JPH085663A - Prober for integrated circuit element - Google Patents

Prober for integrated circuit element

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Publication number
JPH085663A
JPH085663A JP13923494A JP13923494A JPH085663A JP H085663 A JPH085663 A JP H085663A JP 13923494 A JP13923494 A JP 13923494A JP 13923494 A JP13923494 A JP 13923494A JP H085663 A JPH085663 A JP H085663A
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JP
Japan
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contact
prober
integrated circuit
land
base
Prior art date
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Pending
Application number
JP13923494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuyoshi Nakano
勝吉 中野
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AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KUMIAI
Original Assignee
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU
AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KUMIAI
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Filing date
Publication date
Application filed by AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU, AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KUMIAI filed Critical AGING TESUTA KAIHATSU KYODO KU
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Publication of JPH085663A publication Critical patent/JPH085663A/en
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Abstract

PURPOSE:To bring each contact part into contact with all pad parts with high accuracy by a structure wherein the intermediate part of a contact element buffers contact between the contact part and the pad part. CONSTITUTION:A base board 10 is provided with openings corresponding in number with the pad parts of an object to be inspected, contact lands 12 formed on the periphery, electric connectors 30 fixed to the surface at one end part, add wiring conductors 13 formed in the center on the surface in order to connect the lands 12 and the connectors 30 electrically. A connecting element 20 inserted into the opening 11 comprises an intermediate part 22 for regulating the position of the pad part, a connecting part 21 extending from one end and connected with the land 12, and a contact part 23 extending from the other end and coming into contact with the pad part. When the connecting part 21 is welded to the land 12, the intermediate part 22 is pressed, at the upper outer side face, against the fringe part 11A of the opening 11 through its resiliency thus regulating the forward end part of the contact part 23 to be aligned with the pad part. Each contact part 23 can touch all pad part of the object to be inspected with high accuracy through buffering function of the intermediate part 22.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路素子用プロー
バに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prober for integrated circuit devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来は半導体集積回路(IC)に係わる
ウエハーを個々のペレットにカットし、リードフレーム
へのマウントとモールディング等によりパッケージング
を行った後の工程、すなわち、最終に近い工程において
検査やエージングを行っており、また1個宛のペレット
の特性を測定する装置もあった。このような場合に使用
する測定電極は、接点の数も少なくてすみ、設計上も工
作上も従来の技術にて問題はなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wafer related to a semiconductor integrated circuit (IC) is cut into individual pellets, and the pellets are mounted on a lead frame and packaged by molding or the like. And aging, and there was also a device to measure the characteristics of pellets addressed to one piece. The measuring electrode used in such a case requires a small number of contact points, and there is no problem in the conventional technique in terms of design and work.

【0003】しかしながら、このような検査やエージン
グの方法では、時間がかかり生産向きでなった。また、
完成品ICの取付けや取り外しに多くの時間と労力がか
かると共に、不良品が発生した場合は、それまでに至る
工程がすべて無駄になってしまい、特に歩留りの悪い品
種にとっては大きな痛手になっていた。
However, such inspection and aging methods take time and are not suitable for production. Also,
It takes a lot of time and effort to attach and detach the finished product IC, and when a defective product occurs, all the processes up to that point are wasted, which is a great pain especially for products with poor yield. Was there.

【0004】そこで、最終に近い工程においてパッケー
ジングされたICについて不良品が検出され除去される
場合におけるそれまでの工程の無駄を省くために、ウエ
ハー上に育成された複数の集積回路素子や複数個の素子
を含むペレットにカットされたものを一度に測定するこ
とにより、その後の工程の無駄を未然に防ぎ、生産効率
を格段に向上させようとする考え方が出てきている。
Therefore, in order to avoid waste of the process up to that time when defective products are detected and removed from the packaged ICs in the process near the final process, a plurality of integrated circuit devices and a plurality of integrated circuit devices grown on the wafer are omitted. It has been proposed that the pellets containing individual elements be measured at one time to prevent waste of subsequent steps and to significantly improve production efficiency.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、現在、複数
の半導体回路部分を搭載したペレットやICウエハー
は、隣接ICパターンとの間隔が略20μm程度であ
り、パターン上の電極部分(パッド部)相互間の間隔
は、大略30μm程度と非常に微細であり、特に、8イ
ンチのウエハーでは、1枚当り数百〜数千のICパター
ンが育成されるので、パッド部の数が1パターン当り数
十程度としても、ウエハー1枚当りでは数千〜数万にな
る上に、高集積化指向に伴いさらに微細になる傾向にあ
る。
However, at present, in a pellet or an IC wafer having a plurality of semiconductor circuit parts mounted thereon, the distance between adjacent IC patterns is about 20 μm, and the electrode parts (pad parts) on the pattern are mutually separated. The distance between them is very small, about 30 μm, and in particular, in an 8-inch wafer, several hundreds to several thousands of IC patterns are grown, so that the number of pads is several tens per pattern. In terms of degree, the number of wafers per wafer is in the range of thousands to tens of thousands, and further tends to become finer with the trend toward higher integration.

【0006】このような測定対象上に形成された多数の
IC部分(被検体)のすべてを同時に測定する場合に
は、それらの表面に係わる局部的および全体的な凹凸が
あるために、すべてのパッド部との接触を高精度且つ高
信頼度をもって達成できるようにすることは著しく困難
なことであった。また、プロービングに係わるピンが高
価且つデリケートであるとか、1個の被検体に対する接
点ブロックの面積が大きくなるために多数の被検体を同
時に測定することができるようなプローバを製作するこ
とも非常に困難なことであった。
When simultaneously measuring all of a large number of IC portions (subjects) formed on such an object to be measured, there are local and global irregularities on their surfaces, and therefore all It has been extremely difficult to achieve contact with the pad portion with high accuracy and high reliability. In addition, since the pins involved in probing are expensive and delicate, or the area of the contact block for one object is large, it is very possible to manufacture a prober that can simultaneously measure many objects. It was difficult.

【0007】本発明の目的は、前述したような従来の技
術の問題点を解消するために、IC用の検査装置やエー
ジング装置(以下、両者をまとめて主装置と称する)に
付随して、ICを単体あるいは複数個からなるペレット
やペレットにカットする以前のウエハー状態のものにお
ける個々のIC部分に係わるパターン上のパッド部に対
し、高精度且つ高信頼度でもって接触しうるような接点
を有した集積回路素子用プローバ(以下、プローバと称
する)を提供することである。
In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to attach an inspection device for an IC and an aging device (hereinafter, both are collectively referred to as a main device) to A contact that allows highly accurate and reliable contact with the pad part on the pattern related to each IC part in the wafer state before cutting the IC into single or plural pellets or pellets. An object of the present invention is to provide a prober for an integrated circuit device having the prober (hereinafter referred to as a prober).

