JPH09108578A - Pipette and its manufacture - Google Patents

Pipette and its manufacture

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JPH09108578A
JPH09108578A JP7297629A JP29762995A JPH09108578A JP H09108578 A JPH09108578 A JP H09108578A JP 7297629 A JP7297629 A JP 7297629A JP 29762995 A JP29762995 A JP 29762995A JP H09108578 A JPH09108578 A JP H09108578A
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JP
Japan
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pipette
substrate
plane
internal passage
suction port
Prior art date
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Application number
JP7297629A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinya Hara
信也 原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7297629A priority Critical patent/JPH09108578A/en
Publication of JPH09108578A publication Critical patent/JPH09108578A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M33/00Means for introduction, transport, positioning, extraction, harvesting, peeling or sampling of biological material in or from the apparatus
    • C12M33/04Means for introduction, transport, positioning, extraction, harvesting, peeling or sampling of biological material in or from the apparatus by injection or suction, e.g. using pipettes, syringes, needles

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  • Biotechnology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
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  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pipette which has a suction port of any size and of high accuracy and can be easily manufactured at a low cost. SOLUTION: A pipette body 10 has a suction port 11 which is open to the exterior to hold an object to be treated by suction, a connection port 12 which is open to the exterior for sucking by vacuum suction, and an interior passage 13 for interconnecting the ports 11, 12. The body 10 comprises a connected body in which a first member 14 is connected to a second member 15. In at least one of the joint surfaces of the members 14, 15, there is formed a recess 13a corresponding to at least a portion of the passage 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、細胞等の微小粒子
や微小機械部品などの微小物の操作を行うピペットに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pipette for manipulating minute objects such as minute particles such as cells and minute mechanical parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、細胞などの微小物の操作にはガラ
ス製のピペットを使用している。図8は、この従来のピ
ペットの要部を示す断面図である。この従来のピペット
は、図8に示すように、外部に開口して細胞等の操作対
象1を吸引保持する吸引口2と、外部に開口して負圧に
引くための接続口(図示せず)と、吸引口2と前記接続
口との間を連通させる内部通路3とを有するガラス管か
らなるピペット本体4で構成されている。なお、前記接
続口は、ピペット本体4であるガラス管における吸引口
2とは反対側の内部通路3の開口となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, glass pipettes have been used to manipulate microscopic objects such as cells. FIG. 8 is a sectional view showing a main part of this conventional pipette. As shown in FIG. 8, this conventional pipette has a suction port 2 which is opened to the outside to suck and hold an operation target 1 such as a cell, and a connection port (not shown) which is opened to the outside to draw a negative pressure. ), And a pipette body 4 made of a glass tube having a suction port 2 and an internal passage 3 communicating with the connection port. The connection port is an opening of the internal passage 3 on the opposite side of the suction port 2 in the glass tube which is the pipette body 4.

【0003】このピペットによれば、ピペット本体4の
前記接続口側部分を例えばいわゆるインジェクタ(注射
器のように構成されたもの)に接続し、該インジェクタ
を操作して前記接続口を介して内部通路3内を負圧に引
く。その結果、図8に示すように、細胞等の操作対象1
が吸引口2に吸引保持される。そして、この状態におい
て、例えば、操作対象1が卵子である場合には該卵子に
針(図示せず)を差し込んで精子を注入して受精を行っ
たり、操作対象1が種々の細胞などである場合に操作対
象1に針などを刺して穴を開けたりするなどの、種々の
操作を行う。なお、このような操作の終了後には、前記
インジェクタを操作して前記接続口を介して内部通路3
内を正圧にし、前記吸引口2による操作対象1の吸引保
持の状態を解除する。
According to this pipette, the connection port side portion of the pipette body 4 is connected to, for example, a so-called injector (which is configured like a syringe), and the injector is operated to form an internal passage through the connection port. Pull the inside of 3 to negative pressure. As a result, as shown in FIG.
Are suction-held in the suction port 2. In this state, for example, when the operation target 1 is an egg, a needle (not shown) is inserted into the egg to inject sperm to perform fertilization, or the operation target 1 is various cells or the like. In this case, various operations are performed such as puncturing the operation target 1 with a needle or the like to open a hole. In addition, after completion of such an operation, the injector is operated to operate the internal passage 3 through the connection port.
The inside is made to have a positive pressure, and the suction holding state of the operation target 1 by the suction port 2 is released.

【0004】前記従来のピペットの製造方法について説
明すると、例えば直径1〜2mmのガラス管を、ニード
ルプラー装置(図示せず)で加熱しながら引き伸ばして
いく。これにより、管が細くなって切断され、2本のピ
ペット本体4を得ることができる。その切断された先端
の開口がピペットの吸引口2となる。ただし、通常、ピ
ペットの先端は切断されたままでは鋭利であることから
そのまま使用すると操作対象1に傷が付くため、マイク
ロフォージ等の装置(図示せず)でピペットの先端を加
熱し、縁を丸める加工を施す。
The conventional method for manufacturing a pipette will be described. For example, a glass tube having a diameter of 1 to 2 mm is stretched while being heated by a needle puller (not shown). As a result, the pipe becomes thin and cut, and two pipette bodies 4 can be obtained. The opening at the cut end becomes the suction port 2 of the pipette. However, since the tip of the pipette is usually sharp when it is cut, the operation target 1 will be damaged if it is used as it is. Therefore, the tip of the pipette is heated by a device (not shown) such as a microforge to remove the edge. Round it.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のピペットは前述した製造方法により製造されていた
ので、前記従来のピペットを製造するには個人の経験に
よるガラス管の引き方及び加熱のし方によって、製造さ
れるピペットの形状が異なり、同じ形状のピペットを製
造するには熟練した技術を要する。また、前記従来のピ
ペットでは、製造に手数を要し、コストアップを免れな
い。さらに、前記従来のピペットの吸引口2の大きさに
関しては、ガラス管が切れたところで決まるため、所望
の大きさを持つ吸引口2を有するピペットを得ることが
非常に困難であるという問題を抱えている。なお、吸引
口2の所望の大きさは、種々の操作対象1に応じて異な
るものである。
However, since the conventional pipette is manufactured by the manufacturing method described above, the method of drawing and heating the glass tube depends on personal experience in manufacturing the conventional pipette. The shape of the manufactured pipette differs depending on the type, and a skilled technique is required to manufacture the pipette having the same shape. In addition, the conventional pipette requires a lot of trouble in manufacturing, and the cost is unavoidable. Further, since the size of the suction port 2 of the conventional pipette is determined when the glass tube is cut, there is a problem that it is very difficult to obtain a pipette having the suction port 2 having a desired size. ing. Note that the desired size of the suction port 2 is different depending on various operation targets 1.

