JPH0880468A - Spinner device - Google Patents

Spinner device

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Publication number
JPH0880468A
JPH0880468A JP6219293A JP21929394A JPH0880468A JP H0880468 A JPH0880468 A JP H0880468A JP 6219293 A JP6219293 A JP 6219293A JP 21929394 A JP21929394 A JP 21929394A JP H0880468 A JPH0880468 A JP H0880468A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spin
substrate
spinner device
sealing bar
stage
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6219293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Murakami
一之 村上
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH0880468A publication Critical patent/JPH0880468A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE: To suppress an uneven intra-plane distribution of the thickness of a resin film to be formed and form the resin film having a uniform film thickness in a spinner device which forms a resin film on a substrate by a spin coating method. CONSTITUTION: A vessel consisting of a first bar 27 for sealing, the second bar 37 for sealing provided with notched parts and a cap 48 which is commonly used to the first and second bars 27 and 37 is provided on a spin table 41, and a spin stage 41a and the substrate 10 mounted on the spin stage 41a are surrounded with this vessel.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂材料のスピン塗布
装置に係り、特に薄膜を形成するスピン装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin coater for resin materials, and more particularly to a spin coater for forming a thin film.

【0002】近年、LCD(Light Crysta
l Devaices)ディスプレイの高品質化に伴
い、カラーフィルタへも高い品質が要求されている。
In recent years, LCDs (Light Crystals)
2. Description of the Related Art With the improvement in quality of displays, high quality is demanded for color filters.

【0003】特にカラーフィルタを作製するに当たり、
ガラス基板上に樹脂を塗布する工程での樹脂膜の均一性
は、カラーフィルタの透過率の分布に直接影響する問題
である。よって、より膜厚が均一な樹脂膜を塗布、成膜
するスピナー装置の開発は、高品質なカラーフィルタを
提供することに効果がある。
Especially when manufacturing a color filter,
The uniformity of the resin film in the step of applying the resin on the glass substrate is a problem that directly affects the transmittance distribution of the color filter. Therefore, development of a spinner device for applying and forming a resin film having a more uniform film thickness is effective in providing a high quality color filter.

【0004】[0004]

【従来の技術】図13、及び図14に従来のスピナー装
置の概略構成を示す。
13 and 14 show a schematic structure of a conventional spinner device.

【0005】図13は従来のスピナー装置1の構成図で
あり、図14(a)はスピナー装置の要部を成す成膜部
20aの上面図、図14(b)は同様の成膜部20aの
側面図である。
FIG. 13 is a block diagram of a conventional spinner device 1, FIG. 14 (a) is a top view of a film forming part 20a which is a main part of the spinner device, and FIG. 14 (b) is a similar film forming part 20a. FIG.

【0006】スピナー装置1は、大略するとスピンテー
ブル11を回転させるモーター部20bと、樹脂膜を成
膜基板10(以下、単に基板という)にスピンコートす
る成膜部20aとから構成されている。
The spinner device 1 is roughly composed of a motor portion 20b for rotating the spin table 11 and a film forming portion 20a for spin coating a resin film on the film forming substrate 10 (hereinafter, simply referred to as a substrate).

【0007】モーター部20bは架台15と、架台15
に格納されたモーター12と、モーター12を成膜部2
0aに接続する軸14より成っている。また、成膜部2
0aは、スピンテーブル11と、その上に設けられたス
ピンステージ11aとで構成されている。
The motor section 20b includes a mount 15 and a mount 15
And the motor 12 stored in the film forming unit 2
It consists of a shaft 14 connected to 0a. In addition, the film forming unit 2
Reference numeral 0a includes a spin table 11 and a spin stage 11a provided thereon.

【0008】架台15には、成膜部20a全体を覆うチ
ャンバー13と樹脂の滴下部16が取り付けられてい
る。
A chamber 13 for covering the entire film forming section 20a and a resin dropping section 16 are attached to the pedestal 15.

【0009】チャンバー13は、スピンテーブル11及
びスピンステージ11a全体をその内部に収納してお
り、樹脂の飛散を防ぐよう構成されている。チャンバー
13に設けられた扉13aは開閉式で基板10の着脱、
及びチャンバー内の洗浄を行なう際に使用する。
The chamber 13 houses the spin table 11 and the entire spin stage 11a therein, and is configured to prevent the resin from scattering. The door 13a provided in the chamber 13 is an opening / closing type, and the substrate 10 is attached / detached.
And used when cleaning the inside of the chamber.

【0010】上記の従来構成のスピナー装置1で樹脂を
塗布する場合、スピンステージ11a上に基板10をセ
ットし、基板10に滴下部16より樹脂を滴下して、モ
ーター12を稼働させる。モーター12はスピンテーブ
ル11上に設けたスピンステージ11aに軸14で連結
されており、軸14によって回転をスピンテーブル11
に伝え、スピンテーブル11を、その上のスピンステー
ジ11aと共に所定の時間回転させる。
When the resin is applied by the above-mentioned conventional spinner device 1, the substrate 10 is set on the spin stage 11a, the resin is dropped on the substrate 10 from the dropping portion 16, and the motor 12 is operated. The motor 12 is connected to a spin stage 11a provided on the spin table 11 by a shaft 14, and the shaft 14 rotates the spin table 11a.
Then, the spin table 11 is rotated together with the spin stage 11a thereon for a predetermined time.

【0011】回転中、滴下された樹脂はスピンステージ
11aの回転による遠心力により基板10上に広がって
ゆき、また徐々に乾燥していくうちに粘性を増し、やが
て完全に乾燥し、樹脂膜として基板10上に成膜され
る。樹脂膜の厚さは、回転のスピードと樹脂膜の温度及
び粘性に応じて決まる。
During the rotation, the dropped resin spreads on the substrate 10 due to the centrifugal force due to the rotation of the spin stage 11a, and gradually increases in viscosity as it dries, and eventually completely dries to form a resin film. A film is formed on the substrate 10. The thickness of the resin film depends on the speed of rotation and the temperature and viscosity of the resin film.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】ところで、樹脂が受け
る高速回転の影響は、基板上において一様ではない。
By the way, the influence of high speed rotation on the resin is not uniform on the substrate.

【0013】即ち、回転の周速度は、回転半径に比例す
るから、回転する中心から離れた基板10の周辺部ほど
大気による乾燥の影響を強く受け樹脂が早く乾燥する。
乾燥によって樹脂の粘性も増すので、成膜される樹脂膜
の厚さが基板10の中心より基板10の周辺部の方が厚
くなり、基板面10内で膜厚分布を生じる事になる。
That is, since the peripheral speed of rotation is proportional to the radius of rotation, the peripheral portion of the substrate 10 farther from the center of rotation is more affected by the drying by the atmosphere and the resin dries faster.
Since the viscosity of the resin is also increased by the drying, the thickness of the resin film to be formed becomes thicker in the peripheral portion of the substrate 10 than in the center of the substrate 10, resulting in a film thickness distribution within the substrate surface 10.

【0014】上記の問題は、特に樹脂の溶剤が揮発性で
ある場合に顕著になり、カラーフィルタの品質を低下さ
せる原因となる。
The above-mentioned problem becomes remarkable especially when the solvent of the resin is volatile, and causes the quality of the color filter to deteriorate.

【0015】即ち、樹脂膜の膜厚が厚ければ、透過率が
低下し、薄ければ増加する。よって樹脂膜厚の分布は、
そのまま樹脂膜を用いたカラーフィルターの透過率の分
布となって反映されるのである。
That is, if the film thickness of the resin film is thick, the transmittance decreases, and if it is thin, the transmittance increases. Therefore, the distribution of resin film thickness is
As it is, it is reflected in the distribution of the transmittance of the color filter using the resin film.

【0016】一方、スピンテーブル11を高速回転させ
るモーター12は、駆動する際に熱を発生する。発生し
た熱は軸を介してスピンテーブル11まで伝わってく
る。スピンテーブル11に伝導した熱は、スピンテーブ
ル11を支持する軸14を中心にスピンテーブル11に
伝わっていき、スピンテーブル11上のスピンステージ
11a、最終的には基板10上にも温度分布を生じさせ
る。
On the other hand, the motor 12 that rotates the spin table 11 at high speed generates heat when it is driven. The generated heat is transmitted to the spin table 11 via the shaft. The heat conducted to the spin table 11 is transmitted to the spin table 11 around the shaft 14 that supports the spin table 11, and a temperature distribution is also generated on the spin stage 11a on the spin table 11 and finally on the substrate 10. Let

【0017】この場合は、先の例とは逆に基板10中心
の樹脂が早く硬化するので、中心近傍の樹脂膜の厚さが
厚い樹脂膜が生成されるが、樹脂膜の膜厚に分布が生
じ、LCDのカラーディスプレイの品質を低下させるこ
とにおいては同様である。
In this case, the resin in the center of the substrate 10 hardens faster than in the previous example, so that a resin film having a large thickness in the vicinity of the center is generated, but the resin film is distributed in the thickness of the resin film. Is the same in reducing the quality of the LCD color display.

【0018】図15に従来のスピナー装置1で成膜した
樹脂膜の透過率の分布を示す。
FIG. 15 shows the transmittance distribution of the resin film formed by the conventional spinner device 1.