【0008】また、本発明のもう一つの目的は、最終に
近い工程においてパッケージされたICについて不良品
が検出、除去される場合におけるそれまでの工程の無駄
を省くために、ウエハー上に育成された複数の集積回路
素子や複数個の素子を含むペレットにカットされたもの
を一度に測定可能とすることにより、その後の工程の無
駄を未然に防ぎ生産効率を格段に向上させると共に、主
装置の構成を拡張することによりウエハー上での不良部
分の分布状態を判定し、当該ICパターン用マスクの不
良などのような工程の不具合なども遡って判定すること
もでき、さらに同じような微細構造の電極を持つ液晶表
示装置などICウエハー以外の欠陥検査装置にも適用す
ることが可能であるような、広範な用途が期待できるよ
うなプローバを提供することである。
Another object of the present invention is to grow on a wafer in order to eliminate waste of the process up to that time when defective products are detected and removed from the packaged IC in the process near the final stage. By enabling measurement of multiple integrated circuit devices or those cut into pellets containing multiple devices at one time, it is possible to prevent waste of subsequent processes and improve production efficiency, and By extending the configuration, it is possible to determine the distribution state of defective portions on the wafer, and to retroactively determine process defects such as defective IC pattern masks. Providing a prober that can be expected to have a wide range of applications and can be applied to defect inspection devices other than IC wafers, such as liquid crystal display devices with electrodes. It is to be.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の一つの特徴によ
る集積回路素子用プローバは、集積回路を形成しそれら
のパッド部を一面に配設した被検体の測定のために使用
されるものであり、ベース基板と、該ベース基板に配設
される複数個の接触素子とを備えており、前記ベース基
板は、前記被検体のパッド部に対応する開口部と、該開
口部の周辺に付与された接点ランドと、外部測定機器へ
の電気的接続部と、前記接点ランドと前記電気的接続部
との間を電気的に接続する配線導体とを有しており、前
記接触素子は、前記開口部に挿通されて前記パッド部に
対する位置規制がなされるようにする中間部と、該中間
部の一端から延長してその開口部の周辺の前記接点ラン
ドに接続される接続部と、前記中間部の他端から延長し
てそのパッド部との接触を行なう接点部とを有してお
り、前記中間部は、その接点部とパッド部との間の接触
に対する緩衝機能を果たすことを特徴とする。
A prober for an integrated circuit device according to one feature of the present invention is used for measuring an object in which an integrated circuit is formed and the pad portions thereof are arranged on one surface. A base substrate and a plurality of contact elements disposed on the base substrate, the base substrate being provided with an opening corresponding to the pad portion of the subject and around the opening. A contact land, an electrical connection portion to an external measuring device, and a wiring conductor electrically connecting between the contact land and the electrical connection portion, the contact element, An intermediate portion which is inserted into the opening portion and regulates the position of the pad portion; a connecting portion which extends from one end of the intermediate portion and is connected to the contact land around the opening portion; From the other end of the part and the pad part Contact has a contact portion that performs, the intermediate portion is characterized in that fulfill a cushioning function against contact between the contact portion and the pad portion.

【0010】また、本発明のもう一つ別の特徴による集
積回路素子用プローバは、複数個の集積回路を配列しそ
れらのパッド部を一面に配設した被検体の測定のために
使用されるものであり、中継基板と、接点ブロックと、
前記中継基板と前記接点ブロックとの間に配設される導
電および緩衝部材と、前記中継基板、前記接点ブロック
および前記導電および緩衝部材を互いに位置決め保持す
るための支持基台とを備えており、前記接点ブロック
は、ベース基板と、該ベース基板に配設される複数個の
接触素子とを備えており、前記ベース基板は、前記被検
体のパッド部に対応する開口部と、該開口部の周辺に付
与された接点ランドと、外部測定機器への電気的接続を
行なうためのベースランドと、前記接点ランドと前記ベ
ースランドとの間を電気的に接続する配線導体とを有し
ており、前記接触素子は、前記開口部に挿通されて前記
パッド部に対する位置規制がなされるようにする中間部
と、該中間部の一端から延長してその開口部の周辺の前
記接点ランドに接続される接続部と、前記中間部の他端
から延長してそのパッド部との接触を行なう接点部とを
有しており、前記中間部は、その接点部とパッド部との
間の接触に対する緩衝機能を果たすようになっており、
前記中継基板には、各接触素子に対応して外部測定機器
へと電気的に引き出される対向ランドが配列されてお
り、前記導電および緩衝部材は、互いに対応する前記ベ
ースランドと前記対向ランドとを電気的に接続すると共
に、前記接点ブロックが前記接触方向において前記中継
基板に対して移動しうるようにすることを特徴とする。
A prober for an integrated circuit device according to another feature of the present invention is used for measuring an object in which a plurality of integrated circuits are arranged and their pad portions are arranged on one surface. The relay board, the contact block,
A conductive base and a cushioning member arranged between the relay board and the contact block, and a support base for positioning and holding the relay board, the contact block and the conductive cushioning member, The contact block includes a base substrate and a plurality of contact elements arranged on the base substrate. The base substrate has an opening corresponding to the pad portion of the subject and an opening of the opening. It has a contact land provided in the periphery, a base land for making an electrical connection to an external measuring device, and a wiring conductor for electrically connecting the contact land and the base land, The contact element is inserted into the opening and regulates a position with respect to the pad, and the contact element extends from one end of the intermediate part and is connected to the contact land around the opening. And a contact portion that extends from the other end of the intermediate portion to make contact with the pad portion, and the intermediate portion cushions contact between the contact portion and the pad portion. Is designed to function,
Opposing lands that are electrically drawn to an external measuring device are arranged corresponding to each contact element on the relay substrate, and the conductive and buffer members include the base lands and the opposing lands that correspond to each other. The contact block is electrically connected and is movable with respect to the relay board in the contact direction.

【0011】[0011]

【作用】本発明の集積回路素子用プローバは、このよう
な構成であるので、導電および緩衝部材の存在により、
被検体の表面の大局的な歪や凹凸に対処でき、各接触素
子が有する緩衝機能により、被検体の表面の局所的な歪
や凹凸に対処でき、各接点部が被検体のすべてのパッド
部に対して高精度且つ高信頼度でもって接触できるよう
にしている。
Since the prober for integrated circuit device of the present invention has such a structure, the presence of the conductive member and the buffer member causes
It is possible to deal with global distortions and irregularities on the surface of the subject, and with the buffering function of each contact element, it is possible to deal with local strains and irregularities on the surface of the subject, and each contact part is all pad parts of the subject. The contact is made with high accuracy and high reliability.

【0012】[0012]

【実施例】次に、添付図面に基づいて、本発明の実施例
について本発明をより詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

【0013】図1は、本発明の一実施例としての集積回
路素子用プローバを示す概略平面図であり、図2は、図
1のA−A′線断面図である。この実施例の集積回路素
子用プローバは、2つの被検体に対して同時にプロービ
ングを行えるように構成されており、図1および図2に
示されるように、ベース基板10と、このベース基板1
0に配設される複数個の接触素子20とを備えている。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a prober for an integrated circuit device as an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA 'in FIG. The integrated circuit device prober of this embodiment is configured so as to be able to perform probing on two subjects at the same time. As shown in FIGS. 1 and 2, the base substrate 10 and the base substrate 1 are provided.
And a plurality of contact elements 20 arranged at zero.

