JPH0878365A - Dicing apparatus - Google Patents

Dicing apparatus

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Publication number
JPH0878365A
JPH0878365A JP21439094A JP21439094A JPH0878365A JP H0878365 A JPH0878365 A JP H0878365A JP 21439094 A JP21439094 A JP 21439094A JP 21439094 A JP21439094 A JP 21439094A JP H0878365 A JPH0878365 A JP H0878365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dicing
blade
stage
cutting
wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP21439094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisaaki Yamashita
尚昭 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP21439094A priority Critical patent/JPH0878365A/en
Publication of JPH0878365A publication Critical patent/JPH0878365A/en
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Abstract

PURPOSE: To provide a dicing apparatus which realizes a full automated system. CONSTITUTION: The apparatus comprises a blade 2 to cut a wafer 1, a rotary shaft 4 on which the blade 2 is mounted through a flange 3, a stage 5 provided with a wafer support face 5a movable at cutting of the wafer 1 and horizontal in its moving direction 14, and a dicing speed controller 6 which automatically changes the feed rate of the stage 5 according to an input data 7 corresponding to the number of cutting lines on the wafer 1. The data 7 is previously applied before dicing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造技術におけ
るダイシング装置に関し、特に半導体ウェハ(以降、単
にウェハという)を載置するステージの送り速度を自動
制御する技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing apparatus in semiconductor manufacturing technology, and more particularly to a technology for automatically controlling a feed speed of a stage on which a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) is placed.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The techniques described below are for studying the present invention,
The present invention was studied by the present inventors upon completion, and its outline is as follows.

【0003】ダイシング装置においては、ウェハを切断
するブレードを交換する際、ブレードの表面を均一にす
るためにダミーウェハなどを用いて予めプリカットを行
うか、または、ダイシング速度を決めるステージの送り
速度を遅くして、ウェハの切断を行っている。
In the dicing apparatus, when the blade for cutting the wafer is replaced, precutting is performed in advance by using a dummy wafer or the like in order to make the surface of the blade uniform, or the feed speed of the stage for determining the dicing speed is slowed down. Then, the wafer is cut.

【0004】なお、ダイシング技術については、例え
ば、サイエンスフォーラム社発行「最新半導体工場自動
化システム」昭和59年7月25日発行、134頁〜1
36頁に記載され、また、ダイシング装置のプリカット
については、例えば、株式会社ディスコ社、昭和60年
7月発行「全自動ダイシングソーDFD−2HSTI取
扱説明書」のC−23頁に記載されている。
Regarding the dicing technology, for example, "Latest semiconductor factory automation system" issued by Science Forum Co., July 25, 1984, pages 134 to 1
The precut of the dicing machine is described on page 36, and is described, for example, on page C-23 of "Fully Automatic Dicing Saw DFD-2HSTI Instruction Manual" issued by Disco Co., Ltd. in July, 1985. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術においては、ダイシング工程の自動化を図るに際し、
ブレード交換後のプリカットなどの付帯作業が完全自動
化への妨げになっている。
However, in the above-mentioned technique, when attempting to automate the dicing process,
Pre-cut and other incidental work after the blade replacement is an obstacle to full automation.

【0006】そこで、本発明の目的は、完全自動化を実
現するダイシング装置を提供することである。
[0006] Therefore, an object of the present invention is to provide a dicing device which realizes complete automation.

【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Of the inventions disclosed in the present application, a representative one will be briefly described below.
It is as follows.

【0009】すなわち、本発明によるダイシング装置
は、ウェハを切断するブレードと、前記ブレードが取り
付けられる回転軸と、ウェハの切断時に移動しかつ移動
方向に水平な該ウェハの載置面が設置されたステージ
と、前記ステージの送り速度を自動的に変えるダイシン
グ速度制御手段とを有するものである。
That is, the dicing apparatus according to the present invention is provided with a blade for cutting a wafer, a rotary shaft to which the blade is attached, and a mounting surface for the wafer which is movable when the wafer is cut and is horizontal in the moving direction. It has a stage and a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage.

【0010】また、ウェハを切断するブレードと、前記
ブレードが取り付けられる回転軸と、ウェハの切断時に
移動しかつ移動方向に水平な該ウェハの載置面が設置さ
れたステージと、前記ウェハ上におけるカッティングラ
インの切断本数に対応した前記ステージの送り速度の入
力データに基づいて該ステージの送り速度を自動的に変
えるダイシング速度制御手段とを有するものである。
Further, a blade for cutting the wafer, a rotating shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the wafer which moves during cutting of the wafer and is horizontal in the moving direction is installed, and on the wafer And a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the input data of the feed speed of the stage corresponding to the number of cutting lines.

