたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material using a biaxially stretched syndiotactic polystyrene film as a photographic support, and more particularly to a novel lightweight syndiotactic polystyrene photographic support. Then
The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material having an excellent antistatic effect.

【0002】[0002]

【従来の技術】X線医療用ハロゲン化銀写真感光材料
(以下X線フィルムと略すことがある)は撮影、現像
後、撮影患部の診断をするためにシャーカステンに差し
込まれるが、フィルムの腰の強さはX線フィルムとして
は重要な課題である。以前写真用支持体にセルロースト
リアセテート(TAC)フィルムが用いられていたこと
があったが、腰が弱くて厚さを230μmにしなければ
使用出来なかった。後に腰の強い写真用支持体としてP
ETフィルムが用いられていたが、比重が1.4もあっ
て製品の重量が大きく、腰が強く、PETよりも軽い写
真用支持体が求められていた。
2. Description of the Related Art An X-ray medical silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter sometimes abbreviated as X-ray film) is inserted into a Schaukasten for diagnosing an affected area after photography and development. Strength is an important issue for an X-ray film. Previously, a cellulose triacetate (TAC) film had been used as a photographic support, but it could not be used unless it had a thickness of 230 μm due to its weak stiffness. Later, P as a photographic support with strong stiffness
Although an ET film was used, there was a demand for a photographic support that had a specific gravity of 1.4, had a large product weight, was strong, and was lighter than PET.

【0003】最近、特開平3−131843号に記載の
二軸延伸シンジオタクティックポリスチレン(以下SP
Sと略すことがある)系フィルムを写真用支持体に用い
る提案がなされた。このフィルムは比重が約1.0でP
ETのそれより25%以上も軽く、吸湿膨張係数も非常
に小さいことから当業界では次世代の写真用支持体とし
て注目されていた。
Recently, a biaxially stretched syndiotactic polystyrene described in JP-A-3-131843 (hereinafter referred to as SP
It has been proposed to use a film based on S) as a photographic support. This film has a specific gravity of about 1.0 and P
It is lighter than that of ET by 25% or more and has a very small coefficient of hygroscopic expansion, so that it has attracted attention as a next-generation photographic support in the art.

【0004】一方、ハロゲン化銀写真感光材料はそれを
製造する過程で、またユーザーが使用している間に、同
種あるいは異種の物質の表面とハロゲン化銀写真感光材
料が接触して互いに摩擦さたり、剥離されたりしてハロ
ゲン化銀写真感光材料が静電気を帯び易くなる。帯電し
蓄積された静電電荷が放電すると、ハロゲン化銀写真感
光材料にとって致命的なダメージを受ける。ハロゲン化
銀写真感光材料は現像処理をして初めて正常な品質であ
るかが分かる、いわゆる非破壊検査の出来ない品物であ
って、いかなる場合においても、静電気による障害を受
けてはならないのものである。その障害というのは、ス
タチックマークといわれる点状あるいは樹脂状や羽毛状
の画像様の不必要なパターンであって、これらが写真フ
ィルム上に出現すると写真画像以外のノイズとなる。例
えば医療用あるいは工業用X線写真フィルムの場合には
誤信号となり、診断を誤らせる虞れがあり、危険なこと
である。また一方現像処理後、写真フィルムが帯電した
場合には、表面にゴミが付着し、焼き付けされたプリン
トに不必要な点等が現れ、商品価値が全く失われる。ま
た、印刷会社などでのフィルムの取り扱い中に帯電した
フィルムからの静電気ショックも作業者に脅威を与えて
いる。感光層等を塗布する際には、ロールとの接触剥離
により静電気が発生して塗布液が不均一に付くような塗
布ムラを生じることもある。
On the other hand, the silver halide photographic light-sensitive material is in contact with the surface of the same or different substance and the silver halide photographic light-sensitive material in contact with each other during the process of manufacturing the same and during use by the user. The silver halide photographic light-sensitive material is easily charged with static electricity due to peeling or peeling. When the electrostatic charge accumulated and charged is discharged, the silver halide photographic light-sensitive material is fatally damaged. The silver halide photographic light-sensitive material is a product that cannot be subjected to so-called non-destructive inspection, which shows that it is of normal quality only after development, and must not be damaged by static electricity in any case. is there. The obstacle is an unnecessary pattern such as a dot-like or resin-like or feather-like image called a static mark, and when these appear on the photographic film, it becomes noise other than the photographic image. For example, in the case of a medical or industrial X-ray photographic film, an erroneous signal is generated, which may cause a false diagnosis and is dangerous. On the other hand, when the photographic film is charged after the development processing, dust adheres to the surface, unnecessary points appear on the printed print, and the commercial value is completely lost. Further, an electrostatic shock from a charged film during handling of the film in a printing company or the like also poses a threat to the worker. When the photosensitive layer or the like is applied, static electricity may be generated due to contact peeling from the roll, resulting in uneven coating such that the coating solution is unevenly applied.

【0005】従来から、いろいろな種類の帯電防止技術
が提案されていたが、X線フィルム用の静電気障害に対
しては界面活性剤系帯電防止剤が主に用いられて来た。
提案されているそれらの帯電防止技術としては、例え
ば、特公昭47−8742号、同56−1617号、同
58−43729号、特開昭48−19213号、同4
9−10022号、同49−46733号、同51−3
2322号、同55−7762号等がある。
Conventionally, various kinds of antistatic techniques have been proposed, but a surfactant-based antistatic agent has been mainly used for electrostatic damage for X-ray films.
Proposed antistatic techniques include, for example, Japanese Examined Patent Publication Nos. 47-8742, 56-1617, 58-43729, and JP-A-48-19213, 4).
9-10022, 49-47733, 51-3
2322 and 55-7762.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、X線フ
ィルムの帯電防止技術は大変難しく、帯電防止性能ばか
りでなく、前記の特許文献にあるようなポリエチレンオ
キシド系の界面活性剤系帯電防止剤は現像液等に溶出し
易い物質で、溶出した場合、油性の性質も出現し、機材
の壁面、ローラー、フィルムなどに付着し易く、これが
オイルスラッジといわれるものである。フィルムに付着
すると現像阻害、定着不良を起こし、使用不能となり、
撮り直しがきかないもので、人の生命にかかわることに
もなりかねない。また、更に現像処理の迅速化、環境問
題からくる現像液等の低補充化、濃縮化、錠剤による処
理剤の補充等、フィルムの現像処理がますます難しくな
って行く中、前記帯電防止剤では対応しきれない現状に
ある。
However, the antistatic technique for X-ray film is very difficult, and not only the antistatic performance but also the polyethylene oxide type surfactant antistatic agent as described in the above-mentioned patent documents is developed. It is a substance that easily elutes in liquids and the like, and when it elutes, oily properties also appear, and it easily adheres to the walls of equipment, rollers, films, etc. This is called oil sludge. If it adheres to the film, it will hinder development and cause poor fixing, making it unusable.
It is something that cannot be retaken, and it can also affect human life. In addition, as the development process of the film becomes more and more difficult, such as faster development process, lower replenishment of developer due to environmental problems, concentration, replenishment of processing agent with tablets, etc. We are in a situation where we cannot handle it.

【0007】一方、ハロゲン化銀写真感光材料に関して
は、高感度化、高速生産化、高速撮影、自動撮影化、写
真用支持体の変更等により、静電気障害を発生し易くな
る傾向にあり、上記現像処理の問題点に加え、これらに
対応できる帯電防止技術の開発の要求が高まって来てい
る。
On the other hand, with regard to silver halide photographic light-sensitive materials, there is a tendency that electrostatic damage is likely to occur due to high sensitivity, high-speed production, high-speed photography, automatic photography, and change of photographic support. In addition to the problems of development processing, there is an increasing demand for development of antistatic technology that can address these problems.

【0008】SPS系写真用支持体には、PET写真用
支持体に比べて、誘電損失が小さく、このため一度帯電
すると除電されにくいという性質があり、強制的に除電
する必要があるほど帯電し易く、特にX線フィルムを初
めとするハロゲン化銀高感度写真感光材料用に上記写真
用支持体を用いる場合の帯電防止技術を探索することが
重要である。
The SPS-based photographic support has a smaller dielectric loss than the PET photographic support, and therefore has the property that it is difficult to be neutralized once it is charged. In particular, it is important to search for an antistatic technique when the above photographic support is used for a silver halide high-sensitivity photographic light-sensitive material such as an X-ray film.

【0009】本発明者は上記二つの問題点、すなわちX
線フィルム用の写真用支持体のSPS化と高感度ハロゲ
ン化銀写真感光材料用帯電防止剤の無オイルスラッジ化
を両立させるべく開発を試みた。
The present inventor has found the above two problems, that is, X
An attempt was made to achieve both SPS of a photographic support for a linear film and oil-free sludge of an antistatic agent for a high-sensitivity silver halide photographic light-sensitive material.

【0010】本発明の目的は、写真用支持体をSPS系
とし、軽量化を図り、現像処理時にオイルスラッジの発
生もなく、かつ現像後においても劣化しない永久帯電防
止効果を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とにある。
The object of the present invention is to use a SPS type photographic support as a photographic support, to reduce the weight thereof, to prevent generation of oil sludge during development processing, and to have a permanent antistatic effect which does not deteriorate even after development. To provide a light-sensitive material.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、SPS系写真
用支持体を有するハロゲン化銀写真感光材料の帯電防止
剤として、重合体粒子の外周に、下記水溶性高分子
(A)が位置する導電性粒子を含有する帯電防止層をハ
ロゲン化銀写真感光材料の少なくとも1層設けることに
より永久帯電防止性能を持つハロゲン化銀写真感光材料
が得られ、達成された。ここで水溶性高分子(A)とは
スルホン酸基とカルボキシル基とを有する水溶性高分子
である。
According to the present invention, as an antistatic agent for a silver halide photographic light-sensitive material having an SPS type photographic support, the following water-soluble polymer (A) is positioned around the outer periphery of polymer particles. By providing at least one layer of the silver halide photographic light-sensitive material having an antistatic layer containing conductive particles, a silver halide photographic light-sensitive material having a permanent antistatic property was obtained and achieved. Here, the water-soluble polymer (A) is a water-soluble polymer having a sulfonic acid group and a carboxyl group.

【0012】更に、本発明は上記水溶性高分子(A)の
スルホン酸基が、スチレンスルホン酸単量体から誘導さ
れた導電性粒子に;エポキシ基含有単量体から誘導され
た重合体粒子に;上記水溶性高分子(A)をスチレンス
ルホン酸とマレイン酸との共重合体に;スチレンスルホ
ン酸とマレイン酸とのモル比をスチレンスルホン酸/マ
レイン酸=50/50〜95/5の範囲に;上記水溶性
高分子(A)の重量を上記重合体からなる粒子体の重量
に対し35〜500%にすることによって、優れた永久
帯電防止性能を持ち、かつ他の性質も優れた本発明のハ
ロゲン化銀写真感光材料が得られ、達成された。
Further, the present invention relates to conductive particles in which the sulfonic acid group of the water-soluble polymer (A) is derived from a styrene sulfonic acid monomer; polymer particles derived from an epoxy group-containing monomer. To the copolymer of styrene sulfonic acid and maleic acid; the molar ratio of styrene sulfonic acid and maleic acid is styrene sulfonic acid / maleic acid = 50/50 to 95/5. Within the range; by setting the weight of the water-soluble polymer (A) to 35 to 500% with respect to the weight of the particles made of the polymer, excellent permanent antistatic performance and excellent other properties are obtained. The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention was obtained and achieved.

【0013】本発明を以下に詳しく説明する。The present invention is described in detail below.

【0014】[写真用支持体]本発明のSPSについて
説明する。本発明のSPS、すなわちシンジオタクティ
ック構造を有するポリスチレン系重合体とは、立体規則
性構造(タクティシティー)が、シンジオタクティック
構造を有するもの、すなわち、炭素−炭素結合から形成
された主鎖に対して側鎖であるフェニール基や置換フェ
ニール基が交互に反対方向に位置する立体構造を有する
ものである。SPSは全ての主鎖のスチレン単位がシン
ジオタクティック構造を取っているのではなく、シンジ
オタクティック構造のスチレン単位が幾つか繋がってい
る部分を有していて、それらが重なり合って結晶部分を
形成している構造になっている。この連鎖をラセモ連鎖
といい、SPSは主鎖にポリスチレンのラセモ連鎖を多
く有している組成物である。連続する複数個のスチレン
構成単位が2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリ
アッド、5個の場合はペンタッドと呼ばれ、本発明にい
う主としてシンジオタクティック構造を有するスチレン
系重合体とは、通常ラセミダイアッドで75%以上、好
ましくは85%以上、若しくはラセミトリアッド60%
以上、好ましくは75%以上、若しくはラセミペンタッ
ド30%以上、50%以上であることが好ましい。この
タクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法(13
C−NMR法)により定量することが出来る。
[Photographic Support] The SPS of the present invention will be described. The SPS of the present invention, that is, a polystyrene polymer having a syndiotactic structure means that the stereoregular structure (tacticity) has a syndiotactic structure, that is, a main chain formed from carbon-carbon bonds. On the other hand, it has a steric structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups, which are side chains, are alternately located in opposite directions. In SPS, not all styrene units of the main chain have a syndiotactic structure, but a part where several styrene units of syndiotactic structure are connected, and they are overlapped to form a crystal part. It has a structure. This chain is called racemo chain, and SPS is a composition having many polystyrene racemo chains in the main chain. When a plurality of continuous styrene constitutional units is 2, it is called dyad, when it is 3 it is called triad, and when it is 5 it is called pentad, and the styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure in the present invention means , Usually racemic dyad 75% or more, preferably 85% or more, or racemic triad 60%
As described above, it is preferably 75% or more, or 30% or more and 50% or more, racemic pentad. This tacticity is based on the nuclear magnetic resonance method ( 13
It can be quantified by C-NMR method.

【0015】本発明のSPS系重合体は、スチレン単独
の重合体であってもよく、スチレン誘導体あるいはその
他の単量体それを含む組成物であってもよく、スチレン
の単独重合体であれば、特開昭62−117708号記
載の方法で重合することが出来、またその他の重合体に
ついては、特開平1−46912号、同1−17850
5号等に記載された方法により重合することにより得る
ことができる。
The SPS polymer of the present invention may be a styrene homopolymer, a composition containing a styrene derivative or other monomer, and may be a styrene homopolymer. Polymerization can be carried out by the method described in JP-A No. 62-117708, and regarding other polymers, JP-A Nos. 1-46912 and 1-17850.
It can be obtained by polymerizing by the method described in No. 5 or the like.

【0016】SPS系組成物を構成する重合体の具体的
な単量体としては、スチレンの他に、メチルスチレン等
のアルキルスチレン、クロロメチルスチレン、クロロス
チレン等のハロゲン化(アルキル)スチレン、アルコキ
シスチレン、ビニル安息香酸エステル等を挙げることが
できる。
Specific examples of the polymer constituting the SPS composition include styrene, alkylstyrene such as methylstyrene, halogenated (alkyl) styrene such as chloromethylstyrene and chlorostyrene, and alkoxy. Examples thereof include styrene and vinyl benzoate.

【0017】本発明のSPS系写真用支持体がスチレン
以外のスチレン誘導体としての単量体を含有する場合に
は、15%以下含有してもよく、10%以下が好まし
い。特に5〜10%が好ましい。この場合スチレン誘導
体としては、4−メチルスチレンが好ましい。
When the SPS photographic support of the present invention contains a monomer as a styrene derivative other than styrene, it may be contained in an amount of 15% or less, preferably 10% or less. Particularly, 5 to 10% is preferable. In this case, 4-methylstyrene is preferable as the styrene derivative.

【0018】本発明のシンジオタクティック構造を有す
るポリスチレン系樹脂は、上記のような原料単量体を重
合用触媒として、特開平5−320448号の4頁〜1
0頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び(b)ア
ルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)(a)遷
移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応してイオ
ン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするものを用い
て重合して製造することが出来る。
The polystyrene-based resin having a syndiotactic structure of the present invention uses the above-mentioned raw material monomers as a polymerization catalyst and is disclosed in JP-A-5-320448, pages 4 to 1.
(A) (a) a transition metal compound and (b) aluminoxane as a main component described on page 0, or (b) an ionic complex that reacts with (a) a transition metal compound and (c) a transition metal compound It can be produced by polymerization using a compound containing a compound capable of forming

【0019】本発明のSPS系写真用支持体に用いられ
るスチレン系重合体を製造するには、まず、前記スチレ
ン系単量体を十分に精製してから上記触媒のいずれかの
存在下に重合させる。この際、重合方法、重合条件(重
合温度,重合時間)、溶媒などは適宜選定すればよい。
通常は−50〜200℃、好ましくは30〜100℃の
温度において、1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時
間程度重合が行われる。また、重合方法としては、スラ
リー重合法,溶液重合法,塊状重合法,気相重合法な
ど、いずれも用いることができ、連続重合,非連続重合
のいずれであってもよい。ここで、溶液重合にあって
は、溶媒として、例えばベンゼン,トルエン,キシレ
ン,エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素,シクロペン
タン,ヘキサン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化
水素などを一種又は二種以上を組合わせて使用すること
ができる。この場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に
選択することができる。また、重合体の分子量制御や組
成制御は、通常用いられている方法によって行えばよ
い。分子量制御は例えば水素,温度,単量体濃度などで
行うことができる。重合終了後は定法によりペレット化
して使用するのが好ましい。
In order to produce the styrene polymer used for the SPS photographic support of the present invention, first, the styrene monomer is sufficiently purified and then polymerized in the presence of any of the above catalysts. Let At this time, the polymerization method, polymerization conditions (polymerization temperature, polymerization time), solvent, etc. may be appropriately selected.
Usually, the polymerization is carried out at a temperature of −50 to 200 ° C., preferably 30 to 100 ° C. for 1 second to 10 hours, preferably 1 minute to 6 hours. As the polymerization method, any of a slurry polymerization method, a solution polymerization method, a bulk polymerization method, a gas phase polymerization method and the like can be used, and either continuous polymerization or discontinuous polymerization may be used. Here, in the solution polymerization, as a solvent, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, hexane, heptane, and octane may be used alone or in combination. It can be used in combination. In this case, the monomer / solvent (volume ratio) can be arbitrarily selected. The molecular weight and composition of the polymer may be controlled by a commonly used method. The molecular weight can be controlled by, for example, hydrogen, temperature, monomer concentration and the like. After completion of the polymerization, it is preferably pelletized by a conventional method before use.

【0020】本発明の写真用支持体に用いられるSPS
系重合体の分子量は、製膜される限りにおいては制限が
ないが、重量平均分子量で、10000〜300000
0であることが好ましく、特には30000〜1500
000のものが好ましい。またこの時の分子量分布(数
平均分子量/重量平均分子量)は、1.5〜8が好まし
い。この分子量分布については、異なる分子量のものを
混合することにより調整することも可能である。
SPS used in the photographic support of the present invention
The molecular weight of the polymer is not limited as long as it is formed into a film, but the weight average molecular weight is 10,000 to 300,000.
0 is preferable, and particularly 30,000 to 1500
000 is preferred. The molecular weight distribution (number average molecular weight / weight average molecular weight) at this time is preferably 1.5 to 8. This molecular weight distribution can be adjusted by mixing different molecular weights.

