JPH0871915A - Lap correction method and device therefor - Google Patents

Lap correction method and device therefor

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JPH0871915A
JPH0871915A JP24184794A JP24184794A JPH0871915A JP H0871915 A JPH0871915 A JP H0871915A JP 24184794 A JP24184794 A JP 24184794A JP 24184794 A JP24184794 A JP 24184794A JP H0871915 A JPH0871915 A JP H0871915A
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carrier
lap
correction carrier
wrap
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憲一 石川
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仁 諏訪部
Takehiko Noto
武彦 能登
Katanao Sunakawa
方直 砂川
Norihiko Moriya
紀彦 守屋
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Abstract

PURPOSE: To provide a correction carrier which can correct an irregular worn lap easily so as to perform the correction in a short time in a correction device of a rotary flat lapping machine. CONSTITUTION: A correction device is provided with a rectangular correction carrier 24 which is thin and long in the radial direction of a lap and a reciprocating device 7, 9 which reciprocates the correction carrier 24 within a surface parallel with a correction surface of the lap. The dimension S in the longitudinal direction of the correction carrier 24 is wider than width L in the radial direction of the lap 18, and the reciprocating stroke of the correction carrier 24 is such stroke that the correction carrier does not come off from the correction surface of the lap 18. Preferably, the correction carrier 24 reciprocates in the radial direction of the lap 18. It is desirable to use such correction carrier 24 that has a structure in which diamond abrasive particles are electrodeposited on its abrasive particle face, that is, diamond abrasive particles are held on a working face of the correction carrier by means of a nickel plated layer, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、回転型の平面ラップ盤
に設置されたラップの修正装置に関するものであり、特
に修正装置の修正キャリアの形状及び構造に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lap repair device installed on a rotary type flat lapping machine, and more particularly to the shape and structure of a repair carrier of the repair device.

【0002】[0002]

【従来の技術】ラッピング加工は、ラップと呼ばれる工
具と工作物との間に遊離研磨材を介在させてラップと工
作物との相対運動により工作物を加工するもので、量産
的な加工技術のうち非常に面精度の高い加工法であり、
ブロックゲージや超LSIウエハなどの最高級の加工に
用いられている。
2. Description of the Related Art Lapping is a technique in which a loose abrasive is interposed between a tool called a lap and a workpiece to machine the workpiece by relative movement between the lap and the workpiece. Of these, it is a processing method with extremely high surface accuracy,
It is used for the finest processing such as block gauges and VLSI wafers.

【0003】図10はラッピング加工に用いられる回転
型の平面ラップ盤の斜視図である。平面ラップ盤1は、
その上面4に開口を有しており、この開口に垂直軸17
回りに回転する円環状のラップ18が臨んでいる。ラッ
ピング加工は、ラップ18の表面形状を工作物に転写す
る加工方法であるから、平面ラップ盤によって加工され
た製品の面精度は、ラップの面精度に依存する。
FIG. 10 is a perspective view of a rotary type flat lapping machine used for lapping. The flat lapping machine 1
It has an opening in its upper surface 4 and a vertical axis 17
An annular wrap 18 that rotates around the front faces. Lapping is a processing method in which the surface shape of the lap 18 is transferred to the workpiece, so the surface accuracy of the product processed by the flat lapping machine depends on the surface accuracy of the lap.

【0004】ラップ18は、ラッピング加工中にスラリ
ー供給装置から供給される遊離研磨材によって偏摩耗す
るので、ラップの面精度を維持するために一定の時間経
過ごとに修正加工(ドレッシング)を施してやらなけれ
ばならない。ラップの修正加工としては、切削、研削、
三面ずり等が知られている。なかでも、修正キャリアを
用いた研削型の修正装置は、他の特別な装置を必要とせ
ず、大形のラップにも容易に対応できるという利点があ
るので、修正加工の主流となっている。
Since the lap 18 is unevenly worn by the loose abrasive supplied from the slurry supply device during the lapping process, a correction process (dressing) is performed at regular time intervals in order to maintain the surface accuracy of the lap. There must be. Lapping correction processing includes cutting, grinding,
Three-sided sliding etc. are known. Among them, the grinding type correction device using the correction carrier is the mainstream of the correction processing because it has an advantage that it does not require any other special device and can easily cope with a large lap.

【0005】従来の修正装置は、平面ラップ盤に付設し
た状態で図10に示されている。従来装置は、ラップ1
8の上面に円形の修正キャリア51を押接するものであ
る。修正キャリア51は、平面ラップ盤の上面4から片
持ちで延びる支持アーム52の先端に垂直軸回りに回転
自在に設けられている。ラップ盤の手前側側壁2にはL
形ブラケット5を介してモータ7が装着されており、こ
のモータの駆動軸8に固着されたプーリ53と修正キャ
リア51の外周面に押接されたピンチローラ54とがベ
ルト55で連結されている。モータ7の回転は、このピ
ンチローラ54によって修正キャリア51に伝達され
る。
FIG. 10 shows a conventional correction device attached to a flat lapping machine. Conventional device is wrap 1
A circular correction carrier 51 is pressed against the upper surface of 8. The correction carrier 51 is rotatably provided around a vertical axis at the tip of a support arm 52 that cantilevers from the upper surface 4 of the flat lapping machine. L on the front side wall 2 of the lapping machine
A motor 7 is mounted via a bracket 5, and a pulley 53 fixed to a drive shaft 8 of the motor and a pinch roller 54 pressed against the outer peripheral surface of the correction carrier 51 are connected by a belt 55. . The rotation of the motor 7 is transmitted to the correction carrier 51 by this pinch roller 54.