【0006】本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの
で、任意の大きさでかつ精度の良い吸引口を有するとと
もに製造が容易で安価なピペット及びその製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a pipette having an arbitrary size and a highly accurate suction port, which is easy and inexpensive to manufacture, and a manufacturing method thereof. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第1の態様によるピペットは、外部に開口
して操作対象を吸引保持する吸引口と、外部に開口して
負圧に引くための接続口と、前記吸引口と前記接続口と
の間を連通させる内部通路と、を有するピペット本体を
備えたものである。そして、前記ピペット本体が、第1
の平面を有する第1の部材と第2の平面を有する第2の
部材とからなる接合体であって、前記第1の平面と前記
第2の平面との間が接合された接合体からなり、前記第
1の部材の前記第1の平面及び前記第2の部材の前記第
2の平面のうちの少なくとも一方には、前記内部通路の
少なくとも一部に相当する凹所が形成されたものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, a pipette according to a first aspect of the present invention has a suction port which is opened to the outside to suck and hold an operation target, and an outside which is opened to a negative pressure. The pipette main body has a connection port for pulling and an internal passage that connects the suction port and the connection port. And, the pipette body is
And a second member having a second flat surface, wherein the first flat surface and the second flat surface are joined together. At least one of the first plane of the first member and the second plane of the second member is provided with a recess corresponding to at least a part of the internal passage. is there.

【0008】この第1の態様によるピペットでは、この
ような構造を有しているので、第1の部材の前記第1の
平面及び前記第2の部材の前記第2の平面のうちの一方
又は両方に、前記内部通路の少なくとも一部に相当する
凹所を予め形成しておき、第1の部材の第1の平面と第
2の部材の第2の平面とを接合することにより、ピペッ
トを製造することができる。このため、例えばエッチン
グやダイシング加工のような半導体製造技術等を用いる
ことにより前記凹所を形成しておくことができるので、
前記第1の態様によるピペットは、任意の形状でかつ精
度の良い吸引口を有するとともに製造が容易で安価とな
る。
Since the pipette according to the first aspect has such a structure, one of the first plane of the first member and the second plane of the second member or A recess corresponding to at least a part of the internal passage is formed in both of them, and the first plane of the first member and the second plane of the second member are joined to each other to form a pipette. It can be manufactured. Therefore, for example, the recess can be formed by using a semiconductor manufacturing technique such as etching or dicing.
The pipette according to the first aspect has a suction port having an arbitrary shape and high precision, and is easy to manufacture and inexpensive.

【0009】前記第1の態様によるピペットでは、前記
内部通路の断面積が全体に渡り同一であってもよいが、
その場合に、操作対象が極めて小さいものであれば、吸
引口をそれに応じて小さく構成するので、前記内部通路
の断面積が全体に渡り小さくなる。このため、流体の流
れに関する内部通路のコンダクタンスが小さくなり、イ
ンジェクタ等により接続口を介して内部通路を負圧に引
く際に大きな力を要し、好ましくない。
In the pipette according to the first aspect, the cross-sectional area of the internal passage may be the same throughout,
In that case, if the operation target is extremely small, the suction port is made small accordingly, so that the cross-sectional area of the internal passage is reduced as a whole. For this reason, the conductance of the internal passage with respect to the flow of the fluid becomes small, and a large force is required to pull the internal passage to a negative pressure via the connection port by the injector or the like, which is not preferable.

【0010】そこで、本発明の第2の態様によるピペッ
トは、前記第1の態様によるピペットにおいて、前記内
部通路における前記吸引口付近の部分の断面積に比べ
て、前記内部通路の他の部分の断面積を大きくしたもの
である。また、本発明の第3の態様によるピペットは、
前記第1の態様によるピペットにおいて、前記内部通路
の断面積を、前記吸引口側から前記接続口側に向かうほ
ど大きくしたものである。
Therefore, in the pipette according to the second aspect of the present invention, in the pipette according to the first aspect, as compared with the cross-sectional area of the portion near the suction port in the internal passage, It has a large cross-sectional area. The pipette according to the third aspect of the present invention also comprises
In the pipette according to the first aspect, the cross-sectional area of the internal passage is increased from the suction port side toward the connection port side.

【0011】前記第2及び第3の態様によるピペットに
よれば、前述したように内部通路を構成しておくことに
よって、操作対象が極めて小さく吸引口をそれに応じて
小さく構成した場合であっても、流体の流れに関する内
部通路のコンダクタンスが大きくなるので、インジェク
タ等により接続口を介して内部通路を負圧に引く際に大
きな力を要さず、好ましい。
According to the pipettes according to the second and third aspects, by constructing the internal passage as described above, even if the object to be operated is extremely small and the suction port is made small accordingly. Since the conductance of the internal passage with respect to the flow of the fluid becomes large, a large force is not required when pulling the internal passage to a negative pressure via the connection port by an injector or the like, which is preferable.

【0012】本発明の第4の態様によるピペットは、前
記第1乃至第3のいずれかの態様によるピペットにおい
て、前記第1及び第2の部材のうちの少なくとも一方を
透明材料で構成したものである。前記第1乃至第3の態
様では前記第1及び第2の部材の材料は不透明材料であ
ってもよいが、この第4の態様によれば、吸引口及びこ
れに吸引保持された状態の操作対象を、第1及び第2の
部材のうちの一方のみが透明材料で構成された場合には
反射光により、第1及び第2の部材のうちの両方が透明
材料で構成された場合には反射光及び透過光により、観
察することができ、操作対象の操作が容易になる。
A pipette according to a fourth aspect of the present invention is the pipette according to any one of the first to third aspects, wherein at least one of the first and second members is made of a transparent material. is there. In the first to third aspects, the material of the first and second members may be an opaque material, but according to the fourth aspect, the operation of the suction port and the state of being suction-held in the suction port. The target is reflected light when only one of the first and second members is made of a transparent material, and when both of the first and second members are made of a transparent material. The reflected light and the transmitted light allow observation and facilitate the operation of the operation target.

