JPH09111187A - Silicone varnish, its production, and prepreg impregnated with silicone varnish - Google Patents

Silicone varnish, its production, and prepreg impregnated with silicone varnish

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JPH09111187A
JPH09111187A JP26998295A JP26998295A JPH09111187A JP H09111187 A JPH09111187 A JP H09111187A JP 26998295 A JP26998295 A JP 26998295A JP 26998295 A JP26998295 A JP 26998295A JP H09111187 A JPH09111187 A JP H09111187A
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聡 柳浦
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星紀 平松
Hiroshi Adachi
廣士 足達
Shigeru Kubota
繁 久保田
Misao Kobayakawa
三砂緒 小早川
Yasushi Hatanaka
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a highly heat-resistant silicone varnish having a good shelf stability and an excellent curability (reactivity) and a prepreg impregnated with the silicone varnish. SOLUTION: This varnish consists of a silicone oligomer (A) having an intrinsic viscosity at 25 deg.C of 0.1-10cm<3> /g and obtained by the condensation through dehydration by heating of a dialkoxysilane having one or two kinds of groups selected among phenyl and 1-3C alkyl groups and having 1-4C alkoxy groups, a phenyltrialkoxysilane or a methyltrialkoxysilane having 1-4C alkoxy groups, an inorganic acid that does not contain metal and contains at least one of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid having a PKa value of 0.8 to 6, and water or a solvent mixture comprising water and a water-soluble organic solvent except an aliphatic monohydric alcohol, a component (B) comprising an aliphatic monohydric alcohol or a solvent mixture containing it, and a condensation catalyst (C) containing a metal atom.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、300℃以上の連
続耐熱性を有し、可撓性、成形性に優れるため、コーテ
ィング剤、積層板、断熱材、保護材、成形体、層間絶縁
膜、プリント基板用材料などとして用いることが可能な
シリコーンワニスおよびそれを用いた含浸プレプリグを
製造し、使用する技術分野に属する。
TECHNICAL FIELD The present invention has a continuous heat resistance of 300 ° C. or higher, is excellent in flexibility and moldability, and therefore has a coating agent, a laminated plate, a heat insulating material, a protective material, a molded body, an interlayer insulating film. Belongs to the technical field of producing and using a silicone varnish that can be used as a material for a printed circuit board and an impregnated prepreg using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の有機材料のばあい、300℃以上
の連続耐熱性がえられず、一方、無機材料のばあい、無
機材料をうるために1000℃以上の焼成が必要であ
り、しかも可撓性に欠けるため、複合化しても曲げ強度
が弱い。
2. Description of the Related Art In the case of conventional organic materials, continuous heat resistance of 300 ° C. or higher cannot be obtained. On the other hand, in the case of inorganic materials, baking at 1000 ° C. or higher is required to obtain the inorganic material. Since it lacks flexibility, the bending strength is weak even if it is made into a composite.

【0003】前記無機材料の欠点を改善する方法とし
て、アルコキシシランの縮重合を用いて無機ポリマーを
合成する例が多く開示されている(たとえば特開平4−
65477号公報、特開平4−106172号公報、特
開平6−240143号公報および特開昭63−278
977号公報)。
As a method for improving the drawbacks of the above-mentioned inorganic materials, many examples of synthesizing an inorganic polymer by using polycondensation of alkoxysilane have been disclosed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-204).
No. 65477, No. 4-106172, No. 6-240143, and No. 63-278.
977).

【0004】一方、2官能と3官能のアルコキシシラン
を組み合わせたコーティング剤は当該技術分野において
よく知られており、このコーティング剤を製造する際の
縮重合反応を調整することにより残留シラノール基量を
調整し、粘度を調整することができることが知られてい
る(たとえば特開平2−254976号公報および特開
平4−180977号公報)。
On the other hand, coating agents in which bifunctional and trifunctional alkoxysilanes are combined are well known in the art, and the amount of residual silanol groups can be controlled by adjusting the polycondensation reaction during the production of this coating agent. It is known that the viscosity can be adjusted by adjusting the viscosity (for example, JP-A-2-254976 and JP-A-4-180977).

【0005】このばあいの縮重合反応触媒としては、特
開平2−284976号公報に見られるように、縮合促
進能力の強いアルコキシチタンや有機酸金属塩が用いら
れている。
In this case, as the polycondensation reaction catalyst, an alkoxytitanium or an organic acid metal salt having a strong condensation accelerating ability is used as seen in JP-A-2-284976.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、縮重合
促進能力の強い縮重合触媒を使用すると、シラノール基
量を調整しながら縮重合させる際にゲル化が起こりやす
い。また、触媒が含有されたままでは保存安定性がわる
く、中和して取り除かなくてはならない。したがって、
現在市販のものでも、分子量の高いものは使用直前に縮
重合触媒を添加するタイプになっている。
However, when a polycondensation catalyst having a strong ability to accelerate polycondensation is used, gelation is likely to occur during polycondensation while adjusting the amount of silanol groups. Further, if the catalyst is still contained, the storage stability is poor, and it must be neutralized and removed. Therefore,
Currently commercially available products having a high molecular weight are of a type in which a polycondensation catalyst is added immediately before use.

【0007】一方、塩酸、リン酸などの縮合促進能力の
比較的弱い触媒を用いるばあい、ワニスの保存安定性は
良好ではあるが硬化速度が遅く、ネットワーク化が充分
に進行しない。
On the other hand, when a catalyst such as hydrochloric acid or phosphoric acid having a relatively weak ability to accelerate condensation is used, the storage stability of the varnish is good but the curing speed is slow and the network formation does not proceed sufficiently.

【0008】本発明は縮重合させる際に粘度調整が容易
でゲル化が起こりにくく、かつ保存安定性が良好で硬化
性(反応性)に優れた高耐熱性シリコーンワニスおよび
それを用いた複合材料、プリント基板を提供しようとす
るものである。
The present invention provides a highly heat-resistant silicone varnish whose viscosity can be easily adjusted during gel condensation polymerization, gelation hardly occurs, storage stability is good, and curability (reactivity) is excellent, and a composite material using the same. , To provide a printed circuit board.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記の問題
を改善すべく鋭意検討を重ねた結果、アルコキシシラン
の縮重合時にゲル化させることなく所定の粘度のものを
うるには、モノマーとして2官能と3官能のアルコキシ
シランのブレンド物を用いるのが好ましく、溶剤として
は脂肪族一価アルコールを除く水溶性有機溶剤、触媒と
しては金属を含まない加水分解酸触媒が好ましいことを
見出した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies made by the present inventors in order to improve the above-mentioned problems, as a result of obtaining a monomer having a predetermined viscosity without causing gelation during the condensation polymerization of alkoxysilane, a monomer It has been found that it is preferable to use a blend of bifunctional and trifunctional alkoxysilanes as the solvent, a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol as the solvent, and a metal-free hydrolytic acid catalyst as the catalyst. .

【0010】また、所定の粘度のものをえたのちは、保
存安定性の観点から脂肪族一価アルコール系溶剤を含む
有機溶剤の添加が好ましく、硬化促進のためには金属を
含まない加水分解酸触媒だけでは不充分であり、有機酸
金属塩またはチタンのアルコキシドなどの添加が効果的
であることを見出した。
After obtaining a desired viscosity, it is preferable to add an organic solvent containing an aliphatic monohydric alcohol solvent from the viewpoint of storage stability. To accelerate curing, a hydrolyzed acid containing no metal is used. It has been found that the catalyst alone is insufficient, and the addition of an organic acid metal salt or titanium alkoxide is effective.

【0011】本発明は前記のごとき知見に基づいてなさ
れたものであり、 (A)(1)フェニル基および炭素数1〜3のアルキル
基のうちの1種または2種を有し、炭素数1〜4のアル
コキシ基を有するジアルコキシシラン、(2)炭素数1
〜4のアルコキシ基を有するフェニルトリアルコキシシ
ランまたはメチルトリアルコキシシラン、(3)金属を
含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少くとも1種を
含む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有機酸、
および(4)水または水と脂肪族一価アルコールを除く
水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合物を加熱下、脱水
縮合してえられた25℃での固有粘度が0.1〜10c
3/gのシリコーンオリゴマー、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒を加えてなるシリコーン
ワニス(請求項1)、水または水と脂肪族一価アルコー
ルを除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)がグリコ
ールエーテルを含む溶剤である請求項1記載のシリコー
ンワニス(請求項2)、金属を含まずかつ、塩素原子お
よびリン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa
値が0.8〜6である有機酸(3)が、リン酸、塩酸、
シュウ酸、酢酸またはギ酸である請求項1または2記載
のシリコーンワニス(請求項3)、金属原子を含む縮合
触媒(C)が、有機酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸コバ
ルト塩、有機酸亜鉛塩、有機酸マンガン塩、有機酸鉄塩
または炭素数1〜4のアルコキシ基もしくは炭素数1〜
4のアルコキシ基およびアセトキシ基を含むモノチタン
化合物であり、有機酸がヘプタン酸、オクタン酸、ノナ
ン酸またはナフテン酸である請求項1、2または3記載
のシリコーンワニス(請求項4)、請求項1、2、3ま
たは4記載のシリコーンワニスを補強布、不織布または
フィラメントに含浸させて、タックがない状態まで乾燥
させたシリコーンワニス含浸プリプレグ(請求項5)、
請求項5記載のシリコーンワニス含浸プリプレグを複数
枚重ねて熱硬化させてえられた複合材料(請求項6)、
請求項5記載のシリコーンワニス含浸プリプレグを基材
にかぶせてまたは巻き付けて熱硬化させてなる複合材料
(請求項7)、請求項6記載の複合材料の両面または片
面に金属層を設けたプリント基板用積層板(請求項
8)、請求項8記載のプリント基板用積層板を用いて作
製された片面または両面に回路が形成されたプリント基
板を2〜15枚重ね、層間に請求項5記載のシリコーン
ワニス含浸プリプレグを挟み込み熱プレス成形すること
によりえられた多層構造を有するプリント基板(請求項
9)、請求項1、2、3または4記載のシリコーンワニ
スと無機の粉体、粒子またはウィスカーとの混合物を加
熱して脱溶媒してえられたフィルム状物または固体を粉
砕したものを成形してなる複合成形体(請求項10)、
請求項1、2、3または4記載のシリコーンワニス硬化
物を層間絶縁膜として用いた電子回路モジュール用ビル
ドアップ多層基板(請求項11)、 (A)(1)フェニル基および炭素数1〜3のアルキル
基のうちの1種または2種を有し、炭素数1〜4のアル
コキシ基を有するジアルコキシシラン、(2)炭素数1
〜4のアルコキシ基を有するフェニルトリアルコキシシ
ランまたはメチルトリアルコキシシラン、(3)金属を
含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少くとも1種を
含む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有機酸、
および(4)水または水と脂肪族一価アルコールを除く
水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合物を加熱下、脱水
縮合してえられた25℃での固有粘度が0.1〜10c
3/gのシリコーンオリゴマーをえたのち、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒を加えることを特徴とす
るシリコーンワニスの製法(請求項12)、水または水
と脂肪族一価アルコールを除く水溶性有機溶剤とからな
る溶剤(4)がグリコールエーテル系溶剤である請求項
12記載のシリコーンワニスの製法(請求項13)、金
属を含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少くとも1
種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有機
酸(3)が、リン酸、塩酸、シュ酸、酢酸またはギ酸で
ある請求項12または13記載のシリコーンワニスの製
法(請求項14)、金属原子を含む縮合触媒(C)が、
有機酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸コバルト塩、有機酸
亜鉛塩、有機酸マンガン塩、有機酸鉄塩または炭素数1
〜4のアルコキシ基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ
基およびアセトキシ基を含むモノチタン化合物であり、
有機酸がヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸またはナフ
テン酸である請求項12、13または14記載のシリコ
ーンワニスの製法(請求項15)、ならびに請求項1、
2、3または4記載のシリコーンワニスと無機の粉体、
粒子またはウィスカーとの混合物を加熱して脱溶媒して
えられたフィルム状物または固体を粉砕したものを熱プ
レスによりまたは成形機で成形することを特徴とする複
合成形体の製法(請求項16)に関する。
The present invention has been made based on the above findings, and has (A) (1) a phenyl group and one or two kinds of alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and Dialkoxysilane having 1 to 4 alkoxy groups, (2) carbon number 1
Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group of ~ 4, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0.8 to 6 Some organic acids,
And (4) the intrinsic viscosity at 25 ° C. obtained by dehydration condensation of water or a mixture of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol under heating is 0.1 to 10 c.
m 3 / g of a silicone oligomer, (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same, and (C) a silicone varnish comprising a condensation catalyst containing a metal atom (claim 1), water or water and an aliphatic The silicone varnish according to claim 1, wherein the solvent (4) consisting of a water-soluble organic solvent excluding the monohydric alcohol is a glycol ether-containing solvent (claim 2), containing no metal and having a small amount of chlorine atoms and phosphorus atoms. Inorganic acid or PKa containing both
The organic acid (3) having a value of 0.8 to 6 is phosphoric acid, hydrochloric acid,
Oxalic acid, acetic acid or formic acid, The silicone varnish according to claim 1 or 2 (claim 3), the condensation catalyst (C) containing a metal atom is an organic acid tin salt, an organic acid lead salt, an organic acid cobalt salt, an organic acid. Acid zinc salt, organic acid manganese salt, organic acid iron salt, or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or 1 to 1 carbon atom
4. The silicone varnish according to claim 1, 2 or 3, which is a monotitanium compound containing an alkoxy group and an acetoxy group of 4, and the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid or naphthenic acid (claim 4). A silicone varnish-impregnated prepreg obtained by impregnating a reinforcing cloth, a non-woven fabric or a filament with the silicone varnish according to 1, 2, 3 or 4 and drying it until tack-free (claim 5),
A composite material obtained by stacking a plurality of silicone varnish-impregnated prepregs according to claim 5 and thermosetting them (claim 6),
A composite material obtained by covering or winding a silicone varnish-impregnated prepreg according to claim 5 on a base material and thermally curing the same (claim 7), and a printed board having a metal layer provided on both or one side of the composite material according to claim 6. A laminated board for use (claim 8), 2 to 15 printed boards having a circuit formed on one side or both sides produced using the laminated board for a printed board according to claim 8, and an interlayer according to claim 5. A printed board having a multilayer structure obtained by sandwiching a silicone varnish impregnated prepreg and performing hot press molding (claim 9), the silicone varnish according to claim 1, 2, 3 or 4, and an inorganic powder, particles or whiskers. A composite molded article obtained by molding a film-like material obtained by heating and desolvating the mixture, or crushing a solid (claim 10),
A build-up multilayer substrate for an electronic circuit module using the cured product of the silicone varnish according to any one of claims 1, 2, 3 or 4 (claim 11), (A) (1) a phenyl group and 1 to 3 carbon atoms. A dialkoxysilane having one or two of the above alkyl groups and having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (2) having 1 carbon atom
Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group of ~ 4, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0.8 to 6 Some organic acids,
And (4) the intrinsic viscosity at 25 ° C. obtained by dehydration condensation of water or a mixture of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol under heating is 0.1 to 10 c.
A method for producing a silicone varnish, which comprises adding (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same and (C) a condensation catalyst containing a metal atom after obtaining m 3 / g of a silicone oligomer (claim 12). ), Water or a solvent (4) comprising water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is a glycol ether solvent (claim 13), a method for producing a silicone varnish (claim 13), containing no metal And at least 1 of chlorine and phosphorus atoms
The method for producing a silicone varnish according to claim 12 or 13, wherein the inorganic acid containing a seed or the organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6 is phosphoric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, acetic acid or formic acid. 14), the condensation catalyst (C) containing a metal atom is
Organic acid tin salt, organic acid lead salt, organic acid cobalt salt, organic acid zinc salt, organic acid manganese salt, organic acid iron salt or carbon number 1
A monotitanium compound containing an alkoxy group having 4 to 4 or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an acetoxy group,
The method for producing a silicone varnish according to claim 12, 13 or 14 (claim 15), and claim 1, wherein the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid or naphthenic acid.
Silicone varnish according to 2, 3 or 4 and an inorganic powder,
A method for producing a composite molded article, which comprises heating a mixture of particles or whiskers to remove the solvent and crushing the obtained film-like material or a solid, and molding the mixture by a hot press or a molding machine (claim 16). ) Concerning.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のシリコーンワニスに含ま
れるシリコーンオリゴマー(A)は、(1)フェニル基
および炭素数1〜3のアルキル基(具体的にはメチル
基、エチル基、エチル基、プロピル基)のうちの1種ま
たは2種を有し、炭素数1〜4のアルコキシ基(具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基)を有するジアルコキシシラン、(2)炭素数1〜4
のアルコキシ基(具体的にはメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基)を有するフェニルトリアル
コキシシランまたはメチルトリアルコキシシラン、
(3)金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少
くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜6で
ある有機酸、および(4)水または水と脂肪族一価アル
コールを除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合物を
加熱下、脱水縮合してえられた25℃での固有粘度が
0.1〜10cm3/gのシリコーンオリゴマーであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The silicone oligomer (A) contained in the silicone varnish of the present invention comprises (1) a phenyl group and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (specifically, a methyl group, an ethyl group, an ethyl group, Propyl group) and one or two of them, and a dialkoxysilane having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (specifically, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group), (2) carbon Number 1-4
Alkoxy group (specifically, methoxy group, ethoxy group,
Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having a propoxy group, butoxy group),
(3) an inorganic acid containing no metal and at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or an organic acid having a PKa value of 0.8 to 6, and (4) water or water and an aliphatic monohydric alcohol Is a silicone oligomer having an intrinsic viscosity of 0.1 to 10 cm 3 / g at 25 ° C., which is obtained by dehydration condensation of a mixture of a solvent consisting of a water-soluble organic solvent except the above.

【0013】前記フェニル基および炭素数1〜3のアル
キル基のうちの1種または2種を有し、炭素数1〜4の
アルコキシ基を有するジアルコキシシラン(1)は、前
記炭素数1〜4のアルコキシ基を有するフェニルトリア
ルコキシシランまたはメチルトリアルコキシシラン(以
下、フェニルまたはメチルトリアルコキシシランともい
う)(2)とともに反応し、シリコーンオリゴマーを形
成する成分であり、シリコーンオリゴマー中にジアルコ
キシシラン(1)に由来する単位が存在するため、硬化
物に可撓性が付与され、機械的強度が増加する、また、
シリコーンオリゴマー中にフェニルまたはメチルトリア
ルコキシシラン(2)に由来する単位が存在するため、
耐熱性が向上し、硬化物は枝分れ構造をとるため乾燥後
は室温で固体となる。また系中に4官能アルコキシシラ
ンを含むばあいと異なり、急激にゲル化することがない
ので縮重合反応の制御が容易となる。
The dialkoxysilane (1) having one or two kinds of the phenyl group and the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and having the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms has 1 to 2 carbon atoms. It is a component that reacts with phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane (hereinafter, also referred to as phenyl or methyltrialkoxysilane) having an alkoxy group of 4 (2) to form a silicone oligomer, and a dialkoxysilane is contained in the silicone oligomer. Since the unit derived from (1) is present, flexibility is imparted to the cured product and mechanical strength is increased.
Since a unit derived from phenyl or methyltrialkoxysilane (2) is present in the silicone oligomer,
Since the heat resistance is improved and the cured product has a branched structure, it becomes solid at room temperature after drying. Further, unlike the case where the system contains a tetrafunctional alkoxysilane, gelation does not occur rapidly, so that the polycondensation reaction can be easily controlled.

【0014】ジアルコキシシラン(1)の具体例として
は、ジメチルジアルコキシシラン、フェニルメチルジア
ルコキシシラン、メチルn−プロピルジアルコキシシラ
ン、エチルメチルジアルコキシシラン、エチルフェニル
ジアルコキシシランなどがあげられる。前記アルコキシ
基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が
好ましい。加水分解性の強さは、この順である。これら
のジアルコキシシランは単独で用いてもよく、2種以上
併用してもよい。これらのうちでは、ジメチルジアルコ
キシシラン、フェニルメチルジアルコキシシランが耐熱
性がよくなる点から好ましく、メチルn−プロピルアル
コキシシラン、エチルメチルジアルコキシシランが可撓
性がよくなる点から好ましい。
Specific examples of dialkoxysilane (1) include dimethyldialkoxysilane, phenylmethyldialkoxysilane, methyl n-propyldialkoxysilane, ethylmethyldialkoxysilane and ethylphenyldialkoxysilane. The alkoxy group is preferably a methoxy group, an ethoxy group or a propoxy group. The hydrolyzable strength is in this order. These dialkoxysilanes may be used alone or in combination of two or more. Of these, dimethyldialkoxysilane and phenylmethyldialkoxysilane are preferable from the viewpoint of improving heat resistance, and methyl n-propylalkoxysilane and ethylmethyldialkoxysilane are preferable from the viewpoint of improving flexibility.

【0015】また、フェニルまたはメチルトリアルコキ
シシラン(2)の具体例としては、フェニルトリメトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシランなどがあげら
れる。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用して
もよい。これらのうちでは、フェニルトリメトキシシラ
ンおよびメチルトリメトキシシランが加水分解速度が速
く、硬化物の耐熱性向上に効果的である点から好まし
い。
Specific examples of phenyl or methyltrialkoxysilane (2) include phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, phenyltrimethoxysilane and methyltrimethoxysilane are preferable because they have a high hydrolysis rate and are effective in improving the heat resistance of the cured product.