【0019】透過率の測定は「比還透過率法」を用いて
行なったもので、樹脂膜に光を当てて、その入射光と、
反射光の比によって透過率を評価するものである。
The transmittance was measured by using the "reduced transmittance method". The resin film was exposed to light and the incident light was measured.
The transmittance is evaluated by the ratio of reflected light.

【0020】周辺の透過率が、中心部分に比べて低いこ
と、線状に透過率の低い部分が中央にあることが分か
る。この分布は上記したように、樹脂をスピン塗布する
際、基板10の周辺部が中央部より早く回転し、気流の
影響を強く受けること。また、中央の一部が、モーター
12で発生する熱による影響をうけることに起因する。
It can be seen that the peripheral transmittance is lower than that in the central portion, and that the linearly low transmittance portion is in the center. As described above, this distribution is that the peripheral portion of the substrate 10 rotates faster than the central portion when the resin is spin-coated, and is strongly affected by the air flow. In addition, a part of the center is affected by heat generated by the motor 12.

【0021】本願は以上の点を鑑み、均一な膜厚の樹脂
膜をスピンコートにより成膜し、高品質なカラーフィル
タを提供することを目的とするものである。
In view of the above points, the present application aims to provide a high quality color filter by forming a resin film having a uniform film thickness by spin coating.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明のスピナ
ー装置は、モーターに接続されて回転するスピンテーブ
ルと、スピンテーブル上に設けられてスピンテーブルと
共に回転すると共に、成膜材料を表面に滴下されて被膜
形成される基板が載置されるスピンステージと、スピン
テーブル上に配設され、スピンステージ上に載置された
基板を囲繞する容器とを具備することを特徴とするもの
である。
According to another aspect of the present invention, there is provided a spinner device which is connected to a motor to rotate, a spin table which is provided on the spin table and rotates together with the spin table, and a film-forming material on the surface of the spin table. It is characterized by comprising a spin stage on which a substrate on which a film is formed by dropping is placed, and a container which is arranged on a spin table and surrounds the substrate placed on the spin stage. .

【0023】請求項2の発明のスピナー装置は、該容器
を、スピンステージを囲繞するよう配設された枠形状を
有する密閉用バーと、該密閉用バー上部に配設される蓋
とにより構成したことを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the spinner device, the container is composed of a frame-shaped sealing bar arranged so as to surround the spin stage, and a lid arranged above the sealing bar. It is characterized by having done.

【0024】請求項3の発明のスピナー装置は、密閉用
バーに、飛散した成膜材料を容器外に排出する欠切部を
設けたことを特徴とするものである。
The spinner device according to a third aspect of the present invention is characterized in that the sealing bar is provided with a cutout portion for discharging the scattered film forming material to the outside of the container.

【0025】請求項4の発明のスピナー装置は、容器
を、スピンステージを囲繞するよう配設されると共に、
基板から飛散した成膜材料を外部に排出する切欠部が形
成された枠形状を有する第1の密閉用バーと、第1の密
閉用バーを囲繞するよう配設された枠形状を有する第2
の密閉用バーと、第1及び第2の密閉用バーの上部に配
設される蓋とにより構成したことを特徴とするものであ
る。
In the spinner device according to the invention of claim 4, the container is arranged so as to surround the spin stage, and
A first sealing bar having a frame shape in which a notch is formed to discharge the film forming material scattered from the substrate to the outside, and a second sealing bar having a frame shape arranged so as to surround the first sealing bar.
It is characterized in that it is constituted by the sealing bar and the lid provided on the upper part of the first and second sealing bars.

【0026】請求項5の発明のスピナー装置は、スピン
テーブル上の切欠部を有する密閉用バーの外部に、切欠
部を介して第1の密閉用バーの外部に漏洩した該成膜材
料を貯留する廃液槽を設けたことを特徴とするものであ
る。
According to the fifth aspect of the present invention, the spinner device stores the film forming material leaked to the outside of the first sealing bar through the notch, outside the sealing bar having the notch on the spin table. It is characterized in that a waste liquid tank is installed.

【0027】請求項6の発明のスピナー装置は、スピン
テーブル上の切欠部を有する密閉用バーの外部に、切欠
部を介して第1の密閉用バーの外部に漏洩した該成膜材
料をスピンテーブルの外部に排出する排出機構を設けた
ことを特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, the spinner device spins the film forming material leaked to the outside of the sealing bar having the cutout portion on the spin table to the outside of the first sealing bar via the cutout portion. The present invention is characterized in that a discharge mechanism for discharging to the outside of the table is provided.

【0028】請求項7の発明のスピナー装置は、モータ
ーに接続されて回転するスピンテーブルと、基板を載置
し、かつスピンテーブル上に設けられて該スピンテーブ
ルと共に回転するスピンステージと、スピンテーブルと
スピンステージ間を接続する軸と、スピンステージ上の
温度を均一化する温度均一化手段とを具備することを特
徴とするものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a spinner device, which is connected to a motor to rotate, a spin table, a spin stage on which a substrate is placed and which is provided on the spin table and rotates together with the spin table, and a spin table. And a spin connecting stage between the spin stage and a temperature equalizing means for equalizing the temperature on the spin stage.

【0029】請求項8の発明のスピナー装置は、温度均
一化化手段を、放熱フィンにより構成したことを特徴と
するものである。 請求項9の発明のスピナー装置は、
放熱フィンを、軸部に設けたことを特徴とするものであ
る。
According to the eighth aspect of the present invention, the spinner device is characterized in that the temperature equalizing means is constituted by a radiation fin. The spinner device according to the invention of claim 9 is
The heat radiation fin is provided on the shaft portion.

【0030】請求項10の発明のスピナー装置は、放熱
フィンをスピンテーブルに設けたことを特徴とするもの
である。
The spinner device according to a tenth aspect of the present invention is characterized in that the radiation fin is provided on the spin table.

【0031】請求項11の発明のスピナー装置は、温度
均一化手段を、スピンステージに配設され大気を吸引す
る吸引機構により構成し、吸引機構により発生する気流
の通路が基板の裏面に位置するよう設定することによ
り、気流により基板を冷却する構成としたことを特徴と
するものである。
According to the eleventh aspect of the present invention, the temperature equalizing means comprises a suction mechanism arranged on the spin stage for sucking the atmosphere, and the passage of the air flow generated by the suction mechanism is located on the back surface of the substrate. With such a setting, the substrate is cooled by the air flow.

【0032】請求項12の発明のスピナー装置は、温度
均一化手段を、スピンテーブルに配設されスピンステー
ジ表面の温度を制御するホットプレートにより構成した
ことを特徴とするものである。
According to the twelfth aspect of the present invention, the spinner device is characterized in that the temperature equalizing means is constituted by a hot plate arranged on the spin table and controlling the temperature of the surface of the spin stage.

【0033】[0033]

【作用】請求項1の発明により、スピンステージを封入
する密閉用バーと蓋とからなる樹脂の飛散を防止する容
器が、スピンテーブル上に設けられたことで、容器に囲
繞された成膜環境の大気がスピンステージと共に回転す
る。このため、樹脂の飛散を防止しつつ気流の発生を防
止でき、良好な成膜処理を行うことができる。
According to the first aspect of the present invention, since the container, which is composed of the sealing bar for enclosing the spin stage and the lid, for preventing the scattering of the resin is provided on the spin table, the film forming environment surrounded by the container is provided. Atmosphere rotates with the spin stage. Therefore, it is possible to prevent the resin from scattering and to prevent the air flow from being generated, and it is possible to perform a favorable film forming process.

【0034】請求項2の発明により、夫々簡単な構成の
密閉用バー及び蓋により構成されているため、容器の製
造を容易に行うことができ、また低コスト、かつスピン
テーブル上への取付けが容易であることにより、本発明
の実施が容易になる。請求項3の発明により、スピンス
テージの回転中、基板上から飛散する樹脂が密閉用バー
の切欠部から密閉用バーと蓋とからなる容器外へ排出さ
れることにより、容器の内壁に樹脂が付着することを防
止する。従って、容器内壁に付着した樹脂が再び基板上
に飛散して付着することを防止できる。
According to the second aspect of the invention, since the sealing bar and the lid each have a simple structure, the container can be easily manufactured, and the cost can be reduced and the container can be mounted on the spin table. Ease of implementation facilitates the practice of the present invention. According to the invention of claim 3, during the rotation of the spin stage, the resin scattered from the substrate is discharged from the notch of the sealing bar to the outside of the container including the sealing bar and the lid, so that the resin is adhered to the inner wall of the container. Prevents adhesion. Therefore, it is possible to prevent the resin attached to the inner wall of the container from scattering and attaching again to the substrate.

