JPH09111004A - Production of composite material - Google Patents

Production of composite material

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Publication number
JPH09111004A
JPH09111004A JP26533595A JP26533595A JPH09111004A JP H09111004 A JPH09111004 A JP H09111004A JP 26533595 A JP26533595 A JP 26533595A JP 26533595 A JP26533595 A JP 26533595A JP H09111004 A JPH09111004 A JP H09111004A
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JP
Japan
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reinforcing material
inorganic particles
weight
composite material
surface treatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP26533595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiyoshi Nozue
明義 野末
Hiroki Tamiya
裕記 田宮
Kiyotaka Komori
清孝 古森
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0366Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composite material having small thermal expansion coefficient, high insulation resistance and excellent soldering heat-resistance after moisture-absorption treatment by treating a reinforcing material containing inorganic particles with a specific surface-treating material before impregnating a varnish into the reinforcing material. SOLUTION: A reinforcing material composed of a strand of collected monofilaments (preferably glass cloth) is mixed with 1-30 pts.wt. (based on 100 pts.wt. of the reinforcing material) of inorganic particles having an average particle diameter of <=1,000nm (preferably colloidal silica), the obtained reinforcing material containing the inorganic particles is surface-treated with a surface- treating agent containing an aminosilane-type coupling agent and/or a methacrylsilane-type coupling agent, the treated reinforcing material is impregnated with a varnish containing polyphenylene oxide, triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer, the impregnated product is dried and the obtained prepreg is formed to obtain the objective composite material. The amount of the surface-treating agent applied to the reinforcing material is preferably 0.05-1 pt.wt. based on 100 pts.wt. of the surface-treated reinforcing material containing the inorganic particles.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、補強材にポリフェ
ニレンオキサイド、トリアリルイソシアヌレート及びス
チレンブタジエンコポリマーを含有するワニスを含浸
し、次いで乾燥して得られるプリプレグを成形して製造
される複合材料の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a composite material produced by molding a prepreg obtained by impregnating a reinforcing material with a varnish containing polyphenylene oxide, triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer and then drying the prepreg. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器に使用される材料の最近の動向
として、小型化、軽量化と同時に、高速化、高密度化も
実現しようとする試みがある。その目的達成のための一
つの手段として、リードレスチップキャリア(LCC)
の表面実装技術(SMT)が挙げられる。例えばアルミ
ナのLCCをプリント回路基板に直接実装する場合、ア
ルミナとプリント回路基板との熱膨張係数が異なると、
接合部の半田に熱履歴によって亀裂が生じる。そのた
め、直接実装をする場合には、プリント回路基板の熱膨
張係数をLCCの熱膨張係数(アルミナの場合7ppm
/℃)にできるだけ近づけることが望ましい。さらに、
シリコンのベアチップをリードレスで直接実装しようと
する試みもあるが、そのためには、プリント回路基板の
熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数(3〜4ppm/
℃)にできるだけ近づけることが望ましい。
2. Description of the Related Art As a recent trend of materials used for electronic devices, there is an attempt to realize high speed and high density as well as miniaturization and weight reduction. Leadless chip carrier (LCC) is one of the means to achieve the purpose.
Surface mounting technology (SMT) of the. For example, when the LCC of alumina is directly mounted on the printed circuit board, if the thermal expansion coefficients of the alumina and the printed circuit board are different,
Cracks occur in the solder at the joint due to thermal history. Therefore, in the case of direct mounting, the thermal expansion coefficient of the printed circuit board should be the same as that of the LCC (7 ppm for alumina).
/ ° C) is desirable. further,
There have also been attempts to directly mount bare silicon chips in leadless fashion. For that purpose, the thermal expansion coefficient of the printed circuit board must be the same as that of silicon (3-4 ppm /
(° C) is desirable.