【0011】さらに、ウェハを切断するブレードと、前
記ブレードが取り付けられる回転軸と、ウェハの切断時
に移動しかつ移動方向に水平な該ウェハの載置面が設置
されたステージと、前記回転軸に設置されかつ前記ブレ
ードの回転数を計測する回転計と、前記回転計によって
計測された計測値に基づいて前記ステージの送り速度を
自動的に変えるダイシング速度制御手段とを有するもの
である。
Further, a blade for cutting the wafer, a rotary shaft to which the blade is attached, a stage on which a wafer mounting surface that moves during cutting of the wafer and is horizontal in the moving direction is installed, and the rotary shaft It has a tachometer that is installed and measures the number of revolutions of the blade, and a dicing speed control means that automatically changes the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the tachometer.

【0012】また、ウェハを切断するブレードと、前記
ブレードが取り付けられる回転軸と、ウェハの切断時に
移動しかつ移動方向に水平な該ウェハの載置面が設置さ
れたステージと、ウェハの切断直後のカッティング幅を
計測するモニタ手段と、前記モニタ手段によって計測さ
れた計測値に基づいて前記ステージの送り速度を自動的
に変えるダイシング速度制御手段とを有するものであ
る。
Further, a blade for cutting the wafer, a rotary shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the wafer which is movable during the cutting of the wafer and is horizontal in the moving direction is installed, and immediately after the cutting of the wafer And a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the monitoring means.

【0013】[0013]

【作用】上記した手段によれば、ウェハを載置しかつ該
ウェハの切断時に移動するステージの送り速度を自動的
に変えるダイシング速度制御手段を有することにより、
ウェハの切断時のブレードの状態あるいはその切断結果
に対応して前記ステージの送り速度を自動的に変えるこ
とができる。
According to the above means, by having the dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage on which the wafer is placed and which moves when the wafer is cut,
The feed rate of the stage can be automatically changed according to the state of the blade at the time of cutting the wafer or the cutting result.

【0014】ここで、ウェハ上におけるカッティングラ
インの切断本数に対応したステージの送り速度の入力デ
ータに基づいて該ステージの送り速度を自動的に変える
ダイシング速度制御手段を有することによって、新しい
ブレードの使用開始時から該ブレードの交換までのカッ
ティングラインの本数に対応したステージの送り速度の
データを入力することにより、前記カッティングライン
の本数に合わせてダイシング速度を自動的に変えること
ができる。
Here, by using a new blade by having a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the input data of the feed speed of the stage corresponding to the number of cutting lines on the wafer. By inputting the data of the stage feed speed corresponding to the number of cutting lines from the start to the replacement of the blade, the dicing speed can be automatically changed according to the number of cutting lines.

【0015】これによって、ブレード交換後のプリカッ
ト作業を廃止し、また、その付帯作業を低減することが
できるため、その結果、ダイシング工程の完全自動化が
可能になる。
As a result, the pre-cutting work after the blade replacement can be eliminated and the additional work can be reduced, and as a result, the dicing process can be fully automated.

【0016】また、ブレードの回転軸に設置されかつ該
ブレードの回転数を計測する回転計と、該回転計によっ
て計測された計測値に基づいてステージの送り速度を自
動的に変えるダイシング速度制御手段とを有することに
よって、ダイシング中にブレードにかかる負荷が大きく
なった時(ブレードの回転数が小さくなった時)には、
ステージの送り速度を遅くすることができる。
Further, a tachometer installed on the rotating shaft of the blade and measuring the number of revolutions of the blade, and a dicing speed control means for automatically changing the stage feed speed based on the measurement value measured by the tachometer. By having, when the load applied to the blade during dicing becomes large (when the rotational speed of the blade becomes small),
The stage feed speed can be slowed down.

【0017】これによって、ダイシング中にブレードに
かかる負荷を常時一定にすることができるため、ダイシ
ングの状態を安定させることが可能になり、その結果、
高品質のダイシングを行うことができる。
As a result, the load applied to the blade during dicing can be made constant at all times, so that the dicing state can be stabilized, and as a result,
High quality dicing can be performed.

