JPH0863794A - 光ディスク及びその製造方法及び光ディスク複製用スタンパ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】プリピットが有る領域と無い領域でのトラック
クロス信号、プッシュプル信号の差を補正することがで
き、信号特性の信頼性を向上することができる光ディス
ク及びその製造方法を提供する。 【構成】本発明は、同心円状もしくはらせん状の案内溝
２を有し、該案内溝２の間にプリピット列が形成された
部分（記録あるいは書替領域のヘッダー部あるいは再生
専用領域）６と、プリピット列が形成されていない部分
（記録あるいは書替領域のデータ部）５とを有する光デ
ィスク１において、プリピット３が隣接する部分の案内
溝２は、プリピット３が隣接しない部分の案内溝２と形
状が異なることを特徴とする。また、上記光ディスクの
製造方法としては、光ディスク原盤露光時に、プリピッ
トが隣接する部分の案内溝と、プリピットが隣接しない
部分の案内溝の形状を異ならせるようにレーザー露光パ
ワーを個別に制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的な情報記録再生
媒体としての光ディスク及びその製造方法、及び光ディ
スク複製用スタンパに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、再生専用の光ディスクに加えて、
追記型、書替型などの光ディスクが実用化されている。
また、同一のディスク上に再生専用（ＲＯＭ）領域と記
録可能領域が形成された光ディスクも開発されている。
このような光ディスクでは、図４（ａ）に示すように、
同心円状もしくはらせん状の案内溝（トラック）２を有
し、該案内溝２の間のランド４にプリピット３が形成さ
れた部分（記録あるいは書替（Rewritable）領域のヘッ
ダー（Header）部（アドレスやインデックス、セクター
マーク等のコントロール情報が予め記録されているトラ
ック）あるいは再生専用（ＲＯＭ）領域）６と、プリピ
ット列が形成されていない部分（記録あるいは書替（Re
writable）領域のデータ（Data）部）５とを有してい
る。

【０００３】ところで、光ディスクを再生する際に、メ
ディアの、特にプリフォーマット信号が肝要である。す
なわち、目標とするセクターまでピックアップを移動さ
せるために、何本のトラックを飛び越したかをカウント
する信号（トラッククロス信号（又はオフトラック信
号））や、該セクターのアドレスや、インデックス信号
を再生するために、充分なトラッキング性能を持たせる
ためのプッシュプル信号が重要である。しかし、一部再
生専用型や追記型、書替型等のＲＯＭ情報を多く含んだ
Ｐ−ＲＯＭメディアでは、従来、案内溝２の形状はプリ
ピット３が有る部分と無い部分とで同じ形状なため、図
４（ｂ）に示すように、プリピット３の有る部分でトラ
ッククロス信号のランドレベルが下がり、信号振幅が低
下する。このため、プリピットの無い記録あるいは書替
（Rewritable）領域からプリピットの有るＲＯＭ領域等
にピックアップがスキャンしていく時に、トラッククロ
ス信号やプッシュプル信号の信号レベルの低下が激し
く、トラックカウントやトラッキング性能が著しく悪化
し、充分なメディア信号特性が得られなくなるという問
題がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであって、プリピットが有る領域と無
い領域でのトラッククロス信号、プッシュプル信号の信
号レベルの差を補正することができ、信号特性の信頼性
を向上することができる光ディスク及びその製造方法を
提供することを目的としている。また、本発明は、信号
特性の信頼性が向上された追記あるいは書替型や、一部
再生専用型の光ディスクを量産するための光ディスク複
製用スタンパを提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、同心円状もしくはらせん状の案内溝を有
し、該案内溝の間にプリピット列が形成された部分（記
録あるいは書替（Rewritable）領域のヘッダー（Heade
r）部あるいは再生専用（ＲＯＭ）領域）と、プリピッ
ト列が形成されていない部分（記録あるいは書替（Rewr
itable）領域のデータ（Data）部）とを有する光ディス
クにおいて、プリピットが隣接する部分の案内溝は、プ
リピットが隣接しない部分の案内溝と形状が異なること
を特徴としている（請求項１）。

【０００６】より具体的には、プリピットが隣接する部
分の案内溝は、プリピットが隣接しない部分の案内溝よ
り位相深さが深い形状とする（請求項２）。

【０００７】または、プリピットが隣接する部分の案内
溝は、プリピットが隣接しない部分の案内溝より細い形
状とする（請求項３）。

【０００８】さらに本発明の光ディスクでは、記録ある
いは書替（Rewritable）領域を有する場合には、記録あ
るいは書替領域のヘッダー（Header）部とデータ（Dat
a）部で、案内溝の形状が異なることを特徴とする（請
求項４）。

