JPH09106083A - マルチアクティブ光導電性要素の製造方法及びマルチアクティブ電子写真要素 - Google Patents
マルチアクティブ光導電性要素の製造方法及びマルチアクティブ電子写真要素Info
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- JPH09106083A JPH09106083A JP22008196A JP22008196A JPH09106083A JP H09106083 A JPH09106083 A JP H09106083A JP 22008196 A JP22008196 A JP 22008196A JP 22008196 A JP22008196 A JP 22008196A JP H09106083 A JPH09106083 A JP H09106083A
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- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
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- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マルチアクティブ光導電性要素の製造方法を
改良すること。 【解決手段】 （Ａ）(1) ビーズが片面側から突出して
おり、ローレット目を含まない平らな高分子支持体のロ
ール状物を準備し、(2) 該支持体の該ビーズを含む表面
とは反対側の表面に金属を真空被覆し、(3) 該金属層の
上に電荷輸送層を溶剤塗布し、(4) 該電荷輸送層の上に
電荷生成層を設け、そして(5) 該電荷輸送層の縁部に沿
って炭素層を被覆することによって、ロール状のマルチ
アクティブ光導電性要素を準備する工程と、（Ｂ）該要
素を長さ方向で細長く切断してより小さなマルチアクテ
ィブ光導電性要素を作製する工程と、（Ｃ）該要素を積
み重ね、その際、個々の積重ね体における各要素が該積
重ね体における隣接要素と直に接するようにする工程
と、（Ｄ）該積重ね体を硬化する工程とを含む、マルチ
アクティブ光導電性要素の製造方法。
改良すること。 【解決手段】 （Ａ）(1) ビーズが片面側から突出して
おり、ローレット目を含まない平らな高分子支持体のロ
ール状物を準備し、(2) 該支持体の該ビーズを含む表面
とは反対側の表面に金属を真空被覆し、(3) 該金属層の
上に電荷輸送層を溶剤塗布し、(4) 該電荷輸送層の上に
電荷生成層を設け、そして(5) 該電荷輸送層の縁部に沿
って炭素層を被覆することによって、ロール状のマルチ
アクティブ光導電性要素を準備する工程と、（Ｂ）該要
素を長さ方向で細長く切断してより小さなマルチアクテ
ィブ光導電性要素を作製する工程と、（Ｃ）該要素を積
み重ね、その際、個々の積重ね体における各要素が該積
重ね体における隣接要素と直に接するようにする工程
と、（Ｄ）該積重ね体を硬化する工程とを含む、マルチ
アクティブ光導電性要素の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真技術分野に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】マルチアクティブ電子写真要素が知られ
ている。一般に、このような要素は、電荷生成層及び電
荷輸送層と電気的に接触している導電性支持体を含む。
これらの要素を製造するための方法及び材料について
は、米国特許第３，６１５，４１４号、同第４，１７
５，９６０号及び同第４，０８２，５５１号明細書のよ
うな多くの特許文献に記載されている。これらの特許文
献にはこれらの要素の使用方法についても記載されてい
る。
ている。一般に、このような要素は、電荷生成層及び電
荷輸送層と電気的に接触している導電性支持体を含む。
これらの要素を製造するための方法及び材料について
は、米国特許第３，６１５，４１４号、同第４，１７
５，９６０号及び同第４，０８２，５５１号明細書のよ
うな多くの特許文献に記載されている。これらの特許文
献にはこれらの要素の使用方法についても記載されてい
る。
【０００３】マルチアクティブ要素を製造するための工
業的方法の一つでは、幅が標準化されておらず且つ長さ
が数千メートルにも及ぶロール状の支持体にスリット処
理をすると同時にローレットを切って厚みを増加させ
る。ロールの幅は標準化されていないので、この方法で