【0018】さらに、ウェハの切断直後のカッティング
幅を計測するモニタ手段と、前記モニタ手段によって計
測された計測値に基づいてステージの送り速度を自動的
に変えるダイシング速度制御手段とを有することによ
り、前記カッティング幅が許容範囲を越えた時にはステ
ージの送り速度を遅くすることができる。
Further, by having a monitor means for measuring the cutting width immediately after the cutting of the wafer and a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the monitor means, When the cutting width exceeds the allowable range, the stage feed speed can be slowed down.

【0019】これによって、前記同様に、ダイシングの
状態を安定させることが可能になり、その結果、高品質
のダイシングを行うことができる。
As a result, similarly to the above, it becomes possible to stabilize the dicing state, and as a result, high quality dicing can be performed.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0021】(実施例1)図1は本発明によるダイシン
グ装置の構造の一実施例を示す正面図、図2は本発明の
ダイシング装置によって切断されるウェハの構造の一実
施例を示す平面図、図3は本発明によるダイシング装置
のダイシング手順の一実施例を示すフローチャート、図
4は本発明のダイシング装置におけるウェハ上のカッテ
ィングラインの切断本数に対するステージの送り速度の
一実施例を示すダイシング速度解説図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the structure of a dicing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of the structure of a wafer cut by the dicing apparatus of the present invention. FIG. 3 is a flowchart showing an embodiment of a dicing procedure of the dicing apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a dicing speed showing an embodiment of the stage feed speed with respect to the number of cutting lines on the wafer in the dicing apparatus of the present invention. It is an explanatory diagram.

【0022】まず、本実施例1のダイシング装置の構成
について説明すると、ウェハ1を切断するブレード2
と、フランジ3を介してブレード2が取り付けられる回
転軸4と、ウェハ1の切断時に移動方向14へ移動しか
つ移動方向14に水平なウェハ1の載置面5aが設置さ
れたステージ5と、ウェハ1上におけるカッティングラ
イン8の切断本数に対応したステージ5の送り速度(ダ
イシング速度)の入力データ7に基づいてステージ5の
送り速度を自動的に変えるダイシング速度制御手段6と
から構成され、ブレード2のブレード回転方向13に対
し、ステージ5を移動方向14へ移動させることによ
り、ウェハ1は切断される。
First, the structure of the dicing apparatus according to the first embodiment will be described. A blade 2 for cutting the wafer 1
A rotary shaft 4 to which the blade 2 is attached via a flange 3, a stage 5 on which a mounting surface 5a of the wafer 1 that moves in the moving direction 14 when the wafer 1 is cut and is horizontal in the moving direction 14 And a dicing speed control means 6 for automatically changing the feeding speed of the stage 5 based on the input data 7 of the feeding speed (dicing speed) of the stage 5 corresponding to the number of cutting lines 8 on the wafer 1. The wafer 1 is cut by moving the stage 5 in the moving direction 14 with respect to the blade rotating direction 13 of 2.

【0023】また、ブレード2は、ダイヤモンドなどの
粒を接着剤によって固めて形成されたものであり、その
厚さは30〜100μm程度である。
The blade 2 is formed by solidifying grains such as diamond with an adhesive and has a thickness of about 30 to 100 μm.

【0024】なお、本実施例1のダイシング装置は、ダ
イシング前に、ウェハ1上におけるカッティングライン
8の切断本数に対応したステージ5の送り速度を予め入
力しておくものである。
The dicing apparatus according to the first embodiment inputs the feed speed of the stage 5 corresponding to the number of cutting lines 8 on the wafer 1 before dicing.

【0025】ここで、入力データ7は、図4のダイシン
グ速度解説図などに示すダイシング速度のデータを用い
るものである。例えば、ブレード2の刃の状態が安定し
た時のステージ5の送り速度を100とした場合、カッ
ティングライン8の切断本数が1〜1000本ではステ
ージ5の送り速度を10程度とし、1001〜2000
本ではステージ5の送り速度を20程度とし、1000
0本でステージ5の送り速度を100とする。
Here, as the input data 7, the data of the dicing speed shown in the dicing speed explanatory diagram of FIG. 4 and the like is used. For example, when the feed rate of the stage 5 when the blade state of the blade 2 is stable is 100, the feed rate of the stage 5 is about 10 when the number of cutting lines 8 to 1 to 1000 is 100 to 2000.
In the book, the feed speed of the stage 5 is about 20 and 1000
The feed speed of the stage 5 is set to 100 when the number is zero.

【0026】なお、厚さ30μm程度のブレード2を使
用した場合、100000本前後がブレード2の寿命と
されている。
When the blade 2 having a thickness of about 30 μm is used, the life of the blade 2 is about 100,000.