【0016】前記金属を含まずかつ、塩素原子およびリ
ン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が
0.8〜6である有機酸(3)は、ジアルコキシシラン
(1)およびフェニルまたはメチルトリアルコキシシラ
ン(2)の加水分解(アルコキシ基の加水分解)を促進
し、シラノール基を形成するために使用される触媒であ
る。金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少な
くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜6で
ある有機酸(3)はネットワークを形成しにくいため反
応条件が適当、たとえば100℃、14時間または15
0℃、6時間のごとき条件であれば、ほとんどゲル化さ
せることなくアルコキシシランを縮重合させることがで
きる。
The inorganic acid containing no metal and containing at least one of chlorine and phosphorus atoms or the organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6 is dialkoxysilane (1) and phenyl. Alternatively, it is a catalyst used for promoting the hydrolysis of the methyltrialkoxysilane (2) (hydrolysis of an alkoxy group) to form a silanol group. An inorganic acid containing no metal and at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6 is difficult to form a network, so that the reaction condition is suitable, for example, 100 ° C. , 14 hours or 15
If the conditions are 0 ° C. and 6 hours, the alkoxysilane can be polycondensed with almost no gelation.

【0017】なお、PKa値が0.8未満の酸は加水分
解促進効果が低いので、アルコキシシランの加水分解速
度が遅く、実用的ではない。また、PKa値が6.0を
こえる有機酸は、加水分解速度促進には効果があるもの
のシラノール基の重縮合促進能力も大きいため、ワニス
製造工程ですぐに、ゲル化がおこってしまい、分子量
(固有粘度)を増加させることができない。なぜ塩素原
子およびリン原子の少なくとも1種を含む無機酸がよい
のかは不明であるが、実験結果としてはそのような結果
がえらている。
An acid having a PKa value of less than 0.8 has a low effect of promoting hydrolysis, so that the rate of hydrolysis of alkoxysilane is slow and is not practical. In addition, an organic acid having a PKa value of more than 6.0 is effective in accelerating the hydrolysis rate, but has a large ability to accelerate the polycondensation of silanol groups, so that gelation occurs immediately in the varnish manufacturing process, and the molecular weight is increased. (Intrinsic viscosity) cannot be increased. It is unclear why an inorganic acid containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom is preferable, but such a result is obtained as an experimental result.

【0018】金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原
子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8
〜6である有機酸(3)の具体例としては、リン酸、塩
酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸などがあげられる。これらは
単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。これら
のなかでは、リン酸、シュウ酸、酢酸がゲル化防止の点
から好ましい。
An inorganic acid containing no metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0.8.
Specific examples of the organic acid (3) which is ˜6 include phosphoric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, acetic acid, formic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, phosphoric acid, oxalic acid, and acetic acid are preferable from the viewpoint of preventing gelation.

【0019】加水分解触媒としては、ほかに、たとえば
硫酸、スルホン酸、硝酸などがあげられるが、これらの
ものは加水分解力が強いが、縮重合反応の促進力が過度
に強すぎるために、縮重合反応を制御しにくく、そのた
めに反応容器中でゲル化しやすいので用いることができ
ない。本発明に好適に用いられる塩酸も前述のゲル化し
やすいという傾向はあるが、低温(100℃程度以下)
で縮重合反応させることにより、ゲル化を回避すること
ができる。
Other examples of the hydrolysis catalyst include sulfuric acid, sulfonic acid, nitric acid and the like. These have a strong hydrolyzing power, but the accelerating power of the polycondensation reaction is too strong. It is difficult to control the polycondensation reaction, and as a result, it easily gels in the reaction vessel and cannot be used. Hydrochloric acid preferably used in the present invention also tends to be gelated as described above, but at low temperature (about 100 ° C or lower)
By causing the polycondensation reaction to occur, gelation can be avoided.

【0020】前記水または水と脂肪族一価アルコールを
除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)は、ジアルコ
キシシラン(1)およびフェニルまたはメチルトリアル
コキシシラン(2)を金属を含まずかつ、塩素原子およ
びリン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値
が0.8〜6である有機酸(3)で加水分解してシリコ
ーンオリゴマーを形成する際に使用される溶剤であり、
これらの成分を溶解するのが好ましく、また、ジアルコ
キシシラン(1)およびフェニルまたはメチルトリアル
コキシシラン(2)が加水分解したもの、さらにはこれ
らが縮重合したものが溶解するものであるのが好まし
い。このような水または水と脂肪族一価アルコールを除
く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)を使用するばあ
いには、溶剤に含有されるOH基が縮重合を阻害するこ
となく、さらに加水分解後のアルコキシシランおよび縮
重合後のオリゴマーを溶解するため均一系で縮重合が進
み、その結果、均一な目的生成物がえられる。
The solvent (4) consisting of water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is dialkoxysilane (1) and phenyl or methyltrialkoxysilane (2) containing no metal and A solvent used when forming a silicone oligomer by hydrolysis with an inorganic acid containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6,
It is preferable to dissolve these components, and it is preferable that the dialkoxysilane (1) and the phenyl or methyltrialkoxysilane (2) are hydrolyzed, and that those obtained by polycondensation of these are dissolved. preferable. When such a solvent (4) comprising water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is used, the OH group contained in the solvent does not inhibit polycondensation, and Since the alkoxysilane after hydrolysis and the oligomer after condensation polymerization are dissolved, condensation polymerization proceeds in a homogeneous system, and as a result, a uniform target product is obtained.

【0021】これら縮重合反応において、前記脂肪族一
価アルコールは塩基性を示し、シラノール基のSi基に
対して求核攻撃しやすいのでシラノール基同士の縮重合
を妨げる。一方、二価以上のアルコールは双方向に原子
が吸引されるため塩基性を示しにくく、シラノール基の
縮重合を殆ど妨げないため、縮重合溶剤として適当であ
る。
In these polycondensation reactions, the aliphatic monohydric alcohol exhibits basicity and easily nucleophilically attacks the Si group of the silanol group, so that the polycondensation of silanol groups is prevented. On the other hand, a dihydric or higher alcohol is suitable as a polycondensation solvent because it is difficult to exhibit basicity because atoms are attracted in both directions and hardly interferes with polycondensation of silanol groups.

【0022】前記脂肪族一価アルコールを除く水溶性有
機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、エチレングリコールイソプロピルエーテル、
ブチルセロソルブ、カルビトール、ブチルカルビトー
ル、ジエチレングリコールアセテート、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベ
ンジルエーテル、メトキシメトキシエタノール、プロピ
レングリコールモノメチルエーエル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノアセ
テートなどのグリコールエーテル系溶剤、エチレングリ
コール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコールなどのグリコール系溶
剤、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドなどの含チッ素系溶剤、ジメチルス
ルフォキシドなどがあげられる。これらを使用するばあ
い、単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。こ
れらのうちではグリコールエーテル系溶剤が加水分解し
たアルコキシシランおよびその縮合体に対する溶解性が
よいという点から好ましい。
Specific examples of the water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethylene glycol isopropyl ether,
Butyl cellosolve, carbitol, butyl carbitol, diethylene glycol acetate, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, methoxymethoxyethanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, glycol ether solvents such as ethylene glycol monoacetate, Examples thereof include glycol solvents such as ethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol and dipropylene glycol, nitrogen-containing solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide. When these are used, they may be used alone or in combination of two or more. Of these, glycol ether solvents are preferred because of their good solubility in hydrolyzed alkoxysilanes and their condensates.

【0023】前記水または水と脂肪族一価アルコールを
除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)における脂肪
族一価アルコールを除く水溶性有機溶剤のかわりに、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−
プロパノールなどの脂肪族一価アルコールを使用するば
あい、シラノール基と結合または溶媒和して縮重合を阻
害しやすいため、縮重合反応の制御が行ないにくく、あ
との縮重合工程では系外に流出させなければならないの
で、脂肪族一価アルコール以外の有機溶剤を用いる方が
好ましい。なお、縮重合工程では、ジアルコキシシラン
(1)およびフェニルまたはメチルトリアルコキシシラ
ン(2)の加水分解によって生成する脂肪族一価アルコ
ールを系外に流出させるのが好ましい。
Instead of the water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol in the solvent (4) consisting of water or water and the water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n −
When an aliphatic monohydric alcohol such as propanol is used, it is difficult to control the polycondensation reaction because it easily binds or solvates with the silanol group to inhibit polycondensation, and it flows out of the system in the subsequent polycondensation process. Therefore, it is preferable to use an organic solvent other than the aliphatic monohydric alcohol. In the condensation polymerization step, it is preferable that the aliphatic monohydric alcohol produced by the hydrolysis of dialkoxysilane (1) and phenyl or methyltrialkoxysilane (2) is allowed to flow out of the system.

【0024】なお、水と脂肪族一価アルコールを除く水
溶性有機溶剤とからなる溶剤を使用するばあい、水の割
合が系中に含まれるアルコキシシランのアルコキシ基に
対して、0.5〜3.0当量であるのが反応速度が速
く、系の均一性を保持する点から好ましい。水の割合が
前記の範囲より多いと、系中で層分離する傾向がある。
When a solvent consisting of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is used, the proportion of water is 0.5 to 0.5 with respect to the alkoxy group of the alkoxysilane contained in the system. The amount of 3.0 equivalents is preferable from the viewpoint that the reaction rate is high and the homogeneity of the system is maintained. If the proportion of water is higher than the above range, layers tend to separate in the system.

【0025】前記ジアルコキシシラン(1)〜水または
水と脂肪族一価アルコールを除く水溶性有機溶剤とから
なる溶剤(4)からシリコーンオリゴマー溶液を製造す
る際の各成分の使用割合としては、ジアルコキシシラン
(1)100部(重量部、以下同様)に対してフェニル
またはメチルトリアルコキシシラン(2)150〜50
00部、さらには165〜1650部が硬化物の機械的
強度および耐熱性が向上する点から好ましく、これらの
合計量100部に対して金属を含まずかつ、塩素原子お
よびリン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa
値が0.8〜6である有機酸(3)0.1〜10.0
部、さらには0.2〜2.0部が縮重合反応制御の容易
さから好ましい。そして、前記のごとき(1)〜(2)
の成分に含まれるアルコキシ基の量に対し0.5〜3.
0当量になるように水を添加するのが反応速度が速く、
系の均一性を保持する点から好ましい。また脂肪族一価
アルコールを除く水溶性有機溶剤の添加は必ずしも必要
ではないが、縮重合反応を遅くしたり、高分子量の物を
えたく、希釈による低粘度化が必要なばあいには添加す
る方が好ましい。たとえば固有粘度3cm3/g(25
℃)のオリゴマーをえるばあい、成分初期濃度が25〜
60%になるように希釈するのが好ましい。
When the silicone oligomer solution is produced from the above-mentioned dialkoxysilane (1) to water or a solvent (4) consisting of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol, the proportion of each component used is as follows: Phenyl or methyl trialkoxysilane (2) 150 to 50 per 100 parts of dialkoxysilane (1) (parts by weight, the same applies hereinafter)
00 parts, and more preferably 165 to 1650 parts are preferable from the viewpoint of improving the mechanical strength and heat resistance of the cured product. Based on 100 parts by total of these, no metal is contained and at least 1 atom of chlorine atom and phosphorus atom is contained. Species-containing inorganic acid or PKa
Organic acid having a value of 0.8 to 6 (3) 0.1 to 10.0
Parts, more preferably 0.2 to 2.0 parts are preferable from the viewpoint of easy control of the condensation polymerization reaction. Then, as described above (1) to (2)
0.5-3. With respect to the amount of the alkoxy groups contained in the component.
The reaction rate is faster when water is added so that the amount becomes 0 equivalent.
It is preferable from the viewpoint of maintaining the uniformity of the system. It is not always necessary to add a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol, but if it is necessary to slow the polycondensation reaction, obtain a high molecular weight product, or lower the viscosity by dilution, add it. Is preferred. For example, the intrinsic viscosity is 3 cm 3 / g (25
When the oligomer of (℃) is obtained, the initial concentration of the component is 25 ~
It is preferable to dilute it to 60%.

【0026】本発明に使用するシリコーンオリゴマー
(A)は、前記(1)〜(4)の成分からなる混合物を
加熱下、脱水縮合してえられる25℃での固有粘度が
0.1〜10cm3/g、さらには0.5〜7cm3
g、E型回転粘度計を用いて固形分50%(重量%、以
下同様)としてトルエン/イソプロパノール=1/1
(重量基準)を溶媒として25℃で測定してえられる粘
度としては、5〜5000mPa・s、さらには10〜
2000mPa・sであるのが好ましい。
The silicone oligomer (A) used in the present invention has an intrinsic viscosity of 0.1 to 10 cm at 25 ° C. obtained by dehydration condensation of a mixture of the above components (1) to (4) under heating. 3 / g, and further 0.5 to 7 cm 3 /
g, toluene / isopropanol = 1/1 as solid content of 50% (% by weight, the same applies hereinafter) using an E type rotational viscometer
The viscosity obtained by measuring (by weight) as a solvent at 25 ° C. is 5 to 5000 mPa · s, and further 10
It is preferably 2000 mPa · s.

【0027】また、シリコーンオリゴマーを溶液として
用いるばあい、前記シリコーンオリゴマーを10%以
上、さらには30%以上の濃度になるように含有する溶
液であるのが好ましい。なお溶剤は添加する脂肪族一価
アルコールと相溶し、かつえられたオリゴマーを溶解す
るものではなくてはらない。
When the silicone oligomer is used as a solution, it is preferably a solution containing the silicone oligomer in a concentration of 10% or more, further 30% or more. The solvent must be compatible with the added aliphatic monohydric alcohol and should dissolve the obtained oligomer.

【0028】前記加熱下、脱水縮合する際の条件につい
ては、後述するシリコーンワニスの製法において説明す
る。
The conditions for dehydration condensation under heating will be described in the method for producing a silicone varnish described later.

【0029】前記固有粘度は、25℃恒温層中ユベロー
デ粘度計を用い、トルエン/イソプロパノール=1/1
(重量基準)の稀薄溶液を用いて測定した値であり、前
記固有粘度が前記範囲内のばあいには乾燥したときに固
体(タックフリー)となりかつ、加熱により溶融または
軟化し成形可能となるが、前記範囲をはずれると、乾燥
しても液体のままであったり、高温でも溶融も軟化せず
成形不可能となる。
The intrinsic viscosity was measured by using a Uberode viscometer in a constant temperature layer at 25 ° C., toluene / isopropanol = 1/1.
It is a value measured using a dilute solution (based on weight). When the intrinsic viscosity is within the range, it becomes solid (tack free) when dried, and can be melted or softened by heating to be molded. However, if it deviates from the above range, it remains liquid even when dried, or melts even at high temperature, does not soften, and cannot be molded.

【0030】本発明のシリコーンワニスには、前記シリ
コーンオリゴマー溶液(A)とともに、脂肪族一価アル
コールまたはそれを含む混合溶剤(B)および金属原子
を含む縮合触媒(C)が含まれる。
The silicone varnish of the present invention contains the above-mentioned silicone oligomer solution (A), an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent (B) containing the same, and a condensation catalyst (C) containing a metal atom.

【0031】脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混
合溶剤(B)は、えられたシリコーンオリゴマー溶液
(A)に添加することにより、シリコーンオリゴマー溶
液(A)を含むシリコーンワニスの保存安定性を改善す
るための成分である。
The aliphatic monohydric alcohol or the mixed solvent (B) containing the same is added to the obtained silicone oligomer solution (A) to improve the storage stability of the silicone varnish containing the silicone oligomer solution (A). It is an ingredient for doing.

【0032】脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混
合溶剤(B)を添加することによりシリコーンオリゴマ
ー溶液(A)を含むシリコーンワニスの保存安定性が改
善される理由は、明確に判明しているわけではないが、
縮重合後のシリコーンオリゴマーに残存しているシラノ
ール基がキャップまたは溶媒和されるなどするためであ
ろうと推察される。
The reason why the storage stability of the silicone varnish containing the silicone oligomer solution (A) is improved by adding the aliphatic monohydric alcohol or the mixed solvent (B) containing the same is clearly understood. But not
It is speculated that this may be because the silanol groups remaining in the silicone oligomer after polycondensation are capped or solvated.

【0033】脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混
合溶剤(B)における脂肪族一価アルコールの具体例と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ノルマルプロパノール、イソブタノール、ターシャリー
ブタノール、ノルマルブタノールなどがあげられる。こ
れらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。
これらのうちでは、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、ノルマルプロパノールが保存安定性、縮重合
触媒の溶解性の点から好ましい。
Specific examples of the aliphatic monohydric alcohol or the aliphatic monohydric alcohol in the mixed solvent (B) containing the same include methanol, ethanol, isopropanol,
Examples include normal propanol, isobutanol, tertiary butanol, and normal butanol. These may be used alone or in combination of two or more.
Of these, methanol, ethanol, isopropanol, and normal propanol are preferable from the viewpoint of storage stability and solubility of the condensation polymerization catalyst.

【0034】前記金属原子を含む縮合触媒(C)は、本
発明のシリコーンワニスが使用され、溶剤が揮発したの
ち加熱されることによってシリコーンオリゴマーのネッ
トワーク形成がすみやかにすすみ、ゲル化して、強靭な
硬化物が短時間でえられるようにするための成分であ
る。
The condensation catalyst (C) containing a metal atom contains the silicone varnish of the present invention, and when the solvent is volatilized and heated, the formation of the network of the silicone oligomer immediately progresses, gels, and is tough. It is a component that allows a cured product to be obtained in a short time.

【0035】金属原子を含む縮合触媒(C)の具体例と
しては、ナフテン酸、オクテン酸、ヘプタン酸、ノナン
酸などのスズ、鉛、亜鉛、コバルト、マンガン、鉄の各
種塩、炭素数1〜4のアルコキシ基(具体的にはメトキ
シ、エトキシ、イソプロポキシ、ノルマルプロポキシ、
ノルマルブトキシ、イソブトキシなどがあげられる)ま
たは前記と同じ炭素数1〜4のアルコキシおよびアセト
キシを含むモノチタン化合物などがあげられる。その具
体例としては、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸スズ、ナフ
テン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸鉛、ナフテ
ン酸マンガン、オクテン酸亜鉛、オクテン酸コバルト、
オクテン酸鉛、オクテン酸スズ、ヘプタン酸亜鉛、ヘプ
タン酸コバルト、ヘプタン酸鉛、ノナン酸亜鉛、ノナン
酸鉛、ノナン酸スズ、ノナン酸コバルト、テトラメトキ
シチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキ
シチタン、テトラノルマルプロポキシチタン、テトラノ
ルマルブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、ジ
ノルマルプロポキシジアセトキシチタン、ジイソプロポ
キシジアセトキシチタン、ジエオキシジアセトキシチタ
ン、ジメトキシジアセトキシチタンなどがあげられる。
これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよ
い。これらのうちでは、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ス
ズ、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸
鉛、ナフテン酸マンガン、オクテン酸亜鉛、オクテン酸
コバルト、オクテン酸鉛、オクテン酸スズ、テトラメト
キシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポ
キシチタン、テトラノルマルプロポキシチタン、テトラ
ノルマルブトキシチタンがシラノール縮重合に対する触
媒効果が大きい点から好ましい。
Specific examples of the condensation catalyst (C) containing a metal atom include various salts of tin, lead, zinc, cobalt, manganese, iron such as naphthenic acid, octenoic acid, heptanoic acid, nonanoic acid, and the like. 4 alkoxy groups (specifically methoxy, ethoxy, isopropoxy, normal propoxy,
Normal butoxy, isobutoxy and the like) or monotitanium compounds including the same alkoxy having 1 to 4 carbon atoms and acetoxy as mentioned above and the like. Specific examples thereof include zinc naphthenate, tin naphthenate, iron naphthenate, cobalt naphthenate, lead naphthenate, manganese naphthenate, zinc octenoate, cobalt octenoate,
Lead octenoate, tin octenoate, zinc heptanoate, cobalt heptanoate, lead heptanoate, zinc nonanoate, lead nonanoate, tin nonanoate, cobalt nonanoate, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra Examples thereof include normal propoxy titanium, tetranormal butoxy titanium, tetraisobutoxy titanium, dinormal propoxydiacetoxy titanium, diisopropoxydiacetoxy titanium, dieoxydiacetoxy titanium, and dimethoxydiacetoxy titanium.
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, zinc naphthenate, tin naphthenate, iron naphthenate, cobalt naphthenate, lead naphthenate, manganese naphthenate, zinc octenoate, cobalt octenoate, lead octenoate, tin octenoate, tetramethoxytitanium, tetra Ethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetranormalpropoxytitanium, and tetranormalbutoxytitanium are preferred because of their large catalytic effect on silanol polycondensation.

【0036】本発明のシリコーンワニスにおけるシリコ
ーンオリゴマー(A)、脂肪族一価アルコールまたはそ
れを含む混合溶剤(B)および金属原子を含む縮合触媒
(C)の含有割合としては、シリコーンオリゴマー溶液
(A)100部(固形分)に対して脂肪族一価アルコー
ルまたはそれを含む溶剤(B)20〜500部、さらに
は25〜300部がオリゴマー溶液の保存安定性と乾燥
速度の点から好ましく、また固有粘度が高いオリゴマー
は脂肪族一価アルコールに溶解しにくくなるので混合溶
媒を用いるのが好ましい。また、金属原子を含む縮合触
媒(C)0.04〜1.6部、さらには0.08〜0.
8部が反応効率と硬化物の耐熱性の点から好ましい。
The content of the silicone oligomer (A), the aliphatic monohydric alcohol or the mixed solvent (B) containing the same and the condensation catalyst (C) containing a metal atom in the silicone varnish of the present invention is as follows. ) 20 to 500 parts, more preferably 25 to 300 parts, of an aliphatic monohydric alcohol or a solvent (B) containing the same per 100 parts (solid content) is preferable from the viewpoint of storage stability and drying rate of the oligomer solution, and It is preferable to use a mixed solvent because an oligomer having a high intrinsic viscosity becomes difficult to dissolve in an aliphatic monohydric alcohol. Further, 0.04 to 1.6 parts of the condensation catalyst (C) containing a metal atom, and further 0.08 to 0.
8 parts is preferable from the viewpoint of reaction efficiency and heat resistance of the cured product.

