JPH0897299A - Many-cell memory - Google Patents

Many-cell memory

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Publication number
JPH0897299A
JPH0897299A JP6225033A JP22503394A JPH0897299A JP H0897299 A JPH0897299 A JP H0897299A JP 6225033 A JP6225033 A JP 6225033A JP 22503394 A JP22503394 A JP 22503394A JP H0897299 A JPH0897299 A JP H0897299A
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JP
Japan
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reset
memory
mosfet
memory cells
cell
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JP6225033A
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Japanese (ja)
Inventor
S Randeta David
エス ランデタ デイヴィッド
William R Young
アール ヤング ウィリアム
W Longwey Charles
ダブリュー ロングウェイ チャールズ
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Harris Corp
Original Assignee
Harris Corp
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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract

PURPOSE: To effectively reset a memory by using an auxiliary reset mechanism, which is separated from the memory itself and does not require changes in memory itself and by an additional auxiliary reset control circuit for decreased circuit capacity. CONSTITUTION: A reset link 21 is internally connected to the respective resettable cells of an array 11. Therefore, the single reset control signal effectively causes the reset of all cells of the array. The contents or the state of each reset state circuit (or reset-state memory cell) in the array 11 is used to mask the contents of the words related to a memory array 15 in the controlled state, every time the word is read out. When the reset memory cell is cleared, all the memory words addressed by the mask are outputted as zero, regardless of the bit state of the word related to the memory at that time.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、一般的には半導体メモ
リ回路に関し、特に低減化された回路容量の補助リセッ
ト制御回路アレイの合体化によってランダムアクセスメ
モリを効果的にリセットする機構に関し、該補助リセッ
ト制御回路アレイの構成要素はランダムアクセスメモリ
の各ワードから分離されているが各ワードに関連してい
る。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates generally to semiconductor memory circuits, and more particularly to a mechanism for effectively resetting a random access memory by coalescing an auxiliary reset control circuit array of reduced circuit capacity. The components of the auxiliary reset control circuit array are separate from, but associated with, each word of the random access memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】ランダムアクセスメモリのリセットは、
メモリの全ての格納位置或いはセルの内容を、リセット
制御信号の発生に応答して典型的に各格納位置をアドレ
ッシングし各セルへ「0」を書き込むことによって、ク
リアリング或いは「零化」することを慣例的に意味して
いる。全てのメモリアレイをクリアするのに必要とされ
る過渡ピーク電流は極めて大きく、またメモリアクセス
クロックの数クロックサイクル尾を引くと思われるた
め、このような機構は好ましからず遅く、付随する電流
ドライバを形成するための十分な半導体の実際の領域が
必要である。
2. Description of the Related Art Resetting a random access memory
Clearing or "zeroing" the contents of all storage locations or cells of the memory, typically by addressing each storage location and writing a "0" to each cell in response to the generation of a reset control signal. Customarily means. Such a mechanism is undesired and slow, as the transient peak currents required to clear all memory arrays are extremely large and are likely to trail a few clock cycles of the memory access clock. There needs to be sufficient real estate of the semiconductor to form.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この問題を解決するた
めの一手段は、米国特許出願第4,789,967 号の明細書に
開示されており、メモリの副部分或いはブロックへリセ
ット過程を分け、(選択された部分或いは関心のあるメ
モリの部分のみをリセットすることによって)両方のリ
セット電流の要求に関しては僅かな低減を提供し、また
リセット速度に関してはある程度の向上を提供しようと
している。残念なことに、Liou等の特許に開示され
たリセット機構は、リセット電流をメモリ自体に直接供
給する必要がさらにあり、従ってたとえ全メモリより少
ないメモリが選択的にアクセスされても、リセット動作
はリセットされるべきメモリの各ブロックにおいて複数
のメモリセルの内容を変更することをまだ意味してい
る。
One means of solving this problem is disclosed in U.S. Pat. No. 4,789,967, which divides the reset process into sub-portions or blocks of memory, It seeks to provide a slight reduction with respect to both reset current requirements (by resetting only that part of the memory or part of the memory of interest) and some improvement in reset speed. Unfortunately, the reset mechanism disclosed in the Liou et al. Patent further requires that the reset current be supplied directly to the memory itself, so that even if less than full memory is selectively accessed, the reset operation will not occur. It still means changing the contents of a plurality of memory cells in each block of memory to be reset.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明に依ると、メモリ
の全リセット或いは部分的なリセットのためにメモリの
一つ以上のセグメント或いはブロックの各格納位置の内
容を変更或いはクリアするよりも、メモリ自体から分離
されかつメモリ自体の内容の変更を必要としない補助リ
セット機構が使用される。一般的に、本発明が実施され
るメモリは、NMOS、PMOS、CMOS、バイポー
ラ、GaAs、及び磁気回路のような任意の読み出し/
書き込み技術を含んでいる。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, rather than changing or clearing the contents of each storage location of one or more segments or blocks of memory for a full or partial reset of the memory, An auxiliary reset mechanism is used that is separate from the memory itself and does not require modification of the contents of the memory itself. Generally, the memory in which the present invention is implemented can be any read / write device such as NMOS, PMOS, CMOS, bipolar, GaAs, and magnetic circuits.
Includes writing technology.

【0005】NビットのMワードを格納できるランダム
アクセスメモリでは、本発明の補助機構は好ましくはメ
モリのMワードにそれぞれ関連する複数のM個のリセッ
ト状態回路より成っている。このリセット状態回路は、
メモリの各ワードに対して付加的な「リセット可能な」
メモリセルを含んでおり、メモリ自体の物理的構造内に
集積化され或いは分離したマルチセルユニットで形成さ
れ、メモリへの書き込み或いは読み出しに関して使用さ
れる。この付加的なマルチリセット回路ユニットはメモ
リセルで厳密に形成される必要はなく、複数のリセット
論理回路で形成できる。好ましい実施例では、本発明の
リセット可能メモリは、「9個のトランジスタ(9
T)」のデュアルポートCMOSで構成されたメモリセ
ルとして実施されている。
In a random access memory capable of storing M words of N bits, the auxiliary mechanism of the present invention preferably comprises a plurality of M reset state circuits, each associated with an M word of memory. This reset state circuit
Additional "resettable" for each word of memory
It includes memory cells and is formed of multi-cell units that are integrated or separate within the physical structure of the memory itself and are used for writing to or reading from the memory. This additional multi-reset circuit unit need not be formed exactly with memory cells, but can be formed with multiple reset logic circuits. In a preferred embodiment, the resettable memory of the present invention comprises "9 transistors (9
T) ”dual port CMOS.

【0006】メモリの1つ以上のワードをリセットする
ために、関連するリセット状態回路がリセット状態を表
す状態に置かれている。ここで、このマルチリセット状
態ユニットはリセット可能メモリセルで形成されてお
り、このリセット状態回路の初期化はこのようなリセッ
ト可能メモリセルのリセットを意味している。各リセッ
ト状態回路の内容或いは状態は、ワードが読み出される
ごとに、メモリの関連するワードの内容を制御的にマス
クするために使用される。このマスク機構は、AND、
NAND、NOR、及びOR関数のような適当な論理演
算を含んでいる。
To reset one or more words of memory, the associated reset state circuitry is placed in a state representative of a reset state. Here, the multi-reset state unit is formed by resettable memory cells, and the initialization of the reset state circuit means resetting of such resettable memory cells. The content or state of each reset state circuit is used to controllably mask the content of the associated word of memory as the word is read. This mask mechanism is AND,
It includes appropriate logical operations such as NAND, NOR, and OR functions.

