JPH0896022A - Chip layout method - Google Patents

Chip layout method

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JPH0896022A
JPH0896022A JP6254724A JP25472494A JPH0896022A JP H0896022 A JPH0896022 A JP H0896022A JP 6254724 A JP6254724 A JP 6254724A JP 25472494 A JP25472494 A JP 25472494A JP H0896022 A JPH0896022 A JP H0896022A
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chip
cell
chips
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Toshiki Kishioka
俊樹 岸岡
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square

Abstract

PURPOSE: To provide a chip layout method which can secure the maximum chip area without increasing the chip cost. CONSTITUTION: In a chip layout using an I/O cell 10 having an expandable wiring 14, the minimum size of a semiconductor chip is calculated when the wiring 14 is contracted. Then, the number of chips that can be formed in the minimum size is calculated for a semiconductor wafer of a prescribed inch. Meanwhile, the maximum chip size is calculated within a range where the number of logical chips has no change, and the wiring 14 is expanded by an extent equal to the half of difference between the calculated maximum and minimum sizes. Thereby, a new application area is produced between a pad 16 and the cell 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップの製造に
おいて、チップ面積を有効利用することができるチップ
レイアウト方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip layout method capable of effectively utilizing a chip area in manufacturing a semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造においては、1チップ当たり
の製造コストを下げるため、チップサイズの小型化が図
られており、チップの高機能化の要請も相まって、チッ
プの高集積化が進んでいる。従って、半導体チップの設
計段階においては、小さいチップ面積を最大限に活用す
るため、チップ内における各回路をいかに効率的にレイ
アウトするかが非常に重要となっている。
2. Description of the Related Art In semiconductor manufacturing, in order to reduce the manufacturing cost per chip, the size of the chip has been reduced, and the demand for higher functionality of the chip has been accompanied by higher integration of the chip. . Therefore, in the design stage of a semiconductor chip, how to efficiently lay out each circuit in the chip is very important in order to make the most of a small chip area.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来では、半
導体チップの高集積化によって、チップ内部に、配線領
域やダミーセル等のためのスペースに余裕がなく、改訂
等が必要となった際のレイアウト修正が困難となってい
る。また、高集積化によってサージやラッチアップ、及
びドライブ能力が低下することがある。その一方で、集
積密度を下げるためにチップサイズを大きくすると、1
枚の半導体ウエハから製造できるチップ数が減ってしま
うので、チップコストを上げることとなる。
However, in the past, due to the high integration of semiconductor chips, there is no space in the chip for wiring areas, dummy cells, etc., and the layout is required when revisions or the like are required. It is difficult to fix. Further, due to high integration, surge, latch-up, and drive capability may decrease. On the other hand, if the chip size is increased to reduce the integration density,
Since the number of chips that can be manufactured from one semiconductor wafer is reduced, the chip cost is increased.