【0037】つぎに、本発明のシリコーンワニスの製法
について説明する。
Next, a method for producing the silicone varnish of the present invention will be described.

【0038】シリコーンオリゴマー溶液(A)の製法に
はとくに限定はないが、ジアルコキシシラン(1)およ
びフェニルまたはメチルトリアルコキシシラン(2)を
加水分解するばあいに発熱するため、液温が40℃以上
に昇温しないように、製造スケールに応じて添加速度の
制御、冷却装置の導入などするのが好ましい。
The method for producing the silicone oligomer solution (A) is not particularly limited, but heat is generated when the dialkoxysilane (1) and the phenyl or methyltrialkoxysilane (2) are hydrolyzed, so that the liquid temperature is 40. It is preferable to control the addition rate according to the production scale and to introduce a cooling device so that the temperature does not rise above 0 ° C.

【0039】各アルコキシシランは一括して加水分解し
て用いてもよく、別々の容器で予め加水分解して用いて
もよいが、別々の容器で予め加水分解して用いる方が、
加水分解反応速度の違いによる系の不均一化や不均一な
縮合が妨げられ、さらには加水分解の終点(発熱が終了
し、系が均一になった点)が明確にわかる点から好まし
い。一括したばあい、加水分解性の強い方が先に分解し
てしまい、加水分解性の弱い方の加水分解の際の反応熱
で加水分解性の強い成分だけが先に縮合してしまいやす
くなる。
The alkoxysilanes may be collectively hydrolyzed and used, or may be preliminarily hydrolyzed and used in separate containers, but it is preferable to preliminarily hydrolyze and use them in separate containers.
It is preferable in that the heterogeneity of the system and the heterogeneous condensation due to the difference in the hydrolysis reaction rate are prevented, and the end point of the hydrolysis (the point at which the heat generation ends and the system becomes uniform) can be clearly understood. When they are put together, the one with strong hydrolyzability will be decomposed first, and the one with strong hydrolyzability will tend to be condensed first due to the heat of reaction during hydrolysis of the one with weak hydrolyzability. .

【0040】アルコキシシランの加水分解は、水、金属
を含まずかつ、塩素原子およびリン酸原子の少なくとも
1種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有
機酸、使用されるばあいには脂肪族一価アルコールを除
く水溶性有機溶剤を混合した容器に発熱量に応じてアル
コキシシランを添加するのが温度上昇によるゲル化や環
状化を防止する点から好ましい(具体的には液温が20
〜40℃に維持されるようにする)。
Hydrolysis of the alkoxysilane is carried out by using an inorganic acid containing no water, no metal and containing at least one of chlorine atom and phosphoric acid atom, or an organic acid having a PKa value of 0.8 to 6. In the meantime, it is preferable to add an alkoxysilane in a container mixed with a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol according to the amount of heat generation, from the viewpoint of preventing gelation and cyclization due to temperature rise (specifically, Liquid temperature is 20
Try to maintain ~ 40 ° C).

【0041】前記脂肪族一価アルコールを除く水溶性有
機溶剤が使用されるばあいには、脂肪族一価アルコール
を除く水溶性有機溶剤は最初から全量加えておいてもよ
く、アルコキシシランの添加に応じて順次加えてもよい
が、最初から全量加えておく方が、初期の温度管理がや
りやすく、また、作業が簡単になるという点から好まし
い。
When the water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is used, the water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol may be added in the entire amount from the beginning, or the addition of the alkoxysilane. However, it is preferable to add the entire amount from the beginning because the initial temperature control is easier and the work is easier.

【0042】アルコキシシランを添加したのち液温が上
昇した時点で加水分解反応は開始しており、具体的には
液温が20〜40℃に維持されるようにするのが好まし
い。なお、加水分解にともなって生成するアルコール
は、縮重合時に系外に除去される。
The hydrolysis reaction is started when the liquid temperature rises after the alkoxysilane is added. Specifically, it is preferable to maintain the liquid temperature at 20 to 40 ° C. The alcohol produced by the hydrolysis is removed from the system during the condensation polymerization.

【0043】ジアルコキシシラン(1)とフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)との加水分解を別
々に行なったばあいには、加水分解した2種の溶液を所
定の割合で混合したのち、また、ジアルコキシシラン
(1)とフェニルまたはメチルトリアルコキシシラン
(2)との加水分解を一括して行なったばあいには、そ
のままつぎの縮重合工程にうつせばよい。
When the dialkoxysilane (1) and the phenyl or methyltrialkoxysilane (2) are hydrolyzed separately, the two hydrolyzed solutions are mixed at a predetermined ratio and then again. When the hydrolysis of the dialkoxysilane (1) and the phenyl or methyltrialkoxysilane (2) is carried out all at once, it may be directly transferred to the next condensation polymerization step.

【0044】縮重合工程ではアルコキシ基の分解によっ
て生成したアルコールを系外に流出させる方が好ましい
ので、反応容器に冷却管の先に液溜めを付けたものを取
り付け、アルコールを系外に流出させる。
In the polycondensation step, it is preferable that the alcohol produced by the decomposition of the alkoxy group is allowed to flow out of the system. Therefore, a reaction vessel having a liquid reservoir attached to the end of the cooling pipe is attached to allow the alcohol to flow out of the system. .

【0045】縮重合温度は60〜180℃、さらには9
0〜150℃が好ましい。縮重合温度が、60℃より低
いばあいには、縮重合に時間がかかるため実用的でな
く、180℃をこえるばあいにはゲル化し易くなり、分
子量の制御が困難になる。
The polycondensation temperature is 60 to 180 ° C., and further 9
0-150 degreeC is preferable. When the polycondensation temperature is lower than 60 ° C., it takes a long time to carry out the polycondensation, which is not practical. When the polycondensation temperature exceeds 180 ° C., gelation tends to occur, and control of the molecular weight becomes difficult.

【0046】縮重合反応温度は、系に含まれる揮発成分
の沸点に影響を受けるため、たとえばメトキシシランを
用いたばあいは、生成したメタノールが揮発するため反
応容器内の液温が80℃程度で一旦安定し、メタノール
が系外にでたのち、再び昇温が始まり、目標温度(たと
えば、150℃程度)まで上昇する。目標温度まで上昇
後は温調により精密に(たとえば155℃をこえない温
度に)制御するのが好ましい。なお、昇温速度は反応容
器の構造や、スケールにより左右される。
Since the polycondensation reaction temperature is affected by the boiling points of the volatile components contained in the system, when, for example, methoxysilane is used, the methanol produced is volatilized and the liquid temperature in the reaction vessel is about 80.degree. Once stabilized, the temperature of the methanol starts to rise outside the system, the temperature starts to rise again, and the temperature rises to the target temperature (for example, about 150 ° C.). After the temperature has risen to the target temperature, it is preferable to control the temperature precisely (for example, to a temperature not exceeding 155 ° C.). The temperature rising rate depends on the structure of the reaction vessel and the scale.

【0047】反応溶剤としてメチルセロソルブを用いた
ばあいは、生成したメタノールが揮発するため80℃付
近で一度温度が安定し、メタノールが系外に流出するに
つて除々に昇温し、150℃まであがる。
When methyl cellosolve is used as the reaction solvent, the produced methanol is volatilized so that the temperature stabilizes once at around 80 ° C., and the temperature rises gradually as the methanol flows out of the system to 150 ° C. Get nervous.

【0048】縮重合時間は、目的とするシリコーンオリ
ゴマーの重合度、反応量、温度、反応温度などによって
も異なる。
The polycondensation time varies depending on the degree of polymerization of the desired silicone oligomer, the reaction amount, the temperature, the reaction temperature and the like.

【0049】目的の重合度(または粘度)に達したら反
応を停止し、冷却すればよい。高重合度のものをえたい
ばあいには、生成物の粘度が高く作業性がよくないた
め、反応途中で水に対する溶解性の低い溶剤、たとえば
トルエンを加え、反応容器に抽出ディーン・スターク
(DEAN STARK)分液管を付けてトルエン層の
みを反応容器に還流させることにより、反応容器内の溶
液の固形分濃度の増加を防ぐことができる。
When the desired degree of polymerization (or viscosity) is reached, the reaction may be stopped and cooled. If you want to obtain a polymer with a high degree of polymerization, the viscosity of the product is high and the workability is not good, so add a solvent with low solubility in water, such as toluene, during the reaction and add it to the Dean Stark (DEAN Stark) reactor. By adding a (STARK) separating tube and refluxing only the toluene layer into the reaction vessel, it is possible to prevent an increase in the solid content concentration of the solution in the reaction vessel.

【0050】冷却後、脂肪族一価アルコールまたはそれ
を含む混合溶剤(B)を加える。
After cooling, the aliphatic monohydric alcohol or the mixed solvent (B) containing it is added.

【0051】加える脂肪族一価アルコールまたはそれを
含む混合溶剤(B)の量は、仕込みアルコキシ基の少く
とも1/4倍当量であるのが、溶液の保存安定性の点か
ら好ましく、さらには1/3倍当量以上であるのが好ま
しい。
The amount of the aliphatic monohydric alcohol or the mixed solvent (B) containing the same to be added is preferably at least 1/4 times the equivalent of the charged alkoxy groups from the viewpoint of the storage stability of the solution. It is preferably 1/3 times equivalent or more.

【0052】添加する溶剤はアルコール系溶剤のみであ
ってもなんら問題はないが、えられた縮重合物を溶解さ
せることができるものであるのが好ましいため、他の溶
剤と併用してもよい。
There is no problem if the solvent to be added is only an alcohol solvent, but it is preferable that the obtained polycondensation product can be dissolved. Therefore, it may be used in combination with another solvent. .

【0053】前記他の溶剤の具体例としては、たとえば
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ク
ロロホルム、シクロヘキサノン、カルビトール、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ニトロベンゼンなどがあげ
られる。これらの溶剤はかならずしも添加する必要がな
く、さらに添加するタイミングも縮合反応中でも、反応
終了後でもよい。ただし、反応途中に添加する場合は系
中のオリゴマーへの溶解性を確かめる必要がある。
Specific examples of the other solvent include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, cyclohexanone, carbitol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, cellosolve acetate, dimethylformamide, nitrobenzene, etc. Can be given. It is not always necessary to add these solvents, and the timing of addition may be during the condensation reaction or after the completion of the reaction. However, when it is added during the reaction, it is necessary to confirm the solubility in the oligomer in the system.

【0054】えられた溶剤を含むシリコーンオリゴマー
溶液にシラノール重縮合触媒である金属原子を含む縮合
触媒(B)が添加される。一般に金属原子を含む縮合触
媒(B)を加えると、シリコーンオリゴマー溶液の保存
安定性が著しく損われるが、本発明のシリコーンワニス
にはアルコール系溶剤が含まれているのでシラノール基
の重縮合が抑制され、シリコーンワニスを安定に保つこ
とができる。
The condensation catalyst (B) containing a metal atom, which is a silanol polycondensation catalyst, is added to the silicone oligomer solution containing the obtained solvent. Generally, when the condensation catalyst (B) containing a metal atom is added, the storage stability of the silicone oligomer solution is significantly impaired, but since the silicone varnish of the present invention contains an alcohol solvent, polycondensation of silanol groups is suppressed. Therefore, the silicone varnish can be kept stable.

【0055】このようにしてえられたシリコーンワニス
は密栓して45℃で半年保存しても粘度の上昇が見られ
ない安定なものである。
The thus obtained silicone varnish is a stable one which does not show an increase in viscosity even if it is sealed and stored at 45 ° C. for half a year.

【0056】前記のごとき本発明のシリコーンワニスの
製法の一実施態様として、つぎのものがあげられる。
One embodiment of the method for producing the silicone varnish of the present invention as described above is as follows.

【0057】メチルセルソルブ(以下、MCSともいう
こともある)0〜600部、リン酸10%水溶液1〜2
0部、水80〜490部をビーカーにとり、これを撹拌
しながらフェニルトリメトキシシラン(以下、PTrM
OSともいう)300部を少量ずつ加え、そのまま30
分間撹拌し、溶液(a)をえる。
Methyl cellosolve (hereinafter sometimes referred to as MCS) 0-600 parts, phosphoric acid 10% aqueous solution 1-2
0 part and 80 to 490 parts of water are placed in a beaker, and phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as PTrM
Also called OS) 300 parts little by little, 30
Stir for minutes to obtain solution (a).

【0058】これとは別にMCS 0〜300部、リン
酸10%水溶液1〜10部、水6〜165部をビーカー
にとり、これを撹拌しながジメチルジメトキシシラン
(以下、MCSということもある)18.2〜182部
を少量ずつ加え、そのまま20分間撹拌し、溶液(b)
をえる。
Separately, 0 to 300 parts of MCS, 1 to 10 parts of 10% phosphoric acid aqueous solution, and 6 to 165 parts of water were placed in a beaker and stirred, and dimethyldimethoxysilane (hereinafter sometimes referred to as MCS). 18.2-182 parts were added little by little, and the mixture was stirred as it was for 20 minutes to obtain solution (b).
Get

【0059】先に液溜め(たとえば、エルレンマイヤー
フラスコ、ビーカー、バケツなどのようなもの)が付い
た冷却管、温度計および撹拌羽根を備えた反応容器に、
前記の溶液(a)および(b)を入れ、反応容器を加熱
する。液溜めにメタノールを主成分とした液体が溜まり
だすと、反応容器内の溶液の温度が序々に上昇するの
で、120〜150℃を目安に反応容器内の溶液の温度
調節を行なう。
First, in a reaction vessel equipped with a cooling tube equipped with a liquid reservoir (for example, an Erlenmeyer flask, a beaker, a bucket, etc.), a thermometer and a stirring blade,
The above-mentioned solutions (a) and (b) are charged and the reaction vessel is heated. Since the temperature of the solution in the reaction container gradually rises when the liquid containing methanol as a main component starts to collect in the liquid reservoir, the temperature of the solution in the reaction container is adjusted to 120 to 150 ° C. as a guide.

【0060】反応容器内の溶液の温度が序々に上昇し、
80℃をこえた時点から、反応容器内の生成物をサンプ
リングしてE型回転粘度計で粘度測定を行なう。サンプ
リング間隔は30〜60分間程度であることが好まし
い。なお、この測定はトルエン/イソプロパノール=1
/1(重量基準)溶液で固形分40%に希釈したのち行
なう。ここで、回転粘度が120mPa・sに達したと
ころで反応容器を放冷し、内容物温度を使用する脂肪族
一価アルコールの沸点以下の温度に下げる。
The temperature of the solution in the reaction vessel gradually rises,
When the temperature exceeds 80 ° C., the product in the reaction vessel is sampled and the viscosity is measured by an E-type rotational viscometer. The sampling interval is preferably about 30 to 60 minutes. In addition, this measurement is toluene / isopropanol = 1.
It is performed after diluting to a solid content of 40% with a 1/1 (weight basis) solution. Here, when the rotational viscosity reaches 120 mPa · s, the reaction vessel is allowed to cool, and the temperature of the contents is lowered to a temperature below the boiling point of the aliphatic monohydric alcohol used.

【0061】ただし、最終目標粘度(回転粘度)が12
0mPa・s以下であれば、目標粘度に達し次第、反応
容器温度を使用する脂肪族一価アルコールの沸点以下の
温度に下げたのち、脂肪族一価アルコール20部以上を
投入し、反応を停止させる。
However, the final target viscosity (rotational viscosity) is 12
If it is 0 mPa · s or less, as soon as the target viscosity is reached, the temperature of the reaction vessel is lowered to a temperature below the boiling point of the aliphatic monohydric alcohol used, and then 20 parts or more of the aliphatic monohydric alcohol is added to stop the reaction. Let

【0062】一方、最終目標粘度(回転粘度)が120
mPa・sをこえるものであるばあいには、内容物の温
度を100℃まで下げたのち、トルエン、キシレンなど
沸点が100℃以上の非水溶性溶剤を20〜150部を
加え、反応容器より冷却管をはずし、ディーン・スター
ク分液管に付けかえる。そこで、再び加熱を行ない、系
内を還流させる。非水溶性溶剤と水とが蒸発するが、デ
ィーン・スターク管により、非水溶性溶剤のみが系内に
還流し、水は系外に除去される。反応容器中のシリコー
ン縮重合物の粘度(回転粘度)が目標点に達したところ
で、反応容器を放冷し、内容物温度を使用する脂肪族一
価アルコールの沸点以下の温度に下げる。
On the other hand, the final target viscosity (rotational viscosity) is 120.
If it exceeds mPa · s, after lowering the temperature of the contents to 100 ° C, add 20 to 150 parts of a water-insoluble solvent having a boiling point of 100 ° C or higher, such as toluene or xylene, from the reaction vessel. Remove the cooling tube and replace it with the Dean-Stark separator. Then, heating is performed again to reflux the system. The water-insoluble solvent and water are evaporated, but only the water-insoluble solvent is refluxed into the system by the Dean-Stark tube, and the water is removed to the outside of the system. When the viscosity (rotational viscosity) of the polycondensation product in the reaction vessel reaches the target point, the reaction vessel is allowed to cool and the temperature of the contents is lowered to a temperature below the boiling point of the aliphatic monohydric alcohol used.

【0063】生成物に関するさらに詳細な情報はNMR
(Si29)を用いてえることができる。たとえばフェニ
ルメチルメトキシシランとジメチルジメトキシシランと
を用いて合成した生成物に関しては、前記NMRにおい
て、(CH32(OH)Si−O−Siは−5〜−10
ppm(D1)に、(CH32Si(OSi)2は−15
〜−25ppm(D2)に、Ph−Si(OSi)(O
H)2は−55〜−65ppm(T1)に、PhSi(O
Si)2(OH)は−65〜75ppm(T2)に、Ph
Si(OSi)3は−75〜−85ppm(T3)に該当
する。前記NMRスペクトルより生成物の(D1+T1
2)と(D2+T3)との面積比は70:30〜10:
90であり、シラノール基の残存とシロキサン結合によ
る縮重合とが確認された。ただしこの面積比に定量性は
ないため残存シラノール基量を直接定量的に表わすもの
ではないので生成物同定はIRで確認するだけでも充分
である。
Further information on the product can be obtained by NMR
(Si 29 ) can be used. For example, for the product synthesized by using a phenylmethyl silane and dimethyl dimethoxy silane, in the NMR, (CH 3) 2 ( OH) Si-O-Si is -5 to -10
in ppm (D 1), (CH 3) is 2 Si (OSi) 2 -15
To ~-25ppm (D 2), Ph-Si (OSi) (O
H) 2 is −55 to −65 ppm (T 1 ), and PhSi (O
Si) 2 (OH) is -65 to 75 ppm (T 2 ), Ph
Si (OSi) 3 corresponds to -75~-85ppm (T 3). From the NMR spectrum, the product (D 1 + T 1 +
The area ratio of (T 2 ) to (D 2 + T 3 ) is 70:30 to 10 :.
90, and it was confirmed that the silanol group remained and the polycondensation due to the siloxane bond. However, since this area ratio is not quantitative, it does not directly quantitatively represent the amount of residual silanol groups, and it is sufficient to confirm the product identification by IR.

【0064】このようにして、所望の粘度に調節した内
容物を含む反応容器に、前記内容物100部に対して、
イソプロピルアルコール、エタノールまたはノルマルブ
タノールなどの脂肪族一価アルコールを20部以上加
え、系が均一になるまで充分に撹拌する。さらにナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸コバルト、オクテン酸鉛またはアル
コキシチタンなどの金属原子を含む重合触媒0.1〜2
部(前記内容物100部に対する部数)を10倍の重量
の脂肪族アルコール系溶剤に溶かしたのちに加え、充分
に撹拌することにより、好適なシリコーンワニスがえら
れる。
In this way, a reaction vessel containing the content adjusted to the desired viscosity was added to 100 parts of the content.
Add 20 parts or more of an aliphatic monohydric alcohol such as isopropyl alcohol, ethanol or normal butanol, and stir sufficiently until the system becomes uniform. Further, a polymerization catalyst containing a metal atom such as lead naphthenate, cobalt naphthenate, lead octenoate or alkoxytitanium 0.1 to 2
A suitable silicone varnish can be obtained by dissolving 10 parts by weight (100 parts by weight of the content) in an aliphatic alcohol solvent having a weight of 10 times, and then adding the resulting solution and stirring it sufficiently.

【0065】このようにしてえられたシリコーンワニス
の分子量は、固有粘度計で相対的に評価できる。えられ
たシリコーンワニスの固有粘度(25℃)は0.1〜1
0cm3/gまたは縮重合に伴うシラノール基の減少は
赤外線スペクトルの900cm-1付近のピーク面積の減
少で判断できる。ただし、硬化させるとシラノール器の
縮合によるシロキサン結合の増加によりシロキサン結合
のピークが広がり、シラノール吸収にかぶさってしまう
ので判断がつかなくなる。
The molecular weight of the silicone varnish thus obtained can be relatively evaluated by an intrinsic viscometer. The intrinsic viscosity (25 ° C) of the obtained silicone varnish is 0.1-1.
The decrease of 0 cm 3 / g or silanol groups due to polycondensation can be judged by the decrease of the peak area near 900 cm −1 in the infrared spectrum. However, when it is cured, the peak of the siloxane bond is widened due to the increase of the siloxane bond due to the condensation of the silanol unit, and the absorption of silanol is overwhelmed.

【0066】また、えられたワニスを乾燥、硬化させた
のちの耐熱性はTGA(熱分量分析)で評価することが
できる。たとえば大気中で5%重量減少する温度は30
0〜500℃である。
The heat resistance after drying and curing the obtained varnish can be evaluated by TGA (thermal content analysis). For example, the temperature at which 5% weight loss occurs in the atmosphere is 30
0-500 ° C.