【0035】請求項4の発明により、切欠部を有した第
1の密閉用バーが内側に配設したことにより、スピンス
テージに載置された基板から飛散した樹脂材料が切欠部
から排出されて成膜される樹脂膜の近傍に止まらない。
また、この第1の密閉用バーを封入するよう第2の密閉
用バーを配設したために第1の密閉用バーの切欠部から
飛散した樹脂材料がスピナー装置外へ飛散することを防
止するとともに成膜環境の大気を封入して気流の発生を
防止する。
According to the invention of claim 4, since the first sealing bar having the cutout portion is provided inside, the resin material scattered from the substrate mounted on the spin stage is discharged from the cutout portion. It does not stop near the resin film to be formed.
Further, since the second sealing bar is arranged so as to enclose the first sealing bar, the resin material scattered from the cutout portion of the first sealing bar is prevented from scattering outside the spinner device. The atmosphere of the film forming environment is enclosed to prevent the generation of air flow.

【0036】第1の密閉用バーと第2の密閉用バーを上
記した構成に併設することによって樹脂膜は飛散した樹
脂材料の再付着、及び基板面内での乾燥速度の違いに影
響されることが無く成膜される。
By placing the first sealing bar and the second sealing bar together in the above-described structure, the resin film is affected by the redeposition of the scattered resin material and the difference in the drying speed within the plane of the substrate. Film is formed without any problem.

【0037】請求項5の発明により、第1の密閉用バー
の切欠部より飛散する樹脂材料は、第2の密閉用バーの
内壁に付着する。付着する樹脂材料はスピナー装置で処
理を行なう基板の枚数に応じて蓄積され、スピナー装置
の連続処理量を制限する。よって、漏洩した該成膜材料
を貯留する廃液槽を設けたことによって連続処理能力が
大きくなる。
According to the fifth aspect of the present invention, the resin material scattered from the cutout portion of the first sealing bar adheres to the inner wall of the second sealing bar. The deposited resin material is accumulated according to the number of substrates to be processed by the spinner device, and limits the continuous processing amount of the spinner device. Therefore, the continuous processing capacity is increased by providing the waste liquid tank for storing the leaked film forming material.

【0038】請求項6の発明により、スピナー装置に飛
散した樹脂膜材料の廃液槽を設けた場合、スピナー装置
の連続処理能力は廃液槽の許容量で制限されるため、切
欠部を有する密閉用バーの外部に廃液の流出機構を設け
たことにより、更なる連続処理が可能である構成とな
る。
According to the sixth aspect of the present invention, when the spinner device is provided with the waste liquid tank of the scattered resin film material, the continuous processing capacity of the spinner device is limited by the allowable amount of the waste liquid tank. By providing a waste liquid outflow mechanism outside the bar, further continuous processing is possible.

【0039】請求項7の発明により、モーターで発生し
た熱が温度均一化手段によって失われるので、基板に伝
わらず基板上に温度の分布を発生させない。
According to the seventh aspect of the present invention, the heat generated by the motor is lost by the temperature equalizing means, so that it is not transmitted to the substrate and no temperature distribution is generated on the substrate.

【0040】請求項8の発明により、モーターで発生し
た熱が、放熱フィンによって構成される温度均一化手段
によって効率よく大気にさらされて放熱するので、基板
まで伝わらず基板上に温度の分布を発生させない。
According to the invention of claim 8, the heat generated by the motor is efficiently exposed to the atmosphere and radiated by the temperature equalizing means constituted by the radiation fins, so that the temperature distribution on the substrate does not reach the substrate. Do not generate.

【0041】請求項9の発明により、モーターで発生し
た熱は、軸部の放熱フィンに伝わり、放熱フィンの広い
表面積によって充分大気に晒され冷却する。このために
成膜基板は、熱の影響を受けること無く温度の分布を生
じない。
According to the ninth aspect of the present invention, the heat generated by the motor is transmitted to the radiating fins of the shaft portion, and is sufficiently exposed to the atmosphere by the large surface area of the radiating fins for cooling. Therefore, the film formation substrate is not affected by heat and does not have a temperature distribution.

【0042】請求項10の発明により、モーターで発生
した熱は、スピンテーブル下部の放熱フィンに伝わり、
放熱フィンの広い表面積によって充分大気に晒され冷却
する。このために成膜基板は、熱の影響を受けること無
く温度の分布を生じない。
According to the tenth aspect of the invention, the heat generated by the motor is transmitted to the heat radiation fins below the spin table,
The large surface area of the radiating fins allows it to be fully exposed to the atmosphere for cooling. Therefore, the film formation substrate is not affected by heat and does not have a temperature distribution.

【0043】請求項11の発明により、モーターで発生
した熱は、基板裏面の大気を加熱するが、吸引機構によ
り発生する気流の通路が該基板の裏面に位置するよう設
定されているので、周囲からモーターの熱の影響を受け
ていない低温の大気が、絶えず基板裏面に流れ込むこと
によって基板を冷却し、基板の温度の変化を防止する。
According to the eleventh aspect of the present invention, the heat generated by the motor heats the atmosphere on the back surface of the substrate, but the passage of the air flow generated by the suction mechanism is set to be located on the back surface of the substrate. The low-temperature atmosphere, which is not affected by the heat of the motor, constantly flows into the back surface of the substrate to cool the substrate and prevent the temperature of the substrate from changing.

【0044】請求項12の発明のスピナー装置により、
スピンステージ表面の温度を制御するホットプレートに
よってスピンステージ上の温度がモーターで発生した熱
に依らず、基板面内の温度は一様である。
According to the spinner device of the invention of claim 12,
The temperature on the spin stage is uniform regardless of the heat generated by the motor by the hot plate that controls the temperature of the surface of the spin stage.

【0045】[0045]

【実施例】本発明の第1実施例を以下、図面と共に説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0046】本実施例は、請求項2に対応するものであ
る。
This embodiment corresponds to claim 2.

【0047】図3は第1実施例のスピナー装置2の全体
の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the entire spinner device 2 of the first embodiment.

【0048】スピナー装置2も、従来例で述べたスピナ
ー装置1同様、成膜部30aとモーター部30bに大別
される。スピナー装置1と比較して、本実施例の特徴と
なる点は、成膜部30aである。
Like the spinner device 1 described in the conventional example, the spinner device 2 is roughly divided into a film forming section 30a and a motor section 30b. The feature of this embodiment as compared with the spinner device 1 is the film forming unit 30a.

【0049】モーター部30bの構成と、及びモーター
部の架台25に取り付けられたチャンバー23が成膜部
30a全体を覆う構成については、従来のスピナー装置
1と同様の構成となっている。然るに、本実施例の特徴
となるのは成膜部30aの構成であり、よって図4に本
実施例の要部を成す成膜部30aの構成を拡大して示
す。
The structure of the motor unit 30b and the structure of the chamber 23 attached to the mount 25 of the motor unit covering the entire film forming unit 30a are the same as those of the conventional spinner device 1. However, the feature of the present embodiment is the configuration of the film forming unit 30a, and therefore, the configuration of the film forming unit 30a, which is the main part of the present embodiment, is enlarged and shown in FIG.

【0050】図4(a)は成膜部30aのスピンテーブ
ル21と、スピンテーブル21上に設けられたスピンス
テージ21aの上面図であり、図4(b)はスピンテー
ブル21とスピンステージ21aの側面図である。
FIG. 4A is a top view of the spin table 21 of the film forming section 30a and the spin stage 21a provided on the spin table 21, and FIG. 4B shows the spin table 21 and the spin stage 21a. It is a side view.

【0051】以下、図3、及び図4と共にスピナー装置
2と、その成膜部30aの概略構成について説明する。
Hereinafter, a schematic configuration of the spinner device 2 and the film forming portion 30a thereof will be described with reference to FIGS.

【0052】成膜部30aは、スピンテーブル21と、
その上に配置され、基板を乗せるスピンステージ21a
と、密閉用バー27と蓋28とより成る。
The film forming section 30a includes a spin table 21,
A spin stage 21a placed on top of which a substrate is placed
And a sealing bar 27 and a lid 28.

【0053】密閉用バー27とは、スピンステージ21
aを中心として、周囲を包囲するよう設置される矩形の
枠であり、その高さはスピンステージ21aに対してよ
り高く、密閉用バー27上に蓋28を乗せるとスピンス
テージ21aは密閉用バー27を側面に、蓋26を上面
にしてなる容器に密閉された状態となる。(密閉用バー
27を以降、第1の密閉用バーと記す)。上記成膜部3
0aはスピナー装置2のチャンバー23内に設置され
る。
The sealing bar 27 means the spin stage 21.
It is a rectangular frame that is installed so as to surround the periphery around a, and its height is higher than that of the spin stage 21a. When the lid 28 is placed on the sealing bar 27, the spin stage 21a is closed. It is in a state of being hermetically sealed in a container having 27 as a side surface and a lid 26 as an upper surface. (The sealing bar 27 is hereinafter referred to as a first sealing bar). The film forming unit 3
0a is installed in the chamber 23 of the spinner device 2.

【0054】スピナー装置2を用いて樹脂膜の成膜を行
なう場合には、先ず、蓋28を開けて、スピンステージ
21aに基板10をセットし、固定する。固定した基板
10上に着色樹脂、例えば富士ハント社製ばCR−20
0を滴下し、蓋28を閉めるた後、所望の回転速度でス
ピンテーブル、21スピンステージ21aからなるスピ
ナー部を回転させる。
When the resin film is formed by using the spinner device 2, first, the lid 28 is opened, and the substrate 10 is set and fixed on the spin stage 21a. On the fixed substrate 10, a colored resin, for example, CR-20 manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd.
After 0 is dropped and the lid 28 is closed, the spinner part including the spin table and the 21 spin stage 21a is rotated at a desired rotation speed.