【0027】次に、本実施例1のダイシング装置のダイ
シング方法について説明する。
Next, the dicing method of the dicing apparatus of the first embodiment will be described.

【0028】まず、ブレード2の交換であるブレード交
換9を行い、その後、入力データ7の入力であるダイシ
ング速度データ入力10を実施する。
First, the blade exchange 9 for exchanging the blade 2 is performed, and then the dicing speed data input 10 for inputting the input data 7 is performed.

【0029】この時の入力データ7は、例えば、カッテ
ィングライン8の切断本数が1〜1000本ではステー
ジ5の送り速度を10mm/secとし、1001〜2000
本ではステージ5の送り速度を20mm/secとし、100
00本でステージ5の送り速度を100mm/secとする。
The input data 7 at this time is 1001 to 2000 when the cutting speed of the cutting line 8 is 1 to 1000 and the feed speed of the stage 5 is 10 mm / sec.
In this book, the feed rate of stage 5 is set to 20 mm / sec and 100
The feed speed of the stage 5 is 100 mm / sec when the number is 00.

【0030】その後、ウェハ1のダイシング11を開始
し、ダイシング速度制御手段6が入力データ7に従って
ウェハ1上のカッティングライン8の切断本数に対応し
て、ステージ5の送り速度を自動的に変えながらウェハ
1を切断する。
Thereafter, the dicing 11 of the wafer 1 is started, and the dicing speed control means 6 automatically changes the feed speed of the stage 5 according to the number of cutting lines 8 on the wafer 1 according to the input data 7. The wafer 1 is cut.

【0031】本実施例1のダイシング装置によれば、以
下のような効果が得られる。
According to the dicing apparatus of the first embodiment, the following effects can be obtained.

【0032】すなわち、ウェハ1上におけるカッティン
グライン8の切断本数に対応したステージ5の送り速度
の入力データ7に基づいてステージ5の送り速度を自動
的に変えるダイシング速度制御手段6を有することによ
って、新しいブレード2の使用開始時から該ブレード2
の交換までのカッティングライン8の本数に対応したス
テージ5の送り速度のデータを入力することにより、カ
ッティングライン8の本数に合わせてダイシング速度を
自動的に変えることができる。
That is, by having the dicing speed control means 6 which automatically changes the feed speed of the stage 5 based on the input data 7 of the feed speed of the stage 5 corresponding to the number of cutting lines 8 on the wafer 1. From the start of using the new blade 2, the blade 2
By inputting the data of the feed speed of the stage 5 corresponding to the number of cutting lines 8 up to the replacement, the dicing speed can be automatically changed according to the number of cutting lines 8.

【0033】これによって、ブレード2の交換後のプリ
カット作業を廃止し、また、その付帯作業を低減するこ
とができるため、その結果、ダイシング工程の完全自動
化が可能になる。
As a result, the pre-cutting work after the replacement of the blade 2 can be eliminated and the work involved can be reduced, and as a result, the dicing process can be fully automated.

【0034】さらに、プリカット作業を廃止できること
により、ダミーウェハを使用せずに済むため、製造コス
トを低減することができる。
Further, since the pre-cutting work can be eliminated, it is not necessary to use a dummy wafer, so that the manufacturing cost can be reduced.

【0035】(実施例2)図5は本発明の他の実施例で
あるダイシング装置の構造の一例を示す部分斜視図であ
る。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a partial perspective view showing an example of the structure of a dicing apparatus which is another embodiment of the present invention.

【0036】まず、本実施例2のダイシング装置の構成
について説明すると、ウェハ1を切断するブレード2
と、フランジ3を介してブレード2が取り付けられる回
転軸4と、ウェハ1の切断時に移動方向14へ移動しか
つ移動方向14に水平なウェハ1の載置面5aが設置さ
れたステージ5と、回転軸4に設置されかつブレード2
の回転数を計測する回転計12と、該回転計12によっ
て計測された計測値に基づいてステージ5の送り速度
(ダイシング速度)を自動的に変えるダイシング速度制
御手段15とから構成され、ブレード2のブレード回転
方向13に対し、ステージ5を移動方向14へ移動させ
ることにより、ウェハ1は切断される。
First, the structure of the dicing apparatus according to the second embodiment will be described. The blade 2 for cutting the wafer 1
A rotary shaft 4 to which the blade 2 is attached via a flange 3, a stage 5 on which a mounting surface 5a of the wafer 1 which moves in the moving direction 14 when the wafer 1 is cut and is horizontal in the moving direction 14 is installed, Installed on the rotary shaft 4 and the blade 2
The blade 2 comprises a tachometer 12 for measuring the number of revolutions of the blade 2 and a dicing speed control means 15 for automatically changing the feed speed (dicing speed) of the stage 5 based on the measurement value measured by the tachometer 12. The wafer 1 is cut by moving the stage 5 in the moving direction 14 with respect to the blade rotation direction 13.