【0014】ベース基板10は、セラミックやガラス、
プラスチックなどの絶縁体あるいは表面に絶縁膜を構成
した金属、あるいは半導体材料の板状体にて構成されう
る。このベース基板10には、被検体のパッド部に対応
する数の開口部11が2列に形成されており、これら開
口部11の周辺に接点ランド12が付与されている。さ
らにまた、このベース基板10の一端部の上面には、外
部測定機器への電気的接続を行なうための電気コネクタ
30が取り付けられている。そして、ベース基板10の
上面の中央部にそって、各接点ランド12と電気コネク
タ30の各対応する接触端子との間の電気的接続を行な
うための配線導体13が付与されている。このような接
点ランド12や配線導体13は、プリント配線製造技術
等によって形成されうる。
The base substrate 10 is made of ceramic or glass.
It may be made of an insulator such as plastic, a metal having an insulating film formed on the surface thereof, or a plate-like body of a semiconductor material. The base substrate 10 is formed with two rows of openings 11 corresponding to the pad portion of the subject, and contact lands 12 are provided around the openings 11. Furthermore, an electric connector 30 for electrically connecting to an external measuring device is attached to the upper surface of one end of the base substrate 10. A wiring conductor 13 is provided along the central portion of the upper surface of the base substrate 10 for electrically connecting each contact land 12 and each corresponding contact terminal of the electric connector 30. The contact land 12 and the wiring conductor 13 can be formed by a printed wiring manufacturing technique or the like.

【0015】接触素子20は、導電性金属あるいは導体
めっきを施したプラスチック板等の薄板材料から細密プ
レスによる打ち抜きや化学エッチング、あるいは電鋳等
の手法により、平面方向に加工形成したものである。こ
の接触素子20は、その薄板材料の弾性や可撓性を利用
して、後述するように接点部に緩衝機能を与える構造と
される。図2によく示されているように、この接触素子
20は、ベース基板10の円形の開口部11に挿通され
て被検体のパッド部に対する位置規制がなされるように
する中間部22と、この中間部22の一端から延長して
その開口部11の周辺の接点ランド12に接続される接
続部21と、中間部22の他端から延長して被検体のパ
ッド部との接触を行なう接点部23とを有している。
The contact element 20 is formed by working in a plane direction from a thin plate material such as a conductive metal or a plastic plate plated with a conductor by a method such as punching by a fine press, chemical etching, or electroforming. The contact element 20 is structured to give a buffering function to the contact portion as described later by utilizing the elasticity and flexibility of the thin plate material. As best shown in FIG. 2, the contact element 20 is inserted into the circular opening 11 of the base substrate 10 to regulate the position of the subject with respect to the pad portion. A connecting portion 21 extending from one end of the intermediate portion 22 and connected to the contact land 12 around the opening portion 11, and a contact portion extending from the other end of the intermediate portion 22 to make contact with the pad portion of the subject. And 23.

【0016】各接触素子20の接続部21は、各対応す
る接点ランド12に半田や銀ろう付け、導電塗料、ある
いは溶接等の手段によって接続固定される。この場合、
図2によく示されるように、接触素子20の中間部22
の上部の外側面を、それ自身の弾性を利用して開口部1
1の縁部11Aに押し付けるようにすることにより、接
触素子20の接点部23の先端部が被検体のパッド部に
適合した位置に倣うように規制することができる。この
とき、接触素子20の中間部22の外側面とベース基板
10の開口部11の縁部11Aとの摩擦により生ずるパ
ーティクルの発生を防止するような目的で、図3に部分
的に示すようにその対応する外側面にテフロン等適当な
材料によるコーティングを施す等の手法により滑性材2
4Aを付加しておくとよい。図3は、このような別の実
施例の接触素子20Aを例示しており、この接触素子2
0Aは、接続部21A、滑性材24Aを付与された中間
部22Aおよび接点部23Aを有している。
The connecting portion 21 of each contact element 20 is connected and fixed to the corresponding contact land 12 by means of solder, silver brazing, conductive paint, welding or the like. in this case,
As best shown in FIG. 2, the intermediate portion 22 of the contact element 20.
The outer surface of the upper part of the opening by using its own elasticity
By pressing against the edge portion 11A of No. 1, it is possible to regulate so that the tip end portion of the contact portion 23 of the contact element 20 follows the position adapted to the pad portion of the subject. At this time, for the purpose of preventing generation of particles caused by friction between the outer surface of the intermediate portion 22 of the contact element 20 and the edge portion 11A of the opening 11 of the base substrate 10, as shown partially in FIG. The slippery material 2 is coated by a technique such as coating the outer surface corresponding to it with a suitable material such as Teflon.
4A should be added. FIG. 3 illustrates such another embodiment of a contact element 20A, which is shown in FIG.
0A has a connecting portion 21A, an intermediate portion 22A provided with a slippery material 24A, and a contact portion 23A.

【0017】この接触素子20の接点部23の先端部
は、耐摩耗性を向上させるために焼き入れや硬化処理、
あるいは硬化被膜を形成する等の処理をしておくとよ
い。また、接点部23の先端部と被検体のパッド部との
成す角度を適当に設定することにより、いわゆるセルフ
クリーニング作用を発揮させることができる。
The tip of the contact portion 23 of the contact element 20 is hardened or hardened in order to improve wear resistance.
Alternatively, it is preferable to perform a treatment such as forming a cured film. Further, by appropriately setting the angle formed between the tip portion of the contact portion 23 and the pad portion of the subject, a so-called self-cleaning action can be exerted.

【0018】前述したように、各々の接触素子20は、
開口部11を通して接点ランド12に固定されるのであ
るが、この場合に、接触素子を図4に示す如く、ベース
基板10の片側分の3つの接触素子20B、あるいは、
図5に示す如く、ベース基板10の両側分の6つの接触
素子20Cを一体化して連結させたものとして形成して
おき、各接触素子の接続部を各対応する接点ランド12
に固定した後に、化学エッチングや、電流印加あるいは
レーザー照射等によって結合部25Bまたは25Cを溶
断し個々に電気的に分離する如く構成することにより、
位置合わせ等が容易にでき生産性を格段に向上させるこ
ともできる。
As mentioned above, each contact element 20 is
It is fixed to the contact land 12 through the opening 11. In this case, the contact elements are three contact elements 20B on one side of the base substrate 10 as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the six contact elements 20C for both sides of the base substrate 10 are integrally formed and connected to each other, and the connecting portions of each contact element are connected to the corresponding contact lands 12.
After being fixed to, by chemical etching, current application, laser irradiation, etc., the connecting portion 25B or 25C is melted and individually electrically separated,
Positioning can be easily performed and productivity can be significantly improved.