必要な幅を特別に決めなければならない。この工程で
は、スリットした支持体の中心に及び縁に沿ってローレ
ットが配置される。ローレットを切る工程は支持体にロ
ーラーを適用する工程を含む。これらのローラーはレリ
ーフ又は型押模様を有するので、支持体のローラーが適
用された部分にはレリーフ模様ができる。支持体におけ
るローレットは、ローラー及び平面の上で支持体及びそ
の上の何らかの層を移送するのに必要なスリップを提供
する際に補助となる。また、ローレットによって、特に
真空被覆工程において、支持体を巻き取ってロールにす
ることができる。
業的方法の一つでは、幅が標準化されておらず且つ長さ
が数千メートルにも及ぶロール状の支持体にスリット処
理をすると同時にローレットを切って厚みを増加させ
る。ロールの幅は標準化されていないので、この方法で
必要な幅を特別に決めなければならない。この工程で
は、スリットした支持体の中心に及び縁に沿ってローレ
ットが配置される。ローレットを切る工程は支持体にロ
ーラーを適用する工程を含む。これらのローラーはレリ
ーフ又は型押模様を有するので、支持体のローラーが適
用された部分にはレリーフ模様ができる。支持体におけ
るローレットは、ローラー及び平面の上で支持体及びそ
の上の何らかの層を移送するのに必要なスリップを提供
する際に補助となる。また、ローレットによって、特に
真空被覆工程において、支持体を巻き取ってロールにす
ることができる。
【０００４】スリット処理及びローレット処理した支持
体は真空チャンバー内で金属層を被覆され、その後再び
スリット処理される。金属化された支持体の上には直接
に電荷輸送層が溶剤塗布される。次いで、その電荷輸送
層の上に電荷生成層が溶剤塗布される。この電荷生成層
の上には硬質のオーバーコート層を溶剤塗布することが
できる。要素のローレット処理された支持体を含む部分
を除去するために最終のスリット処理工程が必要であ
る。続いて、この要素を切断してより小さな市販用の長
さにする。これらのより小さな要素を積み重ねて棚状に
する。次いで、そのより小さな要素の積重ね体を炉で硬
化する。間に挟み込まれた介在シートによって、シート
間で気体を逃すこと、静電気引力を低減すること、そし
て硬化時の要素間の移動に適応する滑りを可能にするこ
とができる。マルチアクティブ要素の製造における別の
工程には、要素に孔をあけて市販用の幅にスリット処理
する工程が含まれる場合もある。
体は真空チャンバー内で金属層を被覆され、その後再び
スリット処理される。金属化された支持体の上には直接
に電荷輸送層が溶剤塗布される。次いで、その電荷輸送
層の上に電荷生成層が溶剤塗布される。この電荷生成層
の上には硬質のオーバーコート層を溶剤塗布することが
できる。要素のローレット処理された支持体を含む部分
を除去するために最終のスリット処理工程が必要であ
る。続いて、この要素を切断してより小さな市販用の長
さにする。これらのより小さな要素を積み重ねて棚状に
する。次いで、そのより小さな要素の積重ね体を炉で硬
化する。間に挟み込まれた介在シートによって、シート
間で気体を逃すこと、静電気引力を低減すること、そし
て硬化時の要素間の移動に適応する滑りを可能にするこ
とができる。マルチアクティブ要素の製造における別の
工程には、要素に孔をあけて市販用の幅にスリット処理
する工程が含まれる場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この製造方法にはいく
つかの欠点がある。支持体は、目的のマルチアクティブ
要素の幅及びローレット処理部分の幅を収容するに十分
な幅をもつ必要がある。支持体のローレット処理部は最
終的に廃棄されるので、廃棄物及びコスト増加を招く。
また、ローレット処理により得られた比較的厚い要素
は、真空被覆チャンバーにおいて一回のバッチで金属層
を被覆することができる支持体の長さに制限を課す。さ
らに、出発材料の支持体に必要な幅が標準化されていな
いため、最初にスリット工程が必要である。積み重ねら
れるより小さな要素間に介在シートを挿入しなければな
らないため、その介在材料のコスト、それを作るために
必要な時間及び積重ね体における要素間にそれを挿入、
除去するための付加的な製造工程から、さらに別の欠点
が生じる。この介在材料は汚染源でもある。汚れた介在
シートをより小さな要素と接触させて配置すると、その
汚れがシートに移り、積重ね体のベーキング時の熱及び
圧力によってフィルム表面に埋め込まれる。この埋め込
まれた汚れがコピーのアーチファクトの原因となりう