【0006】従来装置による修正加工は、ラップ18を
その垂直軸17回りに一定の速度で回転させ、ラップの
表面にスラリー供給装置20で遊離研磨材を流し、モー
タ7で修正キャリア51を等速回転させながらラップの
表面に一定圧力で押圧し、遊離研磨材とラップとを摩擦
させて行われる。このような修正加工を修正キャリアか
らみれば、修正キャリア51がラップ18の表面を自転
しながら公転して、遊離研磨材とラップとが摩擦させら
れてラップの表面形状が平坦になっていく。
In the correction processing by the conventional apparatus, the lap 18 is rotated around the vertical axis 17 at a constant speed, the loose abrasive is flown on the surface of the lap by the slurry supplying device 20, and the correction carrier 51 is made to move at a constant speed by the motor 7. It is performed by pressing the surface of the lap with a constant pressure while rotating it, and rubbing the loose abrasive and the lap. From the viewpoint of the correction carrier, the correction carrier 51 revolves around the surface of the wrap 18 while revolving around the surface of the wrap 18, and the free abrasive material and the lap are rubbed with each other to flatten the surface shape of the lap.

【0007】修正キャリアを自転させるのは、修正キャ
リア51が偏摩耗するのを防止すると共に、単位時間当
たりの摩擦距離を大きくして修正加工量を増加させるた
めである。しかし修正キャリア自身の摩耗量も大きくな
る。
The reason why the correction carrier is rotated is to prevent the correction carrier 51 from being unevenly worn and to increase the friction distance per unit time to increase the amount of correction processing. However, the amount of wear of the correction carrier itself also increases.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】一般にラップの修正加
工量は、修正キャリアの摩擦距離及び押圧力に比例する
ことが知られている。また凹状又は凸状に偏摩耗したラ
ップに対し逆摩耗特性を有するキャリアを用いることに
より、ほぼ平坦な表面形状に修正できることが知られて
いる。そこで、作業者は、ラップの偏摩耗状態を視認し
て逆の摩耗特性を有する修正キャリアを選択すると共
に、押圧力その他の修正条件を設定して修正加工を行っ
ている。
It is generally known that the amount of correction work of the lap is proportional to the friction distance and the pressing force of the correction carrier. It is also known that the use of a carrier having reverse wear characteristics for a lap that is unevenly worn in a concave or convex shape can correct the surface shape to a substantially flat surface. Therefore, the operator visually confirms the uneven wear state of the lap to select the correction carrier having the opposite wear characteristics, and sets the pressing force and other correction conditions to perform the correction processing.

【0009】しかしこのような選択や修正条件の設定は
作業者の熟練度に依存するものであり、作業者によりば
らつきを生じ、修正加工後のラップの面精度を一定に維
持できないという問題がある。また従来装置では、単位
時間当たりの修正加工量が少なく、修正キャリアを頻繁
に交換しなければならず、修正加工に長時間を要すると
いう問題がある。
However, such selection and setting of correction conditions depend on the skill level of the operator, and there is a problem that variations occur depending on the operator and the surface accuracy of the lap after the correction processing cannot be kept constant. . Further, in the conventional device, there is a problem that the amount of correction processing per unit time is small and the correction carrier must be frequently exchanged, which requires a long time for the correction processing.

【0010】本発明の第1の目的は、ラップの偏摩耗状
態にかかわらず、常に平坦に修正することができる修正
キャリアを提供することであり、第2の目的は、この修
正キャリアで短時間に修正加工をすることができる手段
を提供することである。
A first object of the present invention is to provide a correction carrier which can always be corrected to be flat regardless of the uneven wear state of the lap, and a second object of the present invention is to provide a correction carrier for a short time. It is to provide a means capable of making correction processing.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明では修正キャリ
ア24のラップ18との当接面をラップの半径方向に細
長い矩形とし、これを往復動させながらラップ18の修
正加工を行う。修正加工を行う修正装置は矩形の修正キ
ャリア24と、これをラップの修正面と平行な面内で往
復動させる往復動装置7、9とを備えている。修正キャ
リア24の長手方向寸法Sは、ラップ18の半径方向の
幅Lより広く、かつ修正キャリア24の往復動ストロー
クは、修正キャリアがラップ18の修正面から外れない
ストロークとする。
According to the present invention, the contact surface of the correction carrier 24 with the wrap 18 is a rectangular shape elongated in the radial direction of the wrap, and the wrap 18 is corrected while reciprocating. The correction device for performing the correction process includes a rectangular correction carrier 24 and reciprocating devices 7 and 9 for reciprocating the correction carrier 24 in a plane parallel to the correction surface of the lap. The longitudinal dimension S of the correction carrier 24 is larger than the radial width L of the wrap 18, and the reciprocating stroke of the correction carrier 24 is a stroke in which the correction carrier does not deviate from the correction surface of the wrap 18.