【0013】本発明の第5の態様によるピペットは、前
記第1乃至第3のいずれかの態様によるピペットにおい
て、前記第1及び第2の部材のうちの少なくとも一方が
シリコンからなるものである。前記第1乃至第3の態様
では前記第1及び第2の部材の材料は特に限定されるも
のではないが、この第5の態様によれば、第1及び第2
の部材のうちの少なくとも一方がシリコンからなるの
で、当該部材を、表面が平坦かつ平滑に加工されており
安価なシリコンウエハを用いて構成することができ、し
かも、シリコンウエハに対してはエッチングやダイシン
グ加工が容易であるので、好ましい。
A pipette according to a fifth aspect of the present invention is the pipette according to any one of the first to third aspects, wherein at least one of the first and second members is made of silicon. In the first to third aspects, the material of the first and second members is not particularly limited, but according to the fifth aspect, the first and second
Since at least one of the members is made of silicon, the member can be formed by using an inexpensive silicon wafer whose surface is processed flat and smooth, and etching or etching is not performed on the silicon wafer. It is preferable because dicing is easy.

【0014】本発明の第6の態様によるピペットは、前
記第1乃至第3のいずれかの態様によるピペットにおい
て、前記第1の部材が可動イオンを含むガラス材料から
なり、前記第2の部材が半導体又は金属からなるもので
ある。前記第1乃至第3の態様では、第1の部材と第2
の部材との間の接合は、接着剤による接合等の任意の接
合方法を採用することができるが、前記第6の態様で
は、第1及び第2の部材として前述したような材料を用
いているので、第1の部材と第2の部材との間の接合を
陽極接合により行うことができ、このように陽極接合を
採用することにより、第1の部材と第2の部材との間の
接合が容易となるとともに強固で安定した接合が可能と
なる。また、第1の部材が、ガラス部材からなり、した
がって、透明部材からなるので、吸引口及びこれに吸引
保持された状態の操作対象を反射光により観察すること
ができ、操作対象の操作が容易になる。
A pipette according to a sixth aspect of the present invention is the pipette according to any one of the first to third aspects, wherein the first member is made of a glass material containing mobile ions, and the second member is It is made of semiconductor or metal. In the first to third aspects, the first member and the second
For joining with the members of No. 3, any joining method such as joining with an adhesive can be adopted. In the sixth aspect, the materials as described above are used as the first and second members. Therefore, the first member and the second member can be bonded by anodic bonding, and by adopting the anodic bonding in this way, the first member and the second member can be bonded. Joining becomes easy and strong and stable joining becomes possible. In addition, since the first member is made of a glass member, and thus is made of a transparent member, it is possible to observe the suction port and the operation target in a state of being suction-held by the suction port, and the operation of the operation target is easy. become.

【0015】本発明の第7の態様によるピペット製造方
法は、前記第1乃至第3のいずれかの態様によるピペッ
トを製造するピペット製造方法であって、第1及び第2
の基板であって、該第1及び第2の基板の少なくとも一
方の基板の1つの平面に、複数のピペットの分の前記内
部通路の少なくとも一部に相当する凹所が形成された第
1及び第2の基板を用意する段階と、前記第1の基板の
平面と前記第2の基板の平面との間を接合する段階と、
接合された前記第1及び第2の基板を個々のピペットに
分離する段階と、を備えたものである。この第7の態様
によれば、一度に複数のピペットを製造することができ
るので、その製造が一層容易となり、一層安価となる。
A pipette manufacturing method according to a seventh aspect of the present invention is a pipette manufacturing method for manufacturing the pipette according to any one of the first to third aspects, which comprises:
Of the first and second substrates, wherein a recess corresponding to at least a part of the internal passage for a plurality of pipettes is formed on one plane of at least one of the first and second substrates. Providing a second substrate, joining between the plane of the first substrate and the plane of the second substrate,
Separating the bonded first and second substrates into individual pipettes. According to the seventh aspect, since a plurality of pipettes can be manufactured at one time, the manufacturing thereof becomes easier and more inexpensive.

【0016】本発明の第8の態様によるピペット製造方
法は、前記第7の態様によるピペット製造方法におい
て、前記第1及び第2の基板を用意する前記段階は、エ
ッチング又はダイシング加工により、前記第1及び第2
の基板の少なくとも一方の基板の1つの平面に前記凹所
を形成する段階を含むものである。なお、ダイシング加
工とは、ダイシングソー又はこれと同様の加工機械等に
よる機械加工をいう。この第8の態様によれば、凹所の
形成に半導体製造技術で採用されているエッチング又は
ダイシング加工が用いられているので、任意の大きさで
かつ精度の良い吸引口等を実現することができる。
The pipette manufacturing method according to an eighth aspect of the present invention is the pipette manufacturing method according to the seventh aspect, wherein the step of preparing the first and second substrates is performed by etching or dicing to obtain the pipette. 1st and 2nd
Forming a recess in one plane of at least one of the substrates. The dicing process means a mechanical process using a dicing saw or a processing machine similar to this. According to the eighth aspect, since the etching or dicing process adopted in the semiconductor manufacturing technique is used for forming the recess, it is possible to realize a suction port or the like having an arbitrary size and high accuracy. it can.