る。また、この介在は棚における空間をとり、これがな
ければより小さなマルチアクティブ要素のユニットのた
めにその空間を利用することができる。
つかの欠点がある。支持体は、目的のマルチアクティブ
要素の幅及びローレット処理部分の幅を収容するに十分
な幅をもつ必要がある。支持体のローレット処理部は最
終的に廃棄されるので、廃棄物及びコスト増加を招く。
また、ローレット処理により得られた比較的厚い要素
は、真空被覆チャンバーにおいて一回のバッチで金属層
を被覆することができる支持体の長さに制限を課す。さ
らに、出発材料の支持体に必要な幅が標準化されていな
いため、最初にスリット工程が必要である。積み重ねら
れるより小さな要素間に介在シートを挿入しなければな
らないため、その介在材料のコスト、それを作るために
必要な時間及び積重ね体における要素間にそれを挿入、
除去するための付加的な製造工程から、さらに別の欠点
が生じる。この介在材料は汚染源でもある。汚れた介在
シートをより小さな要素と接触させて配置すると、その
汚れがシートに移り、積重ね体のベーキング時の熱及び
圧力によってフィルム表面に埋め込まれる。この埋め込
まれた汚れがコピーのアーチファクトの原因となりう
る。また、この介在は棚における空間をとり、これがな
ければより小さなマルチアクティブ要素のユニットのた
めにその空間を利用することができる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）(1) ビ
ーズが片面側から突出しており、ローレット目を含まな
い平らな高分子支持体のロール状物を準備し、(2) 前記
支持体の前記ビーズを含む表面とは反対側の表面に金属
を真空被覆し、(3) 前記金属層の上に電荷輸送層を溶剤
塗布し、(4) 前記電荷輸送層の上に電荷生成層を設け、
そして(5) 前記電荷輸送層の縁部に沿って炭素層を被覆
することによって、ロール状のマルチアクティブ光導電
性要素を準備する工程と、 （Ｂ）前記光導電性要素を長さ方向で細長く切断してよ
り小さなマルチアクティブ光導電性要素を作製する工程
と、 （Ｃ）前記より小さなマルチアクティブ光導電性要素を
積み重ね、その際、個々の積重ね体における各要素が該
積重ね体における隣接要素と直に接するようにする工程
と、 （Ｄ）より小さな平らなユニットから成る前記積重ね体
を硬化する工程とを含む、マルチアクティブ光導電性要
素の製造方法を提供するものである。
ーズが片面側から突出しており、ローレット目を含まな
い平らな高分子支持体のロール状物を準備し、(2) 前記
支持体の前記ビーズを含む表面とは反対側の表面に金属
を真空被覆し、(3) 前記金属層の上に電荷輸送層を溶剤
塗布し、(4) 前記電荷輸送層の上に電荷生成層を設け、
そして(5) 前記電荷輸送層の縁部に沿って炭素層を被覆
することによって、ロール状のマルチアクティブ光導電
性要素を準備する工程と、 （Ｂ）前記光導電性要素を長さ方向で細長く切断してよ
り小さなマルチアクティブ光導電性要素を作製する工程
と、 （Ｃ）前記より小さなマルチアクティブ光導電性要素を
積み重ね、その際、個々の積重ね体における各要素が該
積重ね体における隣接要素と直に接するようにする工程
と、 （Ｄ）より小さな平らなユニットから成る前記積重ね体
を硬化する工程とを含む、マルチアクティブ光導電性要
素の製造方法を提供するものである。
【０００７】金属被覆層とは反対側の表面からビーズが
突出している平らな支持体を使用することにより、ロー
レット処理、最初のスリット工程、標準化されていない
高分子支持体幅を使用すること及び硬化工程における介
在シートの使用が必要なくなる。また、ローレット処理
の除外によって、一回の真空被覆工程において金属被覆
できる高分子支持体の長さを増加することができる。
突出している平らな支持体を使用することにより、ロー
レット処理、最初のスリット工程、標準化されていない
高分子支持体幅を使用すること及び硬化工程における介
在シートの使用が必要なくなる。また、ローレット処理
の除外によって、一回の真空被覆工程において金属被覆
できる高分子支持体の長さを増加することができる。
【０００８】さらに、本発明の方法は、金属層、電荷輸
送層及び電荷生成層をこの順序で担持する支持体を含む
マルチアクティブ電子写真要素において、前記支持体の
導電層が存在する表面とは反対側の表面からビーズが突
出していることを特徴とするマルチアクティブ電子写真
要素を提供する。
送層及び電荷生成層をこの順序で担持する支持体を含む
マルチアクティブ電子写真要素において、前記支持体の