【0055】図中、10は樹脂膜の成膜基板で、樹脂
(例えば、ガラス−エポキシ樹脂)製である。
In the figure, reference numeral 10 denotes a resin film forming substrate, which is made of resin (eg, glass-epoxy resin).

【0056】上記密閉用バー27と、蓋26よりなる容
器は、スピンテーブル21上に設けられているから、ス
ピンテーブル21の回転と共に回転する。また、スピン
ステージ21a上に載置された基板10は、密閉用バー
27及び蓋26により構成された容器内に密閉された状
態となっている。
Since the container composed of the sealing bar 27 and the lid 26 is provided on the spin table 21, it rotates with the rotation of the spin table 21. Further, the substrate 10 placed on the spin stage 21a is in a state of being hermetically sealed in a container constituted by the sealing bar 27 and the lid 26.

【0057】よって、スピンステージ21a上の基板1
0、及び基板10上に成膜中の樹脂は高速の回転に際し
ても大気の気流の影響を受けない。このため密閉用バー
27及び蓋26に封入された容器内で、樹脂が乾燥する
速度は基板の中央部、周辺部に依らず一様になるから、
基板10の面内で一様な膜厚の樹脂膜が成膜される。
Therefore, the substrate 1 on the spin stage 21a
0, and the resin being formed on the substrate 10 is not affected by the air flow of the atmosphere even when rotating at high speed. Therefore, in the container enclosed by the sealing bar 27 and the lid 26, the drying speed of the resin becomes uniform regardless of the central portion and the peripheral portion of the substrate.
A resin film having a uniform film thickness is formed within the surface of the substrate 10.

【0058】本実施例で成膜した樹脂膜の厚さの均一性
を実証するため、樹脂膜に対して比還透過率測定法を用
い、樹脂膜の透過率の面内分布を測定した。
In order to verify the uniformity of the thickness of the resin film formed in this example, the in-plane distribution of the transmittance of the resin film was measured by using the reductive transmittance measuring method for the resin film.

【0059】第1実施例のスピナー装置2で成膜した樹
脂膜の透過率の分布を図5に示す。図5から、基板周囲
部と中央部の透過率はほぼ均一であると見なすとができ
るため、従来のスピナー装置1で成膜した樹脂膜におい
て発生した基板周囲部の透過率の低下が起こっていない
ことが確認された。(中央部で起こる透過率の低下につ
いては後述する。) しかし、密閉用バー27は、スピンテーブル21上に設
けられるため、スピンステージ21aと比較的近距離に
設置される。このため、基板10上に塗布された樹脂の
一部はスピンステージ21aが高速回転する際に一部周
囲に飛散する。飛散した樹脂は密閉用バー27に付着す
るのであるが、付着した樹脂が再び基板10上に落ちて
くる場合がある。
FIG. 5 shows the transmittance distribution of the resin film formed by the spinner device 2 of the first embodiment. From FIG. 5, it can be considered that the transmittances at the peripheral portion and the central portion of the substrate are substantially uniform, so that the transmittance at the peripheral portion of the substrate is reduced in the resin film formed by the conventional spinner device 1. It was confirmed that there was not. (The decrease in transmittance that occurs in the central portion will be described later.) However, since the sealing bar 27 is provided on the spin table 21, it is installed relatively close to the spin stage 21a. Therefore, a part of the resin applied on the substrate 10 is scattered around when the spin stage 21a rotates at high speed. The scattered resin adheres to the sealing bar 27, but the adhered resin may drop onto the substrate 10 again.

【0060】本実施例では上記したように基板10の周
辺部が気流の影響を受けて厚膜化するという問題を解決
できる反面、基板10上に落下してくる樹脂が成膜中の
樹脂膜の膜質を不均一にする原因となる問題が生じる。
In this embodiment, as described above, the problem that the peripheral portion of the substrate 10 is thickened due to the influence of the air flow can be solved, but on the other hand, the resin film falling on the substrate 10 is being formed. There is a problem that causes unevenness of the film quality.

【0061】そこで、付着した樹脂が再び基板10上に
落下してくることを防ぐための発明を、第2実施例で述
べる。
Therefore, the invention for preventing the adhered resin from dropping onto the substrate 10 again will be described in the second embodiment.

【0062】第2実施例は、本発明の請求項3に記載し
た発明に対応するものである。
The second embodiment corresponds to the invention described in claim 3 of the present invention.

【0063】第2実施例のスピナー装置3は、第1実施
例のスピナー装置2の成膜部30aをスピナー装置3の
成膜部40aに置き換えた構成となる。つまり、本実施
例においても成膜部40aの構成により特有の効果を生
じるため、スピナー装置3の全体図を省き、要部を成す
成膜部40aを図示して述べるものである。
The spinner device 3 of the second embodiment has a structure in which the film forming unit 30a of the spinner device 2 of the first embodiment is replaced with the film forming unit 40a of the spinner device 3. That is, in the present embodiment as well, a peculiar effect is produced by the configuration of the film forming unit 40a, and therefore the overall view of the spinner device 3 is omitted and the film forming unit 40a forming the main part is shown and described.

【0064】図6は第2実施例の概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the second embodiment.

【0065】図6(a)は成膜部を構成するスピンステ
ージ31aと、スピンステージ31aを設けたスピンテ
ーブル31を上面から見た図であり、図6(b)はスピ
ンテーブル31と、スピンステージ31aの側面図であ
る。
FIG. 6A is a top view of the spin stage 31a constituting the film forming section and the spin table 31 provided with the spin stage 31a, and FIG. 6B is the spin table 31 and the spin table 31. It is a side view of stage 31a.

【0066】成膜部40aは、スピンテーブル31と、
その上に設けられ、基板10を載置するスピンステージ
31aと、密閉用バー37と、蓋38とより構成され
る。
The film forming section 40a includes a spin table 31,
The spin stage 31a, which is provided thereon and on which the substrate 10 is placed, includes a sealing bar 37, and a lid 38.

【0067】尚、樹脂膜の成膜基板10は第1実施例と
同一の構成である。
The resin film forming substrate 10 has the same structure as that of the first embodiment.

【0068】第2実施例の密閉用バー37は、第1実施
例の密閉用バー27に欠切部37aを設けた構造となっ
ている。欠切部37aを密閉用バー27に設ける加工処
理は、図6に示すように、密閉用バー27を短冊上に欠
切し、切欠部と同じ大きさ及び形状に密閉用バー27の
一部を残し、更に高さ方向に切断して下半分を除去する
ものである。但し、密閉用バー37をスピンテーブル3
1上に固定するために数点のみ下部分の除去を行なわず
に残した。この密閉用バー37を第1の密閉用バー27
に対して第2の密閉用バーとする。
The sealing bar 37 of the second embodiment has a structure in which the sealing bar 27 of the first embodiment is provided with a cutout portion 37a. As shown in FIG. 6, the processing for providing the notch portion 37a on the sealing bar 27 is performed by cutting the sealing bar 27 on a strip so that the sealing bar 27 has the same size and shape as the notch portion. And the lower half is removed by cutting in the height direction. However, the sealing bar 37 is attached to the spin table 3
Only a few points were left without removal in order to fix them on 1. This sealing bar 37 is replaced with the first sealing bar 27.
To the second sealing bar.

【0069】密閉用バー37上に蓋36を乗せると、除
去されずに残った密閉用バー37の一部がが蓋26の下
面から下方に向けて突出する状態となる。
When the lid 36 is placed on the sealing bar 37, a part of the sealing bar 37 remaining without being removed is in a state of protruding downward from the lower surface of the lid 26.

【0070】スピナー装置3を用いて、第1実施例と同
様の手順で着色樹脂による樹脂膜の成膜を行なったとこ
ろ、上記密閉用バー37に欠切部分を設けたことによっ
て、基板10上に塗布された樹脂の一部が、スピンステ
ージ31aが高速回転する際に一部周囲に飛散しても、
飛散した樹脂は密閉用バー37に設けられた切欠部から
密閉用バー37の外部に排出される。このため、樹脂が
再び基板10上に落ちてくることは無くなった。
The spinner device 3 was used to form a resin film with a colored resin in the same procedure as in the first embodiment. Even if a part of the resin applied to is scattered around the periphery when the spin stage 31a rotates at high speed,
The scattered resin is discharged to the outside of the sealing bar 37 through the notch provided in the sealing bar 37. Therefore, the resin does not fall onto the substrate 10 again.

【0071】しかし、本実施例では密閉用バーに付着し
た樹脂が再び基板上へ落ちてきて膜質低下させるという
問題を解決できる反面、密閉用バー37が欠切部37a
を有するため成膜部40aと外気とは連通し成膜環境内
の大気は封入されず樹脂膜に気流の影響が生じる。従っ
て第2実施例の構成では、回転による気流の影響は第1
実施例のスピナー装置2に比べて増大する。
In the present embodiment, however, the problem that the resin adhered to the sealing bar drops onto the substrate again and deteriorates the film quality, while the sealing bar 37 has the cutout portion 37a.
Therefore, the film forming unit 40a communicates with the outside air, and the atmosphere in the film forming environment is not enclosed, and the resin film is affected by the air flow. Therefore, in the configuration of the second embodiment, the influence of the air flow due to the rotation is the first.
The number is increased as compared with the spinner device 2 of the embodiment.

