JPH0856630A - Microbe breeding-preventive method and apparatus therefor - Google Patents

Microbe breeding-preventive method and apparatus therefor

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Publication number
JPH0856630A
JPH0856630A JP6199981A JP19998194A JPH0856630A JP H0856630 A JPH0856630 A JP H0856630A JP 6199981 A JP6199981 A JP 6199981A JP 19998194 A JP19998194 A JP 19998194A JP H0856630 A JPH0856630 A JP H0856630A
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JP
Japan
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temperature
gas
ions
ion
ionized gas
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Application number
JP6199981A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Tanimura
泰宏 谷村
Naoki Nakatsugawa
直樹 中津川
Akira Ikeda
彰 池田
Koji Ota
幸治 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0856630A publication Critical patent/JPH0856630A/en
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  • Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a microbe breeding-preventive apparatus capable of generating ions in a gas with its temperature regulated to such a region higher or lower by a specified level than the optimal temperature region for actively breeding microbes and capable of increasing the ability to prevent microbial breeding by the gas containing the tons. CONSTITUTION: This apparatus is made up of a blower 2 for gas intake, a channel 3 through which a gas taken by the blower 2 is passed, a means 22 to control the temperature of the gas, an ion-generating chamber 21 to ionize the gas, and an ion feed chamber 28 having a space for housing an object for beeding microbes and to feed the temperature-controlled ionized gas into the space.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、イオンを利用して、
食品、調理用品、その他摂取時に必要なもの等の食に関
連するものや、公衆衛生上微生物の繁殖を防止すること
を必要とする物体表面に存在する微生物の増殖を防止す
る微生物繁殖防止方法および装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION This invention utilizes ions to
Food-related foods, cooking utensils, other food-related substances such as those necessary for ingestion, and a method for preventing the growth of microorganisms existing on the surface of an object which is required to prevent the growth of microorganisms in public health, and It relates to the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図37は例えば特願平5ー283762
号に示された従来の微生物繁殖防止装置を示す構成図で
あり、図において1は外部の気体、2は気体1を取り込
むファン(送風機)、3はファン2により取り込まれた
気体1が通気する通気路、4は気体1を取り込む供給
口、5は通気路3内に設置され、その気体1に対して電
子を電離することによりその気体1をイオン化する電離
室、6は絶縁材料からなるブッシング、7はタングステ
ン、ステンレス鋼、ニッケルなどの金属材料からなる金
属針電極、8は金属針電極7と対向して配置された金属
平板接地電極、9は金属平板接地電極8上に蒸着または
密着により取り付けられたセラミック、ガラス、石英等
の誘電材料からなる平板状の誘電体、10は電離室5に
よりイオン化された、オゾンを含むイオン化された気
体、11は通気路3内に設置され、電離室5によりオゾ
ンを含むイオン化された気体10に含まれるオゾンを分
解し、そのオゾンを含むイオン化された気体10からオ
ゾンを除去するオゾン分解室であり、二酸化マンガン、
活性アルミナ等のオゾン分解触媒が充填されている。1
2はオゾン分解室11を通気路3から電気的に絶縁する
絶縁体、13はオゾンを含まないイオン化された気体、
14は微生物が繁殖する物体、15は微生物が繁殖する
物体14を格納する空間を有するとともに、オゾン分解
室11により、オゾンを含まないイオン化された気体1
3をその空間に供給するイオン処理室、16は高圧発生
器、17はオゾンを含まないイオン化された気体13を
イオン処理室15に供給するガス入口、18はイオン処
理室15の外に使用済みのオゾンを含まないイオン化さ
れた気体13を放出するためのガス出口である。
2. Description of the Related Art FIG. 37 shows, for example, Japanese Patent Application No. 5-283762.
FIG. 2 is a configuration diagram showing a conventional microbial growth prevention apparatus shown in No. 1, in which 1 is an external gas, 2 is a fan (blower) that takes in the gas 1, and 3 is the gas 1 taken in by the fan 2. The air passage 4 is a supply port for taking in the gas 1, 5 is installed in the air passage 3, an ionization chamber for ionizing the gas 1 by ionizing electrons to the gas 1, and 6 is a bushing made of an insulating material. , 7 is a metal needle electrode made of a metal material such as tungsten, stainless steel, nickel, etc., 8 is a metal plate ground electrode arranged to face the metal needle electrode 7, and 9 is deposited or adhered on the metal plate ground electrode 8. A flat plate-shaped dielectric made of a dielectric material such as ceramic, glass, or quartz attached, 10 is an ionized gas containing ozone ionized by the ionization chamber 5, and 11 is the inside of the ventilation path 3. Is installed, the ionization chamber 5 to decompose ozone contained in the gas 10 that is ionized containing ozone, an ozonolysis chamber for removing ozone from gases 10 which are ionized containing the ozone, manganese dioxide,
It is filled with an ozone decomposition catalyst such as activated alumina. 1
2 is an insulator that electrically insulates the ozone decomposition chamber 11 from the ventilation passage 3, 13 is an ionized gas containing no ozone,
Reference numeral 14 denotes an object in which microorganisms propagate, 15 has a space for storing the object 14 in which microorganisms propagate, and the ozone decomposition chamber 11 allows the ionized gas 1 containing no ozone.
Ion processing chamber for supplying 3 to the space, 16 for high pressure generator, 17 for gas inlet for supplying ionized gas 13 containing no ozone to ion processing chamber 15, 18 for outside of ion processing chamber 15 It is a gas outlet for discharging the ionized gas 13 containing no ozone.

【0003】次に動作について説明する。まず、ファン
2が外部の気体1を供給口4から取り込み、通気路3を
介して電離室5内に導く。この電離室5内には、複数の
金属針電極7と、この金属針電極7と対向して配置され
た誘電体9に密着されて取り付けられた金属平板接地電
極8との間隔(ギャップ長)を数mmとし、両電極間に
数kVの交流高電圧を印加すると、金属針電極7の先端
近傍に、高い電界がかかり、コロナ放電と呼ばれる放電
が起こる。そして、気体1が放電中の電離室5内に導か
れると、気体1に含まれる酸素分子等と電子が衝突して
酸素分子等がイオン化し、気体1にイオンが含まれるこ
とになる。
Next, the operation will be described. First, the fan 2 takes in the external gas 1 from the supply port 4 and guides it into the ionization chamber 5 through the ventilation passage 3. In the ionization chamber 5, a plurality of metal needle electrodes 7 and a space (gap length) between a metal plate ground electrode 8 attached in close contact with a dielectric 9 arranged to face the metal needle electrodes 7. When a high voltage of several kV is applied between both electrodes, a high electric field is applied to the vicinity of the tip of the metal needle electrode 7, and a discharge called corona discharge occurs. Then, when the gas 1 is introduced into the ionization chamber 5 during discharge, electrons collide with oxygen molecules and the like contained in the gas 1 to ionize the oxygen molecules and the like, so that the gas 1 contains ions.

【0004】しかしながら、外部の気体1には酸素分子
が含まれているため、コロナ放電によりイオンが発生す
ると同時にオゾンも発生する。因みに、このオゾンは酸
化力が強いためオゾン濃度が高くなると有害である。そ
こで、オゾンを含むイオン化された気体10が流れる通
気路3内の下流側に通気路3から電気的に絶縁されるよ
うに、電離室5にオゾン分解触媒を配置し、このオゾン
分解触媒によりオゾンを含むイオン化された気体10か
らオゾンを除去し、オゾンを含まないイオン化された気
体13を作り出す。
However, since the external gas 1 contains oxygen molecules, ions are generated by corona discharge and ozone is also generated at the same time. By the way, since this ozone has a strong oxidizing power, it is harmful if the ozone concentration becomes high. Therefore, an ozone decomposing catalyst is arranged in the ionization chamber 5 so as to be electrically insulated from the ventilation passage 3 at the downstream side in the ventilation passage 3 through which the ionized gas 10 containing ozone flows. The ozone is removed from the ionized gas 10 containing the ozone to produce an ionized gas 13 containing no ozone.

【0005】このようにして、作り出したオゾンを含ま
ないイオン化された気体13を微生物が繁殖する物体1
4を格納する空間を有するイオン処理室15に供給し
て、物体14に付着した微生物の繁殖を抑える。
The object 1 in which the microorganisms propagate the ionized gas 13 containing no ozone thus created.
4 is supplied to the ion processing chamber 15 having a space for storing 4 to suppress the growth of microorganisms attached to the object 14.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の微生物繁殖防止
装置は以上のように構成されているので、このような装
置から発生したイオンは微生物の増殖を抑制する効果を
有するが、イオンの発生量には限界があり、気体中のイ
オン濃度を高めることは難しいため、物体に付着した微
生物にイオンが十分に供給されないという問題点があっ
た。また、イオン単独での微生物増殖抑制効果は十分で
はないなどの問題点があった。
Since the conventional microbial growth prevention device is constructed as described above, the ions generated from such a device have the effect of suppressing the growth of microorganisms. However, there is a problem that it is difficult to increase the ion concentration in the gas, so that the ions are not sufficiently supplied to the microorganisms attached to the object. In addition, there is a problem that the effect of suppressing the growth of microorganisms by using only ions is not sufficient.

【0007】請求項1及び請求項2の発明は上記のよう
な問題点を解消するためになされたもので、微生物の増
殖速度が低下する温度領域に温度を調節された気体中に
イオンを発生させることができ、温度とイオンの相乗効
果により、微生物が増殖するのを防止する能力を高める
ことができる微生物繁殖防止方法を得ることを目的とす
る。
The inventions of claims 1 and 2 have been made to solve the above problems, and generate ions in a gas whose temperature is controlled in a temperature range where the growth rate of microorganisms decreases. It is an object of the present invention to provide a method for preventing the growth of microorganisms, which can increase the ability to prevent the growth of microorganisms by the synergistic effect of temperature and ions.

【0008】請求項3及び請求項4の発明は、温度が調
節された気体中にイオンを発生させることができ、温度
とイオンの相乗効果により、微生物の増殖を防止できる
能力を高める微生物繁殖防止装置を得ることを目的とす
る。
The inventions of claims 3 and 4 are capable of generating ions in a gas whose temperature is regulated, and the synergistic effect of the temperature and the ions enhances the ability to prevent the growth of microorganisms. The purpose is to obtain the device.

【0009】請求項5の発明は、温度が調節された気体
中にイオンを効率的に発生させることができ、イオン濃
度を減衰させずに、物体が格納された空間内に温度が調
節されたイオンを含むイオン化気体を供給することがで
きる微生物繁殖防止装置を得ることを目的とする。
According to a fifth aspect of the present invention, ions can be efficiently generated in a gas whose temperature is adjusted, and the temperature is adjusted in the space in which the object is stored without attenuating the ion concentration. An object of the present invention is to obtain a microbial growth prevention device capable of supplying an ionized gas containing ions.

【0010】請求項6及び請求項7の発明は、ある物体
が格納された空間内に温度が調節されたイオンを含むイ
オン化気体を供給し、空間内に格納されている物体で微
生物が繁殖するのを十分に防止することのできる微生物
繁殖防止装置を得ることを目的とする。
According to the sixth and seventh aspects of the present invention, an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted is supplied into the space in which a certain object is stored, and the microorganisms propagate in the object stored in the space. It is an object of the present invention to obtain a microbial growth prevention device capable of sufficiently preventing

【0011】請求項8の発明は、ある物体が格納された
空間内に温度が調節されたイオンを含むイオン化気体を
供給し、電界の作用により微生物が繁殖する物体表面に
イオンを効率よく供給することができる微生物繁殖防止
装置を得ることを目的とする。
According to an eighth aspect of the present invention, an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted is supplied into the space in which a certain object is stored, and the ions are efficiently supplied to the surface of the object where the microorganisms propagate by the action of the electric field. An object of the present invention is to obtain a microbial reproduction prevention device that can be used.

【0012】請求項9の発明は、ある物体が格納された
空間内に温度が調節され、イオンとオゾンを含んだ混合
気体を供給し、温度、イオンおよびオゾンの相乗効果に
より、微生物が増殖するのを防止する能力を高めること
ができる微生物繁殖防止装置を得ることを目的とする。
According to a ninth aspect of the present invention, the temperature is regulated in the space in which a certain object is stored, a mixed gas containing ions and ozone is supplied, and the microorganisms grow due to the synergistic effect of temperature, ions, and ozone. It is an object of the present invention to provide a microbial growth prevention device capable of increasing the ability to prevent

【0013】請求項10の発明は、高濃度のイオンを含
んだ温度が調節されたイオンを含むイオン化気体を微生
物が繁殖する物体表面に直接的に吹き付けることがで
き、物体表面で微生物が繁殖するのを効率よく防止する
ことのできる微生物繁殖防止装置を得ることを目的とす
る。
According to a tenth aspect of the present invention, an ionized gas containing a temperature-controlled ion containing a high concentration of ions can be directly blown onto the surface of the object on which the microorganisms grow, and the microorganisms grow on the surface of the object. It is an object of the present invention to obtain a microbial growth prevention device capable of efficiently preventing the

【0014】請求項11の発明は、高濃度のイオンを含
んだ温度が調節されたイオン化気体を微生物が繁殖する
物体表面に直接的に吹き付けることができ、物体を効率
よく処理することのできる微生物繁殖防止装置を得るこ
とを目的とする。
According to the invention of claim 11, a temperature-controlled ionized gas containing a high concentration of ions can be directly blown onto the surface of an object on which the microorganisms propagate, and the object can be efficiently treated. The purpose is to obtain a breeding prevention device.

【0015】請求項12から請求項14の発明は、ある
物体が格納された空間の様々な方向に温度が調節された
イオンを含むイオン化気体を放出することができ、空間
内に格納されている物体表面で微生物が繁殖するのを十
分に防止することのできる微生物繁殖防止装置を得るこ
とを目的とする。
According to the twelfth to fourteenth aspects of the present invention, an ionized gas containing ions whose temperature is regulated can be emitted in various directions of a space in which a certain object is stored, and is stored in the space. An object of the present invention is to provide a microbial growth prevention device capable of sufficiently preventing the growth of microorganisms on the surface of an object.

【0016】請求項15の発明は、ある物体が格納され
た空間内の壁面にたまった静電気を除去することのでき
る微生物繁殖防止装置を得ることを目的とする。
It is an object of the invention of claim 15 to obtain a microbial growth preventing apparatus capable of removing static electricity accumulated on a wall surface in a space in which an object is stored.

【0017】請求項16の発明は、高濃度のイオンを含
んだイオン化気体を加熱している物体表面に直接的に吹
き付けることができ、温度とイオンの相乗効果により、
物体表面で微生物が繁殖するのを効率よく防止しなが
ら、物体を加熱することのできる微生物繁殖防止装置を
得ることを目的とする。
According to the sixteenth aspect of the present invention, the ionized gas containing a high concentration of ions can be directly blown onto the surface of the heated object, and the synergistic effect of the temperature and the ions causes
An object of the present invention is to obtain a microbial growth prevention device capable of heating an object while efficiently preventing the growth of microorganisms on the surface of the object.

【0018】請求項17の発明は、ある液体の温度を調
節し、温度が調節された液体が貯水された貯水器内にイ
オン化された気体を供給し、その液体に微生物が繁殖す
るのを十分に防止することのできる微生物繁殖防止装置
を得ることを目的とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, the temperature of a certain liquid is adjusted, and the ionized gas is supplied into a water reservoir in which the temperature-adjusted liquid is stored, so that the microorganism is sufficiently propagated. It is an object of the present invention to obtain a microbial growth prevention device that can prevent the above.

【0019】請求項18の発明は、ある液体が貯水され
た貯水器内にイオン化された気体を供給し、電界の作用
によりイオンのみを液中に留まらせることのできる微生
物繁殖防止装置を得ることを目的とする。
According to the eighteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial growth preventing apparatus capable of supplying an ionized gas into a water reservoir in which a certain liquid is stored and keeping only the ions in the liquid by the action of an electric field. With the goal.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る微
生物繁殖防止方法は、微生物の増殖が盛んな最適温度領
域よりも所定温度低下または上昇させた温度領域に、イ
オンを含むイオン化気体の温度を調節し、微生物が繁殖
する物体またはその物体を格納する空間に、これを供給
するようにしたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for preventing microbial propagation, wherein an ionized gas containing ions is added in a temperature range lower or higher than an optimum temperature range in which the growth of microorganisms is active. The temperature is adjusted so that it is supplied to an object in which microorganisms propagate or a space for storing the object.

【0021】請求項2の発明に係る微生物繁殖防止方法
は、微生物の増殖が盛んな最適温度領域よりも10℃以
上低下または上昇させた温度領域に、イオンを含むイオ
ン化気体の温度を調節し、微生物が繁殖する物体または
その物体を格納する空間に、これを供給するようにした
ものである。
In the method for preventing microbial propagation according to the second aspect of the present invention, the temperature of the ionized gas containing ions is adjusted to a temperature range that is 10 ° C. or lower than the optimum temperature range where the growth of microorganisms is high. The microorganisms are supplied to an object or a space in which the object is stored.

【0022】請求項3の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、温度調節されたイオンを含むイオン化気体を作る温
度調節手段を設けるようにしたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a device for preventing microbial proliferation, which is provided with a temperature control means for producing an ionized gas containing temperature-controlled ions.

【0023】請求項4の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、温度調節手段を冷却器及び加熱器の双方またはどち
らか一方で構成したものである。
In the microbial growth preventing apparatus according to the invention of claim 4, the temperature adjusting means is constituted by either or both of a cooler and a heater.

【0024】請求項5の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、温度調節手段をイオン発生室の上流側に設置するよ
うにしたものである。
In the microbial growth preventing apparatus according to the fifth aspect of the present invention, the temperature adjusting means is installed upstream of the ion generating chamber.

【0025】請求項6の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含ん
だイオン化気体を、微生物が繁殖する物体を格納する空
間内に供給するようにしたものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a device for preventing microbial growth, wherein an ionized gas containing ions, the temperature of which is adjusted by the temperature adjusting means, is supplied into a space for storing an object in which the microorganisms are to be propagated. Is.

【0026】請求項7の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有し、温度
調節手段により温度を調節されたイオンを含んだイオン
化気体をその空間に供給するイオン供給室を設けたもの
である。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a device for preventing microbial proliferation, which has a space for storing an object in which microorganisms propagate, and supplies the space with an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means. An ion supply chamber is provided.

【0027】請求項8の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有するイオ
ン供給室内に、温度調節手段により温度を調節されたイ
オンを含んだ気体中のイオンを、微生物が繁殖する物体
表面に効率よく供給する一対の金属電極および直流電源
を設けたものである。
According to the eighth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing microbial growth, wherein ions in a gas containing ions whose temperature is adjusted by a temperature adjusting means are placed in an ion supply chamber having a space for storing an object in which microorganisms propagate. In addition, a pair of metal electrodes and a DC power supply that efficiently supply the surface of an object on which microorganisms propagate are provided.

【0028】請求項9の発明に係る微生物繁殖防止装置
は、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含ん
だイオン化気体に混合するオゾンを発生するオゾン発生
器を設けたものである。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing microbial proliferation, which is provided with an ozone generator for generating ozone mixed with ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means.

【0029】請求項10の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有し、温
度調節手段により温度を調節されたイオンを含んだイオ
ン化気体を、その空間に格納されている物体に直接吹き
付けるように供給するイオン供給部を設けたものであ
る。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus, which has a space for storing an object in which microorganisms propagate, and stores an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by a temperature adjusting means in the space. An ion supply unit is provided to directly spray the object.

【0030】請求項11の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオン供給部が温度調節手段により温度を調節さ
れたイオンを含んだイオン化気体を放出するイオン放出
部と、温度調節されたイオンを含むイオン化気体が放出
されている位置に、微生物が繁殖する物体を運び込む運
搬装置から構成したものである。
According to the eleventh aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing microbial growth, wherein the ion supply section includes an ion emission section for releasing an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjustment means, and the temperature adjusted ions. The transport device is configured to transport an object in which microorganisms propagate to the position where the ionized gas is released.

【0031】請求項12の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオン供給部が温度調節手段により温度を調節さ
れたイオンを含んだイオン化気体の吹き出し方向を変化
させて放出するイオン放出部と、微生物が繁殖する物体
を格納する空間を有するイオン供給室から構成したもの
である。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing microbial growth, wherein the ion supplying section changes the blowing direction of the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means, and releases the ionized gas. Is composed of an ion supply chamber having a space for storing an object that reproduces.

【0032】請求項13の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、気体を取り込む送風機と、前記送風機により取り
込まれた気体が通過する通気路と、前記通気路内に設置
され、その気体の温度を調節する温度調節手段と、前記
温度調節手段により温度調節された気体に対して電子を
電離することによりその気体をイオン化するイオン発生
室から構成された微生物繁殖防止装置をイオン供給室内
部の物体が置かれている上方に移動させる移動装置を設
けたものである。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus, which is provided in a blower for taking in gas, a ventilation passage through which the gas taken in by the blower passes, and the ventilation passage, and regulates the temperature of the gas. And a temperature control means for controlling the temperature of the gas, and an object in the ion supply chamber is provided with a microbial growth prevention device comprising an ion generation chamber that ionizes the gas whose temperature is controlled by the temperature control means. It is provided with a moving device for moving upward.

【0033】請求項14の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオン供給室内に、微生物が繁殖している物体の
位置を認識する位置検出装置と、温度調節手段により温
度を調節されたイオンを含んだイオン化気体の吹き出し
方向を物体が存在する方向にするように指示する制御装
置から構成したものである。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus which includes, in the ion supply chamber, a position detecting device for recognizing the position of an object in which microorganisms are growing and ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means. It is configured by a control device that instructs the blowing direction of the ionized gas to be the direction in which the object exists.

【0034】請求項15の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオン供給室内部壁面に接続されたアース線と、
そのアース線と接地先との接点を開閉するスイッチを設
けたものである。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus, which comprises an earth wire connected to a wall surface inside the ion supply chamber,
A switch is provided to open and close the contact between the ground wire and the grounding destination.

【0035】請求項16の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有し、そ
の空間内の微生物が繁殖する物体に対してイオンを含ん
だイオン化気体を直接吹き付けるように供給するイオン
供給部内に、微生物が繁殖する物体を内部から加熱する
一対の金属電極および交流電源を設けたものである。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus, which has a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing ions is directly blown to the object in the space in which microorganisms propagate. A pair of metal electrodes for heating an object in which microorganisms propagate from the inside and an AC power supply are provided in the ion supply unit thus supplied.

【0036】請求項17の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオンを含んだイオン化気体を気泡化して、貯水
器中の温度を調節された液中に供給するようにしたもの
である。
According to the seventeenth aspect of the invention, there is provided a device for preventing microbial growth, wherein the ionized gas containing ions is bubbled so as to be supplied into the liquid whose temperature in the water reservoir is adjusted.