導電層が存在する表面とは反対側の表面からビーズが突
出していることを特徴とするマルチアクティブ電子写真
要素を提供する。
【０００９】発明の詳細な説明 本発明の重要な要件は、少なくとも片面からビーズが突
出している平らな高分子支持体を使用することである。
電子写真技術分野では支持体として多種多様なポリマー
が用いられている。このようなポリマーは、例えば、米
国特許第４，０８２，５５１号及び同第４，１７５，９
６０号明細書並びにそれらの中で言及されている他の特
許明細書及び文献に記載されている。
出している平らな高分子支持体を使用することである。
電子写真技術分野では支持体として多種多様なポリマー
が用いられている。このようなポリマーは、例えば、米
国特許第４，０８２，５５１号及び同第４，１７５，９
６０号明細書並びにそれらの中で言及されている他の特
許明細書及び文献に記載されている。
【００１０】ビーズは、支持体の横断面部全体に添加さ
れるか、別法として、支持体の片面上に薄く同時押出さ
れた層に添加される。ビーズは、所期の裏面から０．１
〜４．０μｍ、好ましくは０．１〜１．０μｍ突出す
る。これらの突出しているビーズによって、巻き取られ
てロールにされる際に又は大面積の平らな面上で横方向
に移動する際に、支持体、及びその表面に存在する何ら
かの層、が自身に対して滑ることができるように十分な
分離が得られる。この分離によって、フィルムの引掻き
を防止するために用いられるプラッシュ材料のような帯
電誘発性表面に対して運搬される又はロールから巻き戻
される際の、支持体の静電気帯電への傾向が減少する。
れるか、別法として、支持体の片面上に薄く同時押出さ
れた層に添加される。ビーズは、所期の裏面から０．１
〜４．０μｍ、好ましくは０．１〜１．０μｍ突出す
る。これらの突出しているビーズによって、巻き取られ
てロールにされる際に又は大面積の平らな面上で横方向
に移動する際に、支持体、及びその表面に存在する何ら
かの層、が自身に対して滑ることができるように十分な
分離が得られる。この分離によって、フィルムの引掻き
を防止するために用いられるプラッシュ材料のような帯
電誘発性表面に対して運搬される又はロールから巻き戻
される際の、支持体の静電気帯電への傾向が減少する。
【００１１】ビーズ突出部が５０％以下であると仮定し
た場合には、ビーズの大きさを０．５〜８．０μｍの範
囲に制限すべきである。突出部がこれよりも大きくなる
と、真空被覆又は溶剤塗布が困難となる恐れがある。許
容できる突出部に対してはビーズの形状もまた影響を及
ぼしうる。球形ビーズ又は若干平らなビーズは、塗布工
程に対する影響が最も小さい。ポリマー中で押し出さ
れ、そして直径の５０％しか突出しない場合には、この
ようなビーズはフィルムベースに有効に固定されやす
い。除去されたビーズによる粉塵化や汚染は回避され
る。また、ビーズ突起高が３〜４μｍ以下であると、比
較的大きなビーズにまつわる汚染や運搬の問題が回避さ
れる。支持体中に存在するビーズの数は、支持体百万部
当たりビーズ５０部以上である。このビーズ含有量は、
少なくとも片面上での突出ビーズの最少数を保証する量
である。
た場合には、ビーズの大きさを０．５〜８．０μｍの範
囲に制限すべきである。突出部がこれよりも大きくなる
と、真空被覆又は溶剤塗布が困難となる恐れがある。許
容できる突出部に対してはビーズの形状もまた影響を及
ぼしうる。球形ビーズ又は若干平らなビーズは、塗布工
程に対する影響が最も小さい。ポリマー中で押し出さ
れ、そして直径の５０％しか突出しない場合には、この
ようなビーズはフィルムベースに有効に固定されやす
い。除去されたビーズによる粉塵化や汚染は回避され
る。また、ビーズ突起高が３〜４μｍ以下であると、比
較的大きなビーズにまつわる汚染や運搬の問題が回避さ
れる。支持体中に存在するビーズの数は、支持体百万部
当たりビーズ５０部以上である。このビーズ含有量は、
少なくとも片面上での突出ビーズの最少数を保証する量
である。
【００１２】後方照射又は消去を使用するプロセスで
は、光源の望ましくない減衰を回避するために曇り度を
４．０％未満に保持すべきである。好適なポリマー支持
体の屈折率に近いのでガラスを使用することができる。
ガラスを使用することにより、許容できない曇り度を生
じることなく共重合体樹脂中に比較的多量のビーズ材料
を充填することができる。このことは、フィルムベース
の横断面部全体にビーズを均一に分布させる場合には重
要なことである。屈折率が近いのでポリマービーズを使