【0017】本発明の第9の態様によるピペット製造方
法は、前記第7又は第8の態様によるピペット製造方法
において、前記第1の基板が可動イオンを含むガラス材
料からなり、前記第2の基板が半導体又は金属からな
り、前記接合する段階は、前記第1の基板の平面と前記
第2の基板の平面との間を陽極接合する段階を含むもの
である。この第9の態様では、第1の基板と第2の基板
との間の接合として陽極接合が採用されているので、そ
の間の接合が容易となるとともに強固で安定した接合が
可能となる。
A pipette manufacturing method according to a ninth aspect of the present invention is the pipette manufacturing method according to the seventh or eighth aspect, wherein the first substrate is made of a glass material containing mobile ions, and the second substrate is Is made of a semiconductor or a metal, and the bonding step includes a step of anodic bonding between the plane of the first substrate and the plane of the second substrate. In the ninth aspect, since anodic bonding is adopted as the bonding between the first substrate and the second substrate, the bonding between them is facilitated and the strong and stable bonding is possible.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の種々の実施の形態
について、図面を参照して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Various embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0019】まず、本発明の第1の実施の形態によるピ
ペットについて、図1を参照して説明する。
First, a pipette according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0020】図1(a)は本実施の形態によるピペット
を示す斜視図、図1(b)は本実施の形態によるピペッ
トを構成する第2の部材15の上面側から見た平面図で
ある。なお、図面の理解を容易にするため、図1(a)
においては、実際には見えず隠れ線(破線)となるべき
線も実線により示している(後述する図5(a)、図6
(a)及び図7(a)においても同様である。)。
FIG. 1 (a) is a perspective view showing a pipette according to this embodiment, and FIG. 1 (b) is a plan view of the second member 15 constituting the pipette according to this embodiment as seen from the upper surface side. . In order to facilitate understanding of the drawing, FIG.
In FIG. 5, a line that is not actually visible and should be a hidden line (broken line) is also shown by a solid line (see FIGS.
The same applies to (a) and FIG. 7 (a). ).

【0021】本実施の形態によるピペットは、外部に開
口して操作対象(図示せず)を吸引保持する吸引口11
と、外部に開口して負圧に引くための接続口12と、吸
引口11と接続口12との間を連通させる内部通路13
と、を有するピペット本体10を備えている。そして、
ピペット本体10は、第1の平面(本例では、下面)を
有する第1の部材14と第2の平面(本例では、上面)
を有する第2の部材15とからなる接合体であって、第
1の部材14の下面と第2の部材15の上面とが接合さ
れた接合体から構成されている。なお、本実施の形態で
は、第1及び第2の部材14,15は平板状に構成され
ているが、第1の部材14の上面及び第2の部材15の
下面の形状は必ずしも平面に限定されるものではない。
The pipette according to the present embodiment has a suction port 11 which is opened to the outside to suck and hold an operation target (not shown).
And a connection port 12 for opening to the outside to draw a negative pressure, and an internal passage 13 for communicating between the suction port 11 and the connection port 12.
And a pipette body 10 having And
The pipette body 10 includes a first member 14 having a first plane (lower surface in this example) and a second plane (upper surface in this example).
And a second member 15 having a structure, which is formed by joining the lower surface of the first member 14 and the upper surface of the second member 15 to each other. In addition, in this Embodiment, although the 1st and 2nd members 14 and 15 are comprised by flat plate shape, the shape of the upper surface of the 1st member 14 and the lower surface of the 2nd member 15 is not necessarily planar. It is not something that will be done.

【0022】本実施の形態では、第2の部材15の上面
に、前記内部通路13の全体に相当する凹所(本例では
直線状に延びた溝)13aが形成されている。該凹所1
3aの一端12aが前記接続口12に相当し、前記凹所
13aの他端11aが前記吸引口11に相当している。
一方、第1の部材14の下面には何ら凹所が形成されて
おらず、第1の部材14の下面は単なる平面となってい
る。もっとも、第2の部材15の上面のみならず第1の
部材14の下面にも凹所を形成しておき、第1の部材1
4の下面の凹所と第2の部材15の上面の凹所とにより
前記内部通路13が構成されるようにしてもよい。
In the present embodiment, the upper surface of the second member 15 is provided with a recess (a linearly extending groove) 13a corresponding to the entire internal passage 13. The recess 1
One end 12a of 3a corresponds to the connection port 12, and the other end 11a of the recess 13a corresponds to the suction port 11.
On the other hand, no recess is formed on the lower surface of the first member 14, and the lower surface of the first member 14 is simply a flat surface. However, not only the upper surface of the second member 15 but also the lower surface of the first member 14 is formed with a recess, so that the first member 1
The internal passage 13 may be constituted by a recess on the lower surface of 4 and a recess on the upper surface of the second member 15.

【0023】次に、前述した図1に示すピペットの製造
方法の一例について、図2を参照して説明する。図2
は、図1に示すピペットの製造方法の各工程を示す断面
図である。
Next, an example of a method of manufacturing the above-mentioned pipette shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing each step of the method for manufacturing the pipette shown in FIG. 1.

【0024】まず、図2(a)に示すように、前記第2
の部材15となるべきシリコン基板20を用意する。
First, as shown in FIG. 2A, the second
A silicon substrate 20 to be the member 15 is prepared.