【0037】請求項18の発明に係る微生物繁殖防止装
置は、イオンを含んだイオン化気体中のイオンが液中か
ら放散されるのを遅らせる一対の金属電極および直流電
源を設けたものである。
According to the eighteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus, which is provided with a pair of metal electrodes for delaying the diffusion of ions in the ionized gas containing the ions from the liquid and a DC power source.

【0038】[0038]

【作用】請求項1の発明における微生物繁殖防止方法
は、微生物の増殖が盛んな最適温度領域よりも所定温度
低下または上昇させた温度領域に、イオンを含むイオン
化気体の温度を調節し、微生物が繁殖する物体またはそ
の物体を格納する空間に、これを供給するようにしたこ
とにより、その物体またはその物体を格納する空間に対
し、その温度領域に温度調節されたイオンを含むイオン
化気体が供給されるようになる。
According to the method of preventing microbial growth in the invention of claim 1, the temperature of the ionized gas containing ions is adjusted to a temperature range lower or higher than the optimum temperature range where the growth of the microorganisms is active, and By supplying this to the propagating object or the space storing the object, the ionized gas containing the temperature-controlled ions is supplied to the temperature range of the object or the space storing the object. Become so.

【0039】請求項2の発明における微生物繁殖防止方
法は、所定温度を10℃以上としたことにより、微生物
が繁殖する物体またはその物体を格納する空間に対し、
微生物の増殖速度が減少する温度領域に温度調節された
イオンを含むイオン化気体が供給されるようになる。
In the method for preventing microbial propagation according to the second aspect of the present invention, the predetermined temperature is set to 10 ° C. or higher, whereby the object in which the microorganisms propagate or the space for storing the object are
The ionized gas containing the temperature-controlled ions is supplied to the temperature region where the growth rate of the microorganisms decreases.

【0040】請求項3の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段を設置したことにより、イオンを含
んだイオン化気体の温度を調節することができる。
In the microbial growth preventing apparatus according to the third aspect of the present invention, the temperature of the ionized gas containing ions can be adjusted by providing the temperature adjusting means.

【0041】請求項4の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段を冷却器及び加熱器の双方またはど
ちらか一方で構成したことにより、イオンを含んだイオ
ン化気体の温度を調節することができる。
In the microbial growth prevention apparatus according to the invention of claim 4, the temperature adjusting means is constituted by either or both of the cooler and the heater, so that the temperature of the ionized gas containing ions can be adjusted. .

【0042】請求項5の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段をイオン発生室の上流側に設置した
ことにより、温度を調節する際に、イオンが減少するこ
とを防ぐことができ、イオン濃度を高濃度に維持したま
ま、イオンを含んだ温度調節された気体を作り出すこと
ができる。
In the microbial growth prevention apparatus according to the fifth aspect of the present invention, since the temperature adjusting means is installed on the upstream side of the ion generating chamber, it is possible to prevent the ions from decreasing when adjusting the temperature. A temperature-controlled gas containing ions can be produced while maintaining a high concentration.

【0043】請求項6の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含
んだイオン化気体を、微生物が繁殖する物体を格納する
空間内に供給するようにしたことにより、その物体に対
して温度調節されたイオンを含むイオン化気体が供給さ
れるようになる。
According to the sixth aspect of the invention, the apparatus for preventing microbial growth is configured so that the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means is supplied into the space for storing the object in which the microorganisms grow. , The ionized gas containing the temperature-controlled ions is supplied to the object.

【0044】請求項7の発明における微生物繁殖防止装
置は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有し、温
度調節手段により温度を調節されたイオンを含んだイオ
ン化気体をその空間に供給するイオン供給室を設けたこ
とにより、その物体に対して温度調節されたイオンを含
むイオン化気体が供給されるようになる。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a device for preventing microbial growth, which has a space for storing an object in which microorganisms grow, and which supplies an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by a temperature adjusting means to the space. By providing the supply chamber, the ionized gas containing the temperature-adjusted ions is supplied to the object.

【0045】請求項8の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含
んだイオン化気体中のイオンのみを移動させる一対の金
属電極および直流電源を設けたことにより、微生物が繁
殖する物体表面に対しイオンが効率よく供給されるよう
になる。
According to the eighth aspect of the present invention, the apparatus for preventing microbial growth is provided with a pair of metal electrodes for moving only the ions in the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means and the DC power source. Ions are efficiently supplied to the surface of an object on which microorganisms propagate.

【0046】請求項9の発明における微生物繁殖防止装
置は、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含
んだイオン化気体に混合するためのオゾンを発生するオ
ゾン発生器を設けたことにより、微生物が繁殖する物体
を格納する空間に対して温度調節されたオゾンを含んだ
イオン化気体が供給されるようになる。
According to the ninth aspect of the present invention, the microbial growth prevention apparatus is provided with an ozone generator for generating ozone for mixing with the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means. An ionized gas containing ozone whose temperature is adjusted is supplied to the space for storing the propagating object.

【0047】請求項10の発明における微生物繁殖防止
装置は、微生物が繁殖する物体を格納する空間を有し、
温度調節手段により温度を調節されたイオンを含んだイ
オン化気体を、その空間に格納されている物体に直接的
に吹き付けるイオン供給部を設けたことにより、その物
体表面に対して温度調節された高濃度のイオンを含んだ
イオン化気体が効率よく供給されるようになる。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a device for preventing microbial growth, which has a space for storing an object in which microorganisms grow.
By providing an ion supply unit for directly blowing the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means to the object stored in the space, the temperature adjusted high temperature is adjusted with respect to the object surface. An ionized gas containing a concentration of ions can be efficiently supplied.

【0048】請求項11の発明における微生物繁殖防止
装置は、イオン供給部を温度調節手段により温度を調節
されたイオンを含んだイオン化気体を放出するイオン放
出部と、微生物が繁殖する物体を温度調節されたイオン
を含んだイオン化気体の吹き出し位置に運び込む運搬装
置から構成したことにより、その物体表面に対して温度
調節された高濃度のイオンを含んだイオン化気体が直接
的に供給されるようになる。
According to the eleventh aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing microbial growth, wherein the ion supply section releases an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means, and the temperature of an object in which microorganisms grow is adjusted. Since it is composed of a carrying device that carries the ionized gas containing the generated ions to the blowing position, the ionized gas containing the temperature-controlled high concentration ions is directly supplied to the surface of the object. .

【0049】請求項12の発明における微生物繁殖防止
装置は、イオン供給部を微生物が繁殖する物体を格納す
る空間を有するイオン供給室と、温度調節手段により温
度を調節されたイオンを含んだイオン化気体の吹き出し
方向を変えて放出し、その空間に格納されている物体に
直接的に吹き付けるイオン放出部から構成したことによ
り、イオン供給室内の様々な場所に置かれた物体に対し
て温度調節された高濃度のイオンを含んだ気体が間欠的
に吹き付けられるようになる。
According to a twelfth aspect of the invention, there is provided an apparatus for preventing microbial growth, which comprises an ion supply chamber having a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by a temperature adjusting means. The temperature of the objects placed in various places in the ion supply chamber was adjusted by the ion emitting part that changes the direction of the air blow and emits it, and blows it directly to the objects stored in the space. A gas containing a high concentration of ions is intermittently sprayed.

【0050】請求項13の発明における微生物繁殖防止
装置は、気体を取り込む送風機と、前記送風機により取
り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気路内に設
置され、その気体の温度を調節する温度調節手段と、前
記温度調節手段により温度調節された気体に対して電子
を電離することによりその気体をイオン化するイオン発
生室から構成された微生物繁殖防止装置を物体が置かれ
た上方に動かす移動装置を設けたことにより、イオン供
給室内の様々な場所に置かれた物体に対して、温度調節
された高濃度のイオンを含んだイオン化気体が間欠的に
供給されるようになる。
The microbial growth prevention apparatus according to a thirteenth aspect of the present invention is provided with a blower for taking in a gas, a ventilation passage through which the gas taken in by the blower passes, and a ventilation passage provided in the ventilation passage to adjust the temperature of the gas. A movement for moving a microbial growth preventing device comprising a temperature adjusting means and an ion generating chamber for ionizing the gas whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means by ionizing the gas to the upper side where an object is placed. By providing the device, the temperature-controlled ionized gas containing a high concentration of ions is intermittently supplied to the objects placed in various places in the ion supply chamber.

【0051】請求項14の発明における微生物繁殖防止
装置は、イオン供給室内に物体の位置を認識する位置検
出装置と、温度調節されたイオンを含んだイオン化気体
の吹き出し方向を物体が存在する方向に変更するように
指示する制御装置で構成したことにより、温度を調節さ
れたイオンを含んだ気体中のイオン濃度を高濃度に維持
したまま、物体に効率良く当てることができる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a microbial breeding prevention apparatus which comprises a position detecting device for recognizing the position of an object in the ion supply chamber and a blowing direction of ionized gas containing temperature-controlled ions in the direction in which the object exists. By configuring with the control device instructing to change, it is possible to efficiently hit the object while keeping the ion concentration in the gas containing the temperature-adjusted ions high.

【0052】請求項15の発明における微生物繁殖防止
装置は、イオン供給室内部壁面に接続されたアース線
と、そのアース線と接地先との接点を開閉するスイッチ
を設けたことにより、イオン処理時にイオンの減少を防
ぐことができるようになるとともに、イオン処理後にイ
オン供給室内部壁面にたまった静電気を取り除くことが
できるようになる。
In the microbial breeding prevention apparatus according to the fifteenth aspect of the present invention, the ground wire connected to the inner wall surface of the ion supply chamber and the switch for opening and closing the contact point between the ground wire and the grounding destination are provided. It becomes possible to prevent the decrease of ions, and it is possible to remove static electricity accumulated on the inner wall surface of the ion supply chamber after the ion treatment.

【0053】請求項16の発明における微生物繁殖防止
装置は、微生物が繁殖する物体を内部から加熱させる一
対の金属電極および交流電源を設けたことにより、微生
物が繁殖する物体を加熱できるとともに、加熱された物
体表面に対し、高濃度のイオンを含んだ気体が直接的に
供給されるようになる。
According to the sixteenth aspect of the invention, the microbial growth preventing apparatus is provided with a pair of metal electrodes and an AC power source for heating an object in which the microorganisms grow, and can heat the object in which the microorganisms grow. The gas containing a high concentration of ions is directly supplied to the surface of the object.

【0054】請求項17の発明における微生物繁殖防止
装置は、イオンを含んだイオン化気体を気泡化して、貯
水器中の温度を調節された液中に供給するようにしたこ
とにより、液中で微生物が繁殖するのを抑えられるよう
になる。
In the microbial growth prevention apparatus of the seventeenth aspect of the present invention, the ionized gas containing ions is bubbled so that the temperature in the water reservoir is supplied to the regulated liquid. Can be suppressed from breeding.

【0055】請求項18の発明における微生物繁殖防止
装置は、液中に供給されたイオンが液中から放散される
のを防ぐ一対の金属網および直流電源を設けるようにし
たことにより、イオンが液中に滞在する時間を長くする
ことができるようになる。
In the microbial growth prevention apparatus according to the eighteenth aspect of the present invention, a pair of metal nets and a DC power source for preventing the ions supplied into the liquid from being diffused from the liquid are provided. You will be able to lengthen the time you stay inside.

【0056】[0056]

【実施例】【Example】

実施例1.以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の実施例1による微生物繁殖防止
装置を示す構成図であり、図において、従来のものと同
一符号は同一または相当部分を示すので説明を省略す
る。21は通気路3内に設置され、その気体1に対して
電子を電離することによりその気体1をイオン化するイ
オン発生室、22はイオン発生室21の上流側に設置さ
れ、ファン(送風機)2により取り込まれた気体1の温
度を調節する温度調節室(温度調節手段)、23は温度
調節室で温度を調節された気体である。なお、この実施
例1における温度調節室22には気体1を冷却するため
の熱交換器24等が備え付けられており、その熱交換器
24は冷却器25と冷媒等が流れる配管26によって接
続されているので、ファン2により取り込まれた気体1
を冷却して、冷却した気体23がイオン発生室21に導
かれることになる。また、27は温度を調節されたイオ
ンを含んだイオン化気体、28は微生物が繁殖する物体
14を格納する空間を有するとともに、温度調節室22
により温度を調節されたイオンを含むイオン化気体27
をその空間に供給するイオン供給室である。
Example 1. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those of the conventional one indicate the same or corresponding portions, and therefore the description thereof will be omitted. Reference numeral 21 denotes an ion generating chamber that is installed in the ventilation path 3 and ionizes the gas 1 by ionizing electrons to the gas 1. Reference numeral 22 is installed upstream of the ion generating chamber 21 and has a fan (blower) 2 The temperature control chamber (temperature control means) 23 for controlling the temperature of the gas 1 taken in by the means 23 is a gas whose temperature is controlled in the temperature control chamber. The temperature control chamber 22 in the first embodiment is equipped with a heat exchanger 24 or the like for cooling the gas 1, and the heat exchanger 24 is connected to the cooler 25 by a pipe 26 through which a refrigerant or the like flows. Therefore, the gas 1 taken in by the fan 2
And the cooled gas 23 is introduced into the ion generation chamber 21. Further, 27 is an ionized gas containing ions whose temperature is controlled, 28 is a space for storing the object 14 in which microorganisms propagate, and the temperature control chamber 22
Ionized gas 27 containing ions whose temperature has been adjusted by
Is the ion supply chamber that supplies the space.

【0057】次に動作について説明する。まず、ファン
2がイオン供給室28外の気体1を供給口4から取り込
み、通気路3を介して温度調節室22内に導く。この温
度調節室22内には、気体1を冷却するための熱交換器
24等が備え付けられており、その熱交換器24内を冷
却器25で冷やされた冷媒等が配管26を通って流れる
ようにされているので、ファン2により取り込まれた気
体1が0〜10℃程度に冷却され、冷却された気体23
がイオン発生室21に導かれることになる。
Next, the operation will be described. First, the fan 2 takes in the gas 1 outside the ion supply chamber 28 from the supply port 4 and guides it into the temperature control chamber 22 via the ventilation path 3. A heat exchanger 24 or the like for cooling the gas 1 is provided in the temperature control chamber 22, and a refrigerant or the like cooled in the cooler 25 flows through the pipe 26 in the heat exchanger 24. Therefore, the gas 1 taken in by the fan 2 is cooled to about 0 to 10 ° C., and the cooled gas 23
Will be guided to the ion generation chamber 21.

【0058】温度調節室22内で冷却された気体23
は、次にイオン発生室21に供給される。このイオン発
生室21には、複数の金属針電極7と、この金属針電極
7と対向して配置された金属平板接地電極8が備えられ
ているので、例えば、金属針電極7と金属平板接地電極
8との間隔(ギャップ長)を数mmとし、金属針電極7
に数kVの負極性直流パルス高電圧を印加すると、金属
針電極7の先端近傍に、高い電界がかかり、コロナ放電
が起こる。ここで、冷却された気体23が放電中のイオ
ン発生室21内に導かれると、その気体23に含まれる
酸素分子等に電子が付着して、酸素分子等が負イオン化
し、負イオンが冷却された気体23に含まれることにな
る。
Gas 23 cooled in temperature control chamber 22
Are then supplied to the ion generation chamber 21. Since the ion generating chamber 21 is provided with a plurality of metal needle electrodes 7 and a metal plate ground electrode 8 arranged to face the metal needle electrodes 7, for example, the metal needle electrode 7 and the metal plate ground are provided. The distance from the electrode 8 (gap length) is set to several mm, and the metal needle electrode 7
When a negative DC pulse high voltage of several kV is applied to, a high electric field is applied to the vicinity of the tip of the metal needle electrode 7, and corona discharge occurs. Here, when the cooled gas 23 is introduced into the ion generating chamber 21 during discharge, electrons are attached to oxygen molecules and the like contained in the gas 23, the oxygen molecules and the like are negatively ionized, and the negative ions are cooled. It will be contained in the gas 23 thus generated.

【0059】なお、イオン発生室21内で起こる放電に
より放出される熱エネルギーは、非常にわずかであるた
め、冷却された気体23がイオン発生室21を通過する
ことにより温められることはなく、また、空気を0〜1
0℃程度に冷却してイオン発生室21に供給しても、イ
オンの発生量を減少させることはなく、冷却した状態に
保ちながら、冷却された気体23中に負イオンを生成す
ることができる。この際、空気を0℃以下に冷却するこ
とにより、さらによい効果が得られる。一方、冷却され
た気体23中に酸素分子が含まれていると、放電によ
り、オゾンも発生するが、前述したように直流パルス高
電圧を用いた放電の場合、オゾンの発生量は少なく、冷
却されたイオンを含むイオン化気体27中のオゾン濃度
は、0.01ppm以下(JIS規格のヨウ化カリウム
法の検出限界以下)であった。
Since the thermal energy released by the discharge that occurs in the ion generation chamber 21 is very small, the cooled gas 23 is not warmed by passing through the ion generation chamber 21, and , Air 0 to 1
Even if cooled to about 0 ° C. and supplied to the ion generation chamber 21, the amount of generated ions is not reduced, and negative ions can be generated in the cooled gas 23 while maintaining the cooled state. . At this time, even better effects can be obtained by cooling the air to 0 ° C. or lower. On the other hand, if oxygen molecules are contained in the cooled gas 23, ozone is also generated by the discharge, but as described above, in the case of discharge using a DC pulse high voltage, the amount of ozone generated is small and the ozone is cooled. The ozone concentration in the ionized gas 27 containing the generated ions was 0.01 ppm or less (below the detection limit of the JIS standard potassium iodide method).

【0060】このようにして生成した冷却されたイオン
を含むイオン化気体27がイオン供給室28内の空間に
放出される。通常の場合は、空気を供給するので、冷却
されたイオンを含むイオン化気体27が供給される。こ
れにより、イオン供給室28内に格納された物体14に
対してイオンが継続して供給されることになるので、物
体14の表面で微生物が繁殖するのが抑えられることに
なる。
The ionized gas 27 containing the cooled ions thus generated is released into the space inside the ion supply chamber 28. In the usual case, since air is supplied, the ionized gas 27 containing cooled ions is supplied. As a result, the ions are continuously supplied to the object 14 stored in the ion supply chamber 28, so that the proliferation of microorganisms on the surface of the object 14 can be suppressed.

【0061】以下、冷却されたイオンを含むイオン化気
体27によって微生物の繁殖が抑えられることを実験例
を用いて説明する。図2は寒天培地に人工的に植え付け
たバクテリア(シュードモナス(Pseudomona
s)属の緑濃菌)を保持したシャーレをイオン供給室2
8内に設置し、イオン処理の効果を調べたものである。
ここで、シャーレが配置されたイオン供給室28内に送
り込むイオンを含むイオン化気体27中の負イオン濃度
は104 〜105 個/cm3 とした。この際、イオン発
生室21の電極間に印加する電圧は3〜5kVとした。
なお、イオン発生室21に供給する空気1の温度は10
℃、湿度は80〜90%とし、負イオン濃度104 〜1
5 個/cm3 で、オゾン濃度0.01ppm以下の冷
却されたイオンを含むイオン化気体27で7日間連続的
に処理した。比較項目として、イオンを発生させずに1
0℃の空気で処理した場合、イオンを発生させずに20
℃の空気で処理した場合、および温度20℃、負イオン
濃度104 〜105 個/cm3 、オゾン濃度0.01p
pm以下のイオン化気体で処理した場合を加えた。
Hereinafter, it will be described using experimental examples that the growth of microorganisms is suppressed by the ionized gas 27 containing cooled ions. Figure 2 shows the bacteria (Pseudomonas (Pseudomona) artificially planted on the agar medium.
s) a green petri dish containing a genus of green bacteria) in the ion supply chamber 2
It was installed in No. 8 and the effect of ion treatment was examined.
Here, the negative ion concentration in the ionized gas 27 containing the ions sent into the ion supply chamber 28 in which the petri dish is arranged was set to 10 4 to 10 5 / cm 3 . At this time, the voltage applied between the electrodes of the ion generation chamber 21 was 3 to 5 kV.
The temperature of the air 1 supplied to the ion generation chamber 21 is 10
The temperature and humidity are 80 to 90%, and the negative ion concentration is 10 4 to 1
It was continuously treated with an ionized gas 27 containing cooled ions having an ozone concentration of 0.01 ppm or less at 0 5 / cm 3 for 7 days. As a comparison item, 1 without generating ions
When treated with 0 ° C air, 20
When treated with air at ℃, temperature 20 ℃, negative ion concentration 10 4 to 10 5 / cm 3 , ozone concentration 0.01p
The case of treatment with an ionized gas of pm or less was added.

【0062】実験結果は、図2に示したように、イオン
を発生させずに20℃の空気で処理した場合、7日後の
バクテリアのコロニー数は約400個/シャーレであ
り、イオンを発生させずに10℃の空気で処理した場
合、バクテリアのコロニーは20℃の場合と比較して成
長は遅いが、7日後のバクテリアのコロニー数は約40
0個/シャーレとなり、最終的にはバクテリアのコロニ
ー数としては、供給する気体の温度によって、変わらな
いことがわかった。これは、図3にも示したように、微
生物の種類によって、微生物の活性が高くなる(微生物
の増殖速度が速くなる)温度領域は異なるが、一般的に
温度を低下させると、微生物の増殖速度が遅くなると言
われている低温による静菌作用によるものである。
As shown in FIG. 2, the experimental result shows that, when treated with air at 20 ° C. without generating ions, the number of bacterial colonies after 7 days was about 400 cells / dish, indicating that ions were generated. Without treatment with air at 10 ° C, the bacterial colonies grew slower than at 20 ° C, but after 7 days, the bacterial colony count was about 40.
It was found that the number was 0 per dish, and the number of bacterial colonies finally did not change depending on the temperature of the gas supplied. As shown in FIG. 3, the temperature range in which the activity of the microorganism increases (the growth rate of the microorganism increases) varies depending on the type of the microorganism, but generally, when the temperature is lowered, the growth of the microorganism increases. This is due to the bacteriostatic action due to the low temperature, which is said to slow down.

【0063】一方、温度10℃、負イオン濃度104
105 個/cm3 、オゾン濃度0.01ppm以下のイ
オン化気体で処理した場合、7日後のバクテリアのコロ
ニー数は0個/シャーレとなり、完全に増殖が抑制され
る効果が得られた。また、温度20℃、負イオン濃度1
4 〜105 個/cm3 、オゾン濃度0.01ppm以
下のイオン化気体で処理した場合、7日後のバクテリア
のコロニー数は、約20個/シャーレとなり、10℃の
場合と比較して、バクテリアの増殖抑制効果は減少する
ことが認められた。
On the other hand, at a temperature of 10 ° C. and a negative ion concentration of 10 4 to
When treated with an ionized gas having a concentration of 10 5 cells / cm 3 and an ozone concentration of 0.01 ppm or less, the number of bacterial colonies after 7 days was 0 cells / dishes, and the effect of completely suppressing the growth was obtained. Also, the temperature is 20 ° C and the negative ion concentration is 1
When treated with an ionized gas of 0 4 to 10 5 cells / cm 3 and an ozone concentration of 0.01 ppm or less, the number of bacterial colonies after 7 days was about 20 cells / dish, compared to the case of 10 ° C. It was confirmed that the growth-suppressing effect of sucrose was decreased.