【0021】本発明のSPS系写真用支持体を立体規則
性からみると、SPS系単独重合体であることが好まし
いが、シンジオタクティック構造の他に、主鎖がメソ連
鎖であるアイソタクティック構造を有するスチレン系重
合体(IPS)を混合してもよく、このものは結晶化速
度のコントロールが可能であり、より強固なフィルムと
することが出来る。SPSとIPSとを混合する際に
は、そのSPS:IPS比はお互いの立体規則性の高さ
に依存するが、30:70〜99:1が好ましく、特に
50:50〜98:2が好ましい。
From the viewpoint of stereoregularity, the SPS photographic support of the present invention is preferably an SPS homopolymer, but in addition to the syndiotactic structure, an isotactic main chain is a mesochain. A styrene-based polymer (IPS) having a structure may be mixed, and this can control the crystallization rate and can form a stronger film. When SPS and IPS are mixed, the SPS: IPS ratio is preferably 30:70 to 99: 1, and particularly preferably 50:50 to 98: 2, although it depends on the stereoregularity of each other. .

【0022】本発明の写真用支持体中には、本発明の目
的を妨げない範囲において、機能性付与のために無機微
粒子、酸化防止剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔
料、色素等をSPS系樹脂ペレット中に含有させること
が出来る。
In the photographic support of the present invention, inorganic fine particles, antioxidants, UV absorbers, antistatic agents, dyes, pigments and dyes are added for the purpose of imparting functionality to the extent that the objects of the present invention are not impaired. Etc. can be contained in the SPS resin pellets.

【0023】写真用支持体を着色する際に用いられる染
料としては、高温で熱溶融して押し出すまでの間に、熱
で分解がおこるような染料は用いることが出来ない。従
って、350℃の温度に耐える染料が選ばれる。染料の
混合方法は、SPSペレットに撹拌式混合機で染料をま
ぶす方法、混練機でペレットと共に染料を溶融し、マス
ターペレットとし、使用時にバージンペレットと混合し
て押出機に導入して混合する方法等がある。本発明にお
いては、いずれの方法をも使用することが出来る。
As the dye used for coloring the photographic support, a dye which is decomposed by heat before being melted at high temperature and extruded cannot be used. Therefore, a dye that can withstand a temperature of 350 ° C. is selected. The method of mixing the dye is a method of sprinkling the dye on the SPS pellets with a stirring mixer, a method of melting the dye together with the pellets with a kneader into master pellets, mixing them with virgin pellets at the time of use and introducing them into an extruder, and mixing. Etc. Either method can be used in the present invention.

【0024】高温耐熱性染料としては、下記の如きもの
があり、X線フィルムには青色の染料が使用されてお
り、またカラーフィルムの場合には2〜3色混合してニ
ュートラルな色にすることが行われている。
The following high-temperature heat-resistant dyes are available, and blue dyes are used in X-ray films. In the case of color films, 2-3 colors are mixed to give a neutral color. Is being done.

【0025】1,4−ジ(2,6−ジエチルアニリノ)
アンスラキノン 1,4−ジ(2,4,6−トリエチルアニリノ)アンス
ラキノン 1,4−ジ(2,6−ジメチルアニリノ)アンスラキノ
ン 1,4−ジ(2,6−ジエチル−4−メチルアニリノ)
アンスラキノン 1,4−ジ(2,メチル−6−イソプロピルアニリノ)
アンスラキノン 1,4−ジ(2,3,4,6−テトラメチル−5−シク
ロヘキシルアミノスルホニルアニリノ)アンスラキノン
と銅フタロシアニンの混合物 本発明のSPS系樹脂ペレットを製膜前に120〜18
0℃で、1〜24時間、真空下或いは、常圧下炭酸ガス
又は窒素等の不活性気体雰囲気下で乾燥することが好ま
しい。
1,4-di (2,6-diethylanilino)
Anthraquinone 1,4-di (2,4,6-triethylanilino) anthraquinone 1,4-di (2,6-dimethylanilino) anthraquinone 1,4-di (2,6-diethyl-4-) Methyl anilino)
Anthraquinone 1,4-di (2, methyl-6-isopropylanilino)
Anthraquinone 1,4-di (2,3,4,6-tetramethyl-5-cyclohexylaminosulfonylanilino) mixture of anthraquinone and copper phthalocyanine 120 to 18 before forming the SPS resin pellet of the present invention into a film.
It is preferable to dry at 0 ° C. for 1 to 24 hours under vacuum or under an atmospheric pressure of an inert gas atmosphere such as carbon dioxide or nitrogen.

【0026】本発明のSPS系写真用支持体の製膜につ
いて述べる。まず、製膜時に押し出す方法は、公知の方
法が適用出来、例えばTダイで押し出すことが好まし
い。真空乾燥されたSPSペレットを押出機に投入して
280〜350℃で溶融押出しして、キャスティングド
ラム上で静電印荷しながら冷却固化させて未延伸フィル
ムを作製する。
Film formation of the SPS type photographic support of the present invention will be described. First, a known method can be applied as a method of extruding at the time of film formation, and for example, it is preferable to extrude with a T die. The vacuum-dried SPS pellets are put into an extruder, melt-extruded at 280 to 350 ° C., and cooled and solidified while electrostatically loading on a casting drum to produce an unstretched film.

【0027】本発明のSPS系写真用支持体の製造法に
有用な延伸の方法は、縦および横方向の延伸温度、延伸
倍率、熱固定温度、および延伸の方法(縦延伸後、引き
続き横延伸する、あるいは、横延伸後、引き続き縦延伸
する逐次二軸延伸法、縦及び横両方向に同時に延伸する
同時二軸延伸法、縦、横、縦延伸あるいは、縦、縦、横
延伸等の三段延伸法等)等によって異なり、一義的には
決められないが、これらのいずれの方式の組み合わせで
も可能である。
The stretching method useful in the method for producing the SPS-based photographic support of the present invention includes stretching temperature in the longitudinal and transverse directions, stretching ratio, heat setting temperature, and stretching method (after longitudinal stretching, then transverse stretching. Alternatively, after the horizontal stretching, successive biaxial stretching method in which longitudinal stretching is continued, simultaneous biaxial stretching method in which both longitudinal and transverse directions are simultaneously stretched, longitudinal, transverse, longitudinal stretching, or three stages such as longitudinal, longitudinal and transverse stretching. It depends on the stretching method and the like) and cannot be determined uniquely, but any combination of these methods is also possible.

【0028】出来上がった延伸フィルムの縦方向及び横
方向のヤング率は、それぞれ異なってもよいが、ハロゲ
ン化銀写真感光材料としては、SPS写真用支持体の機
械的、熱的特性等の物性上の観点から縦方向及び横方向
の物性がほぼ同じであることが好ましく、腰については
出来るだけ同じヤング率であることが特に好ましい。
Although the Young's modulus in the machine direction and the transverse direction of the finished stretched film may be different from each other, as a silver halide photographic light-sensitive material, there are physical properties such as mechanical and thermal characteristics of the SPS photographic support. From the viewpoint of the above, it is preferable that the physical properties in the vertical direction and the physical properties in the horizontal direction are substantially the same, and it is particularly preferable that the waist has the same Young's modulus as possible.

【0029】ある方向の延伸の後の延伸によって、縦方
向、あるいは横方向のいずれかの配向がキャンセルされ
るので、縦方向及び横両方向の配向を出来るだけ保持す
ることが重要であり、両方向のヤング率を共に上げるた
めには、縦延伸時、および横延伸時共、特に横延伸時に
破断が発生しない程度に、極力延伸温度を低くして延伸
倍率を上げ、面配向が最適になる最適熱固定温度を採用
する事が必要である。
Since stretching in a certain direction cancels orientation in either the longitudinal direction or the transverse direction, it is important to maintain the orientation in both the longitudinal direction and the transverse direction as much as possible. In order to increase the Young's modulus as well, both during the longitudinal stretching and the transverse stretching, the stretching temperature should be lowered as much as possible and the stretching ratio should be increased to the extent that fracture does not occur during the transverse stretching. It is necessary to adopt a fixed temperature.

【0030】一般に、SPS系写真用支持体の製膜を逐
次二軸延伸方法で行う場合には、縦方向延伸温度を、未
延伸シートのガラス転移温度(Tg)95℃程度で、縦
及び横方向の延伸倍率として3.0〜3.3倍、縦延伸
温度として120〜130℃、横延伸温度を、縦延伸温
度より5〜10℃高い125〜140℃の温度範囲で延
伸し、次に、この二軸延伸フィルムを250〜260℃
で、3〜100秒熱固定するという製膜方法で行われ
る。この場合ヤング率はせいぜい400kgf/mm2
程度であり、本発明に用いられるSPS系写真用支持体
としては、腰の強いものが望まれるため、下記の如き製
膜法を採用することが好ましい。すなわち、SPS写真
用支持体の製膜の延伸温度は、(Tg+3)℃〜(Tg
+10)℃であり、具体的な製膜方法は、例えば、4−
メチルスチレンを5モル%含有したSPS系フィルム
(Tg≒95℃)では、縦延伸温度としては、98〜1
05℃で、縦延伸倍率としては、3.0〜5.0倍で、
好ましくは、3.3〜4.5倍で延伸するのが良く、横
延伸温度としては、縦延伸温度より5〜10℃高い(T
g+8)℃〜(Tg+20)℃で延伸するのが良く、つ
まり、103〜115℃の温度範囲で延伸しするのが好
ましい。なお、次の熱固定温度は235〜260℃で、
熱固定時間は3〜100秒で行うのが好ましい。このよ
うにして製膜されたSPS系写真用支持体は、SPS系
写真用支持体の縦方向及び横方向のヤング率が共に、4
60kgf/mm2以上、好ましくは475kgf/m
2以上のものが得られ、腰の強いSPS系写真用支持
体として好ましく用いられる。上限は特に限定されない
が、上限は540kgf/mm2程度である。
Generally, when the SPS-based photographic support is formed into a film by a sequential biaxial stretching method, the longitudinal stretching temperature is about 95 ° C. of the glass transition temperature (Tg) of the unstretched sheet, and the longitudinal and transverse stretching temperatures are about 95 ° C. The stretching ratio in the direction is 3.0 to 3.3 times, the longitudinal stretching temperature is 120 to 130 ° C, and the transverse stretching temperature is 5 to 10 ° C higher than the longitudinal stretching temperature in the temperature range of 125 to 140 ° C. , This biaxially stretched film at 250 to 260 ° C.
Then, it is carried out by a film forming method of heat fixing for 3 to 100 seconds. In this case, Young's modulus is at most 400 kgf / mm 2
Since the SPS-based photographic support used in the present invention is tough, it is preferable to use the following film-forming method. That is, the stretching temperature for film formation of the SPS photographic support is (Tg + 3) ° C. to (Tg
+10) ° C., and a specific film forming method is, for example, 4-
In the SPS type film (Tg≈95 ° C.) containing 5 mol% of methylstyrene, the longitudinal stretching temperature is 98 to 1
At 05 ° C, the longitudinal stretching ratio is 3.0 to 5.0 times,
It is preferable to stretch at a stretch ratio of 3.3 to 4.5, and the transverse stretching temperature is 5 to 10 ° C. higher than the longitudinal stretching temperature (T
It is preferable to stretch at g + 8) ° C to (Tg + 20) ° C, that is, it is preferable to stretch at a temperature range of 103 to 115 ° C. The next heat setting temperature is 235 to 260 ° C,
The heat setting time is preferably 3 to 100 seconds. The SPS-based photographic support thus formed has a Young's modulus of 4 in both the longitudinal and lateral directions of the SPS-based photographic support.
60 kgf / mm 2 or more, preferably 475 kgf / m
m 2 or more is obtained, and it is preferably used as a stiff SPS type photographic support. The upper limit is not particularly limited, but the upper limit is about 540 kgf / mm 2 .

【0031】このようにして得られる本発明のSPS系
写真用支持体の厚さは、ハロゲン化銀写真感光材料の用
途に応じて異なるが、カラーフィルムの50〜250μ
m印刷感光材料フィルムの70〜200μm、X線フィ
ルムの100〜200μm等と多岐に亘るが、前述の製
膜条件は、50〜250μmの厚さのものに有効であ
る。
The thickness of the SPS-based photographic support of the present invention thus obtained varies depending on the use of the silver halide photographic light-sensitive material, but is 50 to 250 μm of the color film.
The film-forming conditions described above are effective for a film having a thickness of 50 to 250 μm, though the film forming conditions are various, such as 70 to 200 μm for a printing photosensitive material film and 100 to 200 μm for an X-ray film.

【0032】[下引層]次に、SPS系写真用支持体の
下引処理に付いて述べる。下引層を塗設する前に、薬品
処理、機械的粗面化処理、コロナ放電処理、火焔処理、
紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズ
マ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理など
の表面処理を施すのが好ましい。これらの処理により、
SPS系写真用支持体表面の水との接触角は65゜以下
に、好ましくは55゜以下にする事が出来、下引層の塗
布時の濡れ性及び接着性を良好ならしめるのに有効であ
る。
[Undercoat Layer] Next, the undercoat treatment of the SPS type photographic support will be described. Before applying the undercoat layer, chemical treatment, mechanical roughening treatment, corona discharge treatment, flame treatment,
Surface treatment such as ultraviolet ray treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment is preferred. By these processes,
The contact angle of water on the surface of the SPS-based photographic support can be set to 65 ° or less, preferably 55 ° or less, which is effective in improving the wettability and adhesiveness during coating of the undercoat layer. is there.

【0033】上記コロナ処理を行う場合には、その処理
条件として、放電周波数を50Hz〜5000kHz
に、好ましくは5kHz〜数100kHzにすることが
よい。放電周波数が小さすぎると、安定な放電が得られ
ず、かつ被処理物にピンホールが生じ、好ましくない。
また周波数が高すぎると、インピーダンスマッチングの
ための特別な装置が必要となり、装置の価格が高くなり
好ましくない。被処理物の処理強度は、SPS系写真用
支持体に対しては、5〜20W・分/m2、好ましくは
6〜15W・分/m2がよい。装置の種類(電極と誘電
体ロールのギャップクリアランス、放電形状、放電周波
数、波形等)により処理強度は異なる場合があり、写真
用支持体の処理表面と水との接触角が、上述の範囲にな
るよう装置を調節すればよい。
When the above corona treatment is performed, the discharge frequency is 50 Hz to 5000 kHz as the treatment condition.
In addition, it is preferable to set the frequency to 5 kHz to several 100 kHz. If the discharge frequency is too low, stable discharge cannot be obtained, and pinholes are generated in the object to be treated, which is not preferable.
On the other hand, if the frequency is too high, a special device for impedance matching is required, and the cost of the device becomes high, which is not preferable. The processing strength of the object to be treated is 5 to 20 W · min / m 2 , and preferably 6 to 15 W · min / m 2 for the SPS photographic support. The treatment strength may vary depending on the type of device (gap clearance between electrode and dielectric roll, discharge shape, discharge frequency, waveform, etc.), and the contact angle between the treated surface of the photographic support and water is within the above range. Adjust the device so that

【0034】紫外線処理は石英管からなる高圧水銀灯又
は低圧水銀灯の180〜380nmのスペクトルを有す
るものが好ましい。紫外線処理はフィルム製膜工程(延
伸プロセス、熱固定時、熱固定後)で行うことが好まし
く、とりわけ延伸工程の後半、あるいは熱固定時に行う
ことが好ましい。紫外線照射の方法は、高圧水銀ランプ
(365nmを主波長とするスペクトルを発生)であれ
ば、照射光量100〜1500(mJ/m2)が良く、
低圧水銀ランプ(254nmを主波長とするスペクトル
を発生)の場合には、照射光量200〜1500(mJ
/m2)が、また好ましくは、400〜1300(mJ
/m2)がよい。ランプの種類、装置の種類等により処
理強度は厳密に規定出来ないので、写真用支持体の処理
表面と水との接触角が、上述の範囲を満足するように調
節すればよい。
The ultraviolet treatment is preferably performed by a high-pressure mercury lamp or a low-pressure mercury lamp made of a quartz tube and having a spectrum of 180 to 380 nm. The ultraviolet treatment is preferably performed in the film forming step (stretching process, heat setting, after heat setting), and particularly preferably in the latter half of the stretching step or at heat setting. The ultraviolet irradiation method is preferably a high-pressure mercury lamp (generating a spectrum having a main wavelength of 365 nm), and the irradiation light amount is 100 to 1500 (mJ / m 2 ).
In the case of a low-pressure mercury lamp (generating a spectrum whose main wavelength is 254 nm), the irradiation light amount is 200 to 1500 (mJ
/ M 2 ) is also preferably 400 to 1300 (mJ
/ M 2 ) is preferable. Since the processing strength cannot be strictly defined depending on the type of lamp, the type of device, etc., the contact angle between the treated surface of the photographic support and water may be adjusted so as to satisfy the above range.

【0035】下引層については、当業界で用いられてい
るものならいずれをも用いられる。
As the undercoat layer, any of those used in the art can be used.

【0036】本発明のSPS系写真用支持体への下引
は、PETフィルムと同様に製膜中延伸前、一軸延伸
後、二軸延伸後熱固定前、あるいは二軸延伸熱固定後の
いずれかのプロセスにおいて行うことが出来る。SPS
系写真用支持体も二軸延伸後熱固定された後の下引でも
十分な乳剤層等の接着には支障がないが、配向結晶完了
前下引の方が好ましい。下引層の乾燥温度は80〜25
0℃の温度範囲で行うのがよい。また下引前後の前述の
如き紫外線照射やコロナ放電等の処理は、SPS系写真
用支持体に対する接着性の向上に有効な手段である。
The undercoating of the SPS-based photographic support of the present invention may be carried out before stretching during film formation, after uniaxial stretching, after biaxial stretching before heat setting, or after biaxial stretching after heat setting, as in the PET film. Can be done in that process. SPS
The support for the photographic system does not hinder sufficient adhesion of the emulsion layer or the like even if the undercoating after the biaxial stretching and heat setting is carried out, but the undercoating before the completion of the oriented crystal is preferred. The drying temperature of the undercoat layer is 80 to 25
It is preferable to carry out in the temperature range of 0 ° C. The above-mentioned treatments such as UV irradiation and corona discharge before and after the undercoating are effective means for improving the adhesiveness to the SPS-based photographic support.