【0072】更には、欠切部37aが高速回転する際に
新たな大気の気流を発生させ、これにより基板10の面
内で、樹脂が乾燥する速度が不均一になることにより樹
脂膜の膜厚に分布が生じるという新たな問題が起こる。
Furthermore, when the notch 37a rotates at a high speed, a new air flow of the atmosphere is generated, which makes the drying speed of the resin non-uniform within the surface of the substrate 10, thereby forming a film of the resin film. A new problem arises, where there is a thickness distribution.

【0073】そこで、第1実施例、第2実施例で生じた
問題を解決するために、請求項4記載の発明に相当す
る、第3実施例を実施した。
Therefore, in order to solve the problems occurring in the first and second embodiments, a third embodiment corresponding to the invention of claim 4 was implemented.

【0074】図1は第3実施例の概略構成図である。本
実施例のスピナー装置4においても、本実施例特有の効
果を生むのは成膜部50aであるから、第1実施例及び
第2実施例と同様に、成膜部50aの構成のみを図示す
ると共に説明する。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the third embodiment. Also in the spinner device 4 of the present embodiment, since the film forming section 50a produces the effect peculiar to the present embodiment, only the configuration of the film forming section 50a is shown as in the first and second embodiments. Will be explained.

【0075】図1(a)は成膜部50aのスピンステー
ジ41aと、スピンステージ41aを設けたスピンテー
ブル41を上面から見た図であり、図1(b)はスピン
テーブル41と、スピンステージ41aの側面図であ
る。
FIG. 1A is a top view of the spin stage 41a of the film forming unit 50a and the spin table 41 provided with the spin stage 41a, and FIG. 1B is the spin table 41 and the spin stage. 41a is a side view of FIG.

【0076】本実施例の要部を成す成膜部50aは、ス
ピンテーブル41と、スピンテーブル41上に配置さ
れ、基板を載置するスピンテーブル41aとより成り、
かつ第1の密閉用バー27と、第2の密閉用バー37を
スピンテーブル41上に配置する構成となっっている。
The film forming section 50a, which is an essential part of this embodiment, is composed of a spin table 41 and a spin table 41a which is arranged on the spin table 41 and on which a substrate is placed.
In addition, the first sealing bar 27 and the second sealing bar 37 are arranged on the spin table 41.

【0077】具体的には、先ずスピンテーブル41上の
スピンステージ41aの外周に第2実施例で述べた、欠
切部を設けた第2の密閉用バー37を配する。更にその
外周に第1実施例で述べた第1の密閉用バー27を設置
する。
Specifically, first, the second sealing bar 37 having the cutout portion described in the second embodiment is arranged on the outer periphery of the spin stage 41a on the spin table 41. Further, the first sealing bar 27 described in the first embodiment is installed on the outer periphery thereof.

【0078】更に蓋46を閉めると、スピンステージ4
1aとその上に載置される基板10を、蓋46と密閉用
バー37を設けたスピンテーブル41とが、囲繞する状
態となる。
When the lid 46 is further closed, the spin stage 4
The lid 1 and the spin table 41 provided with the sealing bar 37 surround the 1a and the substrate 10 placed thereon.

【0079】上記した成膜部50aを有するスピナー装
置4を用いて、第1実施例で述べた手順により、着色樹
脂膜の成膜を行なった。
Using the spinner device 4 having the film forming section 50a described above, a colored resin film was formed by the procedure described in the first embodiment.

【0080】この結果、スピンステージ41a上の回転
に伴い回転する基板10から飛散した着色樹脂は、密閉
用バー37の切欠部から出て、密閉用バー27の内壁に
付着する。しかし、密閉用バー27とスピンステージ4
1aの間に密閉用バー37があるため再び着色樹脂が密
閉用バー27の内壁から基板10上へ落ちるようなこと
は無い。よって基板面内で均一な膜厚の樹脂膜が成膜さ
れる。
As a result, the colored resin scattered from the substrate 10 rotating with the rotation of the spin stage 41a comes out from the notch of the sealing bar 37 and adheres to the inner wall of the sealing bar 27. However, the sealing bar 27 and the spin stage 4
Since the sealing bar 37 is provided between 1a, the colored resin does not drop from the inner wall of the sealing bar 27 onto the substrate 10 again. Therefore, a resin film having a uniform film thickness is formed on the surface of the substrate.

【0081】また、スピナー装置4で成膜した樹脂膜に
対しても膜厚の均一性を第1実施例同様、透過率によっ
て測定したが、図4に示した樹脂膜と同等の均一性を有
する膜を得ることができた。
Further, the uniformity of the film thickness of the resin film formed by the spinner device 4 was also measured by the transmittance as in the first embodiment, but the same uniformity as that of the resin film shown in FIG. 4 was obtained. It was possible to obtain a film having

【0082】ところで、密閉用バー27の内壁に付着す
る樹脂は、スピナー装置が処理する基板数に比例して蓄
積される。よって、一定の基板数を処理した後に密閉用
バー27を洗浄することが必要であるが、洗浄は装置の
稼働を停止させて行なう作業であるため、その頻度は少
ないほうがスループットの点で望ましい。
The resin attached to the inner wall of the sealing bar 27 is accumulated in proportion to the number of substrates processed by the spinner device. Therefore, it is necessary to clean the sealing bar 27 after processing a certain number of substrates, but since the cleaning is a work performed by stopping the operation of the apparatus, it is desirable that the frequency is low in terms of throughput.

【0083】よって、頻繁は洗浄を必要とせず、基板の
連続処理を可能にするために、第5実施例では、密閉用
バー27の外部に基板上から飛散した樹脂(廃液)の蓄
積機構を設けた第4実施例について述べる。
Therefore, in order to enable the continuous processing of the substrate without requiring frequent cleaning, in the fifth embodiment, a mechanism for accumulating the resin (waste liquid) scattered from the substrate is provided outside the sealing bar 27. The provided fourth embodiment will be described.

【0084】第4実施例は構請求項5記載の発明に対応
するものである。
The fourth embodiment corresponds to the invention described in claim 5.

【0085】本実施例のスピナー装置は、第3実施例記
載のスピナー装置4に廃液の蓄積機構として機能する廃
液槽51を設けたものである。よって図7に本実施例の
要部を成す廃液の蓄積機構の概略構成のみを示すものと
する。尚、第3実施例で示したスピナー装置4と同一の
構成部分には同一符号を付して、その説明を省略する。
In the spinner device of this embodiment, the spinner device 4 described in the third embodiment is provided with a waste liquid tank 51 which functions as a waste liquid storage mechanism. Therefore, FIG. 7 shows only the schematic configuration of the waste liquid accumulation mechanism that constitutes the essential part of this embodiment. The same components as those of the spinner device 4 shown in the third embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0086】廃液槽51は、スピンテーブル41上の密
閉用バー47と密閉用バー37との間に設けられた溝で
ある。基板10上から飛散した樹脂は密閉用バー47の
欠切部から出て、密閉用バー37の内壁、或いは蓋46
の密閉用バー47から外部に付着する。その後再び落ち
てくる際に廃液槽51上に落ちてきて蓄積される。
The waste liquid tank 51 is a groove provided between the sealing bar 47 and the sealing bar 37 on the spin table 41. The resin scattered from the substrate 10 comes out from the cutout portion of the sealing bar 47, and then the inner wall of the sealing bar 37 or the lid 46.
The sealing bar 47 attaches to the outside. After that, when it falls again, it falls on the waste liquid tank 51 and is accumulated.

【0087】樹脂が廃液槽51の許容量内に在るうち
は、基板を連続処理することが可能である。
As long as the resin is within the allowable amount of the waste liquid tank 51, the substrate can be continuously processed.

【0088】本実施例では第4実施例のスピナー装置4
の連続処理量を増加することが可能であるが、その連続
処理量は廃液槽51の許容量で制限される。
In this embodiment, the spinner device 4 of the fourth embodiment is used.
The continuous treatment amount can be increased, but the continuous treatment amount is limited by the allowable amount of the waste liquid tank 51.

【0089】よって、廃液の蓄積許容量に係わらずスピ
ナー装置を連続稼働させるために第5実施例を実施し
た。
Therefore, the fifth embodiment was carried out in order to continuously operate the spinner device regardless of the allowable accumulation amount of the waste liquid.

【0090】本実施例は、請求項6記載の発明に相当す
るものであり、第3実施例のスピナー装置4に対して、
密閉用バー47と密閉用バー37との間の領域のスピン
テーブル41内部に廃液排出機構52を設けたことを特
徴とするものである。
This embodiment corresponds to the invention described in claim 6, and is different from the spinner device 4 of the third embodiment in that
The waste liquid discharge mechanism 52 is provided inside the spin table 41 in a region between the sealing bar 47 and the sealing bar 37.