【0064】また、イオン処理した寒天培地を、イオン
処理を止めて、そのまま室温(約20℃)に放置した場
合、温度20℃、負イオン濃度104 〜105 個/cm
3 、オゾン濃度0.01ppm以下のイオン化気体で処
理した寒天培地では、バクテリアが再び増殖することを
確認できたが、温度10℃、負イオン濃度104 〜10
5 個/cm3 、オゾン濃度0.01ppm以下のイオン
化気体で処理した寒天培地では、バクテリアの再増殖は
認められなかった。
When the ion-treated agar medium was left to stand at room temperature (about 20 ° C.) after stopping the ion-treatment, the temperature was 20 ° C. and the negative ion concentration was 10 4 to 10 5 cells / cm 2.
3. In the agar medium treated with the ionized gas having an ozone concentration of 0.01 ppm or less, it was confirmed that the bacteria re-grown, but the temperature was 10 ° C. and the negative ion concentration was 10 4 to 10 4.
No regrowth of bacteria was observed on the agar medium treated with 5 ions / cm 3 and an ionized gas having an ozone concentration of 0.01 ppm or less.

【0065】以上のように上記実験結果によると、寒天
培地に植え付けたバクテリアで、冷却したイオンを含む
イオン化気体27の方が冷却しない場合に比べて、微生
物の増殖を防止する効果が大きくなるとともに、気体の
温度を低下させることとその気体中に発生させたイオン
の相乗効果により、冷却したイオンを含むイオン化気体
27により、バクテリアを死滅させることを確認するこ
とができた。
As described above, according to the above experimental results, in the bacteria planted in the agar medium, the effect of preventing the growth of microorganisms becomes greater than the case where the ionized gas 27 containing cooled ions is not cooled. It was confirmed that the bacteria were killed by the ionized gas 27 containing the cooled ions, due to the synergistic effect of reducing the temperature of the gas and the ions generated in the gas.

【0066】なお、図2では、好気性の短桿菌であるP
seudomonas属細菌を用いて負イオンの効果を
示したが、他の細菌、例えばPseudomonas属
細菌と同じ仲間である大腸菌やサルモネラ菌等の好気性
の桿菌についても同様の効果が得られた。また、形態が
違う好気性の球菌である黄色ブドウ球菌等や、胞子を形
成する好気性の桿菌であるバチルス(Bacillu
s)属細菌等や、真菌類であるカビ等についても同様の
効果が得られ、増殖を抑制することができると考えられ
る。
In FIG. 2, P which is an aerobic bacillus
The effect of negative ions was shown using bacteria of the genus Seudomonas, but similar effects were obtained also with other bacteria, for example, aerobic rods such as Escherichia coli and Salmonella which are the same members as the bacteria of the genus Pseudomonas. In addition, Staphylococcus aureus, which is an aerobic coccus having a different morphology, and Bacillus which is an aerobic bacillus that forms spores.
It is considered that the same effect can be obtained with respect to s) genus bacteria and the like and fungi such as fungi, and the growth can be suppressed.

【0067】今回、冷却温度を10℃、負イオン濃度を
104 〜105 個/cm3 とした場合の負イオン処理に
ついて微生物の増殖抑制効果を示したが、イオン供給室
28内に供給される冷却されたイオンを含むイオン化気
体27中の負イオン濃度およびイオンを含むイオン化気
体27の温度は、物体14表面に存在している微生物の
種類や処理方法等によって変更することが望ましい。
This time, although the effect of suppressing the growth of microorganisms was shown by the negative ion treatment when the cooling temperature was 10 ° C. and the negative ion concentration was 10 4 to 10 5 pieces / cm 3 , it was supplied to the ion supply chamber 28. The negative ion concentration in the ionized gas 27 containing cooled ions and the temperature of the ionized gas 27 containing ions are preferably changed depending on the type of microorganisms present on the surface of the object 14 and the treatment method.

【0068】例えば、温度の効果に関して一例を上げて
みると、Pseudomonas属細菌等の低温菌の場
合では、温度が5〜10℃になると、20〜30℃(最
適増殖温度領域)の場合に比べて、増殖速度は1/10
程度に減少し、また、大腸菌等の中温菌の場合では、温
度が15〜20℃になると、35〜45℃(最適増殖温
度領域)の場合に比べて、増殖速度は1/10程度に減
少し、また、バチルスサーキュランズ(Bacillu
s circulans)細菌等の高温菌では、温度が
25〜30℃になると、50〜60℃(最適増殖温度領
域)の場合に比べて、増殖速度は1/10程度に減少す
るといったように、微生物の種類によって同じ温度であ
っても増殖速度が異なることがわかっており、このよう
なことを考慮して、イオンを含むイオン化気体27の冷
却温度を決定することが必要である。しかしながら、通
常の場合、低温菌、中温菌及び高温菌等のどの細菌にお
いても、増殖速度が1/10以下となる10℃以下に気
体の温度を調節し、その気体中に負イオンを発生させ
て、微生物の増殖抑制を行うことが効果的である。
For example, taking an example of the effect of temperature, in the case of a low temperature bacterium such as Pseudomonas genus bacterium, when the temperature reaches 5 to 10 ° C., compared with the case of 20 to 30 ° C. (optimum growth temperature region) The growth rate is 1/10
In the case of mesophilic bacteria such as Escherichia coli, when the temperature reaches 15 to 20 ° C, the growth rate decreases to about 1/10 as compared to the case of 35 to 45 ° C (optimum growth temperature range). Also, Bacillus circulans (Bacillus
In thermophilic bacteria such as s circulans bacteria, when the temperature reaches 25 to 30 ° C., the growth rate decreases to about 1/10 as compared with the case of 50 to 60 ° C. (optimum growth temperature region). It has been known that the growth rate varies depending on the type of the same even at the same temperature, and it is necessary to determine the cooling temperature of the ionized gas 27 containing ions in consideration of such a fact. However, in the normal case, in any bacterium such as a psychrophilic bacterium, a mesophilic bacterium, and a thermophilic bacterium, the temperature of the gas is adjusted to 10 ° C. or less at which the growth rate is 1/10 or less, and negative ions are generated in the gas. Therefore, it is effective to suppress the growth of microorganisms.

【0069】また、処理方法に関しても、イオンを含む
イオン化気体27の冷却温度をさらに下げて0℃以下と
したり、負イオン濃度をさらに上げて106 〜107
/cm3 とすることによって、イオン処理時間をさらに
短くし、微生物の増殖防止を効率的に行うようにしても
よい。
Regarding the treatment method, the cooling temperature of the ionized gas 27 containing ions is further lowered to 0 ° C. or lower, or the negative ion concentration is further raised to 10 6 to 10 7 / cm 3 . The ion treatment time may be further shortened to effectively prevent the growth of microorganisms.

【0070】なお、上記実施例1では、冷却された負イ
オンを含んだイオン化気体27を用いて処理した場合に
ついての効果を示したが、イオン発生室21内の金属針
電極7に正極性の直流パルス高電圧を印加して正イオン
を生成し、その正イオンをイオン供給室28に供給する
ようにしても同様の効果が得られるが、負イオンの方が
正イオンに比べて微生物の繁殖を防止する効果が大き
い。
In the first embodiment described above, the effect of treating with the ionized gas 27 containing the cooled negative ions was shown, but the metal needle electrode 7 in the ion generating chamber 21 has a positive polarity. A similar effect can be obtained by applying a DC pulse high voltage to generate positive ions and supplying the positive ions to the ion supply chamber 28, but negative ions are more proliferative to microorganisms than positive ions. The effect of preventing is great.

【0071】また、上記実施例では、冷却器25を用い
て、気体を冷却するものについて示したが、図4に示し
たように温度調節室22内に冷却用の熱交換器24と加
熱用発熱抵抗体29を設けて、冷却用の熱交換器24に
接続された冷却器25と加熱用発熱抵抗体29をON−
OFFして、気体を冷却するようにしてもよい。
In the above embodiment, the cooling device 25 is used to cool the gas. However, as shown in FIG. 4, the cooling heat exchanger 24 and the heating device 24 are provided in the temperature control chamber 22. A heating resistor 29 is provided, and the cooler 25 connected to the cooling heat exchanger 24 and the heating resistor 29 are turned on.
It may be turned off to cool the gas.

【0072】さらにまた、上記実験例ではイオン発生室
21において、金属針電極7と対向して配置させた金属
平板接地電極8を設けた場合の例を示したが、図5に示
したように、イオン発生室21には径が0.1〜0.2
mm程度の複数の金属細線30と、この金属細線30と
対向して配置された金属格子状接地電極31を設け、こ
の金属細線30に負極性の直流パルス高電圧を印加させ
たときに起こる放電についても同様の効果があった。
Furthermore, in the above experimental example, an example in which the metal flat plate ground electrode 8 arranged so as to face the metal needle electrode 7 was provided in the ion generation chamber 21, was shown as shown in FIG. , The ion generation chamber 21 has a diameter of 0.1 to 0.2.
Discharge that occurs when a plurality of thin metal wires 30 having a size of about mm and a metal grid-shaped ground electrode 31 arranged to face the thin metal wires 30 are provided, and a negative DC pulse high voltage is applied to the thin metal wires 30 Also had the same effect.

【0073】実施例2.実施例1では、イオン供給室外
部の気体1を温度調節室22に供給し、そこで冷却され
た気体23をイオン発生室21に送り込むように、温度
調節室22をイオン発生室21の上流側に設けた場合の
例を示したが、図6に示したように、温度調節室22を
イオン発生室21より下流側に設置するようにしても、
イオンを含んだ冷却されたイオン化気体27を生成する
ことができる。しかしながら、温度調節室22をイオン
発生室21より下流側に設置した場合、イオン発生室2
1で生成したイオンの一部が温度調節室22内の熱交換
器24等に衝突することにより消滅するので、温度調節
室22をイオン発生室21の上流側に設けた場合と比較
して、冷却されたイオンを含むイオン化気体27中のイ
オン濃度は減少する。従って、冷却されたイオンを含む
イオン化気体27をイオン供給室28内に効率よく供給
するには、温度調節室22をイオン発生室21の上流側
に設置することが望ましく、高濃度のイオンによりイオ
ン供給室28内部に格納された物体14を処理すること
ができる。
Example 2. In the first embodiment, the gas 1 outside the ion supply chamber is supplied to the temperature control chamber 22, and the cooled gas 23 is sent to the ion generation chamber 21 so that the temperature control chamber 22 is located upstream of the ion generation chamber 21. Although the example of the case where it is provided is shown, as shown in FIG. 6, even if the temperature control chamber 22 is installed on the downstream side of the ion generation chamber 21,
A cooled ionized gas 27 containing ions can be generated. However, when the temperature control chamber 22 is installed on the downstream side of the ion generation chamber 21, the ion generation chamber 2
Since some of the ions generated in 1 collide with the heat exchanger 24 and the like in the temperature control chamber 22, the ions disappear, so compared with the case where the temperature control chamber 22 is provided on the upstream side of the ion generation chamber 21, The ion concentration in the ionized gas 27 containing the cooled ions decreases. Therefore, in order to efficiently supply the ionized gas 27 containing the cooled ions into the ion supply chamber 28, it is desirable to install the temperature control chamber 22 on the upstream side of the ion generation chamber 21. The object 14 stored inside the supply chamber 28 can be processed.

【0074】実施例3.上記実施例1では、イオン供給
室28外の気体1がファン2により温度調節室22に供
給されて、そこで0〜10℃程度に冷却された後に、イ
オン発生室21から冷却されたイオンを含むイオン化気
体27として、イオン供給室28内に格納された物体1
4に対して継続的に供給して、物体14表面で微生物が
繁殖するのを防止するものを示したが、図7で示したよ
うに、イオン供給室28内の気体1をファン2により温
度調節室22に送り込み、イオン発生室21から冷却さ
れたイオンを含むイオン化気体27として放出するよう
にして、イオン供給室28内で冷却されたイオンを含む
イオン化気体27により物体14を処理し、処理後のイ
オン濃度が減衰した冷却された気体32を再びファン2
により、温度調節室22に送り込むようにして、冷却さ
れたイオンを含むイオン化気体27が還流するように構
成しても、イオン発生室21からイオン供給室28内に
一定量のイオンを継続的に送り込むことにより、微生物
の増殖を防止する効果が得られる。なお、気体を0℃以
下に冷却した後に、イオン発生室21に送り込み、0℃
以下に冷却されたイオンを含むイオン化気体27が還流
するようにしてもさらに効果的である。また、気体1を
還流させることにより、外部の気体1から冷却されたイ
オンを含むイオン化気体27を作る場合と比較して、気
体1を冷却するために必要なエネルギーを減少させるこ
とができる。
Example 3. In the first embodiment, the gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and is cooled to about 0 to 10 ° C. therein, and then includes the ions cooled from the ion generation chamber 21. The object 1 stored in the ion supply chamber 28 as the ionized gas 27
4 is continuously supplied to prevent the microorganisms from propagating on the surface of the object 14, but as shown in FIG. 7, the gas 1 in the ion supply chamber 28 is heated by the fan 2. The object 14 is treated by the ionized gas 27 containing the cooled ions in the ion supply chamber 28 so as to be discharged into the adjustment chamber 22 as the ionized gas 27 containing the cooled ions from the ion generation chamber 21. The cooled gas 32 whose ion concentration has been attenuated is then returned to the fan 2 again.
Thus, even if the ionized gas 27 containing the cooled ions is refluxed by being sent to the temperature control chamber 22, a constant amount of ions is continuously supplied from the ion generation chamber 21 into the ion supply chamber 28. By feeding, the effect of preventing the growth of microorganisms can be obtained. In addition, after cooling the gas to 0 ° C. or lower, the gas is fed into the ion generation chamber 21 to
It is even more effective if the ionized gas 27 containing cooled ions is refluxed below. Further, by refluxing the gas 1, the energy required for cooling the gas 1 can be reduced as compared with the case where the ionized gas 27 containing the cooled ions is produced from the external gas 1.

【0075】上記実施例3では、イオン供給室内部の気
体1を循環させて用いる場合の例を示したが、図8に示
したように、イオン供給室28内部に空調機器33を設
けてイオン供給室28内部の空間を冷却して、そこにイ
オン発生室21よりオゾンを含まないイオン化された気
体13を供給するようにしても、物体14を冷却された
イオンを含んだイオン化気体27で処理することができ
る。しかしながら、空調機器33をイオン供給室28の
内部に設けた場合、イオン供給室28内部に供給された
イオンの一部が、空調機器33内に取り込まれ、空調機
器33内部の熱交換器24等の金属物体に衝突すること
により消滅するので、微生物の増殖抑制に用いられるイ
オンの量は減少する。従って、冷却されたイオンを含む
イオン化気体27をイオン供給室28内に供給して、イ
オン供給室28内部に格納されている物体14をイオン
で処理した後に、再び温度調節室22、イオン発生室2
1の順で気体1を循環させることが望ましく、発生させ
たイオンを効率良く微生物の増殖防止に用いることがで
きる。
In the above-mentioned third embodiment, an example in which the gas 1 in the ion supply chamber is circulated and used is shown. However, as shown in FIG. Even if the space inside the supply chamber 28 is cooled and the ionized gas 13 containing no ozone is supplied from the ion generation chamber 21, the object 14 is treated with the ionized gas 27 containing the cooled ions. can do. However, when the air conditioner 33 is provided inside the ion supply chamber 28, some of the ions supplied to the inside of the ion supply chamber 28 are taken into the air conditioner 33, and the heat exchanger 24 and the like inside the air conditioner 33. Since it disappears by colliding with the metal object, the amount of ions used to suppress the growth of microorganisms decreases. Therefore, after the ionized gas 27 containing the cooled ions is supplied into the ion supply chamber 28 to treat the object 14 stored in the ion supply chamber 28 with the ions, the temperature control chamber 22 and the ion generation chamber are again supplied. Two
It is desirable to circulate the gas 1 in the order of 1, and the generated ions can be efficiently used for preventing the growth of microorganisms.

【0076】実施例4.上記実施例1では、イオン供給
室28外の気体1がファン2により温度調節室22に供
給されて、そこで0〜10℃程度に冷却された後に、イ
オン発生室21から冷却されたイオンを含むイオン化気
体27として、イオン供給室28内に格納された物体1
4に対して継続的に供給して、物体14表面で微生物が
繁殖するのを防止するものを示したが、図9に示すよう
に、イオン供給室28外の気体1をファン2により温度
調節室22に供給するようにし、そこで発熱抵抗体29
により60℃以上に加熱して、加熱した気体23をイオ
ン発生室21に送り込むようにし、加熱されたイオンを
含むイオン化気体27がイオン供給室28内に放出され
るようにしてもよく、微生物の増殖を防止することがで
きる。
Example 4. In the first embodiment, the gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and is cooled to about 0 to 10 ° C. therein, and then includes the ions cooled from the ion generation chamber 21. The object 1 stored in the ion supply chamber 28 as the ionized gas 27
4 is continuously supplied to prevent the microorganisms from propagating on the surface of the object 14, but as shown in FIG. 9, the temperature of the gas 1 outside the ion supply chamber 28 is adjusted by the fan 2. The heating resistor 29 is supplied to the chamber 22.
The heated gas 23 may be sent to the ion generation chamber 21 by heating to 60 ° C. or higher by the above, and the ionized gas 27 containing the heated ions may be released into the ion supply chamber 28. Proliferation can be prevented.

【0077】イオン供給室28内に供給される加熱され
たイオンを含むイオン化気体27中の温度は、物体14
表面に存在している微生物の種類等によって異なるが、
気体1の温度を微生物の活性が弱くなる温度まで上げ、
イオン濃度を104 〜105個/cm3 とすると、温度
調節していないオゾンを含まないイオン化された気体1
3を使用する場合と比較して微生物の繁殖防止能力を高
めることができる。
The temperature in the ionized gas 27 containing the heated ions supplied into the ion supply chamber 28 depends on the temperature of the object 14
Depending on the type of microorganisms present on the surface,
Raise the temperature of gas 1 to a temperature at which the activity of microorganisms becomes weak,
If the ion concentration is 10 4 to 10 5 ions / cm 3 , the temperature is not adjusted and the ozone-free ionized gas 1
Compared with the case where 3 is used, the ability to prevent the reproduction of microorganisms can be enhanced.

【0078】例えば、Pseudomonas属細菌等
の低温菌の場合では、温度が35〜40℃になると、2
0〜30℃(最適増殖温度領域)の場合に比べて、増殖
速度は1/10程度に減少し、また、大腸菌等の中温菌
の場合では、温度が45〜50℃になると、35〜45
℃(最適増殖温度領域)の場合に比べて、増殖速度は1
/10程度に減少し、また、Bacillus cir
culans細菌等の高温菌では、温度が60〜65℃
になると、50〜60℃(最適増殖温度領域)の場合に
比べて、増殖速度は1/10程度に減少するといったよ
うに、微生物の種類によって同じ温度であっても増殖速
度が異なることがわかっており、このようなことを考慮
して、イオンを含むイオン化気体27の加熱温度を決定
し、負イオンで処理することが必要である。しかしなが
ら、通常の場合、低温菌、中温菌及び高温菌等のどの細
菌においても、増殖速度が1/10以下となる60℃以
上に気体の温度を調節し、その気体中に負イオンを発生
させて、微生物の増殖抑制を行うことが効果的である。
For example, in the case of a low temperature bacterium such as Pseudomonas genus bacterium, when the temperature reaches 35 to 40 ° C., 2
Compared with the case of 0 to 30 ° C. (optimum growth temperature region), the growth rate is reduced to about 1/10, and in the case of mesophilic bacteria such as Escherichia coli, when the temperature is 45 to 50 ° C., it is 35 to 45 ° C.
Compared to the case of ℃ (optimum growth temperature range), the growth rate is 1
It decreases to about / 10, and the Bacillus cir
In thermophilic bacteria such as culans bacteria, the temperature is 60 to 65 ° C.
Then, compared with the case of 50 to 60 ° C (optimum growth temperature region), the growth rate decreases to about 1/10, and it is clear that the growth rate differs depending on the type of microorganism even at the same temperature. In consideration of this, it is necessary to determine the heating temperature of the ionized gas 27 containing ions and treat it with negative ions. However, in the normal case, in any bacteria such as psychrophilic bacteria, mesophilic bacteria and thermophilic bacteria, the temperature of the gas is adjusted to 60 ° C. or higher at which the growth rate is 1/10 or less, and negative ions are generated in the gas. Therefore, it is effective to suppress the growth of microorganisms.

【0079】なお、上記実施例では、発熱抵抗体29を
用いて、気体を加熱するものについて示したが、温度調
節室22内に冷却用の熱交換器24と加熱用の発熱抵抗
体29を設けて、冷却用の熱交換器24に接続された冷
却器25と加熱用の発熱抵抗体29をON−OFFし
て、気体を加熱するようにしてもよい。
In the above embodiment, the heating resistor 29 is used to heat the gas. However, the heat exchanger 24 for cooling and the heating resistor 29 for heating are provided in the temperature control chamber 22. Alternatively, the gas may be heated by turning on and off the cooler 25 connected to the heat exchanger 24 for cooling and the heating resistor 29 for heating.

【0080】実施例5.図10はこの発明の実施例5に
よる微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図におい
て、34はイオン発生室21に送り込む気体1の温度を
計測する温度センサー、35は温度センサー34によっ
て計測された温度信号を入力信号として、温度調節室2
2およびイオン発生室21に出力信号を送る制御装置で
ある。
Example 5. FIG. 10 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 5 of the present invention. In the figure, 34 is a temperature sensor for measuring the temperature of the gas 1 sent to the ion generation chamber 21, and 35 is a temperature sensor 34 for measuring. Temperature control chamber 2
2 and the ion generation chamber 21 are control devices that send output signals.

【0081】次に動作について説明する。まず、ファン
2が外部の気体1を供給口4から取り込み、通気路3を
介して温度調節室22内に導く。この温度調節室22内
で、ファン2により取り込まれた気体1の温度が調節さ
れ、温度が調節された気体23がイオン発生室21に導
かれることになる。
Next, the operation will be described. First, the fan 2 takes in the external gas 1 from the supply port 4 and guides it into the temperature control chamber 22 through the ventilation passage 3. In the temperature adjusting chamber 22, the temperature of the gas 1 taken in by the fan 2 is adjusted, and the temperature-adjusted gas 23 is guided to the ion generating chamber 21.