【0037】本発明のSPS系写真用支持体への下引素
材としては、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、
無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸もしくはエステル
(エステル基としてはC1〜C8のアルキル基、ヒドロキ
シエチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、
N,N−ジメチルアミノエチル基、グリシジル基等)、
アクリルアミド、N−置換アクリルアミド(置換基とし
ては、C1〜C4のアルキル基、フェニル基、スルホプロ
ピル基、ベンジル基、N−メチロール基、等)スチレ
ン、スチレンスルホン酸、塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル、ブタジエン等の単量体から得られる重合体、もしく
は共重合体が挙げられる。また水分散系のポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂
なども挙げられる。これらの中で好ましいものは、スチ
レン−ブタジエン共重合体が好ましく用いられる。具体
的には、スチレン/ブタジエンのモル比が9/1〜1/
9の共重合体が好ましい。また、第3のコモノマーとし
て上記アクリル酸等の親水性基を有するコモノマーをス
チレン/ブタジエン共重合体に対して、2〜10重量%
共重合して含ませることにより、SPS系写真用支持体
と写真乳剤層との接着性を更に向上させる効果が得られ
る。他の好ましい具体例としては、水分散性ポリエステ
ルとスチレン系重合体を構成要素とする共重合体であ
る。
As an undercoat material for the SPS type photographic support of the present invention, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid,
Unsaturated carboxylic acid or ester such as maleic anhydride (as the ester group, a C 1 -C 8 alkyl group, hydroxyethyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group,
N, N-dimethylaminoethyl group, glycidyl group, etc.),
Acrylamide, N-substituted acrylamide (as a substituent, a C 1 to C 4 alkyl group, phenyl group, sulfopropyl group, benzyl group, N-methylol group, etc.) Styrene, styrenesulfonic acid, vinylidene chloride, vinyl chloride, Examples thereof include polymers or copolymers obtained from monomers such as butadiene. Further, water-dispersed polyester, polyurethane, polyethyleneimine, epoxy resin and the like are also included. Of these, a styrene-butadiene copolymer is preferably used. Specifically, the styrene / butadiene molar ratio is 9/1 to 1 /
The copolymer of 9 is preferred. In addition, the comonomer having a hydrophilic group such as acrylic acid as the third comonomer is 2 to 10% by weight with respect to the styrene / butadiene copolymer.
Copolymerization and inclusion can provide the effect of further improving the adhesiveness between the SPS-based photographic support and the photographic emulsion layer. Another preferred specific example is a copolymer having a water-dispersible polyester and a styrene polymer as constituent elements.

【0038】上記水分散性ポリエステルとは、多塩基酸
またはそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそ
のエステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる
実質的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基
酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セ
バシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー
酸などを例示することができる。これら成分と共にマレ
イン酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸
やp−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエト
キシ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用
いることができる。
The water-dispersible polyester is a substantially linear polymer obtained by a polycondensation reaction of a polybasic acid or its ester-forming derivative with a polyol or its ester-forming derivative. The polybasic acid component of this polymer includes terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid,
Examples thereof include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid and dimer acid. Along with these components, unsaturated polybasic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid and hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and p- (β-hydroxyethoxy) benzoic acid can be used in a small proportion.

【0039】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
As the polyol component, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylylene glycol, triglyceride. Methylolpropane, poly (ethylene oxide) glycol,
Examples thereof include poly (tetramethylene oxide) glycol.

【0040】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。スルホン酸塩を有するジカルボン
酸及び/又はそのエステル形成性誘導体としてはスルホ
ン酸アルカリ金属塩の基を有するものが特に好ましく、
例えば4−スルホイソフタル酸、5−スルホイソフタル
酸、スルホテレフタル酸、4−スルホフタル酸、4−ス
ルホナフタレン−2,7−ジカルボン酸、5−(4−ス
ルホフェノキシ)イソフタル酸などのアルカリ金属塩、
又はそのエステル形成性誘導体が用いられるが、5−ス
ルホイソフタル酸ナトリウム塩、又はそのエステル形成
性誘導体が特に好ましい。これらのスルホン酸塩を有す
るジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘導体
は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボン酸成分に対
し6〜10モル%で用いられることが特に好ましい。
In order to impart water dispersibility and water solubility to the water-dispersible polyester, introduction of a sulfonate, diethylene glycol, polyalkylene ether glycol or the like is an effective means. In particular, a dicarboxylic acid component having a sulfonic acid salt (a dicarboxylic acid having a sulfonic acid salt and / or
Or an ester-forming derivative thereof) in an amount of from 5 to 15 mol% based on all dicarboxylic acid components in the water-dispersible polyester. As the dicarboxylic acid having a sulfonate and / or an ester-forming derivative thereof, those having an alkali metal sulfonate group are particularly preferable,
For example, alkali metal salts such as 4-sulfoisophthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, sulfoterephthalic acid, 4-sulfophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7-dicarboxylic acid, and 5- (4-sulfophenoxy) isophthalic acid,
Alternatively, an ester-forming derivative thereof is used, but 5-sulfoisophthalic acid sodium salt or an ester-forming derivative thereof is particularly preferable. The dicarboxylic acid having a sulfonic acid salt and / or an ester-forming derivative thereof is particularly preferably used in an amount of from 6 to 10 mol% based on all dicarboxylic acid components from the viewpoint of water solubility and water resistance.

【0041】水分散性ポリエステルとスチレン系(ビニ
ル系)重合体を構成要素とする共重合体とは、水分散系
ポリエステルに連鎖移動型の共重合する方法、水分散性
ポリエステルの末端に付加重合可能な基を導入してスチ
レン系(ビニル系)共重合体のモノマーと共重合するこ
とによりグラフト化する方法、スチレン系(ビニル系)
共重合体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジ
ル基もしくは置換アミノ基等水分散性ポリエステルを縮
重合する際に反応可能基を導入しグラフト化する方法等
がある。このスチレンを他のビニル系モノマーに変えて
反応させてもよい。
The water-dispersible polyester and the copolymer having a styrenic (vinyl-based) polymer as a constituent are a method of chain transfer type copolymerization with the water-dispersible polyester, and addition polymerization at the terminal of the water-dispersible polyester. Method of grafting by introducing a possible group and copolymerizing with a monomer of styrene (vinyl) copolymer, styrene (vinyl)
There is a method of introducing a reactive group at the time of condensation polymerization of a water-dispersible polyester such as a carboxylic acid, a glycidyl group or a substituted amino group as a monomer by polymerizing a copolymer. This styrene may be changed to another vinyl-based monomer and reacted.

【0042】また、水分散性ポリエステルの存在下でビ
ニル系モノマーを共重合させる際、ラテックス状に重合
されるが、重合については、この場合特に界面活性剤を
必要とせず、重合反応が可能である。しかし、重合安定
性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化剤として
用いてもよく、一般のノニオン・アニオンいずれの界面
活性剤も使用できる。
When the vinyl monomer is copolymerized in the presence of the water-dispersible polyester, it is polymerized in a latex form. In this case, however, a surfactant is not particularly required and the polymerization reaction is possible. is there. However, in order to improve the polymerization stability, a surfactant may be used as an emulsifier in the system, and a general nonionic and anionic surfactant can be used.

【0043】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の割合は、99/1〜5/95、好ましくは9
7/3〜50/50、更に好ましくは95/5〜80/
20である。
The ratio of the water-dispersible polyester to the styrene copolymer is 99/1 to 5/95, preferably 9
7/3 to 50/50, more preferably 95/5 to 80 /
Twenty.

【0044】これらの重合には重合開始剤を用いるが、
重合開始剤としては過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム等の過硫酸類、過酸化水素等の過
酸化物、4,4′−アゾビス−4−シアノ吉草酸又はそ
の塩、2,2−アゾビス(2−アミノプロパン)塩酸塩
等のアゾビス系化合物等を用いることができる。また過
酸化物や過硫酸塩類は第1塩化鉄、第1硫酸鉄、第1硫
酸アンモンチオ硫酸ナトリウム等還元剤と組み合わせ
て、レドックス開始剤としても使用できる。
A polymerization initiator is used for these polymerizations.
As the polymerization initiator, persulfates such as ammonium persulfate, potassium persulfate and sodium persulfate, peroxides such as hydrogen peroxide, 4,4′-azobis-4-cyanovaleric acid or a salt thereof, 2,2- Azobis compounds such as azobis (2-aminopropane) hydrochloride can be used. Further, peroxides and persulfates can also be used as a redox initiator in combination with a reducing agent such as ferrous chloride, ferrous sulfate, and sodium ammonium ammonthiosulfate.

【0045】本発明のSPS系写真用支持体への下引は
水系、有機溶媒含有水系、あるいは有機溶媒系でするこ
とが出来る。有機溶媒の中で、SPSに対する溶媒とし
てはベンゼン、キシレン、トルエン、エチルベンゼン、
シクロペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンがあるが、これらの
溶媒を下引液として量を多く使用し過ぎると支持体がお
かされ、平面性が損なわれるので、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、シクロヘキサノール、アセトン、
等の貧溶媒中に少量混合させるのが好ましい。その量は
貧溶媒に対して15%以下が好ましい。
The SPS-based photographic support of the present invention may be subbed in an aqueous system, an organic solvent-containing aqueous system, or an organic solvent system. Among the organic solvents, the solvent for SPS is benzene, xylene, toluene, ethylbenzene,
There are cyclopentane, hexane, heptane, octane, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, but if too much of these solvents is used as a submersion liquid, the support will be damaged and the flatness will be impaired, so methanol, ethanol, propanol, Cyclohexanol, acetone,
It is preferable to mix a small amount in a poor solvent such as. The amount is preferably 15% or less with respect to the poor solvent.

【0046】また、本発明のSPS系写真用支持体の下
引としてポリマーラテックスを用いる場合も多い。その
ための下引液は水が用いられるが、その中にメタノー
ル、エタノール、アセトンの如き有機溶媒を混合して用
いることが出来る。
Further, a polymer latex is often used as an undercoat for the SPS type photographic support of the present invention. Water is used as the undercoat liquid for this purpose, but an organic solvent such as methanol, ethanol or acetone may be mixed therein.

【0047】SPS系写真用支持体への下引液の塗布性
は下記の如き水溶性ポリマーを含有させることにより塗
布性を向上させることが出来る。有用な水溶性ポリマー
としては、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、カ
ルボキシメチルセルロース(CMC)、メチルセルロー
ス(MC)、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(H
PMC)、エチルヒドロキシエチルセルロース(EHE
C)、変性ヒドロキシエチルセルロース(HMHE
C)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリエチレン
オキシド(PEO)、キサンタン、カチオン性ヒドロキ
シエチルセルロース(CATHEC)、ヒドロキシプロ
ピルグアー(HPグアー)、グアー、ポリビニルアルコ
ール(PVA)、ポリアクリルアミド、アルギン酸ナト
リウム、及びカーボポール(Carbopol;登録商
標)アクリルアミド増粘用組成物等を挙げることが出
来、特に有用な水溶性ポリマーとしてはCMC及びMC
が好ましい。例えばCMC−7LX(アクアロン社製、
置換度=0.65〜0.80、水中5重量%の濃度での
粘度が200〜1000mPa.s)がSPS系写真用
支持体の下引液に好都合であるが、これらの他の種類の
もの、種々の粘度のもの、また種々のカルボキシメチル
置換度を有するもの等も使用出来る。更にMC、及びH
EC(アクアロン社製)、EHEC(ベロール、ノベロ
ール社製、HPMC(アクアロン社製、ダウケミカル社
製)もSPS系写真用支持体の下引液に有用である。
The coating property of the undercoat liquid on the SPS type photographic support can be improved by containing the following water-soluble polymer. Useful water-soluble polymers include hydroxyethyl cellulose (HEC), carboxymethyl cellulose (CMC), methyl cellulose (MC), hydroxypropyl methyl cellulose (H
PMC), ethyl hydroxyethyl cellulose (EHE
C), modified hydroxyethyl cellulose (HMHE
C), polyvinylpyrrolidone (PVP), polyethylene oxide (PEO), xanthan, cationic hydroxyethyl cellulose (CATHEC), hydroxypropyl guar (HP guar), guar, polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylamide, sodium alginate, and carbopol. (Carbopol; registered trademark) acrylamide thickening composition and the like, and particularly useful water-soluble polymers include CMC and MC.
Is preferred. For example, CMC-7LX (Aquaron,
Substitution degree = 0.65 to 0.80, viscosity at a concentration of 5% by weight in water is 200 to 1000 mPa.s. Although s) is suitable for the undercoat liquid of the SPS type photographic support, other types, those having various viscosities and those having various degrees of carboxymethyl substitution can be used. MC and H
EC (manufactured by Aqualon), EHEC (manufactured by Bellol and Nobelol, and HPMC (manufactured by Aqualon and Dow Chemical) are also useful as an undercoat liquid for the SPS photographic support.

【0048】本発明のSPS系写真用支持体用の下引液
中の下引ポリマーの塗布濃度は20重量%以下が好まし
く、均一な塗布性を考慮すると5〜15重量%の濃度が
特に好ましい。
The coating concentration of the undercoating polymer in the undercoating liquid for the SPS type photographic support of the present invention is preferably 20% by weight or less, and a concentration of 5 to 15% by weight is particularly preferable in view of uniform coating property. .

【0049】また、SPS系写真用支持体への下引液の
塗布量は、乾燥後で1〜20g/m2がよく、特に塗布
性、接着性の点から5〜15g/m2が好ましい。また
下引ポリマーの塗布量は10〜3000mg/m2の範
囲がよく、 100〜1000mg/m2の範囲が更に好
ましい。
The coating amount of the undercoat liquid on the SPS photographic support is preferably 1 to 20 g / m 2 after drying, and particularly preferably 5 to 15 g / m 2 from the viewpoint of coating property and adhesiveness. . The coating amount of the subbing polymer may have a range of 10~3000mg / m 2, more preferably in the range of 100-1000 mg / m 2.

【0050】ところで、SPS系写真用支持体は、PE
T写真用支持体のそれに比べて、誘電損失が小さく、こ
のため一度帯電すると除電されにくいという性質があ
り、そのために下引塗布をする際に電荷分布に従って、
液の付き方が変わり、塗布ムラを生ずる場合がある。こ
のような場合には、下引液を塗布する前後に、強制的に
除電することが望ましい。除電方法としては、搬送支持
体の接触するロールをアースする方法、超音波等により
霧化した水を吹き付ける方法、もしくは放射線を当てま
わりの空気をイオン化して電荷を中和する方法、除電ブ
ラシを用いる方法、高圧印加法、イオン風をつくり、そ
れを吹き付ける方法等を用いることが出来る。
By the way, the SPS type photographic support is PE
Compared to that of the T photographic support, the dielectric loss is small, and therefore, there is a property that it is difficult to eliminate the charge once it is charged. Therefore, according to the charge distribution during undercoating,
The way the liquid adheres may change, causing uneven coating. In such a case, it is desirable to forcibly remove the charge before and after applying the subbing liquid. As the static elimination method, a method of grounding the roll in contact with the transport support, a method of spraying water atomized by ultrasonic waves, a method of ionizing the surrounding air with radiation to neutralize the electric charge, and a static elimination brush are used. The method used, the high-voltage application method, the method of producing ion wind and blowing it can be used.

【0051】下引層は、単層でも構わないが、より機能
性を求め、接着力を高めるためには、重層であることが
望ましい。以下に下引の重層法について説明する。重層
法においては、上記下引層を下引層といい、下記下引層
は下引上層という。
The subbing layer may be a single layer, but it is preferably a multi-layer in order to obtain more functionality and to enhance the adhesive strength. The subbing multilayer method will be described below. In the multilayer method, the undercoat layer is referred to as an undercoat layer, and the undercoat layer described below is referred to as an undercoat upper layer.

【0052】下引処理は、前記フィルム製膜後に行って
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
延伸ができない場合例えば、親水性基を有するポリマー
を用いるには、親水性高分子間での相互作用が強く、延
伸できないことがあるが、スチーム下で延伸したり、延
伸助剤としてポリグリセリンなどを添加することにより
延伸が可能となる。
The subbing treatment may be carried out after the film formation, but if the subbing composition can be stretched, before the longitudinal stretching which is in the midst of film formation, between the longitudinal stretching and the lateral stretching, It can be performed at any place such as after transverse stretching and before heat treatment.
When stretching is not possible For example, when a polymer having a hydrophilic group is used, it may not be possible to stretch due to strong interaction between hydrophilic polymers, but stretching under steam, polyglycerin as a stretching aid, etc. It becomes possible to stretch by adding.

【0053】下引上層は、写真乳剤層を良く接着させる
ために親水性バインダー層であることが好ましい。親水
性バインダー層を構成するバインダーとして、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソー
ダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸
共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース等の水溶性ポリマー類、ポリスチレンス
ルホン酸ソーダ共重合体と疎水性ラテックスの組み合わ
せなどが挙げられるが、このうちでゼラチンが最も好ま
しい。
The subbing upper layer is preferably a hydrophilic binder layer for adhering the photographic emulsion layer well. As a binder constituting the hydrophilic binder layer, gelatin, gelatin derivatives, casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymers, water-soluble polymers such as carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, sodium polystyrene sulfonate Examples include a combination of a copolymer and a hydrophobic latex, and of these gelatin is most preferable.