用してもよい。シリカビーズは靱性が非常に高いけれど
も、極低充填量では許容できない曇りを発現する場合が
ある。しかしながら、上記したように薄い同時押出層の
使用により可能となるようにフィルム横断面部の一部分
だけにビーズを制限した場合には、大きなシリカビーズ
を比較的多量に充填して使用することができる。
は、光源の望ましくない減衰を回避するために曇り度を
４．０％未満に保持すべきである。好適なポリマー支持
体の屈折率に近いのでガラスを使用することができる。
ガラスを使用することにより、許容できない曇り度を生
じることなく共重合体樹脂中に比較的多量のビーズ材料
を充填することができる。このことは、フィルムベース
の横断面部全体にビーズを均一に分布させる場合には重
要なことである。屈折率が近いのでポリマービーズを使
用してもよい。シリカビーズは靱性が非常に高いけれど
も、極低充填量では許容できない曇りを発現する場合が
ある。しかしながら、上記したように薄い同時押出層の
使用により可能となるようにフィルム横断面部の一部分
だけにビーズを制限した場合には、大きなシリカビーズ
を比較的多量に充填して使用することができる。
【００１３】有用な平らな支持体用ポリマーとして、二
軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリ
エチレンナフタレート（ＰＥＮ）が挙げられる。片面か
ら突出しているビーズを含有するポリエチレンテレフタ
レートはＩＣＩ社から商品名「Ｍｅｌｉｎｅｘ」（商
標）で市販されている。これらの支持体は、標準幅４４
インチ（約１１２ｃｍ）と各種長さを有するロールとし
て入手できる。
軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリ
エチレンナフタレート（ＰＥＮ）が挙げられる。片面か
ら突出しているビーズを含有するポリエチレンテレフタ
レートはＩＣＩ社から商品名「Ｍｅｌｉｎｅｘ」（商
標）で市販されている。これらの支持体は、標準幅４４
インチ（約１１２ｃｍ）と各種長さを有するロールとし
て入手できる。
【００１４】次いで、ロール状の平面高分子支持体に真
空チャンバー内で金属層を被覆して導電性支持体を形成
する。銀、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、
等を真空蒸着した金属層が有用である。真空被覆金属層
については前述の特許文献で公知である。所望であれ
ば、透明フィルム支持体を通して照射できる電子写真層
を製造することができるように十分に薄い層として透明
フィルム支持体上にニッケルのような導電性材料を真空
蒸着させてもよい。
空チャンバー内で金属層を被覆して導電性支持体を形成
する。銀、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、
等を真空蒸着した金属層が有用である。真空被覆金属層
については前述の特許文献で公知である。所望であれ
ば、透明フィルム支持体を通して照射できる電子写真層
を製造することができるように十分に薄い層として透明
フィルム支持体上にニッケルのような導電性材料を真空
蒸着させてもよい。
【００１５】本発明で用いられる平らな支持体の供給用
ロールを、真空被覆機の真空チャンバー内に装填する。
次いで、内部の空気を排気する。チャンバー内部の閉鎖
容器中で金属、好ましくはニッケルを気化させる。支持
体を供給用ロールから巻き戻し、気化容器上部の開口部
を横切るように運搬し、そして巻取ロールに巻き取る。
支持体が開口部を通過する際に、ビーズを含む表面とは
反対側の支持体表面に金属が付着する。この金属層は、
続いて被覆される電荷輸送層及び電荷生成層の基底層と
なる。
ロールを、真空被覆機の真空チャンバー内に装填する。
次いで、内部の空気を排気する。チャンバー内部の閉鎖
容器中で金属、好ましくはニッケルを気化させる。支持
体を供給用ロールから巻き戻し、気化容器上部の開口部
を横切るように運搬し、そして巻取ロールに巻き取る。
支持体が開口部を通過する際に、ビーズを含む表面とは
反対側の支持体表面に金属が付着する。この金属層は、
続いて被覆される電荷輸送層及び電荷生成層の基底層と
なる。
【００１６】自身に又は他の平滑面に密接する平滑でコ
ンプライアントな(compliant) 支持体の真空下での運搬
は容易ではない。このような表面は互いにブロック又は
付着することになりやすい。このため、運搬する又はロ
ールに巻き取る際には支持体の巻き取り又は操縦が困難
になる。本発明で用いられる支持体にはこのような困難