【0003】本発明者らは、プリント回路基板の熱膨張
係数を小さくするための手段として、特願平6−108
816号において、モノフィラメントが集束されてなる
ストランドからなる補強材により樹脂が強化されてなる
複合材料であって、ストランドに平均粒径1000nm
以下の無機粒子が補強材100重量部に対して1重量部
以上の割合で含まれている低熱膨張複合材料を提案して
いる。しかし、この複合材料では、PCT処理等の吸湿
処理後に半田試験を行うとふくれが生じる場合があるこ
とが判明した。この理由の一つは、ストランド中に無機
粒子を含ませたことにより、ストランド中に樹脂が侵入
しにくい隙間ができ、ポア(小さな空洞)が生じるため
と考えられる。そこで、本発明者らは、含浸方法や成形
方法を改良することにより、ポアがなく、吸湿処理後の
半田耐熱性に優れた複合材料を製造できることを見出
し、特願平7−151850号及び特願平7−1518
69号として新たな製造方法を提案している。しかし、
さらに検討を進めると、このような含浸方法や成形方法
を改良した場合でも、無機粒子を含む補強材の表面処理
の方法によっては、得られる複合材料の吸湿処理後の絶
縁抵抗や、吸湿処理後の半田耐熱性に問題が生じる場合
があることが明らかになった。
As a means for reducing the coefficient of thermal expansion of a printed circuit board, the inventors of the present invention have filed Japanese Patent Application No. 6-108.
No. 816 is a composite material in which a resin is reinforced by a reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments, and the strands have an average particle diameter of 1000 nm.
A low thermal expansion composite material containing the following inorganic particles in a proportion of 1 part by weight or more based on 100 parts by weight of the reinforcing material is proposed. However, in this composite material, it was found that swelling may occur when a solder test is performed after moisture absorption treatment such as PCT treatment. One of the reasons for this is considered to be that the inclusion of the inorganic particles in the strands creates a gap in the strands where the resin is less likely to enter, resulting in pores (small cavities). Therefore, the present inventors have found that by improving the impregnation method and the molding method, it is possible to produce a composite material having no pores and excellent solder heat resistance after moisture absorption treatment, and Japanese Patent Application No. 7-151850 and Wishhei 7-1518
No. 69 proposes a new manufacturing method. But,
Further investigation, even if such an impregnation method or a molding method is improved, depending on the method of surface treatment of the reinforcing material containing inorganic particles, insulation resistance after moisture absorption treatment of the obtained composite material or after moisture absorption treatment It has become clear that there may be a problem in solder heat resistance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、モノフィラメントが集束されてなるストランドから
なる補強材に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含ませた後、前記補強材にポリフェニレンオキサイド、
トリアリルイソシアヌレート及びスチレンブタジエンコ
ポリマーを含有するワニスを含浸し、次いで乾燥して得
られるプリプレグを成形して製造する複合材料の製造方
法であって、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の半
田耐熱性が優れている複合材料を得ることのできる方法
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments with an average particle diameter of 1000 nm. After including the following inorganic particles, polyphenylene oxide in the reinforcing material,
A method for producing a composite material, comprising impregnating a varnish containing triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer, and then molding the resulting prepreg to obtain a composite material, which comprises insulation resistance after moisture absorption treatment and solder after moisture absorption treatment. It is to provide a method capable of obtaining a composite material having excellent heat resistance.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の複
合材料の製造方法は、モノフィラメントが集束されてな
るストランドからなる補強材に、平均粒径1000nm
以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対して1〜
30重量部の割合で含ませ、次いでこの無機粒子を含む
補強材にポリフェニレンオキサイド、トリアリルイソシ
アヌレート及びスチレンブタジエンコポリマーを含有す
るワニスを含浸、乾燥してプリプレグを得、次いでこの
プリプレグを成形して複合材料を製造する複合材料の製
造方法において、ワニスを含浸する前の無機粒子を含む
補強材が、アミノシラン系カップリング剤及び/又はメ
タクリルシラン系カップリング剤を含む表面処理剤を使
用して、表面処理されていることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a composite material, wherein a reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments has an average particle diameter of 1000 nm.
1 to 100 parts by weight of the following inorganic particles
In a proportion of 30 parts by weight, the reinforcing material containing the inorganic particles was impregnated with a varnish containing polyphenylene oxide, triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer, and dried to obtain a prepreg, and then the prepreg was molded. In the method for producing a composite material for producing a composite material, a reinforcing material containing inorganic particles before impregnating a varnish, using a surface treatment agent containing an aminosilane coupling agent and / or methacrylsilane coupling agent, It is characterized by being surface-treated.

【0006】請求項2に係る発明の複合材料の製造方法
は、請求項1記載の製造方法において、無機粒子を含む
補強材の表面処理を、補強材への表面処理剤の付着量
が、表面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に
対し、0.05〜1.0重量部となるように施すことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for producing a composite material according to the first aspect, wherein the surface treatment of the reinforcing material containing inorganic particles is performed such that the amount of the surface treatment agent adhered to the surface is It is characterized in that it is applied in an amount of 0.05 to 1.0 part by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the treatment.

【0007】請求項3に係る発明の複合材料の製造方法
は、請求項1又は請求項2記載の製造方法において、モ
ノフィラメントが集束されてなるストランドからなる補
強材がガラスクロスであり、平均粒径1000nm以下
の無機粒子の材質がシリカであることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing a composite material according to the first or second aspect, wherein the reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments is a glass cloth and has an average particle diameter. The material of the inorganic particles of 1000 nm or less is silica.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明における補強材としては、
モノフィラメントが集束されてなるストランドからなる
ものが用いられる。モノフィラメントとしては、低熱膨
張のものが好ましいが、特に限定はされない。モノフィ
ラメントの素材は、特に限定するものではないが、ガラ
ス(例えば、Eガラス、Dガラス、Qガラス、Sガラ
ス、Tガラス等)やアラミド樹脂の1種又は複数種であ
ることが好ましい。ストランドの長さについては、長繊
維で用いてもよいし、短繊維で用いてもよい。補強材の
形態としては、低熱膨張の観点から、樹脂含有量ができ
るだけ少なくてすむような形態が好ましい。このような
形態の補強材としては、特に限定はされないが、マッ
ト、シート、クロス(例えば、平織、ななこ織等の織り
方がある)及びこれらの複合物等の繊維成形体等が例示
される。上に挙げた補強材の中でも、ガラスクロスが特
に好ましい。その理由は、クロス形状は緻密であるため
樹脂含有量を低くできることや、フィラメントの連続性
が高いことにより、複合材料の低熱膨張化に有効だから
である。また、ガラスが好ましいのは、安価で、かつ、
安定に長繊維を得ることができるからである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the reinforcing material in the present invention,
The thing which consists of the strand which a monofilament bundled is used. The monofilament preferably has low thermal expansion, but is not particularly limited. The material of the monofilament is not particularly limited, but is preferably one or more kinds of glass (for example, E glass, D glass, Q glass, S glass, T glass, etc.) and aramid resin. Regarding the length of the strand, long fibers or short fibers may be used. From the viewpoint of low thermal expansion, the form of the reinforcing material is preferably such that the resin content is as small as possible. The reinforcing material in such a form is not particularly limited, but examples thereof include mats, sheets, cloths (for example, plain weave, satin weave, and the like), and fiber moldings such as composites thereof. . Of the above-mentioned reinforcing materials, glass cloth is particularly preferable. The reason is that since the cross shape is dense, the resin content can be reduced and the filament continuity is high, which is effective in reducing the thermal expansion of the composite material. Further, glass is preferable because it is inexpensive and
This is because long fibers can be stably obtained.