【0012】修正キャリア24は好ましくはラップ18
の半径方向に往復動させる。修正キャリア24の往復動
速度(平均速度)は、修正加工時におけるラップ18の
周速より速くすることが好ましい。修正キャリア24の
往復動速度が速いときは、修正キャリア24は正確な矩
形でよい。修正キャリア24の往復動速度がラップ18
の周速度に比べて小さいときは、修正キャリア24はラ
ップ18の内径側がわずかに幅狭い形状となるのが好ま
しい。
The correction carrier 24 is preferably a wrap 18.
Reciprocate in the radial direction. The reciprocating speed (average speed) of the correction carrier 24 is preferably higher than the peripheral speed of the lap 18 during correction processing. When the reciprocating speed of the correction carrier 24 is high, the correction carrier 24 may be a precise rectangle. The reciprocating speed of the correction carrier 24 is the lap 18
When it is smaller than the peripheral velocity of the wrap 18, the correction carrier 24 preferably has a shape in which the inner diameter side of the wrap 18 is slightly narrower.

【0013】修正キャリア24はその砥粒面にダイヤモ
ンド砥粒25を電着、すなわちダイヤモンド砥粒25を
ニッケルメッキ層26等によって修正キャリアの加工面
に保持させた構造のものを用いるのがさらに好ましい。
It is further preferable that the repair carrier 24 has a structure in which diamond abrasive grains 25 are electrodeposited on the abrasive grain surface, that is, the diamond abrasive grains 25 are held on the processed surface of the repair carrier by a nickel plating layer 26 or the like. .

【0014】[0014]

【作用】この発明の方法および装置で用いる修正キャリ
ア24は矩形であり、かつその短辺側をラップ18の周
方向としているため、修正キャリア24の幅(短辺の長
さ)Cはラップ18の半径に比べて充分に小さい。また
修正キャリア24はラッピング面から外れない範囲で往
復動されるので、修正キャリア24は常時ラップ18の
ラッピング面を幅方向に横断している。ラップ18はそ
の回転により修正キャリア24の加工面を幅方向(短辺
方向)に円弧軌跡を描いて通過してゆくが、その通過時
の円弧軌跡の長さはラップの内径側と外径側とで大きな
差を生じない。
Since the correction carrier 24 used in the method and apparatus of the present invention is rectangular and the short side thereof is the circumferential direction of the wrap 18, the width C (length of the short side) C of the correction carrier 24 is the wrap 18. Small enough compared to the radius of. Further, since the correction carrier 24 is reciprocated within a range that does not come off the lapping surface, the correction carrier 24 always crosses the lapping surface of the lap 18 in the width direction. The lap 18 passes through the machining surface of the correction carrier 24 in the width direction (short side direction) while drawing an arc locus by its rotation, and the length of the arc locus at the time of passing is the inner diameter side and the outer diameter side of the lap. Does not make a big difference.

【0015】また修正キャリア24の運動が往復運動で
あるため、それによってラップ18と修正キャリア24
との相対摺接距離は、あらゆる点ですべて一定である。
従ってこの発明によれば、ラップ18のラッピング面に
対する修正キャリア24の摩擦距離がラッピング面の全
体にわたって均一となり、従って作業者が特別の考慮を
払わなくてもラップの表面を平坦な面形状に修正でき
る。
Further, since the motion of the correction carrier 24 is a reciprocating motion, the wrap 18 and the correction carrier 24 are thereby reciprocated.
The relative sliding contact distance with and is constant at all points.
Therefore, according to the present invention, the friction distance of the correction carrier 24 with respect to the lapping surface of the wrap 18 is uniform over the entire lapping surface, and therefore the surface of the wrap is modified into a flat surface shape without any special consideration by the operator. it can.

【0016】修正キャリア24の往復動速度を大きくし
たときは、往復動に基く摩擦距離の割合が大きくなるた
め、修正キャリア24を横断する円弧軌跡の内径側と外
径側との距離差の影響が相対的に小さくなり、従って修
正キャリア24を正確な矩形形状とするのが好ましい。
一方往復動速度が小さいときは、修正キャリア24を横
断する円弧軌跡の内周側と外周側との距離差の影響が相
対的に大きくなるため、この円弧軌跡の距離差に対応す
る分だけ修正キャリアの内周側を僅かに幅狭とした形状
がより好ましい。修正キャリア24を往復動させること
により、単位時間当たりの摩擦距離を大きくして修正加
工時間を短縮することができる。
When the reciprocating speed of the correction carrier 24 is increased, the ratio of the friction distance based on the reciprocating motion is increased. Therefore, the influence of the difference in distance between the inner diameter side and the outer diameter side of the arc locus traversing the correction carrier 24. Is relatively small, so it is preferred that the correction carrier 24 be of a precise rectangular shape.
On the other hand, when the reciprocating speed is low, the influence of the distance difference between the inner circumference side and the outer circumference side of the arc locus traversing the correction carrier 24 becomes relatively large, so the correction is made by an amount corresponding to the distance difference of the arc locus. A shape in which the inner peripheral side of the carrier is slightly narrower is more preferable. By reciprocating the correction carrier 24, the friction distance per unit time can be increased and the correction processing time can be shortened.