【0007】[0007]

【作用】リセットメモリセルがクリアされると、メモリ
のそれに関連するワードの内容に関わりなく、マスクは
アドレスされたメモリワードを全て零として出力させ
る。新たなワードの値がメモリに書かれるときはいつで
も、それに関連するリセット状態回路は同時にアクセス
され、「1」なる表示の有効な或いはリセットされない
ビットがリセット状態回路に格納される。続いて、この
ワードがメモリから読み出されるとき、その関連するリ
セットセルに格納されたマスクビットの値(「1」)
が、ワードの内容をそのまま出力させる。
When the reset memory cell is cleared, the mask causes the addressed memory word to be output as all zeros, regardless of the contents of the word associated with it in memory. Whenever a new word value is written to memory, its associated reset state circuit is simultaneously accessed and a valid or non-reset bit of the "1" indication is stored in the reset state circuit. Then, when this word is read from memory, the value of the mask bit ("1") stored in its associated reset cell.
However, the word contents are output as they are.

【0008】メモリがJビットのKワードを格納するた
めにCMOSで構成されたデュアルポートのメモリセル
のJ列×K行アレイとして実施されているところでは、
リセット機構は、AND、NAND、NOR、及びOR
の単一ビットのような付加的な或いはKの(J+1)列
目の論理演算のJビットのKワードにそれぞれ関連した
リセット可能なMOSFETで構成されたメモリセルと
して、MOSFETで構成されたメモリアレイと共に集
積化できる。この付加的な列のMOSFETで構成され
た各メモリセルは好ましくは、メモリ本体のそれぞれの
セルと同じ構成を本質的に有し、またセルのリセットM
OSFETの列に沿って配置された絶縁ポリシリコンの
付加的な長さ或いはストリップで形成された「リセッ
ト」MOSFETを含んでいる。複数のゲートタブが、
それぞれのメモリセルの隣接のMOSFETのドレイン
及びソース間で酸化ゲートの薄層上に拡張されている。
「リセット」MOSFETのドレイン及びソースは、隣
接のMOSFETのドレイン領域及びソース領域と共通
であり、従ってデュアルポートCMOSメモリセルパタ
ーンのMOSFETの領域の再編成は必要ではない。
Where the memory is implemented as a J column by K row array of dual port memory cells configured in CMOS to store J bit K words,
The reset mechanism includes AND, NAND, NOR, and OR
Memory array composed of MOSFETs as memory cells composed of resettable MOSFETs respectively associated with additional J-bit K words of logical operations in the (J + 1) th column of K Can be integrated with. Each memory cell made up of this additional column of MOSFETs preferably has essentially the same configuration as the respective cell of the memory body, and the resetting of the cell M
It includes a "reset" MOSFET formed of an additional length or strip of insulating polysilicon located along the rows of OSFETs. Multiple gate tabs
Each memory cell extends over a thin layer of oxide gate between the drain and source of adjacent MOSFETs.
The drain and source of the "reset" MOSFET are common to the drain and source regions of adjacent MOSFETs, so reorganization of the MOSFET region of the dual port CMOS memory cell pattern is not necessary.

【0009】ポリシリコンの付加的な長さは、リセット
制御信号を受信するために結合されている。リセット信
号がポリシリコンリセットリンクへ供給されたとき、該
リセット信号はリンクに沿って伝達或いは「リップル」
し、従ってリセットMOSFETは逐次的にスイッチオ
ンされ、それによって全てのリセット可能なメモリセル
が順次的にリセットされる。リセットメモリセルの列の
セルをリセットするために必要な時間は、ポリシリコン
線の全有効RC時定数に依存する。全有効RC時定数
は、ポリシリコン線の相互接続容量抵抗及びリセットM
OSFETの寄生ゲート容量によって支配される。リセ
ットMOSFETがリセットされる速度を増加させるた
めに、ポリシリコンリンクの幾何学的構造及び相互接続
的構造がリンクに沿った多数分配及びループバック結合
によってセル間で延長されたストリップかららせん形の
経路へ変更され、それによってリセットトランジスタの
多数グループは並列の様相で「リップル−リセット」と
なる。メモリがリセットメモリセルの多数列を使用する
場合、一つのリセット線はリセットメモリセルの隣接の
列間にリセット線のどちらかの側に拡張するタブと共に
位置される。
An additional length of polysilicon is coupled to receive the reset control signal. When a reset signal is applied to a polysilicon reset link, it will propagate or "ripple" along the link.
Therefore, the reset MOSFETs are sequentially switched on, thereby sequentially resetting all resettable memory cells. The time required to reset a cell in a column of reset memory cells depends on the total effective RC time constant of the polysilicon line. The total effective RC time constant is the interconnect capacitance resistance of the polysilicon line and the reset M
It is dominated by the parasitic gate capacitance of the OSFET. In order to increase the speed at which the reset MOSFET is reset, the geometry and interconnect structure of the polysilicon links are spirally routed from strips extended between cells by multiple distribution and loopback coupling along the links. , Which causes the multiple groups of reset transistors to be "ripple-reset" in a parallel fashion. If the memory uses multiple columns of reset memory cells, one reset line is located between adjacent columns of reset memory cells with tabs extending on either side of the reset line.

【0010】一度メモリがリセットされると、データワ
ードがメモリに書かれる毎に、「1」がK×1のそれに
関連したリセット可能なメモリセルに書き込まれ、それ
によって関連したリセット可能なメモリセルをリセット
しない状態に置く。
Once the memory is reset, each time a data word is written to the memory, a "1" is written to the K × 1 associated resettable memory cell, thereby causing the associated resettable memory cell. Put it in a state where it is not reset.

【0011】[0011]

【実施例】本発明を添付した図面を参照して例を挙げて
説明する。本発明に係わる特定的な向上したメモリリセ
ット機構について詳細に説明する前に、本発明は主に従
来の信号処理回路及び構成部品の新たな構造的組み合わ
せに属し、それらの特定的に詳細化された構造に属する
ものではないことに注意すべきである。従って、これら
従来の回路及び構成部品の構造、制御及び編成が、本発
明に対応したこれらの特定的な詳細部のみを示し容易に
理解できるブロック図によって図面に描かれており、こ
こにおける説明で得られる知識を有する当業者にも容易
に明らかとなる構造的詳細を伴う開示を隠すことのない
ようにしている。従って、各図のブロック図面は、典型
的なシステムの機構の構造的な編成を必ずしも表さない
が、このシステムの主な構造的構成部品を便利な機能的
なグループによって主に示され、それによって本発明は
より容易に理解できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the accompanying drawings by way of examples. Before describing in detail the particular improved memory reset mechanism according to the present invention, the present invention mainly belongs to a new structural combination of conventional signal processing circuits and components, which are specifically detailed. It should be noted that it does not belong to the structure Accordingly, the structure, control and organization of these conventional circuits and components is illustrated in the drawings by block diagrams, which show only those particular details corresponding to the invention and are readily understood, and which are described herein. It is intended to avoid obscuring the disclosure with structural details that will be readily apparent to those with ordinary skill in the art. Thus, the block diagrams in each figure do not necessarily represent the structural organization of the mechanics of a typical system, but are primarily represented by convenient functional groups that represent the major structural components of this system, The present invention can be more easily understood by the following.