【0037】つまり、本実施例2のダイシング装置は、
ダイシング中のブレード2の回転数を回転計12によっ
て計測し、この計測値によってステージ5の送り速度
(ダイシング速度)を自動制御するものである。
That is, the dicing apparatus according to the second embodiment is
The number of revolutions of the blade 2 during dicing is measured by the tachometer 12, and the feed speed (dicing speed) of the stage 5 is automatically controlled by this measured value.

【0038】ここで、ブレード2は、ダイヤモンドなど
の粒を接着剤によって固めて形成されたものであり、そ
の厚さは30〜100μm程度である。
Here, the blade 2 is formed by solidifying grains of diamond or the like with an adhesive and has a thickness of about 30 to 100 μm.

【0039】なお、本実施例2によるダイシング装置の
作用と効果について説明すると、ブレード2の回転軸4
に設置されかつブレード2の回転数を計測する回転計1
2と、該回転計12によって計測された計測値に基づい
てステージ5の送り速度を自動的に変えるダイシング速
度制御手段15とを有することによって、ダイシング中
にブレード2にかかる負荷が大きくなった時(ブレード
2の回転数が小さくなった時)には、ダイシング速度制
御手段15がステージ5の送り速度を自動的に遅くす
る。
The operation and effect of the dicing apparatus according to the second embodiment will be described. The rotating shaft 4 of the blade 2
Tachometer 1 installed in the and measuring the rotation speed of the blade 2
2 and the dicing speed control means 15 that automatically changes the feed speed of the stage 5 based on the measurement value measured by the tachometer 12, so that the load applied to the blade 2 during dicing becomes large. When the number of rotations of the blade 2 becomes small, the dicing speed control means 15 automatically slows down the feed speed of the stage 5.

【0040】これによって、ダイシング中にブレード2
にかかる負荷を常時一定にすることができるため、ダイ
シングの状態を安定させることが可能になる。
This allows the blade 2 to be operated during dicing.
Since it is possible to keep the load applied to the constant, the dicing state can be stabilized.

【0041】その結果、高品質のダイシングを行うこと
ができるため、製品の歩留りを向上させることができ
る。
As a result, since high quality dicing can be performed, the yield of products can be improved.

【0042】(実施例3)図6は本発明の他の実施例で
あるダイシング装置の構造の一例を示す部分斜視図であ
る。
(Embodiment 3) FIG. 6 is a partial perspective view showing an example of the structure of a dicing apparatus which is another embodiment of the present invention.

【0043】まず、本実施例3のダイシング装置の構成
について説明すると、ウェハ1を切断するブレード2
と、フランジ3を介してブレード2が取り付けられる回
転軸4と、ウェハ1の切断時に移動方向14へ移動しか
つ移動方向14に水平なウェハ1の載置面5aが設置さ
れたステージ5と、回転軸4に設置されかつブレード2
の回転数を計測する回転計12と、ウェハ1の切断直後
のカッティング幅16を計測するモニタ手段であるカメ
ラ17と、カメラ17によって計測されたカッティング
幅16の計測値に基づいてステージ5の送り速度(ダイ
シング速度)を自動的に変えるダイシング速度制御手段
18とから構成され、ブレード2のブレード回転方向1
3に対し、ステージ5を移動方向14へ移動させること
により、ウェハ1は切断される。
First, the structure of the dicing apparatus according to the third embodiment will be described. The blade 2 for cutting the wafer 1
A rotary shaft 4 to which the blade 2 is attached via a flange 3, a stage 5 on which a mounting surface 5a of the wafer 1 which moves in the moving direction 14 when the wafer 1 is cut and is horizontal in the moving direction 14 is installed, Installed on the rotary shaft 4 and the blade 2
Tachometer 12 for measuring the number of rotations of the wafer 1, a camera 17 as a monitor means for measuring the cutting width 16 immediately after the cutting of the wafer 1, and a feed of the stage 5 based on the measurement value of the cutting width 16 measured by the camera 17. The blade rotation direction 1 of the blade 2 is composed of a dicing speed control means 18 for automatically changing the speed (dicing speed).
By moving the stage 5 in the moving direction 14 with respect to 3, the wafer 1 is cut.