【0004】そこで、本発明の目的は、チップコストを
上げずに、最大限のチップ面積を確保することができる
チップレイアウト方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a chip layout method capable of ensuring the maximum chip area without increasing the chip cost.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、チップレイアウト方法において、ボンディングパッ
ドとの接続部分が伸張するI/Oセルを用いて前記接続
部分を最小の長さにしたときの半導体チップの最小サイ
ズを求め、求めた最小サイズの半導体チップを所定イン
チの半導体ウエハにおいて形成するときの理論チップ数
を算出し、算出した理論チップ数を変えずに前記半導体
ウエハにおいて形成可能な半導体チップの最大サイズを
求め、求めた最大サイズと前記最小サイズとの差を算出
し、算出した差の半分の長さだけ前記接続部分が伸張し
た位置に前記ボンディングパッドを配置することで前記
目的を達成する。請求項2記載の発明では、請求項1記
載のチップレイアウト方法において、前記I/Oセルの
接続部分が、前記ボンディングパッド側に一端が接続さ
れたメタルと前記I/Oセル側に一端が接続された同一
材料のメタルとを互いに他端側で重ねて2層構造にし、
両メタルがスライドすることで伸張することにより前記
目的を達成する。請求項3記載の発明では、チップレイ
アウト方法において、予め用意された大きさの異なる複
数のI/Oセルの内、最小サイズのI/Oセルを配置し
たときの半導体チップの最小サイズを求め、求めた最小
サイズの半導体チップを所定インチの半導体ウエハにお
いて形成するときの理論チップ数を算出し、算出した理
論チップ数を変えずに前記半導体ウエハにおいて形成可
能な半導体チップの最大サイズを求め、求めた最大サイ
ズの半導体チップにおいて配置可能な最大のI/Oセル
を前記複数のI/Oセルの中から選択して配置すること
で前記目的を達成する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a chip layout method, wherein an I / O cell in which a connecting portion with a bonding pad extends is used to minimize the connecting portion. A semiconductor which can be formed on the semiconductor wafer by calculating the minimum size of the semiconductor chip, calculating the theoretical number of chips when forming the obtained minimum size semiconductor chip on a semiconductor wafer of a predetermined inch, and changing the calculated theoretical chip number. The maximum size of the chip is obtained, the difference between the obtained maximum size and the minimum size is calculated, and the above-mentioned object is achieved by arranging the bonding pad at a position where the connecting portion is extended by half the length of the calculated difference. To achieve. According to a second aspect of the present invention, in the chip layout method according to the first aspect, the connection portion of the I / O cell has one end connected to the metal having one end connected to the bonding pad side and one end connected to the I / O cell side. And the metal of the same material that has been laminated on the other end side to form a two-layer structure,
The above objects are achieved by the two metals sliding and stretching. According to the invention of claim 3, in the chip layout method, the minimum size of the semiconductor chip when the I / O cell of the minimum size is arranged among a plurality of I / O cells of different sizes prepared in advance is obtained, Calculate the theoretical chip number when forming the obtained minimum size semiconductor chip in a semiconductor wafer of a predetermined inch, and obtain the maximum size of the semiconductor chip that can be formed in the semiconductor wafer without changing the calculated theoretical chip number. The object is achieved by selecting and arranging the largest I / O cell that can be arranged in the semiconductor chip of the maximum size from the plurality of I / O cells.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明のチップレイアウト方法におけ
る各実施例を図1ないし図4を参照して詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Each embodiment of the chip layout method of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.

【0007】図1は、第1の実施例によるチップレイア
ウト方法において使用するI/Oセルとボンディングパ
ッドの構造を表したものである。この図1(A)に示す
ように、I/Oチップ10は伸張可能な配線14を有し
ており、この配線14によってパッド16と接続されて
いる。配線14は、パッド16側に一端が接続されたメ
タル14aと、I/Oセル側に一端が接続されたメタル
14bとで構成されている。これらメタル14a、14
bは、同一材料であり、互いに他端側で重なることで2
層構造となっている。配線14は、図1(B)で示すよ
うに、パッド16が矢印で示すように移動して、メタル
14a、14bがスライドすることで伸張し、パッド1
6とI/Oセル10との間が広がるようになっている。
本実施例では、チップレイアウトを行う上で、全てのI
/Oセルとして、図1に示す伸張可能なI/Oセル10
を用いる。
FIG. 1 shows a structure of an I / O cell and a bonding pad used in the chip layout method according to the first embodiment. As shown in FIG. 1A, the I / O chip 10 has a wiring 14 that can extend, and the wiring 14 connects the pad 16 to the pad 16. The wiring 14 is composed of a metal 14a whose one end is connected to the pad 16 side and a metal 14b whose one end is connected to the I / O cell side. These metals 14a, 14
b is made of the same material and overlaps each other at the other end
It has a layer structure. As shown in FIG. 1B, the wiring 14 is expanded by the movement of the pad 16 as indicated by the arrow and sliding of the metal 14 a, 14 b, and the pad 1
6 and the I / O cell 10 are widened.
In this embodiment, all the I
I / O cell 10 shown in FIG. 1 as an I / O cell.
To use.