はない。その上、ローレットのない支持体は比較的薄
い。このことは、１回の真空金属化工程においてより多
く且つより長いロールの支持体を金属化できることを意
味している。
ンプライアントな(compliant) 支持体の真空下での運搬
は容易ではない。このような表面は互いにブロック又は
付着することになりやすい。このため、運搬する又はロ
ールに巻き取る際には支持体の巻き取り又は操縦が困難
になる。本発明で用いられる支持体にはこのような困難
はない。その上、ローレットのない支持体は比較的薄
い。このことは、１回の真空金属化工程においてより多
く且つより長いロールの支持体を金属化できることを意
味している。
【００１７】上記真空被覆工程により得られた金属被覆
支持体上に電荷輸送層を溶剤塗布する。ほとんどという
わけではないが、多くの常用の有機光導電体を含有する
組成物を有機溶剤ベヒクルを用いて塗布することが好ま
しいので、当該技術分野では工業規模での有機溶剤塗布
法が多く実施されている。電荷輸送層の上には電荷生成
層を溶剤塗布する。その適用方法は、部分的には該層に
用いられる電荷生成材料によって異なる。例えば、ペリ
レン系顔料の真空蒸着を実施することができる。多くの
場合、電荷輸送層の場合と同様、溶剤塗布法が有用であ
る。
支持体上に電荷輸送層を溶剤塗布する。ほとんどという
わけではないが、多くの常用の有機光導電体を含有する
組成物を有機溶剤ベヒクルを用いて塗布することが好ま
しいので、当該技術分野では工業規模での有機溶剤塗布
法が多く実施されている。電荷輸送層の上には電荷生成
層を溶剤塗布する。その適用方法は、部分的には該層に
用いられる電荷生成材料によって異なる。例えば、ペリ
レン系顔料の真空蒸着を実施することができる。多くの
場合、電荷輸送層の場合と同様、溶剤塗布法が有用であ
る。
【００１８】本発明において有用なマルチアクティブ要
素組成物を調製するための各種塗布溶剤として、置換芳
香族炭化水素（例、トルエン、キシレン、メシチレン、
等）をはじめとするベンゼンのような芳香族炭化水素；
アセトン、２−ブタノン、等のようなケトン；塩化メチ
レン、クロロホルム、塩化エチレンのようなハロゲン化
脂肪族炭化水素；テトラヒドロフランのような環状エー
テル、ジエチルエーテルをはじめとするエーテル；上記
溶剤の混合物、が挙げられる。
素組成物を調製するための各種塗布溶剤として、置換芳
香族炭化水素（例、トルエン、キシレン、メシチレン、
等）をはじめとするベンゼンのような芳香族炭化水素；
アセトン、２−ブタノン、等のようなケトン；塩化メチ
レン、クロロホルム、塩化エチレンのようなハロゲン化
脂肪族炭化水素；テトラヒドロフランのような環状エー
テル、ジエチルエーテルをはじめとするエーテル；上記
溶剤の混合物、が挙げられる。
【００１９】電荷輸送層及び電荷生成層のどちらの組成
物も公知である。これについても本明細書中に先に引用
した文献によって当業者には十分な情報が得られる。こ
のような「マルチアクティブ」光導電性組成物は、電荷
輸送層と電気的に接触している電荷生成層を含有する。
このような「マルチアクティブ」組成物の電荷生成層
は、上記したように多相「凝集」組成物を含む。このよ
うな「マルチアクティブ」組成物の電荷輸送層は、上記
特許明細書に記載されているような有機感光性電荷輸送
材料、例えば、上記米国特許第４，０６２，６８１号明
細書に記載されているアリールアミン、ポリアリールア
ルカン及びピロール材料のようなｐ−型有機光導電体を
含む。
物も公知である。これについても本明細書中に先に引用
した文献によって当業者には十分な情報が得られる。こ
のような「マルチアクティブ」光導電性組成物は、電荷
輸送層と電気的に接触している電荷生成層を含有する。
このような「マルチアクティブ」組成物の電荷生成層
は、上記したように多相「凝集」組成物を含む。このよ
うな「マルチアクティブ」組成物の電荷輸送層は、上記
特許明細書に記載されているような有機感光性電荷輸送
材料、例えば、上記米国特許第４，０６２，６８１号明
細書に記載されているアリールアミン、ポリアリールア
ルカン及びピロール材料のようなｐ−型有機光導電体を
含む。
【００２０】
【実施例】塗膜は溶剤塗布機で金属被覆支持体に適用し
た。このような機械は市販されている。本発明で用いた
機械では、１回の通過で３層の均一な層が被覆された。
コーティングのアーチファクトを防止するため、塗布及
び乾燥の特性を制御した。第一の塗布ステーションで電
荷輸送層（ＣＴＬ）を適用した。第一のステーションに