【0082】温度調節室22とイオン発生室21をつな
ぐ通気路3内に設置された温度センサー34により、温
度調節された気体23の温度を検出して、電気信号が制
御装置35に送られる。電気信号を受け取った制御装置
35はイオン発生室21に電気信号を送る。そして、イ
オン発生室21内に設けられた複数の金属針電極7に印
加される負極性の直流パルス高電圧の値が変更され、負
イオンの発生量が変更される。これにより、イオン発生
室21に送り込む気体23の温度に合わせて、温度調節
された気体23中に適当量の負イオンを発生させること
ができ、温度調節されたイオンを含むイオン化気体27
により、効率良く微生物の増殖を防止することができ
る。
The temperature sensor 34 installed in the ventilation passage 3 connecting the temperature control chamber 22 and the ion generation chamber 21 detects the temperature of the temperature-controlled gas 23 and sends an electric signal to the control device 35. The control device 35 receiving the electric signal sends the electric signal to the ion generating chamber 21. Then, the value of the negative DC pulse high voltage applied to the plurality of metal needle electrodes 7 provided in the ion generation chamber 21 is changed, and the generation amount of negative ions is changed. As a result, an appropriate amount of negative ions can be generated in the temperature-controlled gas 23 in accordance with the temperature of the gas 23 sent to the ion generation chamber 21, and the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is generated.
Thereby, the growth of microorganisms can be efficiently prevented.

【0083】上記実施例では、制御装置35の出力信号
により、金属針電極7に印加する負極性の直流パルス高
電圧の値を変更するようにしたが、直流パルス高電圧の
パルス周波数の値を変更するようにしても、負イオンの
発生量を変更することができる。
In the above embodiment, the value of the negative DC pulse high voltage applied to the metal needle electrode 7 is changed by the output signal of the controller 35, but the value of the pulse frequency of the DC pulse high voltage is changed. Even if it is changed, the amount of negative ions generated can be changed.

【0084】さらに、上記実施例では、制御装置35の
出力信号により、金属針電極7に印加する負極性の直流
パルス高電圧の値を変更するようにしたが、ファン2の
回転数を変化させて、イオン発生室21内の両電極間を
通過する気体の速度を変更するようにしても、負イオン
の発生量を変更することができる。
Further, in the above embodiment, the value of the negative DC pulse high voltage applied to the metal needle electrode 7 is changed by the output signal of the controller 35. However, the rotation speed of the fan 2 is changed. Then, the amount of negative ions generated can also be changed by changing the velocity of the gas passing between the electrodes in the ion generation chamber 21.

【0085】実施例6.図11はこの発明の実施例6に
よる微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図におい
て、36はイオン供給室28内の床面に設置された金属
平板接地電極、37はイオン供給室28内の天井面に設
置された金属平板電極、38は金属平板電極37に直流
の電圧を印加するための直流電圧発生器である。
Example 6. FIG. 11 is a block diagram showing a microbial breeding preventive apparatus according to Embodiment 6 of the present invention. In the figure, 36 is a metal plate ground electrode installed on the floor of the ion supply chamber 28, and 37 is the ion supply chamber 28. A metal plate electrode installed on the ceiling surface of the metal plate 38 is a DC voltage generator for applying a DC voltage to the metal plate electrode 37.

【0086】次に動作について説明する。イオン供給室
28外の気体1がファン2により温度調節室22に供給
されて、そこで冷却用の熱交換器24により0〜10℃
程度に冷却され、実施例1と同様に、イオン発生室21
から冷却されたイオンを含むイオン化気体27がイオン
供給室28内の空間に放出される。通常の場合は、空気
を供給するので、冷却されたイオン化気体27が供給さ
れる。次に、冷却されたイオンを含むイオン化気体27
がイオン供給室28内に送り込まれると、天井面に設置
された金属平板電極37に直流電圧発生器38から負極
性の直流電圧が印加される。金属平板電極37に負極性
の直流電圧が印加されると、床面から天井面に向かう電
界が発生し、その電界場に冷却されたイオンを含むイオ
ン化気体27が流入すると、冷却されたイオンを含むイ
オン化気体27中の負イオンのみが下向きに移動して、
電界場に置かれた物体14表面に供給される。これによ
り、効率よく負イオンのみを物体14表面に供給するこ
とができ、物体14表面に付着した微生物の増殖を防止
できる。
Next, the operation will be described. The gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2, where 0 to 10 ° C. is set by the heat exchanger 24 for cooling.
After being cooled to a certain degree, the ion generation chamber 21 is cooled as in the first embodiment.
The ionized gas 27 containing the cooled ions is released into the space inside the ion supply chamber 28. In the normal case, since air is supplied, the cooled ionized gas 27 is supplied. Next, the ionized gas 27 containing the cooled ions
Is sent into the ion supply chamber 28, a negative DC voltage is applied from the DC voltage generator 38 to the metal plate electrode 37 installed on the ceiling surface. When a negative DC voltage is applied to the metal plate electrode 37, an electric field is generated from the floor surface to the ceiling surface, and when the ionized gas 27 containing the cooled ions flows into the electric field, the cooled ions are removed. Only the negative ions in the containing ionized gas 27 move downward,
It is supplied to the surface of the object 14 placed in the electric field. As a result, only negative ions can be efficiently supplied to the surface of the object 14, and the growth of microorganisms attached to the surface of the object 14 can be prevented.

【0087】なお、天井面に備え付けられている金属平
板電極37に印加する直流電圧の値は、物体14に衝突
させるイオンの移動度、天井面の金属平板電極37と床
面の金属平板接地電極36間の距離及び物体14にイオ
ンを衝突させる時のイオンの速度から決めることができ
る。例えば、移動度が2cm2 /volt・secであ
るO2 -イオンを20cm/secの速度で物体14に衝
突させようとする場合、天井面の金属平板電極37と床
面の金属平板接地電極36の間隔を3mとすると、天井
面の金属平板電極37に直流電圧発生器38から3kV
の負極性の直流電圧を印加するとよい。
The value of the DC voltage applied to the flat metal plate electrode 37 provided on the ceiling surface depends on the mobility of the ions colliding with the object 14, the flat metal plate electrode 37 on the ceiling surface and the flat metal plate electrode on the floor surface. It can be determined from the distance between 36 and the velocity of the ions when they collide with the object 14. For example, when an O 2 ion having a mobility of 2 cm 2 / volt · sec is to collide with the object 14 at a speed of 20 cm / sec, the flat metal plate electrode 37 on the ceiling surface and the flat metal plate electrode 36 on the floor surface are used. Is 3 m from the DC voltage generator 38 to the metal plate electrode 37 on the ceiling surface.
It is advisable to apply a negative DC voltage.

【0088】上記実施例では、負イオンのみを物体14
に衝突させるものを示したが、正イオンを物体14に衝
突させる場合、天井面に備え付けられている金属平板電
極37に正極性の直流電圧を印加すればよい。
In the above embodiment, only the negative ions are applied to the object 14
However, when the positive ions are made to collide with the object 14, a positive DC voltage may be applied to the metal plate electrode 37 provided on the ceiling surface.

【0089】また、上記実施例では、冷却されたイオン
を含むイオン化気体27中の負イオンを電界によって移
動させるものについて示したが、加熱されたイオンを含
むイオン化気体27中の負イオンを電界によって移動さ
せ物体14に衝突させて、物体14に付着している微生
物の増殖を防止するようにしてもよい。
In the above embodiment, the negative ions in the ionized gas 27 containing the cooled ions are moved by the electric field, but the negative ions in the ionized gas 27 containing the heated ions are moved by the electric field. It may be moved to collide with the object 14 to prevent the growth of microorganisms attached to the object 14.

【0090】また、上記実施例では、電界を用いてイオ
ンを移動させるものについて示したが、磁界を用いてイ
オンのみを物体14表面に供給して、物体14に付着し
ている微生物の増殖を防止するようにしてもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the one in which the ions are moved by using the electric field has been shown, but only the ions are supplied to the surface of the object 14 by using the magnetic field so that the microorganisms attached to the object 14 are proliferated. It may be prevented.

【0091】実施例7.図12はこの発明の実施例7に
よる微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図におい
て、39はオゾンを発生するオゾン発生器、40は冷却
された空気23をオゾン発生器39とイオン発生室21
に供給する二方分岐管、41はオゾン発生器39より発
生したオゾンとイオンを混合する絶縁性パイプ(気体混
合器)、42はオゾンを含んだ冷却されたイオン化気体
である。
Example 7. FIG. 12 is a configuration diagram showing a microbial breeding preventive apparatus according to Embodiment 7 of the present invention. In the figure, 39 is an ozone generator for generating ozone, 40 is the cooled air 23 for ozone generator 39 and an ion generating chamber. 21
Is a two-way branch pipe, 41 is an insulating pipe (gas mixer) for mixing ozone generated by the ozone generator 39 with ions, and 42 is a cooled ionized gas containing ozone.

【0092】次に動作について説明する。イオン供給室
28外の空気1がファン2により温度調節室22に供給
される。そこで冷却用熱交換器24により0〜10℃程
度に冷却された気体23は二方分岐管40を通ってイオ
ン発生室21及びオゾン発生器39に供給される。イオ
ン発生室21に供給された冷却された気体23は、コロ
ナ放電によりイオンが生成され、冷却されたイオンを含
むイオン化気体27となり、一方、オゾン発生器39に
供給された冷却された気体23中には、オゾンが生成さ
れる。冷却されたイオンを含むイオン化気体27と冷却
された気体23中のオゾンは絶縁性パイプ41で混合さ
れ、オゾンを含んだ冷却されたイオン化気体42とな
り、微生物が繁殖した物体14が格納されているイオン
供給室28内の空間に放出され、物体14表面で微生物
が増殖するのを防止する。
Next, the operation will be described. The air 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2. Therefore, the gas 23 cooled to about 0 to 10 ° C. by the cooling heat exchanger 24 is supplied to the ion generation chamber 21 and the ozone generator 39 through the two-way branch pipe 40. The cooled gas 23 supplied to the ion generation chamber 21 becomes an ionized gas 27 containing the cooled ions in which ions are generated by the corona discharge, while the cooled gas 23 supplied to the ozone generator 39. In this, ozone is generated. The ionized gas 27 containing the cooled ions and the ozone in the cooled gas 23 are mixed by the insulating pipe 41 to become the cooled ionized gas 42 containing the ozone, and the object 14 in which the microorganisms have propagated is stored. It is released into the space inside the ion supply chamber 28 and prevents the growth of microorganisms on the surface of the object 14.

【0093】なお、オゾンは単独で殺菌剤として使用す
ることもできるが、オゾンは酸化力が強くオゾン濃度が
一定値以上になると有害であるため、殺菌能力を有する
濃度範囲で使用することは難しく、オゾン濃度を人間に
対して法的に問題がないとされている0.03ppm程
度にして、使用することが望ましい。しかしながら、オ
ゾンを含んだ冷却されたイオン化気体42では、オゾン
濃度が0.03ppmの低濃度領域下でも、オゾンとイ
オンの相乗効果により、イオンのみをイオン供給室28
内に供給した場合と比較して、微生物の増殖を防止する
能力を向上させることができる。また、物体14がオゾ
ンによって変色・変質されにくい場合は、オゾン濃度を
0.1ppm程度まで上げ、オゾンを含んだ冷却された
イオン化気体42を用いて物体14を短時間に処理する
ようにしてもよい。これにより、物体14表面に付着し
た微生物の増殖を防止する能力を高めることができる。
Although ozone can be used alone as a bactericidal agent, ozone has a strong oxidizing power and is harmful when the ozone concentration exceeds a certain value. It is desirable to set the ozone concentration to about 0.03 ppm, which is legally considered to be no problem for humans. However, in the cooled ionized gas 42 containing ozone, even if the ozone concentration is in the low concentration region of 0.03 ppm, only the ions are supplied due to the synergistic effect of the ozone and the ions.
The ability to prevent the growth of microorganisms can be improved as compared with the case of supplying the same inside. If the object 14 is not easily discolored or deteriorated by ozone, the ozone concentration is increased to about 0.1 ppm and the object 14 is treated in a short time by using the cooled ionized gas 42 containing ozone. Good. This can enhance the ability to prevent the growth of microorganisms attached to the surface of the object 14.

【0094】また、上記実施例では、オゾンを含んだ冷
却されたイオンを含むイオン化気体42中のイオンとオ
ゾンの相乗効果によって微生物の繁殖を防止させるもの
について示したが、加熱されたイオンを含むイオン化気
体42中のイオンとオゾンを用いて、物体14に付着し
ている微生物の増殖を防止するようにしてもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the one in which the growth of microorganisms is prevented by the synergistic effect of ozone in the ionized gas 42 containing cooled ions containing ozone and ozone is shown. Ions and ozone in the ionized gas 42 may be used to prevent the growth of microorganisms attached to the object 14.

【0095】さらに、また、上記実施例では、冷却され
た気体23を二方分岐管40によってオゾン発生器39
とイオン発生室21の双方に送り込み、その後絶縁性パ
イプ41によって混合し、オゾンを含んだ冷却されたイ
オンを含むイオン化気体42を作り出すものについて示
したが、イオン発生室21内の金属針電極7に負極性の
直流電圧を印加するようにして、イオン発生室21にお
いて負イオンとオゾンの双方を発生させるようにして、
オゾンを含んだ冷却されたイオンを含むイオン化気体4
2を作り出すようにしてもよい。しかし、この場合、金
属針電極7に同じ電源から負極性の直流電圧を印加する
ため、負イオンとオゾンの発生比率を自由に変えること
は難しい。
Furthermore, in the above embodiment, the cooled gas 23 is supplied to the ozone generator 39 by the two-way branch pipe 40.
And the ion generation chamber 21 and then mixed by the insulating pipe 41 to produce the ionized gas 42 containing cooled ions containing ozone. The metal needle electrode 7 in the ion generation chamber 21 was shown. A negative DC voltage is applied to the negative electrode to generate both negative ions and ozone in the ion generation chamber 21,
Ionized gas containing cooled ions containing ozone 4
2 may be created. However, in this case, since a negative DC voltage is applied to the metal needle electrode 7 from the same power source, it is difficult to freely change the generation ratio of negative ions and ozone.

【0096】実施例8.図13はこの発明の実施例8に
よる微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図におい
て、43はイオン発生室21の下流側に設置されたイオ
ン供給部である。
Example 8. FIG. 13 is a configuration diagram showing a microbial breeding preventive apparatus according to Embodiment 8 of the present invention. In the figure, 43 is an ion supply unit installed on the downstream side of the ion generation chamber 21.

【0097】次に動作について説明する。外部の気体1
がファン2により温度調節室22に供給されて、そこで
冷却用の熱交換器24により0〜10℃程度に冷却され
る。冷却された気体23はイオン発生室21でイオン化
され、冷却されたイオンを含むイオン化気体27とな
り、イオン供給部43に導かれる。通常の場合は、空気
を供給するので、冷却されたイオンを含むイオン化気体
27が導かれる。イオン供給部43内の冷却されたイオ
ンを含むイオン化気体27が吹き出されている位置に、
微生物が表面に付着している物体14が置かれると、冷
却されたイオンを含むイオン化気体27が高濃度を維持
したまま、直接的にその物体14に吹き付けられるよう
になり、これにより、物体14表面において効率良く微
生物の増殖を防止することができる。
Next, the operation will be described. External gas 1
Is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2, and is cooled there to about 0 to 10 ° C. by the heat exchanger 24 for cooling. The cooled gas 23 is ionized in the ion generation chamber 21, becomes an ionized gas 27 containing the cooled ions, and is guided to the ion supply unit 43. In the normal case, since air is supplied, the ionized gas 27 containing cooled ions is introduced. At the position where the ionized gas 27 containing the cooled ions in the ion supply unit 43 is blown out,
When the object 14 on which the microorganisms are attached is placed, the ionized gas 27 containing the cooled ions is directly sprayed on the object 14 while maintaining a high concentration, whereby the object 14 It is possible to efficiently prevent the growth of microorganisms on the surface.

【0098】ここで、この実施例8における微生物繁殖
防止装置で発生される負イオンの寿命を調べた一実験例
について説明する。この実験例では、長さ5mmの金属
針電極7を7mm間隔で5本配置し、この金属針電極7
と幅1cm、長さ3cmの金属平板接地電極8のギャッ
プ長さ(電極間距離)を10mm、金属針電極7に印加
される直流高電圧を5kV、両電極間を通過する空気の
風速を約0.2m/sとするとともに、供給する空気の
温度を20℃、湿度を60%とする。
Here, an example of an experiment in which the life of negative ions generated in the microbial growth preventing apparatus in Example 8 is examined will be described. In this experimental example, five metal needle electrodes 7 having a length of 5 mm are arranged at intervals of 7 mm.
And the gap length (distance between electrodes) of the metal flat-plate ground electrode 8 having a width of 1 cm and a length of 3 cm is 10 mm, the DC high voltage applied to the metal needle electrode 7 is 5 kV, and the wind speed of the air passing between both electrodes is approximately The temperature of the supplied air is 20 ° C. and the humidity is 60%.

【0099】このような条件下で負イオンを発生させ
て、イオン供給部43とイオン濃度測定部の距離を変え
て、温度調節されたイオンを含むイオン化気体27中の
イオン濃度を測定して、イオンの寿命を調べた結果、負
イオン濃度が約106 個/cm3 の場合、約105 個/
cm3 に濃度が低下するのに要する時間はほぼ10秒程
度であり、また、負イオン濃度が約105 個/cm3
場合、約104 個/cm3 に濃度が低下するのに要する
時間はほぼ30秒程度であることが確認された。このよ
うに、温度調節されたイオンを含むイオン化気体27中
の負イオンの寿命は、高濃度になるほど短くなるので、
温度調節されたイオンを含むイオン化気体27を物体1
4表面に直接的に吹き付けることにより、高濃度の負イ
オンで物体14を処理することができ、効率的に微生物
の増殖防止を行うことができる。
Under these conditions, negative ions are generated, the distance between the ion supply unit 43 and the ion concentration measuring unit is changed, and the ion concentration in the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is measured. As a result of examining the lifetime of ions, when the negative ion concentration is about 10 6 / cm 3 , about 10 5 / cm 3
The time required for the concentration to drop to cm 3 is about 10 seconds, and when the negative ion concentration is about 10 5 / cm 3 , it takes about 10 4 / cm 3. It was confirmed that the time was about 30 seconds. In this way, the life of the negative ions in the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions becomes shorter as the concentration becomes higher,
The ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is supplied to the object 1
By directly spraying on the surface, the object 14 can be treated with a high concentration of negative ions, and the growth of microorganisms can be efficiently prevented.

【0100】また、上記実施例では、冷却されたイオン
を含むイオン化気体27を物体14に直接的に吹き付け
て微生物の繁殖を防止させるものについて示したが、6
0℃程度に加熱されたイオンを含むイオン化気体27を
物体14に直接的に吹き付けるようにして、物体14に
付着している微生物の増殖を防止するようにしてもよ
い。
Further, in the above embodiment, the case where the ionized gas 27 containing the cooled ions is directly blown to the object 14 to prevent the growth of the microorganisms is shown.
The ionized gas 27 containing ions heated to about 0 ° C. may be blown directly onto the object 14 to prevent the growth of microorganisms attached to the object 14.

【0101】さらにまた、上記実施例では、冷却された
イオンを含むイオン化気体27を物体14に直接的に吹
き付けて微生物の繁殖を防止させるものについて示した
が、冷却されたイオンを含むイオン化気体27にオゾン
を添加し、オゾンを含んだ冷却されたイオンを含むイオ
ン化気体42を物体14に直接的に吹き付けるようにし
て、物体14に付着している微生物の増殖を防止するよ
うにしてもよい。
Furthermore, in the above embodiment, the ionized gas 27 containing cooled ions was sprayed directly onto the object 14 to prevent the growth of microorganisms. However, the ionized gas 27 containing cooled ions is shown. Alternatively, ozone may be added to the object 14 to blow the ionized gas 42 containing cooled ions containing ozone directly onto the object 14 to prevent the growth of microorganisms attached to the object 14.

【0102】実施例9.図14はこの発明の実施例9に
よる微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図におい
て、44は微生物が繁殖する物体14を格納する空間を
有するとともに、温度調節室22により温度を調節され
た負イオンを含むイオン化気体27をその空間に供給す
る内面を絶縁材料でできた風路である。
Example 9. FIG. 14 is a block diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 9 of the present invention. In the figure, 44 has a space for storing an object 14 in which microorganisms grow and the temperature is controlled by a temperature control chamber 22. The inner surface for supplying the ionized gas 27 containing negative ions to the space is an air passage made of an insulating material.

【0103】次に動作について説明する。風路44外の
気体1がファン2により温度調節室22に供給されて、
そこで冷却用熱交換器24により0〜10℃程度に冷却
され、実施例1と同様に、イオン発生室21から冷却さ
れたイオンを含むイオン化気体27が風路44内の空間
に放出される。通常の場合は、空気を供給するので、冷
却されたイオン化空気が供給される。その風路44内
に、表面に微生物が付着している物体14が置かれてい
ると、冷却されたイオンを含むイオン化気体27が、高
濃度を維持したままその物体14に直接吹き付けられる
ようになる。これにより、その物体14を冷却すると同
時に、高濃度の負イオンを含んだイオンを含むイオン化
気体27によって、物体14表面において微生物の増殖
を防止することができる。
Next, the operation will be described. The gas 1 outside the air passage 44 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2,
Then, the cooling heat exchanger 24 cools it to about 0 to 10 ° C., and the ionized gas 27 containing the cooled ions is discharged from the ion generation chamber 21 to the space in the air passage 44 as in the first embodiment. In the usual case, air is supplied, so cooled ionized air is supplied. When the object 14 having microorganisms on its surface is placed in the air passage 44, the ionized gas 27 containing the cooled ions is directly blown to the object 14 while maintaining a high concentration. Become. As a result, at the same time that the object 14 is cooled, the growth of microorganisms on the surface of the object 14 can be prevented by the ionized gas 27 containing ions containing a high concentration of negative ions.

【0104】また、物体14が風路44と電気的に絶縁
されるように、床面に絶縁材料で作られた棚を設けて
も、風路44内面全体を絶縁材料した時と同様の効果が
得られる。さらに、イオン発生室21に供給する気体の
温度を氷点下として、物体14表面における微生物の増
殖防止を行いながら、物体14を凍結させたり、イオン
発生室21に供給する気体の温度を60℃以上として、
物体14表面における微生物の増殖防止を行いながら、
物体14を温めることができる。
Even if a shelf made of an insulating material is provided on the floor so that the object 14 is electrically insulated from the air passage 44, the same effect as when the entire inner surface of the air passage 44 is made of an insulating material is obtained. Is obtained. Furthermore, the temperature of the gas supplied to the ion generation chamber 21 is below the freezing point, while the growth of microorganisms on the surface of the object 14 is prevented, the object 14 is frozen or the temperature of the gas supplied to the ion generation chamber 21 is set to 60 ° C. or higher. ,
While preventing the growth of microorganisms on the surface of the object 14,
The object 14 can be heated.