【0025】次に、図2(b)に示すように、該シリコ
ン基板(シリコンウエハ)20の上面に複数のピペット
の分の前記凹所13aを形成する。なお、図2(a)で
は3個のピペットの分の凹所13aが示されているが、
その数は限定されるものではない。凹所13aは、例え
ば、半導体製造技術であるエッチング、ダイシング加工
等を用いて形成することができる。図3(a)には、シ
リコン基板20の上面にダイシング加工により凹所13
aを形成した例を示す。この場合には、ダイシング加工
時に用いるダイシングソーのブレード幅と基板20への
切り込み量により、凹所13aの寸法を決めることがで
きる。また、図3(b)には、シリコン基板20の上面
に、等方性エッチングにより凹所13aを形成した例を
示す。この場合には、エッチング液として、例えば、硝
酸+フッ酸を用いることができる。さらに、図3(c)
には、シリコン基板20の上面に、異方性エッチングに
より凹所13aを形成した例を示す。この場合には、例
えば、シリコン基板20として(100)面方位を持つ
シリコン単結晶基板を用い、エッチング液としてKOH
溶液を用いることができる。このとき、凹所13aの側
壁は基板20の表面と54.7゜の角度を持つ(11
1)系の面となる。図3(b)及び図3(c)に示すよ
うにエッチングを採用する場合にはエッチング液の濃
度、温度、エッチング時間の条件及びエッチング時のマ
スク形状(図示せず)を、所望の形状及び寸法の凹所1
3aが得られるよう適宜設定すればよい。以上のように
ダイシング加工やエッチング等を採用することにより、
様々な断面形状及び寸法を有する凹所13aをミクロン
単位の精度で形成することが可能である。なお、図1及
び図2は、凹所13aが図3(a)に示すようにダイシ
ング加工により形成された例である。
Next, as shown in FIG. 2B, the recesses 13a corresponding to a plurality of pipettes are formed on the upper surface of the silicon substrate (silicon wafer) 20. In addition, in FIG. 2A, although the recesses 13a for three pipettes are shown,
The number is not limited. The recess 13a can be formed by using, for example, semiconductor manufacturing technology such as etching and dicing. In FIG. 3A, the recess 13 is formed on the upper surface of the silicon substrate 20 by dicing.
An example in which a is formed is shown. In this case, the size of the recess 13a can be determined by the blade width of the dicing saw used during the dicing process and the amount of cut into the substrate 20. Further, FIG. 3B shows an example in which the recess 13a is formed on the upper surface of the silicon substrate 20 by isotropic etching. In this case, nitric acid + hydrofluoric acid can be used as the etching liquid. Furthermore, FIG.
Shows an example in which the recess 13a is formed on the upper surface of the silicon substrate 20 by anisotropic etching. In this case, for example, a silicon single crystal substrate having a (100) plane orientation is used as the silicon substrate 20, and KOH is used as an etching solution.
A solution can be used. At this time, the sidewall of the recess 13a forms an angle of 54.7 ° with the surface of the substrate 20 (11
1) It becomes the aspect of the system. When etching is adopted as shown in FIGS. 3B and 3C, the conditions of the concentration of the etching solution, the temperature, the etching time, and the mask shape (not shown) at the time of etching are set to a desired shape and Dimensional recess 1
It may be set appropriately so as to obtain 3a. By adopting dicing processing and etching as described above,
It is possible to form the recess 13a having various cross-sectional shapes and dimensions with an accuracy of a micron unit. 1 and 2 show an example in which the recess 13a is formed by dicing as shown in FIG. 3 (a).

【0026】その後、図2(c)に示すように、予め用
意された前記第1の部材14となるべき可動イオンを含
むガラス材料(例えば、ホウ珪酸ガラス)からなるガラ
ス基板21の下面と、凹所13aが形成されたシリコン
基板20の上面とを、接合する。この接合は、例えば陽
極接合により行うことができる。図4に、シリコン基板
20とガラス基板21との陽極接合の様子を模式的に示
す。この陽極接合は、例えば、ホットプレート30でシ
リコン基板20及びガラス基板21を400℃に加熱
し、シリコン基板20に600Vの直流電圧を印加し、
その状態で10分間保った後に、印加電圧を0Vに下
げ、ホットプレート30の加熱を停止して自然冷却する
ことによって、行われる。もっとも、シリコン基板20
とガラス基板21との接合は陽極接合に限定されるもの
ではなく、例えば接着剤等を用いて両者を接合してもよ
い。
After that, as shown in FIG. 2C, a lower surface of a glass substrate 21 made of a glass material (for example, borosilicate glass) containing mobile ions to serve as the first member 14 prepared in advance, The upper surface of the silicon substrate 20 in which the recess 13a is formed is bonded. This bonding can be performed by, for example, anodic bonding. FIG. 4 schematically shows the manner of anodic bonding between the silicon substrate 20 and the glass substrate 21. In this anodic bonding, for example, the silicon substrate 20 and the glass substrate 21 are heated to 400 ° C. by the hot plate 30, and a DC voltage of 600 V is applied to the silicon substrate 20,
After maintaining in that state for 10 minutes, the applied voltage is lowered to 0 V, the heating of the hot plate 30 is stopped, and the hot plate 30 is naturally cooled. However, the silicon substrate 20
The bonding between the glass substrate 21 and the glass substrate 21 is not limited to anodic bonding, and they may be bonded using an adhesive or the like.

【0027】最後に、図2(d)に示すように、接合さ
れたシリコン基板20及びガラス基板21をダイシング
ソー等を用いて個々のピペットに分離することにより、
図2に示すピペットを一度に複数得ることができる。
Finally, as shown in FIG. 2D, the bonded silicon substrate 20 and glass substrate 21 are separated into individual pipettes by using a dicing saw or the like.
It is possible to obtain a plurality of pipettes shown in FIG. 2 at one time.

【0028】以上説明した製造方法では、第1の部材1
4となるべき第1の基板として可動イオンを含むガラス
材料からなるガラス基板21が用いられ、第2の部材1
5となるべき第2の基板としてシリコン基板20が用い
られているので、第1の部材14が可動イオンを含むガ
ラス材料からなり、第2の部材15がシリコンからなる
ことになるが、第1及び第2の部材14,15の材質
は、これらに限定されるものではなく、任意の材料を用
いることができる。ただし、凹所を形成する部材の材質
は、その形成をエッチングにより行う場合には半導体や
金属やガラス材料などが選択される。凹所をダイシング
加工により形成する場合には、凹所を形成する部材の材
質に制限はない。なお、シリコンは半導体技術になくて
はならない材質であり、シリコンウエハは表面が平坦か
つ平滑に加工されているため、前述した例のように第1
又は第2の基板として適した材質である。第1及び第2
の部材14,15のうちの少なくとも一方がガラス材料
等の透明材料であれば、吸引口11及びこれに吸引保持
された操作対象を反射光又は透過光により観察すること
ができるので、操作対象の操作が容易となり、好まし
い。この場合、前述したような陽極接合を採用しない場
合には、可動イオンを含まないガラス材料等の透明材料
を採用してもよい。
In the manufacturing method described above, the first member 1
A glass substrate 21 made of a glass material containing mobile ions is used as the first substrate to be No. 4, and the second member 1
Since the silicon substrate 20 is used as the second substrate which should be 5, the first member 14 is made of a glass material containing mobile ions, and the second member 15 is made of silicon. The material of the second members 14 and 15 is not limited to these, and any material can be used. However, as the material of the member forming the recess, a semiconductor, a metal, a glass material or the like is selected when the formation is performed by etching. When the recess is formed by dicing, the material of the member forming the recess is not limited. Silicon is an indispensable material for semiconductor technology, and the surface of a silicon wafer is processed to be flat and smooth.
Alternatively, it is a material suitable for the second substrate. First and second
If at least one of the members 14 and 15 is a transparent material such as a glass material, the suction port 11 and the operation target sucked and held by the suction port 11 can be observed by reflected light or transmitted light. This is preferable because it facilitates the operation. In this case, if the anodic bonding as described above is not adopted, a transparent material such as a glass material containing no mobile ions may be adopted.