【0067】本発明のシリコーンワニスは幅広い用途を
有しており、たとえばプリプレグ、プリプレグから製造
されるプリント基板用積層板やプリント基板、その他の
各種複合材料、複合成形体、電子回路モジュール用ビル
ドアップ多層基板などの製造に使用される。
The silicone varnish of the present invention has a wide range of uses. For example, a prepreg, a laminated board for a printed board manufactured from the prepreg, a printed board, various other composite materials, a composite molded article, and a build-up for an electronic circuit module. Used for manufacturing multi-layer substrates.

【0068】たとえば、本発明のシリコーンワニスをシ
リコーンワニス含浸プリプレグの製造に使用するばあ
い、シリコーンワニスを補強布、不織布またはフィラメ
ントに含浸させて、タックがない状態まで乾燥させるこ
とにより、シリコーンワニス含浸プリプレグを製造する
ことができる。
For example, when the silicone varnish of the present invention is used for the production of a silicone varnish-impregnated prepreg, the reinforcing cloth, the nonwoven fabric or the filament is impregnated with the silicone varnish and dried to a tack-free state to impregnate the silicone varnish. Prepregs can be manufactured.

【0069】前記補強布の具体例としては、ガラス繊
維、カーボン繊維、アラミド繊維などから製造された織
物(たとえばガラスクロス、カーボンクロス、アラミド
クロスなど)などであって、重量が150〜250g/
2程度のものがあげられる。
Specific examples of the reinforcing cloth are woven fabrics made of glass fiber, carbon fiber, aramid fiber and the like (for example, glass cloth, carbon cloth, aramid cloth, etc.) and have a weight of 150 to 250 g /
One of them is about m 2 .

【0070】また、前記不織布の具体例としては、アル
ミナ、シリコーンカーバイト、アラミド、PAN系炭素
繊維、レーヨン系炭素繊維などから製造されたアルミナ
シート、SiCFシート、炭素繊維シートなどの不織布
があげられる。
Specific examples of the non-woven fabric include non-woven fabrics such as alumina sheets, SiCF sheets and carbon fiber sheets produced from alumina, silicone carbide, aramid, PAN-based carbon fiber, rayon-based carbon fiber and the like. .

【0071】さらに、前記フィラメントの具体例として
は、ガラス、アラミド、シリコーンカーバイトなどから
製造された、ガラス繊維、アラミド繊維、SiCFがあ
げられる。
Furthermore, specific examples of the filament include glass fiber, aramid fiber, and SiCF manufactured from glass, aramid, silicone carbide and the like.

【0072】前記補強布、不織布またはフィラメントに
含浸させるシリコーンワニスとしては、粘度(25℃)
30〜200cp程度、固有粘度(25℃)1〜10c
3/g程度、固形分率30〜80%程度のワニスが好
ましいが、プリプレグの用途により固有粘度の最適範囲
は異なる。たとえばえられたシリコーンワニス含浸プリ
プレグを複数枚、具体的には2〜100枚、好ましくは
10〜60枚重ねて積層した積層板作製用プリプレグと
して使用するばあいで、プレスを用いて成形するばあい
には、固有粘度(25℃)3〜6cm3/gのものが好
ましい。また、たとえばえられたシリコーン含浸プリプ
レグを基材にかぶせてまたはリボン状にして巻き付けて
熱硬化させたり、プレスを用いずに積層するようなばあ
いには、溶融粘度が低い方が好ましいので、固有粘度
(25℃)1〜4cm3/gのものが好ましい。
The silicone varnish impregnated into the reinforcing cloth, nonwoven cloth or filament has a viscosity (25 ° C.).
30 to 200 cp, intrinsic viscosity (25 ° C) 1 to 10 c
A varnish having a m 3 / g level and a solid content rate of 30 to 80% is preferable, but the optimum range of the intrinsic viscosity varies depending on the application of the prepreg. For example, when the obtained silicone varnish-impregnated prepreg is used as a prepreg for producing a laminated plate by laminating a plurality of sheets, specifically, 2 to 100 sheets, preferably 10 to 60 sheets, a prepreg is formed using a press. By the way, it is preferable that the intrinsic viscosity (25 ° C.) is 3 to 6 cm 3 / g. In addition, for example, when the obtained silicone-impregnated prepreg is covered with a base material or wound in a ribbon shape to be heat-cured or laminated without using a press, a lower melt viscosity is preferable, Those having an intrinsic viscosity (25 ° C.) of 1 to 4 cm 3 / g are preferable.

【0073】前記シリコーンワニス含浸プリプレグにお
けるシリコーンワニス(固形分)と補強布、不織布また
はフィラメントとの割合としては、成形品の機械的強度
の点から、処理比(乾燥後のプリプレグ重量/含浸前の
補強布、不織布またはフィラメントの重量)が、補強布
を用いたばあい1.2〜3.0、さらには1.3〜2.
5が好ましく、不織布のばあい1.3〜5.0、さらに
は1.4〜3.0が好ましく、フィラメントのばあい
1.5〜7.0、さらには1.7〜4.0が好ましい。
The ratio of the silicone varnish (solid content) to the reinforcing cloth, non-woven fabric or filament in the prepreg impregnated with the silicone varnish is a treatment ratio (weight of prepreg after drying / pre-impregnation after impregnation) from the viewpoint of mechanical strength of the molded product. The weight of the reinforcing cloth, the non-woven fabric or the filament is 1.2 to 3.0, and further 1.3 to 2.
5 is preferable, in the case of non-woven fabric, 1.3 to 5.0, more preferably 1.4 to 3.0, and in the case of filament, 1.5 to 7.0, and further 1.7 to 4.0. preferable.

【0074】前記シリコーンワニス含浸プリプレグの厚
さとしては、補強布を用いたばあい、0.05〜0.5
mm、さらには0.1〜0.3mm、不織布を用いたば
あい、0.1〜15mm、さらには0.3〜5mm、フ
ィラメントを用いたばあい、0.2〜8mm、さらには
0.3〜5mmであるのが、プリプレグの乾燥速度およ
びその成形物の曲げ強度の点から好ましい。
The thickness of the prepreg impregnated with silicone varnish is 0.05 to 0.5 when a reinforcing cloth is used.
mm, further 0.1 to 0.3 mm, when using a non-woven fabric, 0.1 to 15 mm, further 0.3 to 5 mm, when using a filament, 0.2 to 8 mm, further 0. It is preferably 3 to 5 mm from the viewpoint of the drying speed of the prepreg and the bending strength of the molded product.

【0075】前記のごときシリコーンワニス含浸プリプ
レグは、補強布などにシリコーンワニスを常法にしたが
って含浸させたのち、たとえば120℃程度で10分間
程度加熱する方法などで乾燥させ、タックのない状態に
することによって製造される。製造されたプリプレグ
は、使用したシリコーンワニスが金属を含まずかつ、塩
素原子およびリン原子の少なくとも1種を含む無機酸ま
たはPKa値が0.8〜6である有機酸を用いて製造し
た保存安定性のよいものであるため、溶剤が除去された
のちも保存安定性がよい。プリプレグの保存安定性は、
通常30℃で3カ月がめどであるが、本発明のものは4
5℃で6カ月以上の保存安定性を有する。なお、従来の
シリコーンワニスから製造されたプリプレグのばあい、
30℃で1カ月程度しか保存できない。
The silicone varnish-impregnated prepreg as described above is impregnated with a silicone varnish into a reinforcing cloth according to a conventional method, and then dried by, for example, heating at 120 ° C. for about 10 minutes to obtain a tack-free state. Manufactured by The produced prepreg is a storage-stable product produced by using an inorganic acid whose silicone varnish does not contain a metal and contains at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or an organic acid having a PKa value of 0.8 to 6. Since it has good properties, it has good storage stability even after the solvent is removed. The storage stability of prepreg is
Although three months at normal 30 ° C. is prospect, those of the present invention 4
It has a storage stability at 5 ° C for 6 months or more. In the case of a prepreg made from conventional silicone varnish,
It can be stored at 30 ° C for only one month.

【0076】また、タックフリーになるまで乾燥させた
プリプレグ中にもプリプレグの保存安定性を維持するの
に有効な脂肪族一価アルコールが残存しており、これら
はシラノール縮合を阻害するので、プリプレグの保存安
定性も向上する。
Also, in the prepreg dried to be tack-free, the aliphatic monohydric alcohol effective for maintaining the storage stability of the prepreg remains, and these inhibit the silanol condensation. The storage stability of is also improved.

【0077】前記シリコーン含浸プリプレグを複数枚
(通常2〜50枚)重ねて熱硬化させてえられた複合材
料は、厚さが0.3〜8mm程度で、優れた機械強度を
有し、ガラス−エポキシ積層板に比べ誘電率が低く、誘
電損失が小さいという特性を有するものである。それゆ
え、複合材料の両面または片面に銅、アルミなどからな
る厚さ15〜80μm程度の金属層を設けることによ
り、プリント基板用積層板として使用することができ
る。
The composite material obtained by stacking a plurality of silicone-impregnated prepregs (usually 2 to 50) and thermosetting them has a thickness of about 0.3 to 8 mm, has excellent mechanical strength, and is made of glass. -It has characteristics that the dielectric constant is lower and the dielectric loss is smaller than that of the epoxy laminate. Therefore, by providing a metal layer of copper, aluminum or the like having a thickness of about 15 to 80 μm on both surfaces or one surface of the composite material, the composite material can be used as a laminated board for a printed circuit board.

【0078】前記プリント基板用積層板の片面または両
面に回路を形成することによりプリント基板を製造する
ことができ、さらに、このようにして製造したプリント
基板を2枚以上、好ましくは2〜15枚重ね、プリント
基板とプリント基板との間に前記シリコーンワニス含浸
プリプレグを挟み込み、熱プレス成形することにより、
多層構造を有するプリント基板を製造することができ
る。
A printed circuit board can be manufactured by forming a circuit on one side or both sides of the above-mentioned laminated board for printed circuit boards, and further, two or more, preferably 2 to 15 printed circuit boards thus manufactured. By stacking, sandwiching the silicone varnish-impregnated prepreg between the printed circuit board and the printed circuit board, and performing hot press molding,
A printed circuit board having a multilayer structure can be manufactured.

【0079】前記シリコーン含浸プリプレグを基材にか
ぶせたり、巻き付けたりしたのち熱硬化させて複合材料
を製造するばあいの基材としては、銅管、鋼管、ステン
レス管、アルミ管などの管体の周りにプリプレグを巻き
付け、加熱硬化してえられる熱媒体用パイプ、ガラス−
エポキシ積層板の両面または片面にプリプレグを被覆し
て熱プレスした耐熱性積層板、金型の側面および裏面を
プリプレグで被覆し、加熱硬化させてえられる放熱が少
く熱効率の高い成形用金型などがあげられ、とくに曲
面、矩形面、あるいは長尺物のように加圧が困難である
ものの表面にも容易に密着させて被覆できる点から、ヒ
ータや熱媒体用パイプの断熱や絶縁のために好適に用い
ることができる。
When the composite material is manufactured by covering or winding the silicone-impregnated prepreg on a base material and then thermosetting, a base material such as a copper pipe, a steel pipe, a stainless pipe, or an aluminum pipe is used as a base material. Winding a prepreg around, heat-curing pipe obtained by heat curing, glass-
Heat resistant heat resistant laminated plate coated with prepreg on both or one side of epoxy laminated plate, side and back side of mold are covered with prepreg, and heat-cured molding die with low heat dissipation and high heat efficiency. In particular, for heat insulation and insulation of heaters and heat medium pipes, it can be easily adhered to the surface of curved surfaces, rectangular surfaces, or long objects that are difficult to pressurize It can be preferably used.

【0080】本発明のシリコーンワニスは、前記のごと
くプリプレグを製造するかわりに、シリコーンワニスと
無機の粉体、粒子またはウィスカーとの混合物を製造
し、加熱して脱溶媒してフイルム状物をえたり、固体を
えたりして用いてもよい。
In the silicone varnish of the present invention, instead of producing the prepreg as described above, a mixture of the silicone varnish and inorganic powder, particles or whiskers is produced and heated to remove the solvent to obtain a film-like substance. Alternatively, it may be used as a solid.

【0081】このばあいのシリコーンワニスとしては、
その粘度が1000〜50000cP、固有粘度が2〜
10cm3/g、固形分率が30〜80%のものである
ことが、脱泡性がよく、乾燥プロセスが容易であり、粉
末化およびフィルム化が可能(粘着しないため)であ
り、粉末またはフィルムからの成形性がよいなどの点か
ら好ましい。
In this case, as the silicone varnish,
Its viscosity is 1000 to 50,000 cP, and its intrinsic viscosity is 2
10 cm 3 / g and a solid content of 30 to 80% are good in defoaming property, easy in the drying process, capable of being pulverized and formed into a film (because of not sticking), powder or It is preferable in terms of good moldability from a film.

【0082】シリコーンワニスと混合される前記無機の
粉体、粒子またはウィスカーとしては、カーボン、アル
ミナ、シリカ、チッ化ホウ素、チッ化ケイ素、アラミ
ド、酸化チタン、PZTなどがあげられ、粉体または粒
子であるばあい、その径が5〜100μmであるもの
が、粒子のもつ特性(たとえば、高熱伝導性、高誘電率
性など)を樹脂成形物に効果的に付与可能しやすい点か
ら好ましく、ウィスカーであるばあい、平均形状が繊維
直径0.5〜15μm、長さ5〜500μmのものが好
ましい。
Examples of the inorganic powder, particles or whiskers mixed with the silicone varnish include carbon, alumina, silica, boron nitride, silicon nitride, aramid, titanium oxide and PZT. In this case, it is preferable that the particles have a diameter of 5 to 100 μm, because it is easy to effectively impart the characteristics of the particles (for example, high thermal conductivity, high dielectric constant, etc.) to the resin molded product. In this case, the average shape is preferably 0.5 to 15 μm in fiber diameter and 5 to 500 μm in length.

【0083】前記シリコーンワニスに対する、無機の粉
体、粒子またはウィスカーの混合比は、無機の粉体、粒
子またはウィスカーが成形物の50〜90容量%程度で
あることが、粒子のもつ特性(たとえば、高熱伝導性、
高誘電率性など)を樹脂成形物に効果的に付与しやす
く、かつ成形体としての強度を充分に維持できる点から
好ましい。
The mixing ratio of the inorganic powder, particles or whiskers to the silicone varnish is such that the inorganic powder, particles or whiskers are about 50 to 90% by volume of the molded product, which is a characteristic of the particles (eg, , High thermal conductivity,
(High dielectric constant, etc.) is preferable because it can be effectively imparted to the resin molded product and the strength as a molded product can be sufficiently maintained.

【0084】また、この混合物は、縮合反応が進まない
ように、室温〜80℃程度の低温で乾燥させることが好
ましく、この程度の温度で減圧することにより効率よく
乾燥させることができる。
The mixture is preferably dried at a low temperature of about room temperature to 80 ° C. so that the condensation reaction does not proceed, and the pressure can be reduced at this temperature to efficiently dry the mixture.

【0085】シリコーンワニスをフィルム状物に成形す
るばあい、シリコーンワニスをテフロンコートした板や
平皿にキャストし、乾燥することによりえられる。この
ときのフィルム厚は50μm〜5mm程度まで調節可能
である。
When the silicone varnish is formed into a film, it can be obtained by casting the silicone varnish on a Teflon-coated plate or flat plate and drying. At this time, the film thickness can be adjusted to about 50 μm to 5 mm.

【0086】また、シリコーンワニスを粉末状にするば
あい、前記フィルム状物を粉砕することによりえられ
る。このばあい粒径を制御することは困難であるので、
粉砕後ふるいを用いて粒子を分別するなどすればよい。
粒径には、とくに制限はないが、固体への成形のしやす
さの点から、3mm以下であるのが好ましい。
When the silicone varnish is made into powder, it can be obtained by crushing the film-like material. In this case, it is difficult to control the particle size, so
After crushing, the particles may be separated using a sieve.
The particle size is not particularly limited, but it is preferably 3 mm or less from the viewpoint of ease of molding into a solid.

【0087】このようにしてえられるフィルム状物や固
体は、加熱成形することにより耐熱性および機械的強度
が著しく向上する。
The heat resistance and mechanical strength of the film-like material or solid thus obtained are remarkably improved by heat molding.

【0088】加熱成形は真空プレスや真空金型を用いる
ことが好ましい。フィルムは2〜30枚を重ねてプレス
することにより厚板を成形するのに適しており、一度に
最大10mm厚までの厚板の成形が可能である。
For heat molding, it is preferable to use a vacuum press or a vacuum mold. The film is suitable for forming a slab by stacking 2 to 30 sheets and pressing it, and a slab having a maximum thickness of 10 mm can be formed at one time.

【0089】粉末を用いるばあいは、複雑な形状の固体
の成形に適しており、たとえば粉末を金型に詰め、加熱
プレスすることにより粉末を溶融硬化させる方法などに
より、成形体がえられる。粉末を金型に詰めるとき、バ
イブレータなどを用いて、微振動を与えることにより、
好適にパッキングしうる。
When the powder is used, it is suitable for molding a solid having a complicated shape. For example, a molded body can be obtained by a method in which the powder is packed in a mold and the powder is melt-cured by hot pressing. When packing the powder into the mold, use a vibrator etc.
It can be suitably packed.

【0090】加熱条件としては、170〜300℃程
度、2〜7時間程度の条件が好ましい。
The heating conditions are preferably 170 to 300 ° C. and 2 to 7 hours.

【0091】このようにして製造される複合成形体の実
施態様としては、たとえばアルミナ粒子単体またはアル
ミナ粒子とチッ化ホウ素粒子とを添加した高熱伝導性樹
脂材料、TiO2粒子などの高誘電率粒子を添加した高
誘電率コンデンサー材料などがあげられる。
As an embodiment of the composite molded article produced in this manner, for example, alumina particles alone or a high thermal conductive resin material containing alumina particles and boron nitride particles, high dielectric constant particles such as TiO 2 particles are used. Examples of such materials include high dielectric constant capacitor materials.

【0092】前記高熱伝導性樹脂材料に用いる粒子とし
ては、前記のアルミナ粒子およびチッ化ホウ素粒子のほ
かに、たとえばチッ化アルミ粒子、シリコーンカーバイ
ド粒子、チッ化ケイ素粒子、酸化マグネシウム粒子、酸
化ベリリウム粒子、結晶シリカ粒子などがあげられ、分
散性、低吸湿性および絶縁性を考慮するばあい、チッ化
ホウ素粒子、アルミナ粒子およびチッ化アルミ粒子が好
ましい。
As the particles used for the high thermal conductive resin material, in addition to the above alumina particles and boron nitride particles, for example, aluminum nitride particles, silicone carbide particles, silicon nitride particles, magnesium oxide particles, beryllium oxide particles. , Crystalline silica particles and the like are preferable, and in consideration of dispersibility, low hygroscopicity and insulating property, boron nitride particles, alumina particles and aluminum nitride particles are preferable.

【0093】高誘電率コンデンサー材料に用いる粒子と
しては、前記のTiO2粒子のほかに、BeTiO3、M
gTiO3、CaTiO3、SrTiO3、BaTiO3
PbTiO3、ZrTiO3、BiTiO5、La2TiO
5、CeTiO4、、ZrTiO4、BaSnO3、CaS
nO3、SrSnO3、MgSnO3、Bi2(Sn
33、PbSnO3、CoSnO3、NiSnO3、B
aZrO3、CaZrO3、SrZrO3、MgZrO3
(Bi232・(ZrO23、MgNbO3、CaNb
3、SrNbO3、BaNbO3、PbNbO3、LiN
bO3、FeNb26、LiTaO3、BaTaO3、S
rTaO3、CaTaO3、MgTaO6、Bi3TiNb
9、PbZrO3−PbTiO3、PbBi2NbO9
Bi4Ti312などの各粒子があげられ、とくに誘電率
の熱安定性の点から、TiO2粒子、MgTiO3粒子、
CaTiO3粒子、SrTiO3粒子、BaTiO3粒子
およびPbZrO3−PbTiO3粒子が好ましい。
As the particles used for the high dielectric constant capacitor material, in addition to the above TiO 2 particles, BeTiO 3 , M
gTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , BaTiO 3 ,
PbTiO 3 , ZrTiO 3 , BiTiO 5 , La 2 TiO
5 , CeTiO 4 , ZrTiO 4 , BaSnO 3 , CaS
nO 3 , SrSnO 3 , MgSnO 3 , Bi 2 (Sn
O 3 ) 3 , PbSnO 3 , CoSnO 3 , NiSnO 3 , B
aZrO 3 , CaZrO 3 , SrZrO 3 , MgZrO 3 ,
(Bi 2 O 3 ) 2 · (ZrO 2 ) 3 , MgNbO 3 , CaNb
O 3 , SrNbO 3 , BaNbO 3 , PbNbO 3 , LiN
bO 3 , FeNb 2 O 6 , LiTaO 3 , BaTaO 3 , S
rTaO 3 , CaTaO 3 , MgTaO 6 , Bi 3 TiNb
O 9 , PbZrO 3 -PbTiO 3 , PbBi 2 NbO 9 ,
Examples of the particles include Bi 4 Ti 3 O 12 and the like. Particularly, in view of thermal stability of dielectric constant, TiO 2 particles, MgTiO 3 particles,
CaTiO 3 particles, SrTiO 3 particles, BaTiO 3 particles and PbZrO 3 —PbTiO 3 particles are preferred.

【0094】前記高熱伝導性樹脂材料を用い、これとア
ルミ基板などの金属板状物とを接着させ、さらに銅箔を
接着させることにより放熱プリント基板を製造すること
ができる。この放熱プリント基板はパワーモジュールな
どの放熱を要する部品搭載基板に適している。
A heat dissipation printed circuit board can be manufactured by using the high thermal conductive resin material, adhering it to a metal plate such as an aluminum substrate, and further adhering a copper foil thereto. This heat dissipation printed board is suitable for a component mounting board such as a power module that requires heat dissipation.