【0105】実施例10.図15はこの発明の実施例1
0による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて45はイオンを物体14に吹き付けるイオン処理
部であり、46はイオン処理部45内を通るように設置
されているとともに、微生物が繁殖する物体14を運ぶ
ベルトコンベアである。
Example 10. FIG. 15 is a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention device according to 0, in which 45 is an ion processing unit that blows ions onto the object 14, 46 is installed so as to pass through the ion processing unit 45, and microorganisms propagate. It is a belt conveyor that carries the object 14.

【0106】次に動作について説明する。まず、イオン
処理部45では、外部の気体1がファン2により温度調
節室22に供給されて、そこで冷却用の熱交換器24に
より0〜5℃程度に冷却され、実施例1と同様に、イオ
ン発生室21から冷却されたイオンを含むイオン化気体
27が放出される。また、ベルトコンベア46は、微生
物が表面に付着している物体14を乗せて、イオン処理
部45内にその物体14を運んでいく。イオン処理部4
5内では、負イオン濃度が106 〜107 個/cm3
冷却されたイオンを含むイオン化気体27がその物体1
4表面に吹き付けられ、物体14表面で繁殖している微
生物が死滅させられ、その後、ベルトコンベア46によ
り、イオン処理部45外に運び出される。これにより、
高濃度の負イオンを含んだ冷却されたイオンを含むイオ
ン化気体27の短時間処理により、物体14表面の微生
物の繁殖を効率的に防止することができる。
Next, the operation will be described. First, in the ion processing unit 45, the external gas 1 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and is cooled to about 0 to 5 ° C. by the heat exchanger 24 for cooling therein, as in the first embodiment. Ionized gas 27 containing cooled ions is released from the ion generation chamber 21. Further, the belt conveyor 46 carries the object 14 on which microbes are attached and carries the object 14 into the ion processing unit 45. Ion processing unit 4
Within 5, the ionized gas 27 containing cooled ions with a negative ion concentration of 10 6 to 10 7 / cm 3 is present in the body 1
The microorganisms that have been sprayed on the surface of the object 4 and are propagated on the surface of the object 14 are killed, and then carried out of the ion processing unit 45 by the belt conveyor 46. This allows
The short-time treatment of the ionized gas 27 containing cooled ions containing a high concentration of negative ions can effectively prevent the growth of microorganisms on the surface of the object 14.

【0107】ここでは、イオン処理部45において、冷
却されたイオンを含むイオン化気体27によって、物体
14を冷やしながら、物体14表面において微生物の繁
殖を防止するものを示したが、加熱されたイオンを含む
イオン化気体27を物体14表面に吹き付けて、物体1
4を温めながら、物体14表面において微生物が繁殖す
るのを防止してもよい。
Here, in the ion processing section 45, the thing which prevents the growth of microorganisms on the surface of the object 14 while cooling the object 14 with the ionized gas 27 containing the cooled ions is shown. The object 1 is sprayed with the ionized gas 27 containing the same onto the surface of the object 14.
It is possible to prevent microorganisms from propagating on the surface of the object 14 while warming the object 4.

【0108】また、上記実施例では、冷却されたイオン
を含むイオン化気体27を物体14に直接的に吹き付け
て微生物の繁殖を防止させるものについて示したが、冷
却されたイオンを含むイオン化気体27にオゾンを添加
し、オゾンを含んだ冷却されたイオンを含むイオン化気
体42を物体14に直接的に吹き付けるようにして、物
体14に付着している微生物の増殖を防止するようにし
てもよい。
In the above embodiment, the ionized gas 27 containing cooled ions is directly sprayed on the object 14 to prevent the growth of microorganisms. Ozone may be added to blow the ionized gas 42 containing cooled ions containing ozone directly onto the object 14 to prevent the growth of microorganisms adhering to the object 14.

【0109】実施例11.図16はこの発明の実施例1
1による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、47はイオン供給室28内に設置され、物体1
4を回転させるためのターンテーブルである。
Example 11. 16 shows a first embodiment of the present invention.
1 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention device according to No. 1, in which 47 is installed in an ion supply chamber 28 and
4 is a turntable for rotating 4.

【0110】次に動作について説明する。イオン供給室
28内に設置されたターンテーブル47上に物体14を
載せる。次に、イオン供給室28内の気体1がファン2
により温度調節室22に供給されて、そこで発熱抵抗体
29により60℃程度に加熱され、イオン発生室21か
ら加熱されたイオンを含むイオン化気体27がある一方
向から空間に放出される。加熱されたイオンを含むイオ
ン化気体27が放出されはじめると、ターンテーブル4
7が回転しはじめ、物体14に加熱されたイオンを含む
イオン化気体27が均一に当てられる。これにより、物
体14が均一に温められながら、物体14表面に付着し
ている微生物の増殖を防止することができる。また、物
体14が凍結されているときは、10℃以下に冷却され
たイオンを含むイオン化気体27により、物体14をむ
らなく解凍しながら、物体14表面に付着している微生
物の増殖を防止することができる。
Next, the operation will be described. The object 14 is placed on the turntable 47 installed in the ion supply chamber 28. Next, the gas 1 in the ion supply chamber 28 is replaced by the fan 2
Is supplied to the temperature control chamber 22 by the heating resistor 29 and heated to about 60 ° C. by the heating resistor 29, and the ionized gas 27 containing the heated ions is discharged from the ion generation chamber 21 into the space from one direction. When the ionized gas 27 containing heated ions begins to be released, the turntable 4
7 starts to rotate, and the ionized gas 27 containing the heated ions is uniformly applied to the object 14. As a result, it is possible to prevent the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 while the object 14 is uniformly warmed. Further, when the object 14 is frozen, the ionized gas 27 containing ions cooled to 10 ° C. or lower prevents the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 while uniformly thawing the object 14. be able to.

【0111】実施例12.図17はこの発明の実施例1
2による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、48は物体14を貯蔵する貯留槽であり、49
は貯留槽48内に貯蔵されている物体14を攪拌する回
転翼である。
Example 12. FIG. 17 is a first embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 2, In the figure, 48 is a storage tank which stores the object 14, 49 is a storage tank.
Is a rotary blade that agitates the object 14 stored in the storage tank 48.

【0112】次に動作について説明する。まず、貯留槽
48内に水分を含んだ物体14を入れる。次に、外部の
気体1がファン2により温度調節室22に供給されて、
そこで発熱抵抗体29により60℃以上に加熱され、イ
オン発生室21から加熱されたイオンを含むイオン化気
体27が貯留槽48内に供給される。加熱されたイオン
を含むイオン化気体27が貯留槽48に供給されると、
貯留槽48内に設置された回転翼49が回転しはじめ、
物体14が攪拌されて、物体14に加熱されたイオンを
含むイオン化気体27が均一に当てられるようになる。
これにより、加熱されたイオンを含むイオン化気体27
が全ての物体14から均等に水分を奪いながら、物体1
4表面に付着している微生物の増殖を防止することがで
きる。
Next, the operation will be described. First, the object 14 containing water is put into the storage tank 48. Next, the external gas 1 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2,
Then, the ionization gas 27 containing the heated ions is supplied from the ion generating chamber 21 into the storage tank 48 by being heated to 60 ° C. or higher by the heating resistor 29. When the ionized gas 27 containing heated ions is supplied to the storage tank 48,
The rotor blades 49 installed in the storage tank 48 start to rotate,
The object 14 is agitated so that the ionized gas 27 containing the heated ions is uniformly applied to the object 14.
Thereby, the ionized gas 27 containing the heated ions
While removing moisture evenly from all objects 14, object 1
4 It is possible to prevent the growth of microorganisms attached to the surface.

【0113】また、上記実施例では、加熱されたイオン
を含むイオン化気体27を物体14に直接的に吹き付け
て微生物の繁殖を防止させるものについて示したが、加
熱されたイオンを含むイオン化気体27にオゾンを添加
し、オゾンを含んだ加熱されたイオンを含むイオン化気
体42を物体14に直接的に吹き付けるようにして、物
体14に付着している微生物の増殖を防止するようにし
てもよい。
In the above embodiment, the ionized gas 27 containing heated ions is directly sprayed on the object 14 to prevent the growth of microorganisms. Ozone may be added and the ionized gas 42 containing heated ions containing ozone may be blown directly onto the object 14 to prevent the growth of microorganisms adhering to the object 14.

【0114】実施例13.上記実施例12では、加熱さ
れたイオンを含むイオン化気体27が貯留槽48内で物
体14を乾燥させると同時に、物体14表面に付着した
微生物の増殖を防止した後、空間に放出されるものにつ
いて説明したが、図18に示すように、加熱されたイオ
ンを含むイオン化気体27が貯留槽48を通過した後、
乾燥室50に送り込まれ、そこで加熱されたイオンを含
むイオン化気体27中の水分を除去して、温度調節室2
2に還流するようにしてもよい。これにより、空気を加
温するために必要な熱量を削減することができる。
Example 13 In the twelfth embodiment, the ionized gas 27 containing the heated ions dries the object 14 in the storage tank 48 and, at the same time, prevents the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 and then is released into the space. As described above, as shown in FIG. 18, after the ionized gas 27 containing heated ions passes through the storage tank 48,
The water in the ionized gas 27 containing the ions that have been sent to the drying chamber 50 and heated therein is removed, and the temperature control chamber 2
It may be refluxed to 2. As a result, the amount of heat required to heat the air can be reduced.

【0115】実施例14.図19はこの発明の実施例1
4による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、51はイオン発生室21の下流側に設置された
イオン放出部、52はイオン放出部51内に設けられ、
温度調節されたイオンを含むイオン化気体27の吹き出
し方向を変更し、表面部分が絶縁材料で作られた案内
板、53は表面部分が絶縁材料で作られた案内板52を
自動的に動かす駆動用モーターである。
Example 14 FIG. 19 shows the first embodiment of the present invention.
4 is a configuration diagram showing a microbial breeding prevention device according to No. 4, in which 51 is an ion emission unit installed on the downstream side of the ion generation chamber 21, 52 is provided in the ion emission unit 51,
A guide plate whose surface portion is made of an insulating material and 53 is a drive for automatically moving the guide plate 52 whose surface portion is made of an insulating material by changing the blowing direction of the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions. It is a motor.

【0116】次に動作について説明する。イオン供給室
28外の気体1がファン2により温度調節室22に供給
されて、そこで温度調節され、実施例1と同様に、イオ
ン発生室21から温度調節されたイオンを含むイオン化
気体27がイオン放出部51に導かれ、イオン放出部5
1内部に設置された案内板52が、駆動用モーター53
により動かされ、温度調節されたイオンを含むイオン化
気体27の吹き出し方向が変更されてイオン供給室28
内に放出され、イオン供給室28内のある部分に置かれ
た物体14は、案内板52の動作に合わせて、間欠的に
温度調節されたイオンを含むイオン化気体27が吹き付
けられる。この発明ではイオン放出部51から温度調節
されたイオンを含むイオン化気体27が、微生物が繁殖
している物体14表面に直接吹き付けられるので、イオ
ン供給室28内の空間に放出した場合と比較して、高濃
度の負イオンを含むイオン化気体27を物体14表面に
間欠的に到達させることができる。従って、高濃度の負
イオンを含んだ温度調節されたイオンを含むイオン化気
体27を間欠的にイオン供給室28内のいろいろな場所
に置かれた物体14に供給することができ、多くの物体
14表面で微生物が繁殖するのを効率的に防止できるこ
とになる。
Next, the operation will be described. The gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and the temperature thereof is controlled, and the ionized gas 27 including the temperature-controlled ions is ionized from the ion generation chamber 21 as in the first embodiment. The ion emitting portion 5 is guided to the emitting portion 51.
The guide plate 52 installed in the inside of 1 is a drive motor 53.
The ion supply chamber 28 is moved by changing the blowing direction of the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions.
The object 14 discharged inside and placed in a part of the ion supply chamber 28 is sprayed with an ionized gas 27 containing ions whose temperature is adjusted intermittently in accordance with the movement of the guide plate 52. In the present invention, the ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions is directly blown from the ion emitting unit 51 onto the surface of the object 14 in which the microorganisms are propagated, so compared with the case where the ionized gas 27 is released into the space inside the ion supply chamber 28. The ionized gas 27 containing a high concentration of negative ions can reach the surface of the object 14 intermittently. Therefore, the ionized gas 27 containing temperature-controlled ions containing a high concentration of negative ions can be intermittently supplied to the objects 14 placed in various places in the ion supply chamber 28, and many objects 14 can be supplied. It is possible to effectively prevent the growth of microorganisms on the surface.

【0117】イオン供給室28内の物体14に吹き付け
られる温度調節されたイオンを含むイオン化気体27中
の負イオン濃度は、物体14表面に存在している微生物
の種類やイオン供給室28内の温度、湿度等の条件によ
って異なるが、実験結果によると、連続処理であれば、
104 〜105 個/cm3 とするのが微生物の増殖防止
効果が大きくかつ経済的である。しかし、この発明では
間欠処理なので、負イオン濃度が高いほど、微生物の増
殖抑制効果は大きくなることを考慮して、負イオン濃度
を106 〜107 個/cm3 に上げて、負イオン処理を
行うことが望ましく、これにより、十分な微生物の増殖
防止効果が得られるとともに、物体14の処理効率を上
げることができる。
The concentration of negative ions in the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions that are sprayed onto the object 14 in the ion supply chamber 28 depends on the type of microorganisms existing on the surface of the object 14 and the temperature in the ion supply chamber 28. , It depends on the conditions such as humidity, but according to the experimental results, if it is a continuous process,
The amount of 10 4 to 10 5 cells / cm 3 has a large effect of preventing the growth of microorganisms and is economical. However, since the present invention is an intermittent treatment, the negative ion concentration is increased to 10 6 to 10 7 pieces / cm 3 in consideration of the fact that the higher the negative ion concentration, the greater the effect of suppressing the growth of microorganisms. It is desirable to perform the above, and thereby, a sufficient effect of preventing the growth of microorganisms can be obtained and the processing efficiency of the object 14 can be improved.

【0118】次に、温度調節されたイオンを含むイオン
化気体27を間欠的に物体14に吹き付けることによる
微生物の増殖防止効果を調べた結果、例えば一例ではあ
るが、負イオン濃度104 〜105 個/cm3 で、オゾ
ン濃度0.01ppm以下、温度20℃の温度調節され
たイオン化空気27を1分間イオン処理、5分間イオン
処理停止の6分サイクルで間欠処理を行った場合、連続
処理に比べてやや低下したが、ほぼ同様の微生物増殖抑
制効果が得られることがわかった。
Next, as a result of investigating the effect of preventing the growth of microorganisms by intermittently spraying the ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions on the object 14, for example, negative ion concentration 10 4 to 10 5 When the ionized air 27 of which the ozone concentration is 0.01 ppm or less and the temperature is 20 ° C. at the number of particles / cm 3 is subjected to the intermittent treatment in the 6-minute cycle of the ion treatment for 1 minute and the stop of the ion treatment for 5 minutes, continuous treatment is performed. Although it was slightly lower than that of the above, it was found that almost the same effect of inhibiting microbial growth was obtained.

【0119】しかしながら、例えば、5分間イオン処
理、25分間イオン処理停止の30分サイクルの間欠処
理を行った場合、前述の1分間イオン処理、5分間イオ
ン処理停止の6分サイクルの間欠処理を行った場合に比
べて、微生物の増殖抑制効果は減少することが認められ
た。このことにより、トータル時間でみると同じイオン
処理時間であっても、イオン処理停止時間が長くなるほ
ど、微生物の繁殖を防止する能力が減少することが確認
され、イオン放出部51内部に設置された案内板52を
できるだけ速く動かして、温度調節されたイオンを含む
イオン化気体27の吹き出し方向をできるだけ速く変え
ていくことが有効であり、微生物の増殖を防止する効果
が大きいことがわかった。
However, for example, in the case where the intermittent treatment of 30 minutes cycle of 5 minutes of ion treatment and 25 minutes of ion treatment is performed, the intermittent treatment of 6 minutes cycle of the above 1 minute of ion treatment and 5 minutes of ion treatment is performed. It was confirmed that the effect of suppressing the growth of microorganisms was reduced as compared with the case of From this, it was confirmed that even if the ion treatment time was the same as the total time, the longer the ion treatment stop time was, the lower the ability to prevent the growth of microorganisms was installed. It has been found that it is effective to move the guide plate 52 as fast as possible to change the blowing direction of the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions as quickly as possible, and it is highly effective in preventing the growth of microorganisms.

【0120】このように、温度調節されたイオンを含む
イオン化気体27を間欠的に物体14に直接吹き付ける
ことにより、温度調節されたイオンを含むイオン化気体
27を微生物が繁殖する物体14を格納する空間に放出
する場合と比べて、高濃度の負イオンを利用できるため
に、微生物の増殖を防止する効果が大きいとともに、効
率良く物体14を処理できることが確認された。
As described above, the space for storing the object 14 in which microorganisms propagate the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions by intermittently directly spraying the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions onto the object 14. It was confirmed that, compared with the case where the substance is released into the atmosphere, since a high concentration of negative ions can be used, the effect of preventing the growth of microorganisms is great and the object 14 can be efficiently treated.

【0121】なお、上記実施例14では、温度調節され
た負イオンを含んだイオン化気体27を用いて処理した
場合についての効果を示したが、イオン発生室21内の
金属針電極7に正極性の直流高電圧を印加して正イオン
を生成させ、その正イオンをイオン供給室28に供給す
るようにしても同様の効果が得られるが、負イオンの方
が正イオンに比べて微生物の繁殖を防止する効果が大き
い。
In the fourteenth embodiment, the effect of the case where the treatment was performed using the ionized gas 27 containing the negative ions whose temperature was adjusted was shown. However, the metal needle electrode 7 in the ion generation chamber 21 has a positive polarity. The same effect can be obtained by applying positive DC high voltage to generate positive ions and supplying the positive ions to the ion supply chamber 28. However, negative ions are more proliferative of microorganisms than positive ions. The effect of preventing is great.

【0122】実施例15.上記実施例14では、イオン
供給室28外の気体1がファン2により温度調節室22
に供給され、次にイオン発生室21でイオン化され、温
度調節されたイオンを含むイオン化気体27がイオン放
出部51からイオン供給室28内に格納された物体14
に対して継続的に供給して、物体14表面で微生物が繁
殖するのを防止するものを示したが、図20で示したよ
うに、イオン供給室28内の気体1をファン2により温
度調節室22、イオン発生室21の順で送り込み、イオ
ン放出部51から温度調節されたイオンを含むイオン化
気体27として、イオン供給室28内に格納された物体
14に対して吹き付けるようにし、物体14に吹き付け
られて、イオン濃度が減衰した温度調節されたイオンを
含むイオン化気体27を再び温度調節室22に送り込む
ようにして、イオン供給室28内を温度調節されたイオ
ンを含むイオン化気体27が還流するように構成しても
よい。これにより、イオン供給室28内の壁面や物体1
4や、イオン発生室21内の両電極間等で負イオンは消
滅するが、イオン放出部51から常に高濃度のイオンを
含んだ温度調節されたイオンを含むイオン化気体27を
物体14に直接吹き付けることができ、イオン供給室2
8内に格納された物体14表面で、微生物が増殖するこ
とを防止できる効果が得られるとともに、イオン供給室
28内のガスが交換されることがないので、イオン供給
室28内の温度や湿度を調節しやすくなり、温度や湿度
を調節するのに必要なエネルギーを減少させることがで
きる。また、図21に示すように、イオン供給室28内
にファン2、イオン発生室21、イオン放出部51等を
設けても同様の効果が得られる。
Example 15. In the fourteenth embodiment, the gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2.
And then ionized in the ion generation chamber 21, and the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is stored in the ion supply chamber 28 from the ion emission unit 51.
However, as shown in FIG. 20, the temperature of the gas 1 in the ion supply chamber 28 is adjusted by the fan 2 as shown in FIG. The chamber 22 and the ion generation chamber 21 are fed in this order, and the ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions is blown from the ion emission unit 51 to the object 14 stored in the ion supply chamber 28, so that the object 14 is blown. The ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions that have been sprayed and whose ion concentration has been attenuated is sent again to the temperature control chamber 22, so that the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions recirculates in the ion supply chamber 28. It may be configured as follows. As a result, the wall surface of the ion supply chamber 28 and the object 1
4, or between the electrodes in the ion generation chamber 21 and the like, the negative ions are extinguished, but an ionized gas 27 containing temperature-controlled ions containing a high concentration of ions is always blown directly from the ion emitting portion 51 to the object 14. Ion supply chamber 2
On the surface of the object 14 stored inside 8, the effect of preventing the growth of microorganisms is obtained, and since the gas inside the ion supply chamber 28 is not exchanged, the temperature and humidity inside the ion supply chamber 28 are not changed. It makes it easier to regulate and reduces the energy required to regulate temperature and humidity. Further, as shown in FIG. 21, the same effect can be obtained by providing the fan 2, the ion generation chamber 21, the ion emission unit 51, etc. in the ion supply chamber 28.

【0123】実施例16.図22はこの発明の実施例1
6による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて54はファン2、温度調節室22、イオン発生室
21から構成される微生物繁殖防止装置を回転させる回
転装置である。
Example 16. 22 shows a first embodiment of the present invention.
6 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention device according to No. 6, in which reference numeral 54 is a rotating device for rotating the microbial growth prevention device including the fan 2, the temperature control chamber 22, and the ion generation chamber 21.

【0124】次に動作について説明する。イオン供給室
28内の気体1がファン2により、温度調節室22を通
過し、イオン発生室21に導かれ、イオン発生室21か
ら温度調節されたイオンを含むイオン化気体27がイオ
ン供給室28に供給される。また、回転装置54はファ
ン2、温度調節室22やイオン発生室21から構成され
るイオン発生装置を回転させる。それにより、温度調節
されたイオンを含むイオン化気体27の吹き出し方向が
360゜変更され、イオン供給室28に供給される。こ
れにより、イオン供給室28内のある位置に置かれた物
体14には、回転装置54の動作に合わせて、間欠的に
温度調節されたイオンを含むイオン化気体27が吹き付
けられ、物体14表面の微生物の繁殖を防止することが
できる。
Next, the operation will be described. The gas 1 in the ion supply chamber 28 passes through the temperature control chamber 22 and is guided to the ion generation chamber 21 by the fan 2, and the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is transferred from the ion generation chamber 21 to the ion supply chamber 28. Supplied. Further, the rotating device 54 rotates the ion generating device including the fan 2, the temperature adjusting chamber 22, and the ion generating chamber 21. As a result, the blowing direction of the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is changed by 360 ° and is supplied to the ion supply chamber 28. As a result, the object 14 placed at a certain position in the ion supply chamber 28 is sprayed with the ionized gas 27 containing ions whose temperature is adjusted intermittently according to the operation of the rotating device 54, and the surface of the object 14 is exposed. It is possible to prevent the reproduction of microorganisms.