【0012】前述したように、メモリアレイで1つ以上
のワードをリセットする慣例的な機構は、メモリアレイ
の実際の格納位置をリセット或いはクリア(「0」を書
き込む)することであった。従って、従来はメモリアレ
イ全体をリセットするためには、各格納位置への書き込
みのアクセスを必要とし、それは時間を浪費しそれと共
に大きな電流を要求する動作に繋がる。本発明に依る
と、Liou等の1967年の特許に詳細化された図解
によって提案されているように全メモリの各格納位置の
内容を変更或いはクリアするよりも、メモリのブロック
において各格納位置のリセットがメモリアレイ本体の内
容を除いて行われる。
As mentioned above, the conventional mechanism for resetting one or more words in a memory array has been to reset or clear (write a "0") to the actual storage location in the memory array. Therefore, conventionally, resetting the entire memory array requires write access to each storage location, which is time consuming and, at the same time, leads to high current demanding operations. According to the present invention, rather than modifying or clearing the contents of each storage location of the entire memory as suggested by the detailed illustration in the 1967 patent of Liou et al. The reset is performed except for the contents of the memory array body.

【0013】図1は、本発明に係わる第1の実施例を図
解的に示しており、ランダムアクセスメモリ15に結合
されたリセット状態回路11とマスク回路13より成
る。ランダムアクセスメモリ15は、M×Nのメモリワ
ードを格納できるJ列×K行のメモリセルアレイのよう
な従来のメモリアレイ構成で構成できる。表示した例の
目的のために、メモリ15は(J=24列)×(K=1
024行)のメモリセルアレイで構成され、M=102
4ワードを格納し、各ワードはN=24ビットである。
即ち、アレイの各行は24ビットのワードを格納し、一
方各列はそれぞれのビットに関連する。
FIG. 1 schematically shows a first embodiment according to the present invention, which comprises a reset state circuit 11 and a mask circuit 13 coupled to a random access memory 15. The random access memory 15 can be configured in a conventional memory array configuration such as a memory cell array of J columns × K rows capable of storing M × N memory words. For the purposes of the example shown, memory 15 has (J = 24 columns) × (K = 1
024 rows), and M = 102.
It stores 4 words, each word is N = 24 bits.
That is, each row of the array stores a 24-bit word, while each column is associated with a respective bit.

【0014】リセット状態回路11はメモリアレイ15
の各ワードに対してリセット状態情報を格納するための
補助的格納ユニットとして動作し、回路11へのアクセ
スはアレイの1つ以上のワードをリセットするためにメ
モリアレイ自体までもアクセスする必要はない。N=2
4ビットのM=1024ワードを格納するための102
4×24セルアレイの表示した例では、補助的なリセッ
ト状態格納回路11はメモリ15の24ビットのM=1
024ワードにそれぞれ関連した対応する複数のM=1
024のリセット状態回路で構成できる。この目的のた
めに、リセット状態回路11は、メモリ15から分離さ
れた付加的な1ビット長(1024×1)アレイのリセ
ット可能メモリセルで構成できる。メモリ15に対する
それぞれアドレス線もまたリセットセルアレイ11に並
列に結合されており、従ってメモリ15のワードの1つ
(本例では1024行のうち1つ)がアクセスされたと
きはいつでも1ビットのアレイ11のその関連したリセ
ット状態セルもアドレスされる。
The reset state circuit 11 includes a memory array 15
Acting as an auxiliary storage unit for storing reset state information for each word of the array, access to circuit 11 need not even access the memory array itself to reset one or more words of the array. . N = 2
102 for storing 4-bit M = 1024 words
In the displayed example of a 4 × 24 cell array, the auxiliary reset state storage circuit 11 has a 24-bit M = 1 in the memory 15.
Corresponding multiple M = 1, each associated with 024 words
024 reset state circuit. For this purpose, the reset state circuit 11 can be configured with an additional 1-bit long (1024 × 1) array of resettable memory cells separated from the memory 15. The respective address lines for the memory 15 are also coupled in parallel to the reset cell array 11, so that whenever one of the words of the memory 15 (one in 1024 rows in this example) is accessed, the 1-bit array 11 is accessed. Its associated reset state cell is also addressed.

【0015】メモリの1つ以上のワードをリセットする
ために、アレイ11のそれに関連する単数或いは複数の
リセット状態回路がリセット状態を表す状態(リセット
或いは「0」で書かれる)に置かれる。マルチリセット
状態ユニットが、(以下に説明する図7、図8、及び図
9で示されるリセット可能メモリセルを用いることによ
ってもたらされるように)セルに「0」を書き込ませる
ことなしに直接リセット可能であるリセット可能メモリ
セルで形成されている場合、リセット状態回路をリセッ
ト状態に置くことはリセットリンク21へリセット信号
を結合することを意味し、従って該リセット信号はアレ
イを通して伝達され効果的にアレイ内の各セルをリセッ
トできる。代替案として、1つ以上のリセットリンクは
選択された回路構成に依存してリセットセルの個々のも
の或いはグループをリセットするために使用される。外
部のアレイは、そのアレイの各セルに関連したリセット
線を分離したり、或いは全ワードが並列的にリセット状
態に書かれるように構成できる。
To reset one or more words of memory, the reset state circuit or circuits associated with it of array 11 are placed in a state (reset or written as a "0") that represents a reset state. A multi-reset state unit can be reset directly without causing the cell to be written with a "0" (as provided by using the resettable memory cell shown in FIGS. 7, 8 and 9 described below). Placing a reset state circuit in a reset state means coupling the reset signal to the reset link 21, so that the reset signal is transmitted through the array and effectively the array. You can reset each cell in. Alternatively, one or more reset links are used to reset individual or groups of reset cells depending on the circuit configuration selected. The external array can be configured such that the reset line associated with each cell of the array is isolated or all words are written to the reset state in parallel.

【0016】本開示の目的のために、リセットリンク2
1はアレイ11のリセット可能なセルの各々と内部的に
結合されており、従って単一のリセット制御信号が効果
的にアレイ11の全セルのリセットを引き起こす。先に
指摘したように、アレイ11内の各リセット状態回路
(或いはリセット状態メモリセル)の内容或いは状態
は、メモリアレイ15の関連するワードの内容を、該ワ
ードが読み出されるごとに制御的にマスクするために使
用される。リセットメモリセルがクリアされた場合、そ
のときメモリの関連するワードのビットの状態に関係な
く、マスクによってアドレスされたメモリワードが全て
零として出力させられる。このマスク動作は、メモリ1
5の各ワードの読み出しの内容とリセット状態アレイ1
1に格納されている関連するリセット状態マスクビット
とのANDを論理的に行うことによって、容易に達成で
きる。従って、本例では、メモリ15の24列の線23
は24個の2入力ANDゲート27−1、・・・27−
24のそれぞれの第1の入力25−1、・・・25−2
4に結合されている。各ANDゲート27のマスク入力
28は、リセット状態メモリアレイ15から単一の列の
リンク31へ共通に結合されている。ANDゲート27
−1、・・・27−24は、N=24ビットの出力リン
ク33を供給し、そこからはメモリ15からアクセスさ
れたワードが抽出される。
For purposes of this disclosure, reset link 2
1 is internally coupled to each of the resettable cells of array 11, so that a single reset control signal effectively causes a reset of all cells of array 11. As pointed out above, the content or state of each reset state circuit (or reset state memory cell) within array 11 controllably masks the content of the associated word of memory array 15 each time the word is read. Used to When the reset memory cell is cleared, then the memory word addressed by the mask is output as all zeros, regardless of the state of the bits of the associated word of memory. This mask operation is performed by the memory 1
5 Read contents of each word and reset state array 1
This can be easily accomplished by logically ANDing with the associated reset state mask bit stored in 1. Therefore, in this example, the lines 23 of the 24 columns of the memory 15 are
Are 24 2-input AND gates 27-1, ... 27-
24 first inputs 25-1, ... 25-2
Connected to four. The mask input 28 of each AND gate 27 is commonly coupled from the reset state memory array 15 to a single column link 31. AND gate 27
, ..., 27-24 provide an N = 24 bit output link 33 from which the word accessed from memory 15 is extracted.