【0054】これら下引上層中のバインダー層には、硬
膜剤を用いて膜強度を高めることが好ましく、このよう
な硬膜剤としては、例えばホルムアルデヒド、グルタル
アルデヒドのようなアルデヒド化合物、米国特許第2,
732,303号、同3,288,775号、英国特許
第974,723号、同1,167,207号等に記載
されている反応性ハロゲンを有する化合物、ジアセチ
ル、シクロペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス
(2−クロロエチル)尿素、2−ヒドロキシ−4,6−
ジクロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニルスルホ
ン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘキサヒド
ロ−1,3,5−トリアジン、米国特許第3,232,
763号、同3,635,718号、英国特許第99
4,809号等に記載の反応性オレフィンを有する化合
物、米国特許第3,539,644号、同3,642,
486号、特公昭49−13568号、同53−472
71号、同56−48860号、特開昭53−5725
7号、同61−128240号、同62−4275号、
同63−53541号、同63−264572号等に記
載のビニルスルホン化合物、N−ヒドロキシメチルフタ
ルイミド、米国特許第2,732,316号、同2,5
86,168号等に記載のN−メチロール化合物、米国
特許第3,103,437号等に記載のイソシアネート
化合物、米国特許第2,983,611号、同3,10
7,280号等に記載のアジリジン化合物、米国特許第
2,725,294号、同2,725,295号等に記
載の酸誘導体類、米国特許第3,100,704号等に
記載のカルボジイミド系化合物、米国特許第3,09
1,537号等に記載のエポキシ系化合物、米国特許第
3,321,313号、同3,543,292号等に記
載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸のような
ハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキ
サン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体等の有
機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウム、三
塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチンに対し
て硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭50−
38540号に記載のジヒドロキノリン骨格を有する化
合物、特開昭51−59625号、同62−26285
4号、同62−264044号、同63−184741
号に記載のN−カルバモイルピリジニウム塩類、特公昭
55−38655号に記載のアシルイミダゾール類、特
公昭53−22089号に記載のN−アシルオキシイミ
ダゾール類、特公昭53−22089号に記載のN−ア
シルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化合物、
特開昭52−93470号に記載のN−スルホニルオキ
シイミド基を有する化合物、特開昭58−113929
号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、特開昭
60−225148号、同61−240236号、同6
3−41580号に記載のクロロホルムアミジニウム化
合物等が知られている。
A hardener is preferably used for the binder layer in the undercoating upper layer to increase the film strength. Examples of such hardener include aldehyde compounds such as formaldehyde and glutaraldehyde, US Pat. Second,
732, 303, 3,288,775, British Patents 974,723, 1,167,207 and the like, compounds having a reactive halogen, ketone compounds such as diacetyl and cyclopentanedione. , Bis (2-chloroethyl) urea, 2-hydroxy-4,6-
Dichloro-1,3,5-triazine, divinyl sulfone, 5-acetyl-1,3-diacryloylhexahydro-1,3,5-triazine, US Pat.
763, 3,635,718, British Patent No. 99
Compounds having a reactive olefin described in U.S. Pat. No. 4,539,644, U.S. Pat. Nos. 3,539,644 and 3,642.
No. 486, Japanese Patent Publication No. 49-13568, No. 53-472.
71, 56-48860, and JP-A-53-5725.
No. 7, No. 61-128240, No. 62-4275,
Nos. 63-53541 and 63-264572, vinyl sulfone compounds, N-hydroxymethylphthalimide, U.S. Pat. Nos. 2,732,316 and 2,5.
N-methylol compounds described in US Pat. No. 86,168, isocyanate compounds described in US Pat. No. 3,103,437, US Pat. Nos. 2,983,611 and 3,10.
7,280, etc., aziridine compounds, US Pat. Nos. 2,725,294, 2,725,295, etc., acid derivatives, and US Pat. No. 3,100,704, etc., carbodiimides. Compounds, US Pat. No. 3,093
1,537, etc. epoxy compounds, US Pat. Nos. 3,321,313, 3,543,292 etc. isoxazole compounds, halogenocarboxaldehydes such as mucochloric acid, dihydroxydioxane. , Organic hardeners such as dioxane derivatives such as dichlorodioxane, and inorganic hardeners such as chrome alum, zirconium sulfate, and chromium trichloride. Further, as a hardener having a relatively fast hardening effect on gelatin, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-
Compounds having a dihydroquinoline skeleton described in JP-A-38540, JP-A-51-59625 and JP-A-62-26285.
No. 4, No. 62-264044, No. 63-184741.
N-carbamoylpyridinium salts described in JP-B No. 55-38655, acylimidazoles described in JP-B No. 55-238655, N-acyloxyimidazoles described in JP-B No. 53-22089, and N-acyloxy compounds described in JP-B No. 53-22089. A compound having two or more imino groups in the molecule,
Compounds having an N-sulfonyloxyimide group described in JP-A-52-93470, JP-A-58-113929
Compounds having a phosphorus-halogen bond described in JP-A-60-225148, JP-A-61-240236 and JP-A-6-240236.
A chloroformamidinium compound described in 3-41580 is known.

【0055】この下引上層には、マット剤として2酸化
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット剤(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。これ以外にも必要に応じて、各種の
添加剤例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色
用染料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
The undercoating upper layer preferably contains, as a matting agent, inorganic fine particles such as silicon dioxide and titanium oxide, and an organic matting agent (1 to 10 μm) such as polymethylmethacrylate. In addition to these, various additives such as an antistatic agent, an antihalation agent, a coloring dye, a pigment, and a coating aid may be contained, if necessary.

【0056】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、塗布液重量で1〜30g/m2、更には5〜2
0g/m2であることが好ましい。
The coating liquid concentration of the undercoat layer composition is usually 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less. The coating amount is 1 to 30 g / m 2 in terms of coating liquid weight, and further 5 to 2
It is preferably 0 g / m 2 .

【0057】下引液の塗布方法は一般によく知られてい
るものが用いられる。例えば、ディップコート法、エア
ーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるい
は米国特許第2,681,294号明細書に記載のホッ
パーを使用するエクストルージョンコート法等により塗
布することが出来る。必要に応じて、米国特許第2,7
61,791号、同3,508947号、同2,94
1,898号及び同3,526,528号明細書、原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)等に記載された方法により2層以上の層も同
時に塗布することが出来る。
As a method of applying the subbing liquid, a generally well known method is used. For example, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, or an extrusion coating using a hopper described in US Pat. No. 2,681,294. It can be applied by a method or the like. US Pat. No. 2,7 as required
61, 791, 3,508,947, 2,94
No. 1,898 and No. 3,526,528, Yuji Harazaki, “Coating Engineering”, page 253 (published by Asakura Shoten in 1973), and the like can be used to simultaneously coat two or more layers. .

【0058】[導電性粒子]本発明の導電性粒子につい
て説明する。
[Conductive Particles] The conductive particles of the present invention will be described.

【0059】本発明の導電性粒子は、重合体粒子本体の
外周に、スルホン酸基とカルボキシル基とを有する水溶
性高分子(A)が位置するという構成をとるものであ
り、塗布の際は、通常水系溶媒中に分散されたディスパ
ージョンあるいはエマルジョンの形態をとるものであ
る。
The conductive particles of the present invention have a structure in which the water-soluble polymer (A) having a sulfonic acid group and a carboxyl group is located on the outer periphery of the polymer particle main body, and at the time of coating. Usually, it takes the form of a dispersion or emulsion dispersed in an aqueous solvent.

【0060】ここで、水溶性高分子(A)はスルホン酸
基とカルボキシル基とを有する水溶性高分子である。
Here, the water-soluble polymer (A) is a water-soluble polymer having a sulfonic acid group and a carboxyl group.

【0061】まず、水溶性高分子(A)について説明す
る。
First, the water-soluble polymer (A) will be described.

【0062】上記水溶性高分子(A)は、例えば、スル
ホン酸を有する単量体とカルボキシル基を有する単量体
とを共重合させて作製することが出来るものである。
The water-soluble polymer (A) can be produced, for example, by copolymerizing a monomer having a sulfonic acid and a monomer having a carboxyl group.

【0063】上記スルホン酸基を有する単量体として
は、例えば、ビニルスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミドエ
チルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホ
ン酸、スチレンスルホン酸等及びこれらの塩が挙げられ
る。これらの中で導電性が優れているという理由から、
スチレンスルホン酸及びこの塩を用いることが好まし
い。
Examples of the above-mentioned monomer having a sulfonic acid group include vinyl sulfonic acid, 2-acrylamide-
Examples include 2-methylpropanesulfonic acid, 2-acrylamidoethylsulfonic acid, allylsulfonic acid, methallylsulfonic acid, styrenesulfonic acid and the like, and salts thereof. Among these, because of its excellent conductivity,
Preference is given to using styrenesulphonic acid and its salts.

【0064】上記カルボキシル基を有する単量体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のモノカルボン酸
もしくはジカルボン酸又はジカルボン酸無水物が挙げら
れる。これらの中で、形成された導電性粒子を含有する
層とその隣接層との接着性が、より一層良好であるとい
う理由から、ジカルボン酸を使用することが好ましく、
特にマレイン酸が好ましい。
Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
Examples thereof include monocarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, dicarboxylic acids or dicarboxylic acid anhydrides. Among these, it is preferable to use a dicarboxylic acid because the adhesiveness between the layer containing the formed conductive particles and its adjacent layer is much better.
Maleic acid is particularly preferable.

【0065】また、本発明の水溶性高分子(A)におい
て、スルホン酸基及びカルボキシル基を有する単量体の
他に、その他の共重合可能なビニル基を有する単量体を
用いてもよい。
In the water-soluble polymer (A) of the present invention, in addition to the monomer having a sulfonic acid group and a carboxyl group, another monomer having a copolymerizable vinyl group may be used. .

【0066】上記単量体の重合方法は、特に制限するも
のではなく、従来公知の方法が適用出来る。具体的に
は、例えば、水に対し上記のスルホン酸基を有する単量
体とカルボキシル基を有する単量体、更に必要に応じて
その他の単量体を溶解し、重合開始剤(例えば、過硫酸
カリウム)等を添加して過熱することにより、重合を行
うことが出来る。
The method of polymerizing the above-mentioned monomer is not particularly limited, and a conventionally known method can be applied. Specifically, for example, a monomer having a sulfonic acid group and a monomer having a carboxyl group and, if necessary, other monomers are dissolved in water, and a polymerization initiator (for example, The polymerization can be carried out by adding potassium sulfate or the like and heating the mixture.

【0067】また、本発明の水溶性高分子(A)は、上
記とは別の方法でも作製することが出来る。すなわち、
スルホン酸基を有しない単量体とカルボキシル基を有す
る単量体とを重合して共重合物を作製し、この共重合物
をスルホン化処理することによっても、上記水溶性高分
子(A)を得ることが出来る。
Further, the water-soluble polymer (A) of the present invention can be prepared by a method other than the above. That is,
The above water-soluble polymer (A) can also be obtained by polymerizing a monomer having no sulfonic acid group and a monomer having a carboxyl group to prepare a copolymer, and subjecting this copolymer to a sulfonation treatment. Can be obtained.

【0068】上記スルホン酸基を有しない単量体として
は、特に制限するものではなく、例えば、スチレン、4
−メチルスチレン等が挙げられる。
The monomer having no sulfonic acid group is not particularly limited, and examples thereof include styrene and 4
-Methylstyrene and the like.

【0069】そして、前述の方法によりカルボキシル基
を有する単量体と共に重合して共重合物を作製し、これ
に対してスルホン化処理を行う。このスルホン化処理の
方法としては、特に制限するものではなく、従来公知の
方法を適用することが出来る。具体的には、溶媒中に上
記共重合物を投入しスルホン化剤を用いてスルホン化処
理を行うものである。
Then, a copolymer is prepared by polymerizing with a monomer having a carboxyl group by the above-mentioned method, and the copolymer is subjected to a sulfonation treatment. The method of the sulfonation treatment is not particularly limited, and a conventionally known method can be applied. Specifically, the above copolymer is put into a solvent and a sulfonation treatment is performed using a sulfonating agent.

【0070】上記溶媒としては、ジクロルメタン、1,
2−ジクロルエタン等のクロル炭化水素、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素、ジオキサン等が、良
好な溶媒として挙げられる。これらの中で、スルホン化
剤と反応しにくく中和時に塩を形成しないジクロルエタ
ン等を好適溶媒として挙げることが出来る。また、上記
スルホン化剤としては、SO3、ルイス酸とSO3との錯
体、クロルスルホン酸等が挙げられる。なお、上記溶媒
中でスルホン化剤の反応は30℃以下の低温条件が好ま
しい。
As the solvent, dichloromethane, 1,
Chlorinated hydrocarbons such as 2-dichloroethane, hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane, dioxane and the like are mentioned as good solvents. Among these, dichloroethane, which does not easily react with the sulfonating agent and does not form a salt upon neutralization, and the like can be mentioned as a suitable solvent. Further, as the sulfonating agent, SO 3, a complex of Lewis acid to SO 3, and the like chlorosulfonic acid. The reaction of the sulfonating agent in the solvent is preferably performed at a low temperature of 30 ° C. or lower.

【0071】本発明においては、前記スチレンスルホン
酸を用いて前以て共重合する方法が容易であり又経済的
でもあり、好ましい。
In the present invention, the method of pre-copolymerizing using the styrene sulfonic acid is preferable because it is easy and economical.

【0072】このような水溶性高分子(A)において、
そのスルホン酸基とカルボキシル基との比率は官能基の
モル比でスルホン酸基/カルボキシル基=10/90〜
95/5、好ましくはスルホン酸基/カルボキシル基=
20/80〜80/20、特に好ましくはスルホン酸基
/カルボキシル基=30/70〜60/40の範囲であ
る。スルホン酸基がスチレンスルホン酸で、カルボキシ
ル基がマレイン酸の場合その比率は40/60〜95/
5が好ましく、特に50/50〜95/5が製造し易さ
という面から好ましい。
In such a water-soluble polymer (A),
The ratio of the sulfonic acid group to the carboxyl group is sulfonic acid group / carboxyl group = 10 / 90-molar ratio of functional group
95/5, preferably sulfonic acid group / carboxyl group =
20/80 to 80/20, particularly preferably the range of sulfonic acid group / carboxyl group = 30/70 to 60/40. When the sulfonic acid group is styrene sulfonic acid and the carboxyl group is maleic acid, the ratio is 40/60 to 95 /
5 is preferable, and 50/50 to 95/5 is particularly preferable from the viewpoint of easy production.

【0073】上記水溶性高分子(A)はその重量平均分
子量が1000〜500000の範囲が好ましく、特に
導電性粒子の安定性が増すという理由から、2000〜
100000の範囲が好ましい。
The above water-soluble polymer (A) preferably has a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 500,000, and in particular 2000 to 2000 because the stability of the conductive particles is increased.
A range of 100,000 is preferred.

【0074】上記水溶性高分子(A)を帯電防止加工液
として作製する際に、水系溶媒に水溶性高分子体を投入
するとその加工液は、スルホン酸及びカルボン酸により
酸性を呈するが、これを中和してもよいし、中和しなく
ても加工液として使用出来る。中和する場合は、対イオ
ンとしてNa+、K+、NH4 +等のカチオン性イオンの中
和剤、具体的にはNaOH、KOH、LiOH、NH4 +
OH、トリエタノールアミン、2−アミノ−2−メチル
プロパノール等の無機あるいは有機アルカリ性物質を用
いることが出来、好ましくNaOHである。
When the water-soluble polymer (A) is prepared as an antistatic processing liquid and the water-soluble polymer is added to the aqueous solvent, the processing liquid becomes acidic due to sulfonic acid and carboxylic acid. Can be neutralized or can be used as a working fluid without being neutralized. In the case of neutralizing, as a counter ion, a neutralizing agent for a cationic ion such as Na + , K + , NH 4 + , specifically, NaOH, KOH, LiOH, NH 4 +
Inorganic or organic alkaline substances such as OH, triethanolamine and 2-amino-2-methylpropanol can be used, and NaOH is preferable.

【0075】次に、上記重合体粒子とは、主として疎水
性のビニル単量体を水中で乳化重合あるいは懸濁重合さ
せて作製した重合体粒子をいう。
Next, the above-mentioned polymer particles refer to polymer particles prepared mainly by emulsion polymerization or suspension polymerization of a hydrophobic vinyl monomer in water.

【0076】これらに適したビニル単量体としては、ス
チレン、4−メチルスチレン、ビニルトルエン、メトキ
シスチレン等の芳香族ビニル単量体;アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(n,
i)、アクリル酸ブチル(n,s,t)、アクリル酸−
2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸プロピル(n,i)、メタクリ
ル酸ブチル(n,s,t)、ベンジルアクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、ヒドロキシメタクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート等のアクリル酸あるいはメタ
クリル酸エステル類;アクリロニトリル等のアクリル酸
ニトリル類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のモノカルボン酸
もしくはジカルボン酸、又はジカルボン酸無水物;塩化
ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル単量体;
酢酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類;ブ
タジエン、イソプレン等の共役ジエン類等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
Suitable vinyl monomers for these are aromatic vinyl monomers such as styrene, 4-methylstyrene, vinyltoluene and methoxystyrene; methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (n,
i), butyl acrylate (n, s, t), acrylic acid-
Acrylic acid or methacrylic acid such as 2-ethylhexyl, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate (n, i), butyl methacrylate (n, s, t), benzyl acrylate, benzyl methacrylate, hydroxy methacrylate, cyclohexyl acrylate. Esters; Acrylonitrile and other acrylic nitriles; Acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
Monocarboxylic or dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, or dicarboxylic acid anhydrides; halogenated vinyl monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride;
Examples thereof include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl benzoate; conjugated dienes such as butadiene and isoprene, but are not limited thereto.

【0077】また他のビニル単量体として、多官能ビニ
ル単量体も本発明の重合体粒子に使用出来る。例えば、
ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、フタル酸ジア
リル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、エチレ
ングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート等が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
As another vinyl monomer, a polyfunctional vinyl monomer can also be used in the polymer particles of the present invention. For example,
Divinylbenzene, trivinylbenzene, diallyl phthalate, allyl acrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and the like,
It is not limited to these.

【0078】更に、反応性基を有するビニル単量体を本
発明の重合体粒子として共重合させて使用するのは好ま
しい。反応性ビニル単量体としては、アクリル酸グリシ
ジル、メタクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有ビニ
ル単量体、N−メチロールアクリルアミド等のN−メチ
ロール基含有ビニル単量体、ビニルオキサゾリン、2−
プロペニル−2−オキサボリン等のオキサゾール基含有
ビニル単量体等、2−アクリル酸−4,6−ジクロル−
1,3,5−トリアジンアミド、2−アクリル酸−4,
6−ジクロル−1,3,5−トリアジンエステル等のト
リアジン系反応性ビニル単量体等が挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。
Further, it is preferable to use a vinyl monomer having a reactive group by copolymerizing it as the polymer particles of the present invention. Examples of the reactive vinyl monomer include epoxy group-containing vinyl monomers such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, N-methylol group-containing vinyl monomers such as N-methylolacrylamide, vinyl oxazoline, 2-
2-acrylic acid-4,6-dichloro- such as oxazole group-containing vinyl monomers such as propenyl-2-oxaborin
1,3,5-triazineamide, 2-acrylic acid-4,
Examples thereof include, but are not limited to, triazine-based reactive vinyl monomers such as 6-dichloro-1,3,5-triazine ester.

【0079】次に本発明の導電性粒子の製法を説明す
る。
Next, the method for producing the conductive particles of the present invention will be described.

【0080】本発明の導電性粒子の製法は上記水溶性高
分子(A)が存在する水系溶媒中において、上記の一種
あるいは数種の疎水性のビニル単量体を重合(共重合)
するものである。ここで上記水系溶媒とは、通常水を指
すが、メタノール、エタノールあるいはプロパノール等
のアルコール類あるいは他の水相溶性の有機溶媒を水に
混合した混合溶媒をも指す場合もある。
The method for producing conductive particles of the present invention is to polymerize (copolymerize) the above-mentioned one or several kinds of hydrophobic vinyl monomers in an aqueous solvent containing the water-soluble polymer (A).
Is what you do. Here, the above-mentioned aqueous solvent usually refers to water, but it may also refer to a mixed solvent obtained by mixing water with an alcohol such as methanol, ethanol or propanol, or another water-compatible organic solvent.

【0081】本発明の導電性粒子の重合方法は、一般的
な乳化重合法、懸濁重合法あるいは分散重合法等により
行われるが、本発明においては乳化重合法が好ましい。
The conductive particles according to the present invention are polymerized by a general emulsion polymerization method, suspension polymerization method, dispersion polymerization method or the like. In the present invention, the emulsion polymerization method is preferred.

【0082】まず、上記水系溶媒中に水溶性高分子
(A)を水酸化ナトリウムで中和したものを溶解し、反
応容器中を窒素ガスで置換をし、重合開始剤をこの溶液
に加え、高分子体粒子体を形成するビニル単量体をこの
系に滴下し、20〜95℃の温度で重合を行うことによ
り、エマルジョン形態の導電性粒子が得られる。
First, a water-soluble polymer (A) neutralized with sodium hydroxide was dissolved in the above aqueous solvent, the reaction vessel was replaced with nitrogen gas, and a polymerization initiator was added to this solution. The vinyl monomer forming the polymer particles is dropped into this system, and polymerization is carried out at a temperature of 20 to 95 ° C. to obtain emulsion-type conductive particles.