【0125】実施例17.上記実施例16では、ファン
2、温度調節室22やイオン発生室21等から構成され
る微生物繁殖防止装置を回転させて、物体14に対して
間欠的に温度調節されたイオンを含むイオン化気体27
を吹き付けて、物体14表面で微生物が繁殖するのを防
止するものを示したが、図23に示したように、イオン
発生室21の下流側に回転通路55を設けて、その回転
通路55を回転させて温度調節されたイオンを含むイオ
ン化気体27の吹き出し方向を変更して、物体14に対
して間欠的に温度調節されたイオンを含むイオン化気体
27を吹き付けて、物体14表面で微生物が繁殖するの
を防止するようにしてもよい。この際、回転通路55内
面を絶縁材料で作り、回転通路55でイオンが減少する
ことを防ぐようにすることが好ましい。
Example 17 In the sixteenth embodiment described above, the microbial growth prevention device composed of the fan 2, the temperature control chamber 22, the ion generation chamber 21, etc. is rotated to intermittently control the temperature of the object 14 with the ionized gas 27 containing ions.
However, as shown in FIG. 23, a rotation passage 55 is provided on the downstream side of the ion generation chamber 21, and the rotation passage 55 is provided to prevent the microorganisms from propagating on the surface of the object 14. By rotating the ionized gas 27 containing the ions whose temperature has been adjusted to change the direction, the ionized gas 27 containing the ions whose temperature has been adjusted is intermittently sprayed onto the object 14, and the microorganisms propagate on the surface of the object 14. This may be prevented. At this time, it is preferable that the inner surface of the rotary passage 55 is made of an insulating material to prevent the decrease of ions in the rotary passage 55.

【0126】実施例18.図24はこの発明の実施例1
8による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、56はイオン供給室28内部の天井面に設置さ
れた移動用レール、57はファン2、温度調節室22や
イオン発生室21等から構成される微生物繁殖防止装置
に取り付けられており、移動用レール56上を動く移動
用モーター、58は移動用モーター56の位置を決定す
るコントローラー(制御装置)である。
Example 18. FIG. 24 shows the first embodiment of the present invention.
8 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention device according to 8, in which 56 is a moving rail installed on the ceiling surface inside the ion supply chamber 28, 57 is a fan 2, a temperature control chamber 22, an ion generation chamber 21 and the like. The moving motor is attached to the constituted microbial growth prevention device and moves on the moving rail 56, and 58 is a controller (control device) that determines the position of the moving motor 56.

【0127】次に動作について説明する。まず、ファン
2、温度調節室22やイオン発生室21から構成される
微生物繁殖防止装置に取り付けられた移動用モーター5
7が、コントローラー58からの指令を受けて、移動用
レール56上を動き、物体14が置かれている位置の上
方部に移動する。そこで、イオン供給室28内の気体1
がファン2により、温度調節室22、イオン発生室21
の順で導かれ、イオン発生室21から温度調節されたイ
オンを含むイオン化気体27が物体14に吹き付けられ
る。そこで、温度調節されたイオンを含むイオン化気体
27が物体14にある時間吹き付けられると、コントロ
ーラー58から再び移動用モーター57に指令が出さ
れ、移動用モーター57は物体14が置かれた次の位置
に移動する。このように、イオン処理順序をプログラム
化していくことにより、イオン処理を順番に行うことが
でき、イオン供給室28内に格納されている物体14全
てに対して、効率的に微生物の増殖を防止することがで
きる。
Next, the operation will be described. First, the transfer motor 5 attached to the microbial growth prevention device including the fan 2, the temperature control chamber 22, and the ion generation chamber 21.
In response to a command from the controller 58, the 7 moves on the moving rail 56 and moves to a position above the position where the object 14 is placed. Therefore, the gas 1 in the ion supply chamber 28
The fan 2 controls the temperature control chamber 22 and the ion generation chamber 21.
In this order, the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is blown from the ion generation chamber 21 to the object 14. Therefore, when the ionized gas 27 including the temperature-adjusted ions is blown to the object 14 for a certain time, the controller 58 again issues a command to the moving motor 57, and the moving motor 57 moves to the next position where the object 14 is placed. Move to. By programming the ion treatment sequence in this manner, the ion treatment can be performed in order, and the growth of microorganisms can be efficiently prevented for all the objects 14 stored in the ion supply chamber 28. can do.

【0128】実施例19.図25はこの発明の実施例1
9による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、59はイオン供給室28内に取り付けられ、物
体14が存在する位置方向を認識する位置検出装置であ
る。
Example 19 FIG. 25 is a first embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 9. In the figure, 59 is a position detection apparatus attached in the ion supply chamber 28 and recognizing the position direction in which the object 14 exists.

【0129】次に、動作について説明する。まず、イオ
ン供給室28に取り付けられた主に電波発信部と電波受
信部から構成され、電波を用いて物体14が存在する方
向を認識する位置検出装置59が、電波発信部から電波
を発信し、物体14によって跳ね返された電波を電波受
信部が受け取る。発信した電波と受信した電波の位相差
を検出することにより、物体14の存在する方向を検出
する。次に、その位置信号が電気信号としてコントロー
ラー58に送られると、コントローラー58は駆動用モ
ーター53に電気信号を送り、駆動用モーター53を通
じて案内板52を動かす。
Next, the operation will be described. First, a position detection device 59, which is mainly composed of a radio wave transmitting unit and a radio wave receiving unit, which is attached to the ion supply chamber 28 and recognizes the direction in which the object 14 is present using radio waves, transmits radio waves from the radio wave transmitting unit. The radio wave receiving unit receives the radio wave reflected by the object 14. The direction in which the object 14 is present is detected by detecting the phase difference between the transmitted radio wave and the received radio wave. Next, when the position signal is sent to the controller 58 as an electric signal, the controller 58 sends an electric signal to the drive motor 53 and moves the guide plate 52 through the drive motor 53.

【0130】この際、イオン供給室28外の気体1がフ
ァン2により温度調節室22に供給されて、そこで温度
調節され、実施例1と同様に、イオン発生室21から温
度調節されたイオンを含むイオン化気体27がイオン放
出部51に導かれ、イオン放出部51内部に設置された
案内板52が向けられている方向に合わせて、温度調節
されたイオンを含むイオン化気体27が放出され、物体
14に温度調節されたイオンを含むイオン化気体27が
吹き付けられる。これにより、温度調節され、高濃度の
イオンを含んだイオン化気体27を物体14が存在する
方向に対して吹き出すことができるので、高濃度のイオ
ンを含んだ温度調節されたイオン化気体27により、物
体14表面等で微生物が繁殖するのを効率的に防止する
ことができる。
At this time, the gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and the temperature is controlled there, and the temperature-controlled ions are removed from the ion generation chamber 21 as in the first embodiment. The ionized gas 27 containing the gas is guided to the ion emitting unit 51, and the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is released according to the direction in which the guide plate 52 installed inside the ion emitting unit 51 is directed, and An ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions is sprayed on 14. As a result, the temperature-controlled ionized gas 27 containing high-concentration ions can be blown out in the direction in which the object 14 exists, so that the temperature-controlled ionized gas 27 containing high-concentration ions allows the object to flow. 14 It is possible to effectively prevent the growth of microorganisms on the surface or the like.

【0131】上記実施例では、物体14が存在する方向
を認識する位置検出装置59が電波を用いたものについ
て示したが、電波の変わりにマイクロ波やレーザー光等
を用いて物体14が存在する方向を検出しても同様の効
果が得られる。また、CCDビデオカメラと二次画像処
理装置を組み合わせた方法により、画像を電気信号に変
えて、物体14が存在する方向を検出しても同様の効果
が得られる。
In the above embodiment, the position detecting device 59 for recognizing the direction in which the object 14 exists has been shown to use radio waves, but the object 14 exists using microwaves or laser light instead of radio waves. The same effect can be obtained by detecting the direction. Further, a similar effect can be obtained by converting the image into an electric signal and detecting the direction in which the object 14 is present by a method in which a CCD video camera and a secondary image processing device are combined.

【0132】また、上記実施例では、物体14が存在す
る位置方向を検出して、その方向に温度調節されたイオ
ンを含むイオン化気体27を吹き出すものを示したが、
同時に物体14とイオン放出部51の距離を求めて、温
度調節されたイオンを含むイオン化気体27が物体14
に到達するときの温度調節されたイオンを含むイオン化
気体27中の負イオン濃度を予測し、それに応じて、イ
オン発生室21内に設けられた複数の金属針電極7に印
加される負極性の直流高電圧の値や、負極性の直流パル
ス高電圧のパルス周波数の値を変更したり、ファン2の
回転数を変化させてイオン発生室21内の両電極間を通
過する気体の速度を変更するようにして、イオン発生室
21で発生する温度調節されたイオンを含むイオン化気
体27中の負イオン濃度を設定し、物体14表面に到達
したときの温度調節されたイオンを含むイオン化気体2
7中の負イオン濃度一定に保つことにより、物体14表
面に存在する微生物を均一に防止することができる。
In the above embodiment, the position direction in which the object 14 is present is detected and the ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions is blown out in that direction.
At the same time, the distance between the object 14 and the ion emitting portion 51 is obtained, and the ionized gas 27 containing the temperature-adjusted ions is detected by
When the negative ion concentration in the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is reached, the negative polarity applied to the plurality of metal needle electrodes 7 provided in the ion generation chamber 21 is predicted accordingly. The value of the DC high voltage or the pulse frequency of the negative DC pulse high voltage is changed, or the rotation speed of the fan 2 is changed to change the velocity of the gas passing between both electrodes in the ion generation chamber 21. Thus, the negative ion concentration in the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions generated in the ion generation chamber 21 is set, and the ionized gas 2 containing the temperature-controlled ions when reaching the surface of the object 14 2
By keeping the negative ion concentration in 7 constant, microorganisms existing on the surface of the object 14 can be uniformly prevented.

【0133】また、上記実施例では、イオン供給室28
外の気体1をファン2により、温度調節室22、イオン
発生室21の順に供給して、イオン発生室21から温度
調節されたイオンを含むイオン化気体27が物体14に
吹き付けられるものについて示したが、イオン供給室2
8内の気体1をファン2により、温度調節室22、イオ
ン発生室21の順に供給して、イオン発生室21から温
度調節されたイオンを含むイオン化気体27を物体14
に吹き付けるようにしてもよい。
Further, in the above embodiment, the ion supply chamber 28
The external gas 1 is supplied from the fan 2 to the temperature control chamber 22 and the ion generation chamber 21 in this order, and the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is blown from the ion generation chamber 21 to the object 14. , Ion supply room 2
The gas 1 in 8 is supplied from the fan 2 to the temperature control chamber 22 and the ion generation chamber 21 in this order, and the ionized gas 27 including the temperature-controlled ions is supplied from the ion generation chamber 21 to the object 14
You may spray on.

【0134】実施例20.上記実施例18では、温度調
節されたイオンを含むイオン化気体27をある時間物体
14に吹き付けるようにして、プログラムにしたがい、
順番にイオン処理していくものを示したが、図26に示
したように、位置検出装置59により物体14が存在す
る位置を検出し、コントローラー58から電気信号が移
動用モーター57に送られ、移動用モーター57が物体
14が存在する位置の上方に移動し、温度調節されたイ
オンを含むイオン化気体27が物体に吹き付けられるよ
うにしてもよい。これにより、イオン供給室28内に格
納されている物体14に効率良く温度調節されたイオン
を含むイオン化気体27を吹き付けることができ、物体
14表面における微生物の増殖防止することができる。
Example 20. In the eighteenth embodiment, the ionized gas 27 containing the temperature-controlled ions is blown to the object 14 for a certain time, and according to the program,
Although the ion treatment is shown in order, as shown in FIG. 26, the position detecting device 59 detects the position where the object 14 exists, and an electric signal is sent from the controller 58 to the moving motor 57. The moving motor 57 may move above the position where the object 14 is present, and the ionized gas 27 including the temperature-adjusted ions may be blown to the object. As a result, the ionized gas 27 containing the ions whose temperature is adjusted can be efficiently sprayed to the object 14 stored in the ion supply chamber 28, and the growth of microorganisms on the surface of the object 14 can be prevented.

【0135】実施例21.上記実施例14,15及び1
9では、表面部分が絶縁材料で作られた案内板52を使
用するものについて示したが、図27に示すように、案
内板52自体は導電性材料で作られたものを用い、案内
板52を支持する部分とイオン放出部51の壁面の間に
アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ガラス
や石英ガラス等の絶縁材料からなる絶縁体12を挿入す
るようにしてもよく、上記実施例14,15及び19と
同様の効果が得られる。
Example 21. Examples 14, 15 and 1 above
In FIG. 9, the guide plate 52 whose surface portion is made of an insulating material is shown. However, as shown in FIG. 27, the guide plate 52 itself is made of a conductive material and the guide plate 52 is used. The insulator 12 made of an insulating material such as acrylic resin, polyethylene, polyvinyl chloride, glass, or quartz glass may be inserted between the portion supporting the electrode and the wall surface of the ion emitting portion 51. The same effect as 15 and 19 can be obtained.

【0136】実施例22.図28はこの発明の実施例2
2による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、60は冷却庫の壁面と同電位である金属アース
線、61は金属アース線60と接地先の接点を開閉(O
N−OFF)して、接地したり電気的に浮かしたりする
スイッチを有するスイッチボックスである。
Example 22. FIG. 28 shows the second embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 2. In the figure, 60 is a metal ground wire which is the same potential as the wall surface of a refrigerator, 61 is the metal ground wire 60 and the contact of a grounding destination is opened and closed (O.
It is a switch box having a switch that is N-OFF) and grounded or electrically floated.

【0137】イオン供給室28外の気体1がファン2に
より温度調節室22に供給されて、そこで温度調節さ
れ、実施例1と同様に、イオン発生室21から温度調節
されたイオンを含むイオン化気体27がイオン供給室2
8に放出される。通常の場合は、空気を供給するので温
度調節されたイオン化空気が供給される。イオン供給室
28内に供給された負イオンは、最初イオン供給室28
内の壁面や物体14等と衝突して消滅するが、スイッチ
ボックス61内のスイッチによって、金属アース線60
が接地されていないので、イオン供給室28内の壁面等
に負極性の電荷(静電気)がためられる。以上のよう
に、最初イオンは消滅するが、時間が経過するにつれて
壁面に電荷がためられると、イオンに対して反発力が働
き、壁面に衝突しなくなり、高濃度のイオンをイオン供
給室28の空間に維持できるようになる。
The gas 1 outside the ion supply chamber 28 is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2 and the temperature thereof is controlled, and the ionized gas containing the temperature controlled ions is supplied from the ion generation chamber 21 as in the first embodiment. 27 is the ion supply chamber 2
Emitted to 8. In the normal case, since the air is supplied, the temperature-controlled ionized air is supplied. The negative ions supplied into the ion supply chamber 28 are initially
Although it disappears by colliding with the inner wall surface or the object 14, the switch in the switch box 61 causes the metal ground wire 60 to disappear.
Is not grounded, a negative charge (static electricity) is accumulated on the wall surface or the like in the ion supply chamber 28. As described above, the ions disappear at first, but when the electric charge is accumulated on the wall surface with the passage of time, the repulsive force acts on the ions and they do not collide with the wall surface. You will be able to maintain in space.

【0138】次に、物体14のイオン処理が終了する
と、スイッチボックス61内のスイッチによって、金属
アース線60が接地されて、イオン供給室28内の壁面
等にたまった負極性の電荷(静電気)が地面に流れてい
く。つまり、物体14をイオン処理した後、壁面等にた
まった静電気を除去し、その後物体14を取り出すとい
った順で行うのがよく、これにより、イオン処理後に人
間に対して静電気障害等が発生するのを防止できる。
Next, when the ion treatment of the object 14 is completed, the metal ground wire 60 is grounded by the switch in the switch box 61, and the negative charge (electrostatic charge) accumulated on the wall surface or the like in the ion supply chamber 28. Flows to the ground. That is, it is preferable to perform the ion treatment on the object 14, then remove the static electricity accumulated on the wall surface, and then take out the object 14, so that electrostatic damage or the like occurs to humans after the ion treatment. Can be prevented.

【0139】なお、上記実施例では、イオン処理終了の
タイミングに合わせて、タイマー等を用いて、スイッチ
ボックス61内の接点の開閉を行うものについて示した
が、イオン供給室28の扉開閉に合わせて、スイッチボ
ックス61内の接点の開閉を行ってもよい。
In the above-mentioned embodiment, a timer or the like is used to open and close the contacts in the switch box 61 at the timing of the end of the ion treatment. Then, the contacts in the switch box 61 may be opened and closed.

【0140】また、上記実施例では、負イオンを含んだ
イオン化気体27をイオン供給室28内に供給して、負
極性の電荷がイオン供給室28内の壁面にたまったもの
について示したが、正イオンを含んだイオンを含むイオ
ン化気体27をイオン供給室28内に供給して、正極性
の電荷がたまった場合についても、スイッチボックス6
1内の接点を閉じることにより、正極性の電荷を地面に
逃がすことができる。
In the above embodiment, the ionized gas 27 containing negative ions was supplied into the ion supply chamber 28, and the negative charge was accumulated on the wall surface in the ion supply chamber 28. Even when the ionized gas 27 containing ions containing positive ions is supplied into the ion supply chamber 28 and the positive charge is accumulated, the switch box 6
By closing the contact in 1, the positive charge can be released to the ground.

【0141】上記実施例では、たまった静電気を地面に
逃がすものを示したが、帯電している電荷と逆の電荷を
与えて、例えば負イオンによって壁面が帯電した場合
は、正電荷を与えて電気的に中和させても同様の効果が
得られる。
In the above-mentioned embodiment, the one in which the accumulated static electricity is released to the ground is shown. However, when the wall surface is charged by negative ions, for example, a positive charge is applied by giving a charge opposite to the charged charge. The same effect can be obtained by electrically neutralizing.

【0142】実施例23.図29はこの発明の実施例2
3による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、62は冷蔵車、63は冷蔵車62に付随してい
る冷却庫、64は冷却庫63の壁面と同電位である金属
鎖、65は金属鎖64を出し入れする回転モーターであ
る。
Example 23. FIG. 29 shows the second embodiment of the present invention.
3 is a block diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to 3, in which 62 is a refrigerating vehicle, 63 is a refrigerating box attached to the refrigerating vehicle 62, 64 is a metal chain having the same potential as the wall surface of the refrigerating box 63, and 65. Is a rotary motor for moving the metal chain 64 in and out.

【0143】次に動作について説明する。冷蔵車62に
付随している冷却庫63では、冷却庫63内部の気体1
がファン2により温度調節室22に供給されて、そこで
熱交換器24により0〜10℃程度に冷却され、イオン
発生室21から冷却されたイオンを含むイオン化気体2
7が冷却庫63内部に放出される。冷却庫63内に格納
されている物体14表面には、冷却されたイオンを含む
イオン化気体27が吹き付けられ、物体14表面に存在
する微生物が繁殖するのが防止される。しかしながら、
冷却庫63に供給される負イオンは、壁面等にも衝突し
て、壁面を帯電させてしまい、冷却庫63そのものが帯
電される。
Next, the operation will be described. In the refrigerator 63 attached to the refrigerating vehicle 62, the gas 1 inside the refrigerator 63 is
Is supplied to the temperature control chamber 22 by the fan 2, where it is cooled to about 0 to 10 ° C. by the heat exchanger 24, and the ionized gas 2 containing the cooled ions from the ion generation chamber 21 is supplied.
7 is discharged into the cooling chamber 63. The ionized gas 27 containing the cooled ions is sprayed onto the surface of the object 14 stored in the refrigerating chamber 63 to prevent the microorganisms existing on the surface of the object 14 from propagating. However,
The negative ions supplied to the cooler 63 collide with the wall surface and the like, and charge the wall surface, and the cooler 63 itself is charged.

【0144】このように、冷却庫63が帯電すると、物
体14を取り出す際に、静電気障害が起こり、安全面が
問題となってくる。このような問題を解消するために、
物体14を取り出す際に、回転モーター65が動いて、
金属鎖64を出していき、地面に接地させて、冷却庫6
3内部の壁面にたまった静電気を地面に逃がすようにす
る。これにより、冷却庫63にたまった静電気による人
間に対する静電気障害等が発生するのを防止できる。
As described above, when the cooling box 63 is charged, electrostatic damage occurs when the object 14 is taken out, which poses a safety problem. In order to eliminate such problems,
When taking out the object 14, the rotary motor 65 moves,
Take out the metal chain 64, ground it to the ground, and cool down 6
3 Make sure that the static electricity accumulated on the inner wall surface is released to the ground. As a result, it is possible to prevent static electricity damage to humans due to static electricity accumulated in the cooling box 63.

【0145】実施例24.図30はこの発明の実施例2
4による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、66は金属平板電極37に交流の電圧を印加す
るための交流電圧発生器である。
Example 24. FIG. 30 shows a second embodiment of the present invention.
4 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention device according to No. 4, in which reference numeral 66 is an AC voltage generator for applying an AC voltage to the metal plate electrode 37.

【0146】次に動作について説明する。イオン供給室
28内に設置されたターンテーブル47上に物体14を
載せると、イオン供給室28内の気体1がファン2によ
りイオン発生室21に送り込まれ、イオン発生室21か
らオゾンを含まないイオン化された気体13がある一方
向から空間に放出される。次に、オゾンを含まないイオ
ン化された気体13が放出されはじめると、ターンテー
ブル47が回転すると同時に、天井面に設置された金属
平板電極37に交流電圧発生器66から交流電圧が印加
される。金属平板電極37に交流電圧が印加されると、
物体14が内部から加熱され、加熱された物体14にオ
ゾンを含まないイオン化された気体13が均一に当てら
れる。これにより、温度とイオンの相乗効果が現れ、物
体14表面に付着している微生物の増殖を防止する能力
を向上させることができるとともに、物体14を均一に
温めることができる。また、物体14が凍結されている
ときは、物体14をむらなく解凍しながら、物体14表
面に付着している微生物の増殖を防止することができ
る。
Next, the operation will be described. When the object 14 is placed on the turntable 47 installed in the ion supply chamber 28, the gas 1 in the ion supply chamber 28 is sent to the ion generation chamber 21 by the fan 2 and ionized without ozone from the ion generation chamber 21. The discharged gas 13 is released into the space from one direction. Next, when the ionized gas 13 containing no ozone is started to be released, the turntable 47 rotates, and at the same time, an AC voltage is applied from the AC voltage generator 66 to the flat metal plate electrode 37 installed on the ceiling surface. When an AC voltage is applied to the metal plate electrode 37,
The object 14 is heated from the inside, and the ionized gas 13 containing no ozone is uniformly applied to the heated object 14. As a result, a synergistic effect of temperature and ions appears, the ability to prevent the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 can be improved, and the object 14 can be uniformly heated. Further, when the object 14 is frozen, it is possible to prevent the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 while thawing the object 14 evenly.