【0017】上記で指摘したように、メモリ15の10
24行のうち1つが読み出される毎に、1ビット長のア
レイ11においてそれに関連したリセット状態セルもま
たアドレスされる。アレイ11の各セルがリセットされ
ると、そのときそのマスク出力リンク31は読み出され
るどのアドレスに対しても「0」となり、従ってAND
ゲート27の出力は全て零になる。その後、新しいワー
ド値がメモリ15に書かれる毎に、アレイ11内のそれ
に関連したリセット状態回路が対応してアクセスされ、
「1」で表される有効な或いはリセットしないビットが
そのリセット状態回路内に格納される。続いて、メモリ
15からそのワードが読みだされるとき、それに関連す
るリセットセルに格納されたマスクビットの(「1」
の)値がリンク23の内容とANDされ、ワードの内容
がリンク33に出力される。
As pointed out above, 10 of memory 15
Each time one of the 24 rows is read, its associated reset state cell in the 1-bit long array 11 is also addressed. When each cell of array 11 is reset, its mask output link 31 will then be "0" for any address that is read, and therefore AND
The outputs of the gate 27 are all zero. Thereafter, each time a new word value is written to memory 15, its associated reset state circuit in array 11 is correspondingly accessed,
A valid or non-reset bit represented by "1" is stored in the reset state circuit. Then, when the word is read from the memory 15, the mask bit ("1") of the mask bit stored in the reset cell associated with the word is read.
Value) is ANDed with the contents of link 23 and the contents of the word are output on link 33.

【0018】図1に示された実施例のリセットマスクア
レイ11がマルチセルの1ビット長のメモリアレイで形
成されているとして説明してきたが、メモリセルで厳密
に形成される必要はなく、一般的には複数の標準論理回
路11とアレイ15用の行のアドレス線と並列に結合さ
れる各アドレス線35とで形成することができ、これは
図2に図解的に示されている。
Although the reset mask array 11 of the embodiment shown in FIG. 1 has been described as being formed of a multi-cell 1-bit long memory array, it does not need to be formed exactly by the memory cells and is generally used. Can be formed by a plurality of standard logic circuits 11 and respective address lines 35 coupled in parallel with the address lines of the rows for the array 15, which is shown diagrammatically in FIG.

【0019】図3に図解的に示された本発明の好ましい
実施例によると、補助的な1ビット長のリセットマスク
アレイが、付加的な或いはMの(N+1)番目の列11
Aの単一ビットのリセット可能なメモリセルとして、メ
モリアレイ41と共に集積化されており、該単一ビット
のリセット可能なメモリセルは、メモリの1024×2
4ビット長の部分のワードの格納部AのN=24ビット
のM=1024ワードとそれぞれ関連している。メモリ
アレイ41のワード格納部Aのセルの好ましい実施によ
ると、各セルは一組のMOSFETで構成された交差結
合型反転回路で形成され、図4には電気回路図が示さ
れ、該交差結合型反転回路51、53は図5及び図6に
示される半導体ウェハパターンを有し、さらに図5及び
図6では全アレイ内で4つのメモリセル15−1、15
−2、15−3、及び15−4のグループに対するメモ
リパターンレイアウトが示されている。(図4で示され
る回路及び図5、図6のパターンレイアウトでは、ソー
ス、ドレイン、及びゲートの電極はそれぞれ記号S、
D、及びGで記され、それぞれMOSFETの記号P
0、P1、及びN0−N5と関連している。) 交差結合型反転回路51、53(それぞれN及びPチャ
ネルのMOSFETの組N0/P0及びN1/P1で構
成される)は、それぞれ相補的な出力リンク61、63
を有しており、該出力リンクはNチャネルアクセスのM
OSFET N2、N4及びN3、N5の共通接続され
た組を介してビット線71A、71B及び71ABA
R、71BBARの組にそれぞれ結合される。メモリセ
ルはアドレスポート81A、81Bによってアドレスさ
れ、それらのポートはそれぞれアクセスNチャネルMO
SFET N2、N4及びN3、N5のゲート電極
(G)に結合されている。
In accordance with the preferred embodiment of the present invention illustrated diagrammatically in FIG. 3, an auxiliary 1-bit long reset mask array is provided for additional or (N + 1) th column 11 of M.
A single bit resettable memory cell of A is integrated with the memory array 41, and the single bit resettable memory cell is 1024 × 2 of memory.
It is associated with M = 1024 words of N = 24 bits in the storage portion A of the word of the 4-bit length. According to a preferred implementation of the cells of the word store A of the memory array 41, each cell is formed by a cross-coupled inverting circuit composed of a set of MOSFETs, an electrical schematic of which is shown in FIG. The type inversion circuits 51 and 53 have the semiconductor wafer patterns shown in FIGS. 5 and 6, and further, four memory cells 15-1 and 15 in the entire array are shown in FIGS.
The memory pattern layouts for the -2, 15-3, and 15-4 groups are shown. (In the circuit shown in FIG. 4 and the pattern layouts in FIGS. 5 and 6, the source, drain, and gate electrodes are denoted by the symbols S,
Marked D and G, respectively, the symbol P of MOSFET
0, P1, and N0-N5. ) Cross-coupled inverting circuits 51, 53 (consisting of N and P channel MOSFET sets N0 / P0 and N1 / P1 respectively) are complementary output links 61, 63, respectively.
And the output link has M channels for N-channel access.
Bit lines 71A, 71B and 71ABA through a commonly connected set of OSFETs N2, N4 and N3, N5
R and 71BBAR, respectively. The memory cells are addressed by address ports 81A and 81B, which are respectively access N-channel MO.
It is coupled to the gate electrodes (G) of SFETs N2, N4 and N3, N5.