【０００９】より具体的には、記録あるいは書替領域で
ヘッダー部の案内溝がデータ部の案内溝より位相深さが
深い形状とする（請求項６）。

【００１０】または、記録あるいは書替領域でヘッダー
部の案内溝がデータ部の案内溝より細い形状とする（請
求項８）。

【００１１】さらに本発明の光ディスクでは、記録ある
いは書替領域と再生専用（ＲＯＭ）領域を有する場合に
は、データ部の案内溝の形状が記録あるいは書替領域と
再生専用領域で異なることを特徴とする（請求項５）。

【００１２】より具体的は、データ部の案内溝の形状
が、再生専用領域で記録あるいは書替領域より位相深さ
が深い形状とする（請求項７）。

【００１３】または、データ部の案内溝の形状が、再生
専用領域で記録あるいは書替領域より細い形状とする
（請求項９）。

【００１４】次に、上記光ディスクの製造方法として、
本発明では、ガラス基板上にフォトレジスト膜を塗布形
成し、レーザー露光及び現像により、フォトレジスト膜
上にプリピット及び案内溝となる凹凸状の微細パターン
を形成して光ディスク原盤を作製し、該光ディスク原盤
に導体化膜を形成し、該導体膜を陰極として電鋳した
後、ガラス基板を剥離してスタンパを得て、該スタンパ
より射出成形法などにより光ディスクを作製する光ディ
スクの製造方法において、光ディスク原盤露光時に、プ
リピットが隣接する部分の案内溝と、プリピットが隣接
しない部分の案内溝の形状を異ならせるように、レーザ
ー露光パワーを個別に制御することを特徴としている
（請求項１０）。

【００１５】より具体的には、光ディスク原盤露光時
に、記録あるいは書替領域（現像後識別可能）で、ヘッ
ダー部とデータ部の案内溝のレーザー露光パワーを個別
に制御する（請求項１１）。

【００１６】または、光ディスク原盤露光時に、データ
部の案内溝のレーザー露光パワーを、記録あるいは書替
領域と、再生専用領域で、個別に制御する（請求項１
２）。

【００１７】または、光ディスク原盤露光時に、記録あ
るいは書替領域の各セクターのヘッダー部のプリピット
をレーザー露光により形成する際に、セクターの先頭
（セクターマーク）を示すフォーマッター信号に同期さ
せて、案内溝のレーザー露光パワーを制御する（請求項
１３）。

【００１８】または、光ディスク原盤露光時に、再生専
用領域の開始セクターのプリピットをレーザー露光によ
り形成する際に、セクターの先頭（セクターマーク）を
示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザ
ー露光パワーを制御する（請求項１４）。

【００１９】または、光ディスク原盤露光時に、記録あ
るいは書替領域の各セクターのヘッダー部の最後である
オフセット検知フラグ（ＯＤＦ：Offset Detection Fla
g）を示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝の
レーザー露光パワーを制御する（請求項１５）。

【００２０】または、光ディスク原盤露光時に、再生専
用領域の最終セクターの最終ピットであるＰＡ（Postam
ble）を示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝
のレーザー露光パワーを制御する（請求項１６）。

【００２１】さらに具体的には、光ディスク原盤露光時
に、記録あるいは書替領域の各セクターの先頭（セクタ
ーマーク）を示すフォーマッター信号に同期させて、案
内溝のレーザー露光パワーを大きくする（請求項１
７）。

【００２２】または、光ディスク原盤露光時に、再生専
用領域の開始セクターの先頭（セクターマーク）を示す
フォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露
光パワーを大きくする（請求項１８）。

【００２３】または、光ディスク原盤露光時に、記録あ
るいは書替領域の各セクターのヘッダー部の最後である
ＯＤＦを示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝
のレーザー露光パワーを小さくする（元に戻す）（請求
項１９）。

【００２４】または、光ディスク原盤露光時に、再生専
用領域の最終セクターの最終ピットであるＰＡを示すフ
ォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光
パワーを小さくする（元に戻す）（請求項２０）。