【0019】接触素子20を折り曲げる場合には、開口
部11に接触素子20の接点部23を通過させ接続部2
1を接点ランド12に固定する時点で折り曲げても良い
が、作業がやり難いので、予め折り曲げておき、弾性限
界内に伸展しながら開口部11を通過させる如く行なう
方が作業性が良い。
When the contact element 20 is bent, the contact portion 23 of the contact element 20 is passed through the opening 11 and the connecting portion 2 is connected.
Although it may be bent at the time of fixing 1 to the contact land 12, the work is difficult to perform. Therefore, it is better to bend it in advance and pass it through the opening 11 while extending it within the elastic limit.

【0020】また、図1および図2に示した実施例にお
ける接触素子20では、図2によく示されているよう
に、接点ランド12に固定される接続部21と開口部1
1に挿通される中間部22との成す角度を鈍角に設定し
ているのであるが、図6に例示する接触素子20Dのよ
うに、接続部21Dと中間部22Dとの成す角度を直角
付近または鋭角に設定しても同様の効果を得ることがで
きる。しかし、自由度が大きくなるため、曲げ角度等の
規制を厳密に行なう必要がある。また、図7に例示する
接触素子20Eの如く、接続部21Eと接点部23Eと
の間の中間部22Eに凹凸を形成して剛性を強化した
り、図8に例示する接触素子20Fの如く、接続部21
Fと接点部23Fとの間の中間部22Fに屈曲部を形成
することによって、被検体のパッド部に対する接点部2
3Fの緩衝機能を向上させることができる。
Further, in the contact element 20 in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, as well shown in FIG. 2, the connection portion 21 fixed to the contact land 12 and the opening portion 1 are provided.
The angle formed by the intermediate portion 22 inserted in 1 is set to an obtuse angle, but as in the contact element 20D illustrated in FIG. 6, the angle formed by the connecting portion 21D and the intermediate portion 22D is near a right angle or The same effect can be obtained even if the angle is set to an acute angle. However, since the degree of freedom increases, it is necessary to strictly control the bending angle and the like. Further, as in the contact element 20E illustrated in FIG. 7, unevenness is formed in the intermediate portion 22E between the connection portion 21E and the contact portion 23E to enhance rigidity, or as in the contact element 20F illustrated in FIG. Connection part 21
By forming a bent portion in the intermediate portion 22F between the contact portion F and the contact portion 23F, the contact portion 2 for the pad portion of the subject is formed.
The buffer function of 3F can be improved.

【0021】多数の被検体よりなるウエハーの如く大面
積の対象に対し同時にプロービングを行なう場合には、
図1および図2に関して説明したような構成のプローブ
のサイズをただ広範囲に拡張することである程度は対応
できる。しかし、プローバ自体あるいは被検体の歪や凹
凸の影響が顕著にでるような場合には、接触素子20の
中間部22による緩衝機能だけでは正確なプロービング
を行なうことは困難な場合が多い。
When simultaneously probing a large-area object such as a wafer composed of a large number of specimens,
To some extent, simply expanding the size of the probe configured as described with respect to FIGS. 1 and 2 over a wide range. However, when the influence of strain or unevenness of the prober itself or the subject is significant, it is often difficult to perform accurate probing only by the buffer function of the intermediate portion 22 of the contact element 20.

【0022】図9は、このような場合の対応できるよう
な本発明の別の実施例としての集積回路素子用プローバ
の接点ブロックの1つを取り出して示す概略平面図であ
る。図10は、図9の接点ブロックの複数個を有した集
積回路素子用プローバを大面積の被検体に対して適用し
たところを示す概略断面図である。これら図9および図
10に示されるように、この実施例の集積回路素子用プ
ローバは、複数個の集積回路を配列しそれらのパッド部
2を一面に配設した被検体1の測定のために使用される
もので、中継基板60と、接点ブロック40Aと、中継
基板60と接点ブロック40Aとの間に配設される導電
および緩衝部材70と、中継基板60、接点ブロック4
0Aおよび導電および緩衝部材70を互いに位置決め保
持するための支持基台80とを備えている。
FIG. 9 is a schematic plan view showing one of the contact blocks of a prober for an integrated circuit device as another embodiment of the present invention which can cope with such a case. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a case where the prober for an integrated circuit element having a plurality of contact blocks of FIG. 9 is applied to a large-area subject. As shown in FIGS. 9 and 10, the prober for an integrated circuit device of this embodiment is used for measuring an object 1 in which a plurality of integrated circuits are arranged and their pad portions 2 are arranged on one surface. The relay board 60, the contact block 40A, the conductive and cushioning member 70 disposed between the relay board 60 and the contact block 40A, the relay board 60, and the contact block 4 are used.
OA and a support base 80 for holding the conductive and cushioning members 70 in position relative to each other.

【0023】各接点ブロック40Aは、その全体の構成
自体は、図1および図2に関して前述したような集積回
路素子用プローバの構成と同様でよく、ベース基板40
と、ベース基板40に配設される複数個の接触素子50
とを備えている。ベース基板40は、被検体1のパッド
部2に対応する開口部41と、開口部41の周辺に付与
された接点ランド42と、外部測定機器への電気的接続
を行なうためのベースランド44と、各接点ランド42
と各ベースランド44との間を電気的に接続する配線導
体43とを有している。各接触素子50の構成自体は、
図1から図8に関して説明したような接触素子と同様で
よいので、ここでは繰り返し説明しない。
The overall structure of each contact block 40A may be similar to that of the integrated circuit device prober as described above with reference to FIGS. 1 and 2, and the base substrate 40 may be used.
And a plurality of contact elements 50 arranged on the base substrate 40.
It has and. The base substrate 40 includes an opening 41 corresponding to the pad portion 2 of the subject 1, a contact land 42 provided around the opening 41, and a base land 44 for electrically connecting to an external measuring device. , Each contact land 42
And a wiring conductor 43 that electrically connects the respective base lands 44 with each other. The configuration itself of each contact element 50 is
It may be similar to the contact element as described with reference to FIGS. 1 to 8 and will not be repeated here.

【0024】中継基板60には、各接触素子50に対応
して外部測定機器へと電気的に引き出される対向ランド
61が配列されている。各対向ランド61は、中継基板
60の一端に取り付けられ外部測定機器への電気的接続
を行なう中継コネクタ90の各対応する接触端子に電気
的に接続されている。中継基板60の下面に配設された
対向ランド61の配置は、接点ブロック40Aの上面に
配設されたベースランド44の配置と互いに整列するよ
うなものとされている。導電および緩衝部材70は、互
いに対応するベースランド44と対向ランド61とを電
気的に接続すると共に、各接点ブロック40Aが被検体
1のパッド部2と各接触素子50の接点部との接触方向
において中継基板60に対して移動しうるようにするも
のである。これにより、基本的には、導電および緩衝部
材70は、被検体1の大局的な凹凸に対処する機能を果
たしている。
On the relay board 60, opposed lands 61 are arranged corresponding to the respective contact elements 50 so as to be electrically drawn to an external measuring instrument. Each opposing land 61 is electrically connected to each corresponding contact terminal of the relay connector 90 which is attached to one end of the relay board 60 and electrically connects to an external measuring device. The arrangement of the opposing lands 61 arranged on the lower surface of the relay board 60 is arranged to be aligned with the arrangement of the base lands 44 arranged on the upper surface of the contact block 40A. The conductive and cushioning members 70 electrically connect the corresponding base lands 44 and the opposing lands 61 to each other, and each contact block 40A makes contact with the pad portion 2 of the subject 1 and the contact portion of each contact element 50. At the relay board 60. Thereby, basically, the conductive and cushioning member 70 has a function of coping with global unevenness of the subject 1.