【0008】次に、以上のI/Oセル10を用いたレイ
アウト方法の具体的な手順について説明する。本実施例
のチップレイアウト方法では、まず、チップ面積を最小
に抑える為、配線14を図1(A)で示したように縮め
て、I/Oセル10を最小の長さにしておく。そして、
I/Oセル10を最小したときの半導体チップのサイ
ズ、すなわち、最小サイズを求める。次に、求めた最小
サイズのチップの大きさから、例えば、6インチの半導
体ウエハにおいて形成可能な理論チップ数を算出する。
一般に、半導体ウエハ上にチップを形成する場合、ウエ
ハの端に無駄なスペースが多く残ってしまう。従って、
1チップ当たりのサイズを所定量変化させても、理論チ
ップ数が変わらない場合がある。例えば、10.02×
10.02mm角のチップと10.10×10.10mm角
のチップでは6インチウエハにおいて、理論チップ数は
同じである。
Next, a specific procedure of the layout method using the above I / O cell 10 will be described. In the chip layout method of the present embodiment, first, in order to minimize the chip area, the wiring 14 is contracted as shown in FIG. 1A, and the I / O cell 10 is set to the minimum length. And
The size of the semiconductor chip when the I / O cell 10 is minimized, that is, the minimum size is obtained. Next, the theoretical number of chips that can be formed on a 6-inch semiconductor wafer, for example, is calculated from the obtained minimum size of chips.
Generally, when chips are formed on a semiconductor wafer, a lot of useless space remains at the edge of the wafer. Therefore,
The theoretical number of chips may not change even if the size per chip is changed by a predetermined amount. For example, 10.02x
The theoretical number of chips is the same for a 6 inch wafer for a 10.02 mm square chip and a 10.10 × 10.10 mm square chip.

【0009】そこで本実施例では、最小サイズのチップ
の大きさから求めた理論チップ数が変わらない範囲内
で、最も大きく取れるチップのサイズ(最大サイズ)を
求める。そして、求めた最大サイズの半導体チップに合
わせて、I/Oセル10とパッド16のレイアウトを行
う。すなわち、前述のI/Oセル10を最小にしたとき
のチップサイズとの差をとり、その値の半分値分I/O
セル10を伸張する。例えば、前述の例では、10.1
0mm−10.02mm=0.08mmであるので、最大約4
0μm伸張する。なお、このとき伸張する長さは、メタ
ル14aとメタル14bとが切断されない範囲で行う。
例えば、メタル14aとメタル14bとが重なっている
幅を、予め約40μm以上にしておけば、40μm伸張
することは可能である。但し、この配線14の伸張は、
製造される半導体チップが、パッケージキャビティサイ
ズを超えない範囲とする。以上のようにしてI/Oセル
10が伸張した(図1(B)参照)最大サイズの半導体
チップにおいては、パッド16とI/Oセル10との間
に、利用可能な領域が生じる。
Therefore, in this embodiment, the size of the largest chip (maximum size) is found within the range in which the theoretical number of chips found from the size of the smallest size chip does not change. Then, the I / O cell 10 and the pad 16 are laid out according to the obtained maximum size semiconductor chip. That is, the difference from the chip size when the above-mentioned I / O cell 10 is minimized is taken, and I / O for half the value is taken.
The cell 10 is stretched. For example, in the above example, 10.1
Since 0mm-10.02mm = 0.08mm, the maximum is about 4
Stretch to 0 μm. The length of extension at this time is set so that the metal 14a and the metal 14b are not cut.
For example, if the width where the metal 14a and the metal 14b overlap with each other is set to about 40 μm or more in advance, it is possible to extend by 40 μm. However, the extension of the wiring 14 is
The range of manufactured semiconductor chips shall not exceed the package cavity size. In the maximum size semiconductor chip in which the I / O cell 10 is expanded as described above (see FIG. 1B), a usable area is formed between the pad 16 and the I / O cell 10.