【００２５】さらに本発明による追記あるいは書替型の
光ディスク複製用スタンパは、ガラス基板上にフォトレ
ジスト膜を塗布形成した後、レーザー露光時に、記録あ
るいは書替（Rewritable）領域の各セクターの先頭（セ
クターマーク）を示すフォーマッター信号に同期させて
案内溝のレーザー露光パワーを大きくし、かつ記録ある
いは書替領域の各セクターのヘッダー（Header）部の最
後であるオフセット検知フラグ（ＯＤＦ：Offset Detec
tion Flag)を示すフォーマッター信号に同期させて案内
溝のレーザー露光パワーを小さくする（元に戻す）よう
に制御し、レーザー露光後、現像により、フォトレジス
ト膜上にプリピット及び案内溝となる凹凸状の微細パタ
ーンを形成して追記あるいは書替型の光ディスク原盤を
作製し、該光ディスク原盤に導体化膜を形成し、該導体
膜を陰極として電鋳した後、ガラス基板を剥離して得ら
れたことを特徴としている（請求項２１）。また、本発
明による追記あるいは書替型光ディスクは、上記光ディ
スク複製用スタンパを型として用い射出成形法などによ
り得られる（請求項２３）。

【００２６】さらに本発明による一部再生専用型の光デ
ィスク複製用スタンパは、ガラス基板上にフォトレジス
ト膜を塗布形成した後、レーザー露光時に、再生専用
（ＲＯＭ）領域の開始セクターの先頭（セクターマー
ク）を示すフォーマッター信号に同期させて案内溝のレ
ーザー露光パワーを大きくし、かつ再生専用領域の最終
セクターの最終ピットであるＰＡ（Postamble）を示す
フォーマッター信号に同期させて案内溝のレーザー露光
パワーを小さくする（元に戻す）ように制御し、レーザ
ー露光後、現像により、フォトレジスト膜上にプリピッ
ト及び案内溝となる凹凸状の微細パターンを形成して一
部再生専用型の光ディスク原盤を作製し、該光ディスク
原盤に導体化膜を形成し、該導体膜を陰極として電鋳し
た後、ガラス基板を剥離して得られたことを特徴として
いる（請求項２２）。また、本発明による一部再生専用
型光ディスクは、上記光ディスク複製用スタンパを型と
して用い射出成形法などにより得られる（請求項２
４）。

【００２７】

【作用】本発明は、光ディスク及び光ディスクの製造方
法において、光ディスク原盤露光時に、プリピットが隣
接する部分の案内溝と、プリピットが隣接しない部分の
案内溝の形状を異ならせるように、レーザー露光パワー
を個別に制御し、プリピットが隣接する部分（記録ある
いは書替（Rewritable）領域のヘッダー（Header）部
や、再生専用（ＲＯＭ）領域の全部）の案内溝と、プリ
ピットが隣接しない部分（記録あるいは書替（Rewritab
le）領域のデータ部）の案内溝との形状が異なるように
したことにより、再生信号特性、特に、トラッククロ
ス、プッシュプル信号が、プリピットが隣接する部分、
プリピットが隣接しない部分にかかわらず、安定してい
て、セクターシーク時のトラックカウントや、アドレス
・インデックス信号を再生時のトラッキング性能が高
く、異なるメーカーのドライブに対しても、優れた互換
性を有する高品質の光ディスクを提供でき、かつその光
ディスクの製造を可能とする製造方法を提供することが
できる。また、本発明によれば、追記あるいは書替型
や、一部再生専用型の光ディスクの量産を可能とする光
ディスク複製用スタンパを提供することができる。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の実施例について述べる。図１
は本発明の一実施例を示す図であって、（ａ）は光ディ
スクの要部を示す断面切欠き図、（ｂ）は（ａ）に示す
光ディスクに対応するオフトラック和信号（トラックク
ロス信号）を示す図である。本実施例では、図１（ａ）
に示すように、プリピット３に隣接する部分（記録ある
いは書替（Rewritable）領域のヘッダー（Header）部等
や、再生専用（ＲＯＭ）領域の全部）６の案内溝２の深
さｈ₁ を、プリピット３が隣接しない部分（記録あるい
は書替（Rewritable）領域のデータ部）５の案内溝２の
深さｈ₀ より深く（ｈ₁＞ｈ₀）したものであり、これに
より、図１（ｂ）に示すようにプリピット３に隣接する
部分６の案内溝部分のレベルが下がるため、プリピット
３が有る部分のランド４によるレベルが下がっても信号
の振幅は確保できるため、トラッククロス信号の信号レ
ベルの低下を抑えることができ、トラックカウントの信
頼性を向上することができる。