【0083】本発明の導電性粒子における水溶性高分子
(A)の配合割合については、重合体粒子に用いる単量
体の重量に対し水溶性高分子(A)の重量は35〜50
0%である。導電性粒子の導電性を良好ならしめるため
には35%以上の水溶性高分子体が必要である。好まし
くは100〜400%、特に導電性及び接着性の優れて
いる理由から好ましくは200〜300%である。
Regarding the blending ratio of the water-soluble polymer (A) in the conductive particles of the present invention, the weight of the water-soluble polymer (A) is 35 to 50 with respect to the weight of the monomer used for the polymer particles.
0%. In order to improve the conductivity of the conductive particles, 35% or more of water-soluble polymer is required. It is preferably 100 to 400%, and particularly preferably 200 to 300% because of its excellent conductivity and adhesiveness.

【0084】この水系溶媒中に重合体粒子に用いる単量
体を滴下投入する際、重合開始剤を水系溶媒中にあらか
じめ溶解しておくか、単量体と同時に滴下投入するか、
あるいは単量体投入後追加として添加するか適宜最適な
添加方法を取ればよい。この際、重合反応は窒素ガス等
の酸素を含まない雰囲気下で行うことが好ましい。
When the monomer used for the polymer particles is dropped into the aqueous solvent, the polymerization initiator may be dissolved in the aqueous solvent in advance or dropped at the same time as the monomer.
Alternatively, it may be added after the monomer is added or an appropriate addition method may be adopted. At this time, the polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere containing no oxygen such as nitrogen gas.

【0085】乳化重合開始剤としては過硫酸カリウム、
過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩類、過酸化水素等の過
酸化物、4,4′−アゾビス−4−シアノ吉草酸又はそ
の塩、2,2−アゾビス(2−アミノプロパン)塩酸塩
等のアゾビス系化合物等を用いることが出来る。また、
過酸化物や過硫酸塩類は、第1塩化鉄、第1硫酸鉄、第
1硫酸鉄アンモン、チオ硫酸ナトリウム等の還元剤と組
み合わせて、レドックス開始剤としても使用出来る。
As the emulsion polymerization initiator, potassium persulfate,
Persulfates such as ammonium persulfate, peroxides such as hydrogen peroxide, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid or salts thereof, and azobis compounds such as 2,2-azobis (2-aminopropane) hydrochloride Compounds and the like can be used. Also,
Peroxides and persulfates can also be used as redox initiators in combination with reducing agents such as ferrous chloride, ferrous sulfate, ferrous ammonium sulfate, and sodium thiosulfate.

【0086】乳化重合の重合温度は使用する開始剤によ
ってことなるが、通常は上記の如く20〜95℃で行わ
れる。レドックス開始剤を用いるレドックス重合では比
較的低温で行われ、20〜50℃が適当である。過酸化
物や過硫酸塩などの開始剤の場合には60〜95℃が好
ましい。
Although the polymerization temperature of the emulsion polymerization varies depending on the initiator used, it is usually carried out at 20 to 95 ° C. as described above. Redox polymerization using a redox initiator is carried out at a relatively low temperature, and a temperature of 20 to 50 ° C is suitable. In the case of an initiator such as a peroxide or a persulfate, the temperature is preferably from 60 to 95C.

【0087】その他、酢酸ナトリウム等の無機物、n−
ドデシルメルカプタン等の連鎖移動剤を配合することも
出来る。反応を促進させる目的で水系溶媒中に反応促進
剤を配合してもよい。この反応促進剤としては、例えば
アンモニア、水、トリエチルアミン、トリエタノールア
ミン、トリエチルアンモニウムクロライド等が挙げられ
る。
In addition, inorganic substances such as sodium acetate, n-
A chain transfer agent such as dodecyl mercaptan can also be blended. A reaction accelerator may be blended in an aqueous solvent for the purpose of accelerating the reaction. Examples of the reaction accelerator include ammonia, water, triethylamine, triethanolamine, triethylammonium chloride and the like.

【0088】また、上記水系溶媒に対し、必要に応じ生
成物である導電性粒子の性能に影響を与えない範囲で、
乳化重合用界面活性剤、シードエマルジョン、その他の
水溶性高分子体を配合してもよい。
If necessary, the above-mentioned aqueous solvent may be used within a range that does not affect the performance of the conductive particles as a product.
A surfactant for emulsion polymerization, a seed emulsion, and other water-soluble polymer may be added.

【0089】上記乳化重合用界面活性剤としては、高級
脂肪酸スルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、
高級アルコール硫酸エーテル塩等のアニオン性界面活性
剤、あるいはポリエチレングリコール、アルキルフェノ
ールポリエチレングリコールエーテル等のノニオン性活
性剤等が挙げられる。
As the surfactant for emulsion polymerization, higher fatty acid sulfonate, alkylbenzene sulfonate,
Examples include anionic surfactants such as higher alcohol sulfate ether salts, and nonionic surfactants such as polyethylene glycol and alkylphenol polyethylene glycol ether.

【0090】上記シードエマルジョンとしては、アクリ
ルエマルジョン、アクリル/スチレンエマルジョン等が
挙げられ、具体的には、スチレン/メタクリル酸ブチル
/メタクリル酸等が挙げられる。
Examples of the seed emulsion include acrylic emulsion and acrylic / styrene emulsion, and specific examples include styrene / butyl methacrylate / methacrylic acid.

【0091】ここで、本発明の導電性粒子の態様につい
て説明する。
Now, the mode of the conductive particles of the present invention will be described.

【0092】本発明の導電性粒子において、重合体粒子
本体の外周に、スルホン酸基とカルボキシル基とを有す
る水溶性高分子(A)が位置するとは、水溶性高分子
(A)の一部が合成中に粒子本体と結合された状態や埋
入されたもしくはくい込んだような状態になっている態
様をいう。
In the conductive particles of the present invention, the fact that the water-soluble polymer (A) having a sulfonic acid group and a carboxyl group is located on the outer periphery of the polymer particle body means that a part of the water-soluble polymer (A) is present. During the synthesis is in a state of being bonded to the particle main body or embedded or embedded.

【0093】本発明者らは、本発明の導電性粒子をこの
ような態様と想像しているが、次のような操作によっ
て、本発明と混合した状態と異なることを見いだしてい
る。すなわち、この状態の実証をするために、エマルジ
ョン形態の導電性粒子から重合体粒子の外側の水溶性高
分子(A)を分離しようとして、重合体粒子が融着しな
い程度の温度の温湯で抽出したところ、水溶性高分子
(A)がほとんど、あるいは少量しか分離抽出されず、
いくら時間をかけてもその抽出量は増加しなかった。ま
た別の分離法として、導電性粒子エマルジョンを遠心分
離してもやはり水溶性高分子(A)の分離がほとんどな
かったか、あるいは少なかった。これとは逆に、界面活
性剤を用いて重合したラテックスと本発明に用いられる
水溶性高分子(A)とをよく混合したものを上記と同様
に抽出と遠心分離を行ったところ、ラテックス重合体粒
子と水溶性高分子(A)とがもとのままに分離された。
The present inventors envision the conductive particles of the present invention as such an embodiment, but have found that the state of being mixed with the present invention is different by the following operation. That is, in order to verify this state, when the water-soluble polymer (A) outside the polymer particles is separated from the conductive particles in the emulsion form, extraction is performed with hot water at a temperature at which the polymer particles do not fuse. As a result, most or only a small amount of the water-soluble polymer (A) was separated and extracted,
The amount of extraction did not increase over time. As another separation method, even if the conductive particle emulsion was centrifuged, the water-soluble polymer (A) was hardly or little separated. Conversely, a well-mixed latex polymerized with a surfactant and the water-soluble polymer (A) used in the present invention were subjected to extraction and centrifugation in the same manner as described above. The coalesced particles and the water-soluble polymer (A) were separated as they were.

【0094】また、前記の如く、アクリル酸グリシジル
のような反応性ビニル単量体を一部として、重合体粒子
に用いる場合は、導電性粒子は合成中に水溶性高分子の
カルボキシル基が重合体粒子のエポキシ基による結合状
態を発現する可能性があり、またこれらの導電性粒子の
加工液を皮膜として塗設した後においても結合状態が発
現することもあるだろう。このように、反応性ビニル単
量体を重合体粒子に用いることにより、本発明の永久帯
電防止効果をより高めるので、この方法は好ましいもの
である。
Further, as described above, when a reactive vinyl monomer such as glycidyl acrylate is used as a part of the polymer particles, the conductive particles may have a heavy carboxyl group of the water-soluble polymer during synthesis. The bonded state may be developed due to the epoxy groups of the coalesced particles, and the bonded state may be developed even after the working fluid for these conductive particles is applied as a film. As described above, the use of the reactive vinyl monomer in the polymer particles further enhances the permanent antistatic effect of the present invention, and thus this method is preferable.

【0095】本発明の導電性粒子の粒径は通常0.01
〜2.0μm、好ましくは0.04〜0.1μmであ
る。しかし、場合によっては粒径がはっきりしないこと
もあり、これらについても、本発明を達成させるには十
分である。
The particle size of the conductive particles of the present invention is usually 0.01.
To 2.0 μm, preferably 0.04 to 0.1 μm. However, the particle size may not be clear in some cases, and these are also sufficient to achieve the present invention.

【0096】本発明の導電性粒子はSPS系写真用支持
体を有するハロゲン化銀写真感光材料を構成している層
の少なくとも1層に含有されていれば、帯電防止効果は
発揮され、現像処理後においても帯電防止効果が衰えな
い、いわゆる永久帯電防止性能を持つものである。ハロ
ゲン化銀写真感光材料の構成層は下引層、下引上層、ハ
レーション防止層、遮光層、乳剤層、中間層、保護層、
保護層上層、バック層、バック層上層等があるが、いず
れに含有させても本発明の効果が発揮される。
If the conductive particles of the present invention are contained in at least one layer constituting the silver halide photographic light-sensitive material having the SPS type photographic support, the antistatic effect is exerted and the development treatment is carried out. It has a so-called permanent antistatic property in which the antistatic effect does not deteriorate even afterward. The constituent layers of the silver halide photographic light-sensitive material include an undercoat layer, an undercoat upper layer, an antihalation layer, a light shielding layer, an emulsion layer, an intermediate layer, a protective layer,
There are a protective layer upper layer, a back layer, a back layer upper layer, and the like, and the effects of the present invention are exhibited even if they are contained in any of them.

【0097】本発明の導電性粒子は上記構成層に含有さ
れている種々の添加物との間で写真的性質あるいは物性
上悪影響を及ぼすことなく、各層液において容易に混合
される。
The conductive particles of the present invention can be easily mixed with various additives contained in the above-mentioned constituent layers in each layer liquid without adversely affecting photographic properties or physical properties.

【0098】上記ハロゲン化銀写真感光材料の構成層の
ほとんどにはゼラチンが水溶性バインダーとして含有さ
れており、本発明の導電性粒子はゼラチンとよく混合
し、支障なく用いられる。本発明に使用されるゼラチン
以外の水溶性バインダーとしては、例えば、コロイド状
アルブミン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチ
ルセルロース;ヒドロキシセルロース;メチルセルロー
ス等のセルロース誘導体;寒天、アルギン酸ソーダ、澱
粉誘導体等の多糖類似化合物誘導体;ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリル酸及びその共重合体、又はその誘導
体、水溶性ポリアクリル酸エステル共重合物、水溶性ポ
リエステル樹脂糖が挙げられる。ゼラチンがハロゲン化
銀写真感光材料に常用されているため水溶性バインダー
として特に好ましく用いられる。ゼラチンの種類には、
アルカリ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、活性物質を除
去したイナートゼラチン、あるいは不活性ゼラチン、ゼ
ラチン誘導体などがあり、いずれも使用できる。またゼ
ラチンはオセイン、ハイド、ピッグスキンなどの原料か
ら作られ、いずれも好ましく用いられる。
Most of the constituent layers of the silver halide photographic light-sensitive material contain gelatin as a water-soluble binder, and the conductive particles of the present invention are well mixed with gelatin and can be used without any trouble. Examples of water-soluble binders other than gelatin used in the present invention include proteins such as colloidal albumin and casein; carboxymethyl cellulose; hydroxy cellulose; cellulose derivatives such as methyl cellulose; agar, sodium alginate, starch analogs, and similar compounds. Derivatives: polyvinyl alcohol, polyacrylic acid and copolymers thereof, or derivatives thereof, water-soluble polyacrylic acid ester copolymers, and water-soluble polyester resin sugars. Since gelatin is commonly used in silver halide photographic light-sensitive materials, it is particularly preferably used as a water-soluble binder. The types of gelatin include
There are alkali-processed gelatin, acid-processed gelatin, inert gelatin from which an active substance has been removed, inert gelatin, gelatin derivatives and the like, and any of them can be used. Gelatin is made from raw materials such as ossein, hide and pigskin, and any of them is preferably used.

【0099】本発明の導電性粒子の使用含量は構成層の
性質によって異なり、特に制限はないが、各層のゼラチ
ン塗布重量に対して、重量比で5〜90%が好ましく、
更に好ましくは10〜70%、特に塗布性等を考慮する
と20〜60%が好ましい。
The content of the conductive particles of the present invention varies depending on the properties of the constituent layers and is not particularly limited, but it is preferably 5 to 90% by weight based on the weight of gelatin coated in each layer.
More preferably, it is 10 to 70%, especially 20 to 60% in consideration of coating properties and the like.

【0100】本発明の導電性粒子にラテックスのような
水分散性重合体を併用することによって、膜付き、膜強
度などが強化される。導電性粒子と水分散性重合体とを
同時に混合して用いる場合には、水分散性重合体と上記
水溶性バインダーとの合計の重量が導電性粒子の重量に
対して200%以下がよく、150%以下如き好まし
い。特に70〜140%が好ましい。
By using a water-dispersible polymer such as latex in combination with the conductive particles of the present invention, the film adhesion, the film strength and the like are enhanced. When the conductive particles and the water-dispersible polymer are mixed and used at the same time, the total weight of the water-dispersible polymer and the water-soluble binder is preferably 200% or less with respect to the weight of the conductive particles, It is preferably 150% or less. In particular, 70 to 140% is preferable.

【0101】本発明の導電性粒子と混合して用いるのに
適している水分散性重合体はラテックスあるいは水系溶
媒に分散された粒状体の高分子であり、それを構成する
単量体としては、例えば、C1〜C18の直鎖状あるいは
分岐状のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、フェネ
チル基、シクロヘキシル基、グリシジル基等のアクリル
酸あるいはメタクリル酸エステル;アクリロニトリル;
ブタジエン、イソプレン等のジエン系単量体;アクリル
アミド、C1〜C18の直鎖状あるいは分岐状のアルキル
基のN−又はN,N−アクリルアミド;塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル等の塩素系単量体、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル等のビニルエステル;アクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等の酸含有単量
体;スチレン、α−メチルスチレン、メトキシスチレン
等のスチレン系単量体等の単独重合体あるいは共重合
体、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂
等を上げることが出来る。好ましい樹脂としては、スチ
レン−ブタジエン共重合体、n−ブチルアクリレート−
n−ブチルメタクリレート−アクリルアミド−スチレン
4元共重合体、スチレン−n−ブチルアクリレート−ア
クリル酸3元共重合体、塩化ビニリデン−メチルアクリ
レート−イタコン酸3元共重合体等をあげることができ
るが、これらに限定されるものではない。この水分散性
重合体は上記単量体を用い、通常のラテックス重合の方
法によって得られる。ここで用いられる乳化剤としての
界面活性剤、重合開始剤等については、定法に用いられ
るものをもちいればよい。
The water-dispersible polymer suitable for use as a mixture with the conductive particles of the present invention is a latex or a granular polymer dispersed in an aqueous solvent, and as a monomer constituting the polymer. For example, acrylic or methacrylic acid esters such as C 1 -C 18 linear or branched alkyl groups, phenyl groups, benzyl groups, phenethyl groups, cyclohexyl groups, glycidyl groups; acrylonitrile;
Diene monomers such as butadiene and isoprene; acrylamide, N- or N, N-acrylamide of C 1 to C 18 linear or branched alkyl groups; vinylidene chloride, vinyl chloride and other chlorine monomers Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; acid-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid and maleic anhydride; styrene-based monomers such as styrene, α-methylstyrene and methoxystyrene Homopolymers or copolymers, polyester resins, acrylic modified polyester resins and the like can be used. Preferred resins include styrene-butadiene copolymer, n-butyl acrylate-
Examples thereof include n-butyl methacrylate-acrylamide-styrene terpolymer, styrene-n-butyl acrylate-acrylic acid terpolymer, vinylidene chloride-methyl acrylate-itaconic acid terpolymer, and the like. It is not limited to these. The water-dispersible polymer is obtained by the usual latex polymerization method using the above-mentioned monomer. As for the surfactant, the polymerization initiator and the like as the emulsifier used here, those used in the usual manner may be used.

【0102】本発明の導電性粒子を含有するハロゲン化
銀写真感光材料の構成層は現像処理後においても、膜付
きが優れ、永久帯電防止効果が得られることが特徴であ
る。最近の現像処理は更に高温、高pH等苛酷な条件で
行われることが多くなってきた。このような条件下でも
本発明の書く構成層を更に安定にするために、架橋剤を
加えてもよく、好ましいことである。この架橋剤は該導
電性粒子の水溶性高分子(A)と架橋反応するような架
橋剤を用いるのが好ましく、各層を構成する水溶性バイ
ンダーとともに用いられている硬膜剤と同じものであっ
てもよいが、導電性粒子をお互いに架橋出来るような架
橋剤であってもよい。架橋剤の使用量は本発明の導電性
粒子の重量に対して0.01〜30%、好ましくは0.
05〜20%である。
The constituent layers of the silver halide photographic light-sensitive material containing the conductive particles of the present invention are characterized in that they are excellent in film attachment even after the development processing, and a permanent antistatic effect is obtained. Recent development processing is often performed under severe conditions such as higher temperature and higher pH. A crosslinking agent may be added in order to further stabilize the constituent layer of the present invention under such conditions, which is preferable. The crosslinking agent is preferably a crosslinking agent that causes a crosslinking reaction with the water-soluble polymer (A) of the conductive particles, and is the same as the hardener used together with the water-soluble binder forming each layer. However, a cross-linking agent that can cross-link the conductive particles with each other may be used. The amount of the cross-linking agent used is 0.01 to 30% with respect to the weight of the conductive particles of the present invention, preferably 0.1.
It is 05 to 20%.