【0147】実施例25.上記実施例24では、イオン
供給室28の天井面に金属平板電極37を設け、その金
属平板電極37に交流電圧を印加して、物体14を加熱
しながら、その物体14にオゾンを含まないイオン化さ
れた気体13を吹き付けて、物体14表面において微生
物の増殖を防止するものについて示したが、図31に示
したように、オゾンを含まないイオン化された気体13
を物体14に吹き付けるとともに、物体14が置かれて
いる床面を同時に冷却して、物体14を直接冷却するよ
うにして、温度とイオンの相乗効果により、物体14表
面に付着している微生物の増殖を防止する能力を向上さ
せることができる。
Example 25. In Example 24, the flat metal plate electrode 37 is provided on the ceiling surface of the ion supply chamber 28, and an AC voltage is applied to the flat metal plate electrode 37 to heat the object 14 and ionize the object 14 without ozone. Although the gas 13 which is sprayed to prevent the growth of microorganisms on the surface of the object 14 is shown, as shown in FIG. 31, the ionized gas 13 containing no ozone is used.
Is sprayed onto the object 14, and the floor surface on which the object 14 is placed is simultaneously cooled so that the object 14 is directly cooled. Due to the synergistic effect of temperature and ions, the microorganisms attached to the surface of the object 14 are The ability to prevent proliferation can be improved.

【0148】実施例26.図32はこの発明の実施例2
6による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、67は空気または酸素を供給するコンプレッサ
等の気体供給装置、68は微生物が繁殖する液体を貯水
する貯水器、69はオゾンを含まないイオン化された気
体13を気泡化して貯水器68の水中に供給するディフ
ューザ(気液混合器)、70は気泡、71は被処理水、
72は被処理水71の温度を調節する温度調節器、73
は温度が調節された被処理水、74,75及び76は電
磁弁、77はオゾンを含まないイオン化された気体13
により処理された処理水、78は水位を計測するレベル
センサー、79は余剰のイオンを含むイオン化された気
体、80は余剰のイオンを除去する一対のメッシュ状金
属網、81は余剰イオンが除去された処理気体である。
Example 26. 32 shows a second embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 6, In the figure, 67 is a gas supply apparatus, such as a compressor which supplies air or oxygen, 68 is a water tank which stores the liquid in which microorganisms grow, 69 does not contain ozone. A diffuser (gas-liquid mixer) for making the ionized gas 13 bubble and supplying it into the water of the water reservoir 68, 70 is a bubble, 71 is water to be treated,
72 is a temperature controller for adjusting the temperature of the water 71 to be treated, 73
Is the temperature-controlled water, 74, 75 and 76 are solenoid valves, and 77 is the ionized gas 13 containing no ozone.
Treated water treated by the above, 78 is a level sensor for measuring the water level, 79 is an ionized gas containing excess ions, 80 is a pair of mesh metal nets for removing excess ions, and 81 is for removing excess ions. It is a processed gas.

【0149】次に動作について説明する。まず、電磁弁
74が開状態になると、温度調節器72に被処理水71
が送られ、被処理水71の温度が調節される。その後、
貯水器68に温度が調節された被処理水73が送られ、
貯水器68に温度が調節された被処理水73が貯水され
る。次に、気体供給装置67が稼働されると同時に電磁
弁75が開状態となると、イオン発生室21からオゾン
を含まないイオン化された気体13が発生する。
Next, the operation will be described. First, when the electromagnetic valve 74 is opened, the temperature controller 72 is connected to the treated water 71.
Is sent and the temperature of the treated water 71 is adjusted. afterwards,
The treated water 73 whose temperature has been adjusted is sent to the water reservoir 68,
The treated water 73 whose temperature has been adjusted is stored in the water reservoir 68. Next, when the gas supply device 67 is operated and the electromagnetic valve 75 is opened at the same time, the ionized gas 13 containing no ozone is generated from the ion generation chamber 21.

【0150】このオゾンを含まないイオン化された気体
13はセラミック等で作られたディフューザ69に送ら
れ、微細の気泡70となって貯水器68に散気される。
これにより、貯水器68内の温度を調節された被処理水
73はイオンを含有した微細の気泡70と接触し、水中
に存在する細菌等の微生物の繁殖が防止される。貯水器
68内の水は電磁弁76が開状態となると飲料水又はそ
の他の目的に応じて処理水77として使用される。ま
た、貯水器68内の処理水77が使用され、水位が低下
すると、レベルセンサー78から信号が出力され、電磁
弁74が開状態となり、被処理水71が温度調節器72
に送られ、被処理水71の温度が調節され、貯水器68
に再び送り込まれる。一方、余剰のイオン化された気体
79は接地された一対のメッシュ状の金属網80に導か
れ、余剰のイオンが除去された後、処理気体81として
放出される。
The ionized gas 13 containing no ozone is sent to the diffuser 69 made of ceramic or the like, and becomes fine bubbles 70 to be diffused in the water reservoir 68.
As a result, the temperature-controlled water 73 in the water reservoir 68 comes into contact with the minute bubbles 70 containing ions, and the growth of microorganisms such as bacteria existing in the water is prevented. The water in the water reservoir 68 is used as drinking water or treated water 77 according to other purposes when the solenoid valve 76 is opened. Further, when the treated water 77 in the water reservoir 68 is used and the water level drops, a signal is output from the level sensor 78, the electromagnetic valve 74 is opened, and the treated water 71 becomes the temperature controller 72.
And the temperature of the treated water 71 is adjusted to the water reservoir 68.
Will be sent to again. On the other hand, the surplus ionized gas 79 is guided to a pair of grounded mesh-shaped metal nets 80, and after the surplus ions are removed, it is discharged as a processing gas 81.

【0151】ここで、貯水器68の処理水77が間欠的
に使用される場合、気体供給装置67はそれに応じて間
欠的に運転される。一方、処理水77が連続的に使用さ
れる場合、被処理水71が連続的に供給されるため、気
体供給装置67は連続的に運転される。この時、オゾン
を含まないイオン化された気体13中のイオン濃度はで
きるだけ高い方が好ましい。また、貯水器68に供給さ
れるオゾンを含まないイオン化された気体13の流量
は、貯水器68での滞留時間が数分から数10分間程度
となるように注入するのが好ましい。
When the treated water 77 in the water reservoir 68 is used intermittently, the gas supply device 67 is intermittently operated accordingly. On the other hand, when the treated water 77 is continuously used, the treated water 71 is continuously supplied, so that the gas supply device 67 is continuously operated. At this time, the ion concentration in the ionized gas 13 containing no ozone is preferably as high as possible. The flow rate of the ionized gas 13 containing no ozone supplied to the water reservoir 68 is preferably injected so that the residence time in the water reservoir 68 is several minutes to several tens of minutes.

【0152】なお、上記実施例26では気体供給装置6
7としてコンプレッサを用いたが、酸素ガスボンベ又は
液化酸素を用いて酸素ガスを供給するとイオンの発生効
率を高めることができる。
In the twenty-sixth embodiment, the gas supply device 6
Although a compressor was used as 7, an ion generation efficiency can be increased by supplying oxygen gas using an oxygen gas cylinder or liquefied oxygen.

【0153】実施例27.上記実施例26ではオゾンを
含まないイオン化された気体13のみをディフューザ6
9に供給するものについて示したが、図33に示すよう
に、オゾンを発生するオゾン発生器39を設け、絶縁性
パイプ41で、オゾンを含まないイオン化された気体1
3とオゾンを混合し、その混合されたイオン化気体42
をディフューザ69に供給するようにしてもよい。この
場合、イオンとオゾンの相乗効果が得られ、微生物の繁
殖をさらに確実に抑えられる。
Example 27. In Example 26, only the ionized gas 13 containing no ozone was diffuser 6
As shown in FIG. 33, an ozone generator 39 for generating ozone is provided, and an insulating pipe 41 is used to supply an ionized gas 1 containing no ozone.
3 and ozone are mixed, and the mixed ionized gas 42 is mixed.
May be supplied to the diffuser 69. In this case, a synergistic effect of ions and ozone is obtained, and the growth of microorganisms can be suppressed more reliably.

【0154】実施例28.図34はこの発明の実施例2
8による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、82はオゾンを含まないイオン化された気体1
3で処理された処理水77を微粒子にして噴出するノズ
ル、83はオゾンを含まないイオン化された気体13で
処理された処理水77をノズル82に送り込む液体ポン
プである。
Example 28. FIG. 34 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to No. 8, in which 82 is an ionized gas 1 containing no ozone.
A nozzle for ejecting the treated water 77 treated in No. 3 into fine particles and ejecting it is a liquid pump 83 for feeding the treated water 77 treated with the ionized gas 13 containing no ozone to the nozzle 82.

【0155】次に動作について説明する。まず、電磁弁
74が開状態になると、温度調節器72に被処理水71
が送られ、被処理水71が加熱される。この時、被処理
水71の温度は洗浄する物体に合わせて設定することが
望ましい。その後、貯水器68に加熱された被処理水7
3が送られ、貯水器68に加熱された被処理水73が貯
水される。次に、気体供給装置67が稼働されると同時
に電磁弁75が開状態となると、イオン発生室21から
オゾンを含まないイオン化された気体13が発生する。
Next, the operation will be described. First, when the electromagnetic valve 74 is opened, the temperature controller 72 is connected to the treated water 71.
Is sent and the water to be treated 71 is heated. At this time, it is desirable to set the temperature of the water to be treated 71 according to the object to be washed. Then, the treated water 7 heated in the water reservoir 68
3 is sent, and the heated water 73 is stored in the water reservoir 68. Next, when the gas supply device 67 is operated and the electromagnetic valve 75 is opened at the same time, the ionized gas 13 containing no ozone is generated from the ion generation chamber 21.

【0156】このオゾンを含まないイオン化された気体
13はセラミック等で作られたディフューザ69に送ら
れ、微細の気泡70となって貯水器68中の液体に散気
される。これにより、貯水器68内の加熱された被処理
水73はイオンを含有した微細の気泡70と接触し、水
中に存在する細菌等の微生物の繁殖が防止される。貯水
器68内の水は電磁弁76が開状態となると、液体ポン
プ83に送り込まれ、ノズル82より微粒子化した処理
水77が噴出されて、物体14を洗浄する水として使用
される。また、貯水器68内の処理水77が使用され、
水位が低下すると、レベルセンサー78から信号が出力
され、電磁弁74が開状態となり、被処理水71が温度
調節器72に送られ、被処理水71が加熱され、貯水器
68に再び送り込まれる。一方、余剰のイオン化された
気体79は接地された一対のメッシュ状の金属網80に
導かれ、余剰のイオンが除去された後、処理気体81と
して放出される。これにより、物体14をオゾンを含ま
ないイオン化された気体13で処理された処理水77で
洗浄しながら、物体14表面に付着している微生物の増
殖を防止できる。
The ionized gas 13 containing no ozone is sent to the diffuser 69 made of ceramic or the like, and becomes fine bubbles 70 to be diffused in the liquid in the water reservoir 68. As a result, the heated water 73 to be treated in the water reservoir 68 comes into contact with the minute bubbles 70 containing ions, and the growth of microorganisms such as bacteria existing in the water is prevented. When the electromagnetic valve 76 is opened, the water in the water reservoir 68 is sent to the liquid pump 83, and the treated water 77 that has been made into fine particles is ejected from the nozzle 82, and is used as water for cleaning the object 14. In addition, the treated water 77 in the water reservoir 68 is used,
When the water level drops, a signal is output from the level sensor 78, the electromagnetic valve 74 is opened, the treated water 71 is sent to the temperature controller 72, the treated water 71 is heated, and is sent to the water reservoir 68 again. . On the other hand, the surplus ionized gas 79 is guided to a pair of grounded mesh-shaped metal nets 80, and after the surplus ions are removed, it is discharged as a processing gas 81. This makes it possible to prevent the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 while washing the object 14 with the treated water 77 treated with the ionized gas 13 containing no ozone.

【0157】実施例29.図35はこの発明の実施例2
9による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、84はオゾンを含まないイオン化された気体1
3を加熱された処理水73に溶解・混合させるエゼクタ
(気液混合器)、85は昇温された被処理水74をエゼ
クタ84に送り込む圧縮ポンプである。
Example 29. FIG. 35 shows a second embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 9. In the figure, 84 is the ionized gas 1 which does not contain ozone.
3 is an ejector (gas-liquid mixer) for dissolving and mixing 3 in the heated treated water 73, and 85 is a compression pump for feeding the heated water 74 to the ejector 84.

【0158】次に動作について説明する。まず、電磁弁
74が開状態になると、温度調節器72に被処理水71
が送られ、被処理水71が加熱される。その後、圧縮ポ
ンプ85に加熱された被処理水73が送られる。次に、
圧縮ポンプ85を運転して、加熱された被処理水73を
エゼクタ84に与えることにより、イオン発生室21か
ら発生されるオゾンを含まないイオン化された気体13
がその加熱された被処理水73中で微細の気泡となり、
その冷却水に溶解・混合される。このオゾンを含まない
イオン化された気体13を溶解した加熱された被処理水
はノズル82により微粒子化した処理水77が噴出され
て、物体14を洗浄する水として使用される。これによ
り、物体14をオゾンを含まないイオン化された気体1
3で処理された処理水77で洗浄しながら、物体14表
面に付着している微生物の増殖を防止できる。
Next, the operation will be described. First, when the electromagnetic valve 74 is opened, the temperature controller 72 is connected to the treated water 71.
Is sent and the water to be treated 71 is heated. Then, the heated water 73 is sent to the compression pump 85. next,
By operating the compression pump 85 and supplying the heated water to be treated 73 to the ejector 84, the ionized gas 13 containing no ozone generated from the ion generation chamber 21 is generated.
Become fine bubbles in the heated water 73 to be treated,
It is dissolved and mixed in the cooling water. The heated water to be treated in which the ionized gas 13 containing no ozone is dissolved is sprayed from the nozzle 82 into treated water 77, which is used as water for cleaning the object 14. As a result, the object 14 is converted into an ionized gas 1 containing no ozone.
It is possible to prevent the growth of microorganisms adhering to the surface of the object 14 while washing with the treated water 77 treated in 3.

【0159】実施例30.図36はこの発明の実施例3
0による微生物繁殖防止装置を示す構成図であり、図に
おいて、86は貯水器68の上部に取り付けられたメッ
シュ状金属網、87は貯水器68の下部に取り付けられ
た金属接地電極である。
Example 30. 36 shows a third embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the microbial growth prevention apparatus by 0. In the figure, 86 is a mesh metal mesh attached to the upper part of the water reservoir 68, and 87 is a metal ground electrode attached to the lower part of the water reservoir 68.

【0160】次に動作について説明する。まず、電磁弁
74が開状態になると、温度調節器72に被処理水71
が送られ、被処理水71の温度が調節される。その後、
貯水器68に温度が調節された被処理水73が送られ、
貯水器68に温度が調節された被処理水73が貯水され
る。次に、気体供給装置67が稼働されると同時に電磁
弁75が開状態となると、イオン発生室21からオゾン
を含まないイオン化された気体13が発生する。このオ
ゾンを含まないイオン化された気体13はセラミック等
で作られたディフューザ69に送られ、微細の気泡70
となって貯水器68に散気される。
Next, the operation will be described. First, when the electromagnetic valve 74 is opened, the temperature controller 72 is connected to the treated water 71.
Is sent and the temperature of the treated water 71 is adjusted. afterwards,
The treated water 73 whose temperature has been adjusted is sent to the water reservoir 68,
The treated water 73 whose temperature has been adjusted is stored in the water reservoir 68. Next, when the gas supply device 67 is operated and the electromagnetic valve 75 is opened at the same time, the ionized gas 13 containing no ozone is generated from the ion generation chamber 21. This ozone-free ionized gas 13 is sent to a diffuser 69 made of ceramic or the like, and fine bubbles 70
And diffused into the water reservoir 68.

【0161】この際、貯水器68の上部に取り付けられ
たメッシュ状金属網86に直流電圧発生器38より負極
性の直流電圧が印加されると、メッシュ状金属網86と
金属接地電極87の間に電界場が発生する。この電界の
作用により、貯水器68内の温度を調節された被処理水
73中に供給された負イオンを含有した微細の気泡70
は下向きの力を受けて、温度を調節された被処理水73
中から抜け出しにくくなり、貯水器68内の温度調節さ
れた被処理水73中での滞留時間を長くすることができ
る。これにより、温度調節された被処理水73に十分な
量の負イオンを溶かすことができるようになり、被処理
水71中に存在する細菌等の微生物の繁殖を十分に防止
することができる。また、貯水器68内の処理水77が
使用され、水位が低下すると、レベルセンサー78から
信号が出力され、電磁弁74が開状態となり、被処理水
71が温度調節器72に送られ、被処理水71の温度が
調節され、貯水器68に再び送り込まれる。一方、オゾ
ンを含まないイオン化された気体13中の負イオンは貯
水器68に取り付けられたメッシュ状金属網86と金属
接地電極87によって、十分に温度調節された被処理水
73中に溶け込まされて、除去されるので、処理気体8
1として貯水器68外の空間に放出される。
At this time, when a negative DC voltage is applied from the DC voltage generator 38 to the mesh-shaped metal net 86 attached to the upper part of the water reservoir 68, the mesh-shaped metal net 86 and the metal ground electrode 87 are separated from each other. An electric field is generated at. Due to the action of this electric field, fine bubbles 70 containing negative ions supplied into the water 73 to be treated whose temperature is adjusted in the water reservoir 68.
Receives the downward force and the temperature of the treated water 73 is adjusted.
It becomes difficult to escape from the inside, and the residence time in the temperature-controlled water 73 to be treated in the water reservoir 68 can be lengthened. As a result, a sufficient amount of negative ions can be dissolved in the temperature-controlled water 73 to be treated, and the growth of microorganisms such as bacteria existing in the water to be treated 71 can be sufficiently prevented. Further, when the treated water 77 in the water reservoir 68 is used and the water level is lowered, a signal is output from the level sensor 78, the electromagnetic valve 74 is opened, the treated water 71 is sent to the temperature controller 72, and the treated water 71 is treated. The temperature of the treated water 71 is adjusted and sent to the water reservoir 68 again. On the other hand, the negative ions in the ionized gas 13 that does not contain ozone are dissolved in the water 73 to be sufficiently temperature-controlled by the mesh-shaped metal net 86 attached to the water reservoir 68 and the metal ground electrode 87. , So that the processing gas 8 is removed.
1 is discharged to the space outside the water reservoir 68.

【0162】ここで、貯水器68の処理水77が間欠的
に使用される場合、気体供給装置67はそれに応じて間
欠的に運転され、貯水器68内の温度調節された被処理
水73中にオゾンを含まないイオン化された気体13が
供給されている場合にかぎり、メッシュ状金属網86に
直流電圧発生器38から直流電圧が印加される。
Here, when the treated water 77 of the water reservoir 68 is used intermittently, the gas supply device 67 is intermittently operated accordingly, and the temperature-controlled treated water 73 in the water reservoir 68 is used. A DC voltage is applied to the mesh metal mesh 86 from the DC voltage generator 38 only when the ionized gas 13 containing no ozone is supplied to the mesh metal mesh 86.

【0163】また、貯水器68内の温度調節された被処
理水73を負イオンで処理する場合、オゾンを含まない
イオン化された気体13中のイオン濃度はできるだけ高
い方が好ましいが、オゾンを含まないイオン化された気
体13中のイオン濃度を高めるには限界があるため、貯
水器68内の温度調節された被処理水73に送り込むオ
ゾンを含まないイオン化された気体13の流量をあげる
ことが好ましい。しかしながら、オゾンを含まないイオ
ン化された気体13の流量をあげると、貯水器68内の
温度調節された被処理水73中での滞留時間が短くなる
ため、メッシュ状金属網86に直流電圧発生器38から
印加する直流電圧の値を高くして、電界を大きくし、滞
留時間を長くすることが望ましい。
When the temperature-controlled water 73 in the water reservoir 68 is treated with negative ions, it is preferable that the ion concentration in the ionized gas 13 not containing ozone be as high as possible. Since there is a limit to increasing the ion concentration in the non-ionized gas 13, it is preferable to increase the flow rate of the ozone-free ionized gas 13 sent to the temperature-controlled water 73 in the water reservoir 68. . However, when the flow rate of the ionized gas 13 containing no ozone is increased, the residence time in the temperature-controlled water 73 in the water reservoir 68 becomes shorter, and therefore the DC voltage generator is applied to the mesh metal mesh 86. It is desirable to increase the value of the DC voltage applied from 38 to increase the electric field and lengthen the residence time.

【0164】[0164]

【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、微生物の増殖が盛んな最適温度領域よりも所定温度
低下または上昇させた温度領域に、イオンを含んだイオ
ン化気体の温度を調節し、微生物が繁殖する物体または
その物体を格納する空間に、これを供給するように構成
したので、温度とイオンの相乗効果により、微生物の繁
殖を防止する能力を増大させることができる効果があ
る。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the temperature of the ionized gas containing ions is set in a temperature range that is lower or higher than the optimum temperature range where the growth of microorganisms is active. Since it is regulated and supplied to the object in which the microorganisms propagate or the space storing the object, the synergistic effect of temperature and ions can increase the ability to prevent the proliferation of microorganisms. is there.

【0165】請求項2の発明によれば、所定温度を10
℃以上としたことにより、温度とイオンの相乗効果によ
り、微生物の繁殖を防止する能力を増大させることがで
きる効果がある。
According to the second aspect of the invention, the predetermined temperature is set to 10
By setting the temperature to be not lower than 0 ° C, there is an effect that the ability to prevent the growth of microorganisms can be increased by the synergistic effect of temperature and ions.

【0166】請求項3の発明によれば、温度調節手段を
設置するように構成したので、温度を調節した気体中
に、イオンを発生させることができ、温度とイオンの相
乗効果により、微生物の繁殖を防止する能力を増大させ
ることができる効果がある。
According to the third aspect of the invention, since the temperature adjusting means is installed, it is possible to generate ions in the gas whose temperature is adjusted, and the synergistic effect of the temperature and the ions allows the microorganisms to be generated. This has the effect of increasing the ability to prevent reproduction.