【００２９】ここで、上記のような溝形状の光ディスク
の製造方法について述べる。まずガラス基板上にフォト
レジスト膜を塗布形成し、レーザー露光及び現像によ
り、フォトレジスト膜上にプリピット及び案内溝となる
凹凸状の微細パターンを形成して光ディスク原盤を作製
するが、レーザーによる光ディスク原盤露光時に、プリ
ピットが隣接する部分（記録あるいは書替（Rewritabl
e）領域のヘッダー（Header）部等や、再生専用（ＲＯ
Ｍ）領域の全部）の案内溝と、プリピットが隣接しない
部分（記録あるいは書替（Rewritable）領域のデータ
部）の案内溝の形状を異ならせるように、レーザー露光
パワーを個別に制御する。より具体的には、プリピット
が隣接する部分の案内溝のレーザー露光パワーを大きく
する。そして露光後、現像すれば、フォトレジスト膜上
にプリピット及び案内溝となる凹凸状の微細パターンが
形成された光ディスク原盤が得られ、この時、上記レー
ザー露光パワーの違いにより、光ディスク原盤上のプリ
ピットが隣接する部分と隣接しない部分とで案内溝の形
状を異ならせることができる。次に、光ディスク原盤に
導体化膜を形成し、該導体膜を陰極として電鋳した後、
ガラス基板を剥離すれば、光ディスク複製用スタンパが
得られる。そして、このスタンパを型として用い射出成
形法などにより光ディスクを作製すれば、図１に示した
ような、プリピットが隣接する部分と、プリピットが隣
接しない部分とで案内溝の形状が異なる光ディスクが得
られる。

【００３０】次に、本発明の光ディスク及び光ディスク
複製用スタンパ及びそれらの製造方法の具体的な実施例
を示す。 ［実施例１］まず、ガラス基板上にフォトレジスト膜を
塗布形成後、光ディスク原盤のレーザー露光時に、書替
（Rewritable）領域（現像後識別可能）で、各セクター
の先頭（セクターマーク）を示すフォーマッター信号に
同期させて、ヘッダー（Header）部（コントロールトラ
ック）の案内溝のレーザー露光パワーを大きくし、かつ
各セクターのヘッダー部の最後であるオフセット検知フ
ラグ（ＯＤＦ：OffsetDetection Flag）を示すフォーマ
ッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワー
を小さくする（元に戻す）。その後、現像により、フォ
トレジスト膜上に凹凸状の微細パターン（プリピット及
び案内溝）を形成して書替型光ディスク原盤を得る。こ
のようにして得られた光ディスク原盤では、原盤上の案
内溝の形状はヘッダー部とデータ部で異なり、ヘッダー
部の案内溝の方が深い形状となる。次に、この書替型光
ディスク原盤に導体化膜を形成し、該導体化膜を陰極と
してＮｉ等により電鋳した後、ガラス基板を剥離すれば
書替型光ディスク複製用スタンパが得られる。次に、こ
のスタンパを型として用い、樹脂による射出成形などに
より書替型光ディスクを製造する。このようにして得ら
れた書替型光ディスクのトラッククロス信号の信号レベ
ルを図２に示す。

【００３１】［比較例１］比較例として、実施例１と同
様の方法で書替型光ディスクを製造する。但し、ヘッダ
ー部とデータ部の案内溝をレーザー露光する場合の露光
パワーは変えない（従って、原盤上の案内溝の形状はヘ
ッダー部とデータ部で同じであり、結果としてスタンパ
及び光ディスクの案内溝の形状はヘッダー部とデータ部
で同じである）。このようにして得られた書替型光ディ
スクのトラッククロス信号の信号レベルを図２に示す。

【００３２】図２に示すように、比較例１による書替型
光ディスクでは、書替（Rewritable）領域のデータ部と
ヘッダー部（コントロールトラック部）とでトラックク
ロス信号の信号レベルの差が大きいが、実施例１による
書替型光ディスクでは、その差が小さく、トラッククロ
ス信号の振幅（信号レベル）の低下を抑えることがで
き、トラックカウントの信頼性を向上することができ
た。