【0010】図2は、I/Oセル10を伸張させたとき
の半導体チップの一部を表したものである。図2に示す
ように、本実施例では、パッド16との接続部分である
配線14を伸張させ、パッド16をチップ内部18や電
源ライン19、GNDライン20に対して外側に移動さ
せることで、パッド16とI/Oセル10との間に、配
線領域やダミーセルを配置するための利用領域Sが新た
に生じる。以上説明したように、本実施例では、理論チ
ップ数が変わらない範囲内、すなわち、チップコストが
変わらない範囲内において、新たに配線領域やダミーセ
ル配置領域を確保するための利用領域Sを形成すること
がきる。従って、この利用領域Sを利用して、レイアウ
ト修正を容易に行うことができ、修正作業の簡素化、短
時間化を図ることができる。
FIG. 2 shows a part of a semiconductor chip when the I / O cell 10 is expanded. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the wiring 14 that is a connection portion with the pad 16 is expanded, and the pad 16 is moved to the outside with respect to the chip inside 18, the power supply line 19, and the GND line 20, Between the pad 16 and the I / O cell 10, a use area S for arranging a wiring area and a dummy cell is newly formed. As described above, in the present embodiment, the use area S for newly securing the wiring area and the dummy cell placement area is formed within the range where the theoretical number of chips does not change, that is, within the range where the chip cost does not change. I can do it. Therefore, the layout correction can be easily performed by using the use area S, and the correction work can be simplified and shortened.

【0011】次に、第2の実施例について説明する。な
お、第1の実施例と同様の構成については同一の符号を
付し、その詳細な説明は適宜省略することとする。図3
は、本実施例のチップレイアウト方法において使用する
I/Oセルを表したものである。本実施例では、図3に
示すように、サイズの異なる3つのI/Oセル22、2
4、26を予め用意しておく。I/Oセル22は、通常
のチップレイアウト時に用いられるオリジナルサイズの
ものであり、I/Oセル24、26は、I/Oセル22
に対して、サイズを2段階に大きくしたものである。サ
ージ、ラッチアップ及びドライブ能力は、大きいI/O
セル程優れている。すなわち、I/Oセル24がI/O
セル22より、I/Oセル26がI/Oセル24より優
れている。
Next, a second embodiment will be described. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be appropriately omitted. Figure 3
Shows an I / O cell used in the chip layout method of the present embodiment. In this embodiment, as shown in FIG. 3, three I / O cells 22 and 2 having different sizes are used.
Prepare 4 and 26 in advance. The I / O cell 22 is of an original size used in a normal chip layout, and the I / O cells 24 and 26 are the I / O cells 22.
On the other hand, the size is increased in two steps. Large I / O with surge, latch-up and drive capability
The cell is better. That is, the I / O cell 24 is the I / O
I / O cell 26 is superior to cell 22 over I / O cell 24.

【0012】次に、以上のI/Oセル22、24、26
を用いたチップレイアウト方法の具体的な手順について
説明する。まず、図4(A)に示すように、最小サイズ
のI/Oセル22を用いてチップレイアウトを行う。そ
して、I/Oセル22を用いたときの半導体チップの最
小サイズから、例えば、6インチの半導体チップにおい
て形成可能な理論チップ数を算出する。次に、理論チッ
プ数は変わらないような最大チップサイズを算出する。
例えば、6インチウエハにおいては、前述したように、
10.02×10.02mm角のチップと10.10×1
0.10mm角のチップとで理論チップ数は同じである。
Next, the above I / O cells 22, 24, 26
A specific procedure of the chip layout method using is explained. First, as shown in FIG. 4A, a chip layout is performed using the smallest size I / O cell 22. Then, from the minimum size of the semiconductor chip when the I / O cell 22 is used, for example, the theoretical number of chips that can be formed in a 6-inch semiconductor chip is calculated. Next, the maximum chip size that does not change the theoretical number of chips is calculated.
For example, for a 6 inch wafer, as described above,
10.02 × 10.02mm square chip and 10.10 × 1
The theoretical number of chips is the same for 0.10 mm square chips.