【0044】つまり、本実施例3のダイシング装置は、
ウェハ1の切断直後のカッティング幅16をモニタ手段
であるカメラ17によって計測し、この計測値によって
ステージ5の送り速度(ダイシング速度)を自動制御す
るものである。
That is, the dicing apparatus of the third embodiment is
The cutting width 16 immediately after the cutting of the wafer 1 is measured by a camera 17 which is a monitor means, and the feed speed (dicing speed) of the stage 5 is automatically controlled by this measured value.

【0045】例えば、厚さ30μmのブレード2を使用
する場合、正常の切断が行われた時のカッティング幅1
6は40〜50μm程度である。したがって、カッティ
ング幅16の許容限界値をその一例として65μmに設
定し、ダイシングを行う。
For example, when a blade 2 having a thickness of 30 μm is used, the cutting width 1 when the normal cutting is performed
6 is about 40 to 50 μm. Therefore, the allowable limit value of the cutting width 16 is set to 65 μm as an example, and dicing is performed.

【0046】ここで、ブレード2は、ダイヤモンドなど
の粒を接着剤によって固めて形成されたものであり、そ
の厚さは30〜100μm程度である。
Here, the blade 2 is formed by solidifying grains such as diamond with an adhesive and has a thickness of about 30 to 100 μm.

【0047】なお、本実施例3によるダイシング装置の
作用と効果について説明すると、ウェハ1の切断直後の
カッティング幅16を計測するモニタ手段であるカメラ
17と、カメラ17によって計測されたカッティング幅
16の計測値に基づいてステージ5の送り速度を自動的
に変えるダイシング速度制御手段18とを有することに
より、ウェハ1の切断直後のカッティング幅16が、許
容限界値の一例である65μmを越えた時には直ちにダ
イシング速度制御手段18がステージ5の送り速度を遅
くして、カッティング幅16が65μm以下になるよう
にステージ5の送り速度を自動制御する。
The operation and effect of the dicing apparatus according to the third embodiment will be described. A camera 17 which is a monitor means for measuring the cutting width 16 immediately after the cutting of the wafer 1 and a cutting width 16 measured by the camera 17. By having the dicing speed control means 18 that automatically changes the feed speed of the stage 5 based on the measured value, when the cutting width 16 immediately after the cutting of the wafer 1 exceeds 65 μm which is an example of the allowable limit value, it is immediately The dicing speed control means 18 slows down the feed speed of the stage 5, and automatically controls the feed speed of the stage 5 so that the cutting width 16 becomes 65 μm or less.

【0048】これによって、実施例1および実施例2と
同様に、ダイシングの状態を安定させることが可能にな
り、その結果、高品質のダイシングを行うことができ、
さらに、製品の歩留りを向上させることができる。
As a result, similarly to the first and second embodiments, the dicing state can be stabilized, and as a result, high quality dicing can be performed.
Further, the yield of products can be improved.

【0049】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0050】例えば、本発明によるダイシング装置は実
施例1〜3で説明した機能を合わせ持つものであっても
よい。
For example, the dicing apparatus according to the present invention may have the functions described in the first to third embodiments.

【0051】つまり、実施例1と実施例2、実施例2と
実施例3、実施例1と実施例3、あるいは実施例1と実
施例2と実施例3とを組み合わせたダイシング装置であ
ってもよい。
That is, the dicing apparatus is a combination of the first and second embodiments, the second and third embodiments, the first and third embodiments, or the first, second and third embodiments. Good.

【0052】また、実施例3で説明したダイシング装置
は、切断直後のカッティング幅を計測するモニタ手段に
カメラを用いた場合であったが、前記モニタ手段は光学
的な距離計測装置などであってもよい。
In the dicing apparatus described in the third embodiment, the camera is used as the monitor means for measuring the cutting width immediately after cutting, but the monitor means is an optical distance measuring device or the like. Good.

【0053】[0053]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0054】(1).ウェハを載置しかつ該ウェハの切
断時に移動するステージの送り速度(ダイシング速度)
を自動的に変えるダイシング速度制御手段を有すること
により、ウェハの切断時のブレードの状態あるいはその
切断結果に対応してステージの送り速度を自動的に変え
ることができる。
(1). Feed speed (dicing speed) of a stage on which a wafer is placed and which moves when the wafer is cut
By having a dicing speed control means for automatically changing the stage, the stage feed speed can be automatically changed according to the state of the blade at the time of cutting the wafer or the cutting result.