【0009】補強材に含ませる平均粒径1000nm以
下の無機粒子は、それ自身、低熱膨張の材料である。そ
の熱膨張係数は、特に限定されるわけではないが、10
ppm/℃以下であることが好ましい。無機粒子の熱膨
張係数が10ppm/℃より大きいと、複合材料の熱膨
張係数がアルミナ(7ppm/℃)やシリコン(3〜4
ppm/℃)に比べて大きくなりすぎるからである。ま
た、平均粒径1000nm以下の無機粒子の量は、無機
粒子を含ませる前の補強材100重量部に対して1〜3
0重量部の範囲内であることが重要である。この量が1
重量部未満であると、熱膨張係数の小さい複合材料が得
られず、また、上記無機粒子の量が無機粒子を含ませる
前の補強材100重量部に対して30重量部を越える
と、複合材料としたときの耐湿性が悪くなりやすいとい
う問題が生じるからである。
The inorganic particles having an average particle size of 1000 nm or less contained in the reinforcing material are themselves materials having low thermal expansion. The coefficient of thermal expansion is not particularly limited, but is 10
It is preferably ppm / ° C. or less. If the coefficient of thermal expansion of the inorganic particles is larger than 10 ppm / ° C, the coefficient of thermal expansion of the composite material will be alumina (7 ppm / ° C) or silicon (3 to 4).
(ppm / ° C.) is too large. The amount of the inorganic particles having an average particle size of 1000 nm or less is 1 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material before the inorganic particles are contained.
It is important to be in the range of 0 parts by weight. This amount is 1
If the amount is less than 10 parts by weight, a composite material having a small coefficient of thermal expansion cannot be obtained, and if the amount of the inorganic particles exceeds 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material before the inorganic particles are contained, the composite material is obtained. This is because there arises a problem that the moisture resistance of the material is likely to deteriorate.

【0010】無機粒子として平均粒径1000nm以下
のものを用いる理由は、以下の通りである。ストランド
を構成するモノフィラメントは、通常、数μmの太さで
あるため、モノフィラメント間の隙間はミクロンオーダ
ーになるので、ストランドの内部まで無機粒子を容易に
含ませるためには、その平均粒径が1μm(=1000
nm)以下であることが好ましいからである。さらに、
このように平均粒径の小さい無機粒子は、水等を媒体と
する処理液中で容易に単分散するので好ましい。
The reason for using the inorganic particles having an average particle size of 1000 nm or less is as follows. Since the monofilaments that compose the strands are usually several μm thick, the gap between the monofilaments is on the order of microns. Therefore, in order to easily include the inorganic particles even inside the strands, the average particle size is 1 μm. (= 1000
This is because it is preferably less than or equal to (nm). further,
Inorganic particles having a small average particle diameter are preferable because they are easily monodispersed in a treatment liquid containing water or the like as a medium.

【0011】なお、前記無機粒子としては、平均粒径1
〜100nmのコロイド粒子がさらに好ましい。このよ
うな無機粒子は、その粒径がさらに小さいので、より狭
いストランドの隙間にも入っていけるからである。しか
し、コロイド粒子の平均粒径は、小さければ小さいほど
よいわけではなく、1nm未満になると、コロイド粒子
の比表面積が非常に大きくなるため、樹脂との界面制御
が困難になるので、コロイド粒子の平均粒径の下限は1
nmである。
The average particle size of the inorganic particles is 1
More preferred are ~ 100 nm colloidal particles. This is because such an inorganic particle has a smaller particle size, so that it can enter the gap between the narrower strands. However, the smaller the average particle size of the colloidal particles, the better. If it is less than 1 nm, the specific surface area of the colloidal particles becomes very large, which makes it difficult to control the interface with the resin. The lower limit of the average particle size is 1
nm.

【0012】平均粒径1000nm以下の無機粒子とし
ては、特に限定されるわけではないが、溶融シリカや微
粒子アルミナ等のサブミクロンオーダーの市販粒子等が
好ましい。粒径のさらに小さい前記コロイド粒子として
は、特に限定されるわけではないが、シリカゾル、アル
ミナゾル、チタニアゾル等のゾル、超微粒子シリカ、超
微粒子チタニア等が好ましい。これらのコロイド粒子の
中でもシリカが特に好ましい。その理由は、シリカは、
容易に入手できる粒子の中では、熱膨張係数が低い
(0.55ppm/℃)からである。上述した粒子以外
にも、径の小さいボールを用いれば、ボールミル等の機
械的粉砕によってもサブミクロン粒子やコロイド粒子を
得ることができる。ここで、粉砕する材料は、低熱膨張
材料であることが望まれるので、シリカガラス、Eガラ
ス、Tガラス等のガラス、β−スポジュメンを析出させ
た結晶化ガラス、窒化ほう素、窒化珪素、ムライト、窒
化アルミニウム、コージェライト、チタン酸アルミニウ
ム(Al2 3 ・TiO2 )、β−ユークリプタイト等
の結晶が好ましい。
The inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less are not particularly limited, but submicron-order commercially available particles such as fused silica and fine particle alumina are preferable. The colloidal particles having a smaller particle size are not particularly limited, but sol such as silica sol, alumina sol, titania sol, ultrafine particle silica, and ultrafine particle titania are preferable. Among these colloidal particles, silica is particularly preferable. The reason is that silica is
This is because the coefficient of thermal expansion is low (0.55 ppm / ° C.) among particles that are easily available. In addition to the particles described above, submicron particles and colloidal particles can be obtained by mechanically crushing with a ball mill or the like by using balls having a small diameter. Here, since the material to be crushed is desired to be a low thermal expansion material, silica glass, E glass, glass such as T glass, crystallized glass in which β-spodumene is precipitated, boron nitride, silicon nitride, mullite. , Aluminum nitride, cordierite, aluminum titanate (Al 2 O 3 TiO 2 ), β-eucryptite and the like are preferable.