【0091】図8は廃液の排出機構52の構成について
本実施例の要部を示す概略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a main part of this embodiment regarding the configuration of the waste liquid discharge mechanism 52.

【0092】基板10上から飛散した樹脂は密閉用バー
47の欠切部から出て、密閉用バー37の内壁、或いは
蓋46の密閉用バー47から外部に付着する。その後再
び落ちてくる際に廃液流出機構52上に落ち、スピンテ
ーブル41の内部を通って装置に接続した廃液のライン
を介して、装置外部へ排出される。
The resin scattered from the substrate 10 comes out from the notch of the sealing bar 47 and adheres to the outside from the inner wall of the sealing bar 37 or the sealing bar 47 of the lid 46. Then, when it falls again, it falls onto the waste liquid outflow mechanism 52 and is discharged to the outside of the device through the line of the waste liquid passing through the inside of the spin table 41 and connected to the device.

【0093】本実施例では、廃液の蓄積許容量に依らず
スピナー装置4による連続処理を行なうことが可能であ
る。
In this embodiment, continuous processing by the spinner device 4 can be performed regardless of the allowable accumulation amount of waste liquid.

【0094】ところで、図4に示した膜厚分布図につい
てもう一度注目すると、基板中央部に対して周辺部が厚
膜化することによって生じる樹脂膜厚の不均一性は解決
されている。しかし、中央部に透過率の低下する領域、
つまり膜厚が厚くなっている領域があることも確認され
る。
By the way, once again paying attention to the film thickness distribution chart shown in FIG. 4, the nonuniformity of the resin film thickness caused by the thickening of the peripheral portion with respect to the central portion of the substrate is solved. However, in the central area, where the transmittance decreases,
That is, it is confirmed that there is a region where the film thickness is thick.

【0095】上記の結果は、図3中、モーター22で発
生する熱が、成膜部30aとモーター22をつなぐ軸2
4を介して伝わって、モーター22の軸24近辺が他に
くらべて高温になるという温度分布を基板10に生じさ
せるため高温部分の樹脂の乾燥が早まって厚膜化するこ
とによって起こるものである。
The above results indicate that the heat generated by the motor 22 in FIG. 3 causes the shaft 2 connecting the film forming unit 30a and the motor 22 to rotate.
The temperature distribution is generated in the substrate 10 such that the temperature around the shaft 24 of the motor 22 becomes higher than that of the other parts, which is caused by the rapid drying of the resin in the high temperature portion and the thickening of the resin. .

【0096】よって、以下に中央部分の厚膜化を解決す
るために行なった実施例について順次述べる。
Therefore, the examples carried out for solving the thickening of the central portion will be described below.

【0097】中央部分の厚膜化は、モーターを稼働させ
ることで発生した熱が、スピンテーブル、及びスピンス
テージ、更にはその上に載置された基板面に伝って樹脂
の乾燥時間に分布を生じさせることによって起こる。従
ってこの問題を解決するにはモーターで発生した熱が基
板に及ばないような手段を用いることで解決できる。
In order to increase the thickness of the central portion, the heat generated by operating the motor is transferred to the spin table, the spin stage, and the substrate surface placed on the spin table, so that the drying time of the resin is distributed. It happens by giving birth. Therefore, in order to solve this problem, it is possible to solve the problem by using a means such that the heat generated by the motor does not reach the substrate.

【0098】その一手段として、第6実施例を挙げ、以
下に述べる。
As one of the means, a sixth embodiment will be given and described below.

【0099】本実施例は、請求項9記載の発明に相当す
るものである。
The present embodiment corresponds to the invention described in claim 9.

【0100】図9は第6実施例のスピナー装置の要部の
概略構成図である。
FIG. 9 is a schematic view of the essential parts of a spinner device according to the sixth embodiment.

【0101】(a)は本実施例の冷却手段の側面図であ
り、図8(b)は図8(a)中のA−A線に沿う矢視図
である。いずれもスピンステージ111aの下部に配し
たスピンテーブル111を軸114が支持し、その他端
にはモーターが接続されている。放熱板61は、軸11
4に取り付けられて、軸114から伝わる熱によって加
熱される。しかし、放熱板61は大気に晒される表面積
が大きいために伝えられてきた熱を効率的に放熱する。
FIG. 8A is a side view of the cooling means of this embodiment, and FIG. 8B is a view taken along the line AA in FIG. 8A. In each case, a shaft 114 supports a spin table 111 arranged below the spin stage 111a, and a motor is connected to the other end. The heat dissipation plate 61 has a shaft 11
4 and is heated by the heat transmitted from the shaft 114. However, since the heat radiation plate 61 has a large surface area exposed to the atmosphere, the heat transmitted is efficiently radiated.

【0102】しかも複数枚配設されていることから、熱
はスピンテーブル111に達することなくモーターで発
生した熱が放熱されることにより失われ、基板10に熱
の影響が及ばないようになるため、基板10面内の温度
は均一であり樹脂の乾燥時間も一様であるから均一な膜
厚の樹脂膜を成膜することができる。
Further, since a plurality of sheets are arranged, the heat generated by the motor does not reach the spin table 111 and is lost by being radiated, so that the substrate 10 is not affected by the heat. Since the temperature within the surface of the substrate 10 is uniform and the drying time of the resin is uniform, it is possible to form a resin film having a uniform film thickness.

【0103】上記した効果を実証するため図2に第3実
施例記載のスピナー装置4に本実施例の放熱板61を取
り付けてる構成のスピナー装置5を用いて、第1実施例
と同様の手段で着色樹脂膜の成膜を行なった。スピナー
装置5で成膜した樹脂膜に対して透過率の分布を測定し
膜厚の均一性を評価した。
In order to demonstrate the above effects, the same means as in the first embodiment is used by using the spinner device 5 in which the heat dissipation plate 61 of this embodiment is attached to the spinner device 4 described in the third embodiment in FIG. Then, a colored resin film was formed. The uniformity of the film thickness was evaluated by measuring the distribution of transmittance of the resin film formed by the spinner device 5.

【0104】この結果を図2に示す。透過率は基板10
の中心においても、周辺においても均一であった。
The results are shown in FIG. Substrate 10
It was uniform both in the center and in the periphery.

【0105】これは、周辺部の厚膜化をスピナー装置4
の構成の密閉用バーが防止し、かつ本実施例による放熱
板が、モーターの熱によって起こる中央部分の厚膜化を
防止したことで達成されたものである。
This is to increase the thickness of the peripheral portion of the spinner device 4.
This is achieved by the prevention of the sealing bar having the above constitution and the prevention of the thickening of the central portion caused by the heat of the motor by the heat radiating plate according to the present embodiment.

【0106】即ち、スピナー装置4に放熱機構を設けた
本実施例のスピナー装置は、乾燥時間の差によって生じ
る膜厚の不均一性と、温度差によって生じる膜厚の不均
一性の両方を解決することが可能であることが分かっ
た。
That is, the spinner device of the present embodiment in which the spinner device 4 is provided with a heat dissipation mechanism solves both the non-uniformity of the film thickness caused by the difference in drying time and the non-uniformity of the film thickness caused by the temperature difference. It turns out that it is possible to do.

【0107】また、放熱板をスピンテーブル下部に設け
て、中央部分の厚膜化を抑制する第7実施例について述
べる。
A seventh embodiment will be described in which a heat radiating plate is provided below the spin table to suppress thickening of the central portion.

【0108】本実施例は、請求項10に相当するもので
ある。
The present embodiment corresponds to claim 10.

【0109】図10は第7実施例のスピナー装置6の要
部の概略構成図である。
FIG. 10 is a schematic diagram of the essential parts of the spinner device 6 of the seventh embodiment.

【0110】図10(a)は本実施例の放熱板の側面図
であり、図10(b)は図10(a)中のB−B線に沿
う矢視図である。
FIG. 10A is a side view of the heat dissipation plate of this embodiment, and FIG. 10B is a view taken along the line BB in FIG. 10A.

【0111】スピンステージ111aの下部に配したス
ピンテーブル111を軸14が支持し、その他端にはモ
ーターが接続されている。
A shaft 14 supports a spin table 111 arranged below the spin stage 111a, and a motor is connected to the other end.

【0112】スピナー装置6は、スピナー装置4に本実
施例の冷却機構62を取り付けてなる構成であり、これ
を用いて、第1実施例と同様の手段で着色樹脂膜の成膜
を行なった。
The spinner device 6 is constructed by attaching the cooling mechanism 62 of this embodiment to the spinner device 4, and using this, the colored resin film is formed by the same means as in the first embodiment. .

【0113】軸114がモーターから伝える熱は、スピ
ンテーブル111に伝わる前に放熱板62に伝えられ
る。放熱板62は形状が同心円状であるために、その表
面積が広く、大気に接触する部分が大きいために、軸1
14の熱を効率良く放熱するからモーターで発生する熱
は、スピンテーブル111に伝わる前に失われ、成膜温
度に影響を及ぼすことが無い。
The heat transmitted from the motor to the shaft 114 is transmitted to the heat dissipation plate 62 before being transmitted to the spin table 111. Since the heat radiating plate 62 is concentric in shape, it has a large surface area and a large portion in contact with the atmosphere.
Since the heat of 14 is efficiently radiated, the heat generated by the motor is lost before being transmitted to the spin table 111, and does not affect the film forming temperature.