【0025】この導電および緩衝部材70は、この実施
例では、図11に詳細に示すような異方性導電ゴムにて
構成されている。この異方性導電ゴム70は、ポリマー
等のシート71に導電耐である金属細線や高分子材料に
金属や炭素等を混入して導電性を持たせた導電材料72
を微小間隔で縦方向に並べて配置することにより、縦方
向のみ導電性と弾性、可撓性とを併有させたものであ
り、図11の例は、ベースランド44および対向ランド
61に対応する必要部分にのみ導電性を持たせたもので
ある。このような異方性導電ゴム70を、中継基板60
のベースランド44と共通した配置を持つ対向ランド6
1間に挟み込むことにより、両者間の電気的接続を行な
うことができるのである。
In this embodiment, the conductive and cushioning member 70 is made of anisotropic conductive rubber as shown in detail in FIG. The anisotropic conductive rubber 70 is made of a conductive material 72, which is made of a polymer sheet 71 made of a metal wire or polymer material having conductivity resistance and metal or carbon mixed therein to make the sheet 71 conductive.
Are arranged side by side in the vertical direction at a minute interval so that conductivity, elasticity, and flexibility are combined only in the vertical direction. The example of FIG. 11 corresponds to the base land 44 and the opposing land 61. It has conductivity only in a necessary portion. Such an anisotropic conductive rubber 70 is added to the relay substrate 60.
Opposing land 6 having the same arrangement as the base land 44 of
By sandwiching between the two, electrical connection between them can be established.

【0026】導電および緩衝部材70は、前述したよう
な異方性導電ゴムにて構成する代わりに、次のような手
段によって構成することもできる。例えば、ベースラン
ド44または対向ランド61を構成している各々のラン
ドに、硬化した後に可撓性と弾性を有するようになる液
状の導電性シリコンゴム等の如き材料を塗布または印刷
技術等によって付着させるか、フレキシブルプリント基
板を用いて両ランドを半田付けによって接続する等の手
段にて、導電および緩衝部材70を構成することもでき
る。
The conductive and cushioning member 70 may be constituted by the following means instead of the anisotropic conductive rubber as described above. For example, a material such as a liquid conductive silicone rubber which becomes flexible and elastic after being hardened is applied to each of the lands forming the base land 44 or the opposing land 61 by coating or printing technique. Alternatively, the conductive and cushioning member 70 can be configured by means such as connecting both lands by soldering using a flexible printed board.

【0027】また、中継基板60は、歪や屈曲、あるい
は熱膨張などを矯正するために支持基台80に接着して
あるが、支持基台80は、被検体である半導体基板1に
近い熱膨張係数を有する材料を使用し、この目的に充分
な剛性を有し且つ歪が微小である如く構成されている。
Further, the relay substrate 60 is adhered to the support base 80 in order to correct distortion, bending, thermal expansion, etc., but the support base 80 has a thermal property close to that of the semiconductor substrate 1 which is the subject. A material having a coefficient of expansion is used, and the material has sufficient rigidity for this purpose and has a small strain.

【0028】また、各接触素子50の接点部と被検体1
の各パッド部2との間の位置関係について、接点ブロッ
ク40Aのベース基板40の2〜4辺にガイドを設けた
り、必要に応じてスプリングを内包したシリンダおよび
ピストンよりなる構造体によってベース基板40を支持
する等、何れにしても縦方向にのみには円滑に運動でき
るが、平面方向には精密に規制を行える構造とする必要
があり、この実施例では、図9および図10に示す如
く、中継基板60を貫通して支持基台80に設けたアラ
イメント用のガイドボス81とベース基板40に設けた
半円形部分45との嵌合により規制を行なうようにして
いる。
Further, the contact portion of each contact element 50 and the subject 1
Regarding the positional relationship with each pad portion 2 of the base board 40A, guides are provided on 2 to 4 sides of the base board 40 of the contact block 40A, and if necessary, the base board 40 is formed by a structure including a cylinder and a piston including a spring. In any case, it is possible to smoothly move only in the vertical direction, but it is necessary to have a structure that can precisely regulate in the plane direction. In this embodiment, as shown in FIG. 9 and FIG. The regulation is performed by fitting an alignment guide boss 81 provided on the support base 80 penetrating the relay substrate 60 and a semicircular portion 45 provided on the base substrate 40.

【0029】図9に示された接点ブロック40Aは、1
つのブロックで4つの被検体単位に対応できるように構
成した例であるが、状況により接点ブロック毎にさらに
多くの被検体単位と対応できるように構成したり、被検
体単位と1対1の関係に構成することもできることはい
うまでもない。
The contact block 40A shown in FIG.
This is an example in which one block can support four object units. However, depending on the situation, each contact block can be configured to support more object units, or there is a one-to-one relationship with the object unit. It goes without saying that it can also be configured as.

【0030】また、ベース基板40や中継基板60を半
導体材料によって形成することもでき、この場合には、
接点ブロックと中継基板との接続や中継基板と他の外部
測定装置との接続等に係わる配線導体43、ベースラン
ド44、接点ランド42および対向ランド61等の形成
と同時に、ドライバ回路やインターフェイス回路等の機
能回路を形成することができ、また将来において被検集
積度が上がりパッドのピッチや寸法がさらに細密になっ
た場合にも対応できる大きな効用がある。
Further, the base substrate 40 and the relay substrate 60 can be formed of a semiconductor material. In this case,
At the same time as the formation of the wiring conductor 43, the base land 44, the contact land 42, the opposing land 61, etc. relating to the connection between the contact block and the relay board and the connection between the relay board and another external measuring device, the driver circuit, the interface circuit, etc. It is possible to form such a functional circuit, and there is a great advantage that it can cope with the case where the integration density of the test object is increased and the pitch and the size of the pad are further reduced in the future.

【0031】前述した実施例の説明においては、ベース
基板10やベース基板40の開口部11または41を貫
通する接触素子20または50の中間部22を基本的に
は平板状のものとしたが、接触素子の接点部と被検体の
パッド部との位置関係をさらに厳密にしたい場合には、
中間部に何らかの手段を施す必要がある。このための具
体的手段のいくつかについて、以下説明しておく。
In the above description of the embodiments, the intermediate portion 22 of the contact element 20 or 50 penetrating the opening 11 or 41 of the base substrate 10 or the base substrate 40 is basically flat. If you want to make the positional relationship between the contact point of the contact element and the pad section of the subject more precise,
It is necessary to apply some means to the middle part. Some specific means for this purpose will be described below.