【0013】ストランドには、低熱膨張化材として平均
粒径1000nm以下の無機粒子のみを含ませるように
してもよいが、この無機粒子に加え、金属アルコキシド
の反応生成物をも低熱膨張化材として含ませることも可
能である。金属アルコキシドは、アルコール等の溶媒に
完全に溶解する。そのため、金属アルコキシドは、上記
無機粒子と同様に、それを含む処理液を補強材に含浸さ
せることにより、ストランドの内部まで容易に入ってい
くことができる性質を有している。なお、金属アルコキ
シドの反応生成物は、一般に連続相である無機膜を形成
するため、本発明における平均粒径1000nm以下の
無機粒子とは異なるものである。この金属アルコキシド
としては、特に限定するものではないが、シリコンアル
コキシド、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアル
コキシド、マグネシウムアルコキシド、リチウムアルコ
キシド等が好ましい。その理由は、これらの原料を用い
れば、金属アルコキシドの反応生成物を容易に得ること
ができるからである。これらの、金属アルコキシドの中
でも、シリコンアルコキシドがより好ましい。シリコン
アルコキシドは、上記金属アルコキシドの中では、安価
であり、安定性も高く、その反応生成物であるシリカの
熱膨張係数が低い(0.55ppm/℃)からである。
The strands may contain only inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less as a low thermal expansion material. In addition to the inorganic particles, a reaction product of a metal alkoxide also serves as a low thermal expansion material. It is also possible to include it. The metal alkoxide is completely soluble in a solvent such as alcohol. Therefore, the metal alkoxide has the property of being able to easily enter the inside of the strand by impregnating the treatment liquid containing the metal alkoxide into the reinforcing material, similarly to the above-mentioned inorganic particles. Since the reaction product of the metal alkoxide generally forms an inorganic film which is a continuous phase, it is different from the inorganic particles having an average particle size of 1000 nm or less in the present invention. The metal alkoxide is not particularly limited, but silicon alkoxide, titanium alkoxide, aluminum alkoxide, magnesium alkoxide, lithium alkoxide and the like are preferable. The reason is that the reaction product of the metal alkoxide can be easily obtained by using these raw materials. Among these metal alkoxides, silicon alkoxide is more preferable. This is because silicon alkoxide is inexpensive and has high stability among the above metal alkoxides, and the thermal expansion coefficient of silica, which is a reaction product thereof, is low (0.55 ppm / ° C.).

【0014】本発明における、平均粒径1000nm以
下の無機粒子を補強材に含ませる方法については、特に
限定はされないが、例えば、水、アルコール等の媒体中
に無機粒子を分散させて、処理液を調整し、この処理液
を補強材に含浸した後、乾燥する方法が挙げられる。
The method of incorporating the inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less in the reinforcing material in the present invention is not particularly limited, but for example, the inorganic particles are dispersed in a medium such as water or alcohol to prepare a treatment liquid. Is adjusted, the reinforcing liquid is impregnated with the treatment liquid, and then dried.

【0015】本発明では、ポリフェニレンオキサイド、
トリアリルイソシアヌレート及びスチレンブタジエンコ
ポリマーを含有するワニスを含浸する前の、無機粒子を
含む補強材をアミノシラン系カップリング剤及び/又は
メタクリルシラン系カップリング剤を含む表面処理剤を
使用して表面処理する。ここでアミノシラン系カップリ
ング剤とは分子内に少なくとも1つのアミノ基を有する
シラン系カップリング剤であり、側鎖の数や種類又はア
ルコキシ基の種類等について特に限定はない。具体的に
は下記式(a)〜(d)で表されるものが例示できる。
In the present invention, polyphenylene oxide,
Surface treatment of a reinforcing material containing inorganic particles with a surface treating agent containing an aminosilane coupling agent and / or a methacrylsilane coupling agent before impregnating a varnish containing triallyl isocyanurate and a styrene butadiene copolymer. To do. Here, the aminosilane-based coupling agent is a silane-based coupling agent having at least one amino group in the molecule, and there is no particular limitation on the number or type of side chains or the type of alkoxy group. Specific examples include those represented by the following formulas (a) to (d).

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】また、メタクリルシラン系カップリング剤
とは分子内に少なくとも1つのメタクリル基を有するシ
ラン系カップリング剤であり、側鎖の数や種類又はアル
コキシ基の種類等について特に限定はない。具体的には
下記式(e)で表されるものが例示できる。
The methacrylsilane-based coupling agent is a silane-based coupling agent having at least one methacryl group in the molecule, and there is no particular limitation on the number or type of side chains or the type of alkoxy group. Specific examples include those represented by the following formula (e).