【0114】従ってスピナー装置6で成膜した樹脂膜の
均一性は先の第6実施例記載の、スピナー装置5によっ
て成膜した樹脂膜と等価であった。
Therefore, the uniformity of the resin film formed by the spinner device 6 was equivalent to that of the resin film formed by the spinner device 5 described in the sixth embodiment.

【0115】また、放熱板62の同心円状の形状は、ス
ピンテーブル111に伴って高速の回転を行なう際にも
バランスが良く、スムーズに回転できる利点も有する。
Further, the concentric circular shape of the heat dissipation plate 62 has an advantage that it is well balanced even when the spin table 111 is rotated at a high speed and can be smoothly rotated.

【0116】次に、モーターで発生する熱をスピンステ
ージ上の基板下部の大気を、吸引す機構によって冷却す
る空冷機構を用いて、中央部分の厚膜化を抑制する第8
実施例について述べる。 本実施例は、請求項11に相
当するものである。
Next, using an air-cooling mechanism that cools the heat generated by the motor to the atmosphere below the substrate on the spin stage by a mechanism that sucks it, the eighth step of suppressing thickening of the film
Examples will be described. The present embodiment corresponds to claim 11.

【0117】図11は第8実施例の概略構成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram of the eighth embodiment.

【0118】図11(a)は本実施例の空冷手機構上面
図であり、図11(b)はその側面図である。スピンス
テージ111aの下部に配したスピンテーブル111を
軸114が支持し、その他端にはモーターが接続されて
いる。63は、スピンステージ111a上に設けた多数
の孔であり、軸114内部の空洞部分64につながっ
て、空洞部分64の他端には真空装置が接続されてい
る。
FIG. 11 (a) is a top view of the air-cooling mechanism of this embodiment, and FIG. 11 (b) is a side view thereof. A shaft 114 supports a spin table 111 arranged below the spin stage 111a, and a motor is connected to the other end. Reference numeral 63 denotes a large number of holes provided on the spin stage 111a, which are connected to the hollow portion 64 inside the shaft 114, and a vacuum device is connected to the other end of the hollow portion 64.

【0119】モーターで発生した熱は、軸114、スピ
ンテーブル111、スピンステージ111aと伝わっ
て、基板を裏面から加熱する。
The heat generated by the motor is transmitted to the shaft 114, the spin table 111 and the spin stage 111a to heat the substrate from the back surface.

【0120】本実施例の空冷機構63は、基板をスピン
ステージ111a上に乗せた際に、大気が絶えず基板の
裏面に流入するよう構成されており、基板裏面の熱を低
い温度の大気が冷却し、冷却したことで温められた大気
は軸114内部の空洞部64中へ真空装置によって吸引
されて再び戻ってこない。
The air-cooling mechanism 63 of this embodiment is constructed so that when the substrate is placed on the spin stage 111a, the atmosphere constantly flows into the back surface of the substrate, and the heat of the back surface of the substrate is cooled by the low temperature atmosphere. However, the atmosphere warmed by cooling is sucked into the cavity 64 inside the shaft 114 by the vacuum device and does not return again.

【0121】大気の吸引は成膜中常に行なわれているの
で絶えず低温の大気が基板の裏面を冷却し、基板表面の
温度は前領域一定に保たれる。
Since the atmospheric air is constantly sucked during film formation, the low temperature atmosphere constantly cools the back surface of the substrate, and the temperature of the substrate surface is kept constant in the front region.

【0122】本実施例の空冷機構63を第3実施例のス
ピナー装置4に組み合わせて樹脂膜を成膜して、その透
過率の分布を評価した。この結果、先の第6実施例及び
第6実施例で得られた樹脂膜の均一性と等価である膜が
成膜された。
The air cooling mechanism 63 of this embodiment was combined with the spinner device 4 of the third embodiment to form a resin film, and the distribution of its transmittance was evaluated. As a result, a film equivalent to the uniformity of the resin films obtained in the sixth and sixth examples was formed.

【0123】また、基板表面の温度を一定に保つ別の方
法として、スピンステージ下部のスピンテーブル下部に
温度の制御が可能なホットプレートを設ける構成とした
第9実施例について述べる。
As another method for keeping the temperature of the substrate surface constant, a ninth embodiment will be described in which a hot plate whose temperature can be controlled is provided under the spin table under the spin stage.

【0124】本実施例は、請求項12に対応するもので
ある。
The present embodiment corresponds to claim 12.

【0125】図12は第9実施例の概略構成図の側面図
である。
FIG. 12 is a side view of the schematic construction of the ninth embodiment.

【0126】スピンステージ111aの下部に配したス
ピンテーブル111を軸114が支持し、その他端には
モーターが接続されている。65は、スピンテーブル1
11下部に設けたホットプレートであり、所望の温度に
設定することで基板上の温度分布を打ち消すことが可能
である。
A shaft 114 supports a spin table 111 arranged below the spin stage 111a, and a motor is connected to the other end. 65 is the spin table 1
11 is a hot plate provided in the lower part, and it is possible to cancel the temperature distribution on the substrate by setting a desired temperature.

【0127】本実施例の冷却機構65も第3実施例のス
ピナー装置4に組み合わせたスピナー装置8で樹脂膜を
成膜して、その透過率の分布を評価した結果、先の第6
実施例乃至、第8実施例で得られた樹脂膜の均一性と等
価である膜が成膜された。また、ホットプレート65に
温度を所望の値に制御する機能があるので、本実施例で
は樹脂の成膜温度を制御することが可能であることによ
り、膜質、或いはスループットの点で望ましい温度を設
定できるという利点も付与された。
Also in the cooling mechanism 65 of this embodiment, a resin film is formed by the spinner device 8 combined with the spinner device 4 of the third embodiment, and the transmittance distribution is evaluated.
A film equivalent to the uniformity of the resin film obtained in each of Examples 8 to 8 was formed. Further, since the hot plate 65 has a function of controlling the temperature to a desired value, it is possible to control the film forming temperature of the resin in the present embodiment, so that a desirable temperature is set in terms of film quality or throughput. It also has the advantage of being able to do so.

【0128】尚、第6乃至、第9実施例の放熱、或いは
冷却機構を取り付ける本体となるスナー装置は、スピナ
ーが軸によりモーターと接続する構成であればいずれの
装置にも適用可能である。
The snner device as the main body to which the heat dissipation or cooling mechanism of the sixth to ninth embodiments is attached can be applied to any device as long as the spinner is connected to the motor by the shaft.

【0129】[0129]

【発明の効果】請求項1及び2の発明により、基板周辺
部の厚膜化を抑制して、均一な膜厚、及び透過率を有す
る高品質な樹脂膜を提供することができる。
According to the first and second aspects of the present invention, it is possible to provide a high-quality resin film having a uniform film thickness and a high transmittance while suppressing an increase in the film thickness in the peripheral portion of the substrate.

【0130】請求項3の発明により、成膜される樹脂膜
が、容器の内壁から落ちる樹脂に損なわれずに、均一な
膜厚及び透過率を有する高品質な樹脂膜を提供すること
ができる。
According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a high-quality resin film having a uniform film thickness and transmittance, without the resin film deposited being damaged by the resin falling from the inner wall of the container.

【0131】請求項4の発明により、成膜される樹脂膜
が、気流にも、容器内壁に付着する樹脂にも損なわれる
こと無く、均一な膜厚、及び透過率を有する高品質な樹
脂膜を提供することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the resin film to be formed is a high quality resin film having a uniform film thickness and transmittance without being damaged by the air flow or the resin adhering to the inner wall of the container. Can be provided.

【0132】請求項5の発明により、スピナー装置の連
続処理量を増化することが可能となる。
According to the invention of claim 5, it is possible to increase the continuous processing amount of the spinner device.

【0133】請求項6の発明により、請求項5記載の発
明に比較して更なる連続処理量の増加が可能となる。
According to the invention of claim 6, it is possible to further increase the continuous processing amount as compared with the invention of claim 5.

【0134】請求項7乃至、12の発明により、基板中
央部の厚膜化を抑制して、均一な膜厚及び透過率の樹脂
膜を提供することができる。
According to the seventh to the twelfth aspects of the present invention, it is possible to provide a resin film having a uniform film thickness and a uniform transmittance while suppressing an increase in the film thickness in the central portion of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第3実施例の成膜部を示す概略構成図
であり、(a)は上面図、(b)は側面図である。
1A and 1B are schematic configuration diagrams showing a film forming unit of a third embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a top view and FIG. 1B is a side view.

【図2】第6乃至、第9実施例のスピナー装置に本発明
第3実施例のスピナー装置の密閉用バーを設けたスピナ
ー装置で成膜した樹脂膜の透過率の分布図である。
FIG. 2 is a distribution diagram of the transmittance of a resin film formed by the spinner device in which the spinner devices of the sixth to ninth embodiments are provided with the sealing bar of the spinner device of the third embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施例の概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施例の成膜部を示す概略構成図
であり、(a)は上面図、(b)は側面図である。
4A and 4B are schematic configuration diagrams showing a film forming unit of a first embodiment of the present invention, FIG. 4A is a top view and FIG. 4B is a side view.