【0029】本実施の形態による図1に示すピペットに
よれば、ピペット本体10の接続口12側部分を例えば
インジェクタに接続し、該インジェクタを操作して接続
口12を介して内部通路13内を負圧に引く。その結
果、細胞等の操作対象が吸引口11に吸引保持される。
そして、この状態において、例えば、操作対象が卵子で
ある場合には該卵子に針を差し込んで精子を注入して受
精を行ったり、操作対象が種々の細胞などである場合に
操作対象に針などを刺して穴を開けたりするなどの、種
々の操作を行う。なお、このような操作の終了後には、
前記インジェクタを操作して接続口12を介して内部通
路13内を正圧にし、吸引口11による操作対象の吸引
保持の状態を解除する。
According to the pipette shown in FIG. 1 according to the present embodiment, the portion of the pipette body 10 on the side of the connection port 12 is connected to, for example, an injector, and the injector is operated to move the inside of the internal passage 13 through the connection port 12. Pull to negative pressure. As a result, the operation target such as cells is suction-held in the suction port 11.
Then, in this state, for example, when the operation target is an egg, insert a needle into the egg to inject sperm to perform fertilization, or when the operation target is various cells etc., the operation target is a needle, etc. Performs various operations, such as puncturing to make a hole. Note that after such operations are completed,
The inside of the internal passage 13 is made to have a positive pressure through the connection port 12 by operating the injector, and the suction holding state of the operation target by the suction port 11 is released.

【0030】そして、本実施の形態によるピペットは、
前述したようにして製造することができるので、任意の
形状でかつ精度の良い吸入口11を得ることができると
ともに、製造が容易で安価となる。
Then, the pipette according to the present embodiment is
Since it can be manufactured as described above, the suction port 11 having an arbitrary shape and high accuracy can be obtained, and the manufacturing is easy and inexpensive.

【0031】次に、本発明の第2の実施の形態によるピ
ペットについて、図5を参照して説明する。
Next, a pipette according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0032】図5(a)は本実施の形態によるピペット
を示す斜視図、図5(b)は本実施の形態によるピペッ
トを構成する第2の部材15の上面側から見た平面図で
ある。図5において、図1中の要素と同一又は対応する
要素には同一符号を付し、その説明は省略する。
FIG. 5A is a perspective view showing the pipette according to this embodiment, and FIG. 5B is a plan view seen from the upper surface side of the second member 15 constituting the pipette according to this embodiment. . 5, elements that are the same as or correspond to the elements in FIG. 1 are assigned the same reference numerals and explanations thereof are omitted.

【0033】本実施の形態によるピペットは、前述した
図1に示すピペットにおいて、吸引口11、接続口12
及び内部通路13を2組設けたものである。本実施の形
態によるピペットは、例えば、前述した図2(a)乃至
図2(c)に示す工程を経た後に、個々のピペットに分
離する際に、吸引口11、接続口12及び内部通路13
を2組持つように分離することにより、製造することが
できる。なお、各組の吸引口11及び接続口12は、形
状及び寸法が互いに異なっていてもよい。
The pipette according to this embodiment is the same as the pipette shown in FIG.
And two sets of internal passages 13 are provided. The pipette according to the present embodiment has, for example, a suction port 11, a connection port 12 and an internal passage 13 when being separated into individual pipettes after undergoing the steps shown in FIGS. 2A to 2C described above.
Can be manufactured by separating so as to have two sets. The suction port 11 and the connection port 12 of each set may be different from each other in shape and size.

【0034】本実施の形態によれば、1回のサンプリン
グで複数の操作対象を保持することができ、効率良い操
作が可能となる。
According to the present embodiment, it is possible to hold a plurality of operation targets by one sampling, which enables efficient operation.

【0035】なお、吸引口11、接続口12及び内部通
路13を3組以上設けてもよい。また、接続口12は1
個のみ形成し、内部通路13が当該接続口12から延び
て複数の吸引口11に分岐するように構成しておいても
よい。
The suction port 11, the connection port 12 and the internal passage 13 may be provided in three or more sets. Also, the connection port 12 is 1
It is also possible to form only the individual pieces and to have the internal passage 13 extend from the connection port 12 and branch into the plurality of suction ports 11.

【0036】次に、本発明の第3の実施の形態によるピ
ペットについて、図6を参照して説明する。
Next, a pipette according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0037】図6(a)は本実施の形態によるピペット
を示す斜視図、図6(b)は本実施の形態によるピペッ
トを構成する第2の部材15の上面側から見た平面図で
ある。図6において、図1中の要素と同一又は対応する
要素には同一符号を付し、その説明は省略する。
FIG. 6A is a perspective view showing the pipette according to this embodiment, and FIG. 6B is a plan view seen from the upper surface side of the second member 15 constituting the pipette according to this embodiment. . 6, elements that are the same as or correspond to the elements in FIG. 1 are assigned the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.