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】表面処理の方法については、特に限定はさ
れないが、シラン系カップリング剤を水、アルコール等
の媒体中に溶解した溶液を、無機粒子を含む補強材に含
浸した後、熱処理する方法が挙げられる。そして、無機
粒子を含む補強材の表面処理を、補強材への表面処理剤
の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材100
重量部に対し、0.05〜1.0重量部となるように施
すことが望ましい。なぜならば、0.05重量部未満で
は吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の半田耐熱性を
優れたものとする表面処理の作用が顕著でなくなり、ま
た、1.0重量部を越えて付着させても表面処理の前記
作用が増大することがないためである。
The method of surface treatment is not particularly limited, but a method in which a solution of a silane coupling agent dissolved in a medium such as water or alcohol is impregnated into a reinforcing material containing inorganic particles, and then heat treatment is carried out. Can be mentioned. Then, the surface treatment of the reinforcing material containing the inorganic particles is performed such that the amount of the surface treatment agent adhered to the reinforcing material is the reinforcing material 100 containing the inorganic particles after the surface treatment.
It is desirable that the amount is 0.05 to 1.0 part by weight with respect to parts by weight. This is because when the amount is less than 0.05 parts by weight, the effect of the surface treatment that makes the insulation resistance after the moisture absorption treatment and the solder heat resistance after the moisture absorption treatment excellent is not remarkable, and the adhesion exceeds 1.0 parts by weight. This is because the effect of the surface treatment does not increase even if it is carried out.

【0020】また、無機粒子を含む補強材に含浸するワ
ニスとして本発明ではポリフェニレンオキサイド、トリ
アリルイソシアヌレート及びスチレンブタジエンコポリ
マーを含有するワニスを使用する。このポリフェニレン
オキサイド(以下PPOと記す)は、例えば下記の一般
式(f)で表されるものであり、得られる複合材料の誘
電正接を小さくする作用がある。
In the present invention, a varnish containing polyphenylene oxide, triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer is used as a varnish for impregnating a reinforcing material containing inorganic particles. This polyphenylene oxide (hereinafter referred to as PPO) is represented by, for example, the following general formula (f), and has an action of reducing the dielectric loss tangent of the obtained composite material.

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】上記一般式(f)中、Rは水素又は炭素数
1〜3の炭化水素基を表し、各Rは同じであってもよ
く、異なっていてもよい。また、nは繰り返し数を示す
正数である。
In the general formula (f), R represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and each R may be the same or different. Further, n is a positive number indicating the number of repetitions.

【0023】PPOの一例としては、ポリ(2,6−ジ
メチル−1,4−フェニレンオキサイド)が挙げられ、
分子量(MW )が50,000、MW /Mn =4.2 のポリマー
が好ましく使用される。
An example of PPO is poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide),
A polymer having a molecular weight (M W ) of 50,000 and M W / M n = 4.2 is preferably used.

【0024】本発明でトリアリルイソシアヌレートをワ
ニス中に含有させるのは、PPOと相溶性が良く、架橋
性、耐熱性及び誘電特性の点で好ましい作用をするから
である。またスチレンブタジエンコポリマーをワニス中
に含有させるのは、架橋性を有するポリマーであり、や
はり架橋性、耐熱性の点で好ましい作用をするからであ
る。そして、PPO、トリアリルイソシアヌレート及び
スチレンブタジエンコポリマーを含有するワニスはこれ
らの原材料と共に過酸化物等の開始剤を含有することが
適切な硬化速度(架橋速度)を得るためには好ましい。
The reason why triallyl isocyanurate is contained in the varnish in the present invention is that it has good compatibility with PPO and has a preferable action in terms of crosslinkability, heat resistance and dielectric properties. The reason why the styrene-butadiene copolymer is contained in the varnish is that it is a polymer having a cross-linking property and also has a preferable action in terms of cross-linking property and heat resistance. Further, the varnish containing PPO, triallyl isocyanurate and styrene-butadiene copolymer preferably contains an initiator such as peroxide together with these raw materials in order to obtain an appropriate curing rate (crosslinking rate).

【0025】そして、本発明では表面処理を施した補強
材にワニスを含浸、乾燥してプリプレグを得、次いで、
このプリプレグを成形して複合材料を製造するが、含浸
方法、成形方法、成形条件等については、特に限定はな
く、用途に応じて適宜決定すればよい。ただし、成形に
ついては、吸湿処理後の半田耐熱性を優れたものとする
点から、減圧条件下で成形することが好ましい。
In the present invention, the surface-treated reinforcing material is impregnated with varnish and dried to obtain a prepreg.
This prepreg is molded to produce a composite material, but the impregnation method, molding method, molding conditions, etc. are not particularly limited and may be appropriately determined according to the application. However, the molding is preferably carried out under reduced pressure from the viewpoint that the solder heat resistance after moisture absorption is excellent.

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明の実施例と比較例を説明する
が、本発明は下記実施例に限定されない。
EXAMPLES Examples of the present invention and comparative examples will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.

【0027】(実施例1)Eガラスの平織クロス〔旭シ
ュエーベル社製、品番216AS450、厚み100μ
m、繊維径7μm、打ち込み密度(ストランド本数/2
5mm):縦60本/25mm・横55本/25mm〕
を、まずコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製、
商品名スノーテックスOL、コロイダルシリカの平均粒
径45nm、コロイダルシリカ含有率20重量%)に含
浸した後、3cm/秒の速度で引き上げた。その後、1
50℃で5分間熱処理を行った。このコーティングの作
業を2回繰り返すことにより、コロイダルシリカの付着
量が、コロイダルシリカを含ませる前の補強材100重
量部に対し15重量部である補強材を得た。
(Example 1) E-glass plain weave cloth (manufactured by Asahi Schwebel, product number 216AS450, thickness 100 μ
m, fiber diameter 7 μm, driving density (number of strands / 2
5mm): Length 60 / 25mm, Width 55 / 25mm]
First, a colloidal silica aqueous solution (manufactured by Nissan Chemical Industries,
The product was impregnated with Snowtex OL (trade name), colloidal silica having an average particle diameter of 45 nm, and colloidal silica content of 20% by weight), and then pulled up at a speed of 3 cm / sec. Then 1
Heat treatment was performed at 50 ° C. for 5 minutes. By repeating this coating operation twice, a reinforcing material was obtained in which the adhered amount of colloidal silica was 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material before containing colloidal silica.