【0017】さらに修正キャリア24の加工面に砥粒2
5を電着したものを用いたときは、砥粒と砥粒の間の凹
所に細かい遊離砥粒を含んだラッピング液が滞留するた
め、単位時間当たりの修正加工量を大きくでき、修正キ
ャリア24の摩耗が少なくなり、ラッピング中における
修正キャリア24の交換が不要となる。
Further, abrasive grains 2 are formed on the processed surface of the correction carrier 24.
When the electrodeposited No. 5 is used, the lapping liquid containing fine loose abrasive grains stays in the recesses between the abrasive grains, so that the correction processing amount per unit time can be increased and the correction carrier Wear of 24 is reduced, and replacement of the correction carrier 24 during lapping becomes unnecessary.

【0018】[0018]

【実施例】図1ないし図3は、本発明の修正キャリアを
付設した回転型の平面ラップ盤の斜視図である。回転型
の平面ラップ盤1の図の手前側側壁2と奥側側壁3に
は、ラップ盤の上面4と同一平面上に延びるブラケット
5、6が設けられている。手前側のブラケット5の下面
にはモータ7が固設されている。モータ7の駆動軸8
は、ブラケット5の下方から透孔を貫通して上方に突出
しており、駆動軸の先端に回転レバー9の基端が固着さ
れている。回転レバー9の先端には、枢支ピン11を介
して回転レバー9と同じ長さの連結リンク12の基端が
枢着されている。一方奥側のブラケット6には、その上
面に設けた支点ピン13を揺動中心とするアーム14の
基端が枢着されており、アーム14の先端は連結リンク
12の先端に連結ピン15で連結されている。モータ7
を駆動すると回転レバー9および連結リンク12を介し
てアーム14が支点ピン13を中心として揺動する。ア
ーム14の揺動幅は、回転レバー9および連結リンク1
2の長さを変えることにより自由に設定することができ
る。
1 to 3 are perspective views of a rotary type flat lapping machine provided with a correction carrier of the present invention. Brackets 5 and 6 extending on the same plane as the upper surface 4 of the lapping machine are provided on the front side wall 2 and the rear side wall 3 of the rotary type flat lapping machine 1 in the figure. A motor 7 is fixed to the lower surface of the bracket 5 on the front side. Drive shaft 8 of motor 7
Protrudes upward from below the bracket 5 through the through hole, and the base end of the rotary lever 9 is fixed to the tip of the drive shaft. A base end of a connecting link 12 having the same length as that of the rotary lever 9 is pivotally attached to the front end of the rotary lever 9 via a pivot pin 11. On the other hand, the rear end of the bracket 6 is pivotally attached to the base end of an arm 14 having a fulcrum pin 13 provided on the upper surface as a swing center. It is connected. Motor 7
When is driven, the arm 14 swings around the fulcrum pin 13 via the rotary lever 9 and the connecting link 12. The swing width of the arm 14 is the rotation lever 9 and the connecting link 1.
It can be freely set by changing the length of 2.

【0019】アーム14は、垂直軸17回りに回転する
円環状のラップ18の接線方向に延びており(図3参
照)、アーム14とラップ18とが重なる領域に平面視
で矩形のホルダ19が設けられている。ホルダ19は、
図2に示すようにラップ18の回転方向に離れた位置に
立設されたロッド21を有しており、ロッド21の上部
は直動ベアリング22、22を介してアーム14に固設
されたガイド筒23で案内されている。ホルダ19の下
面には矩形底面の修正キャリア24が固定されている。
修正キャリア24はラップの偏摩耗状態に関わりなくホ
ルダ19によって水平に保持されている。
The arm 14 extends in the tangential direction of an annular wrap 18 which rotates about a vertical axis 17 (see FIG. 3), and a rectangular holder 19 in a plan view is provided in an area where the arm 14 and the wrap 18 overlap. It is provided. The holder 19 is
As shown in FIG. 2, a rod 21 is provided upright at a position separated in the rotational direction of the wrap 18, and the upper portion of the rod 21 is a guide fixed to the arm 14 via linear motion bearings 22 and 22. It is guided by a cylinder 23. A rectangular bottom correction carrier 24 is fixed to the lower surface of the holder 19.
The correction carrier 24 is held horizontally by the holder 19 regardless of the uneven wear state of the wrap.

【0020】図4および図5は、ラッピング加工により
偏摩耗したラップを上記装置によって修正したときの表
面形状を示したものである。測定に供したラップは鋳鉄
性のもの(FC300)であり、内径99mm、外径1
54mmのものを使用し、4.82rad/sで回転さ
せた。修正キャリアも鋳鉄性のもの(FC300)を使
用し、幅50mm、押圧力を5kPaとした。単位時間
当たりの修正加工量を増大させる為に、モータ7を回転
して修正キャリアに振幅5mm、振動数31.4rad
/sの揺動振動を付加した。加工液としては、粒度GC
#600で35wt%のものを使用し、加工液供給装置
20によってラップの表面に連続的に供給した。また、
修正キャリアの表面形状を平坦に維持するために、30
分ごとに面精度の良好な修正キャリアと交換した。
FIG. 4 and FIG. 5 show the surface shape of the lap which is unevenly worn by the lapping process and is corrected by the above apparatus. The lap used for the measurement is a cast iron one (FC300), which has an inner diameter of 99 mm and an outer diameter of 1
A 54 mm one was used and rotated at 4.82 rad / s. The correction carrier was also cast iron (FC300), and had a width of 50 mm and a pressing force of 5 kPa. In order to increase the amount of correction processing per unit time, the motor 7 is rotated and the correction carrier has an amplitude of 5 mm and a frequency of 31.4 rad.
A rocking vibration of / s was added. The working fluid has a particle size of GC
# 600 of 35 wt% was used, and was continuously supplied to the surface of the wrap by the processing liquid supply device 20. Also,
To keep the surface shape of the correction carrier flat, 30
Every minute, the carrier was replaced with a modified carrier with good surface accuracy.