【0095】また、前記高誘電率コンデンサー材料を用
い、これを電極で挟みサンドイッチ構造のコンデンサー
部品を製造することができる。また前記高誘電率コンデ
ンサー材料をフィルム状に成形し、基板に直接張り付け
ることにより、カップリングキャパシタとして好適に使
用することができる。
Further, it is possible to manufacture a capacitor component having a sandwich structure by using the high dielectric constant capacitor material and sandwiching it with electrodes. In addition, the high dielectric constant capacitor material is formed into a film and directly attached to a substrate, so that it can be suitably used as a coupling capacitor.

【0096】本発明にかかるシリコーンワニスを用いて
製造された複合材料は通常多孔質であるため誘電率およ
び誘電損失が極めて少ないという特徴を有するものであ
る。
The composite material produced by using the silicone varnish according to the present invention is usually porous and therefore has a characteristic that the dielectric constant and the dielectric loss are extremely small.

【0097】たとえば、フェニルトリメトキシシラン1
0部、ジメチルジメトキシシラン4.1部、メチルセロ
ソルブ5部、リン酸10%水溶液0.2部で仕込み、加
熱反応させ、固有粘度3.0cm3/gの縮重合物を
え、それを固形分55%になるように、トルエン/イソ
プロパノール=1/1(重量基準)混合溶液で希釈し、
テトライソプロポキシチタン0.7部を加えてえられた
シリコーンワニスを、太さ8000yds/LdのD−
ガラスファイバーを密度が縦43.8本/25mm、横
32.6本/25mm、厚さ0.192mm、重量19
0.8g/m2の平織りクロスに、シリコーンワニスを
含浸させ、120℃で10分間乾燥してえた処理比1.
7のプリプレグを30枚重ね、170℃、10Kgf/
cm2で1時間プレスし、さらに200℃で2時間、つ
づいて250℃で3時間加熱処理を行なって積層板を
え、この積層板の比誘電率および誘電正接を測定したと
ころ、比誘電率=3.2、誘電正接=8×10-4(1M
Hz)であった。
For example, phenyltrimethoxysilane 1
0 parts, 4.1 parts of dimethyldimethoxysilane, 5 parts of methyl cellosolve, 0.2 parts of 10% aqueous phosphoric acid solution were charged and reacted by heating to obtain a polycondensation product having an intrinsic viscosity of 3.0 cm 3 / g. Dilute with a mixed solution of toluene / isopropanol = 1/1 (weight basis) so that the content becomes 55%,
A silicone varnish obtained by adding 0.7 part of tetraisopropoxytitanium was used as D- with a thickness of 8000 yds / Ld.
The glass fiber has a density of 43.8 vertical / 25 mm, horizontal 32.6 / 25 mm, thickness 0.192 mm, weight 19
A plain weave cloth of 0.8 g / m 2 was impregnated with silicone varnish and dried at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a treatment ratio of 1.
30 sheets of prepreg of No. 7 are piled up,
It was pressed at cm 2 for 1 hour, further heat-treated at 200 ° C. for 2 hours and then at 250 ° C. for 3 hours to obtain a laminated plate, and the relative permittivity and dielectric loss tangent of this laminated plate were measured. = 3.2, dielectric loss tangent = 8 × 10 −4 (1M
Hz).

【0098】本発明のシリコーンワニスは少量の酸や金
属イオンを含有しているので半導体用層間絶縁膜として
は不適当なばあいがあるが、たとえばマルチチップモジ
ュールなど電子回路モジュールの層間絶縁膜には充分対
応でき、従来から用いられているエポキシ系層間絶縁膜
に比べて耐電食性(たとえば50℃、85%R.H.な
どの条件下で評価しうる)での遜色は見られない。
Since the silicone varnish of the present invention contains a small amount of acid and metal ions, it may be unsuitable as an interlayer insulating film for semiconductors. For example, it can be used as an interlayer insulating film of an electronic circuit module such as a multichip module. Is sufficiently compatible, and is not inferior to the conventionally used epoxy-based interlayer insulating film in electrolytic corrosion resistance (evaluable under conditions such as 50 ° C. and 85% RH).

【0099】[0099]

【実施例】以下に、本発明を具体的な実施例に基づいて
説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be described below based on specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0100】[実施例1]脂肪族一価アルコールを除く
水溶性有機溶剤(以下、水溶性有機溶剤ともいう)
(4)としてメチルセロソルブ10.0g、金属を含ま
ずかつ、塩素原子およびリン原子の少なくとも1種を含
む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有機酸(以
下、金属を含まない加水分解酸触媒ともいう)(3)と
してリン酸10%水溶液1.0gおよび水26.6gを
ビーカーにとり、撹拌しながら、ジアルコキシシラン
(1)としてジメチルジメトキシシラン(以下、DMD
MOSともいう)88.8g(0.74mol)を少量
づつ加え、そのまま20分間撹拌した。えられた混合溶
液を溶液1−aという。溶液1−aのIRスペクトル
は、ジメチルジメトキシシランにはないSi−OH吸収
を900cm-1付近に示したため、溶液1−aはジメチ
ルジメトキシシランの加水分解物を含む溶液であると同
定した。
[Example 1] Water-soluble organic solvent except aliphatic monohydric alcohol (hereinafter, also referred to as water-soluble organic solvent)
(4) 10.0 g of methyl cellosolve, an inorganic acid containing no metal and containing at least one of a chlorine atom and a phosphorus atom, or an organic acid having a PKa value of 0.8 to 6 (hereinafter referred to as metal-free hydrolyzate). As a decomposition acid catalyst (3), 1.0 g of a 10% aqueous solution of phosphoric acid and 26.6 g of water were placed in a beaker, and dimethyldimethoxysilane (hereinafter, DMD) was used as a dialkoxysilane (1) while stirring.
88.8 g (0.74 mol) of MOS) was added little by little, and the mixture was stirred for 20 minutes as it was. The obtained mixed solution is referred to as solution 1-a. Since the IR spectrum of the solution 1-a showed Si—OH absorption which was not found in dimethyldimethoxysilane near 900 cm −1 , the solution 1-a was identified as a solution containing a hydrolyzate of dimethyldimethoxysilane.

【0101】これとは別に、水溶性有機溶剤(4)とし
てメチルセロソルブ50.0g、金属を含まない加水分
解酸触媒(3)としてリン酸10%水溶液4.0gおよ
び水130.6gをビーカーにとり、撹拌しながらフェ
ニルまたはメチルトリアルコキシシラン(2)としてフ
ェニルトリメトキシシラン(以下、PTrMOSともい
う)480.0g(2.42mol)を少量づつ加え、
そのまま30分間撹拌した。えられた溶液を溶液1−b
という。溶液1−bのIRスペクトルは、フェニルトリ
メトキシシランにはないSi−OH吸収を900cm-1
付近に示したため、溶液1−bはフェニルトリメトキシ
シランの加水分解物を含む溶液であると同定した。
Separately, 50.0 g of methyl cellosolve as the water-soluble organic solvent (4), 4.0 g of a 10% aqueous solution of phosphoric acid and 130.6 g of water as the metal-free hydrolytic acid catalyst (3) were placed in a beaker. While stirring, 480.0 g (2.42 mol) of phenyltrimethoxysilane (hereinafter also referred to as PTrMOS) as phenyl or methyltrialkoxysilane (2) was added little by little,
The mixture was stirred for 30 minutes as it was. The obtained solution is solution 1-b
That. The IR spectrum of the solution 1-b shows that the absorption of Si—OH which is not found in phenyltrimethoxysilane is 900 cm −1.
Since it was shown in the vicinity, Solution 1-b was identified as a solution containing a hydrolyzate of phenyltrimethoxysilane.

【0102】リービッヒ冷却管の先に液溜め(エルレン
マイヤーフラスコ)を付け、温度計、撹拌羽根を付けた
1リットルのセパラブルフラスコ(以下、反応容器とい
う)に溶液1−aと溶液1−bとを入れて混合し、反応
容器をオイルバスに浸け、オイルバスの温度を140分
間かけて170℃まで昇温させたところ、前記液溜めに
メタノールを主成分とする液体が溜まった。
Solution 1-a and solution 1- were placed in a 1-liter separable flask (hereinafter referred to as a reaction vessel) equipped with a liquid reservoir (Erlenmeyer flask) at the end of the Liebig cooling tube and equipped with a thermometer and stirring blades. b was added and mixed, the reaction vessel was immersed in an oil bath, and the temperature of the oil bath was raised to 170 ° C. over 140 minutes. As a result, a liquid containing methanol as a main component was accumulated in the liquid reservoir.

【0103】前記メタノールを主成分とする液体が前記
混合溶液から蒸発するにしたがって、反応容器内の温度
が徐々に上昇していくので、前記のようにオイルバスを
170℃まで上昇させたのち、このオイルバスを150
℃に調節した。
Since the temperature in the reaction vessel gradually rises as the liquid containing methanol as the main component evaporates from the mixed solution, after raising the oil bath to 170 ° C. as described above, 150 this oil bath
Adjusted to ° C.

【0104】反応開始より80分間経過後にオイルバス
の電源を切り、内容物の温度が100℃になるまで反応
容器をオイルバス中に保った。前記内容物の温度が10
0℃になったときに、この反応容器内にトルエン63.
7gを加え、そののちリービッヒ管をはずし、ディーン
・スターク管に付け替えた。反応容器中のシリコーンオ
リゴマー溶液(シリコーン縮重合物)を1時間ごとに1
3.2gとりイソプロピルアルコール(以下、IPAと
もいう)3.2gを添加し、EL型粘度計にて粘度を測
定して350〜450mPa・sのときに反応を停止し
た。このときの固有粘度は4〜5cm3/gに対応して
いる。IRスペクトルのSi−OH吸収面積は加熱前よ
り減少していたため、縮合反応による生成物であること
を確認した。25℃の高温槽中でユベローデ型粘度計を
用いて0.1〜5%溶液の流下時間により求めた固有粘
度が4〜5cm3/gになったところで、この反応容器
をオイルバスから引き上げ、60℃以下になるまで放冷
したのち、IPA 63.7gを加え、反応容器内の内
容物が均一になるまでよく撹拌した。さらに、ナフテン
酸亜鉛8%ミネラルスピリット溶液5.6gを加えてよ
く撹拌し、シリコーンワニスをえた。えられたシリコー
ンワニスをシリコーンワニス1という。
After 80 minutes from the start of the reaction, the power of the oil bath was turned off, and the reaction vessel was kept in the oil bath until the temperature of the contents reached 100 ° C. The temperature of the contents is 10
When the temperature reached 0 ° C, toluene 63.
After adding 7 g, the Liebig tube was removed and replaced with a Dean Stark tube. 1 hour of the silicone oligomer solution (polycondensation polymer) in the reaction vessel
3.2 g of isopropyl alcohol (hereinafter, also referred to as IPA) (3.2 g) was added, and the viscosity was measured with an EL viscometer to stop the reaction at 350 to 450 mPa · s. The intrinsic viscosity at this time corresponds to 4 to 5 cm 3 / g. Since the Si-OH absorption area of the IR spectrum was smaller than that before heating, it was confirmed to be a product of the condensation reaction. When the intrinsic viscosity determined by the flow time of the 0.1-5% solution in a high-temperature tank at 25 ° C using a Uberode type viscometer was 4-5 cm 3 / g, the reaction vessel was pulled up from the oil bath, After allowing to cool to 60 ° C. or lower, 63.7 g of IPA was added and well stirred until the content in the reaction vessel became uniform. Furthermore, 5.6 g of zinc naphthenate 8% mineral spirit solution was added and well stirred to obtain a silicone varnish. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 1.

【0105】前記シリコーンワニス1の100部に、I
PA/トルエン=1対1の混合溶剤25gを添加した溶
液の粘度は、55mPa・sであった。この溶液の45
℃、6カ月保存後の粘度は58mPa・sであった。
To 100 parts of the silicone varnish 1 was added I
The viscosity of a solution to which 25 g of a mixed solvent of PA / toluene = 1: 1 was added was 55 mPa · s. 45 of this solution
The viscosity after storage at 6 ° C for 6 months was 58 mPa · s.

【0106】前記シリコーンワニスを、120mm×3
00mmにカットした直径9μmのEガラス繊維を平織
りし、表面にアミノシラン処理を施したガラスクロス
に、55%含浸させ、120℃の熱風炉で10分間乾燥
させてプリプレグを作製した。えられたプリプレグ表面
にはタックがなく、重ねて保存することができた。えら
れたプリプレグをシリコーンプリプレグ1−aという。
120 mm × 3 of the above silicone varnish
E-glass fiber having a diameter of 9 μm cut into 00 mm was plain-woven, and 55% was impregnated in a glass cloth having a surface subjected to aminosilane treatment, followed by drying in a hot air oven at 120 ° C. for 10 minutes to prepare a prepreg. The surface of the obtained prepreg had no tack and could be stored in layers. The obtained prepreg is called silicone prepreg 1-a.

【0107】シリコーンプリプレグ1−aを100mm
×100mmにカットして30枚重ねたのち、プレス機
を用いて圧力10Kgf/cm2、温度170℃で1時
間プレスし、プレス機から取り出し、熱風炉を用いて2
00℃で2時間、ついで250℃で3時間処理すること
により硬化させ、厚さ5mmの積層板をえた。えられた
積層板をシリコーン積層板1−aという。
100 mm of silicone prepreg 1-a
After cutting into 100 mm and stacking 30 sheets, press using a press machine at a pressure of 10 Kgf / cm 2 and a temperature of 170 ° C. for 1 hour, remove from the press machine, and use a hot air stove to
The laminate was cured by treatment at 00 ° C. for 2 hours and then at 250 ° C. for 3 hours to obtain a laminated plate having a thickness of 5 mm. The obtained laminated plate is referred to as a silicone laminated plate 1-a.

【0108】シリコーン積層板1−aをJIS−691
1の方法にしたがって曲げ強度試験を行なったところ、
破壊強度は20Kgf/mm2であった。この破壊強度
は、たとえばプリント基板に用いるばあいの実用値であ
る10Kgf/mm2以上よりも大きい。また、この積
層板を熱風炉を用いて300℃で90日間保持したの
ち、前記方法で曲げ強度(熱劣化後の曲げ強度)を測定
したところ、破壊強度は17Kgf/mm2であった。
たとえばガラス−エポキシ積層板のばあい、この破壊強
度は0.5Kgf/mm2以下に劣化し、実用不可能と
なる。
The silicone laminated plate 1-a is compliant with JIS-691.
When the bending strength test was conducted according to the method of 1,
The breaking strength was 20 Kgf / mm 2 . This breaking strength is larger than, for example, a practical value of 10 kgf / mm 2 or more when it is used for a printed circuit board. Further, the laminated plate was kept at 300 ° C. for 90 days by using a hot air oven, and the bending strength (bending strength after thermal deterioration) was measured by the above method. The breaking strength was 17 Kgf / mm 2 .
For example, in the case of a glass-epoxy laminate, this breaking strength deteriorates to 0.5 Kgf / mm 2 or less, making it impractical.

【0109】つぎに、シリコーンワニス1とDCG80
のDガラス繊維を平織りし、表面にアミノシラン処理を
施したガラスクロスとを用いたプリプレグを作製した。
えられたプリプレグをシリコーンプリプレグ1−bとい
う。
Next, silicone varnish 1 and DCG80
No. D glass fiber was plain-woven, and a prepreg using a glass cloth having a surface subjected to aminosilane treatment was prepared.
The obtained prepreg is called silicone prepreg 1-b.

【0110】シリコーンプリプレグ1−bを用いて、シ
リコーンプリプレグ1−aのばあいと同様にして、厚さ
5mmの積層板を作製した。えられた積層板をシリコー
ン積層板1−bという。
Using the silicone prepreg 1-b, a laminated plate having a thickness of 5 mm was prepared in the same manner as in the case of the silicone prepreg 1-a. The obtained laminated plate is referred to as a silicone laminated plate 1-b.

【0111】シリコーン積層板1−bの両面に、それぞ
れシリコーンプリプレグ1−bを重ね、さらにその両面
を、それぞれ厚さ100μmの銅箔ではさみ、プレス機
を用いて温度170℃、圧力10Kgf/cm2で1時
間プレスし、プレス機から取り出し、熱風炉を用いて2
00℃で2時間、ついで250℃で3時間処理すること
により硬化させて銅箔層が設けられたシリコーン積層板
をえた。
Silicone prepreg 1-b was laminated on both sides of the silicone laminate 1-b, and the both sides were sandwiched with copper foil having a thickness of 100 μm, and the temperature was 170 ° C. and the pressure was 10 Kgf / cm using a pressing machine. Press at 2 for 1 hour, remove from the press and use a hot air stove for 2
The silicone laminate provided with the copper foil layer was obtained by curing by treating at 00 ° C. for 2 hours and then at 250 ° C. for 3 hours.

【0112】銅箔層が設けられたシリコーン積層板の銅
箔層をエッチングし、誘電特性をYOKOGAWA H
EWLETT PACKERD 4274A MULT
I−FREQUENCY LCR METERを用い、
容量法で測定したところ、測定周波数が1MHzの条件
下で比誘電率が3.3であり、誘電正接が0.001で
あった。
By etching the copper foil layer of the silicone laminate provided with the copper foil layer, the dielectric characteristics are changed to YOKOGAWA H.
EWLETT PACKERD 4274A MULT
Using I-FREQUENCY LCR METER,
When measured by the capacitance method, the relative dielectric constant was 3.3 and the dielectric loss tangent was 0.001 under the condition that the measurement frequency was 1 MHz.

【0113】[実施例2]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解酸触媒(3)および水を表1に記載の量用いたほ
かは実施例1と同様にして混合溶液をえ、IRスペクト
ルにより加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶
液を溶液2−aという。
Example 2 The dialkoxysilane (1) shown in Table 1, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzed acid catalyst (3) and water were used in the amounts shown in Table 1. Others were the same as in Example 1 to obtain a mixed solution, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 2-a.

【0114】なお、表1中のDMDEOSはジメチルジ
エトキシシランを示す。
DMDEOS in Table 1 represents dimethyldiethoxysilane.

【0115】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解酸触媒(3)および水
を表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混
合溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を
行なった。えられた混合溶液を溶液2−bという。
Separately, the phenyl or methyl trialkoxysilane (2), the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzed acid catalyst (3) and the water listed in Table 2 are listed in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was used, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 2-b.

【0116】なお、表2中のPTrEOSはフェニルト
リエトキシシランを示す。
PTrEOS in Table 2 represents phenyltriethoxysilane.

【0117】つぎに、溶液1−aと溶液1−bとのかわ
りに、溶液2−aと溶液2−bとを用い、オイルバスの
温度を110分間かけて95℃まで昇温させたほかは実
施例1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シ
リコーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が20
0mPa・s、固有粘度が3cm3/gになったところ
で、60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に
記載の脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
(以下、脂肪族一価アルコール系溶剤ともいう)(B)
および金属原子を含む縮合触媒(C)を表3に記載の量
加えてよく撹拌し、シリコーンワニスをえた。縮合反応
物の同定はIRスペクトルで行なった。えられたシリコ
ーンワニスをシリコーンワニス2という。
Next, the solution 2-a and the solution 2-b were used in place of the solution 1-a and the solution 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. In the same manner as in Example 1 to obtain a silicone oligomer solution, the silicone oligomer solution having an EL type rotational viscometer viscosity of 20.
When it reached 0 mPa · s and the intrinsic viscosity reached 3 cm 3 / g, it was allowed to cool to below 60 ° C. After that, the aliphatic monohydric alcohol shown in Table 3 or a mixed solvent containing the same (hereinafter, also referred to as an aliphatic monohydric alcohol solvent) (B)
And the condensation catalyst (C) containing a metal atom was added in an amount shown in Table 3 and stirred well to obtain a silicone varnish. Identification of the condensation reaction product was performed by IR spectrum. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 2.

【0118】前記シリコーンワニス2の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 2 after storage at 45 ° C. for 6 months was measured in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the results.

【0119】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス2を用いたほかは実施例1と同様の方法にして曲
げ強度測定用積層板(シリコーン積層板2)をえて評価
した。
A laminate for measuring bending strength (silicone laminate 2) was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 2 was used instead of the silicone varnish 1.

【0120】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス2を用いたほかは実施例1と同様にして誘
電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコー
ン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定した。
結果を表5に示す。
A silicone laminate for measuring dielectric properties (silicone laminate having electrodes) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 2 was used instead of the silicone varnish 1, and the relative dielectric constant and the dielectric loss tangent were obtained. Was measured.
Table 5 shows the results.

【0121】[実施例3]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解酸触媒(3)および水を表1に記載の量用いたほ
かは実施例1と同様にして混合溶液をえ、IRスペクト
ルにより加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶
液を溶液3−aという。
Example 3 The dialkoxysilane (1) shown in Table 1, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzed acid catalyst (3) and water were used in the amounts shown in Table 1. Others were the same as in Example 1 to obtain a mixed solution, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 3-a.

【0122】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解酸触媒(3)および水
を表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混
合溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を
行なった。えられた混合溶液を溶液3−bという。
Apart from this, the phenyl or methyl trialkoxysilane (2), the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzing acid catalyst (3) and the water listed in Table 2 are listed in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was used, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 3-b.

【0123】つぎに、溶液1−aと溶液1−bとのかわ
りに、溶液3−aと溶液3−bとを用い、オイルバスの
温度を110分間かけて95℃まで昇温させたほかは実
施例1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シ
リコーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が80
0mPa・s、固有粘度が6cm3/gになったところ
で、60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に
記載の脂肪族一価アルコール系溶剤(B)および金属原
子を含む縮合触媒(C)を表3に記載の量加えてよく撹
拌し、シリコーンワニスをえた。縮合反応物の同定はI
Rスペクトルで行なった。えられたシリコーンワニスを
シリコーンワニス3という。
Next, the solution 3-a and the solution 3-b were used in place of the solution 1-a and the solution 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. In the same manner as in Example 1 to obtain a silicone oligomer solution, the silicone oligomer solution having an EL type rotational viscometer viscosity of 80.
When it reached 0 mPa · s and the intrinsic viscosity reached 6 cm 3 / g, it was allowed to cool to 60 ° C or lower. After that, the aliphatic monohydric alcohol solvent (B) and the condensation catalyst (C) containing a metal atom shown in Table 3 were added in the amounts shown in Table 3 and well stirred to obtain a silicone varnish. Identification of condensation products is I
R spectrum. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 3.