【0020】本発明は、図4及び図5に示された特定的
な8個のトランジスタのメモリセル構造への使用に限定
されず、他のメモリセル構造がここで説明した補助的な
リセットマスク構成の機能及び使用から逸脱することな
く使用できる。例えば、デュアルポートメモリセルより
も、単一ポートメモリセルを使用できる。後者の場合、
アクセスMOSFETSの組のうちの1つやそれらに関
連するビット及びアクセス線は使用されない、従って図
4及び図5に示される回路では、単一ポートバージョン
は、8個でなく6個のMOSFETSを含む。図4及び
図5のデュアルポートバージョンは、メモリの1つのセ
ルへの書き込み動作を他のメモリセルの読み出し動作と
同時に行える利点がある。また、同じセルの同時のデュ
アル読み出しが、A及びBの両方のアクセスポートを介
して達成できる。
The present invention is not limited to the use of the particular eight transistor memory cell structure shown in FIGS. 4 and 5, but other memory cell structures may have the auxiliary reset mask described herein. It can be used without deviating from its function and use. For example, single port memory cells can be used rather than dual port memory cells. In the latter case,
One of the sets of access MOSFETS and their associated bits and access lines are not used, so in the circuits shown in FIGS. 4 and 5, the single port version includes six MOSFETS rather than eight. The dual port version of FIGS. 4 and 5 has the advantage that a write operation to one cell of the memory can be performed simultaneously with a read operation of another memory cell. Also, simultaneous dual read of the same cell can be achieved through both A and B access ports.

【0021】本発明によると、図4、図5、及び図6の
デュアルポートCMOSメモリセル構成は、図7、図
8、及び図9で示される態様のようにリセット制御トラ
ンジスタ(MOSFET)N6を含めることで大きくす
ることができる。有益的に、リセットMOSFET N
6は、絶縁ポリシリコン91の付加的な長さを重ね合わ
せることによって図5及び図6のパターンレイアウトに
容易に合体させることができ、図8及び図9のパターン
レイアウトに示すように、該絶縁ポリシリコンはメモリ
セルの長さ方向に沿って走っておりかつ複数のゲートタ
ブ93を含んでおり、該ゲートタブはそれぞれのメモリ
セルのドレイン/ソース、N4D/Sとグランドとの間
の酸化ゲートの薄層上に拡張している。リセットMOS
FET N6のドレインN6D及びソースN6Sは、隣
接のMOSFET N4及びグランドのドレイン/ソー
ス領域、N4D/S及びグランドとそれぞれ共通であ
り、従って図5及び図6のデュアルポートCMOSRA
MセルパターンのMOSFETの領域の再編成の必要は
ない。MOSFET N4のドレイン/ソース領域及び
グランドの共通な領域の僅かな増加の様子が図8及び図
9に示されている。しかし、この増加はリセットトラン
ジスタN6の導入を伴うためにメモリ全体が占める領域
を増加することは意味しない。メモリアレイが図3の集
積化構造を形成するためにリセットメモリセルの付加的
な列を含む場合、メモリのサイズは、1つの付加的なビ
ットがポリシリコン線91の専有領域を提供するため
に、標準の列の幅に比べて僅かに(ワード線の方向に)
増加する。メモリのパラメータがリセットメモリセルの
多数列の使用を指示する場合、リセットセルの隣接の列
は同じリセット線91を共有できる。
In accordance with the present invention, the dual port CMOS memory cell configurations of FIGS. 4, 5 and 6 include a reset control transistor (MOSFET) N6 as in the embodiment shown in FIGS. 7, 8 and 9. It can be increased by including it. Beneficially, the reset MOSFET N
6 can be easily incorporated into the pattern layouts of FIGS. 5 and 6 by overlapping additional lengths of insulating polysilicon 91, as shown in the pattern layouts of FIGS. 8 and 9. The polysilicon runs along the length of the memory cell and includes a plurality of gate tabs 93, each of which includes a drain / source of each memory cell, a thin oxide gate between N4D / S and ground. It extends on layers. Reset MOS
The drain N6D and source N6S of the FET N6 are common to the adjacent drain / source regions of MOSFET N4 and ground, N4D / S and ground, respectively, and thus the dual port CMOSRA of FIGS. 5 and 6.
There is no need to reorganize the area of the MOSFET in the M cell pattern. A slight increase in the drain / source region of the MOSFET N4 and the common region of the ground is shown in FIGS. 8 and 9. However, this increase does not mean to increase the area occupied by the entire memory because the reset transistor N6 is introduced. If the memory array includes additional columns of reset memory cells to form the integrated structure of FIG. 3, the size of the memory is such that one additional bit provides the occupied area of polysilicon line 91. , Slightly compared to the standard column width (in the direction of the word line)
To increase. Adjacent columns of reset cells can share the same reset line 91 if the memory parameters dictate the use of multiple columns of reset memory cells.

【0022】付加的な長さのポリシリコン91はリセッ
トポート95に結合され、リセット制御入力(図3の2
1A)がそれに結合されている。リセットトランジスタ
N6のゲート電極N6Gへタブ93の間のポリシリコン
リセットリンク91の順次的な部分によって負わされた
抵抗は、抵抗R0及びR1で記されている。例えば、メ
モリの「瞬時の」クリアをもたらすために、リセット信
号がポリシリコンリセットリンク91に供給されたと
き、リセット信号はリンクに沿って伝達或いは「流
れ」、リセット線91が接続される各セルのそれぞれの
MOSFET N6が逐次的にスイッチオンされ、それ
によって全てのリセット可能なメモリセルが順次リセッ
トされる。(N+1)番目の列のM(例えば1024)
のセルをリセットするために必要な時間は、ポリシリコ
ン線91の全有効RC時定数に依存する。全有効RC時
定数は、ポリシリコン線91の相互接続容量抵抗及びリ
セットMOSFET N6の寄生ゲート容量によって支
配される。MOSFET N6がリセットされる速度を
増加させるために、リンク91の幾何学的構造及び相互
接続的構造がリンクに沿った多数分配及びループバック
結合によってセル間で延長されたストリップかららせん
形の経路へ変更され、それによってリセットトランジス
タの多数グループは並列の様相で「リップルリセット」
となる。らせん形の抵抗経路は、全抵抗及び長さを増加
させ、より遅くなる。並列な経路の結合は、抵抗を減ら
し、それによって速度を増加させる。先に述べたように
メモリがリセットメモリセルの多数列を使用する場合、
一つのリセット線はリセットメモリセルの隣接の列間に
リセット線のどちらかの側に拡張するタブと共に位置さ
れる。従って、選択された構造は速度とピーク電力との
トレードオフとなる。
An additional length of polysilicon 91 is coupled to the reset port 95 and is connected to the reset control input (2 in FIG. 3).
1A) is attached to it. The resistance imposed by the sequential portion of the polysilicon reset link 91 between the tabs 93 to the gate electrode N6G of the reset transistor N6 is marked by resistors R0 and R1. For example, when a reset signal is applied to the polysilicon reset link 91 to provide an "instantaneous" clear of memory, the reset signal is transmitted or "flows" along the link, each cell to which the reset line 91 is connected. Of each MOSFET N6 are sequentially switched on, thereby sequentially resetting all resettable memory cells. M in the (N + 1) th column (for example, 1024)
The time required to reset the cell of FIG. 2 depends on the total effective RC time constant of polysilicon line 91. The total effective RC time constant is dominated by the interconnect capacitance resistance of polysilicon line 91 and the parasitic gate capacitance of reset MOSFET N6. In order to increase the speed at which MOSFET N6 is reset, the geometric and interconnect structures of link 91 are extended from strip to spiral path between cells by multiple distribution and loopback coupling along the link. Modified so that multiple groups of reset transistors are "ripple reset" in a parallel fashion
Becomes The spiral resistance path increases total resistance and length, and is slower. Coupling of parallel paths reduces resistance and thereby increases speed. As mentioned earlier, if the memory uses multiple columns of reset memory cells,
One reset line is located between adjacent columns of reset memory cells with tabs extending on either side of the reset line. Therefore, the structure chosen is a trade-off between speed and peak power.