おいて、ＣＴＬの縁部に沿って炭素層をさらに適用し
た。この炭素層は金属層にまで拡張した。ＣＴＬの上に
電荷生成層（ＣＧＬ）を適用した。上記工程の結果、平
らで細長いマルチアクティブ電子写真要素のロール状物
が得られた。この要素を切断して市販用の長さのシート
にした。この切断作業は市販のシート形成装置によって
実施することができる。本発明で用いたビーズ含有支持
体によって、シート形成装置における操縦及びウェブ搬
送が促進される。
た。このような機械は市販されている。本発明で用いた
機械では、１回の通過で３層の均一な層が被覆された。
コーティングのアーチファクトを防止するため、塗布及
び乾燥の特性を制御した。第一の塗布ステーションで電
荷輸送層（ＣＴＬ）を適用した。第一のステーションに
おいて、ＣＴＬの縁部に沿って炭素層をさらに適用し
た。この炭素層は金属層にまで拡張した。ＣＴＬの上に
電荷生成層（ＣＧＬ）を適用した。上記工程の結果、平
らで細長いマルチアクティブ電子写真要素のロール状物
が得られた。この要素を切断して市販用の長さのシート
にした。この切断作業は市販のシート形成装置によって
実施することができる。本発明で用いたビーズ含有支持
体によって、シート形成装置における操縦及びウェブ搬
送が促進される。
【００２１】市販用の長さのシートを棚状に積み重ね、
そして炉でベーキングして溶剤塗布層を安定化且つ硬化
する。硬化工程中に溶剤は塗布層から逃げていく。シー
ト間がまったく分離されていないと、オーバーコートが
平滑且つ硬質でありすぎるため気体がシート間から逃げ
ることができない。すると気体はポケットに集まり、シ
ートが変形することになる。硬化工程中の支持体と塗布
層の膨張、収縮速度は異なる。シートがまったく分離さ
れていないと、平滑なオーバーコートと平滑な支持体は
互いにブロック又は付着する。シート材を共に積み重ね
ると、硬化中の動きによってシートにしわや変形が生じ
ることになる。これらの変形はコピーのアーチファクト
になる恐れがある。従来技術では、これらの問題を回避
するために、積重ね体の各シート間に介在材料を挿入し
ていた。このような介在材料は高分子であり、そして両
面に、８〜１０μｍのビーズをバインダー中に含むもの
が被覆されていた。本発明ではビーズ含有支持体を用い
るので、シート間に介在材料を挿入する必要がない。
そして炉でベーキングして溶剤塗布層を安定化且つ硬化
する。硬化工程中に溶剤は塗布層から逃げていく。シー
ト間がまったく分離されていないと、オーバーコートが
平滑且つ硬質でありすぎるため気体がシート間から逃げ
ることができない。すると気体はポケットに集まり、シ
ートが変形することになる。硬化工程中の支持体と塗布
層の膨張、収縮速度は異なる。シートがまったく分離さ
れていないと、平滑なオーバーコートと平滑な支持体は
互いにブロック又は付着する。シート材を共に積み重ね
ると、硬化中の動きによってシートにしわや変形が生じ
ることになる。これらの変形はコピーのアーチファクト
になる恐れがある。従来技術では、これらの問題を回避
するために、積重ね体の各シート間に介在材料を挿入し
ていた。このような介在材料は高分子であり、そして両
面に、８〜１０μｍのビーズをバインダー中に含むもの
が被覆されていた。本発明ではビーズ含有支持体を用い
るので、シート間に介在材料を挿入する必要がない。
【００２２】本発明をその好ましい実施態様を特に参照
しながら説明してきたが、本発明の精神及び範囲内の変
更、置換が可能であることを理解されたい。
しながら説明してきたが、本発明の精神及び範囲内の変
更、置換が可能であることを理解されたい。
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）(1) ビーズが片面側から突出して
おり、ローレット目を含まない平らな高分子支持体のロ
ール状物を準備し、(2) 前記支持体の前記ビーズを含む
表面とは反対側の表面に金属を真空被覆し、(3) 前記金
属層の上に電荷輸送層を溶剤塗布し、(4) 前記電荷輸送
層の上に電荷生成層を設け、そして(5) 前記電荷輸送層
の縁部に沿って炭素層を被覆することによって、ロール
状のマルチアクティブ光導電性要素を準備する工程と、 （Ｂ）前記光導電性要素を長さ方向で細長く切断してよ
り小さなマルチアクティブ光導電性要素を作製する工程
と、 （Ｃ）前記より小さなマルチアクティブ光導電性要素を
積み重ね、その際、個々の積重ね体における各要素が該
積重ね体における隣接要素と直に接するようにする工程
と、 （Ｄ）より小さな平らなユニットから成る前記積重ね体