【0124】前記シリコーンワニス3の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 3 was measured in the same manner as in Example 1 after storage at 45 ° C. for 6 months. Table 4 shows the results.

【0125】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス3を用いたほかは実施例1と同様にして曲げ強度
測定用積層板(シリコーン積層板3)をえて評価した。
A laminate for measuring flexural strength (silicone laminate 3) was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 3 was used instead of the silicone varnish 1.

【0126】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス3を用いたほかは実施例1と同様にして誘
電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコー
ン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定した。
結果を表5に示す。
A silicone laminate for measuring dielectric properties (silicone laminate having electrodes) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 3 was used instead of the silicone varnish 1, and the relative permittivity and the dielectric loss tangent were obtained. Was measured.
Table 5 shows the results.

【0127】[実施例4]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解酸触媒(4)および水を表1に記載の量用いたほ
かは実施例1と同様にして混合液をえ、IRスペクトル
により加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶液
を溶液4−aという。
[Example 4] The dialkoxysilane (1), the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzed acid catalyst (4) and water described in Table 1 were used in the amounts shown in Table 1. Others were the same as in Example 1 to obtain a mixed solution, and the hydrolyzed product was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 4-a.

【0128】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解酸触媒(3)および水
を表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混
合溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を
行なった。えられた混合溶液を溶液4−bという。
Separately from this, the phenyl or methyl trialkoxysilane (2), the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolyzing acid catalyst (3) and the water shown in Table 2 are shown in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was used, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 4-b.

【0129】つぎに、溶液1−aと溶液1−bとのかわ
りに、溶液4−aと溶液4−bとを用い、オイルバスの
温度を110分間かて95℃まで昇温させたほかは実施
例1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シリ
コーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が50m
Pa・s、固有粘度が1cm3/gになったところで、
60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に記載
の脂肪族一価アルコール系溶剤(B)および金属原子を
含む縮合触媒(C)を表3に記載の量加えてよく撹拌
し、シリコーンワニスをえた。縮合反応物の同定はIR
スペクトルで行なった。えられたシリコーンワニスをシ
リコーンワニス4という。
Next, the solution 4-a and the solution 4-b were used instead of the solution 1-a and the solution 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. In the same manner as in Example 1 to obtain a silicone oligomer solution, and the viscosity of the silicone oligomer solution in an EL type rotational viscometer is 50 m.
When the Pa · s and the intrinsic viscosity become 1 cm 3 / g,
It was allowed to cool to 60 ° C or lower. After that, the aliphatic monohydric alcohol solvent (B) and the condensation catalyst (C) containing a metal atom shown in Table 3 were added in the amounts shown in Table 3 and well stirred to obtain a silicone varnish. Identification of condensation products is IR
Performed on the spectrum. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 4.

【0130】前記シリコーンワニス4の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 4 after storage at 45 ° C. for 6 months was measured in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the results.

【0131】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス4を用いたほかは実施例1と同様にして曲げ強度
測定用積層板(シリコーン積層板4)をえて評価した。
A laminate for measuring bending strength (silicone laminate 4) was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 4 was used instead of the silicone varnish 1.

【0132】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス4を用いたほかは実施例1と同様にして誘
電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコー
ン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定した。
結果を表5に示す。
A silicone laminate for dielectric property measurement (silicone laminate having electrodes) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 4 was used instead of the silicone varnish 1, and the relative dielectric constant and dielectric loss tangent were obtained. Was measured.
Table 5 shows the results.

【0133】[実施例5]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解触媒(3)および水を表1に記載の量用いたほか
は実施例1と同様にして混合溶液をえ、IRスペクトル
により加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶液
を溶液5−aという。
Example 5 In addition to the dialkoxysilane (1) shown in Table 1, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water, the amounts shown in Table 1 were used. In the same manner as in Example 1, a mixed solution was obtained, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 5-a.

【0134】なお、表1に記載のDMDPOSは、ジメ
チルジプロポキシシランを示す。
The DMDPOS shown in Table 1 is dimethyldipropoxysilane.

【0135】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解触媒(3)および水を
表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混合
溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を行
なった。えられた混合溶液を溶液5−bという。
Separately, the phenyl or methyl trialkoxysilane (2) listed in Table 2, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water are added in the amounts listed in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 5-b.

【0136】なお、表2に記載のPTrMOSはフェニ
ルトリプロポキシシランを示す。
The PTrMOS shown in Table 2 is phenyltripropoxysilane.

【0137】つぎに、溶液1−aと1−bとのかわり
に、溶液5−aと溶液5−bとを用い、オイルバスの温
度を110分間かけて95℃まで昇温させたほかは実施
例1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シリ
コーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が100
0mPa・s、固有粘度が7cm3/gになったところ
で、60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に
記載の脂肪族一価アルコール系溶剤(B)および金属原
子を含む縮合触媒(C)を表3に記載の量加えてよく撹
拌し、シリコーンワニスをえた。縮合反応物の同定はI
Rスペクトルで行なった。えられたシリコーンワニスを
シリコーンワニス5という。
Next, the solution 5-a and the solution 5-b were used instead of the solutions 1-a and 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. A silicone oligomer solution was prepared in the same manner as in Example 1, and the silicone oligomer solution had an EL type rotational viscometer viscosity of 100.
When it reached 0 mPa · s and the intrinsic viscosity was 7 cm 3 / g, it was allowed to cool to 60 ° C or lower. After that, the aliphatic monohydric alcohol solvent (B) and the condensation catalyst (C) containing a metal atom shown in Table 3 were added in the amounts shown in Table 3 and well stirred to obtain a silicone varnish. Identification of condensation products is I
R spectrum. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 5.

【0138】前記シリコーンワニス5の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 5 after storage at 45 ° C. for 6 months was measured in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the results.

【0139】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス5を用いたほかは実施例1と同様にして曲げ強度
測定用積層板(シリコーン積層板5)をえて評価した。
A laminated plate for measuring bending strength (silicone laminated plate 5) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 5 was used instead of the silicone varnish 1.

【0140】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス5を用いたほかは実施例1と同様にして、
誘電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコ
ーン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定し
た。結果を表5に示す。
Further, in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 5 was used instead of the silicone varnish 1,
A silicone laminate for measuring dielectric properties (silicone laminate having electrodes) was prepared, and the relative permittivity and dielectric loss tangent were measured. Table 5 shows the results.

【0141】[実施例6]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解触媒(3)および水を表1に記載の量用いたほか
は実施例1と同様にして混合溶液をえ、IRスペクトル
により加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶液
を6−aという。
Example 6 In addition to the dialkoxysilane (1) shown in Table 1, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water, the amounts shown in Table 1 were used. In the same manner as in Example 1, a mixed solution was obtained, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is called 6-a.

【0142】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解触媒(3)および水を
表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混合
溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を行
なった。えられた混合溶液を溶液6−bという。
Separately, the phenyl or methyl trialkoxysilane (2) listed in Table 2, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water are added in the amounts listed in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 6-b.

【0143】つぎに、溶液1−aと1−bとのかわり
に、溶液6−aと溶液6−bとを用い、オイルバスの温
度を110分間かけて95℃まで昇温させたほかは実施
例1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シリ
コーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が70m
Pa・s、固有粘度が2cm3/gになったところで、
60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に記載
の脂肪族一価アルコール系溶剤(B)および金属原子を
含む縮合触媒(C)を表3に記載の量加えてよく撹拌
し、シリコーンワニスをえ、IRスペクトルで縮合反応
物を確認した。えられたシリコーンワニスをシリコーン
ワニス6という。
Next, the solution 6-a and the solution 6-b were used instead of the solutions 1-a and 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. A silicone oligomer solution was prepared in the same manner as in Example 1, and the silicone oligomer solution had an EL type rotational viscometer viscosity of 70 m.
When the Pa · s and the intrinsic viscosity become 2 cm 3 / g,
It was allowed to cool to 60 ° C or lower. After that, the aliphatic monohydric alcohol solvent (B) shown in Table 3 and the condensation catalyst (C) containing a metal atom are added in the amounts shown in Table 3 and well stirred to give a silicone varnish, which is condensed by IR spectrum. The reaction product was confirmed. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 6.

【0144】前記シリコーンワニス6の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 6 after storage at 45 ° C. for 6 months was measured in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the results.

【0145】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス6を用いたほかは実施例1と同様にして曲げ強度
測定用積層板(シリコーン積層板6)をえて評価した。
A laminate for measuring bending strength (silicone laminate 6) was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 6 was used instead of the silicone varnish 1.

【0146】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス6を用いたほかは実施例1と同様にして誘
電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコー
ン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定した。
結果を表5に示す。
A silicone laminate for measuring dielectric properties (silicone laminate having electrodes) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 6 was used in place of the silicone varnish 1, and the relative dielectric constant and dielectric loss tangent were obtained. Was measured.
Table 5 shows the results.

【0147】[実施例7]表1に記載のジアルコキシシ
ラン(1)、水溶性有機溶剤(4)、金属を含まない加
水分解触媒(3)および水を表1に記載の量用いたほか
は実施例1と同様にして混合溶液をえ、IRスペクトル
により加水分解物の同定を行なった。えられた混合溶液
を溶液7−aという。
Example 7 The dialkoxysilane (1), the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water shown in Table 1 were used in the amounts shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, a mixed solution was obtained, and the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as solution 7-a.

【0148】なお、表1に記載のDMDBOSはジメチ
ルジブトキシシランを示す。
DMDBOS shown in Table 1 is dimethyldibutoxysilane.

【0149】これとは別に、表2に記載のフェニルまた
はメチルトリアルコキシシラン(2)、水溶性有機溶剤
(4)、金属を含まない加水分解触媒(3)および水を
表2に記載の量用いたほかは実施例1と同様にして混合
溶液をえ、IRスペクトルにより加水分解物の同定を行
なった。えられた混合溶液を7−bという。
Separately, the phenyl or methyltrialkoxysilane (2) listed in Table 2, the water-soluble organic solvent (4), the metal-free hydrolysis catalyst (3) and water are added in the amounts listed in Table 2. A mixed solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrolyzate was identified by IR spectrum. The obtained mixed solution is referred to as 7-b.

【0150】なお、表2に記載のPTrBOSはフェニ
ルトリブトキシシランを示す。
PTrBOS shown in Table 2 represents phenyltributoxysilane.

【0151】つぎに、溶液1−aと1−bとのかわり
に、溶液7−aと溶液7−bとを用い、オイルバスの温
度を110分間かて95℃まで昇温させたほかは実施例
1と同様にしてシリコーンオリゴマー溶液をえ、シリコ
ーンオリゴマー溶液のEL型回転粘度計粘度が400m
Pa・s、固有粘度が4cm3/gになったところで、
60℃以下になるまで放冷した。そののち、表3に記載
の脂肪族一価アルコール系溶剤(B)および金属原子を
含む縮合触媒(C)を表3に記載の量加えてよく撹拌
し、シリコーンワニスをえた。縮合反応物の同定はIR
スペクトルで行なった。えられたシリコーンワニスをシ
リコーンワニス7という。
Next, the solution 7-a and the solution 7-b were used instead of the solutions 1-a and 1-b, and the temperature of the oil bath was raised to 95 ° C. over 110 minutes. A silicone oligomer solution was prepared in the same manner as in Example 1, and the viscosity of the silicone oligomer solution was 400 m in an EL type rotational viscometer.
When the Pa · s and the intrinsic viscosity become 4 cm 3 / g,
It was allowed to cool to 60 ° C or lower. After that, the aliphatic monohydric alcohol solvent (B) and the condensation catalyst (C) containing a metal atom shown in Table 3 were added in the amounts shown in Table 3 and well stirred to obtain a silicone varnish. Identification of condensation products is IR
Performed on the spectrum. The obtained silicone varnish is called silicone varnish 7.

【0152】前記シリコーンワニス7の45℃、6カ月
保存後の回転粘度計粘度変化を実施例1と同様にして測
定した。結果を表4に示す。
The viscosity change of the silicone varnish 7 after storage at 45 ° C. for 6 months was measured in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the results.

【0153】シリコーンワニス1のかわりにシリコーン
ワニス7を用いたほかは実施例1と同様にして曲げ強度
測定用積層板(シリコーン積層板7)をえて評価した。
A laminate for measuring bending strength (silicone laminate 7) was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 7 was used instead of the silicone varnish 1.

【0154】また、シリコーンワニス1のかわりにシリ
コーンワニス7を用いたほかは実施例1と同様にして誘
電特性測定用シリコーン積層板(電極を有するシリコー
ン積層板)をえ、比誘電率および誘電正接を測定した。
結果を表5に示す。
A silicone laminate for measuring dielectric properties (silicone laminate having electrodes) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone varnish 7 was used instead of the silicone varnish 1, and the relative permittivity and dielectric loss tangent were obtained. Was measured.
Table 5 shows the results.

【0155】[0155]

【表1】 [Table 1]

【0156】[0156]

【表2】 [Table 2]

【0157】[0157]

【表3】 [Table 3]

【0158】[0158]

【表4】 [Table 4]

【0159】[0159]

【表5】 [Table 5]

【0160】[実施例8]シリコーンワニス4および直
径9μmのEガラス繊維を平織りにし、表面をアミノシ
ラン処理したガラスクロスを用いて平野金属(株)製プ
リプレグ専用処理機で、幅20mm、長さ20mのシリ
コーン/ガラスクロスリボン型プリプレグを作製した。
このときの乾燥条件は120℃で10分間とした。えら
れたリボン型プリプレグをプリプレグ8という。
[Embodiment 8] A silicone varnish 4 and E glass fiber having a diameter of 9 μm were plain woven, and the surface was treated with aminosilane. A silicone / glass cloth ribbon type prepreg was manufactured.
The drying condition at this time was 120 ° C. for 10 minutes. The obtained ribbon type prepreg is called prepreg 8.

【0161】プリプレグ8を直径50mm、長さ5mの
銅パイプの外周に右巻きと左巻きを交互にし、手で螺旋
状に巻き付け、その上にシリコーン離型剤を塗布したア
ルミ箔をかぶせ、加熱用のリボンヒータを螺旋状に巻き
付けたのち、熱拡散防止用の断熱リボン(ガラスクロ
ス)を巻き付けた。つぎにリボンヒータに通電し、この
リボンヒータを180℃まで加熱し、そのまま60分間
放置後、さらにこのリボンヒーター温度を250℃まで
上げ、60分間放置したのち硬化したプリプレグが強力
に接着された銅管がえられた。この工法は特に、既に配
管されている管あるいは長い管の一部だけに処理を施す
のに効果的である。
The prepreg 8 is wound around the outer circumference of a copper pipe having a diameter of 50 mm and a length of 5 m with right-hand and left-hand turns alternately and wound by hand in a spiral shape, and an aluminum foil coated with a silicone release agent is covered on it for heating. After winding the ribbon heater of (1) in a spiral shape, a heat insulating ribbon (glass cloth) for preventing heat diffusion was wound. Next, the ribbon heater is energized, the ribbon heater is heated to 180 ° C., left as it is for 60 minutes, then the ribbon heater temperature is further raised to 250 ° C. and left for 60 minutes, and then the cured prepreg is strongly bonded to the copper. I got a tube. This method is particularly effective for treating only a part of a pipe or a long pipe that has already been piped.

【0162】[実施例9]実施例4と同様にして作製し
たシリコーンプリプレグ4を100mm×100mmに
カットし、30枚重ね、シリコーン離型剤を塗布したア
ルミ箔で上下をはさんで、170℃で4時間キュアー
し、さらに250℃で1時間キュアーすることにより、
厚さ約7mmの積層板をえた。えられた積層板をシリコ
ーン積層板9という。
[Example 9] Silicone prepreg 4 produced in the same manner as in Example 4 was cut into 100 mm x 100 mm pieces, 30 sheets were piled up, and sandwiched with an aluminum foil coated with a silicone mold release agent at 170 ° C. After curing for 4 hours at 250 ° C for 1 hour,
A laminated plate having a thickness of about 7 mm was obtained. The obtained laminated plate is referred to as a silicone laminated plate 9.

【0163】シリコーン積層板9をJIS−6911に
従って、曲げ強度試験を行なったところ、12Kgf/
mm2の破壊強度をえた。また、この積層板を300℃
のもと90日間保ったのち、前記方法で曲げ強度を測定
したところ、10Kgf/mm2の破壊強度をえた。
The silicone laminate 9 was subjected to a bending strength test in accordance with JIS-6911 and found to be 12 Kgf /
A breaking strength of mm 2 was obtained. In addition, this laminated board
After being kept for 90 days under the conditions described above, the bending strength was measured by the above method, and a breaking strength of 10 Kgf / mm 2 was obtained.

【0164】この工法では、特にプレス機を使用せず、
平板の作製は自重で成形できる。また複雑な形状でも簡
単な金型で成形可能であり、金型の自重(0.1Kgf
/cm2)であれば充分成形できるため、たとえばレー
ダー用コンフォーマル基板など非平面の積層板が容易に
えられる。
In this construction method, a press machine is not particularly used,
The flat plate can be formed by its own weight. In addition, even complicated shapes can be molded with a simple mold, and the mold's own weight (0.1 Kgf
/ Cm 2 ) can be sufficiently molded, so that a non-planar laminated plate such as a conformal substrate for radar can be easily obtained.

【0165】[実施例10]実施例1と同様にして作製
したシリコーンワニス1の500gに球状アルミナ粒子
(平均粒径26μm)1700gを加えて、よく混練し
た。これをポリテトラフルオロエチレンフィルムを貼り
付けたガラス板上に厚さ約0.3mmになるように延ば
し、真空オーブンに入れ、これを1mmHgに減圧し、
常温で1時間放置後、減圧を保ちながら昇温速度5℃/
分で、40℃まで昇温し、この温度を10分間ホールド
し、つづいて60℃まで昇温し、この温度を15分間ホ
ールドして乾燥させることにより、表面にタックのない
フィルムを作製した。このフィルムを200mm角にな
るようにカッターナイフで切り、200mm角の1mm
厚アルミ板の上に重ね、その上に厚さ35μmの銅箔を
重ね、3Kgf/cm2圧で、120℃2時間、さらに
170℃で3時間真空プレスし、基板(金属ベース基
板)をえた。えられた基板のシリコーン樹脂層の厚さは
112μmであった。この基板を直径2cmの円板状に
打ち抜き、打ち抜いた基板の両側の金属層をエッチング
液で除去したのち、キセノンフラッシュ法で熱伝導率を
測定したところ、4.0W/m・Kであった。また、耐
電圧は8KVで2分間あった。
Example 10 To 500 g of Silicone varnish 1 produced in the same manner as in Example 1, 1700 g of spherical alumina particles (average particle size 26 μm) were added and kneaded well. This is spread on a glass plate with a polytetrafluoroethylene film attached to a thickness of about 0.3 mm, placed in a vacuum oven, and the pressure is reduced to 1 mmHg.
After left at room temperature for 1 hour, the temperature rising rate is 5 ° C /
In 40 minutes, the temperature was raised to 40 ° C., the temperature was held for 10 minutes, then the temperature was raised to 60 ° C., the temperature was held for 15 minutes, and the film was dried to prepare a film having no tack on the surface. Cut this film with a cutter knife so that it will be 200 mm square, and 1 mm of 200 mm square.
A thick aluminum plate was overlaid, a copper foil with a thickness of 35 μm was overlaid thereon, and vacuum pressed at 3 Kgf / cm 2 pressure at 120 ° C. for 2 hours and at 170 ° C. for 3 hours to obtain a substrate (metal base substrate). . The thickness of the silicone resin layer of the obtained substrate was 112 μm. This substrate was punched into a disk shape with a diameter of 2 cm, the metal layers on both sides of the punched substrate were removed with an etching solution, and the thermal conductivity was measured by the xenon flash method to find that it was 4.0 W / mK. . The withstand voltage was 8 KV for 2 minutes.

【0166】なお、耐電圧はASTM D149に準じ
た装置を用い、フロリナートオイル中で、60Hz、
0.5KV/s、8KVまで昇圧し、そののち絶縁破壊
が起こるまで電圧をホールドして絶縁破壊までの通電時
間を測定した。
The withstand voltage was 60 Hz in Fluorinert oil, using a device conforming to ASTM D149.
The voltage was increased to 0.5 KV / s and 8 KV, and then the voltage was held until dielectric breakdown occurred, and the energization time until dielectric breakdown was measured.