【0023】前述の説明から理解されるように、メモリ
の全てのリセット或いは部分的なリセットのために、メ
モリの1つ以上の部分或いはブロックの各格納位置の内
容を変更或いはクリアするよりも、本発明では補助的な
リセット機構を提供し、該リセット機構はリセットセル
から分離されており、データがビット及びビットBAT
Rの入力/出力線を介して格納されるメモリの内容を変
更する必要がない。NビットのMワードを格納できるラ
ンダムアクセスメモリのために、本発明の補助的な機構
は好ましくはメモリのMワードにそれぞれ関連する複数
のM個のリセット状態回路を含んでいる。ポリシリコン
の層の付加に本質的に及ぶものを伴って8個のトランジ
スタのデュアルポートのCMOS RAMセルを比較的
マイナーに変更することによって、メモリセルの列をリ
セットセルの列へ変換することが可能である。メモリを
リセットすることは、付加したポリシリコン線へリセッ
ト信号を単に供給することを意味しており、従ってポリ
線に沿ってリセット信号が「流れ」、逐次的に各リセッ
トセルをリセットする。各リセットセルの状態は読み出
しにおいてメモリの関連するワードの内容を制御的にマ
スクするために使用されるので、メモリワードセルへの
直接のアクセスは必要ではない。結果的に、リセット電
流の要求値及びメモリをリセットするための時間の長さ
が低減される。
As will be appreciated from the above description, rather than changing or clearing the contents of each storage location of one or more portions or blocks of memory for a full or partial reset of the memory. The present invention provides an auxiliary reset mechanism, which is separate from the reset cell, where the data is bit and bit BAT.
There is no need to change the contents of the memory stored via the R input / output lines. For a random access memory capable of storing N-bit M words, the auxiliary mechanism of the present invention preferably includes a plurality of M reset state circuits, each associated with a M word of memory. It is possible to convert a column of memory cells into a column of reset cells by modifying an 8-transistor dual-port CMOS RAM cell relatively minor with essentially the addition of a layer of polysilicon. It is possible. Resetting the memory means simply supplying the reset signal to the added polysilicon line, thus causing the reset signal to "flow" along the poly line, sequentially resetting each reset cell. Direct access to the memory word cells is not required because the state of each reset cell is used on read to controllably mask the contents of the associated word of memory. As a result, the required reset current value and the length of time to reset the memory are reduced.

【0024】ランダムアクセスメモリアレイのリセット
機構は、補助リセット回路を含んでおり、該補助リセッ
ト回路はメモリ自体の内容の変更を必要としない。Nビ
ットのMワードを格納できるランダムアクセスメモリに
対しては、補助機構はメモリのMワードにそれぞれ関連
する複数のM個のリセット状態回路を含んでいる。この
リセット状態回路は、好ましくはメモリの各ワードに対
する付加的な「リセット可能な」メモリセルで構成さ
れ、メモリ自体の構造内に集積化される。メモリの1つ
以上のワードをリセットするために、関連するリセット
状態回路がリセット状態を表す状態に置かれる。各リセ
ット状態回路の状態は、ワードが読み出される毎に、メ
モリの関連するワードの内容を制御的に(例えば論理的
にAND演算を行って)マスクするために使用される。
リセットメモリセルがクリアされると、メモリの関連す
るワードの内容に係わらず、マスクはアドレスされたメ
モリのワードを全て零として出力させるようにする。
The reset mechanism of the random access memory array includes an auxiliary reset circuit, which does not require modification of the contents of the memory itself. For a random access memory that can store M words of N bits, the auxiliary mechanism includes a plurality of M reset state circuits, each associated with M words of memory. This reset state circuit preferably consists of an additional "resettable" memory cell for each word of the memory, integrated within the structure of the memory itself. To reset one or more words of memory, the associated reset state circuit is placed in a state representative of a reset state. The state of each reset state circuit is used to controllably (e.g., logically AND) the contents of the associated word of memory as the word is read.
When the reset memory cell is cleared, the mask causes the addressed word of memory to be output as all zeros, regardless of the contents of the associated word of memory.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係わるJ×Kのメモリアレイ及び関連
するK×1のリセット状態回路アレイの実施例を示す図
である。
FIG. 1 illustrates an embodiment of a J × K memory array and associated K × 1 reset state circuit array according to the present invention.

【図2】図1の実施例を変更したものを示す図であり、
リセット状態回路が複数の標準論理回路で形成され、そ
れぞれのアドレス線はアレイの行のアドレス線と並列に
結合されている。
FIG. 2 is a diagram showing a modification of the embodiment of FIG.
The reset state circuit is formed of a plurality of standard logic circuits, each address line being coupled in parallel with the address line of a row of the array.

【図3】M個の単一ビットのリセット可能メモリセルの
付加的な列としてメモリアレイと共に集積化された補助
的な1ビット長のリセットマスクアレイを示す図であ
る。
FIG. 3 shows an auxiliary 1-bit long reset mask array integrated with a memory array as an additional column of M single-bit resettable memory cells.

【図4】デュアルポートCMOSで構成された図3のメ
モリアレイのワード格納部で使用されるメモリセルの電
気回路図である。
4 is an electric circuit diagram of a memory cell used in a word storage unit of the memory array of FIG. 3 configured with dual port CMOS.

【図5】図4で示されるメモリセルの複数部分のアレイ
を実施するための半導体ウェハパターンを示す図であ
る。
FIG. 5 illustrates a semiconductor wafer pattern for implementing an array of portions of the memory cell shown in FIG.

【図6】図4で示されるメモリセルの複数部分のアレイ
を実施するための半導体ウェハパターンを示す図であ
る。
6 shows a semiconductor wafer pattern for implementing an array of parts of the memory cell shown in FIG.

【図7】リセットMOSFETを提供するために図4の
デュアルポートMOSFETで構成されたメモリセルを
増大したものの電気回路図である。
7 is an electrical schematic diagram of an augmented memory cell configured with the dual port MOSFET of FIG. 4 to provide a reset MOSFET.

【図8】図7のリセットメモリセルの複数部分のアレイ
を実施するための半導体ウェハパターンを示す図であ
る。
8 illustrates a semiconductor wafer pattern for implementing an array of portions of the reset memory cell of FIG.