【0013】従って、本実施例では、算出した最大サイ
ズの半導体チップについてのレイアウトを行う。すなわ
ち、最大チップサイズに収まる範囲内で最大のI/Oセ
ルをI/Oセル24、26から選択し、最大サイズの半
導体チップにおいてI/Oセル22と入れ換える。前述
の例では、10.10mm−10.02mm=0.08mmで
あるので、I/Oセル22とのサイズの差が、0.08
mmの半分(40μm)以下の範囲内で、サイズが最大の
I/OセルをI/Oセル22と入れ換える。この入れ換
えによって、I/Oセル22よりもサージ、ラッチアッ
プ、ドライブ能力に優れたI/Oセルが半導体チップに
配置される。なお、図4(B)は、最大サイズの半導体
チップに収まる最大のI/OセルがI/Oセル26であ
った場合のチップレイアウトを表している。また、本実
施例では、I/Oセルの入れ換え作業を簡単にするた
め、チップ内部18への接続部28を各I/Oセル2
2、24、26において共通にしている。
Therefore, in this embodiment, the layout is performed for the calculated maximum size semiconductor chip. That is, the largest I / O cell within the maximum chip size is selected from the I / O cells 24 and 26, and the I / O cell 22 is replaced in the largest semiconductor chip. In the above example, since 10.10 mm-10.02 mm = 0.08 mm, the size difference from the I / O cell 22 is 0.08 mm.
The I / O cell having the largest size is replaced with the I / O cell 22 within a range of half a mm (40 μm) or less. By this replacement, the I / O cells having higher surge, latch-up, and drive capability than the I / O cells 22 are arranged on the semiconductor chip. Note that FIG. 4B shows a chip layout when the largest I / O cell that can be accommodated in the largest semiconductor chip is the I / O cell 26. Further, in this embodiment, in order to simplify the replacement work of the I / O cells, the connection part 28 to the inside 18 of the chip is connected to each I / O cell 2.
It is common to 2, 24 and 26.

【0014】以上説明したように、本実施例のチップレ
イアウト方法によれば、理論チップ数を変えない範囲
内、すなわち、チップコストが変わらない範囲内で、最
大サイズのI/Oセルを配置することできる。従って、
同一のチップコストにおいて、よりサージ、ラッチアッ
プ及びドライブ能力に優れたI/Oセルを有する半導体
チップを製造することできる。なお、第2の実施例で
は、予め3つのI/Oセルのみが用意されていたが、4
つ、あるいはそれ以上のサイズの異なるI/Oセルを用
意しておいてもよい。この場合、各I/Oセルの大きさ
の違いを小さくすることで、より的確なサイズのI/O
セルを選択することが可能となる。
As described above, according to the chip layout method of this embodiment, the maximum size I / O cell is arranged within the range in which the theoretical number of chips is not changed, that is, the range in which the chip cost is not changed. You can do it. Therefore,
At the same chip cost, it is possible to manufacture a semiconductor chip having an I / O cell that is more excellent in surge, latch-up and drive capability. In addition, in the second embodiment, only three I / O cells were prepared in advance.
One or more I / O cells having different sizes may be prepared. In this case, by reducing the size difference between the I / O cells, the I / O having a more accurate size can be obtained.
It becomes possible to select a cell.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明のチップレイアウト方法によれ
ば、チップコストを上げずに、最大限のチップ面積を確
保することができる。
According to the chip layout method of the present invention, the maximum chip area can be secured without increasing the chip cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例によるチップレイアウト
方法において使用するI/Oセルを示した説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an I / O cell used in a chip layout method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同チップレイアウト方法によってレイアウトさ
れた半導体チップの一部を示した説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a part of a semiconductor chip laid out by the same chip layout method.