【0021】図4及び図5の縦軸は修正加工量を示し、
横軸はラップの中心からの距離を示す。図4の線aは、
凹状に偏摩耗したラップの表面形状を示し、線bは修正
加工後のラップの表面形状を示している。図4の線bよ
り明らかなように、修正加工後のラップの表面形状はほ
ぼ平坦となった。図5の線cは凸状に偏摩耗したラップ
の表面形状を示し、線dは修正加工後のラップの表面形
状を示している。修正加工後のラップの表面形状は、若
干凸状となっている。これは、揺動振動を付加する装置
の剛性不足によって修正キャリアの支持部の曲げモーメ
ントの影響を抑えられないために、修正キャリアがラッ
プに対して水平に移動できなかったためと考えられる。
この場合、無振動加工を行うことにより平坦なプロファ
イルが得られるが、修正加工時間は増大してしまう。
The vertical axis in FIGS. 4 and 5 represents the corrected machining amount,
The horizontal axis shows the distance from the center of the wrap. The line a in FIG. 4 is
The surface shape of the lap which is unevenly worn in a concave shape is shown, and the line b shows the surface shape of the lap after the correction processing. As is clear from the line b in FIG. 4, the surface shape of the lap after the correction process was almost flat. A line c in FIG. 5 shows the surface shape of the lap that is unevenly worn in a convex shape, and a line d shows the surface shape of the lap after the correction processing. The surface shape of the lap after the correction processing is slightly convex. It is considered that this is because the correction carrier could not move horizontally with respect to the lap because the effect of the bending moment of the support portion of the correction carrier could not be suppressed due to insufficient rigidity of the device that applies the oscillating vibration.
In this case, a flat profile can be obtained by performing non-vibration processing, but the correction processing time increases.

【0022】修正キャリアは、固定砥粒のものを用いる
こともできる。図6は固定砥粒を電着した修正キャリア
の例を示したものである。図6の電着修正キャリア24
は、矩形の修正キャリアの底面24aに平均粒度#14
0〜170のダイヤモンド砥粒25をニッケルメッキ層
26で固着したものである。
As the correction carrier, fixed abrasive grains can also be used. FIG. 6 shows an example of a repair carrier on which fixed abrasive grains are electrodeposited. Electrodeposition correction carrier 24 of FIG.
Is the average particle size # 14 on the bottom surface 24a of the rectangular correction carrier.
The diamond abrasive grains 25 of 0 to 170 are fixed by the nickel plating layer 26.

【0023】図7は図6の修正キャリアのメッキ処理に
用いるメッキ装置の概略図である。メッキ装置は、メッ
キ液33を入れる外槽28と外槽に収納された中間槽2
9と中間槽に収納された内槽30とを有している。中間
槽29は、その上辺が外槽の蓋32の下面に添設されて
おり、その底面は外槽28の底面と離隔している。中間
槽の側壁にはメッキ液が出入りする透孔31が設けられ
ている。内槽30は、中間槽29の底面に載置されてい
る。矩形の修正キャリア24はその底面24aを上方に
向けて内槽30に絶縁材を介して載せられており、修正
キャリアの底面を覆うようにして平均粒度#140〜1
70のダイヤモンド砥粒25が内槽に充填されている。
FIG. 7 is a schematic view of a plating apparatus used for plating the modified carrier shown in FIG. The plating apparatus includes an outer tank 28 containing a plating solution 33 and an intermediate tank 2 housed in the outer tank.
9 and the inner tank 30 accommodated in the intermediate tank. The upper side of the intermediate tank 29 is attached to the lower surface of the lid 32 of the outer tank, and the bottom surface thereof is separated from the bottom surface of the outer tank 28. The side wall of the intermediate tank is provided with a through hole 31 through which the plating solution flows in and out. The inner tank 30 is placed on the bottom surface of the intermediate tank 29. The rectangular correction carrier 24 is placed on the inner tank 30 via an insulating material with the bottom surface 24a facing upward, and the average particle size # 140 to 1 is set so as to cover the bottom surface of the correction carrier.
70 diamond abrasive grains 25 are filled in the inner tank.