を硬化する工程とを含む、マルチアクティブ光導電性要
素の製造方法。 - 【請求項２】 金属層、電荷輸送層及び電荷生成層をこ
の順序で担持する支持体を含むマルチアクティブ電子写
真要素において、前記支持体の導電層が存在する表面と
は反対側の表面からビーズが突出していることを特徴と
するマルチアクティブ電子写真要素。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US265195P | 1995-08-22 | 1995-08-22 | |
| US08/585,326 US5753401A (en) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | Multiactive electrostatographic elements having a support with beads protruding on one surface |
| US60/002651 | 1996-01-11 | ||
| US08/585326 | 1996-01-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106083A true JPH09106083A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=26670686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22008196A Pending JPH09106083A (ja) | 1995-08-22 | 1996-08-21 | マルチアクティブ光導電性要素の製造方法及びマルチアクティブ電子写真要素 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0759580B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09106083A (ja) |
| DE (1) | DE69610955T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013250426A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0363658A (ja) * | 1989-08-01 | 1991-03-19 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| WO1991007279A1 (fr) * | 1989-11-14 | 1991-05-30 | Toray Industries, Inc. | Film polyester stratifie |
| US5190608A (en) * | 1990-12-27 | 1993-03-02 | Xerox Corporation | Laminated belt |
| US5213928A (en) * | 1991-11-04 | 1993-05-25 | Xerox Corporation | Imaging member containing polysiloxane homopolymers |
-
1996
- 1996-08-19 EP EP96202311A patent/EP0759580B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-19 DE DE1996610955 patent/DE69610955T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-21 JP JP22008196A patent/JPH09106083A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013250426A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0759580A1 (en) | 1997-02-26 |
| EP0759580B1 (en) | 2000-11-15 |
| DE69610955D1 (de) | 2000-12-21 |
| DE69610955T2 (de) | 2001-05-03 |
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