【0038】本実施の形態では、第2の部材15の上面
には、内部通路13の一部に相当する断面積の大きい凹
所40a、内部通路13の残りに相当する断面積の小さ
い凹所40bが形成されている。凹所40aの一端41
aが接続口12に相当し、凹所40aの他端が凹所40
bの一端に連続し、凹所40bの他端42aが吸引口1
1に相当している。
In the present embodiment, a recess 40a having a large cross-sectional area corresponding to a part of the internal passage 13 and a recess having a small cross-sectional area corresponding to the rest of the internal passage 13 are formed on the upper surface of the second member 15. 40b is formed. One end 41 of the recess 40a
a corresponds to the connection port 12, and the other end of the recess 40a is the recess 40
b, one end of which is continuous with the other end 42a of the recess 40b, and the suction port 1
It corresponds to 1.

【0039】したがって、本実施の形態では、内部通路
13における吸引口11側の部分(凹所40bに相当す
る部分)の断面積に比べて、内部通路13の他の部分
(凹所40aに相当する部分)の断面積が大きくなって
いる。
Therefore, in the present embodiment, compared to the cross-sectional area of the portion of the internal passage 13 on the suction port 11 side (the portion corresponding to the recess 40b), the other portion of the internal passage 13 (corresponding to the recess 40a). The cross-sectional area of the part to

【0040】本実施の形態によるピペットも、図1に示
すピペットと同様に製造することができ、図2に示すピ
ペットと同様の利点が得られる。さらに、本実施の形態
によれば、前述したように、内部通路13における吸引
口11側の部分の断面積に比べて、内部通路13の他の
部分の断面積が大きいので、操作対象が極めて小さく吸
引口11をそれに応じて小さく構成した場合であって
も、流体の流れに関する内部通路13のコンダクタンス
が大きくなる。このため、インジェクタ等により接続口
12を介して内部通路13を負圧に引く際に大きな力を
要さず、好ましい。
The pipette according to this embodiment can be manufactured in the same manner as the pipette shown in FIG. 1, and the same advantages as the pipette shown in FIG. 2 can be obtained. Further, according to the present embodiment, as described above, since the cross-sectional area of the other portion of the internal passage 13 is larger than the cross-sectional area of the portion of the internal passage 13 on the suction port 11 side, the operation target is extremely large. Even if the suction port 11 is made small and accordingly small, the conductance of the internal passage 13 with respect to the flow of the fluid becomes large. Therefore, a large force is not required when the internal passage 13 is pulled to a negative pressure via the connection port 12 by an injector or the like, which is preferable.

【0041】次に、本発明の第4の実施の形態によるピ
ペットについて、図7を参照して説明する。
Next, a pipette according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0042】図7(a)は本実施の形態によるピペット
を示す斜視図、図7(b)は本実施の形態によるピペッ
トを構成する第2の部材15の上面側から見た平面図で
ある。図7において、図1中の要素と同一又は対応する
要素には同一符号を付し、その説明は省略する。
FIG. 7A is a perspective view showing the pipette according to this embodiment, and FIG. 7B is a plan view seen from the upper surface side of the second member 15 constituting the pipette according to this embodiment. . 7, elements that are the same as or correspond to the elements in FIG. 1 are assigned the same reference numerals and explanations thereof are omitted.

【0043】本実施の形態では、第2の部材15の上面
には、内部通路13の全体に相当する凹所50aが形成
されている。該凹所50aの一端52aが接続口12に
相当し、凹所50aの他端51aが吸引口11に相当し
ている。そして、凹所50aの断面積は端部51aから
端部52aに向かうほど大きくなっている。このような
凹所50aは、例えば、第2の部材15を(100)面
方位を持つシリコン単結晶基板を用いて構成し、テーパ
ー状のパターンを有するマスクを用いるとともにエッチ
ング液としてKOH溶液を用いた異方性エッチングを前
記基板に施すことによって、得ることができる。この場
合、凹所50aの断面形状は図7に示すように三角形と
なる。
In the present embodiment, the upper surface of the second member 15 is provided with a recess 50a corresponding to the entire internal passage 13. One end 52a of the recess 50a corresponds to the connection port 12, and the other end 51a of the recess 50a corresponds to the suction port 11. The cross-sectional area of the recess 50a increases from the end 51a toward the end 52a. Such a recess 50a is formed by using, for example, the second member 15 using a silicon single crystal substrate having a (100) plane orientation, using a mask having a tapered pattern, and using a KOH solution as an etching solution. It can be obtained by subjecting the substrate to the anisotropic etching. In this case, the recess 50a has a triangular cross-sectional shape as shown in FIG.

【0044】したがって、本実施の形態では、内部通路
13の断面積は、吸引口11側から接続口12側に向か
うほど大きくなっている。
Therefore, in the present embodiment, the cross-sectional area of the internal passage 13 increases from the suction port 11 side toward the connection port 12 side.

【0045】本実施の形態によるピペットも、図1に示
すピペットと同様に製造することができ、図2に示すピ
ペットと同様の利点が得られる。さらに、本実施の形態
によれば、前述したように、内部通路13の断面積が吸
引口11側から接続口12側に向かうほど大きいので、
操作対象が極めて小さく吸引口11をそれに応じて小さ
く構成した場合であっても、流体の流れに関する内部通
路13のコンダクタンスが大きくなる。このため、イン
ジェクタ等により接続口12を介して内部通路13を負
圧に引く際に大きな力を要さず、好ましい。
The pipette according to this embodiment can be manufactured in the same manner as the pipette shown in FIG. 1, and the same advantages as the pipette shown in FIG. 2 can be obtained. Furthermore, according to the present embodiment, as described above, since the cross-sectional area of the internal passage 13 is larger from the suction port 11 side toward the connection port 12 side,
Even when the operation target is extremely small and the suction port 11 is configured to be small accordingly, the conductance of the internal passage 13 with respect to the flow of the fluid becomes large. Therefore, a large force is not required when the internal passage 13 is pulled to a negative pressure via the connection port 12 by an injector or the like, which is preferable.

【0046】以上、本発明の種々の実施の形態について
説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定される
ものではない。
Although various embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
任意の大きさでかつ精度の良い吸引口を有するとともに
製造が容易で安価なピペット及びその製造方法を提供す
ることができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a pipette having an arbitrary size and a highly accurate suction port, easy to manufacture and inexpensive, and a manufacturing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態によるピペットを示
す図である。
FIG. 1 shows a pipette according to a first embodiment of the present invention.