【0024】内槽30に収容された修正キャリア24と
平行にニツケル板34が配置されており、このニッケル
板は中間槽29に横架された支持板35の下面に絶縁材
を介して固定されている。修正キャリア24は、直流電
源36の陰極に接続され、ニッケル板34は陽極に接続
されている。メッキ液33は、電源36に接続されたモ
ータ37で駆動される攪拌翼38によって、中間槽29
および内槽30内を流動している。また、蓋32から垂
下したヒータ39を点滅させてメッキ液の温度調整がな
される。メツキ液の温度はセンサ41で監視されてお
り、センサからの信号によって制御器42がヒータ39
をオンオフさせる。
A nickel plate 34 is arranged in parallel with the correction carrier 24 accommodated in the inner tank 30, and this nickel plate is fixed to the lower surface of a support plate 35 which is installed in the intermediate tank 29 through an insulating material. ing. The correction carrier 24 is connected to the cathode of the DC power supply 36, and the nickel plate 34 is connected to the anode. The plating solution 33 is supplied to the intermediate tank 29 by a stirring blade 38 driven by a motor 37 connected to a power source 36.
And flowing in the inner tank 30. Further, the temperature of the plating liquid is adjusted by blinking the heater 39 hanging from the lid 32. The temperature of the plating solution is monitored by the sensor 41, and the controller 42 controls the heater 39 by the signal from the sensor.
Turn on and off.

【0025】メッキ液のpHは、pHメータを使用し測
定を行う。電流密度は可変直流電圧定電流電源を用いて
電着条件によって設定する。メッキ液の組成は、硫酸ニ
ッケル、塩化ニッケル、硼酸からなっている。pHは
4.2、浴温は60℃、電流密度は2A/dm2 であ
る。通電時間は80分である。
The pH of the plating solution is measured using a pH meter. The current density is set according to the electrodeposition conditions using a variable DC voltage constant current power supply. The composition of the plating solution is nickel sulfate, nickel chloride, and boric acid. The pH is 4.2, the bath temperature is 60 ° C., and the current density is 2 A / dm 2 . The energization time is 80 minutes.

【0026】次に、電着修正キャリアの製造方法につい
て説明する。製造工程は前処理、予備メッキ、砥粒電着
及び後メッキの4工程に分けられる。前処理は、修正キ
ャリアの表面に密着性の良いメッキ層を得るために表面
に付着している切屑、油脂等を取り除くために行うもの
である。まず、面精度の良好な修正キャリアの側面の部
分にシリコンコーキング剤を用いて絶縁処理を行う。こ
れをアセトンに10分間浸して脱脂し、次に10%の塩
酸に10分間浸すことにより電着表面を活性化する。活
性化後、修正キャリアを蒸溜水で水洗いし、前処理が完
了する。
Next, a method of manufacturing the electrodeposition correction carrier will be described. The manufacturing process is divided into four steps of pretreatment, pre-plating, abrasive grain electrodeposition, and post-plating. The pretreatment is performed in order to remove chips, oils and fats adhering to the surface of the repair carrier in order to obtain a plating layer having good adhesion. First, the side surface of the modified carrier having good surface accuracy is subjected to an insulation treatment using a silicon caulking agent. This is soaked in acetone for 10 minutes to degrease it, and then soaked in 10% hydrochloric acid for 10 minutes to activate the electrodeposited surface. After activation, the modified carrier is rinsed with distilled water to complete the pretreatment.

【0027】前処理を終えた修正キャリアをメッキ装置
にセットする。そして、砥粒を保持するメッキ層の付着
力を増大させるために、修正キャリアの底面に予備メッ
キとしてニッケルメッキを20分間行う。
The modified carrier that has undergone the pretreatment is set in the plating apparatus. Then, in order to increase the adhesive force of the plating layer holding the abrasive grains, nickel plating is preliminarily plated on the bottom surface of the repair carrier for 20 minutes.

【0028】予備メッキを行った後、内槽30にダイヤ
モンド砥粒25を均一に沈澱させ、通電する。その後、
余分な砥粒を取り除き、着床の浅い砥粒を適度に埋める
ために、後メッキとしてニッケルメッキを行う。
After the preliminary plating is performed, the diamond abrasive grains 25 are uniformly precipitated in the inner tank 30 and the electricity is supplied. afterwards,
Nickel plating is performed as post-plating to remove excess abrasive grains and to properly fill the shallowly-grounded abrasive grains.

【0029】図8は電着修正キャリアの単位時間当たり
の修正加工量を検討したものであり、図10に示す従来
の円形修正キャリアと粒度#140〜170のダイヤモ
ンド砥粒を電着した円形修正キャリアとでラップを10
時間修正加工したときの修正加工量の比較である。比較
は、遊離研磨材の粒径を変化させて行った(粒度#28
0では途中で一回新たな修正キャリアに交換してい
る。)。図において、斜線の棒線は従来の修正キャリア
での修正加工量を示し、白線の棒線は電着キャリアでの
修正加工量を示している。従来の円形修正キャリアは2
時間ごとに交換して10時間加工を行った。
FIG. 8 shows the amount of correction processing per unit time of the electrodeposited correction carrier. The circular correction in which the conventional circular correction carrier shown in FIG. 10 and diamond abrasive grains of grain size # 140 to 170 are electrodeposited. 10 laps with the carrier
It is a comparison of the correction processing amount when the time correction processing. The comparison was performed by changing the particle size of the loose abrasive (particle size # 28
In 0, he changed to a new modified carrier once on the way. ). In the figure, the shaded bars indicate the amount of correction processing in the conventional correction carrier, and the white bars indicate the amount of correction processing in the electrodeposition carrier. The conventional circular correction carrier is 2
It was exchanged every hour and processed for 10 hours.