【0103】上記架橋剤としては、例えば、これらの低
分子架橋剤としては、ティー・エイチ・ジェームス
(T.H.James)による「ザ・セオリー・オブ・
ザ・フォトグラフィック・プロセス(The Theo
ry of the Photographic Pr
ocess)」、第4版、77〜88頁に記載されてい
る低分子架橋剤が使用され、その中でもビニルスルホン
酸、アジリジン基、エポキシ基、トリアジン環を有する
ものが好ましく用いられ、特に特開昭53−41221
号、同60−225143号に記載されている低分子架
橋剤、同55−84658号明細書の第5頁に記載のペ
ンタエリスリトールトリ−〔β−(N−アジリジニル)
プロピオネート〕の如き多官能性アジリジン化合物、同
3−256039号明細書の27及び28頁に記載の多
官能性エポキシ化合物、同6−082961号明細書の
12〜14頁に記載のジクロルトリアジン型の架橋剤等
が好ましい。また、高分子架橋剤も本発明に用いられ
る。例えば、米国特許第3,623,878号記載のエ
ポキシ基を有する高分子架橋剤、リサーチ・ディスクロ
ージャー誌(以下RDと略すことがある)17333
(1978)等に記載のジクロロトリアジン基を有する
高分子架橋剤、特開昭56−66841号に記載の活性
エステル基を有する高分子架橋剤、特開昭56−142
524号、米国特許第4,161,407号、特開昭5
4−65033号、RD16725(1978)等に記
載されている活性ビニル基、あるいはその前駆体となる
基を有する高分子架橋剤が好ましく、特に特開昭56−
142524号に記載されている様な、長いスペーサー
によって活性ビニル基、あるいはその前駆体となる基が
高分子主鎖に結合されているもの等を用いることが出来
る。
Examples of the cross-linking agent include low molecular weight cross-linking agents such as those described by TH James in “The Theory of.
The Photographic Process (The Theo)
ry of the Photographic Pr
low-molecular-weight crosslinking agents described in the fourth edition, pages 77 to 88, among which those having a vinyl sulfonic acid, an aziridine group, an epoxy group, and a triazine ring are preferably used. Showa 53-41221
And low molecular crosslinking agents described in JP-A-60-225143, and pentaerythritol tri- [β- (N-aziridinyl) described on page 5 of JP-A-55-84658.
Propionate], polyfunctional epoxy compounds described on pages 27 and 28 of JP-A-3-256039, and dichlorotriazine compounds described on pages 12 to 14 of JP-A-6-082961. And the like are preferred. Further, a polymer crosslinking agent is also used in the present invention. For example, a polymer crosslinking agent having an epoxy group described in US Pat. No. 3,623,878, Research Disclosure Magazine (hereinafter abbreviated as RD) 17333
(1978) and the like, a polymer crosslinking agent having a dichlorotriazine group described in JP-A-56-66841, a polymer crosslinking agent having an active ester group described in JP-A-56-66841, and JP-A-56-142.
No. 524, U.S. Pat. No. 4,161,407;
Polymer crosslinking agents having an active vinyl group described in 4-65033, RD16725 (1978) or the like, or a group serving as a precursor thereof are preferable, and particularly, JP-A-56-
As described in JP-A-142524, an active vinyl group or a group having a precursor thereof bonded to a polymer main chain by a long spacer can be used.

【0104】〈導電性粒子の合成例〉 《合成例1・水溶性高分子(A)の合成》撹拌機、還流
冷却器、滴下ロート、窒素導入管を備えた反応容器に、
脱気蒸留水1000部を入れ、スチレンスルホン酸ナト
リウム塩(以下StSO3Naと略すことがある)46
5部とマレイン酸(以下MAと略すことがある)87.
5部を溶解させ、撹拌しながら、窒素ガスを導入して窒
素ガスで容器内を満たし、70℃に加熱した。別に40
部のイソプロパノールと水250部溶液に過硫酸カリウ
ム0.5部を溶解させ、滴下ロートに入れ、反応容器に
あまり遅くなく滴下し、75〜80℃に温度を上げ、2
時間加熱すると、粘稠な無色透明な溶液となる。この液
を大量のアセトンに注ぎポリマーを沈殿させ、アセトン
で数回洗浄し、50℃で乾燥し、水溶性高分子(A)の
白色の固体を得た。GPCによりこのものの分子量を測
定した結果、重量平均分子量は約10000であった。
この水溶性高分子(A)の成分組成はStSO3Na:
MA=3:1(モル比)であった。この水溶性高分子
(A)をとする。以下に示すように、StSO3Na
とMAの比率を変えて同様に合成した。なお、比率1:
1よりMAの多い比率の水溶性重合体はMAが1:1以
上に反応せず出来なかった。
<Synthesis Example of Conductive Particles><< Synthesis Example 1-Synthesis of Water-Soluble Polymer (A) >> In a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen introducing tube,
Add 1000 parts of degassed distilled water and add styrene sulfonic acid sodium salt (hereinafter sometimes abbreviated as StSO 3 Na) 46
5 parts and maleic acid (hereinafter sometimes abbreviated as MA) 87.
Five parts were dissolved and, while stirring, nitrogen gas was introduced to fill the inside of the container with nitrogen gas and heated to 70 ° C. Another 40
0.5 parts of potassium persulfate is dissolved in a solution of isopropanol of 250 parts and water of 250 parts, put in a dropping funnel and dropped into a reaction vessel not too slowly, and the temperature is raised to 75 to 80 ° C.
After heating for hours, it becomes a viscous, colorless and transparent solution. This solution was poured into a large amount of acetone to precipitate the polymer, washed several times with acetone, and dried at 50 ° C. to obtain a white solid of the water-soluble polymer (A). As a result of measuring the molecular weight of this product by GPC, the weight average molecular weight was about 10,000.
The composition of this water-soluble polymer (A) is StSO 3 Na:
MA = 3: 1 (molar ratio). This water-soluble polymer (A) is used. As shown below, StSO 3 Na
And MA were changed, and the same synthesis was performed. In addition, ratio 1:
A water-soluble polymer having a ratio of MA higher than 1 could not be prepared because MA did not react at a ratio of 1: 1 or more.

【0105】 試料No. StSO3Na: MA 3 : 1 1 : 1 9 : 1 比較 10 : 0 《合成例2・導電性粒子の合成1》撹拌機、還流冷却
器、滴下ロート、窒素導入管を備えた反応容器に、脱気
蒸留水700部をいれ、これにStSO3NaとMAと
の共重合体ナトリウム塩(合成例1のStSO3Na:
MA比率を下記の如く変えて)を250部を撹拌しなが
ら、水溶液とした。そして、上記窒素導入管を通して窒
素ガスを導入し、反応容器内を窒素ガス雰囲気下にする
とともに、水溶液中の溶存酸素を排除した。その後、水
溶液を80℃まで上昇した。この水溶液に、重合体粒子
の単量体スチレン(St)90部及び他の共重合性単量
体(アクリル酸ブチル(St−BA)及びグリシジルメ
タクリレート(GMA))10部を、1重量%の過硫酸
カリウム水溶液100部とを別々に滴下し、窒素ガス還
流下、80℃で重合反応を行い、目的とする導電性粒子
(水溶性高分子(A):重合体粒子=250:100)
を得た。
Sample No. StSO 3 Na: MA 3: 1 1: 1 9: 1 Comparison 10: 0 << Synthesis Example 2 / Synthesis of conductive particles 1 >> In a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen introducing tube, 700 parts of degassed distilled water was added, and a sodium salt of a copolymer of StSO 3 Na and MA (StSO 3 Na of Synthesis Example 1:
An aqueous solution was prepared by stirring 250 parts of (MA ratio was changed as follows). Then, nitrogen gas was introduced through the above-mentioned nitrogen introducing pipe to make the inside of the reaction vessel under a nitrogen gas atmosphere and eliminate dissolved oxygen in the aqueous solution. Then, the aqueous solution was heated to 80 ° C. To this aqueous solution, 90 parts of monomer styrene (St) of polymer particles and 10 parts of other copolymerizable monomers (butyl acrylate (St-BA) and glycidyl methacrylate (GMA)) were added in an amount of 1% by weight. 100 parts of aqueous potassium persulfate solution was added dropwise separately, and the polymerization reaction was carried out at 80 ° C. under reflux of nitrogen gas to obtain the target conductive particles (water-soluble polymer (A): polymer particles = 250: 100).
I got

【0106】 水溶性高分子(A) 重合体粒子 合成物No. StSO3Na : MA −1 3 : 1 St−BA −2 3 : 1 St−GMA −1 1 : 1 St−BA −2 1 : 1 St−GMA −1 9 : 1 St−BA −2 9 : 1 St−GMA 比較−1 10 : 0 St−BA 比較−2 10 : 0 St−GMA 《合成例3・導電性粒子の合成2》合成例2において、
水溶性高分子(A)(StSO3Na:MA=3:1)
と重合体粒子(St:GMA=9:1)との比率を下記
の如く変えて導電性粒子を合成した。
Water-Soluble Polymer (A) Polymer Particles Synthetic No. StSO 3 Na: MA-1 3: 1 St-BA-2 3: 1 St-GMA-1 1: 1 St-BA-2 1: 1 St-GMA-1 9: 1 St-BA-2 9: 1 St-GMA Comparison-1 10: 0 St-BA Comparison-2 10: 0 St-GMA << Synthesis Example 3 / Synthesis 2 of conductive particles >> In Synthesis Example 2,
Water-soluble polymer (A) (StSO 3 Na: MA = 3: 1)
The conductive particles were synthesized by changing the ratio of the polymer particles (St: GMA = 9: 1) to the following.

【0107】 合成物No. 水溶性高分子(A):重合体粒子 −2 250 : 100 −2−2 50 : 100 −2−3 150 : 100 −2−4 350 : 100 −2−5 450 : 100 −2−比較1 30 : 100 −2−比較2 550 : 100 [ハロゲン化銀写真感光層等]次に、ハロゲン化銀写真
感光材料の感光層について述べる。
Compound No. Water-soluble polymer (A): Polymer particles −2 250: 100 −2−2 50: 100 −2−3 150: 100 −2−4 350: 100 −2−5 450: 100 −2 Comparison 1 30 : 100-2-Comparison 2 550: 100 [Silver halide photographic light-sensitive layer, etc.] Next, the light-sensitive layer of the silver halide photographic light-sensitive material will be described.

【0108】本発明に係わるハロゲン化銀写真感光材料
としては撮影用の白黒フィルム、印刷用感光材料フィル
ム、X線フィルム等の白黒ハロゲン化銀写真感光材料、
ネガカラーロールフィルム、ネガカラーカットフィル
ム、ポジカラーロールフィルム、ポジカラーカットフィ
ルム等のカラーハロゲン化銀写真感光材料等があり、本
発明はそれらいずれのハロゲン化銀写真感光材料にも適
用出来る。ここではX線医療用ハロゲン化銀写真感光材
料について主として説明する。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention is a black-and-white film for photography, a light-sensitive material film for printing, a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material such as an X-ray film,
There are color silver halide photographic light-sensitive materials such as negative color roll film, negative color cut film, positive color roll film and positive color cut film, and the present invention can be applied to any of these silver halide photographic light-sensitive materials. Here, the X-ray medical silver halide photographic light-sensitive material will be mainly described.

【0109】本発明のX線医療用写真感光材料に用いら
れる乳剤は、公知の方法で製造できる。例えば、リサー
チ・ディスクロージャー(以下RDと略す)No.17
643(1978年12月)・22〜23頁の1・乳剤
製造法(EmulsionPreparation a
nd types)、及び同(RD)No.18716
(1979年11月)・648頁に記載の方法で調製す
ることができる。
The emulsion used in the X-ray medical photographic light-sensitive material of the present invention can be produced by a known method. For example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) No. 17
643 (Dec. 1978), pp. 22-23, 1. Emulsion preparation method (Emulsion Preparation a)
nd types), and the same (RD) No. 18716
(November, 1979) -It can be prepared by the method described on page 648.

【0110】また、T.H.James著“The t
heory of the photographic
process”第4版、Macmillan社刊
(1977年)38〜104頁に記載の方法、G.F.
Dauffin著「写真乳剤化学」“Photogra
phic Emulsion Chemistry”、
Focal press 社刊(1966年)、P.G
lafkides著「写真の物理と化学」“Chimi
e et physique photographi
que”Paul Montel 社刊(1967
年)、V.L.Zelikman 他著「写真乳剤の製
造と塗布」“Making and Coating
photographic Emulsion”Foc
al press社刊(1964年)などに記載の方法
により調製される。
In addition, T. H. "Thet" by James
heavy of the photographic
process, 4th edition, published by Macmillan (1977), pp. 38-104, GF.
"Photographic Emulsion Chemistry" by Dauffin, "Photogra
pic Emulsion Chemistry ”,
Published by Focal press (1966), P. G
Lafkides "Physics and Chemistry of Photography""Chimi
e et physique photographi
que "Paul Montel company (1967
Year), V. L. Zelikman et al., "Making and Coating of Photographic Emulsions".
photographic Emulsion "Foc
It is prepared by the method described in, for example, al press (1964).

【0111】即ち、中性法、酸性法、アンモニア法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。本発明の実施態様の1つとしては、沃化銀を粒子
内部に局在させた単分散乳剤が挙げられる。
That is, the solution conditions such as the neutral method, the acidic method, the ammonia method, etc., the forward mixing method, the reverse mixing method, the double jet method, the controlled double jet method, etc., the conversion method, the core / shell method, etc. It can be produced using the particle preparation conditions such as and the like and a combination method thereof. One of the embodiments of the present invention is a monodisperse emulsion in which silver iodide is localized inside the grains.

【0112】本発明においては、平板状粒子が好ましく
用いられる。平板状ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.
2〜2.5μmが好ましく、特に好ましくは0.5〜
2.0μmである。
In the present invention, tabular grains are preferably used. The tabular silver halide grains have an average grain size of 0.
2 to 2.5 μm is preferable, and particularly preferably 0.5 to
2.0 μm.

【0113】平板状ハロゲン化銀乳剤は、粒子直径/厚
さ(アスペクト比と呼ぶ)の平均値(平均アスペクト比
と呼ぶ)が2以上であり、好ましくは3〜20であり、
特に好ましくは4〜12である。
The tabular silver halide emulsion has an average value of grain diameter / thickness (referred to as aspect ratio) (referred to as average aspect ratio) of 2 or more, preferably 3 to 20,
Especially preferably, it is 4-12.

【0114】平均厚さは0.4μm以下が好ましく、よ
り好ましくは0.3μm以下、特に好ましくは0.05
〜0.25μmである。
The average thickness is preferably 0.4 μm or less, more preferably 0.3 μm or less, and particularly preferably 0.05.
˜0.25 μm.

【0115】本発明において、ハロゲン化銀粒子の直径
は、ハロゲン化銀粒子の電子顕微鏡写真の観察から粒子
の球相当径として定義される。ハロゲン化銀粒子の厚さ
は、平板状ハロゲン化銀粒子を構成する二つの平行な面
の距離のうち最小のものと定義される。
In the present invention, the diameter of the silver halide grain is defined as the equivalent spherical diameter of the grain from the observation of an electron micrograph of the silver halide grain. The thickness of the silver halide grain is defined as the minimum distance between the two parallel planes forming the tabular silver halide grain.

【0116】平板状ハロゲン化銀粒子の厚さは、ハロゲ
ン化銀粒子の影の付いた電子顕微鏡写真又はハロゲン化
銀乳剤を支持体に塗布し乾燥したサンプル断層の電子顕
微鏡写真から求めることができる。
The thickness of tabular silver halide grains can be determined from electron micrographs of silver halide grains shaded or electron micrographs of sample slices obtained by coating a support with a silver halide emulsion and drying. .

【0117】平均アスペクト比を求めるためには、最低
100サンプルの測定を行う。
In order to obtain the average aspect ratio, at least 100 samples are measured.

【0118】本発明のハロゲン化銀乳剤において、平板
状ハロゲン化銀粒子が全ハロゲン化銀粒子に占める割合
は50%以上であり、好ましくは60%以上、特に好ま
しくは70%以上である。
In the silver halide emulsion of the present invention, the proportion of tabular silver halide grains in all silver halide grains is 50% or more, preferably 60% or more, particularly preferably 70% or more.

【0119】平板状ハロゲン化銀乳剤は単分散性である
ものが好ましく用いられ、平均粒径を中心に±20%の
粒径範囲に含まれるハロゲン化銀粒子が50重量%以上
のものが特に好ましく用いられる。
As the tabular silver halide emulsion, those having monodispersity are preferably used, and those having 50% by weight or more of silver halide grains contained in a grain size range of ± 20% around the average grain size are particularly preferable. It is preferably used.

【0120】平板状ハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、臭化
銀、塩沃化銀、塩臭化銀、沃臭化銀塩沃臭化銀等ハロゲ
ン組成は任意であるが、高感度という点から沃塩臭化銀
が好ましく、平均沃化銀含有率は、0〜4.0モル%で
あって特に好ましくは0.2〜3.0モル%で、平均塩
化銀含有率は0〜5モル%である。
The tabular silver halide emulsion has an optional halogen composition such as silver chloride, silver bromide, silver chloroiodide, silver chlorobromide, silver iodobromide, silver chloroiodobromide, etc., but has a high sensitivity. To silver iodochlorobromide, the average silver iodide content is 0 to 4.0 mol%, particularly preferably 0.2 to 3.0 mol%, and the average silver chloride content is 0 to 5 mol%. Mol%.

【0121】又、平板状ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン
組成が粒子内で均一であってもよく、沃化銀が局在した
ものであってもよいが、中心部に局在したものが好まし
く用いられる。
In the tabular silver halide emulsion, the halogen composition may be uniform within the grain or silver iodide may be localized, but it is preferably localized in the central portion. Used.

【0122】平板状ハロゲン化銀乳剤の製造方法は、特
開昭58−113926号、同58−113927号、
同58−113934号、同62−1855号、ヨーロ
ッパ特許219,849号、同219,850号等を参
考にすることもできる。又、単分散性の平板状ハロゲン
化銀乳剤の製造方法として、特開昭61−6643号を
参考にすることができる。
The method for producing a tabular silver halide emulsion is described in JP-A Nos. 58-113926 and 58-113927,
Nos. 58-113934 and 62-1855, European Patents 219,849, and 219,850 can also be referred to. As a method for producing a monodisperse tabular silver halide emulsion, JP-A-61-6643 can be referred to.

【0123】高アスペクト比を持つ平板状の沃臭化銀乳
剤の製造方法としては、pBrが2以下に保たれたゼラ
チン水溶液に硝酸銀水溶液又は硝酸銀水溶液とハロゲン
化物水溶液を同時に添加して種晶を発生させ、次にダブ
ルジェット法により成長させることによって得ることが
できる。
As a method for producing a tabular silver iodobromide emulsion having a high aspect ratio, an aqueous silver nitrate solution or an aqueous silver nitrate solution and an aqueous halide solution are simultaneously added to a gelatin aqueous solution having a pBr of 2 or less to form seed crystals. It can be obtained by generating and then growing by the double jet method.

【0124】平板状ハロゲン化銀粒子の大きさは、粒子
形成時の温度、銀塩及びハロゲン化物水溶液の添加速度
によってコントロールできる。
The size of tabular silver halide grains can be controlled by the temperature at the time of grain formation and the rate of addition of an aqueous silver salt and halide solution.

【0125】平板状ハロゲン化銀乳剤の平均沃化銀含有
率は、添加するハロゲン化物水溶液の組成、即ち臭化物
と沃化物の比を変えることによりコントロールすること
ができる。
The average silver iodide content of the tabular silver halide emulsion can be controlled by changing the composition of the aqueous halide solution to be added, that is, the ratio of bromide to iodide.