【0032】図12は、そのための接触素子の一例を示
す斜視図である。この接触素子20Gは、接続部21G
と接点部23Gとの間の中間部22Gの断面形状を平板
状でなく、三角形状としたものである。この接触素子2
0Gでは、セルフクリーニング作用を発揮させるために
接点部23Gを曲げてあるが、図13に例示した接触素
子20Hの如く、接続部21Hから折り曲げられた中間
部22Hに対して接点部23Hを直線状のままとしても
よい。
FIG. 12 is a perspective view showing an example of a contact element therefor. This contact element 20G has a connecting portion 21G.
The cross-sectional shape of the intermediate portion 22G between the contact portion 23G and the contact portion 23G is not a flat plate shape but a triangular shape. This contact element 2
In 0G, the contact portion 23G is bent in order to exert the self-cleaning action, but as in the contact element 20H illustrated in FIG. 13, the contact portion 23H is linear with respect to the intermediate portion 22H bent from the connecting portion 21H. You can leave it as it is.

【0033】図14は、図12の接触素子20Gをベー
ス基板10の開口部11に挿通させるようにして配設し
たプローバの部分平面図であり、この図14に点線で示
されるように、接触素子20Gの中間部22Gの断面の
V字型の角度や断面寸法と開口部11の直径とを適当に
選ぶことにより、位置の規制効果をより厳密に設定する
ことができる。また、図12および図13に示す如く逆
向きの三角形に成形したものは、材料の弾性により頂点
を開口部11の縁部に押し付けることで容易に規制を行
え、パーティクルの欠落も少ない。これらの場合、中間
部の成形は、本目的に適合すれば三角形に限らず、コの
字型でも他の形でも良い。
FIG. 14 is a partial plan view of the prober in which the contact element 20G of FIG. 12 is arranged so as to be inserted into the opening 11 of the base substrate 10. As shown by the dotted line in FIG. By appropriately selecting the V-shaped angle and the cross-sectional dimension of the cross section of the intermediate portion 22G of the element 20G and the diameter of the opening 11, the position regulation effect can be set more strictly. Further, as shown in FIG. 12 and FIG. 13, what is formed in an inverted triangle can be easily regulated by pressing the apex against the edge of the opening 11 due to the elasticity of the material, and particles are less likely to drop. In these cases, the molding of the intermediate portion is not limited to the triangular shape as long as it is suitable for this purpose, and may be a U-shape or another shape.

【0034】図15は、さらに別の実施例の接触素子を
断面図にて示しており、この実施例の接触素子20I
は、接続部21Iと接点部23Iとの間の中間部22I
に、図7の実施例の接触素子と同様な凹凸部を形成して
なっている。図16は、さらに別の実施例の接触素子を
断面図にて示しており、この実施例の接触素子20J
は、接続部21Jと接点部23Jとの間の中間部のベー
ス基板10の開口部11と嵌合する部分に適当な形状の
添付材22Jを付加したものである。図17は、さらに
別の実施例の接触素子を断面図にて示しており、この実
施例の接触素子20Kは、ベース基板10の規制部を構
成している開口部11に嵌合する専用材22Kを接続部
21Kに対して直角に挿着するようにしたものであり、
この専用材22Kの下端が接点部23Kを構成してい
る。専用材22Kは、特に、金属等の導体にプラスチッ
ク等のコーティングを施したもので構成すると、パーテ
ィクルの発生がないようにすることができる。
FIG. 15 shows a contact element of a further embodiment in a sectional view, a contact element 20I of this embodiment.
Is an intermediate portion 22I between the connection portion 21I and the contact portion 23I.
In addition, an uneven portion similar to that of the contact element of the embodiment of FIG. 7 is formed. FIG. 16 shows a contact element of still another embodiment in a sectional view. The contact element 20J of this embodiment is shown.
Is an attachment member 22J having an appropriate shape added to a portion of the intermediate portion between the connection portion 21J and the contact portion 23J that fits into the opening 11 of the base substrate 10. FIG. 17 shows a contact element of still another embodiment in a sectional view, and the contact element 20K of this embodiment is a dedicated material to be fitted into the opening 11 forming the regulating portion of the base substrate 10. 22K is inserted at a right angle to the connecting portion 21K.
The lower end of the dedicated material 22K constitutes the contact portion 23K. If the dedicated material 22K is made of a conductor such as metal coated with plastic or the like, it is possible to prevent generation of particles.

【0035】これらの接触素子の接点部の先端部の形状
としては、例えば、細くあるいは薄くするなどの成形を
行ない、あるいは万年筆のペン状にスリットを入れるこ
とにより被検体のパッド部に対してセルフクリーニング
作用や微妙な追従性や双子接点効果を持たせることがで
き、より接触の信頼性を上げることができる。
As for the shape of the tip of the contact portion of these contact elements, for example, the tip portion of the contact element is made thin or thin, or a slit is formed in a fountain pen pen to self-align with the pad portion of the subject. A cleaning action, a subtle followability, and a twin contact effect can be provided, and the contact reliability can be further improved.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の集積回路素子用プローバは、被
検体単位当りの面積に比較してプロービングを行なうた
めの面積を同等以下にできる。プローバに使用する接触
素子も、安価で適用が容易であり組立て工数や時間を大
巾に短縮できる高信頼性のものとすることができる。こ
れにより、複数の被検体単位を搭載したペレットから多
数の被検体単位を搭載したウエハーの如き対象を同時に
測定あるいはエージング可能で、非常に生産性が高く経
済的なプローバを提供することができる。
According to the prober for an integrated circuit device of the present invention, the area for probing can be made equal to or less than the area per unit of object to be inspected. The contact element used for the prober can also be made inexpensive and easy to apply, and highly reliable, which can greatly reduce the number of assembly steps and time. As a result, it is possible to simultaneously measure or age an object such as a wafer on which a large number of analyte units are mounted from a pellet on which a plurality of analyte units are mounted, and it is possible to provide a very highly productive and economical prober.

【0037】従って、半導体製造工程の後期に行ってい
た検査やエージングを初期工程で行ない不良品を排除す
ることにより後の工程の無駄を未然に防ぎ、またウエハ
ー上の被検体単位を同時にプロービングすることによ
り、そのウエハー上での不良分布状態を測定しICパタ
ーン用マスクの不良等を発見するなどの如く工程の不具
合なども遡って判定することができ、半導体製造ライン
の生産効率を大幅に向上させることができる。
Therefore, the inspection and aging performed in the latter stage of the semiconductor manufacturing process are performed in the initial process to eliminate defective products, thereby preventing the waste of the subsequent processes and probing the object units on the wafer at the same time. By doing so, it is possible to retroactively determine process defects such as finding the defect distribution state on the wafer and finding defects in the IC pattern mask, etc., and greatly improving the production efficiency of the semiconductor manufacturing line. Can be made.