【図3】本発明の第2の実施例によるチップレイアウト
方法において使用するI/Oセルを示した説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an I / O cell used in a chip layout method according to a second embodiment of the present invention.

【図4】同チップレイアウト方法によってレイアウトさ
れた半導体チップの一部を示した説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a part of a semiconductor chip laid out by the same chip layout method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、22、24、26 I/Oセル 14 配線 14a、14b メタル 16 パッド 18 チップ内部 19 電源ライン 20 GNDライン S 利用領域 10, 22, 24, 26 I / O cell 14 Wiring 14a, 14b Metal 16 Pad 18 Inside chip 19 Power line 20 GND line S Utilization area

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ボンディングパッドとの接続部分が伸張
するI/Oセルを用いて前記接続部分を最小の長さにし
たときの半導体チップの最小サイズを求め、 求めた最小サイズの半導体チップを、所定インチの半導
体ウエハにおいて形成するときの理論チップ数を算出
し、 算出した理論チップ数を変えずに前記半導体ウエハにお
いて形成可能な半導体チップの最大サイズを求め、 求めた最大サイズと前記最小サイズとの差を算出し、 算出した差の半分の長さだけ前記接続部分が伸張した位
置に前記ボンディングパッドを配置することを特徴とす
るチップレイアウト方法。
1. A minimum size of a semiconductor chip when an I / O cell in which a connecting portion with a bonding pad extends is used to minimize the connecting portion, and a semiconductor chip having the obtained minimum size is obtained. Calculate the theoretical number of chips when forming on a semiconductor wafer of a predetermined inch, find the maximum size of semiconductor chips that can be formed on the semiconductor wafer without changing the calculated number of theoretical chips, and find the maximum size and the minimum size The chip layout method is characterized in that the bonding pad is arranged at a position where the connecting portion extends by a length half the calculated difference.
【請求項2】 前記I/Oセルの接続部分は、前記ボン
ディングパッド側に一端が接続されたメタルと前記I/
Oセル側に一端が接続された同一材料のメタルとを互い
に他端側で重ねて2層構造にし、両メタルがスライドす
ることで伸張することを特徴とする請求項1記載のチッ
プレイアウト方法。
2. The I / O cell connecting portion is connected to the metal whose one end is connected to the bonding pad side and the I / O cell.
2. The chip layout method according to claim 1, wherein a metal of the same material, one end of which is connected to the O cell side, is overlapped on the other end to form a two-layer structure, and both metals slide to expand.
【請求項3】 予め用意された大きさの異なる複数のI
/Oセルの内、最小サイズのI/Oセルを配置したとき
の半導体チップの最小サイズを求め、 求めた最小サイズの半導体チップを、所定インチの半導
体ウエハにおいて形成するときの理論チップ数を算出
し、 算出した理論チップ数を変えずに前記半導体ウエハにお
いて形成可能な半導体チップの最大サイズを求め、 求めた最大サイズの半導体チップにおいて配置可能な最
大のI/Oセルを前記複数のI/Oセルの中から選択し
て配置することを特徴とするチップレイアウト方法。
3. A plurality of Is of different sizes prepared in advance
Of the minimum size of the I / O cells among the / O cells, the minimum size of the semiconductor chip is calculated, and the theoretical number of chips when forming the calculated minimum size semiconductor chip on a semiconductor wafer of a predetermined inch is calculated. Then, the maximum size of the semiconductor chips that can be formed on the semiconductor wafer is determined without changing the calculated theoretical number of chips, and the maximum I / O cell that can be arranged in the determined maximum size semiconductor chip is set to the plurality of I / Os. A chip layout method characterized by selecting and arranging from cells.
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