【0126】また、平板状ハロゲン化銀粒子の製造時
に、必要に応じてアンモニア、チオエーテル、チオ尿素
等のハロゲン化銀溶剤を用いることができる。
Further, when producing tabular silver halide grains, a silver halide solvent such as ammonia, thioether or thiourea can be used if necessary.

【0127】乳剤は可溶性塩類を除去するためにヌード
ル水洗法、フロキュレーシヨン沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭
35−16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水
素系アルデヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2−70
37号記載の凝集高分子剤例示G3,G8などを用いる
方法が特に好ましい脱塩法として挙げられる。
The emulsion may be subjected to a water washing method such as a noodle water washing method or a flocculation sedimentation method in order to remove soluble salts. As a preferred water washing method, for example, a method using an aromatic hydrocarbon aldehyde resin containing a sulfo group described in JP-B-35-16086, or JP-A-2-70.
A particularly preferable desalting method is a method using G3, G8, etc. exemplified by Aggregating Polymer Agents described in No. 37.

【0128】本発明に係る乳剤は、物理熟成又は化学熟
成前後の工程において、各種の写真用添加剤を用いるこ
とができる。公知の添加剤としては、例えばRD N
o.17643(1978年12月)、同No.187
16(1979年11月)及び同No.308119
(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。これら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示さ
れている化合物種類と記載箇所を表1に掲載した。
The emulsion according to the present invention can use various photographic additives in the steps before and after physical ripening or chemical ripening. Known additives include, for example, RD N
o. No. 17643 (December 1978); 187
16 (November 1979) and No. 16 308119
(December 1989). Table 1 shows the types of compounds and the places where they are described in these three Research Disclosures.

【0129】[0129]

【表1】 [Table 1]

【0130】[0130]

【実施例】【Example】

実施例 [SPS写真用支持体の作製] 〈SPS樹脂ペレットの作製〉特開平3−131843
号に準じてSPS樹脂ペレットを作製した。触媒の調整
から重合反応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行っ
た。内容積500mlのガラス性容器に硫酸銅5水塩
(CuSO4・5H2O)17.8g(71ミリモル)精
製ベンゼン200mlおよびトリメチルアルミニウム2
4mlをいれ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行
った。これをアルゴン気流下No.3ガラスフィルター
で濾過して、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、
2lのステンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブ
チルアルミニウムとペンタシクロペンタジエチルチタン
メトキシドを混合し90℃に加熱した。この中に、精製
した4−メチルスチレンを5モル%含む精製したスチレ
ンを1l入れ、この温度中で8時間重合反応を続けた。
この後室温まで冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さ
らに撹拌しながらナトリウムメチラートのメタノール溶
液を加えて触媒を失活させた。内容物を20lのメタノ
ール中に徐々に滴下して、更にNo.3Aのガラスフィ
ルターで濾過し、1lのメタノールで3回洗浄した後乾
燥し、150℃で12時間減圧乾燥をしSPS樹脂を得
た。1,2,4−トリクロルベンゼンを溶媒として、1
35℃で標準ポリスチレンで検量したGPCの測定結果
から求めたこの重合体の重量平均分子量は280,00
0であった。またこの重合体の融点は245℃であっ
た。13C−NMRの測定により、得られた重合体はシン
ジオタクチック構造を有することを確認した。このSP
S樹脂を300℃の押出機に導入し押出し、ペレット化
した。このSPS系樹脂のTgは95℃であった。
Examples [Preparation of SPS photographic support] <Preparation of SPS resin pellets> JP-A-3-131843
SPS resin pellets were produced according to the No. From the preparation of the catalyst to the polymerization reaction, all were carried out under a dry argon stream. In a glass container having an inner volume of 500 ml, copper sulfate pentahydrate (CuSO 4 .5H 2 O) 17.8 g (71 mmol) purified benzene 200 ml and trimethylaluminum 2
4 ml was put and stirred at 40 ° C. for 8 hours to adjust the catalyst. This was placed under an argon gas flow. After filtering through 3 glass filters, the filtrate was freeze-dried. Take this out,
It was placed in a 2 l stainless steel container, and tributylaluminum and pentacyclopentadiethyl titanium methoxide were further mixed therein, and heated to 90 ° C. Into this, 1 liter of purified styrene containing 5 mol% of purified 4-methylstyrene was added, and the polymerization reaction was continued at this temperature for 8 hours.
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 1 l of methylene chloride was added, and a methanol solution of sodium methylate was added to the catalyst to deactivate the catalyst while further stirring. The contents were gradually dropped into 20 liters of methanol, and then No. It was filtered with a 3A glass filter, washed with 1 l of methanol three times, dried, and dried under reduced pressure at 150 ° C. for 12 hours to obtain an SPS resin. 1,2,4-trichlorobenzene as a solvent
The weight average molecular weight of this polymer determined from the results of GPC measurement with standard polystyrene at 35 ° C. was 280,000.
It was 0. The melting point of this polymer was 245 ° C. By 13 C-NMR measurement, it was confirmed that the obtained polymer had a syndiotactic structure. This SP
The S resin was introduced into an extruder at 300 ° C., extruded, and pelletized. The Tg of this SPS resin was 95 ° C.

【0131】〈着色SPS系写真用支持体の作製〉得ら
れた一部のSPS系ペレットを150℃で8時間真空乾
燥した後、湿気を遮断したまま140℃でチップを青色
染料(Bayer社製染料MacrolexBlueR
R)と回転混合機でまぶし、押出機で熔融混合着色させ
ながら330℃でTダイから層状に溶融押出し、回転す
る40℃の冷却ドラム上に静電印荷しながら樹脂シート
を密着させ、急冷却固化させ、未延伸シートとなし、続
いてこの未延伸シートをロール式縦延伸工程で、表2に
記載した縦延伸温度及び縦延伸倍率で一軸延伸を行い、
引き続きクリップで一軸延伸フィルムの両端をくわえて
表2に記載した横延伸温度及び横延伸倍率で逐次二軸延
伸し、更に、245℃で10秒間熱固定し、冷却して、
厚さ175μmのSPS系写真用支持体をそれぞれ得
た。同時に、延伸温度を変えて比較用のSPS系写真用
支持体を作製した。
<Preparation of Colored SPS-Based Photographic Support> Some of the obtained SPS-based pellets were vacuum-dried at 150 ° C. for 8 hours, and then the chips were blue dyed at 140 ° C. with moisture being blocked (manufactured by Bayer). Dye Macrolex BlueR
R) with a rotary mixer, melt-mix and color with an extruder at 330 ° C. to melt-extrude in layers from a T-die, and electrostatically load onto a rotating 40 ° C. cooling drum to bring the resin sheet into close contact, It is cooled and solidified to form an unstretched sheet, and then this unstretched sheet is uniaxially stretched at a longitudinal stretching temperature and a longitudinal stretching ratio shown in Table 2 in a roll-type longitudinal stretching step.
Subsequently, the both ends of the uniaxially stretched film are held with clips and sequentially biaxially stretched at the transverse stretching temperature and the transverse stretching ratio shown in Table 2, and further heat-set at 245 ° C. for 10 seconds and cooled,
A 175 μm thick SPS-based photographic support was obtained. At the same time, the stretching temperature was changed to prepare SPS photographic supports for comparison.

【0132】〈SPS系写真用支持体の下引〉得られた
二軸延伸済みの各SPS系写真用支持体の両表面を放電
条件7(W・分/m2)で連続的にコロナ放電処理を施
した後、イオンブロア(RH−20型)でイオン風によ
り両表面を除電し、両面に片面ずつエアードクター方式
の塗布機で下引塗布液a−1及びb−1(同一処方)を
乾燥膜厚が1.0μmとなるように塗布し、160℃で
乾燥して下引層A−1及びB−1とした。
<Undercoating of SPS-based photographic support> Both surfaces of the obtained biaxially stretched SPS-based photographic support were continuously subjected to corona discharge under discharge condition 7 (W · min / m 2 ). After the treatment, the ion blower (RH-20 type) is used to remove the charge on both surfaces with ionic wind, and both sides are coated with an air doctor type coating machine undercoating solutions a-1 and b-1 (same formulation). Was applied to give a dry film thickness of 1.0 μm and dried at 160 ° C. to obtain subbing layers A-1 and B-1.

【0133】続いて、下引層の上に同様に下引上層塗布
液a−2及びb−2を乾燥膜厚が0.2μmとなるよう
に塗布し、140℃で乾燥して下引上層A−2及びB−
2とした。
Subsequently, the undercoating upper layer coating liquids a-2 and b-2 were similarly coated on the undercoating layer so that the dry film thickness was 0.2 μm, and dried at 140 ° C. to obtain the undercoating upper layer. A-2 and B-
And 2.

【0134】 《下引塗布液a−1及びb−1》 スチレン−ブタジエンラテックス (ニッポールLX432A日本ゼオン社製) 25重量部 メチルセルロース(10%) 10.0重量部 シリカマット剤(平均粒径3.0μm) 0.5重量部 (C−1) 0.5重量部 純水 66重量部 《下引上層塗布液a−2及びb−2》 ゼラチン水溶液(10%) 80重量部 メチルセルロース(10%) 20重量部 C1225O(CH2CH2O)10SO3Na 4重量 部 プロキセル 0.3重量部 (C−1) 0.5重量部 純水で1lに仕上げる。<< Undercoating Coating Solutions a-1 and b-1 >> Styrene-butadiene latex (Nippole LX432A, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 25 parts by weight Methylcellulose (10%) 10.0 parts by weight Silica matting agent (average particle size 3. 0 μm) 0.5 parts by weight (C-1) 0.5 parts by weight Pure water 66 parts by weight << Undercoating upper layer coating liquids a-2 and b-2 >> Gelatin aqueous solution (10%) 80 parts by weight Methylcellulose (10%) 20 parts by weight C 12 H 25 O (CH 2 CH 2 O) 10 SO 3 Na 4 parts by weight Proxel 0.3 parts by weight (C-1) 0.5 parts by weight Finish with pure water to 1 liter.

【0135】[0135]

【化1】 Embedded image

【0136】〔SPS系写真用支持体を持つハロゲン化
銀写真感光材料の作製〕各SPS系写真用支持体のA−
2及びB−2の上に下記ハロゲン化銀乳剤塗布液等を塗
設し、X線医療用ハロゲン化銀写真感光材料とした。
[Preparation of silver halide photographic light-sensitive material having SPS-based photographic support] A- of each SPS-based photographic support
The following silver halide emulsion coating solution was applied onto Nos. 2 and B-2 to prepare a silver halide photographic light-sensitive material for X-ray medical treatment.

【0137】〈ハロゲン化銀写真感光材料の作製〉平板
粒子と固体微粒子分散体(AH)を用いてX線フィルム
用オルソハロゲン化銀写真感光材料を作製した。
<Preparation of silver halide photographic light-sensitive material> An ortho silver halide photographic light-sensitive material for X-ray film was prepared using tabular grains and solid fine particle dispersion (AH).

【0138】《固体微粒子分散体(AH)の調製》50
0mlの水に5gの染料(AH)の乾燥済み粉末をい
れ、特開平3−288842号の記載の高速インペラー
分散機を用いて分散し、25℃で、15000rpmの
回転数で8時間分散を行った。分散物の平均粒子径、分
布は(株)堀場製作所製のレーザ回折/散乱式粒度分布
測定装置LA−700で測定した。平均粒子径は0.2
μmで粒子の分散度は変動係数で20%以内であった。
<< Preparation of Solid Particle Dispersion (AH) >> 50
Dried powder of 5 g of dye (AH) was added to 0 ml of water and dispersed using a high-speed impeller disperser described in JP-A-3-288842, and dispersed at 25 ° C. for 1 hour at 15,000 rpm for 8 hours. It was The average particle diameter and distribution of the dispersion were measured with a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus LA-700 manufactured by Horiba Ltd. Average particle size is 0.2
In μm, the degree of dispersion of particles was within 20% in terms of coefficient of variation.

【0139】《種乳剤の調整》下記のようにして種乳剤
を調整した。
<< Preparation of Seed Emulsion >> A seed emulsion was prepared as follows.

【0140】 A1 オセインゼラチン 100g 臭化カリウム 2.05g 水で 11.5l B1 オセインゼラチン 55g 臭化カリウム 65g ヨウ化カリウム 1.8g 0.2N硫酸 38.5ml 水で 2.6l C1 硝酸銀 95g 水で 2.7l D1 オセインゼラチン 75g 臭化カリウム 950g ヨウ化カリウム 27g 水で 3.0l E1 硝酸銀 1410g 水で 3.2l 反応釜で60℃に保温したA1液に、B1液とC1液を
コントロールダブルジェット法により、30分かけて添
加し、その後、D1液及びE1液をコントロールダブル
ジェット法により105分間かけて加えた。撹拌は50
0rpmで行った。粒子の成長に伴い、新しい核が発生
せず、かついわゆるオストワルド熟成をおこし、粒径分
布の広がらない流速で添加した。銀イオン液及びハライ
ドイオン液の添加時において、pAgは臭化カリウム液
を用い8.3±0.05に調整し、pHは硫酸を用い
2.0±0.1に調節した。
A1 ossein gelatin 100 g potassium bromide 2.05 g with water 11.5 l B1 ossein gelatin 55 g potassium bromide 65 g potassium iodide 1.8 g 0.2N sulfuric acid 38.5 ml water with 2.6 l C1 silver nitrate 95 g water 2.7 l D1 ossein gelatin 75 g Potassium bromide 950 g Potassium iodide 27 g Water 3.0 l E1 Silver nitrate 1410 g Water 3.2 l To liquid A1 kept at 60 ° C in a reaction kettle Control liquid B1 and liquid C1 It was added by the jet method over 30 minutes, and then D1 liquid and E1 liquid were added by the control double jet method over 105 minutes. 50 stirring
It was performed at 0 rpm. With the growth of particles, new nuclei were not generated, and so-called Ostwald ripening was caused, and they were added at a flow rate at which the particle size distribution did not spread. When the silver ionic liquid and the halide ionic liquid were added, pAg was adjusted to 8.3 ± 0.05 using potassium bromide liquid, and pH was adjusted to 2.0 ± 0.1 using sulfuric acid.

【0141】添加終了後、pHを6.0に合わせてか
ら、過剰の塩類を除去するために、乳剤を40℃にて花
王アトラス社製のデモールNと硫酸マグネシウムの水溶
液を用いて脱塩処理を行った。
After the addition was completed, the pH was adjusted to 6.0, and then the emulsion was desalted at 40 ° C. with an aqueous solution of Demol N and magnesium sulfate manufactured by Kao Atlas Co., in order to remove excess salts. I went.

【0142】この種乳剤を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、平均粒径0.27μm、分布の広さ17%の角がや
やかけた立方体形状の14面体単分散性の種乳剤であっ
た。
When the seed emulsion was observed with an electron microscope, it was a cubic tetrahedral monodisperse seed emulsion having an average grain size of 0.27 μm and a distribution of 17% with slightly rounded corners.

【0143】《乳剤の調整》上記種乳剤と以下に示す4
種の溶液を用い、コア/シェル型構造を有する平板状乳
剤を調製した。
<< Preparation of Emulsion >> The above seed emulsion and the following 4
A seed solution was used to prepare a tabular emulsion having a core / shell structure.

【0144】 A2 オセインゼラチン 11.7g ポリプロピレン−ポリエチレンオキシ−ジサクシネート ナトリウム塩(10%エタノール水溶液) 1.4ml 種乳剤 銀0.10モル相当 水で 550mlに仕上げる B2 オセインゼラチン 5.9g 臭化カリウム 4.6g ヨウ化カリウム 3.0g 水で 145mlに仕上げる C2 硝酸銀 10.1g 水で 145mlに仕上げる D2 オセインゼラチン 6.1g 臭化カリウム 94g 水で 304mlに仕上げる E2 硝酸銀 137g 水で 304mlに仕上げる 70℃で激しく撹拌したA2液に、ダブルジェット法に
てB2液及び25液を58分かけて添加した。次に同じ
液中にD2液及びE2液をダブルジェット法にて48分
かけて添加した。この間、pHは5.8、pAgは8.
7に保った。添加終了後、上記と同様に脱塩し沈殿さ
せ、40℃にてpAg8.5、pH5.85の平均ヨウ
化銀含有率が約2.0モルの乳剤を得た。
A2 ossein gelatin 11.7 g polypropylene-polyethyleneoxy-disuccinate sodium salt (10% aqueous ethanol solution) 1.4 ml seed emulsion 0.10 mol silver equivalent Finish with water to 550 ml B2 ossein gelatin 5.9 g potassium bromide 4.6 g Potassium iodide 3.0 g Finish with water to 145 ml C2 Silver nitrate 10.1 g Finish with water to 145 ml D2 Ocein gelatin 6.1 g Potassium bromide 94 g Finish with water to 304 ml E2 Silver nitrate 137 g Finish to 304 ml with water 70 ° C The solution B2 and solution 25 were added to the solution A2, which was vigorously stirred by using the double jet method, over 58 minutes. Next, the D2 liquid and the E2 liquid were added to the same liquid by the double jet method over 48 minutes. During this time, pH was 5.8 and pAg was 8.
It was kept at 7. After the addition was completed, desalting and precipitation were carried out in the same manner as above to obtain an emulsion having a pAg of 8.5 and a pH of 5.85 and an average silver iodide content of about 2.0 mol at 40 ° C.

【0145】得られた乳剤を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、投影面積の81%が平均粒径0.96μm、粒径分
布の広さが18%で、平均アスペクト比4.5の平板状
ハロゲン化銀粒子であった。また双晶面間距離の平均は
0.007μmであり、この面間の変動係数は45%で
あった。
Observation of the obtained emulsion with an electron microscope revealed that 81% of the projected area has a mean grain size of 0.96 μm, a broad grain size distribution of 18% and a tabular halogenated form with an average aspect ratio of 4.5. It was a silver particle. The average distance between twin planes was 0.007 μm, and the variation coefficient between the planes was 45%.

【0146】《X線フィルム試料の作製》第1層に下記
横断光遮断層、第2層として上記乳剤に下記添加剤を加
えた乳剤層、更に第3層として乳剤層の上の下記保護層
を、ブルーに着色した175μmのSPS系写真用支持
体のA−2及びB−2の両面に下記組成になるようにス
ライドホッパーにて同時重層塗布を行い、試料を作製し
た。
<< Preparation of X-ray film sample >> The following layer was used as the first layer, the following transverse light-shielding layer, the second layer was an emulsion layer obtained by adding the following additives to the above emulsion, and the third layer was the following protective layer above the emulsion layer. Was simultaneously coated on both surfaces A-2 and B-2 of a 175 μm SPS-based photographic support colored in blue with a slide hopper so that a sample was prepared.

【0147】第1層(横断光遮断層) 以下の添加量はハロゲン化銀写真感光材料片面1m2
たりを示す。
First Layer (Transverse Light Blocking Layer) The following addition amounts are per 1 m 2 of one side of the silver halide photographic light-sensitive material.