【0055】これによって、ブレード交換後のプリカッ
ト作業を廃止し、また、その付帯作業を低減することが
できるため、その結果、ダイシング工程の完全自動化が
可能になる。
As a result, the pre-cutting work after the blade replacement can be eliminated and the additional work can be reduced. As a result, the dicing process can be fully automated.

【0056】(2).ウェハ上におけるカッティングラ
インの切断本数に対応したステージの送り速度の入力デ
ータに基づいて該ステージの送り速度を自動的に変える
ダイシング速度制御手段を有することによって、新しい
ブレードの使用開始時から該ブレードの交換までのカッ
ティングラインの本数に対応したステージの送り速度の
データを入力することにより、前記カッティングライン
の本数に合わせてダイシング速度を自動的に変えること
ができる。これによって、ブレード交換後のプリカット
作業を廃止することができる。
(2). By having a dicing speed control means for automatically changing the feed rate of the stage based on the input data of the feed rate of the stage corresponding to the number of cutting lines on the wafer, the blade can be used from the start of use of a new blade. By inputting stage feed speed data corresponding to the number of cutting lines before the replacement, the dicing speed can be automatically changed according to the number of cutting lines. This makes it possible to eliminate the precut work after the blade replacement.

【0057】(3).前記プリカット作業を廃止できる
ことにより、ダミーウェハを使用せずに済むため、製造
コストを低減することができる。
(3). By eliminating the pre-cutting work, it is not necessary to use a dummy wafer, so that the manufacturing cost can be reduced.

【0058】(4).ブレードの回転軸に設置されかつ
該ブレードの回転数を計測する回転計と、該回転計によ
って計測された計測値に基づいてステージの送り速度を
自動的に変えるダイシング速度制御手段とを有すること
によって、ダイシング中にブレードにかかる負荷が大き
くなった時(ブレードの回転数が小さくなった時)に
は、ステージの送り速度を遅くすることができる。
(4). By having a tachometer installed on the rotation axis of the blade and measuring the number of revolutions of the blade, and a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the tachometer. When the load applied to the blade during dicing becomes large (when the rotational speed of the blade becomes small), the feed speed of the stage can be slowed down.

【0059】これによって、ダイシング中にブレードに
かかる負荷を常時一定にすることができるため、ダイシ
ングの状態を安定させることが可能になる。その結果、
高品質のダイシングを行うことができ、さらに、製品の
歩留りを向上させることができる。
As a result, the load applied to the blade during dicing can be kept constant, and the dicing state can be stabilized. as a result,
High-quality dicing can be performed, and the yield of products can be improved.

【0060】(5).ウェハの切断直後のカッティング
幅を計測するモニタ手段と、前記モニタ手段によって計
測された計測値に基づいてステージの送り速度を自動的
に変えるダイシング速度制御手段とを有することによ
り、前記カッティング幅が許容範囲を越えた時にはステ
ージの送り速度を遅くすることができる。
(5). By having monitor means for measuring the cutting width immediately after cutting the wafer and dicing speed control means for automatically changing the stage feed speed based on the measurement value measured by the monitor means, the cutting width is allowed. When the range is exceeded, the stage feed speed can be reduced.

【0061】これによって、前記(4)と同様に、ダイ
シングの状態を安定させることが可能になり、その結
果、高品質のダイシングを行うことができ、さらに、製
品の歩留りを向上させることができる。
As a result, similarly to the above (4), it becomes possible to stabilize the dicing state, and as a result, it is possible to perform high-quality dicing and further improve the product yield. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるダイシング装置の構造の一実施例
を示す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the structure of a dicing apparatus according to the present invention.

【図2】本発明のダイシング装置によって切断されるウ
ェハの構造の一実施例を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an example of the structure of a wafer cut by the dicing apparatus of the present invention.

【図3】本発明によるダイシング装置のダイシング手順
の一実施例を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an example of a dicing procedure of the dicing apparatus according to the present invention.