【0167】[実施例11]シリコーンワニス2を用い
たほかは実施例1と同様にしてえた銅板を設けた積層板
に通常の手法(ここではスルーホール開け、パネル銅メ
ッキ、レジストフィルム張り付け、露光、現像、銅エッ
チングおよびレジスト剥離などの工程からなる手法を用
いた)でライン&スペース200μmおよび500μm
のマイグレーションテスト用櫛形パターンを片面に、他
の面に半田浸漬テスト用のライン幅1.27mm、長さ
80mmをスペース1.91mmで形成した形状の2枚
の基板を櫛形パターン面を内側にして同じ向きに重ね、
その2枚の間に実施例2と同様にしてえられたシリコー
ンプリプレグを挟み込み、10Kgf/cm2の圧力で
170℃で3時間プレスし、さらにプレスから取り出
し、200℃で2時間ののち硬化を行なった。つぎに、
内側の櫛形パターンを層間で導通させるための直径0.
2mmのスルーホールを8カ所(各ライン&スペースに
2対ずつ)あけ、レジストを用いてスルーホール部にメ
ッキを施し、ソルダーレジストを印刷することにより4
層プリント基板をえた。この基板を260℃の半田浴に
5分間浸漬したが、外観上のパターン膨れ、基板の変形
などの変化がみられず良好であった。さらに櫛形電極の
絶縁低下もみられず、スルーホールの導通は良好であっ
たことから、基板の耐熱性が良好であることがわかっ
た。
[Embodiment 11] A laminated board provided with a copper plate obtained in the same manner as in Embodiment 1 except that the silicone varnish 2 was used was prepared by a conventional method (through hole opening, panel copper plating, resist film attachment, exposure). Line & space 200μm and 500μm)
Of the migration test comb-shaped pattern on one side and the solder-immersion test line width of 1.27 mm and a length of 80 mm on the other surface with a space of 1.91 mm, with the comb-shaped pattern side facing inward. Stack in the same direction,
A silicone prepreg obtained in the same manner as in Example 2 was sandwiched between the two sheets and pressed at 170 ° C. for 3 hours at a pressure of 10 Kgf / cm 2 , further taken out of the press, and then cured at 200 ° C. for 2 hours. I did. Next,
The diameter for connecting the inner comb-shaped pattern between the layers is 0.
8 2mm through-holes (2 pairs in each line & space), plating through-holes with resist, and printing solder resist 4
Layer printed circuit board. When this board was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 5 minutes, no change was observed such as swelling of the pattern or deformation of the board, which was good. Further, the insulation of the comb-shaped electrodes was not deteriorated, and the conduction of the through holes was good. Therefore, it was found that the heat resistance of the substrate was good.

【0168】[実施例12]フェニルトリメトキシシラ
ン10部、ジメチルジメトキシシラン4.5部、エチル
セロソルブ5部、リン酸10%水溶液0.2部を仕込
み、加熱反応させ、固有粘度2.6cm3/gの縮合物
をえ、それを固形分40%になるようにトルエン:イソ
プロパノール=1:1(重量比)の混合溶剤で希釈し、
テトライソプロポキシチタン0.7部を加えてシリコー
ンワニスを作製し、厚さ1.57mm、縦横40mm角
のBTレジン銅張り積層板(三菱ガス化学(株)製のC
CL−HL870)上に、ナフトキノンジアジド型ポジ
型レジストAZ LP−10(ヘキスト社製)を用いて
ライン&スペース100μm、長さ10mm、幅8mm
の矩形ジグザグパターンを片面に4個作り、その上に実
施例3でえられたシリコーンワニスを800rpmで、
1分間スピンコートした。60℃で10分間、ついで8
0℃で15分間乾燥させたあと上から無電解薄付け銅メ
ッキ、つぎに電解メッキを行ない、ポジ型レジストAZ
LP−10(ヘキスト社製)で層間バイアホールのパ
ターニングを行なった。層間バイヤーホールはジグザグ
パターンの両端にコンタクトする位置に直径50μmで
計8カ所設けられた。このレジストパターンをマスクと
して下層のメッキをエッチングし、レジストを剥離する
ことによりバイヤーホール部分のみ穴のあいた金属マス
クがシリコーン樹脂プリベーグ膜上に形成されたことに
なる つぎに、トルエン/メタノール=1:1(重量比)での
混合液に超音波を当てながら浸漬すると約2分後に下層
のシリコーン膜がエッチングされるので、液から引き上
げ、IPAでリンスした。ついで銅メッキを剥離し、1
20℃で1時間、さらに150℃で1時間で硬化するこ
とによりバイヤーホールがあいたシリコーン樹脂硬化膜
をえた。この硬化膜の膜厚は35μmであった。
Example 12 10 parts of phenyltrimethoxysilane, 4.5 parts of dimethyldimethoxysilane, 5 parts of ethyl cellosolve and 0.2 part of a 10% phosphoric acid aqueous solution were charged, and the mixture was heated and reacted to give an intrinsic viscosity of 2.6 cm 3. / G of the condensate, and dilute it with a mixed solvent of toluene: isopropanol = 1: 1 (weight ratio) so that the solid content is 40%,
A silicone varnish was prepared by adding 0.7 part of tetraisopropoxy titanium, and a BT resin copper clad laminate having a thickness of 1.57 mm and a length of 40 mm square (C manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.)
CL-HL870), using a naphthoquinone diazide type positive resist AZ LP-10 (manufactured by Hoechst), line & space 100 μm, length 10 mm, width 8 mm.
4 rectangular zigzag patterns are prepared on one side, and the silicone varnish obtained in Example 3 is applied thereon at 800 rpm.
Spin coated for 1 minute. 10 minutes at 60 ℃, then 8
After drying at 0 ° C for 15 minutes, electroless thin copper plating is performed from the top, and then electrolytic plating is performed to obtain a positive resist AZ.
The interlayer via holes were patterned with LP-10 (manufactured by Hoechst). Interlayer buyer holes were provided in a total of 8 places with a diameter of 50 μm at positions contacting both ends of the zigzag pattern. By etching the lower layer plating using this resist pattern as a mask and peeling off the resist, a metal mask with holes only in the buyer hole portions was formed on the silicone resin prebague film. Next, toluene / methanol = 1: When immersed in a mixed solution of 1 (weight ratio) while applying ultrasonic waves, the lower silicone film was etched after about 2 minutes, so the solution was lifted from the solution and rinsed with IPA. Then peel off the copper plating, 1
By curing at 20 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour, a cured silicone resin film having a buyer hole was obtained. The film thickness of this cured film was 35 μm.

【0169】つぎに、上から一様に無電解銅メッキを厚
さ5μmになるように形成し、この上にLP−10を塗
布し、配線パターンを形成する部分のみLP−10を除
去するネガパターンを形成した。パターンは下層に形成
した4つの矩形ジグザグパターンをそれぞれ2つ、つな
げるための100μm幅のライン2本のみとした。さら
に電解メッキを25μm厚になるように形成した。電解
メッキは無電解銅が露出した面のみに形成された。LP
−10を剥離し、銅を軽くエッチングすることにより、
無電解銅メッキのみの部分(メッキ厚の薄い部分)が除
去され、銅配線パターンがえられた(このパターニング
法をセミアデティブ法という)。銅パターンの上からシ
リコーンワニスを800rpm、1分間塗布し、乾燥後
同様にエッチングによりバイヤーホールをあけた。ホー
ルは2層目でつなげたバイヤーホールを除くホールと同
位置にあけた。シリコーン樹脂を同様に硬化したのち、
セミアディテブ法によりパターニングした。パターンは
バイヤーホール部分から最下層と同じパターンを形成し
た。つまり2層の矩形ジグザグパターンの間に2パター
ンづつの導通層を挟み込んだパターンとなる。この上に
感光性ソルダーレジストで端子(4カ所)以外をカバー
した。こうしてシリコーン樹脂膜を層間絶縁膜として3
層積み重ねて電子モジュール用ビルドアップ3層基板を
えた。
Next, electroless copper plating is uniformly formed from above to a thickness of 5 μm, LP-10 is applied on this, and LP-10 is removed only on the portion where the wiring pattern is to be formed. A pattern was formed. As for the pattern, each of the four rectangular zigzag patterns formed in the lower layer was two, and only two 100 μm-width lines for connecting were formed. Further, electrolytic plating was formed to have a thickness of 25 μm. Electrolytic plating was formed only on the surface where the electroless copper was exposed. LP
By removing -10 and lightly etching the copper,
A portion of only electroless copper plating (a portion having a small plating thickness) was removed to obtain a copper wiring pattern (this patterning method is called a semi-additive method). A silicone varnish was applied onto the copper pattern at 800 rpm for 1 minute, dried, and similarly etched to form a buyer hole. The hole was made at the same position as the hole except the buyer hole connected by the second layer. After curing the silicone resin in the same way,
Patterning was performed by the semi-additive method. The same pattern as the bottom layer was formed from the buyer hole portion. In other words, it is a pattern in which two conductive layers are sandwiched between two rectangular zigzag patterns. A portion other than the terminals (4 places) was covered with a photosensitive solder resist. In this way, the silicone resin film is used as an interlayer insulating film.
The layers were stacked to obtain a build-up three-layer board for an electronic module.

【0170】この電子モジュール用ビルドアップ3層基
板の端子間の導通は良好で、260℃半田浴に5分間浸
漬したが、外見変化および導通変化は見られなかった。
The electrical continuity between the terminals of this electronic module build-up three-layer substrate was good, and no change in appearance or electrical continuity was observed when immersed in a solder bath at 260 ° C. for 5 minutes.

【0171】[実施例13]メチルトリメトキシシラン
9部、ジメチルジメトキシシラン4.5部、エチルセロ
ソルブ5部、リン酸10%水溶液0.2部を仕込み、加
熱反応させ、固有粘度2.4cm3/gの縮合物をえ、
それを固形分60%になるようにトルエン:イソプロパ
ノール=1:1(重量比)の混合溶剤で希釈し、テトラ
イソプロポキシチタン0.7部を加えてシリコーンワニ
スを作製し、E−ガラスクロス(繊維系9μm、平織
り、厚さ0.22)に前記シリコーンワニスを含浸さ
せ、120℃で15分間風乾し、処理比1.9のプリプ
レグをえた。えられたプリプレグを15枚重ね、重ねた
まま170℃で20時間加熱したのち、200℃、8K
gf/cm2の圧力で1.5時間プレスした。えられた
積層板の厚さは3.4mmであった。この積層板を実施
例1と同様にプリプレグと銅箔で挟み、170℃、8K
gf/cm2で1.5時間プレスしたのちプレス機から
取り出し、200℃で1時間、250℃で2時間硬化さ
せて銅張り積層板をえた。この銅張り積層板から実施例
8と同様にして多層基板をえた。
Example 13 Methyltrimethoxysilane (9 parts), dimethyldimethoxysilane (4.5 parts), ethylcellosolve (5 parts) and phosphoric acid 10% aqueous solution (0.2 parts) were charged and heated to give an intrinsic viscosity of 2.4 cm 3. / G of condensate,
It was diluted with a mixed solvent of toluene: isopropanol = 1: 1 (weight ratio) so as to have a solid content of 60%, 0.7 part of tetraisopropoxytitanium was added to prepare a silicone varnish, and E-glass cloth ( A fiber type 9 μm, plain weave, thickness 0.22) was impregnated with the above silicone varnish and air dried at 120 ° C. for 15 minutes to obtain a prepreg having a treatment ratio of 1.9. Fifteen sheets of the obtained prepreg were piled up, and the piled prepregs were heated at 170 ° C for 20 hours, then 200 ° C, 8K
It was pressed at a pressure of gf / cm 2 for 1.5 hours. The thickness of the obtained laminated plate was 3.4 mm. This laminated plate was sandwiched between a prepreg and a copper foil in the same manner as in Example 1, 170 ° C., 8K
After pressing at gf / cm 2 for 1.5 hours, it was taken out of the press and cured at 200 ° C. for 1 hour and 250 ° C. for 2 hours to obtain a copper-clad laminate. A multilayer board was obtained from this copper-clad laminate in the same manner as in Example 8.

【0172】これを260℃の半田浴に5分間浸漬した
が、外観上のパターン膨れ、基板の変形などの変化がみ
られず良好であった。さらに櫛形電極の導通も見られ
ず、スルーホールの導通は良好であったことから、基板
の耐熱性が良好であることがわかった。
When this was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 5 minutes, no change in appearance such as pattern swelling or deformation of the substrate was observed, which was good. Further, the conduction of the comb-shaped electrodes was not observed, and the conduction of the through holes was good. Therefore, it was found that the heat resistance of the substrate was good.

【0173】[実施例14]フェニルトリメトキシシラ
ン10部、メチルフェニルジメトキシシラン7.0部、
エチルセロソルブ5部、シュウ酸10%水溶液0.4部
で仕込み、加熱反応させ、固有粘度2.2cm3/gの
縮合物をえ、それを固形分65%になるようにトルエ
ン:エタノール=1:1(重量比)の混合溶剤で希釈
し、テトラメトキシシチタン0.6部を加えてシリコー
ンワニスを作製し、スピンコート条件を1000rp
m、1分間にした以外は実施例12と同条件で多層基板
をえた。
[Example 14] 10 parts of phenyltrimethoxysilane, 7.0 parts of methylphenyldimethoxysilane,
Charge with 5 parts of ethyl cellosolve and 0.4 part of 10% aqueous solution of oxalic acid, and heat the mixture to obtain a condensate having an intrinsic viscosity of 2.2 cm 3 / g. Toluene: ethanol = 1 to make the solid content 65%. Dilute with a mixed solvent of 1 (weight ratio), add 0.6 parts of tetramethoxycytitanium to prepare a silicone varnish, and set spin coating conditions to 1000 rp.
A multi-layer substrate was obtained under the same conditions as in Example 12 except that m was set to 1 minute.

【0174】この多層基板の端子間の導通は良好で、2
60℃半田浴に5分間浸漬したが、外見変化および導通
不良は見られなかった。
The electrical continuity between the terminals of this multilayer substrate is good, and
After immersion in a 60 ° C. solder bath for 5 minutes, no change in appearance or poor conduction was observed.

【0175】[実施例15]実施例2と同様にして作製
したシリコーンワニス2の500gにBaTiO3破砕
物(高純度化学研究所製)を100メッシュのふるいに
とおしたもの500gを加え、よく撹拌したのち、ポリ
テトラフルオロエチレンフィルムを貼り付けた角ガラス
板上に厚さ0.5mmになるように塗布し真空オーブン
に入れる、これを1mmHgに減圧し、室温で2時間放
置後、減圧を保ちながら昇温速度5℃/分で、40℃ま
で昇温し、この温度を15分間ホールドし、つづいて6
0℃まで昇温し、この温度を10分間ホールドして乾燥
させることにより、表面にタックのない固いフィルムが
えられた。このフィルムをハンマーで破砕し、50メッ
シュのふるいにとおした。えられた粉末5gを内径20
mm、高さ40mmの円筒状のステンレス金型に詰め、
金型内をロータリーポンプで減圧しながら、10Kgf
/cm2圧で上から金型内の粉末を圧縮した。ついで金
型を170℃まで5℃/分で昇温し、170℃で1時間
ホールドした。このようにして円盤状の厚さ約1mmの
円盤成形体がえられた。えられた成形体をさらに200
℃1時間で後硬化させ、そののち両面にCu電極を蒸着
し、容量法で誘電物性を測定したところ、1MHzで比
誘電率が800であり、誘電正接が0.0004であっ
た。
Example 15 To 500 g of Silicone varnish 2 produced in the same manner as in Example 2, 500 g of BaTiO 3 crushed product (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) passed through a 100-mesh sieve was added and well stirred. After that, apply it to a square glass plate with a polytetrafluoroethylene film attached to a thickness of 0.5 mm and put it in a vacuum oven. Reduce the pressure to 1 mmHg and leave it at room temperature for 2 hours, then keep the reduced pressure. While raising the temperature to 40 ° C at a temperature rising rate of 5 ° C / min, hold this temperature for 15 minutes, then continue to 6
By raising the temperature to 0 ° C., holding this temperature for 10 minutes and drying, a hard film having no tack on the surface was obtained. The film was crushed with a hammer and passed through a 50 mesh sieve. 5 g of the obtained powder with an inner diameter of 20
mm, height 40 mm, packed in a cylindrical stainless steel mold,
While depressurizing the inside of the mold with a rotary pump, 10 kgf
The powder in the mold was compressed from above with a pressure of / cm 2 . Then, the mold was heated to 170 ° C. at 5 ° C./minute and held at 170 ° C. for 1 hour. In this way, a disk-shaped molded body having a thickness of about 1 mm was obtained. The obtained molded body is further 200
After post-curing at 1 ° C. for 1 hour, Cu electrodes were vapor-deposited on both surfaces, and the dielectric properties were measured by the capacitance method. As a result, the relative dielectric constant was 800 and the dielectric loss tangent was 0.0004 at 1 MHz.

【0176】[比較例1]PTEOS 480g、DM
DMOS 88.8g、水 157g、トリフルオロメ
タンスルフォン酸5%水溶液10gを1Lビーカーに入
れ、100℃で撹拌したところ2時間後より増粘が始ま
り、約20分後にゲル化し、トルエン、メタノール、N
−メチルピロリドン、メチルエチルケトンならびにテト
ラヒドロフランおよびその混合液に対して不溶となっ
た。
[Comparative Example 1] PTEOS 480 g, DM
DMOS 88.8 g, water 157 g, and trifluoromethanesulfonic acid 5% aqueous solution 10 g were placed in a 1 L beaker and stirred at 100 ° C., thickening started after 2 hours, and gelled after about 20 minutes, toluene, methanol, N.
-Insoluble in methylpyrrolidone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran and a mixture thereof.

【0177】[比較例2]PTEOS 480g、DM
DMOS 88.8g、水 157g、リン酸10%水
溶液5gを1Lビーカーに入れ、100℃で4時間撹拌
させた。えられた溶液にMIBK(メチルイソブチルケ
トン)100gを加え、この溶液をガラスクロスに含浸
させたのち120℃で5分間乾燥させてプリプレグをえ
た。しかしながら、このプリプレグはすでに硬化が進ん
でおり、このプリプレグを5cm角に切断し、10枚重
ねて170℃、50Kgf/cm2でプレスを行なった
が樹脂成分が流れる積層板を作製することができなかっ
た。
[Comparative Example 2] PTEOS 480 g, DM
DMOS (88.8 g), water (157 g) and phosphoric acid 10% aqueous solution (5 g) were placed in a 1 L beaker and stirred at 100 ° C. for 4 hours. 100 g of MIBK (methyl isobutyl ketone) was added to the obtained solution, glass cloth was impregnated with this solution, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg. However, this prepreg has already been hardened, and this prepreg was cut into 5 cm square pieces, 10 sheets were stacked and pressed at 170 ° C. and 50 Kgf / cm 2 , but a laminated plate through which a resin component flows can be produced. There wasn't.

【0178】[比較例3]PTEOS 480g、DM
DMOS 88.8g、水 157g、リン酸10%水
溶液5gを1Lビーカーに入れ、100℃で4時間撹拌
させた。えられた溶液にトルエン100gを加え、つぎ
に10%炭酸ナトリウム溶液50gを加え、内容物を分
液ロートに移し、トルエン層のみを抽出した。えられた
トルエン溶液は保存安定性に優れており、25℃で3カ
月間保存後も変化が見られなかった。しかしながら、ナ
フテン酸亜鉛(Zn含有8%ミネラルスピリット溶液)
5gを加えると25℃、2日でゲル化してしまった。こ
のため、この樹脂組成物は使用直前に硬化触媒(ナフテ
ン酸亜鉛など)を添加しなければならなかった。
[Comparative Example 3] PTEOS 480 g, DM
DMOS (88.8 g), water (157 g) and phosphoric acid 10% aqueous solution (5 g) were placed in a 1 L beaker and stirred at 100 ° C. for 4 hours. To the resulting solution was added 100 g of toluene, then 50 g of 10% sodium carbonate solution, the contents were transferred to a separating funnel, and only the toluene layer was extracted. The obtained toluene solution had excellent storage stability, and no change was observed even after storage at 25 ° C. for 3 months. However, zinc naphthenate (Zn-containing 8% mineral spirit solution)
When 5 g was added, gelation occurred at 25 ° C for 2 days. Therefore, a curing catalyst (zinc naphthenate or the like) had to be added to this resin composition immediately before use.

【0179】[0179]

【発明の効果】【The invention's effect】

(A)(1)フェニル基および炭素数1〜3のアルキル
基のうちの1種または2種を有し、炭素数1〜4のアル
コキシ基を有するジアルコキシシラン、(2)炭素数1
〜4のアルコキシ基を有するフェニルトリアルコキシシ
ランまたはメチルトリアルコキシシラン、(3)金属を
含まずかつ、塩素原子およびリン原子の少くとも1種を
含む無機酸またはPKa値が0.8〜6である有機酸、
および(4)水または水と脂肪族一価アルコールを除く
水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合物を加熱下、脱水
縮合してえられた25℃での固有粘度が0.1〜10c
3/gのシリコーンオリゴマー、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒からなる本発明のシリコ
ーンワニスは、コーティング、層間絶縁膜、プリプレ
グ、積層板、プリント基板などに適した高耐熱シリコー
ン系ワニスである。また、このシリコーンワニスは長期
間の保存によっても、その特性が安定性したものであ
る。
(A) (1) a dialkoxysilane having one or two kinds of a phenyl group and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (2) having 1 carbon atom
Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group of ~ 4, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0.8 to 6 Some organic acids,
And (4) the intrinsic viscosity at 25 ° C. obtained by dehydration condensation of water or a mixture of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol under heating is 0.1 to 10 c.
The silicone varnish of the present invention comprising m 3 / g of a silicone oligomer, (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same, and (C) a condensation catalyst containing a metal atom is a coating, an interlayer insulating film, a prepreg or a laminate. High heat resistant silicone varnish suitable for boards and printed circuit boards. In addition, the characteristics of this silicone varnish are stable even after long-term storage.

【0180】前記水または水と脂肪族一価アルコールを
除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)がグリコール
エーテルを含む溶剤であることにより、加水分解したア
ルコキシシランおよびその縮合体が、このグリコールエ
ーテルを含む溶剤に溶解しやすくなり、好適なシリコー
ンワニスをえることができる。
When the solvent (4) consisting of water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is a solvent containing a glycol ether, the hydrolyzed alkoxysilane and its condensate are It becomes easy to dissolve in a solvent containing ether, and a suitable silicone varnish can be obtained.

【0181】前記金属を含まずかつ、塩素原子およびリ
ン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が
0.8〜6である有機酸(3)が、リン酸、塩酸、シュ
ウ酸、酢酸またはギ酸であることにより、ほとんどゲル
化させることなくアルコキシシランを縮重合させること
ができ、好適なシリコーンワニスをえることができる。
An inorganic acid containing no metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6 is phosphoric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, By using acetic acid or formic acid, the alkoxysilane can be polycondensed with almost no gelation, and a suitable silicone varnish can be obtained.