【００３３】［実施例２］実施例１と同様の方法で一部
再生専用型光ディスクを製造する。但し、レーザー露光
時に、ＲＯＭ領域の開始セクターの先頭（セクターマー
ク）を示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝の
レーザー露光パワーを大きくし、かつＲＯＭ領域の最終
セクターの最終ピットであるＰＡ（postamble）を示す
フォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露
光パワーを小さくする（元に戻す）。その後、現像によ
り、一部再生専用型光ディスク原盤を製造する。このよ
うにして得られた光ディスク原盤では、原盤上の案内溝
の形状はＲＯＭ領域の案内溝の方が書替領域のデータ部
の案内溝より深い形状となる。次に、この一部再生専用
型光ディスク原盤に導体化膜を形成し、該導体化膜を陰
極としてＮｉ等により電鋳した後、ガラス基板を剥離す
れば一部再生専用型光ディスク複製用スタンパが得られ
る。次に、このスタンパを型として用い、樹脂による射
出成形などにより一部再生専用型光ディスクを製造す
る。このようにして得られた一部再生専用型光ディスク
のトラッククロス信号の信号レベルを図３に示す。

【００３４】［比較例２］実施例２と同様の方法で一部
再生専用型光ディスクを製造する。但し、書替（Rewrit
able）領域とＲＯＭ領域の案内溝をレーザー露光する場
合の露光パワーは変えない（従って、原盤上の案内溝の
形状は書替領域とＲＯＭ領域で同じであり、結果として
スタンパ及び光ディスクの案内溝の形状は書替領域とＲ
ＯＭ領域で同じである）。このようにして得られた一部
再生専用型光ディスクのトラッククロス信号の信号レベ
ルを図３に示す。

【００３５】図３に示すように、比較例２による一部再
生専用型光ディスクでは、書替（Rewritable）領域とＲ
ＯＭ領域とでトラッククロス信号の信号レベルの差が大
きく、ＲＯＭ領域で大幅なレベル低下が見られるが、実
施例２による一部再生専用型光ディスクではその差が小
さく、ＲＯＭ領域でのトラッククロス信号の振幅（信号
レベル）の低下を抑えることができ、トラックカウント
の信頼性を向上することができた。

【００３６】

【発明の効果】以上のように、請求項１記載の光ディス
クにおいては、プリピットが隣接する部分の案内溝は、
プリピットが隣接しない部分の案内溝と形状が異なるこ
とにより、トラッククロス、プッシュプル信号の差を補
正することが可能となる。

【００３７】請求項２記載の光ディスクにおいては、プ
リピットが隣接する部分の案内溝は、プリピットが隣接
しない部分の案内溝より位相深さが深いことにより、プ
リピットが隣接する部分でのトラッククロス、プッシュ
プル信号の振幅低下を抑えることができる。

【００３８】請求項３記載の光ディスクにおいては、プ
リピットが隣接する部分の案内溝は、プリピットが隣接
しない部分の案内溝より細いことにより、プリピットが
隣接する部分でのトラッククロス、プッシュプル信号の
振幅低下を抑えることができる。

【００３９】請求項４記載の光ディスクにおいては、記
録あるいは書替（Rewritable）領域のヘッダー部（Head
er）とデータ（Data）部で、案内溝の形状が異なること
により、トラッククロス、プッシュプル信号の差を補正
することが可能となる。

【００４０】請求項５記載の光ディスクにおいては、デ
ータ部の案内溝の形状が記録あるいは書替領域と、再生
専用（ＲＯＭ）領域で異なることにより、トラッククロ
ス、プッシュプル信号の差を補正することが可能とな
る。

【００４１】請求項６記載の光ディスクにおいては、記
録あるいは書替領域でヘッダー部の案内溝がデータ部の
案内溝より位相深さが深いことにより、ヘッダー部での
トラッククロス、プッシュプル信号の振幅低下を抑える
ことができる。

【００４２】請求項７記載の光ディスクにおいては、デ
ータ部の案内溝の形状が、再生専用領域で記録あるいは
書替領域より位相深さが深いことにより、再生専用領域
のデータ部でのトラッククロス、プッシュプル信号の振
幅低下を抑えることができる。

【００４３】請求項８記載の光ディスクにおいては、記
録あるいは書替領域でヘッダー部の案内溝がデータ部の
案内溝より細いことにより、ヘッダー部でのトラックク
ロス、プッシュプル信号の振幅低下を抑えることができ
る。

【００４４】請求項９記載の光ディスクにおいては、デ
ータ部の案内溝の形状が、再生専用領域で記録あるいは
書替領域より細いことにより再生専用領域のデータ部で
のトラッククロス、プッシュプル信号の振幅低下を抑え
ることができる。

【００４５】請求項１０記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、プリピットが隣接
する部分の案内溝と、プリピットが隣接しない部分の案
内溝の形状を異ならせるように、レーザー露光パワーを
個別に制御することにより、プリピットが隣接する部分
と隣接しない部分の案内溝の形状を容易に変えることが
できる。