【0038】本発明の集積回路素子用プローバは、導電
および緩衝部材の存在により、被検体の表面の大局的な
歪や凹凸に対処でき、各接触素子が有する緩衝機能によ
り、被検体の表面の局所的な歪や凹凸に対処でき、各接
点部が被検体のすべてのパッド部に対して高精度且つ高
信頼度でもって接触できる。
The prober for an integrated circuit element of the present invention can cope with global distortion and unevenness of the surface of the subject due to the presence of the conductive and cushioning members, and the buffering function of each contact element allows the surface of the subject to be covered. It is possible to deal with local strain and unevenness, and each contact portion can contact all the pad portions of the subject with high accuracy and reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例としての集積回路素子用プロ
ーバを示す概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a prober for an integrated circuit device as an embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A′線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【図3】別の実施例の接触素子を例示する部分断面図で
ある。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view illustrating a contact element according to another embodiment.

【図4】本発明の集積回路素子用プローバの組立てに使
用する接触素子連結体の一例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an example of a contact element assembly used for assembling the integrated circuit element prober of the present invention.

【図5】本発明の集積回路素子用プローバの組立てに使
用する接触素子連結体の別の例を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing another example of a contact element assembly used for assembling the integrated circuit element prober of the present invention.

【図6】本発明のプローバに使用する接触素子の別の実
施例を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another embodiment of a contact element used in the prober of the present invention.

【図7】本発明のプローバに使用する接触素子のさらに
別の実施例を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing still another embodiment of the contact element used in the prober of the present invention.

【図8】本発明のプローバに使用する接触素子のさらに
別の実施例を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing still another embodiment of the contact element used in the prober of the present invention.

【図9】本発明の別の実施例としての集積回路素子用プ
ローバの接点ブロックの1つを取り出して示す概略平面
図である。
FIG. 9 is a schematic plan view showing one of the contact blocks of the integrated circuit element prober as another embodiment of the present invention.

【図10】図9の接点ブロックの複数個を有した集積回
路素子用プローバを大面積の被検体に対して適用したと
ころを示す概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a case where the prober for an integrated circuit element having a plurality of contact blocks of FIG. 9 is applied to a large-area subject.

【図11】図10の集積回路素子用プローバに使用する
導電および緩衝部材の一例を示す詳細図である。
11 is a detailed view showing an example of a conductive member and a buffer member used in the integrated circuit device prober of FIG.

【図12】本発明のプローバに使用する別の接触素子の
例を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing an example of another contact element used in the prober of the present invention.

【図13】本発明のプローバに使用するさらに別の接触
素子の例を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing an example of still another contact element used in the prober of the present invention.

【図14】図12の接触素子を使用したプローバを示す
部分平面図である。
14 is a partial plan view showing a prober using the contact element of FIG. 12. FIG.

【図15】本発明のプローバに使用する接触素子のさら
に別の例を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing still another example of the contact element used in the prober of the present invention.

【図16】本発明のプローバに使用する接触素子のさら
に別の例を示す断面図である。
FIG. 16 is a sectional view showing still another example of the contact element used in the prober of the present invention.

【図17】本発明のプローバに使用する接触素子のさら
に別の例を示す断面図である。
FIG. 17 is a sectional view showing still another example of the contact element used for the prober of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検体 2 パッド部 10 ベース基板 11 開口部 12 接点ランド 13 配線導体 20 接触素子 21 接続部 22 中間部 23 接点部 30 電気コネクタ 40 接点ブロック 40A ベース基板 41 開口部 42 接点ランド 43 配線導体 44 ベースランド 45 半円形部分 50 接触素子 60 中継基板 61 対向ランド 70 導電および緩衝部材 80 支持基台 81 ガイドボス 90 中継コネクタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Subject 2 Pad part 10 Base substrate 11 Opening 12 Contact land 13 Wiring conductor 20 Contact element 21 Connection part 22 Intermediate part 23 Contact part 30 Electric connector 40 Contact block 40A Base substrate 41 Opening 42 Contact land 43 Wiring conductor 44 Base Land 45 Semi-circular portion 50 Contact element 60 Relay board 61 Opposing land 70 Conductive and cushioning member 80 Support base 81 Guide boss 90 Relay connector