【0030】従来の円形修正キャリア及び電着した円形
修正キャリアは、粒径が小さくなる(粒度が大きくな
る)に従い修正加工量は減少する傾向を示している。従
来の円形修正キャリアに対し、電着した円形修正キャリ
アは、粒径55ミクロンから7.5ミクロンにかけて、
粒径が小さくなるに従いそれぞれ1.5倍、3倍、6
倍、16倍と修正加工量が増大していることがわかる。
The conventional circular correction carrier and the electrodeposited circular correction carrier show a tendency that the amount of correction processing decreases as the particle size decreases (particle size increases). Compared to the conventional circular correction carrier, the electrodeposited circular correction carrier has a particle size of 55 microns to 7.5 microns,
1.5 times, 3 times, 6 as the particle size decreases
It can be seen that the amount of correction processing is increased to double or 16 times.

【0031】これは電着されたダイヤモンド砥粒間に生
じたチップポケットに保持される遊離研磨材の数が多く
なり、遊離研磨材による引っ掻き作用の割合が増加した
ためであると考えられる。円形修正キャリアに電着を施
した場合でもラップの加工特性は電着なしの場合と同様
に平坦になり、遊離研磨材の粒径が25ミクロン(粒度
GC#600)のものを使用した場合、修正加工量は従
来の修正キャリアに比べ約3倍となっている。
It is considered that this is because the number of free abrasives held in the chip pockets generated between the electrodeposited diamond abrasive grains increased and the ratio of the scratching action by the free abrasives increased. Even when the circular correction carrier is electrodeposited, the processing characteristics of the lap are flat as in the case without electrodeposition, and when the free abrasive having a particle size of 25 microns (particle size GC # 600) is used, The amount of correction processing is about three times that of conventional correction carriers.

【0032】図9は図7のメッキ装置で矩形の修正キャ
リアに粒度#140〜170のダイヤモンド砥粒を電着
し、これを用いて凹状に偏摩耗したラップの修正加工を
行ったときの図である。修正加工の条件は図4及び図5
と同様であり、加工液も粒度#600(粒径25ミクロ
ン)の遊離研磨材を35wt%としたものを用いた。図
の線eはラップの表面形状を示し、線fは振幅5mm、
揺動振動数0.8Hzの条件下で1時間修正加工を行っ
たときのラップの表面形状を示し、線gはさらにその後
4時間修正加工を行ったときのラップの表面形状を示し
ている。加工時間中には修正キャリアの交換を行ってい
ない。
FIG. 9 is a view showing a case where a rectangular correction carrier is electrodeposited with diamond abrasive grains having a grain size of # 140 to 170 by the plating apparatus shown in FIG. Is. The conditions for correction processing are shown in FIGS.
The processing liquid used was a free abrasive having a particle size of # 600 (particle size of 25 microns) of 35 wt%. Line e in the figure shows the surface shape of the wrap, line f has an amplitude of 5 mm,
The surface shape of the lap when the correction processing is performed for 1 hour under the condition of the oscillation frequency of 0.8 Hz is shown, and the line g shows the surface shape of the lap when the correction processing is further performed for 4 hours thereafter. No modification carrier is exchanged during the processing time.

【0033】図9より、1時間修正加工後のラップの外
面形状はほぼ平坦になっていることがわかる。さらに4
時間、のべ5時間修正加工をしてもラップの表面形状は
平坦な形状を維持したまま加工量だけが増加しているこ
とがわかる。以上のことにより、電着した矩形修正キャ
リアを用いることによって、偏摩耗したラップの表面形
状に依存することなく、高能率、高精度な修正加工をす
ることができる。なお上記実施例はラップの片面の修正
加工のものであるが、両面の修正加工にも応用すること
ができることはもちろんである。
It can be seen from FIG. 9 that the outer surface shape of the lap after the correction processing for one hour is substantially flat. 4 more
It can be seen that even after the correction processing for a total of 5 hours, only the amount of processing increases while the surface shape of the lap remains flat. As described above, by using the electrodeposited rectangular correction carrier, highly efficient and highly accurate correction processing can be performed without depending on the surface shape of the unevenly worn lap. Although the above embodiment is for the correction processing on one side of the wrap, it goes without saying that it can be applied to the correction processing for both sides.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上のように、本発明の方法および装置
で用いる修正キャリアは矩形であるから、ラップの偏摩
耗状態に関わらず、ラップの表面性状を平坦に修正加工
することができる。また、矩形の修正キャリアに砥粒を
電着したので、耐摩耗性があり修正加工中に交換する必
要がない。更に通常のラッピング加工に比べて加工量を
増大させることができる。電着した砥粒より細かい遊離
砥粒を用いてやれば、より高能率に修正加工することが
可能であり、遊離砥粒径が小さくなるほど通常ラッピン
グと比べて修正加工を短時間に行うことができる。
As described above, since the correction carrier used in the method and apparatus of the present invention is rectangular, the surface texture of the lap can be corrected to be flat regardless of the uneven wear state of the lap. Further, since the abrasive grains are electrodeposited on the rectangular correction carrier, they have wear resistance and do not need to be replaced during the correction process. Further, it is possible to increase the processing amount as compared with the ordinary lapping processing. It is possible to perform correction processing with higher efficiency by using loose abrasive grains that are finer than the electrodeposited abrasive grains, and the smaller the free abrasive grain size, the shorter the time required for correction machining compared to normal lapping. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】回転型平面ラップ盤に付設して示す本発明の修
正キャリアの斜視図
FIG. 1 is a perspective view of a correction carrier of the present invention shown attached to a rotary type flat lapping machine.