【0028】その後、コロイダルシリカを含ませた補強
材を、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン(アミノシラン系カップリング剤)である信越化
学工業社製、品番KBM573の濃度1重量%溶液に浸
漬し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処理
することにより、補強材への表面処理剤の付着量が、表
面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対し、
0.52重量部である補強材を得た。
Thereafter, the reinforcing material containing colloidal silica was added to a solution of N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (aminosilane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM573 at a concentration of 1% by weight. After immersion and passing through a squeezing roll, heat treatment at 110 ° C. for 5 minutes allows the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material to be 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment.
A reinforcement of 0.52 parts by weight was obtained.

【0029】次に、PPO、トリアリルイソシアヌレー
ト及びスチレンブタジエンコポリマーを含有するワニス
を、前記で得られた表面処理を施した補強材に含浸さ
せ、ロール間隔が0.2mmの2本のロールの間を通
し、130℃で5分間乾燥してプリプレグを得た。な
お、前記ワニスはPPOとして、分子量(MW )が50,0
00、MW /Mn =4.2 の、ポリ(2,6−ジメチル−
1,4−フェニレンオキサイド)を使用し、PPO:5
0重量部、トリアリルイソシアヌレート:40重量部、
スチレンブタジエンコポリマー:10重量部、ジクミル
パーオキサイド:2重量部とトリクロルエチレン:適量
を配合、混合して作製した。
Next, a varnish containing PPO, triallyl isocyanurate and styrene-butadiene copolymer was impregnated into the surface-treated reinforcing material obtained above, and two rolls having a roll interval of 0.2 mm were used. It passed through and was dried at 130 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg. The varnish had a molecular weight (M W ) of 50,0 as PPO.
00, M W / M n = 4.2, poly (2,6-dimethyl-
1,4-phenylene oxide) and PPO: 5
0 parts by weight, triallyl isocyanurate: 40 parts by weight,
Styrene-butadiene copolymer: 10 parts by weight, dicumyl peroxide: 2 parts by weight, and trichloroethylene: an appropriate amount were mixed and prepared.

【0030】得られたプリプレグを10枚重ね、200
Torrの減圧条件下で、180℃、30kg/cm2
の成形条件で90分間プレス成形して、基板(複合材
料)を得た。
Ten sheets of the obtained prepreg were piled up, and 200
180 ° C., 30 kg / cm 2 under reduced pressure of Torr
The substrate (composite material) was obtained by press molding for 90 minutes under the above molding conditions.

【0031】(実施例2)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をγ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン(アミノシラン系カップリング
剤)である信越化学工業社製、品番KBE903の濃度
1重量%水溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、11
0℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処
理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材1
00重量部に対し、0.51重量部である補強材を得る
ようにした以外は、実施例1と同様の操作を行って、基
板(複合材料)を得た。
(Example 2) Concerning the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the concentration of the product number KBE903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., in which the reinforcing material is γ-aminopropyltriethoxysilane (aminosilane coupling agent). After immersing in a 1 wt% aqueous solution and passing through a squeeze roll,
By heat treatment at 0 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is such that the reinforcing material 1 containing inorganic particles after the surface treatment
A substrate (composite material) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.51 parts by weight of the reinforcing material was obtained with respect to 00 parts by weight.

【0032】(実施例3)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材を前記の信越化学工
業社製、品番KBM573の濃度2重量%溶液に浸漬
し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処理す
ることにより、補強材への表面処理剤の付着量が、表面
処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対し、
0.91重量部である補強材を得るようにした以外は、
実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
(Example 3) Regarding the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the reinforcing material was dipped in a 2 wt% solution of the product number KBM573 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and passed through a squeezing roll. By heat-treating at 110 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment.
Except that the reinforcing material is 0.91 parts by weight,
The same operation as in Example 1 was performed to obtain a substrate (composite material).

【0033】(実施例4)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材を前記の信越化学工
業社製、品番KBM573の濃度0.01重量%溶液に
浸漬し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処
理することにより、補強材への表面処理剤の付着量が、
表面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対
し、0.03重量部である補強材を得るようにした以外
は、実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)
を得た。
(Example 4) Regarding the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the reinforcing material was immersed in a 0.01 wt% solution of the product number KBM573 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and passed through a squeezing roll. After that, by heat treating at 110 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is
A substrate (composite material) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.03 parts by weight of the reinforcing material was used to obtain 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment.
I got

【0034】(実施例5)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材を前記の信越化学工
業社製、品番KBM573の濃度4重量%溶液に浸漬
し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処理す
ることにより、補強材への表面処理剤の付着量が、表面
処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対し、
1.6重量部である補強材を得るようにした以外は、実
施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
(Example 5) Regarding the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the reinforcing material was immersed in a 4 wt% concentration solution of the product number KBM573, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and passed through a squeezing roll. By heat-treating at 110 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment.
A substrate (composite material) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reinforcing material was 1.6 parts by weight.