【図9】図7のリセットメモリセルの複数部分のアレイ
を実施するための半導体ウェハパターンを示す図であ
る。
9 illustrates a semiconductor wafer pattern for implementing an array of portions of the reset memory cell of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、11A リセット状態回路 13 マスク回路 15、15A ランダムアクセスメモリ 21、21A リセットリンク 23、23A 24列の線 25−1〜25−24 2入力ANDゲートの第1の入
力 27−1〜27−24 2入力ANDゲート 28−1〜28−24 2入力ANDゲートの第2の入
力 31、31A 単一の列のリンク 33 出力リンク 41 メモリアレイ 51、53 交差結合型反転回路 61、63 出力リンク 71A、71B ビット線 71ABAR、71BBAR 相補ビット線 81A、81B アドレスポート 15−1、15−2、15−3、15−4 メモリセル 91 絶縁ポリシリコンリセットリンク 93 タブ 95 リセットポート
11, 11A Reset state circuit 13 Mask circuit 15, 15A Random access memory 21, 21A Reset link 23, 23A 24 column line 25-1 to 25-24 First input of 2-input AND gate 27-1 to 27-24 Two-input AND gate 28-1 to 28-24 Second input of two-input AND gate 31, 31A Single column link 33 Output link 41 Memory array 51, 53 Cross-coupled inverting circuit 61, 63 Output link 71A, 71B Bit line 71ABAR, 71BBAR Complementary bit line 81A, 81B Address port 15-1, 15-2, 15-3, 15-4 Memory cell 91 Insulated polysilicon reset link 93 Tab 95 Reset port

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11C 11/401 G11C 11/34 371 E (72)発明者 チャールズ ダブリュー ロングウェイ アメリカ合衆国 フロリダ 32907 パー ム・ベイ エヌダブリュー ギラルダ・サ ークル 1214─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication location G11C 11/401 G11C 11/34 371 E (72) Inventor Charles W Longway United States Florida 32907 Palm Bay NW Guillarda Circle 1214