【図2】修正キャリアの斜視図FIG. 2 is a perspective view of a correction carrier.

【図3】ラップと修正キャリアとの相対位置を示す平面
FIG. 3 is a plan view showing a relative position between a lap and a correction carrier.

【図4】凹状に偏摩耗したラップの修正加工のグラフFIG. 4 is a graph of correction processing of a lap that is unevenly worn in a concave shape.

【図5】凸状に偏摩耗したラップの修正加工のグラフFIG. 5 is a graph of correction processing of a lap that is unevenly worn in a convex shape.

【図6】電着した修正キャリアの拡大断面図FIG. 6 is an enlarged sectional view of an electrodeposited repair carrier.

【図7】メッキ装置の模式図FIG. 7 is a schematic diagram of a plating device.

【図8】遊離砥粒材と修正加工量との関係を示すグラフFIG. 8 is a graph showing the relationship between the loose abrasive material and the amount of correction processing.

【図9】矩形の電着修正キャリアによる修正加工のグラ
FIG. 9 is a graph of correction processing using a rectangular electrodeposition correction carrier.

【図10】回転型平面ラップ盤に付設して示す従来の修
正キャリアの斜視図
FIG. 10 is a perspective view of a conventional correction carrier shown attached to a rotary type flat lapping machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

7 モータ 9 回転レバー 18 ラップ 24 修正キャリア 25 ダイヤモンド砥粒 26 ニッケルメッキ層 C 修正キャリアの幅 L ラップの半径方向の幅 S 修正キャリアの長手方向寸法 7 Motor 9 Rotating Lever 18 Lap 24 Correction Carrier 25 Diamond Abrasive Grain 26 Nickel Plating Layer C Width of Correction Carrier L Radial Width of Wrap S Longitudinal Dimension of Correction Carrier

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 能登 武彦 石川県石川郡野々市町太平寺1−161 つ ばさ寮B203 (72)発明者 砂川 方直 石川県金沢市泉野出町2−8−11 ヴェー ル201 (72)発明者 守屋 紀彦 石川県石川郡野々市町住吉町3−31 杉森 アパート ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takehiko Noto 1-161 Taiheiji Temple, Nonoichi-cho, Ishikawa-gun, Ishikawa Prefecture B203 Dormitory B203 (72) Inventor, Naoto Sunagawa 2-8-11 Izuminode, Kanazawa-shi, Ishikawa Prefecture 201 (72) Inventor Norihiko Moriya 3-31 Sumiyoshi-cho, Nonoichi-machi, Ishikawa-gun, Ishikawa Sugimori Apartment

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円環平面状のラッピング面を有するラッ
プ(18)をその円環の中心軸まわりに回転させながら、修
正キャリア(24)をラッピング面に押接するラップの修正
方法において、ラップの半径方向の幅(L) より長い長辺
を有する矩形の修正キャリア(24)を、その長辺をラップ
(18)の半径方向にしてラッピング面に押接し、修正キャ
リア(24)がラッピング面から外れないストロークで修正
キャリア(24)を往復動させながらラップ(18)を回転させ
ることを特徴とする、ラップの修正方法。
1. A method of repairing a wrap in which a repair carrier (24) is pressed against a wrapping surface while rotating the wrap (18) having a ring-shaped planar wrapping surface around the central axis of the ring. Wrap a rectangular modified carrier (24) with a long side longer than the radial width (L) around the long side.
(18) is pressed against the lapping surface in the radial direction, and the wrap (18) is rotated while reciprocating the correction carrier (24) with a stroke in which the correction carrier (24) does not come off the lapping surface. How to fix laps.
【請求項2】 ラップの修正装置において、修正しよう
とするラップ(18)の半径方向の幅(L) より長い長辺を有
する矩形の修正キャリア(24)が、その長辺をラップ(18)
の半径方向にして装着されており、かつこの修正キャリ
ア(24)をラップ(18)の面と平行な面内で往復動させる往
復動装置(7,9) を備えていることを特徴とする、ラップ
の修正装置。
2. In a wrap repairing device, a rectangular repair carrier (24) having a long side longer than the radial width (L) of the wrap (18) to be repaired is wrapped around the long side.
And is equipped with a reciprocating device (7, 9) for reciprocating the correction carrier (24) in a plane parallel to the plane of the wrap (18). , Lap fixer.
【請求項3】 修正キャリア(24)の加工面に砥粒(25)が
電着されていることを特徴とする、請求項2記載のラッ
プの修正装置。
3. The lap correcting device according to claim 2, wherein abrasive particles (25) are electrodeposited on the processing surface of the correction carrier (24).
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