【図2】ピペット製造方法の各工程を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing each step of the pipette manufacturing method.

【図3】凹所の形成方法を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a method of forming a recess.

【図4】シリコン基板とガラス基板との陽極接合の様子
を模式的に示す図である。
FIG. 4 is a diagram schematically showing the manner of anodic bonding between a silicon substrate and a glass substrate.

【図5】本発明の第2の実施の形態によるピペットを示
す図である。
FIG. 5 shows a pipette according to a second embodiment of the invention.

【図6】本発明の第3の実施の形態によるピペットを示
す図である。
FIG. 6 shows a pipette according to a third embodiment of the invention.

【図7】本発明の第4の実施の形態によるピペットを示
す図である。
FIG. 7 shows a pipette according to a fourth embodiment of the invention.

【図8】従来のピペットの要部を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a main part of a conventional pipette.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ピペット本体 11 吸引口 12 接続口 13 内部通路 13a,40a,40b,50a 凹所 14 第1の部材 15 第2の部材 20 シリコン基板 21 ガラス基板 30 ホットプレート 10 Pipette Body 11 Suction Port 12 Connection Port 13 Internal Passage 13a, 40a, 40b, 50a Recess 14 First Member 15 Second Member 20 Silicon Substrate 21 Glass Substrate 30 Hot Plate

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部に開口して操作対象を吸引保持する
吸引口と、外部に開口して負圧に引くための接続口と、
前記吸引口と前記接続口との間を連通させる内部通路
と、を有するピペット本体を備え、 前記ピペット本体が、第1の平面を有する第1の部材と
第2の平面を有する第2の部材とからなる接合体であっ
て、前記第1の平面と前記第2の平面との間が接合され
た接合体からなり、 前記第1の部材の前記第1の平面及び前記第2の部材の
前記第2の平面のうちの少なくとも一方には、前記内部
通路の少なくとも一部に相当する凹所が形成された、 ことを特徴とするピペット。
1. A suction port that is opened to the outside to hold an operation target by suction, and a connection port that is opened to the outside to draw a negative pressure.
A pipette body having an internal passage communicating between the suction port and the connection port, wherein the pipette body has a first member having a first plane and a second member having a second plane. A joined body consisting of a joined body in which the first plane and the second plane are joined together, wherein the first plane of the first member and the second member A pipette, wherein a recess corresponding to at least a part of the internal passage is formed on at least one of the second planes.
【請求項2】 前記内部通路における前記吸引口付近の
部分の断面積に比べて、前記内部通路の他の部分の断面
積が大きいことを特徴とする請求項1記載のピペット。
2. The pipette according to claim 1, wherein a cross-sectional area of another portion of the internal passage is larger than a cross-sectional area of a portion of the internal passage near the suction port.
【請求項3】 前記内部通路の断面積が、前記吸引口側
から前記接続口側に向かうほど大きいことを特徴とする
請求項1記載のピペット。
3. The pipette according to claim 1, wherein the cross-sectional area of the internal passage is larger from the suction port side toward the connection port side.
【請求項4】 前記第1及び第2の部材のうちの少なく
とも一方が透明材料からなることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれかに記載のピペット。
4. The at least one of the first and second members is made of a transparent material.
The pipette according to any one of 1 to 3.
【請求項5】 前記第1及び第2の部材のうちの少なく
とも一方がシリコンからなることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれかに記載のピペット。
5. The at least one of the first and second members is made of silicon.
The pipette according to any one of 1 to 3.
【請求項6】 前記第1の部材が可動イオンを含むガラ
ス材料からなり、前記第2の部材が半導体又は金属から
なることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載
のピペット。
6. The pipette according to claim 1, wherein the first member is made of a glass material containing mobile ions, and the second member is made of a semiconductor or a metal.
【請求項7】 請求項1乃至3のいずれかに記載のピペ
ットを製造するピペット製造方法であって、 第1及び第2の基板であって、該第1及び第2の基板の
少なくとも一方の基板の1つの平面に、複数のピペット
の分の前記内部通路の少なくとも一部に相当する凹所が
形成された第1及び第2の基板を用意する段階と、 前記第1の基板の平面と前記第2の基板の平面との間を
接合する段階と、 接合された前記第1及び第2の基板を個々のピペットに
分離する段階と、 を備えたことを特徴とするピペット製造方法。
7. A pipette manufacturing method for manufacturing the pipette according to claim 1, wherein the first and second substrates are at least one of the first and second substrates. Providing a first and a second substrate in which a recess corresponding to at least a part of the internal passage for a plurality of pipettes is formed in one plane of the substrate; and a plane of the first substrate. A method of manufacturing a pipette, comprising: a step of joining between the flat surfaces of the second substrate; and a step of separating the joined first and second substrates into individual pipettes.
【請求項8】 前記第1及び第2の基板を用意する前記
段階は、エッチング又はダイシング加工により、前記第
1及び第2の基板の少なくとも一方の基板の1つの平面
に前記凹所を形成する段階を含むことを特徴とする請求
項7記載のピペット製造方法。
8. The step of preparing the first and second substrates forms the recess in one plane of at least one of the first and second substrates by etching or dicing. The pipette manufacturing method according to claim 7, further comprising steps.
【請求項9】 前記第1の基板が可動イオンを含むガラ
ス材料からなり、前記第2の基板が半導体又は金属から
なり、前記接合する段階は、前記第1の基板の平面と前
記第2の基板の平面との間を陽極接合する段階を含むこ
とを特徴とする請求項7又は8記載のピペット製造方
法。
9. The first substrate is made of a glass material containing mobile ions, the second substrate is made of a semiconductor or a metal, and the bonding step is performed on the plane of the first substrate and the second substrate. 9. The pipette manufacturing method according to claim 7, further comprising a step of anodic bonding with the plane of the substrate.
JP7297629A 1995-10-20 1995-10-20 Pipette and its manufacture Pending JPH09108578A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7000311B1 (en) * 1999-11-09 2006-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Vacuum pipette for gripping electrical components by suction

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7000311B1 (en) * 1999-11-09 2006-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Vacuum pipette for gripping electrical components by suction

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