【００４６】請求項１１記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
領域（現像後識別可能）で、ヘッダー部とデータ部の案
内溝のレーザー露光パワーを個別に制御することによ
り、ヘッダー部とデータ部の案内溝の形状を容易に変え
ることができる。

【００４７】請求項１２記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、データ部の案内溝
のレーザー露光パワーを、記録あるいは書替領域と再生
専用領域で、個別に制御することにより、記録あるいは
書替領域と再生専用領域の各々のデータ部の案内溝の形
状を容易に変えることができる。

【００４８】請求項１３記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
領域の各セクターのヘッダー部のプリピットをレーザー
露光により形成する際に、セクターの先頭（セクターマ
ーク）を示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝
のレーザー露光パワーを制御することにより、記録ある
いは書替領域の各セクターのヘッダー部のみ案内溝の形
状を容易に変えることができる。

【００４９】請求項１４記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の開
始セクターのプリピットをレーザー露光により形成する
際に、セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォー
マッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワ
ーを制御することにより、記録あるいは書替領域と再生
専用領域の案内溝の形状を容易に変えることができる。

【００５０】請求項１５記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
領域の各セクターのヘッダー部の最後であるＯＤＦ（Of
fsetDetection Flag）を示すフォーマッター信号に同期
させて、案内溝のレーザー露光パワーを制御することに
より、記録あるいは書替領域の各セクターのヘッダー部
のみ案内溝の形状を容易に変えることができる。

【００５１】請求項１６記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の最
終セクターの最終ピットであるＰＡ（Postamble）を示
すフォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー
露光パワーを制御することにより、記録あるいは書替領
域と、再生専用領域の案内溝の形状を容易に変えること
ができる。

【００５２】請求項１７記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
領域の各セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォ
ーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パ
ワーを大きくすることにより、記録あるいは書替領域の
各セクターのヘッダー部のみ案内溝の位相深さを深くす
ることができる。

【００５３】請求項１８記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の開
始セクターのセクターの先頭（セクターマーク）を示す
フォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露
光パワーを大きくすることにより、再生専用領域の案内
溝の位相深さを記録あるいは書替領域より深くすること
ができる。

【００５４】請求項１９記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
領域の各セクターのヘッダー部の最後であるＯＤＦを示
すフォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー
露光パワーを小さくする（元に戻す）ことにより、記録
あるいは書替領域の各セクターのヘッダー部のみ選択的
に案内溝の位相深さを深くすることができる。

【００５５】請求項２０記載の光ディスクの製造方法に
おいては、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の最
終セクターの最終ピットであるＰＡを示すフォーマッタ
ー信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワーを小
さくする（元に戻す）ことにより、再生専用領域の案内
溝の位相深さを選択的に記録あるいは書替領域より深く
することができる。

【００５６】請求項２１記載の光ディスク複製用スタン
パにおいては、追記あるいは書替領域のヘッダー部の案
内溝形状とデータ部の案内溝形状とが異なるため、ヘッ
ダー部でのトラッククロス、プッシュプル信号の振幅低
下の小さい追記型あるいは書替型の光ディスクを量産す
ることが可能となる。

【００５７】請求項２２記載の光ディスク複製用スタン
パにおいては、再生専用領域の案内溝形状と追記あるい
は書替領域の案内溝形状とが異なるため、再生専用領域
でのトラッククロス、プッシュプル信号の振幅低下の小
さい一部再生専用型の光ディスクを量産することが可能
となる。

【００５８】請求項２３記載の光ディスクは、請求項２
１の追記あるいは書替型光ディスク複製用スタンパより
得られるため、再生信号特性、特に、トラッククロス、
プッシュプル信号がヘッダー部、データ部にかかわらず
安定していて、セクターシーク時のトラックカウント
や、アドレス・インデックス信号を再生時のトラッキン
グ性能が高く、異なるメーカーのドライブに対しても、
優れた互換性を有する。

【００５９】請求項２４記載の光ディスクは、請求項２
２の一部再生専用型光ディスク複製用スタンパより得ら
れるため、再生信号特性、特に、トラッククロス、プッ
シュプル信号が、記録あるいは書替領域、再生専用領域
にかかわらず、安定していて、セクターシーク時のトラ
ックカウントや、アドレス・インデックス信号を再生時
のトラッキング性能が高く、異なるメーカーのドライブ
に対しても、優れた互換性を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す図であって、（ａ）は
光ディスクの要部を示す断面切欠き図、（ｂ）は（ａ）
に示す光ディスクに対応するオフトラック和信号（トラ
ッククロス信号）を示す図である。