【0148】 固体微粒子分散体染料(AH) 180mg ゼラチン 0.2g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg (C−1) 5mg 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ −1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg 第2層(乳剤層) 上記で得た各々の乳剤に下記の各種添加剤を、乳剤中の
銀量を1.65g/m2(片面)またゼラチン量1.2
g/m2となるように塗布した。また乳剤添加剤は銀1
モル当たり下記重量の如くなるように含まれ、塗布され
る。
Solid fine particle dispersion dye (AH) 180 mg Gelatin 0.2 g Sodium dodecylbenzenesulfonate 5 mg (C-1) 5 mg 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 5 mg Colloidal silica (Average grain size 0.014 μm) 10 mg Second layer (emulsion layer) The following additives were added to each emulsion obtained above, the silver amount in the emulsion was 1.65 g / m 2 (one side) and the gelatin amount was 1 .2
g / m 2 . Emulsion additive is silver 1
It is contained and coated in the following weight per mole.

【0149】 ハイポ 9.2g KSCN 263mg 塩化金酸 6.4mg 5、5′ジクロロ−3,3′−ジ(3−スルホプロピル) −9−エチルオキサカルボシアニン・ナトリウム塩 700mg 4−ヒドキシ−6−メチル−1,3,3a,7 −テトラザインデン 4.4g 2−ヒドロキシ−6−メチル−4,6−ジクロロ −1,3,5−トリアジン・ナトリウム塩 4g ポリアクリル酸ナトリウム塩 5g ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 2g アルカリ処理ゼラチン 80g 1,2ビス(ビスビニルスルホニルアセトアミド) エタン 2.3g 導電性粒子を乳剤層に用いる場合には、導電性粒子の塗
布量が表2のようになるように添加して塗布し、乳剤層
とした。なお、(C−2)を導電性粒子0.6g/m2
を基準に0.012g/m2の量を導電性粒子の量変化
に応じて比例的に増減して添加した。
Hypo 9.2 g KSCN 263 mg Chloroauric acid 6.4 mg 5,5'dichloro-3,3'-di (3-sulfopropyl) -9-ethyloxacarbocyanine sodium salt 700 mg 4-Hydroxy-6- Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 4.4g 2-hydroxy-6-methyl-4,6-dichloro-1,3,5-triazine sodium salt 4g polyacrylic acid sodium salt 5g polystyrene sulfonic acid Sodium salt 2 g Alkali-treated gelatin 80 g 1, bis (bisvinylsulfonylacetamide) ethane 2.3 g When conductive particles are used in the emulsion layer, the conductive particles should be added so that the coating amount is as shown in Table 2. Was applied to form an emulsion layer. In addition, (C-2) is a conductive particle 0.6 g / m 2
The amount of 0.012 g / m 2 was proportionally increased / decreased according to the change in the amount of the conductive particles.

【0150】第3層(保護層−) 保護層として下記の各種の添加剤を加え、1m2当たり
下記の重量を塗布した。
Third Layer (Protective Layer) As a protective layer, the following various additives were added, and the following weight was applied per 1 m 2 .

【0151】 アルカリ処理ゼラチン 1.2g デキストラン 500mg ポリアクリル酸ナトリウム塩 5g C817S03Na 2mg 1,2−ビス(ビスビニルスルホニルアセトアミド)エタン 33mg PMMA(3.5μm) 2mg ソジウム−イソアミル−N−デシルスルホサクシネート 2mg 導電性粒子を上記保護層に用いる場合には、導電性粒子
の塗布量が表2のようになるように添加して塗布し、保
護層−とした。なお、(C−2)を導電性粒子0.6
g/m2を基準に0.012g/m2の量を導電性粒子の
量変化に応じて比例的に増減して添加した。
Alkali-treated gelatin 1.2 g Dextran 500 mg Polyacrylic acid sodium salt 5 g C 8 F 17 S0 3 Na 2 mg 1,2-bis (bisvinylsulfonylacetamide) ethane 33 mg PMMA (3.5 μm) 2 mg Sodium-isoamyl-N -Decylsulfosuccinate 2 mg When the conductive particles are used in the protective layer, the conductive particles were added and coated so that the coating amount was as shown in Table 2 to give a protective layer. In addition, (C-2) is a conductive particle 0.6
was added proportionally increase or decrease the amount of 0.012 g / m 2 based on g / m 2 depending on the amount change of the conductive particles.

【0152】[0152]

【化2】 Embedded image

【0153】比較第3層(保護層−) 第2層及び第3層のいずれにも導電性粒子を添加しない
場合の比較例として、下記化合物を、導電性粒子の代わ
りに下記化合物を添加した。
Comparative Third Layer (Protective Layer) As a comparative example in which conductive particles were not added to both the second layer and the third layer, the following compounds were added, and the following compounds were added instead of the conductive particles. .

【0154】 C817−C64−0(CH2CH2O)10(CH2CH(OH)CH22H 0.03g/m217−C64−O(CH2CH2O)2CH2CH2SO3Na 0.01g/m2817−SO2N(C37)−(CH2CH2O)10 −(CH2CH2CH2O)4H 0.002g/m2 《処理液の調製》 (現像液)(使用液1lとして) 炭酸カリウム 40g ハイドロキノン 35g ジメゾンS 10g 1−フェニル−3−ピラゾリドン 5g ジエチルベンゾトリアゾール 0.2g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ−ル 0.15g 2−メルカプトヒポキサンチン 0.07g 亜硫酸ナトリウム 20g 亜硫酸カリウム 40g ジエチレングリコール 20g N−アセチル−d,l−ペニシラミン 0.5g HS−C24−S−C24−SH 0.3 g この液に水酸化カリウムを添加し、1lのpH10.7
0の液に調整した。
[0154] C 8 H 17 -C 6 H 4 -0 (CH 2 CH 2 O) 10 (CH 2 CH (OH) CH 2) 2 H 0.03g / m 2 C 8 H 17 -C 6 H 4 - O (CH 2 CH 2 O) 2 CH 2 CH 2 SO 3 Na 0.01g / m 2 C 8 F 17 -SO 2 N (C 3 H 7) - (CH 2 CH 2 O) 10 - (CH 2 CH 2 CH 2 O) 4 H 0.002 g / m 2 << Preparation of treatment liquid >> (Developer) (as a used liquid 1 l) Potassium carbonate 40 g Hydroquinone 35 g Dimezone S 10 g 1-Phenyl-3-pyrazolidone 5 g Diethylbenzotriazole 0. 2 g 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.15 g 2-mercaptohypoxanthine 0.07 g sodium sulfite 20 g potassium sulfite 40 g diethylene glycol 20 g N-acetyl-d, l-penicillamine 0. 5g HS-C 2 H 4 -S -C 2 H 4 -SH 0.3 g of potassium hydroxide was added to this solution, the 1l pH 10.7
The solution was adjusted to 0.

【0155】 (定着液)(使用液として1l分とした) チオ硫酸ナトリウム 42.0g チオ硫酸カリウム 98.0g 亜硫酸ナトリウム 15.0g 硼酸 10.0g 酢酸水素ナトリウム 30.0g これらを400mlの水に溶解し、使用液でpHが4.
50となるよう硫酸を添加した。最後に純水で500m
lに仕上げて濃縮液を作製した。この濃縮液を水で1l
に希釈して使用液とした。
(Fixer) (1 liter was used as a solution) Sodium thiosulfate 42.0 g Potassium thiosulfate 98.0 g Sodium sulfite 15.0 g Boric acid 10.0 g Sodium hydrogen acetate 30.0 g These were dissolved in 400 ml of water. The pH of the used liquid is 4.
Sulfuric acid was added to 50. Finally 500m with pure water
A concentrated solution was prepared by finishing to 1 l. 1 liter of this concentrate with water
To be used as a working solution.

【0156】 (現像液 スターター) 氷酢酸 2.98g ブロムカリ 4.0g 水を加えて1lとした。(Developer Starter) Glacial acetic acid 2.98 g Broccoli 4.0 g Water was added to make 1 liter.

【0157】現像液は処理開始(ランニング開始)時に
は現像液1lに体してスターター20mlを添加した液
をスターター液として現像槽を満たして処理を開始し
た。スターターを添加した現像液のpHは10.50で
あった。自動現像機はSRX−503(コニカ(株)
製)を用いて処理し、以下の評価を行った。
At the start of processing (beginning of running), the developing solution was filled in 1 liter of developing solution and added with 20 ml of a starter, and the developing tank was filled with the solution as a starter solution to start the processing. The pH of the developer containing the starter was 10.50. The automatic processor is SRX-503 (Konica Corporation)
Manufactured) and the following evaluations were performed.

【0158】[評価方法] 〈帯電防止性能の評価〉 《表面比抵抗の測定》温度23℃、20%RHの雰囲気
に調湿されている雰囲気において、川口電気株式会社製
テラオームメータモデルVE−30を用いて測定した。
同条件にて未現像試料及び現像済み試料を24時間調湿
しておいた各試料を上記測定器電極間隔5cmのステン
レス性電極に挟み、1分間値を測定する。
[Evaluation Method] <Evaluation of Antistatic Performance><< Measurement of Surface Resistivity >> In an atmosphere where the temperature is adjusted to 23 ° C. and 20% RH, the teraohm meter model VE- manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. It was measured using 30.
Under the same conditions, the undeveloped sample and the developed sample are conditioned for 24 hours, and each sample is sandwiched between the stainless electrodes having a measuring electrode gap of 5 cm to measure the value for 1 minute.

【0159】《スタティックマーク》未露光の試料を2
5℃,25%RHの雰囲気で暗室下2時間調湿した後、
この部屋でネオプレンゴム板の上に置き、その上をネオ
プレンゴム製のローラーで10回転がり摩擦を行い、上
記の現像等処理を行い試料全面のスタティックマークの
発生度を調べた。
<< Static Mark >> Unexposed sample is 2
After conditioning the humidity in a dark room for 2 hours at 5 ° C and 25% RH,
In this room, it was placed on a neoprene rubber plate, and a roller made of neoprene rubber was rubbed 10 times on it to perform rubbing, and the above-mentioned processing such as development was performed to examine the degree of generation of static marks on the entire surface of the sample.

【0160】 A :スタティックマークの発生は全く認められなかっ
た B :スタティックマークの発生が極僅か認められた C :スタティックマークの発生が少し認められた D :スタティックマークの発生がかなり認められた E :スタティックマークの発生がほぼ全面に認められ
た 〈オイルスラッジ試験〉各大角サイズに断裁した試料を
ランニングフィルムとして1000枚用意し、それらを
濃度0.9になるように露光してから、自動現像機SR
X−503で前記処理液を用い、この1000枚を連続
してランニング処理を行った。ランニング処理後、処理
液を6時間放置してから、同じ大きさの未露光の試料を
10枚連続して処理して、この10枚の処理済み試料を
観察し、下記の5段階評価基準で評価した。
A: Generation of static marks was not recognized at all B: Generation of static marks was recognized only slightly C: Generation of static marks was slightly recognized D: Generation of static marks was considerably recognized E : Generation of static marks was observed almost on the whole surface <Oil sludge test> 1000 sheets of large-size cut samples were prepared as running films, exposed to a density of 0.9, and then automatically developed. Machine SR
Using the above-mentioned treatment liquid in X-503, the 1000 sheets were continuously subjected to running treatment. After the running treatment, the treatment liquid was allowed to stand for 6 hours, then 10 unexposed samples of the same size were continuously treated, and the 10 treated samples were observed. evaluated.

【0161】 5:試料の両面とも全面にわたりオイルスラッジは認め
られなかった 4:試料の全端から1cmに範囲に僅かにスラッジが発
生した 3:試料の全面に、ローラーのピッチに相当する部分に
スラッジが部分的に薄く発生しているのが観察され、そ
の程度は評価基準2の1/10ぐらいであった 2:試料の全面に、ローラーのピッチに沿って筋状のオ
イルスラッジが全面に発生した 1:試料の全面にスラッジが発生し、任意の5cm2
に20ケ所以上もの発生があった
5: No oil sludge was observed over the entire surface of both sides of the sample 4: A slight amount of sludge was generated within 1 cm from the entire end of the sample 3: On the entire surface of the sample, at a portion corresponding to the pitch of the roller It was observed that the sludge was partly thinly generated, and the degree was about 1/10 of the evaluation standard 2. Stripe-shaped oil sludge was spread over the entire surface of the sample along the roller pitch. Occurrence 1: Sludge was generated on the entire surface of the sample, and more than 20 places were generated within an arbitrary 5 cm 2 .

【0162】[0162]

【表2】 [Table 2]

【0163】[結果]表2からわかるように、シンジオ
タクティックポリスチレン系写真用支持体上に本発明の
導電性粒子を含有する乳剤層また乳剤保護層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料は、該導電性粒子を含まず界面
活性剤的な帯電防止剤を含有する乳剤層又は乳剤保護層
を有するハロゲン化銀写真感光材料の現像後帯電防止特
性及び現像処理時のオイルスラッジも発生せず、優れて
いることがわかった。また本発明の範囲の導電性粒子の
組成における現像後の表面比抵抗の低下が少なく永久帯
電防止効果が認められた。
[Results] As can be seen from Table 2, the silver halide photographic light-sensitive material having the emulsion layer or emulsion protective layer containing the conductive particles of the present invention on the syndiotactic polystyrene photographic support was Excellent in antistatic property after development of a silver halide photographic light-sensitive material having an emulsion layer or an emulsion protection layer containing no conductive particles and containing a surfactant-like antistatic agent, and does not generate oil sludge during development processing. I found out. Further, in the composition of the conductive particles within the range of the present invention, the decrease in the surface specific resistance after development was small and the permanent antistatic effect was recognized.

【0164】[0164]

【発明の効果】本発明の導電性粒子をハロゲン化銀写真
感光材料を構成する少なくとも1層に含有させることに
よって、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム
を写真用支持体として有用に使用することが出来、軽量
なため物流上の負荷を軽減し、かつ永久帯電防止性能に
優れ、現像処理時オイルスラッジを発生せず、誤診断等
のない信頼性のあるハロゲン化銀写真感光材料を得るこ
とが出来た。
By incorporating the conductive particles of the present invention into at least one layer constituting a silver halide photographic light-sensitive material, a syndiotactic polystyrene film can be usefully used as a photographic support. It was possible to obtain a reliable silver halide photographic light-sensitive material that is light in weight, reduces the load on logistics, has excellent antistatic performance, does not generate oil sludge during development processing, and has no misdiagnosis. .

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 7/04 CET C08J 7/04 CETG C08L 25/18 LEK C08L 25/18 LEK G03C 1/00 G03C 1/00 A 1/795 1/795 1/89 1/89 // C08F 257/00 MQH C08F 257/00 MQH B29K 25:00 Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location C08J 7/04 CET C08J 7/04 CETG C08L 25/18 LEK C08L 25/18 LEK G03C 1/00 G03C 1/00 A 1/795 1/795 1/89 1/89 // C08F 257/00 MQH C08F 257/00 MQH B29K 25:00

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重合体粒子の外周に、下記水溶性高分子
(A)が位置する導電性粒子を含有する帯電防止剤を少
なくとも1層有し、該水溶性高分子(A)の重量が該重
合体粒子の重量に対し35〜500%であり、かつ二軸
延伸シンジオタクティックポリスチレン系写真用支持体
を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
水溶性高分子(A)はスルホン酸基とカルボキシル基と
を有する水溶性高分子体である。
1. A polymer particle having at least one layer of an antistatic agent containing conductive particles having the following water-soluble polymer (A) positioned on the outer periphery thereof, wherein the weight of the water-soluble polymer (A) is A silver halide photographic light-sensitive material characterized by having a biaxially-stretched syndiotactic polystyrene-based photographic support in an amount of 35 to 500% based on the weight of the polymer particles.
The water-soluble polymer (A) is a water-soluble polymer having a sulfonic acid group and a carboxyl group.
【請求項2】 上記水溶性高分子(A)のスルホン酸基
が、スチレンスルホン酸単量体から誘導された導電性粒
子であることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化
銀写真感光材料。
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the sulfonic acid group of the water-soluble polymer (A) is a conductive particle derived from a styrenesulfonic acid monomer. material.
【請求項3】 重合体粒子の単量体組成にエポキシ基含
有単量体を有することを特徴とする請求項1又は2に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the monomer composition of the polymer particles contains an epoxy group-containing monomer.
【請求項4】 上記水溶性高分子(A)がスチレンスル
ホン酸とマレイン酸との共重合であることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
4. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the water-soluble polymer (A) is a copolymer of styrene sulfonic acid and maleic acid. .
【請求項5】 スチレンスルホン酸とマレイン酸とのモ
ル比がスチレンスルホン酸/マレイン酸=50/50〜
95/5の範囲であることを特徴とする請求項4記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
5. A styrenesulfonic acid / maleic acid molar ratio of styrenesulfonic acid / maleic acid = 50/50.
The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 4, which is in the range of 95/5.
【請求項6】 上記水溶性高分子(A)の重量が上記重
合体粒子の重量に対し100〜400%であることを特
徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
6. The halogenated product according to claim 1, wherein the weight of the water-soluble polymer (A) is 100 to 400% with respect to the weight of the polymer particles. Silver photographic light-sensitive material.
【請求項7】 上記水溶性高分子(A)の重量が上記重
合体粒子の重量に対し200〜300%であることを特
徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
7. The halogenated product according to claim 1, wherein the weight of the water-soluble polymer (A) is 200 to 300% with respect to the weight of the polymer particles. Silver photographic light-sensitive material.
JP7270193A 1995-10-18 1995-10-18 Silver halide photographic sensitive material Pending JPH09114045A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7270193A JPH09114045A (en) 1995-10-18 1995-10-18 Silver halide photographic sensitive material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7270193A JPH09114045A (en) 1995-10-18 1995-10-18 Silver halide photographic sensitive material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09114045A true JPH09114045A (en) 1997-05-02

Family

ID=17482829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7270193A Pending JPH09114045A (en) 1995-10-18 1995-10-18 Silver halide photographic sensitive material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09114045A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0377975B2 (en)
JP2001183774A (en) Annealed adhesion promoting layer for photographic imaging element
JPH09114045A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH01210946A (en) Silver halide photographic sensitive material
JP3416835B2 (en) Antistatic plastic film material and silver halide photographic material using the same
JP3393278B2 (en) Silver halide photographic materials
JPH0990561A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH11198276A (en) Plastic film, data recording material, silver halide photosensitive material, and magnetic recording medium
JP3467668B2 (en) Silver halide photographic materials
JPH0990557A (en) Silver halide photographic sensitive material
US6224988B1 (en) Adhesive composition and image forming material
JPH0968777A (en) Photographic substrate with undercoat layer
JPH04274233A (en) Charge preventing film base and photograph material comprising charge preventing film base
JPH0990559A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH0973152A (en) Photographic supporting body
JPS60254042A (en) Silver halide photosensitive material
JPH10180924A (en) Plastic film, halogenated silver photosensitive material or magnetic recording medium
JPH0642056B2 (en) Silver halide photographic light-sensitive material having an undercoat layer with excellent adhesiveness
JPH095927A (en) Picture formation element
JPH11352635A (en) Information recording material
JPH11212213A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH05216164A (en) Plastic film provided with antistatic performance and manufacture thereof
JP3458206B2 (en) Photographic support
JPH0943783A (en) Method for processing silver halide photographic sensitive material
JPH0212145A (en) Silver halide photographic sensitive material for bright room