【0035】(実施例6)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン(メタクリルシラン系カップリン
グ剤)である信越化学工業社製、品番KBM503の濃
度1重量%溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、11
0℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処
理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材1
00重量部に対し、0.53重量部である補強材を得る
ようにした以外は、実施例1と同様の操作を行って、基
板(複合材料)を得た。
(Example 6) Concerning the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the concentration of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (methacrylsilane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM503 is 1 After immersing in the wt% solution and passing through a squeeze roll,
By heat treatment at 0 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is such that the reinforcing material 1 containing inorganic particles after the surface treatment
A substrate (composite material) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.53 parts by weight of the reinforcing material was obtained with respect to 00 parts by weight.

【0036】(実施例7)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン(メタクリルシラン系カップリン
グ剤)である信越化学工業社製、品番KBM503の濃
度2重量%溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、11
0℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処
理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材1
00重量部に対し、0.92重量部である補強材を得る
ようにした以外は、実施例1と同様の操作を行って、基
板(複合材料)を得た。
(Example 7) Concerning the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the concentration 2 of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (methacrylsilane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM503. After immersing in the wt% solution and passing through a squeeze roll,
By heat treatment at 0 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is such that the reinforcing material 1 containing inorganic particles after the surface treatment
A substrate (composite material) was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that 0.92 parts by weight of the reinforcing material was obtained with respect to 00 parts by weight.

【0037】(実施例8)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、N−フェニル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン(アミノシラン系カップリ
ング剤)である信越化学工業社製、品番KBM573の
濃度1重量%溶液とγ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン(メタクリルシラン系カップリング剤)で
ある信越化学工業社製、品番KBM503の濃度1重量
%溶液との混合溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、
110℃で5分間熱処理することにより、補強材への表
面処理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強
材100重量部に対し、0.92重量部である補強材を
得るようにした以外は、実施例1と同様の操作を行っ
て、基板(複合材料)を得た。
(Example 8) Regarding surface treatment of a reinforcing material containing colloidal silica, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (aminosilane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM573 was used. Immersion in a mixed solution of a 1 wt% concentration solution and a 1 wt% concentration solution of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (methacrylsilane-based coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM503, and passed through a squeezing roll. After doing
By heat-treating at 110 ° C. for 5 minutes, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is 0.92 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment. A substrate (composite material) was obtained by performing the same operations as in Example 1 except that

【0038】(比較例1)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理を行わないようにした以外は、実施例
1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得た。
Comparative Example 1 A substrate (composite material) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica was omitted.

【0039】(比較例2)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、品番
KBM403)の濃度1重量%水溶液に浸漬し、絞りロ
ールを通した後、110℃で5分間熱処理することによ
り、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無
機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.61重量
部である表面処理済の補強材を得るようにした以外は、
実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
(Comparative Example 2) Regarding the surface treatment of the reinforcing material containing colloidal silica, the reinforcing material was an aqueous solution of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM403) at a concentration of 1% by weight. After being dipped and passed through a squeeze roll, heat treatment was performed at 110 ° C. for 5 minutes, so that the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material was 0.1% with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment. Except that the surface-treated reinforcing material, which is 61 parts by weight, is obtained.
The same operation as in Example 1 was performed to obtain a substrate (composite material).

【0040】なお、上記の各実施例及び各比較例におけ
る、補強材への表面処理剤の付着量の測定は次のように
して行った。まず、表面処理後の無機粒子を含む補強材
を90℃、1時間乾燥して水分を除去する。次いで、こ
の水分を除去した補強材の重量を測定した後、この補強
材を300℃で2時間、加熱処理して、再度その重量を
測定し、300℃、2時間の加熱処理により減少した重
量を算出する。この加熱処理により減少した重量をシラ
ン系化合物のSi以外の成分の重量と見なし、この重量
と、原料として用いたシラン系カップリング剤の構造式
とに基づいて、表面処理剤の付着量を算出することによ
り、補強材への表面処理剤の付着量を求めた。
The amount of the surface-treating agent adhering to the reinforcing material in each of the above-mentioned Examples and Comparative Examples was measured as follows. First, the reinforcing material containing the inorganic particles after the surface treatment is dried at 90 ° C. for 1 hour to remove water. Next, after measuring the weight of the reinforcing material from which the water is removed, the reinforcing material is heat-treated at 300 ° C. for 2 hours, the weight is measured again, and the weight reduced by the heat treatment at 300 ° C. for 2 hours. To calculate. The weight reduced by this heat treatment is regarded as the weight of components other than Si of the silane-based compound, and the amount of the surface-treatment agent attached is calculated based on this weight and the structural formula of the silane-based coupling agent used as the raw material. By doing so, the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material was determined.