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 集積回路を形成しそれらのパッド部を一
面に配設した被検体の測定のために使用される集積回路
素子用プローバにおいて、ベース基板と、該ベース基板
に配設される複数個の接触素子とを備えており、前記ベ
ース基板は、前記被検体のパッド部に対応する開口部
と、該開口部の周辺に付与された接点ランドと、外部測
定機器への電気的接続部と、前記接点ランドと前記電気
的接続部との間を電気的に接続する配線導体とを有して
おり、前記接触素子は、前記開口部に挿通されて前記パ
ッド部に対する位置規制がなされるようにする中間部
と、該中間部の一端から延長してその開口部の周辺の前
記接点ランドに接続される接続部と、前記中間部の他端
から延長してそのパッド部との接触を行なう接点部とを
有しており、前記中間部は、その接点部とパッド部との
間の接触に対する緩衝機能を果たすことを特徴とする集
積回路素子用プローバ。
1. A prober for an integrated circuit element, which is used for measurement of a subject in which an integrated circuit is formed and whose pad portions are provided on one surface, is provided with a base substrate and a plurality of substrates provided on the base substrate. The base substrate is provided with an individual contact element, the base substrate has an opening corresponding to the pad portion of the subject, contact lands provided around the opening, and an electrical connection portion to an external measuring device. And a wiring conductor that electrically connects between the contact land and the electrical connection portion, and the contact element is inserted into the opening to regulate the position with respect to the pad portion. The intermediate portion, a connecting portion extending from one end of the intermediate portion to be connected to the contact land around the opening, and a contact portion extending from the other end of the intermediate portion to the pad portion. Has a contact point to perform, the intermediate portion Is a prober for an integrated circuit device, which functions as a buffer against contact between the contact portion and the pad portion.
【請求項2】 前記複数個の接触素子のうちの少なくと
もいくつかは、一体化して成形加工され、前記ベース基
板に配設した後に個々に分離される請求項1記載の集積
回路素子用プローバ。
2. The prober for an integrated circuit device according to claim 1, wherein at least some of the plurality of contact elements are integrally molded and processed, and after being disposed on the base substrate, they are individually separated.
【請求項3】 前記接触素子の中間部には、前記ベース
基板の対応する開口部による位置規制の効果を助長する
ための構造が付与されている請求項1または2記載の集
積回路素子用プローバ。
3. The prober for an integrated circuit element according to claim 1, wherein a structure for promoting a position restriction effect by a corresponding opening of the base substrate is provided in an intermediate portion of the contact element. .
【請求項4】 前記接触素子の中間部には、前記緩衝機
能を助長するための構造が付与されている請求項1また
は2または3記載の集積回路素子用プローバ。
4. The prober for an integrated circuit element according to claim 1, 2 or 3, wherein a structure for promoting the buffering function is provided in an intermediate portion of the contact element.
【請求項5】 前記接触素子の接点部には、硬化処理ま
たは硬質被膜が施されている請求項1または2または3
または4記載の集積回路素子用プローバ。
5. The contact portion of the contact element is hardened or hard-coated.
Alternatively, the prober for an integrated circuit device as described in 4 above.
【請求項6】 前記接触素子の接点部の先端の形状は、
前記パッド部に対しセルフクリーニング作用または追従
性または双子接点効果を持たせるものとされている請求
項1から5のうちのいずれかに記載の集積回路素子用プ
ローバ。
6. The shape of the tip of the contact portion of the contact element is
The prober for an integrated circuit element according to claim 1, wherein the pad portion has a self-cleaning action, a follow-up property, or a twin contact effect.
【請求項7】 前記電気的接続部は、前記ベース基板の
端部に取り付けられた電気コネクタである請求項1から
6のうちのいずれかに記載の集積回路素子用プローバ。
7. The integrated circuit device prober according to claim 1, wherein the electrical connection portion is an electrical connector attached to an end portion of the base substrate.
【請求項8】 前記電気的接続部は、前記ベース基板の
上面に付与されたベースランドである請求項1から6の
うちのいずれかに記載の集積回路素子用プローバ。
8. The integrated circuit device prober according to claim 1, wherein the electrical connection portion is a base land provided on an upper surface of the base substrate.
【請求項9】 複数個の集積回路を配列しそれらのパッ
ド部を一面に配設した被検体の測定のために使用される
集積回路素子用プローバにおいて、中継基板と、接点ブ
ロックと、前記中継基板と前記接点ブロックとの間に配
設される導電および緩衝部材と、前記中継基板、前記接
点ブロックおよび前記導電および緩衝部材を互いに位置
決め保持するための支持基台とを備えており、前記接点
ブロックは、ベース基板と、該ベース基板に配設される
複数個の接触素子とを備えており、前記ベース基板は、
前記被検体のパッド部に対応する開口部と、該開口部の
周辺に付与された接点ランドと、外部測定機器への電気
的接続を行なうためのベースランドと、前記接点ランド
と前記ベースランドとの間を電気的に接続する配線導体
とを有しており、前記接触素子は、前記開口部に挿通さ
れて前記パッド部に対する位置規制がなされるようにす
る中間部と、該中間部の一端から延長してその開口部の
周辺の前記接点ランドに接続される接続部と、前記中間
部の他端から延長してそのパッド部との接触を行なう接
点部とを有しており、前記中間部は、その接点部とパッ
ド部との間の接触に対する緩衝機能を果たすようになっ
ており、前記中継基板には、各接触素子に対応して外部
測定機器へと電気的に引き出される対向ランドが配列さ
れており、前記導電および緩衝部材は、互いに対応する
前記ベースランドと前記対向ランドとを電気的に接続す
ると共に、前記接点ブロックが前記接触方向において前
記中継基板に対して移動しうるようにすることを特徴と
する集積回路素子用プローバ。
9. A prober for an integrated circuit device, which comprises a plurality of integrated circuits arranged and pad portions thereof arranged on one surface and is used for measuring an object, includes a relay substrate, a contact block, and the relay. A contact base provided between the substrate and the contact block; and a support base for positioning and holding the relay board, the contact block and the conductive and buffer member with respect to each other. The block includes a base substrate and a plurality of contact elements arranged on the base substrate, and the base substrate is
An opening corresponding to the pad portion of the subject, a contact land provided around the opening, a base land for electrically connecting to an external measuring device, the contact land and the base land A wiring conductor for electrically connecting between the contact element and the contact element, the contact element is inserted into the opening portion to regulate the position with respect to the pad portion, and one end of the intermediate portion. From the other end of the intermediate portion, the contact portion extending from the other end of the intermediate portion to make contact with the pad portion. The portion serves to buffer the contact between the contact portion and the pad portion, and the relay substrate is provided with an opposing land electrically drawn to an external measuring device corresponding to each contact element. Are arranged, and And a cushioning member electrically connects the base land and the opposing land corresponding to each other and enables the contact block to move with respect to the relay board in the contact direction. Prober for circuit elements.
【請求項10】 前記導電および緩衝部材は、厚み方向
に弾性を有し且つ厚み方向にのみ導電性を有する異方性
導電材料にて形成されている請求項9記載の集積回路素
子用プローバ。
10. The prober for an integrated circuit element according to claim 9, wherein the conductive and buffer members are formed of an anisotropic conductive material having elasticity in the thickness direction and conductivity only in the thickness direction.
【請求項11】 前記導電および緩衝部材は、各対応す
るベースランドと対向ランドとの間に個々に付与された
導電ゴム等の導電緩衝片からなる請求項9記載の集積回
路素子用プローバ。
11. The prober for an integrated circuit element according to claim 9, wherein the conductive and buffer members are conductive buffer pieces such as conductive rubber individually provided between the corresponding base lands and opposing lands.
【請求項12】 前記中継基板および前記接点ブロック
には、位置決め係合部が形成されており、前記支持基台
には、前記位置決め係合部に係合して前記中継基板およ
び前記接点ブロックの位置関係を定めるための位置定め
部が設けられている請求項9または10または11に記
載の集積回路素子用プローバ。
12. A positioning engagement portion is formed on the relay board and the contact block, and the support base is engaged with the positioning engagement portion to form the relay board and the contact block. The prober for an integrated circuit element according to claim 9, 10 or 11, further comprising a position determining portion for determining a positional relationship.
【請求項13】 前記接点ブロックは、前記ベースラウ
ンドを含めて集積回路製造技術によって形成されている
請求項1から12のうちのいずれかに記載の集積回路素
子用プローバ。
13. The prober for an integrated circuit element according to claim 1, wherein the contact block is formed by an integrated circuit manufacturing technique including the base round.
【請求項14】 前記中継基板は、対向ランドを含め
て、外部測定機器との接続に係わる回路と同時にドライ
バ回路、インターフェイス回路等の機能回路とを有する
ように半導体集積回路製造技術によって形成されている
請求項9から13のうちのいずれかに記載の集積回路素
子用プローバ。
14. The relay substrate is formed by a semiconductor integrated circuit manufacturing technique so as to have a circuit related to connection with an external measuring device and a functional circuit such as a driver circuit and an interface circuit at the same time, including a facing land. An integrated circuit device prober according to any one of claims 9 to 13.
【請求項15】 前記接点ブロックのベースは、セラミ
ック、ガラス、プラスチックなどの絶縁体あるいは表面
に絶縁膜を施した金属で形成されている請求項9から1
4のうちのいずれかに記載の集積回路素子用プローバ。
15. The base of the contact block is formed of an insulator such as ceramic, glass, or plastic, or a metal whose surface is provided with an insulating film.
5. The prober for integrated circuit device according to any one of 4 above.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0921401A1 (en) * 1996-06-28 1999-06-09 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Probe and method for inspection of electronic circuit board
KR100805217B1 (en) 2007-08-02 2008-02-21 주식회사 에이엠에스티 Probe card
JP2011117970A (en) * 2011-01-17 2011-06-16 Seiko Epson Corp Connection device, and inspection method of device to be inspected

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