【図5】本発明の第1実施例のスピナー装置で成膜した
樹脂膜の透過率の分布図である
FIG. 5 is a distribution diagram of transmittance of a resin film formed by the spinner device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施例の成膜部を示す概略構成図
であり、(a)は上面図、(b)は側面図である。
6A and 6B are schematic configuration diagrams showing a film forming unit of a second embodiment of the present invention, FIG. 6A is a top view and FIG. 6B is a side view.

【図7】本発明の第4実施例のスピナー装置の廃液槽を
示す側面図である。
FIG. 7 is a side view showing a waste liquid tank of a spinner device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5実施例のスピナー装置の廃液流出
機構を示す側面図である。
FIG. 8 is a side view showing a waste liquid outflow mechanism of a spinner device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第6実施例のスピナー装置の放熱機構
の概略構成図であり、(a)は側面図、(b)は上面図
である。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a heat dissipation mechanism of a spinner device according to a sixth embodiment of the present invention, (a) is a side view and (b) is a top view.

【図10】本発明の第7実施例のスピナー装置の別の放
熱機構の概略構成図であり、(a)は側面図、(b)は
上面図である。
10A and 10B are schematic configuration diagrams of another heat dissipation mechanism of the spinner device according to the seventh embodiment of the present invention, FIG. 10A being a side view and FIG. 10B being a top view.

【図11】本発明の第8実施例のスピナー装置の空冷機
構の概略構成図であり、(a)は上面図、(b)は側面
図である。
11A and 11B are schematic configuration diagrams of an air cooling mechanism of a spinner device according to an eighth embodiment of the present invention, in which FIG. 11A is a top view and FIG. 11B is a side view.

【図12】本発明の第9実施例のスピナー装置のホット
プレートの概略構成図である。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a hot plate of a spinner device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図13】従来のスピナー装置の概略構成図である。FIG. 13 is a schematic configuration diagram of a conventional spinner device.

【図14】従来のスピナー装置の成膜部を示す概略構成
図であり、(a)は上面図、(b)は側面図である。
14A and 14B are schematic configuration diagrams showing a film forming unit of a conventional spinner device, in which FIG. 14A is a top view and FIG. 14B is a side view.

【図15】従来のスピナー装置で成膜した樹脂膜の透過
率の分布図である。
FIG. 15 is a transmittance distribution diagram of a resin film formed by a conventional spinner device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 従来のスピナー装置 2、3、4、5、6、7、8 本発明によるスピナー装
置 10 基板 11、21、31、41、111 スピンテーブル 11a、21a、31a、41a、111a スピンス
テージ 12 モーター 13、23、33、43 チャンバー 14、114 軸 17、27、37、47 密閉用バー 18、28、38、48 蓋 20a、30a、40a、50a 成膜部 61 放熱板 62 放熱板 63 空冷用孔 64 空冷用空洞部分 65 ホットプレート
1 Conventional Spinner Device 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 Spinner Device According to the Present Invention 10 Substrate 11, 21, 31, 41, 111 Spin Table 11a, 21a, 31a, 41a, 111a Spin Stage 12 Motor 13 , 23, 33, 43 chambers 14, 114 shafts 17, 27, 37, 47 sealing bars 18, 28, 38, 48 lids 20a, 30a, 40a, 50a film forming section 61 heat sink 62 heat sink 63 air cooling hole 64 Air cooling cavity 65 Hot plate

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 モーターに接続されて回転するスピンテ
ーブルと、 該スピンテーブル上に設けられて該スピンテーブルと共
に回転すると共に、成膜材料を表面に滴下されて被膜形
成される基板が載置されるスピンステージと、 該スピンテーブル上に配設され、該スピンステージ上に
載置された該基板を囲繞する容器とを具備することを特
徴とするスピナー装置。
1. A spin table which is connected to a motor and rotates, and a substrate which is provided on the spin table and rotates together with the spin table and on which a film-forming material is dropped onto the surface to form a film is placed. A spinner device comprising: a spin stage; and a container disposed on the spin table and surrounding the substrate mounted on the spin stage.
【請求項2】 該容器を、 該スピンステージを囲繞するよう配設された枠形状を有
する密閉用バーと、 該密閉用バー上部に配設される蓋とにより構成したこと
を特徴とする請求項1記載のスピナー装置。
2. The container is constituted by a sealing bar having a frame shape arranged so as to surround the spin stage, and a lid arranged above the sealing bar. Item 1. The spinner device according to item 1.
【請求項3】 該密閉用バーに、 該基板から飛散した該成膜材料を該容器外に排出する欠
切部を設けたことを特徴とする請求項2記載のスピナー
装置。
3. The spinner device according to claim 2, wherein the sealing bar is provided with a cutout portion for discharging the film forming material scattered from the substrate to the outside of the container.
【請求項4】 該容器を、 該スピンステージを囲繞するよう配設されると共に、該
基板から飛散した該成膜材料を外部に排出する切欠部が
形成された枠形状を有する第1の密閉用バーと、 該第1の密閉用バーを囲繞するよう配設された枠形状を
有する第2の密閉用バーと、 該第1及び第2の密閉用バーの上部に配設される蓋とに
より構成したことを特徴とする請求項1記載のスピナー
装置。
4. A first hermetic seal having a frame shape in which the container is arranged so as to surround the spin stage, and a cutout portion for discharging the film forming material scattered from the substrate to the outside is formed. Bar, a second sealing bar having a frame shape arranged so as to surround the first sealing bar, and a lid arranged on top of the first and second sealing bars. The spinner device according to claim 1, wherein
【請求項5】 該スピンテーブル上の該切欠部を有する
密閉用バーの外部に、該切欠部を介して該第1の密閉用
バーの外部に漏洩した該成膜材料を貯留する廃液槽を設
けたことを特徴とする請求項4記載のスピナー装置。
5. A waste liquid tank for storing the film forming material leaked to the outside of the first sealing bar through the cutout, outside the sealing bar having the cutout on the spin table. The spinner device according to claim 4, wherein the spinner device is provided.
【請求項6】 該スピンテーブル上の該切欠部を有する
密閉用バーの外部に、該切欠部を介して該第1の密閉用
バーの外部に漏洩した該成膜材料を該スピンテーブルの
外部に排出する排出機構を設けたことを特徴とする請求
項4記載のスピナー装置。
6. The film forming material leaked to the outside of the sealing bar having the cutout portion on the spin table and to the outside of the first sealing bar via the cutout portion, to the outside of the spin table. The spinner device according to claim 4, further comprising:
【請求項7】 モーターに接続されて回転するスピンテ
ーブルと、 基板を載置し、かつ該スピンテーブル上に設けられて該
スピンテーブルと共に回転するスピンステージと、 該スピンテーブルと該スピンステージ間を接続する軸
と、 該スピンステージ上の温度を均一化する温度均一化手段
とを具備することを特徴とするスピナー装置。
7. A spin table connected to a motor to rotate, a spin stage on which a substrate is placed, and which is provided on the spin table and rotates together with the spin table, and between the spin table and the spin stage. A spinner device comprising a connecting shaft and a temperature equalizing means for equalizing the temperature on the spin stage.
【請求項8】 該温度均一化手段を、放熱フィンにより
構成したことを特徴とする請求項7記載のスピナー装
置。
8. The spinner device according to claim 7, wherein the temperature equalizing means is constituted by a radiation fin.
【請求項9】 該放熱フィンを、該軸部に設けたことを
特徴とする請求項8のスピナー装置。
9. The spinner device according to claim 8, wherein the radiating fin is provided on the shaft portion.
【請求項10】 該放熱フィンを該スピンテーブルに設
けたことを特徴とする請求項8のスピナー装置。
10. The spinner device according to claim 8, wherein the radiation fin is provided on the spin table.
【請求項11】 該温度均一化手段を、該スピンステー
ジに配設され大気を吸引する吸引機構により構成し、 該吸引機構により発生する気流の通路が該基板の裏面に
位置するよう設定することにより、該気流により該基板
を冷却する構成としたことを特徴とする請求項7のスピ
ナー装置。
11. The temperature equalizing means is composed of a suction mechanism arranged on the spin stage for sucking air, and the passage of the air flow generated by the suction mechanism is set to be located on the back surface of the substrate. 8. The spinner device according to claim 7, wherein the substrate is cooled by the air flow.
【請求項12】 該温度均一化手段を、該スピンテーブ
ルに配設され該スピンステージ表面の温度を制御するホ
ットプレートにより構成したことを特徴とする請求項7
のスピナー装置。
12. The temperature equalizing means is constituted by a hot plate disposed on the spin table for controlling the temperature of the surface of the spin stage.
Spinner device.
JP6219293A 1994-09-13 1994-09-13 Spinner device Withdrawn JPH0880468A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005063573A (en) * 2003-08-14 2005-03-10 Sony Corp Manufacturing method of optical disk medium
JP2007010845A (en) * 2005-06-29 2007-01-18 Toppan Printing Co Ltd Pixel forming method and color filter

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