【0041】また、各実施例及び各比較例で得られた基
板について、吸湿処理後の絶縁抵抗試験及び吸湿処理後
の半田耐熱試験を下記のようにして行い、その結果を表
1に示した。吸湿処理後の絶縁抵抗については、JIS
C6481に準じて、100℃の沸騰水中で2時間浸
漬した後の絶縁抵抗を測定した。吸湿処理後の半田耐熱
については、試料を135℃の飽和水蒸気中に2時間さ
らした(PCT処理)後、直ちに260℃の半田浴中に
60秒間浸漬し、ふくれが生じるかどうかを調べた。試
料5個についてこの試験を行い、5個全てにふくれが生
じなかった場合には○、5個全てにふくれが発生した場
合は×、5個中にふくれが生じたものとふくれが生じな
かったものとが混在する場合は△として表1に示した。
Further, with respect to the substrates obtained in each of the examples and the comparative examples, an insulation resistance test after moisture absorption treatment and a solder heat resistance test after moisture absorption treatment were conducted as follows, and the results are shown in Table 1. . Regarding insulation resistance after moisture absorption treatment, JIS
Insulation resistance after immersion in boiling water at 100 ° C. for 2 hours was measured according to C6481. Regarding the solder heat resistance after the moisture absorption treatment, the sample was exposed to saturated steam at 135 ° C. for 2 hours (PCT treatment), and then immediately immersed in a solder bath at 260 ° C. for 60 seconds to examine whether blistering occurred. This test was conducted on 5 samples. When all 5 did not blister. ○ When all 5 blistered, x. No blistered and blistered in 5 bulges. In the case where the materials and the materials are mixed, it is shown as Δ in Table 1.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】表1の結果から、本発明の実施例は、比較
例に比べ吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の半田耐
熱性の優れた基板が得られていることが確認できた。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that in the examples of the present invention, substrates having excellent insulation resistance after the moisture absorption treatment and solder heat resistance after the moisture absorption treatment were obtained as compared with the comparative examples.

【0044】[0044]

【発明の効果】請求項1〜請求項3に係る発明では、ワ
ニスを含浸する前の平均粒径1000nm以下の無機粒
子を含む補強材をアミノシラン系カップリング剤及び/
又はメタクリルシラン系カップリング剤を含む表面処理
剤を使用して表面処理するので、請求項1〜請求項3に
係る発明によれば、PPO、トリアリルイソシアヌレー
ト及びスチレンブタジエンコポリマーを含有するワニス
を使用して製造する複合材料であって、熱膨張係数が小
さくて、かつ、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の
半田耐熱性が優れる複合材料が得られる。
According to the inventions of claims 1 to 3, a reinforcing material containing inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less before being impregnated with a varnish is used as an aminosilane coupling agent and / or
Alternatively, since the surface treatment is performed using a surface treatment agent containing a methacrylsilane-based coupling agent, according to the inventions of claims 1 to 3, a varnish containing PPO, triallyl isocyanurate and a styrene butadiene copolymer is prepared. It is possible to obtain a composite material manufactured by using the composite material, which has a small coefficient of thermal expansion and is excellent in insulation resistance after moisture absorption treatment and solder heat resistance after moisture absorption treatment.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5:3477 7:14 9:06 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display area C08K 5: 3477 7:14 9:06

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材に、平均粒径1000nm以下の
無機粒子を前記補強材100重量部に対して1〜30重
量部の割合で含ませ、次いでこの無機粒子を含む補強材
にポリフェニレンオキサイド、トリアリルイソシアヌレ
ート及びスチレンブタジエンコポリマーを含有するワニ
スを含浸、乾燥してプリプレグを得、次いでこのプリプ
レグを成形して複合材料を製造する複合材料の製造方法
において、ワニスを含浸する前の無機粒子を含む補強材
が、アミノシラン系カップリング剤及び/又はメタクリ
ルシラン系カップリング剤を含む表面処理剤を使用し
て、表面処理されていることを特徴とする複合材料の製
造方法。
1. A reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments, containing inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less at a ratio of 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material. In a method for producing a composite material, in which a reinforcing material containing particles is impregnated with a varnish containing polyphenylene oxide, triallyl isocyanurate and a styrene-butadiene copolymer, and dried to obtain a prepreg, and then the prepreg is molded to produce a composite material, A composite material characterized in that a reinforcing material containing inorganic particles before being impregnated with a varnish is surface-treated using a surface treating agent containing an aminosilane coupling agent and / or a methacrylsilane coupling agent. Manufacturing method.
【請求項2】 無機粒子を含む補強材の表面処理を、補
強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子
を含む補強材100重量部に対し、0.05〜1.0重
量部となるように施すことを特徴とする請求項1記載の
複合材料の製造方法。
2. The surface treatment of a reinforcing material containing inorganic particles is carried out such that the amount of the surface treatment agent attached to the reinforcing material is 0.05 to 1% with respect to 100 parts by weight of the reinforcing material containing inorganic particles after the surface treatment. The method for producing a composite material according to claim 1, wherein the amount is 0 part by weight.
【請求項3】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材がガラスクロスであり、平均粒径
1000nm以下の無機粒子の材質がシリカであること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載の複合材料の製
造方法。
3. The reinforcing material composed of strands formed by bundling monofilaments is glass cloth, and the material of the inorganic particles having an average particle diameter of 1000 nm or less is silica, according to claim 1 or 2. Composite material manufacturing method.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1062271A1 (en) * 1998-03-09 2000-12-27 Milliken Research Corporation Composition for promoting adhesion between rubber and textiles
JP2006232952A (en) * 2005-02-23 2006-09-07 Matsushita Electric Works Ltd Prepreg containing polyphenylene resin composition and laminate
JP2007056170A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Matsushita Electric Works Ltd Polyphenylene ether resin composition, prepreg, and laminate

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1062271A1 (en) * 1998-03-09 2000-12-27 Milliken Research Corporation Composition for promoting adhesion between rubber and textiles
EP1062271B1 (en) * 1998-03-09 2006-01-04 Milliken Research Corporation Process for promoting adhesion between rubber and textiles
JP2006232952A (en) * 2005-02-23 2006-09-07 Matsushita Electric Works Ltd Prepreg containing polyphenylene resin composition and laminate
JP2007056170A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Matsushita Electric Works Ltd Polyphenylene ether resin composition, prepreg, and laminate
JP4561534B2 (en) * 2005-08-25 2010-10-13 パナソニック電工株式会社 Polyphenylene ether resin composition, prepreg and laminate

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