【図２】本発明の実施例１と比較例１に示す光ディスク
のトラッククロス信号の信号レベルを示す図である。

【図３】本発明の実施例２と比較例２に示す光ディスク
のトラッククロス信号の信号レベルを示す図である。

【図４】（ａ）は従来の光ディスクの要部を示す断面切
欠き図、（ｂ）は（ａ）に示す光ディスクに対応するオ
フトラック和信号（トラッククロス信号）を示す図であ
る。

【符号の説明】

１：光ディスク ２：案内溝 ３：プリピット ４：ランド ５：プリピットが隣接しない部分（記録あるいは書替領
域のデータ部） ６：プリピットが隣接する部分（ヘッダー部やＲＯＭ領
域）

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】同心円状もしくはらせん状の案内溝を有
   し、該案内溝の間にプリピット列が形成された部分（記
   録あるいは書替（Rewritable）領域のヘッダー（Heade
   r）部あるいは再生専用（ＲＯＭ）領域）と、プリピッ
   ト列が形成されていない部分（記録あるいは書替（Rewr
   itable）領域のデータ（Data）部）とを有する光ディス
   クにおいて、プリピットが隣接する部分の案内溝は、プ
   リピットが隣接しない部分の案内溝と形状が異なること
   を特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】請求項１記載の光ディスクにおいて、プリ
   ピットが隣接する部分の案内溝は、プリピットが隣接し
   ない部分の案内溝より位相深さが深いことを特徴とする
   光ディスク。
3. 【請求項３】請求項１記載の光ディスクにおいて、プリ
   ピットが隣接する部分の案内溝は、プリピットが隣接し
   ない部分の案内溝より細いことを特徴とする光ディス
   ク。
4. 【請求項４】請求項１記載の光ディスクにおいて、記録
   あるいは書替（Rewritable）領域を有する場合に、記録
   あるいは書替領域のヘッダー（Header）部とデータ（Da
   ta）部で、案内溝の形状が異なることを特徴とする光デ
   ィスク。
5. 【請求項５】請求項１記載の光ディスクにおいて、記録
   あるいは書替領域と再生専用（ＲＯＭ）領域を有する場
   合に、データ部の案内溝の形状が記録あるいは書替領域
   と再生専用領域で異なることを特徴とする光ディスク。
6. 【請求項６】請求項１，４記載の光ディスクにおいて、
   記録あるいは書替領域でヘッダー部の案内溝がデータ部
   の案内溝より位相深さが深いことを特徴とする光ディス
   ク。
7. 【請求項７】請求項１，５記載の光ディスクにおいて、
   データ部の案内溝の形状が、再生専用領域で記録あるい
   は書替領域より位相深さが深いことを特徴とする光ディ
   スク。
8. 【請求項８】請求項１，４記載の光ディスクにおいて、
   記録あるいは書替領域でヘッダー部の案内溝がデータ部
   の案内溝より細いことを特徴とする光ディスク。
9. 【請求項９】請求項１，５記載の光ディスクにおいて、
   データ部の案内溝の形状が、再生専用領域で記録あるい
   は書替領域より細いことを特徴とする光ディスク。
10. 【請求項１０】ガラス基板上にフォトレジスト膜を塗布
    形成し、レーザー露光及び現像により、フォトレジスト
    膜上にプリピット及び案内溝となる凹凸状の微細パター
    ンを形成して光ディスク原盤を作製し、該光ディスク原
    盤に導体化膜を形成し、該導体膜を陰極として電鋳した
    後、ガラス基板を剥離してスタンパを得て、該スタンパ
    より射出成形法などにより光ディスクを作製する光ディ
    スクの製造方法において、光ディスク原盤露光時に、プ
    リピットが隣接する部分の案内溝と、プリピットが隣接
    しない部分の案内溝の形状を異ならせるように、レーザ
    ー露光パワーを個別に制御することを特徴とする光ディ
    スクの製造方法。
11. 【請求項１１】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
    領域（現像後識別可能）で、ヘッダー部とデータ部の案
    内溝のレーザー露光パワーを個別に制御することを特徴
    とする光ディスクの製造方法。
12. 【請求項１２】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、データ部の案内溝
    のレーザー露光パワーを、記録あるいは書替領域と、再
    生専用領域で、個別に制御することを特徴とする光ディ
    スクの製造方法。
13. 【請求項１３】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
    領域の各セクターのヘッダー部のプリピットをレーザー
    露光により形成する際に、セクターの先頭（セクターマ
    ーク）を示すフォーマッター信号に同期させて、案内溝
    のレーザー露光パワーを制御することを特徴とする光デ
    ィスクの製造方法。
14. 【請求項１４】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の開
    始セクターのプリピットをレーザー露光により形成する
    際に、セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォー
    マッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワ
    ーを制御することを特徴とする光ディスクの製造方法。
15. 【請求項１５】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
    領域の各セクターのヘッダー部の最後であるオフセット
    検知フラグ（ＯＤＦ：Offset Detection Flag）を示す
    フォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露
    光パワーを制御することを特徴とする光ディスクの製造
    方法。
16. 【請求項１６】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の最
    終セクターの最終ピットであるＰＡ（Postamble）を示
    すフォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー
    露光パワーを制御することを特徴とする光ディスクの製
    造方法。
17. 【請求項１７】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
    領域の各セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォ
    ーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パ
    ワーを大きくすることを特徴とする光ディスクの製造方
    法。
18. 【請求項１８】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の開
    始セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォーマッ
    ター信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワーを
    大きくすることを特徴とする光ディスクの製造方法。
19. 【請求項１９】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、記録あるいは書替
    領域の各セクターのヘッダー部の最後であるＯＤＦを示
    すフォーマッター信号に同期させて、案内溝のレーザー
    露光パワーを小さくする（元に戻す）ことを特徴とする
    光ディスクの製造方法。
20. 【請求項２０】請求項１０記載の光ディスクの製造方法
    において、光ディスク原盤露光時に、再生専用領域の最
    終セクターの最終ピットであるＰＡを示すフォーマッタ
    ー信号に同期させて、案内溝のレーザー露光パワーを小
    さくする（元に戻す）ことを特徴とする光ディスクの製
    造方法。
21. 【請求項２１】ガラス基板上にフォトレジスト膜を塗布
    形成した後、レーザー露光時に、記録あるいは書替（Re
    writable）領域の各セクターの先頭（セクターマーク）
    を示すフォーマッター信号に同期させて案内溝のレーザ
    ー露光パワーを大きくし、かつ記録あるいは書替領域の
    各セクターのヘッダー（Header）部の最後であるオフセ
    ット検知フラグ（ＯＤＦ：Offset Detection Flag)を示
    すフォーマッター信号に同期させて案内溝のレーザー露
    光パワーを小さくする（元に戻す）ように制御し、レー
    ザー露光後、現像により、フォトレジスト膜上にプリピ
    ット及び案内溝となる凹凸状の微細パターンを形成して
    追記あるいは書替型の光ディスク原盤を作製し、該光デ
    ィスク原盤に導体化膜を形成し、該導体膜を陰極として
    電鋳した後、ガラス基板を剥離して得られたことを特徴
    とする追記あるいは書替型の光ディスク複製用スタン
    パ。
22. 【請求項２２】ガラス基板上にフォトレジスト膜を塗布
    形成した後、レーザー露光時に、再生専用（ＲＯＭ）領
    域の開始セクターの先頭（セクターマーク）を示すフォ
    ーマッター信号に同期させて案内溝のレーザー露光パワ
    ーを大きくし、かつ再生専用領域の最終セクターの最終
    ピットであるＰＡ（Postamble）を示すフォーマッター
    信号に同期させて案内溝のレーザー露光パワーを小さく
    する（元に戻す）ように制御し、レーザー露光後、現像
    により、フォトレジスト膜上にプリピット及び案内溝と
    なる凹凸状の微細パターンを形成して一部再生専用型の
    光ディスク原盤を作製し、該光ディスク原盤に導体化膜
    を形成し、該導体膜を陰極として電鋳した後、ガラス基
    板を剥離して得られたことを特徴とする一部再生専用型
    の光ディスク複製用スタンパ。
23. 【請求項２３】請求項２１記載の追記あるいは書替型光
    ディスク複製用スタンパを型として用い射出成形法など
    により得られたことを特徴とする追記あるいは書替型光
    ディスク。
24. 【請求項２４】請求項２２記載の一部再生専用型光ディ
    スク複製用スタンパを型として用い射出成形法などによ
    り得られたことを特徴とする一部再生専用型光ディス
    ク。