【図4】本発明のダイシング装置におけるウェハ上のカ
ッティングラインの切断本数に対するステージの送り速
度の一実施例を示すダイシング速度解説図である。
FIG. 4 is a dicing speed explanatory diagram showing an example of a stage feed speed with respect to the number of cutting lines on a wafer in the dicing apparatus of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例であるダイシング装置の構
造の一例を示す部分斜視図である。
FIG. 5 is a partial perspective view showing an example of the structure of a dicing apparatus that is another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の他の実施例であるダイシング装置の構
造の一例を示す部分斜視図である。
FIG. 6 is a partial perspective view showing an example of the structure of a dicing apparatus that is another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェハ 2 ブレード 3 フランジ 4 回転軸 5 ステージ 5a 載置面 6 ダイシング速度制御手段 7 入力データ 8 カッティングライン 9 ブレード交換 10 ダイシング速度データ入力 11 ダイシング 12 回転計 13 ブレード回転方向 14 移動方向 15 ダイシング速度制御手段 16 カッティング幅 17 カメラ(モニタ手段) 18 ダイシング速度制御手段 1 Wafer 2 Blade 3 Flange 4 Rotating Axis 5 Stage 5a Mounting Surface 6 Dicing Speed Control Means 7 Input Data 8 Cutting Line 9 Blade Replacement 10 Dicing Speed Data Input 11 Dicing 12 Rotation Meter 13 Blade Rotation Direction 14 Moving Direction 15 Dicing Speed Control Means 16 Cutting width 17 Camera (monitor means) 18 Dicing speed control means

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウェハを切断するブレードと、前
記ブレードが取り付けられる回転軸と、前記半導体ウェ
ハの切断時に移動しかつ移動方向に水平な該半導体ウェ
ハの載置面が設置されたステージと、前記ステージの送
り速度を自動的に変えるダイシング速度制御手段とを有
することを特徴とするダイシング装置。
1. A blade for cutting a semiconductor wafer, a rotating shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the semiconductor wafer, which is movable when the semiconductor wafer is cut and is horizontal in the moving direction, is installed, A dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage.
【請求項2】 半導体ウェハを切断するブレードと、前
記ブレードが取り付けられる回転軸と、前記半導体ウェ
ハの切断時に移動しかつ移動方向に水平な該半導体ウェ
ハの載置面が設置されたステージと、前記半導体ウェハ
上におけるカッティングラインの切断本数に対応した前
記ステージの送り速度の入力データに基づいて該ステー
ジの送り速度を自動的に変えるダイシング速度制御手段
とを有することを特徴とするダイシング装置。
2. A blade for cutting a semiconductor wafer, a rotary shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the semiconductor wafer, which is moved when the semiconductor wafer is cut and is horizontal in the moving direction, is installed, And a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on input data of the feed speed of the stage corresponding to the number of cutting lines cut on the semiconductor wafer.
【請求項3】 半導体ウェハを切断するブレードと、前
記ブレードが取り付けられる回転軸と、前記半導体ウェ
ハの切断時に移動しかつ移動方向に水平な該半導体ウェ
ハの載置面が設置されたステージと、前記回転軸に設置
されかつ前記ブレードの回転数を計測する回転計と、前
記回転計によって計測された計測値に基づいて前記ステ
ージの送り速度を自動的に変えるダイシング速度制御手
段とを有することを特徴とするダイシング装置。
3. A blade for cutting a semiconductor wafer, a rotary shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the semiconductor wafer, which is movable when the semiconductor wafer is cut and is horizontal in the moving direction, is installed, It has a tachometer installed on the rotating shaft and for measuring the number of revolutions of the blade, and a dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the tachometer. Characteristic dicing equipment.
【請求項4】 半導体ウェハを切断するブレードと、前
記ブレードが取り付けられる回転軸と、前記半導体ウェ
ハの切断時に移動しかつ移動方向に水平な該半導体ウェ
ハの載置面が設置されたステージと、前記半導体ウェハ
の切断直後のカッティング幅を計測するモニタ手段と、
前記モニタ手段によって計測された計測値に基づいて前
記ステージの送り速度を自動的に変えるダイシング速度
制御手段とを有することを特徴とするダイシング装置。
4. A blade for cutting a semiconductor wafer, a rotating shaft to which the blade is attached, a stage on which a mounting surface of the semiconductor wafer, which is movable when cutting the semiconductor wafer and is horizontal in the moving direction, is installed, Monitor means for measuring the cutting width immediately after cutting the semiconductor wafer,
A dicing speed control means for automatically changing the feed speed of the stage based on the measurement value measured by the monitor means.
JP21439094A 1994-09-08 1994-09-08 Dicing apparatus Pending JPH0878365A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000036475A (en) * 1998-07-21 2000-02-02 Toshiba Corp Dicing apparatus and control method therefor
JP2012206191A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Denso Corp Cutting device, cutting method using the same, and method for manufacturing part

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