【0182】前記金属原子を含む縮合触媒(C)が、有
機酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸コバルト塩、有機酸亜
鉛塩、有機酸マンガン塩、有機酸鉄塩または炭素数1〜
4のアルコキシ基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基
およびアセトキシ基を含むモノチタン化合物であり、有
機酸がヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸またはナフテ
ン酸であることにより、この縮合触媒がシラノール縮合
に対する触媒効果が大きいので、好適なシリコーンワニ
スをえることができる。
The condensation catalyst (C) containing a metal atom is an organic acid tin salt, an organic acid lead salt, an organic acid cobalt salt, an organic acid zinc salt, an organic acid manganese salt, an organic acid iron salt or a carbon number 1 to 1
A monotitanium compound containing an alkoxy group of 4 or an alkoxy group of 1 to 4 carbon atoms and an acetoxy group, and the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid or naphthenic acid, the condensation catalyst for silanol condensation. Since the catalytic effect is great, a suitable silicone varnish can be obtained.

【0183】前記シリコーンワニスを補強布、不織布ま
たはフィラメントに含浸させて、タックがない状態まで
乾燥させたシリコーンワニス含浸プリプレグは、基材に
対する、あるいはプリプレグ同士の密着性に優れている
ため、基材表面に断熱層や絶縁膜を設けたり、積層板を
成形するのに適している。また、このシリコーンワニス
含浸プリプレグはタックがない状態まで乾燥させてある
ので、重ねて保存することができる。また、タックフリ
ーになるまで乾燥させた、このシリコーンワニス含浸プ
リプレグ中にもプリプレグの保存安定性を維持するのに
有効な脂肪族一価アルコールが残存しており、これらは
シラノール縮合を阻害するので、プリプレグの保存安定
性もよい。また、このシリコーンワニス含浸プリプレグ
は基材表面に断熱層や絶縁膜を設けたり、積層板を成形
するのに適しており、さらに、接着や積層化のために特
別に強い圧力が必要ではないため、プレス機などの特殊
な装置を用いなくても充分な接着力、層間強度がえられ
る。
A silicone varnish-impregnated prepreg obtained by impregnating a reinforcing cloth, a non-woven fabric or a filament with the above-mentioned silicone varnish and drying it to a tack-free state has excellent adhesion to a substrate or between prepregs. It is suitable for providing a heat insulating layer or insulating film on the surface, or for forming a laminated plate. Further, since the prepreg impregnated with the silicone varnish is dried to a tack-free state, it can be stored repeatedly. Also, in this prepreg impregnated with silicone varnish that has been dried to be tack-free, there are residual aliphatic monohydric alcohols that are effective in maintaining the storage stability of the prepreg, and these inhibit silanol condensation. The storage stability of the prepreg is also good. Further, this silicone varnish impregnated prepreg is suitable for providing a heat insulating layer or an insulating film on the surface of a base material, or for forming a laminated board, and further, no particularly strong pressure is required for adhesion and lamination. , Sufficient adhesive strength and interlayer strength can be obtained without using a special device such as a press.

【0184】前記シリコーンワニス含浸プリプレグはプ
リプレグ同士の密着性に優れているため、これを複数枚
重ねて熱硬化させ、好適な複合材料にすることができ
る。
Since the prepreg impregnated with the silicone varnish has excellent adhesiveness between the prepregs, a plurality of the prepregs can be laminated and heat-cured to obtain a suitable composite material.

【0185】前記シリコーンワニス含浸プリプレグは基
材に対する密着性に優れているため、これを基材にかぶ
せてまたは巻き付けて熱硬化させ、好適な複合材料にす
ることができる。
Since the silicone varnish-impregnated prepreg has excellent adhesion to the base material, it can be covered with or wrapped around the base material and heat-cured to obtain a suitable composite material.

【0186】前記シリコーン含浸プリプレグを複数枚重
ねて熱硬化させてえられた複合材料は、優れた機械強度
を有し、ガラス−エポキシ積層板に比べ誘電率が低く、
誘電損失が小さいという特性を有するものである。それ
ゆえ、複合材料の両面または片面に銅、アルミなどから
なる金属層を設けることにより、プリント基板用積層板
として好適に使用することができる。
The composite material obtained by stacking a plurality of the silicone-impregnated prepregs and thermosetting them has excellent mechanical strength, has a lower dielectric constant than the glass-epoxy laminate,
It has a characteristic that the dielectric loss is small. Therefore, by providing a metal layer made of copper, aluminum or the like on both surfaces or one surface of the composite material, the composite material can be suitably used as a laminated board for a printed circuit board.

【0187】前記プリント基板用積層板の片面または両
面に回路を形成することによりプリント基板を製造する
ことができ、さらに、このようにして製造したプリント
基板を2枚以上、好ましくは2〜15枚重ね、プリント
基板とプリント基板との間に前記シリコーンワニス含浸
プリプレグを挟み込み、熱プレス成形することにより、
多層構造を有するプリント基板を製造することができ
る。
A printed circuit board can be manufactured by forming a circuit on one side or both sides of the above-mentioned laminated board for a printed circuit board, and further, two or more, preferably 2 to 15 printed circuit boards thus manufactured. By stacking, sandwiching the silicone varnish-impregnated prepreg between the printed circuit board and the printed circuit board, and performing hot press molding,
A printed circuit board having a multilayer structure can be manufactured.

【0188】前記シリコーンワニスの硬化物はエポキシ
樹脂に比べ耐熱性に優れており、さらに誘電率が低く、
誘電損失が低いため、電子回路モジュール用ビルドアッ
プ基板の層間絶縁膜に適している。
The cured product of the silicone varnish is superior in heat resistance to the epoxy resin and has a low dielectric constant.
Since it has low dielectric loss, it is suitable as an interlayer insulating film for build-up boards for electronic circuit modules.

【0189】また、前記シリコーンワニスは、プリプレ
グを製造するかわりに、シリコーンワニスと無機の粉
体、粒子またはウィスカーとの混合物を製造し、加熱し
て脱溶媒してフイルム状物をえたり、固体をえたりして
用いてもよい。このフィルム状物または固体を粉砕した
ものは、複雑な形状の固体の成形に適している。
In the silicone varnish, instead of producing a prepreg, a mixture of silicone varnish and inorganic powder, particles or whiskers is produced and heated to remove the solvent to obtain a film-like substance, or a solid substance. You may use it after changing. This film-like material or a crushed solid is suitable for molding a solid having a complicated shape.

【0190】前記複合成形体としては、たとえばアルミ
ナ粒子単体またはアルミナ粒子とチッ化ホウ素粒子とを
添加した高熱伝導性樹脂材料、TiO2粒子などの高誘
電率粒子を添加した高誘電率コンデンサー材料などがあ
げられる。前記高熱伝導性樹脂材料を用い、これとアル
ミ基板などの金属板状物とを接着させ、さらに銅箔を接
着させることにより放熱プリント基板を製造することが
できる。この放熱プリント基板はパワーモジュールなど
の放熱を要する部品搭載基板に適している。また、前記
高誘電率コンデンサー材料を用い、これを電極で挟みサ
ンドイッチ構造のコンデンサー部品を製造することがで
きる。また前記高誘電率コンデンサー材料をフィルム状
に成形し、基板に直接張り付けることにより、カップリ
ングキャパシタとして好適に使用することができる。
Examples of the composite molded body include, for example, alumina particles alone or a high heat conductive resin material containing alumina particles and boron nitride particles, and a high dielectric constant capacitor material containing high dielectric constant particles such as TiO 2 particles. Can be given. A heat dissipation printed circuit board can be manufactured by using the high thermal conductive resin material, adhering it to a metal plate-like material such as an aluminum substrate, and further adhering a copper foil thereto. This heat dissipation printed board is suitable for a component mounting board such as a power module that requires heat dissipation. Further, it is possible to manufacture a sandwich-type capacitor component by sandwiching the high dielectric constant capacitor material with electrodes. In addition, the high dielectric constant capacitor material is formed into a film and directly attached to a substrate, so that it can be suitably used as a coupling capacitor.

【0191】(A)(1)フェニル基および炭素数1〜
3のアルキル基のうちの1種または2種を有し、炭素数
1〜4のアルコキシ基を有するジアルコキシシラン、
(2)炭素数1〜4のアルコキシ基を有するフェニルト
リアルコキシシランまたはメチルトリアルコキシシラ
ン、(3)金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原子
の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜
6である有機酸、および(4)水または水と脂肪族一価
アルコールを除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合
物を加熱下、脱水縮合してえられる25℃での固有粘度
が0.1〜10cm3/gのシリコーンオリゴマーをえ
たのち、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒を加えることを特徴とす
るシリコーンワニスの製法により製造しうる本発明のシ
リコーンワニスは、コーティング、層間絶縁膜、プリプ
レグ、積層板、プリント基板などに適した高耐熱シリコ
ーン系ワニスである。また、このシリコーンワニスは長
期間の保存によっても、その特性が安定したものであ
る。
(A) (1) Phenyl group and carbon number 1 to
A dialkoxysilane having one or two of the alkyl groups of 3 and having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
(2) Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value 0.8 ~
6, and (4) water or a mixture of water or a solvent consisting of water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol, is dehydrated and condensed under heating to obtain an intrinsic viscosity of 0. Produced by a method for producing a silicone varnish, characterized in that (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same and (C) a condensation catalyst containing a metal atom are added after obtaining 1 to 10 cm 3 / g of a silicone oligomer. The possible silicone varnish of the present invention is a high heat resistant silicone varnish suitable for coatings, interlayer insulating films, prepregs, laminates, printed boards and the like. Further, this silicone varnish has stable properties even after long-term storage.

【0192】前記の製法において、前記水または水と脂
肪族一価アルコールを除く水溶性有機溶剤とからなる溶
剤(4)がグリコールエーテルを含む溶剤であることに
より、加水分解したアルコキシシランおよびその縮合体
が、このグリコールエーテルを含む溶剤に溶解しやすく
なり、好適なシリコーンワニスをえることができる。
In the above-mentioned production method, the solvent (4) consisting of water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is a solvent containing glycol ether, whereby the hydrolyzed alkoxysilane and its condensation are obtained. The body is easily dissolved in the solvent containing this glycol ether, and a suitable silicone varnish can be obtained.

【0193】前記の製法において、前記金属を含まずか
つ、塩素原子およびリン原子の少くとも1種を含む無機
酸またはPKa値が0.8〜6である有機酸(3)が、
リン酸、塩酸、シュウ酸、酢酸またはギ酸であることに
より、ほとんどゲル化させることなくアルコキシシラン
を縮重合させることができ、好適なシリコーンワニスを
えることができる。
In the above production method, an inorganic acid containing no metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6
By using phosphoric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, acetic acid or formic acid, the alkoxysilane can be polycondensed with almost no gelation, and a suitable silicone varnish can be obtained.

【0194】前記の製法において、前記金属原子を含む
縮合触媒(C)が、有機酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸
コバルト塩、有機酸亜鉛塩、有機酸マンガン塩、有機酸
鉄塩または炭素数1〜4のアルコキシ基もしくは炭素数
1〜4のアルコキシ基およびアセトキシ基を含むモノチ
タン化合物であり、有機酸がヘプタン酸、オクタン酸、
ノナン酸またはナフテン酸であることにより、この縮合
触媒がシラノール縮合に対する触媒効果が大きいので、
好適なシリコーンワニスをえることができる。
In the above production method, the condensation catalyst (C) containing a metal atom is an organic acid tin salt, an organic acid lead salt, an organic acid cobalt salt, an organic acid zinc salt, an organic acid manganese salt, an organic acid iron salt or A monotitanium compound having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an acetoxy group, wherein the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid,
By using nonanoic acid or naphthenic acid, this condensation catalyst has a large catalytic effect on silanol condensation.
A suitable silicone varnish can be obtained.

【0195】前記のシリコーンワニスと無機の粉体、粒
子またはウィスカーとの混合物を加熱して脱溶媒してえ
られたフィルム状物または固体を粉砕したものを熱プレ
スによりまたは成形機で成形することを特徴とする複合
成形体の製法により、複雑な形状の固体を成形しうる。
[0195] A mixture of the above-mentioned silicone varnish and inorganic powder, particles or whiskers is heated and desolvated to obtain a film-like product or a solid product, which is crushed by a hot press or a molding machine. By the method for producing a composite molded article characterized by, a solid having a complicated shape can be molded.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 足達 廣士 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 久保田 繁 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 小早川 三砂緒 兵庫県三田市三輪二丁目6番1号 菱電化 成株式会社内 (72)発明者 畠中 康司 兵庫県三田市三輪二丁目6番1号 菱電化 成株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Hiroshi Adachi 2-3-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Shigeru Kubota 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Sanryo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Misaya Kobayakawa 2-6-1, Miwa, Mita, Hyogo Prefecture Ryoden Kasei Co., Ltd. (72) Inventor, Koji Hatanaka 2-6-1, Miwa, Mita, Hyogo Prefecture Denka Kasei Co., Ltd.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)(1)フェニル基および炭素数1
〜3のアルキル基のうちの1種または2種を有し、炭素
数1〜4のアルコキシ基を有するジアルコキシシラン、
(2)炭素数1〜4のアルコキシ基を有するフェニルト
リアルコキシシランまたはメチルトリアルコキシシラ
ン、(3)金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原子
の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8〜
6である有機酸、および(4)水または水と脂肪族一価
アルコールを除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混合
物を加熱下、脱水縮合してえられた25℃での固有粘度
が0.1〜10cm3/gのシリコーンオリゴマー、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒からなるシリコーンワニ
ス。
1. (A) (1) Phenyl group and carbon number 1
A dialkoxysilane having one or two kinds of alkyl groups of 1 to 3 and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
(2) Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value 0.8 ~
The organic viscosity of 6 and (4) water or a mixture of water and a solvent consisting of a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is dehydrated and condensed under heating to obtain an intrinsic viscosity at 25 ° C. of 0. Silicone varnish comprising 1 to 10 cm 3 / g of silicone oligomer, (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same, and (C) a condensation catalyst containing a metal atom.
【請求項2】 水または水と脂肪族一価アルコールを除
く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)がグリコールエ
ーテルを含む溶剤である請求項1記載のシリコーンワニ
ス。
2. The silicone varnish according to claim 1, wherein the solvent (4) comprising water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is a solvent containing a glycol ether.
【請求項3】 金属を含まずかつ、塩素原子およびリン
原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.
8〜6である有機酸(3)が、リン酸、塩酸、シュウ
酸、酢酸またはギ酸である請求項1または2記載のシリ
コーンワニス。
3. An inorganic acid containing no metal and at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0.
The silicone varnish according to claim 1 or 2, wherein the organic acid (3) of 8 to 6 is phosphoric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, acetic acid or formic acid.
【請求項4】 金属原子を含む縮合触媒(C)が、有機
酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸コバルト塩、有機酸亜鉛
塩、有機酸マンガン塩、有機酸鉄塩または炭素数1〜4
のアルコキシ基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基お
よびアセトキシ基を含むモノチタン化合物であり、有機
酸がヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸またはナフテン
酸である請求項1、2または3記載のシリコーンワニ
ス。
4. A condensation catalyst (C) containing a metal atom comprises an organic acid tin salt, an organic acid lead salt, an organic acid cobalt salt, an organic acid zinc salt, an organic acid manganese salt, an organic acid iron salt or a carbon number 1 to 1. Four
4. The silicone varnish according to claim 1, which is a monotitanium compound containing an alkoxy group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an acetoxy group, and the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid or naphthenic acid. .
【請求項5】 請求項1、2、3または4記載のシリコ
ーンワニスを補強布、不織布またはフィラメントに含浸
させて、タックがない状態まで乾燥させたシリコーンワ
ニス含浸プリプレグ。
5. A silicone varnish-impregnated prepreg obtained by impregnating a reinforcing cloth, a non-woven fabric or a filament with the silicone varnish according to claim 1, 2, 3 or 4 and drying the varnish to a tack-free state.
【請求項6】 請求項5記載のシリコーンワニス含浸プ
リプレグを複数枚重ねて熱硬化させてえられた複合材
料。
6. A composite material obtained by stacking a plurality of silicone varnish-impregnated prepregs according to claim 5 and thermosetting them.
【請求項7】 請求項5記載のシリコーンワニス含浸プ
リプレグを基材にかぶせてまたは巻き付けて熱硬化させ
てなる複合材料。
7. A composite material obtained by covering or winding a silicone varnish-impregnated prepreg according to claim 5 on a base material and thermally curing the same.
【請求項8】 請求項6記載の複合材料の両面または片
面に金属層を設けたプリント基板用積層板。
8. A laminate for a printed circuit board, wherein a metal layer is provided on both surfaces or one surface of the composite material according to claim 6.
【請求項9】 請求項8記載のプリント基板用積層板を
用いて作製された片面または両面に回路が形成されたプ
リント基板を2〜15枚重ね、層間に請求項5記載のシ
リコーンワニス含浸プリプレグを挟み込み熱プレス成形
することによりえられた多層構造を有するプリント基
板。
9. A prepreg impregnated with a silicone varnish according to claim 5, wherein 2 to 15 printed boards, each of which has a circuit formed on one side or both sides, are manufactured by using the laminated board for a printed board according to claim 8. A printed circuit board having a multi-layer structure obtained by sandwiching and sandwiching and hot pressing.
【請求項10】 請求項1、2、3または4記載のシリ
コーンワニスと無機の粉体、粒子またはウィスカーとの
混合物を加熱して脱溶媒してえられたフィルム状物また
は固体を粉砕したものを成形してなる複合成形体。
10. A film or solid obtained by desolvating a mixture of the silicone varnish according to claim 1, 2, 3, or 4 with inorganic powder, particles or whiskers and crushing the solid. A composite molded body obtained by molding.
【請求項11】 請求項1、2、3または4記載のシリ
コーンワニス硬化物を層間絶縁膜として用いた電子回路
モジュール用ビルドアップ多層基板。
11. A build-up multilayer substrate for an electronic circuit module, which uses the cured product of the silicone varnish according to claim 1, as an interlayer insulating film.
【請求項12】 (A)(1)フェニル基および炭素数
1〜3のアルキル基のうちの1種または2種を有し、炭
素数1〜4のアルコキシ基を有するジアルコキシシラ
ン、(2)炭素数1〜4のアルコキシ基を有するフェニ
ルトリアルコキシシランまたはメチルトリアルコキシシ
ラン、(3)金属を含まずかつ、塩素原子およびリン原
子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が0.8
〜6である有機酸、および(4)水または水と脂肪族一
価アルコールを除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤の混
合物を加熱下、脱水縮合してえられる25℃での固有粘
度が0.1〜10cm3/gのシリコーンオリゴマーを
えたのち、 (B)脂肪族一価アルコールまたはそれを含む混合溶剤
ならびに (C)金属原子を含む縮合触媒を加えることを特徴とす
るシリコーンワニスの製法。
12. A dialkoxysilane having (A) (1) one or two kinds of a phenyl group and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (2) ) Phenyltrialkoxysilane or methyltrialkoxysilane having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (3) an inorganic acid not containing a metal and containing at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom, or having a PKa value of 0. 8
To an organic acid of 6 and (4) water or a mixture of water and a solvent consisting of a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol under heating, the intrinsic viscosity at 25 ° C. is 0. A method for producing a silicone varnish, characterized in that (B) an aliphatic monohydric alcohol or a mixed solvent containing the same and (C) a condensation catalyst containing a metal atom are added after obtaining 1 to 10 cm 3 / g of a silicone oligomer.
【請求項13】 水または水と脂肪族一価アルコールを
除く水溶性有機溶剤とからなる溶剤(4)がグリコール
エーテルを含む溶剤である請求項12記載のシリコーン
ワニスの製法。
13. The method for producing a silicone varnish according to claim 12, wherein the solvent (4) comprising water or water and a water-soluble organic solvent excluding the aliphatic monohydric alcohol is a solvent containing glycol ether.
【請求項14】 金属を含まずかつ、塩素原子およびリ
ン原子の少くとも1種を含む無機酸またはPKa値が
0.8〜6である有機酸(3)が、リン酸、塩酸、シュ
ウ酸、酢酸またはギ酸である請求項12または13記載
のシリコーンワニスの製法。
14. An inorganic acid containing no metal and at least one kind of chlorine atom and phosphorus atom or an organic acid (3) having a PKa value of 0.8 to 6 is phosphoric acid, hydrochloric acid or oxalic acid. The method for producing a silicone varnish according to claim 12 or 13, wherein the silicone varnish is acetic acid or formic acid.
【請求項15】 金属原子を含む縮合触媒(C)が、有
機酸スズ塩、有機酸鉛塩、有機酸コバルト塩、有機酸亜
鉛塩、有機酸マンガン塩、有機酸鉄塩または炭素数1〜
4のアルコキシ基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基
およびアセトキシ基を含むモノチタン化合物であり、有
機酸がヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸またはナフテ
ン酸である請求項12、13または14記載のシリコー
ンワニスの製法。
15. The condensation catalyst (C) containing a metal atom comprises an organic acid tin salt, an organic acid lead salt, an organic acid cobalt salt, an organic acid zinc salt, an organic acid manganese salt, an organic acid iron salt or a carbon number of 1 to 1.
15. A silicone according to claim 12, 13 or 14, which is a monotitanium compound containing an alkoxy group having 4 or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an acetoxy group, and the organic acid is heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid or naphthenic acid. How to make varnish.
【請求項16】 請求項1、2、3または4記載のシリ
コーンワニスと無機の粉体、粒子またはウィスカーとの
混合物を加熱して脱溶媒してえられたフィルム状物また
は固体を粉砕したものを熱プレスによりまたは成形機で
成形することを特徴とする複合成形体の製法。
16. A pulverized film-like material or solid obtained by desolventizing a mixture of the silicone varnish according to claim 1, 2, 3, or 4 with inorganic powder, particles or whiskers by heating. Is molded by hot pressing or by a molding machine.
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