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 MOSFETで構成されたメモリセルの
アレイで形成された多セルメモリであって、 該MOSFET構成メモリセルの各々は、正規及び相補
のビット線のポートが、ワード線が結合されている選択
ポートによって制御されるMOSFETスイッチ回路に
よって結合されている交差結合型MOSFETインバー
タ回路よりなり、 前記MOSFET構成メモリセルのうち選択されたもの
の各々は、MOSFETで構成されたリセットメモリセ
ルに対応し、 前記リセットメモリセルの交差結合型MOSFETイン
バータ回路に結合されたリセットMOSFETと、 各リセットMOSFETに結合されたリセットリンクと
よりなり、 前記リセットリンクは、前記リセットメモリセルが順次
リセットされるよう、各リセットMOSFETへ供給さ
れるリセット信号を順次伝達する能力を有し、 さらに前記各リセットメモリセル内では、 前記リセットMOSFETは、 前記各リセットメモリセルの前記交差結合型MOSFE
Tインバータ回路及び前記MOSFETスイッチ回路の
MOSFETのうちの1つのソース/ドレイン領域に対
応するそれぞれのソース/ドレイン領域と、 前記各リセットメモリセルの前記交差結合型MOSFE
Tインバータ回路及び前記MOSFETスイッチ回路の
MOSFETのうちの前記1つの前記ソース/ドレイン
領域と基準電位ノードとの間に前記MOSFETで構成
された各リセットメモリセルの一部の上にある絶縁ゲー
ト導電層とを有し、 前記絶縁ゲート導電層は前記リセットリンクに接続され
ていることを特徴とする多セルメモリ。
1. A multi-cell memory formed of an array of memory cells composed of MOSFETs, wherein each of the MOSFET-structured memory cells has normal and complementary bit line ports connected to a word line. A cross-coupled MOSFET inverter circuit coupled by a MOSFET switch circuit controlled by a select port that is selected, each of the selected ones of the MOSFET configuration memory cells corresponds to a reset memory cell configured of a MOSFET, A reset MOSFET coupled to the cross-coupled MOSFET inverter circuit of the reset memory cell and a reset link coupled to each reset MOSFET, wherein the reset link resets each reset memory cell so that the reset memory cells are sequentially reset. MOSFE Has the ability to sequentially transmit a reset signal to be supplied to, in yet said respective reset memory cell, the reset MOSFET, the said cross-coupled each reset memory cell MOSFE
A source / drain region corresponding to a source / drain region of one of the MOSFETs of the T inverter circuit and the MOSFET switch circuit, and the cross-coupled MOSFE of each reset memory cell.
Insulated gate conductive layer on a part of each reset memory cell formed by the MOSFET between the source / drain region of one of the MOSFETs of the T inverter circuit and the MOSFET switch circuit and a reference potential node. And the insulated gate conductive layer is connected to the reset link.
【請求項2】 前記リセットリンクは、抵抗性の材料、
或いはポリシリコン材料よりなることを特徴とする請求
項1記載の多セルメモリ。
2. The reset link is made of a resistive material,
Alternatively, the multi-cell memory according to claim 1, which is made of a polysilicon material.
【請求項3】 前記メモリは、デュアルポートのCMO
Sで構成されたメモリセルで形成されたランダムアクセ
スメモリであることを特徴とする請求項1又は2記載の
多セルメモリ。
3. The memory is a dual port CMO.
3. The multi-cell memory according to claim 1, wherein the multi-cell memory is a random access memory formed of memory cells composed of S.
【請求項4】 前記リセットMOSFETの前記各ソー
ス/ドレイン領域は、前記各リセットメモリセルの前記
MOSFETスイッチ回路のMOSFETのうちの1つ
のソース/ドレイン領域に対応し、 前記絶縁ゲート導電層は、前記各リセットメモリセルの
前記MOSFETスイッチ回路のMOSFETのうちの
前記1つの前記ソース/ドレイン領域と前記基準電位ノ
ードとの間で前記各リセットメモリセルの一部の上にあ
ることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項
記載の多セルメモリ。
4. The source / drain regions of the reset MOSFET correspond to the source / drain regions of one of the MOSFETs of the MOSFET switch circuit of the reset memory cell, and the insulated gate conductive layer comprises: 7. A portion of each reset memory cell between the source / drain region of one of the MOSFETs of the MOSFET switch circuit and the reference potential node on a portion of each reset memory cell. 4. The multi-cell memory according to any one of 1 to 3.
【請求項5】 前記メモリは、MOSFET構成メモリ
セルの行と列のマトリックスで形成されたランダムアク
セスメモリであり、リセットメモリセルは該マトリック
スの選択された列に位置されており、 前記リセットリンクは、前記マトリックスの前記選択さ
れ列のメモリセルのリセットMOSFETに結合されて
いることを特徴とする請求項1記載の多セルメモリ。
5. The memory is a random access memory formed by a matrix of rows and columns of MOSFET-configured memory cells, a reset memory cell is located at a selected column of the matrix, and the reset link is 2. The multi-cell memory of claim 1, further comprising: a reset MOSFET of the memory cell of the selected column of the matrix.
【請求項6】 前記マトリックスは、M、Nビットのメ
モリセルのアレイを形成するために、M行×N列のメモ
リセルを有し、 各行のN個のメモリセルはNビット出力リンクに結合さ
れてメモリセルの各行はメモリセルの前記各行の内容の
読み出しに応答してNビットの出力ワードを提供し、 前記メモリは、 それぞれが前記マトリックスのメモリセルのM行のそれ
ぞれに関連するM個の前記リセットメモリセルと、 前記マトリックスのメモリセル及び前記リセットメモリ
セルに結合され、前記マトリックスの各M行のうちの1
つに関連したリセットメモリセルの状態に従って、前記
マトリックスの各M行の前記1つからアクセスされたN
ビットの出力ワードを制御可能なように出力するよう動
作するマスク回路とを含む請求項6記載の多セルメモ
リ。
6. The matrix has M rows × N columns of memory cells to form an array of M, N-bit memory cells, with N memory cells in each row coupled to an N-bit output link. Each row of memory cells provides an N-bit output word in response to reading the contents of each row of memory cells, the memory comprising M memory cells each associated with each of the M rows of memory cells of the matrix. Of the reset memory cells and one of each M rows of the matrix coupled to the matrix memory cells and the reset memory cells.
N accessed from the one of each M rows of the matrix according to the state of the reset memory cell associated with the one
7. A multi-cell memory according to claim 6 including a mask circuit operative to controllably output an output word of bits.
【請求項7】 MOSFETで構成されたデュアルポー
トメモリセルのアレイを含み、 該MOSFET構成デュアルポートメモリセルの各々
は、第1の正規及び相補のビット線のポートが、第1の
ワード線が結合されている第1の選択ポートによって制
御される第1の組のMOSFETスイッチ回路によって
結合され、かつ第2の正規及び相補のビット線のポート
が、第2のワード線が結合されている第2の選択ポート
によって制御される第2の組のMOSFETスイッチ回
路によって結合されている1組の交差結合型MOSFE
Tインバータ回路よりなり、 前記MOSFET構成デュアルポートメモリセルのうち
選択されたものの各々は、デュアルポートのリセットメ
モリセルに対応し、 前記デュアルポートのリセットメモリセルの1組の交差
結合型MOSFETインバータ回路に結合されたリセッ
トMOSFETと、 各リセットMOSFETに結合されたリセットリンクと
よりなり、 前記リセットリンクは、前記デュアルポートのリセット
メモリセルが順次リセットさせられるよう、各リセット
MOSFETへ供給されるリセット信号を順次伝達する
能力を有し、 さらに前記各デュアルポートのリセットメモリセル内で
は、 前記リセットMOSFETは、 前記各デュアルポートのリセットメモリセルの前記1組
の交差結合型MOSFETインバータ回路及び前記第1
及び第2の組のMOSFETスイッチ回路のMOSFE
Tのうちの1つのソース/ドレイン領域に対応するそれ
ぞれのソース/ドレイン領域と、 前記各デュアルポートのリセットメモリセルの前記1組
の交差結合型MOSFETインバータ回路及び前記第1
及び第2の組のMOSFETスイッチ回路のMOSFE
Tのうちの前記1つの前記ソース/ドレイン領域と基準
電位ノードとの間に前記各デュアルポートリセットMO
SFETで構成されたメモリセルの一部の上にある絶縁
ゲート導電層とを有し、 前記絶縁ゲート導電層は前記リセットリンクに接続され
ていることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか
1項記載の多セルメモリ。
7. An array of dual port memory cells comprised of MOSFETs, each of said MOSFET configured dual port memory cells having a first normal and complementary bit line port coupled to a first word line. A second set of MOSFET switch circuits controlled by a first select port that is coupled to the second normal and complementary bit line ports to which a second word line is coupled. Set of cross-coupled MOSFETs coupled by a second set of MOSFET switch circuits controlled by select ports of
Each of the MOSFET-configured dual-port memory cells selected corresponds to a dual-port reset memory cell, and a pair of cross-coupled MOSFET inverter circuits of the dual-port reset memory cell is provided. And a reset link coupled to each reset MOSFET, wherein the reset link sequentially supplies a reset signal to each reset MOSFET so that the dual-port reset memory cells are sequentially reset. Further, in each of the dual-port reset memory cells, the reset MOSFET comprises: the pair of cross-coupled MOSFET inverter circuits of the dual-port reset memory cells; First
And a second set of MOSFET switch circuit MOSFETs
Each source / drain region corresponding to one source / drain region of T, the pair of cross-coupled MOSFET inverter circuits of the dual-port reset memory cell, and the first
And a second set of MOSFET switch circuit MOSFETs
Each of the dual port reset MO between the source / drain region of one of T and a reference potential node.
7. An insulated gate conductive layer overlying a part of a memory cell formed by an SFET, the insulated gate conductive layer being connected to the reset link. Or the multi-cell memory according to item 1.
【請求項8】 前記リセットMOSFETの前記各ソー
ス/ドレイン領域は、前記各デュアルポートのリセット
メモリセルの前記第1及び第2の組のMOSFETスイ
ッチ回路のMOSFETのうちの1つのソース/ドレイ
ン領域に対応し、 前記絶縁ゲート導電層は、前記各デュアルポートのリセ
ットメモリセルの前記第1及び第2の組のMOSFET
スイッチ回路のMOSFETのうちの前記1つの前記ソ
ース/ドレイン領域と前記基準電位ノードとの間で前記
各デュアルポートのリセットメモリセルの上にあること
を特徴とする請求項7記載の多セルメモリ。
8. The source / drain regions of the reset MOSFET are in the source / drain regions of one of the MOSFETs of the first and second sets of MOSFET switch circuits of the dual port reset memory cells. Correspondingly, the insulated gate conductive layer is provided in the first and second MOSFETs of the reset memory cell of each dual port.
8. The multi-cell memory according to claim 7, wherein the multi-cell memory is on the reset memory cell of each dual port between the source / drain region of one of the MOSFETs of the switch circuit and the reference potential node.
【請求項9】 前記メモリは、MOSFET構成デュア
ルポートのメモリセルの行と列のマトリックスで形成さ
れたランダムアクセスメモリであり、デュアルポートの
リセットメモリセルは該マトリックスの選択された列に
位置されており、 前記リセットリンクは、前記マトリックスの前記選択さ
れ列のデュアルポートのメモリセルのリセットMOSF
ETに結合されていることを特徴とする請求項7又は8
記載の多セルメモリ。
9. The memory is a random access memory formed by a matrix of rows and columns of MOSFET-configured dual-port memory cells, wherein the dual-port reset memory cells are located in selected columns of the matrix. The reset link is a reset MOSF of the dual port memory cell of the selected column of the matrix.
9. The ET is bound to ET.
The described multi-cell memory.
【請求項10】 前記マトリックスは、M、Nビットの
デュアルポートのメモリセルのアレイを形成するため
に、M行×N列のデュアルポートのメモリセルを有し、 各行のN個のデュアルポートのメモリセルはNビット出
力リンクに結合されてデュアルポートのメモリセルの各
行はデュアルポートのメモリセルの前記各行の内容の読
み出しに応答してNビットの出力ワードを提供し、 前記メモリは、 それぞれが前記マトリックスのデュアルポートのメモリ
セルのM行のそれぞれに関連するM個の前記デュアルポ
ートのリセットメモリセルと、 前記マトリックスのデュアルポートのメモリセル及び前
記デュアルポートのリセットメモリセルに結合され、前
記マトリックスの各M行のうちの1つに関連したデュア
ルポートのリセットメモリセルの状態に従って、前記マ
トリックスの各M行の前記1つからアクセスされたNビ
ットの出力ワードを制御可能なように出力するよう動作
するマスク回路とを含む請求項9記載の多セルメモリ。
10. The matrix has M rows × N columns of dual-port memory cells to form an array of M, N-bit dual-port memory cells, each row having N dual-port memory cells. A memory cell is coupled to the N-bit output link such that each row of dual-port memory cells provides an N-bit output word in response to reading the contents of each row of dual-port memory cells, the memory respectively M dual port reset memory cells associated with each of the M rows of dual port memory cells of the matrix, coupled to the matrix dual port memory cells and the dual port reset memory cells, the matrix Of dual port reset memory cells associated with one of each M rows of 10. The multi-cell memory of claim 9, further comprising a mask circuit operative to controllably output an N-bit output word accessed from the one of each M rows of the matrix according to a state.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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