【0167】請求項4の発明によれば、温度調節手段を
冷却器及び加熱器の双方またはどちらか一方で構成した
ので、冷却された気体または加熱された気体中にイオン
を発生させることができ、温度とイオンの相乗効果によ
り、微生物の繁殖を防止する能力を増大させることがで
きる効果がある。
According to the invention of claim 4, since the temperature adjusting means is constituted by either or both of the cooler and the heater, it is possible to generate ions in the cooled gas or the heated gas. By the synergistic effect of temperature and ions, there is an effect that the ability to prevent the growth of microorganisms can be increased.

【0168】請求項5の発明によれば、温度調節手段を
イオン発生室の上流側に設置するように構成したので、
イオン発生室で生成されたイオンを減少させることな
く、温度を調節することができ、温度とイオンの相乗効
果により、微生物の繁殖を防止する能力を増大させるこ
とができる効果がある。
According to the invention of claim 5, since the temperature adjusting means is arranged upstream of the ion generating chamber,
The temperature can be adjusted without reducing the ions generated in the ion generating chamber, and the synergistic effect of the temperature and the ions can increase the ability to prevent the growth of microorganisms.

【0169】請求項6の発明によれば、温度調節手段に
より温度を調節されたイオンを含んだ気体を、微生物が
繁殖する物体を格納する空間に供給するように構成した
ので、その物体に対して温度調節されたイオンを含むイ
オン化気体が供給され、その物体表面において微生物が
繁殖するのを十分に防止することができる効果がある。
According to the sixth aspect of the invention, the gas containing the ions, the temperature of which is adjusted by the temperature adjusting means, is supplied to the space for storing the object in which the microorganisms propagate. The ionized gas containing the temperature-controlled ions is supplied, and it is possible to sufficiently prevent the growth of microorganisms on the surface of the object.

【0170】請求項7の発明によれば、微生物が繁殖す
る物体を格納する空間を有するとともに、温度調節手段
により温度を調節されたイオンを含んだイオン化気体
を、その空間に供給するイオン供給室を設けるように構
成したので、その物体に対して温度調節されたイオンを
含むイオン化気体が供給され、その物体表面において微
生物が繁殖するのを十分に防止することができる効果が
ある。
According to the invention of claim 7, there is provided an ion supply chamber which has a space for storing an object in which microorganisms propagate and which supplies an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means to the space. Since the object is provided with the ionized gas containing the temperature-controlled ions, it is possible to sufficiently prevent the growth of microorganisms on the surface of the object.

【0171】請求項8の発明によれば、温度調節手段に
より温度を調節されたイオンを含んだイオン化気体中の
イオンのみを微生物が繁殖する物体表面に移動させる一
対の金属電極および直流電源を設けるように構成したの
で、その物体に対してイオンのみを効率よく物体表面に
供給することができ、その物体表面において微生物が繁
殖するのを効率的に防止することができる効果がある。
According to the eighth aspect of the present invention, a pair of metal electrodes and a DC power supply are provided for moving only the ions in the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means to the surface of the object on which the microorganisms grow. With this configuration, it is possible to efficiently supply only ions to the object surface to the object surface, and it is possible to effectively prevent the growth of microorganisms on the object surface.

【0172】請求項9の発明によれば、オゾン発生器を
設け、温度調節手段により温度を調節されたイオンを含
んだ気体にオゾンを混合し、オゾンとイオンを含んだ温
度調節されたイオン化気体をイオン供給室に供給するよ
うに構成したので、オゾンとイオンの相乗効果により、
物体表面において微生物が繁殖するのを防止する能力を
増大することができる効果がある。
According to the invention of claim 9, an ozone generator is provided, and ozone is mixed with a gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means to obtain a temperature-adjusted ionized gas containing ozone and ions. Is configured to be supplied to the ion supply chamber, so due to the synergistic effect of ozone and ions,
This has the effect of increasing the ability to prevent the growth of microorganisms on the surface of an object.

【0173】請求項10の発明によれば、微生物が繁殖
する物体を格納する空間を有し、温度調節手段により温
度を調節されたイオンを含んだイオン化気体を、その空
間に格納されている物体に直接的に吹き付けるイオン供
給部を設けるように構成したので、その物体表面に対し
て高濃度のイオンを含んだ温度調節されたイオンを含む
イオン化気体が直接供給され、その物体表面で微生物が
繁殖するのを効率よく防止することができる効果があ
る。
According to the tenth aspect of the present invention, there is a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means is stored in the space. Since it is configured to have an ion supply unit that blows directly onto the object, an ionized gas containing temperature-controlled ions containing a high concentration of ions is directly supplied to the object surface, and microorganisms propagate on the object surface. There is an effect that it can be efficiently prevented.

【0174】請求項11の発明によれば、イオン供給部
を温度調節手段により温度を調節されたイオンを含んだ
イオン化気体を放出するイオン放出部と、微生物が繁殖
する物体を温度調節されたイオンを含んだイオン化気体
の吹き出し位置に運び込む運搬装置から構成したので、
その物体表面に対して高濃度のイオンを含んだ温度調節
されたイオンを含むイオン化気体を直接的に供給するこ
とができ、短時間に効率よく大量の物体表面において、
微生物が繁殖するのを防止することができる効果があ
る。
According to the eleventh aspect of the present invention, the ion supplying section releases the ionized gas containing the ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means, and the ion-adjusted temperature of the object in which the microorganisms grow. Since it was composed of a carrier that carries the ionized gas containing
An ionized gas containing temperature-controlled ions containing a high concentration of ions can be directly supplied to the object surface, and a large amount of object surface can be efficiently supplied in a short time.
It has the effect of preventing the reproduction of microorganisms.

【0175】請求項12の発明によれば、イオン供給部
を微生物が繁殖する物体を格納する空間を有するイオン
供給室と、温度調節手段により温度を調節されたイオン
を含んだイオン化気体の吹き出し方向を変化させて放出
し、その空間に格納されている物体に直接的に吹き付け
るイオン放出部から構成したので、その物体表面に対し
て高濃度のイオンを含んだ温度調節されたイオンを含む
イオン化気体を間欠的に供給することができ、イオン供
給室内の広範囲にわたって、物体表面で微生物が繁殖す
るのを防止することができる効果がある。
According to the twelfth aspect of the present invention, the ion supply section has an ion supply chamber having a space for storing an object in which microorganisms propagate, and a direction in which an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means is blown out. The ionized gas containing the temperature-controlled ions containing a high concentration of ions to the surface of the object because it is composed of an ion emitting part that changes and emits and directly blows on the object stored in the space. Can be intermittently supplied, and there is an effect that microorganisms can be prevented from propagating on the object surface over a wide range in the ion supply chamber.

【0176】請求項13の発明によれば、気体を取り込
む送風機と、前記送風機により取り込まれた気体が通過
する通気路と、前記通気路内に設置され、その気体に対
して電子を電離することによりその気体をイオン化する
イオン発生室と、前記イオン発生室によりイオンを含む
イオン化気体の温度を調節する温度調節手段から構成さ
れた微生物繁殖防止装置をイオン供給室内部で移動させ
る移動装置を設けるように構成したので、物体表面に対
して高濃度のイオンを含んだ温度調節されたイオンを含
むイオン化気体を間欠的に供給することができ、イオン
供給室内の広範囲にわたって、効率よく物体表面で微生
物が繁殖するのを防止することができる効果がある。
According to the thirteenth aspect of the present invention, a blower for taking in gas, a ventilation path through which the gas taken in by the blower passes, and a ventilation path are installed in the ventilation path to ionize electrons to the gas. A moving device for moving the microbial growth preventing device, which is composed of an ion generating chamber for ionizing the gas by means of the above, and a temperature adjusting means for adjusting the temperature of the ionized gas containing ions by the ion generating chamber, inside the ion supply chamber. Since it is configured as described above, it is possible to intermittently supply the ionized gas containing the temperature-controlled ions containing a high concentration of ions to the object surface, and the microorganisms can be efficiently distributed on the object surface over a wide range in the ion supply chamber. It has the effect of preventing breeding.

【0177】請求項14の発明によれば、イオン供給室
内に微生物が繁殖している物体の位置を認識する位置検
出装置と、温度調節されたイオンを含んだイオン化気体
の吹き出し方向を物体が存在する方向に変更するように
指示する制御装置から構成したので、イオン供給室内に
格納された物体に対して、効率よく温度調節されたイオ
ンを含むイオン化気体を吹き付けることができ、物体表
面で微生物が繁殖するのを効率的に防止することができ
る効果がある。
According to the fourteenth aspect of the present invention, the position detecting device for recognizing the position of the object in which the microorganisms propagate in the ion supply chamber, and the object exist in the blowing direction of the ionized gas containing the temperature-controlled ions. Since it is composed of a control device for instructing to change the direction to the direction, it is possible to efficiently blow an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted to the object stored in the ion supply chamber, and the microorganisms on the surface of the object. It has the effect of effectively preventing breeding.

【0178】請求項15の発明によれば、イオン供給室
内部表面に接続されたアース線と、そのアース線と接地
先の接点を開閉するスイッチを設けるように構成したの
で、イオン処理時においては、イオンを必要以上に消滅
させることを防いで、物体表面で微生物が繁殖するのを
効率的に防止できる効果を有するとともに、イオン処理
後にイオン供給室内の壁面等にたまった電荷を取り除く
ことができ、人間に対して、静電気による障害が起きる
のを未然に防ぐことができる効果がある。
According to the fifteenth aspect of the invention, since the earth wire connected to the surface of the ion supply chamber and the switch for opening and closing the contact point between the earth wire and the ground destination are provided, during the ion treatment. , It has the effect of preventing the ions from disappearing more than necessary, and can effectively prevent the growth of microorganisms on the surface of the object, and it is also possible to remove the charge accumulated on the wall surface etc. in the ion supply chamber after the ion treatment. , There is an effect that it is possible to prevent humans from being disturbed by static electricity.

【0179】請求項16の発明によれば、イオン供給部
内に微生物が繁殖する物体を内部から加熱する一対の金
属電極および直流電源を設け、その物体に対しイオンを
含んだイオン化気体を直接的に吹き付けるように構成し
たので、温度とイオンの相乗効果により、その物体表面
に対して高濃度のイオンを含んだイオン化気体が直接供
給され、その物体表面で微生物が繁殖するのを防止する
能力を増加させることができる効果がある。
According to the sixteenth aspect of the present invention, a pair of metal electrodes for heating an object in which microorganisms propagate from the inside and a DC power source are provided in the ion supply section, and an ionized gas containing ions is directly supplied to the object. Since it is configured to be sprayed, the synergistic effect of temperature and ions increases the ability to prevent the growth of microorganisms on the surface of the object by directly supplying the ionized gas containing a high concentration of ions to the surface of the object. There is an effect that can be made.

【0180】請求項17の発明によれば、イオン発生室
によりイオンを含んだイオン化気体を気泡化して、貯水
器中の温度を調節された液中に供給するように構成した
ので、液中で微生物が繁殖するのを抑えらることができ
るようになる効果がある。
According to the seventeenth aspect of the invention, since the ionized gas containing the ions is bubbled by the ion generating chamber and is supplied to the liquid whose temperature in the water reservoir is adjusted, This has the effect of suppressing the growth of microorganisms.

【0181】請求項18の発明によれば、イオン発生室
によりイオンを含んだイオン化気体中のイオンを液中か
ら放散されるのを防ぐ一対の金属網および直流電源を設
けるように構成したので、液中にイオンを効率良く溶解
することができるようになり、液中で微生物が繁殖する
のを十分に抑えらることができるようになる効果があ
る。
According to the eighteenth aspect of the present invention, a pair of metal nets and a DC power source are provided to prevent the ions in the ionized gas containing the ions from being diffused from the liquid by the ion generating chamber. It is possible to efficiently dissolve the ions in the liquid, and it is possible to sufficiently suppress the growth of microorganisms in the liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施例1による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 温度調節されたイオンを含むイオン化気体に
よってバクテリアの繁殖が抑えられることを証明する実
験の実験結果を示す表図である。
FIG. 2 is a table showing experimental results of an experiment demonstrating that bacterial growth is suppressed by an ionized gas containing temperature-controlled ions.

【図3】 温度と微生物の増殖速度の関係を示す表図で
ある。
FIG. 3 is a table showing the relationship between temperature and the growth rate of microorganisms.

【図4】 この発明の実施例1による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図5】 この発明の実施例1による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図6】 この発明の実施例2による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
[Fig. 6] Fig. 6 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.

【図7】 この発明の実施例3による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.

【図8】 この発明の実施例3による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
[Fig. 8] Fig. 8 is a configuration diagram showing a microbial breeding prevention device according to a third embodiment of the present invention.

【図9】 この発明の実施例4による微生物繁殖防止装
置を示す構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.

【図10】 この発明の実施例5による微生物繁殖防止
装置を示す構成図である。
FIG. 10 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 5 of the present invention.

【図11】 この発明の実施例6による微生物繁殖防止
装置を示す構成図である。
FIG. 11 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 6 of the present invention.

【図12】 この発明の実施例7による微生物繁殖防止
装置を示す構成図である。
FIG. 12 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 7 of the present invention.

【図13】 この発明の実施例8による微生物繁殖防止
装置を示す構成図である。
FIG. 13 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 8 of the present invention.

【図14】 この発明の実施例9による微生物繁殖防止
装置を示す構成図である。
FIG. 14 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 9 of the present invention.

【図15】 この発明の実施例10による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 15 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 10 of the present invention.

【図16】 この発明の実施例11による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 16 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 11 of the present invention.

【図17】 この発明の実施例12による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 17 is a configuration diagram showing a microbial breeding prevention device according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図18】 この発明の実施例13による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 18 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 13 of the present invention.

【図19】 この発明の実施例14による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 19 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 14 of the present invention.

【図20】 この発明の実施例15による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 20 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 15 of the present invention.

【図21】 この発明の実施例15による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 21 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 15 of the present invention.

【図22】 この発明の実施例16による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 22 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 16 of the present invention.

【図23】 この発明の実施例17による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 23 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 17 of the present invention.

【図24】 この発明の実施例18による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 24 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 18 of the present invention.

【図25】 この発明の実施例19による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 25 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 19 of the present invention.

【図26】 この発明の実施例20による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 26 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 20 of the present invention.

【図27】 この発明の実施例21による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 27 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 21 of the present invention.

【図28】 この発明の実施例22による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 28 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 22 of the present invention.

【図29】 この発明の実施例23による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 29 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 23 of the present invention.

【図30】 この発明の実施例24による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 30 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 24 of the present invention.

【図31】 この発明の実施例25による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 31 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 25 of the present invention.

【図32】 この発明の実施例26による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 32 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 26 of the present invention.

【図33】 この発明の実施例27による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 33 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Example 27 of the present invention.

【図34】 この発明の実施例28による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 34 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 28 of the present invention.

【図35】 この発明の実施例29による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 35 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 29 of the present invention.

【図36】 この発明の実施例30による微生物繁殖防
止装置を示す構成図である。
FIG. 36 is a configuration diagram showing a microbial growth prevention apparatus according to Embodiment 30 of the present invention.

【図37】 従来の微生物繁殖防止装置を示す構成図で
ある。
FIG. 37 is a configuration diagram showing a conventional microbial growth prevention device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 気体、2 ファン(送風機)、3 通気路、14
物体、21 イオン発生室、22 温度調節室(温度調
節手段)、28 イオン供給室、36 金属平板接地電
極(金属平板)、37 金属平板電極(金属平板)、3
9 オゾン発生器、51 イオン放出部、58 コント
ローラー(制御装置)、60 金属アース線(アース
線)、61 スイッチボックス(スイッチ)、68 貯
水器、86メッシュ状金網(金属網)。
1 gas, 2 fan (blower), 3 ventilation path, 14
Object, 21 Ion generation chamber, 22 Temperature control chamber (temperature control means), 28 Ion supply chamber, 36 Metal plate ground electrode (metal plate), 37 Metal plate electrode (metal plate), 3
9 ozone generator, 51 ion emission part, 58 controller (control device), 60 metal ground wire (ground wire), 61 switch box (switch), 68 water reservoir, 86 mesh wire mesh (metal mesh).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C02F 1/50 550 D H L 560 F 1/70 Z (72)発明者 太田 幸治 尼崎市塚口本町八丁目1番1号 三菱電機 株式会社中央研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical display location C02F 1/50 550 DH L 560 F 1/70 Z (72) Inventor Koji Ota Tsukaguchi Honcho, Amagasaki 8-1-1, Mitsubishi Electric Corporation Central Research Laboratory

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 微生物の増殖が最も盛んな温度領域の下
限温度よりも所定温度だけ低下させた温度以下の低温度
領域、並びに微生物の増殖が最も盛んな温度領域の上限
温度よりも所定温度だけ上昇させた温度以上の高温度領
域のうちのいずれか一方の温度領域の温度に、イオンを
含むイオン化気体の温度を調節し、微生物が繁殖する物
体及び/又はその物体を格納する空間に、この温度調節
後のイオンを含むイオン化気体を供給することを特徴と
する微生物繁殖防止方法。
1. A low temperature region equal to or lower than a lower limit temperature of a temperature region in which the growth of microorganisms is most active, and a predetermined temperature lower than an upper limit temperature of a temperature region in which the growth of microorganisms is most active. The temperature of the ionized gas containing ions is adjusted to the temperature of one of the high temperature regions equal to or higher than the raised temperature, and the object in which the microorganisms propagate and / or the space for storing the object are A method for preventing microbial growth, which comprises supplying an ionized gas containing ions after temperature control.
【請求項2】 前記所定温度が10℃以上であることを
特徴とする請求項1記載の微生物繁殖防止方法。
2. The method for preventing microbial growth according to claim 1, wherein the predetermined temperature is 10 ° C. or higher.
【請求項3】 気体を取り込む送風機と、前記送風機に
より取り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気路
内に設置され、その気体に対して電子を電離することに
よりその気体をイオン化するイオン発生室と、前記イオ
ン発生室において、イオン化される気体の温度を調節す
る温度調節手段とを備えたことを特徴とする微生物繁殖
防止装置。
3. A blower for taking in gas, a ventilation path through which the gas taken in by the blower passes, and an ion installed in the ventilation path to ionize the gas by ionizing electrons to the gas. A microbial growth prevention apparatus comprising: a generation chamber and a temperature control means for controlling the temperature of a gas to be ionized in the ion generation chamber.
【請求項4】 前記温度調節手段は、加熱器並びに冷却
器の双方またはどちらか一方で構成したことを特徴とす
る請求項3記載の微生物繁殖防止装置。
4. The microbial growth prevention apparatus according to claim 3, wherein the temperature adjusting means is configured by either or both of a heater and a cooler.
【請求項5】 前記温度調節手段を前記イオン発生室の
上流側に設置したことを特徴とする請求項3または請求
項4記載の微生物繁殖防止装置。
5. The microbial growth prevention apparatus according to claim 3, wherein the temperature adjusting means is installed upstream of the ion generating chamber.
【請求項6】 微生物が繁殖する物体を格納する空間
と、前記温度調節手段により温度を調節されたイオンを
含むイオン化気体をその空間に供給するイオン供給室と
を備えたことを特徴とする請求項3から請求項5のうち
何れか1項記載の微生物繁殖防止装置。
6. A space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ion supply chamber for supplying an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means to the space. The microbial growth prevention apparatus according to any one of claims 3 to 5.
【請求項7】 気体を取り込む送風機と、前記送風機に
より取り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気路
内に設置され、その気体の温度を調節する温度調節手段
と、前記温度調節手段により温度調節された気体に対し
て電子を電離することによりその気体をイオン化するイ
オン発生室と、微生物が繁殖する物体を格納する空間
と、前記温度調節手段により温度を調節されたイオンを
含むイオン化気体をその空間に供給するイオン供給室と
を備えたことを特徴とする微生物繁殖防止装置。
7. A blower for taking in gas, a vent passage through which the gas taken in by the blower passes, a temperature adjusting means installed in the vent passage for adjusting the temperature of the gas, and the temperature adjusting means. An ion generation chamber that ionizes the temperature-controlled gas by ionizing electrons to the gas, a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing ions whose temperature is controlled by the temperature control means. And an ion supply chamber for supplying the space to the space.
【請求項8】 前記イオン供給室内の天井面および床面
に金属平板を設けるとともに、天井面に配置された金属
平板に直流電圧を印加する直流電源を設け、床面に配置
された金属平板を接地するようにしたことを特徴とする
請求項7記載の微生物繁殖防止装置。
8. A metal flat plate is provided on a ceiling surface and a floor surface in the ion supply chamber, and a DC power source for applying a DC voltage is provided to the metal flat plate arranged on the ceiling surface, so that the metal flat plate is arranged on the floor surface. The device for preventing microbial growth according to claim 7, wherein the device is grounded.
【請求項9】 オゾンを発生するオゾン発生器と、前記
オゾン発生器により発生されたオゾンとイオン発生室に
おいてイオン化され前記温度調節手段により温度を調節
された気体とを混合する気体混合装置とを備えたことを
特徴とする請求項3から請求項8記載のうち何れか1項
記載の微生物繁殖防止装置。
9. An ozone generator that generates ozone, and a gas mixing device that mixes ozone generated by the ozone generator with a gas that has been ionized in the ion generation chamber and whose temperature has been adjusted by the temperature adjusting means. The microbial growth prevention apparatus according to any one of claims 3 to 8, which is provided.
【請求項10】 気体を取り込む送風機と、前記送風機
により取り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気
路内に設置され、該気体の温度を調節する温度調節手段
と、前記温度調節手段により温度調節された前記気体に
対して電子を電離することによりその気体をイオン化す
るイオン発生室と、前記温度調節手段により温度を調節
されたイオンを含むイオン化気体を、微生物が繁殖する
物体に直接的に吹き付けるように供給するイオン供給部
を備えたことを特徴とする微生物繁殖防止装置。
10. A blower for taking in gas, a vent passage through which the gas taken in by the blower passes, temperature adjusting means installed in the vent passage for adjusting the temperature of the gas, and the temperature adjusting means. An ion generating chamber that ionizes the temperature-controlled gas by ionizing electrons, and an ionized gas containing ions whose temperature is controlled by the temperature control means are directly attached to an object on which microorganisms propagate. An apparatus for preventing microbial growth, comprising an ion supply unit for supplying the ion to the target.
【請求項11】 前記イオン供給部が、前記イオン発生
室から導かれた、温度を調節されたイオンを含むイオン
化気体を放出するイオン放出部と、温度を調節されたイ
オンを含むイオン化気体が放出されている位置に、微生
物が繁殖する物体を運び込む運搬装置とから構成されて
いることを特徴とする請求項10記載の微生物繁殖防止
装置。
11. The ion supply unit releases an ionized gas containing temperature-adjusted ions, which is introduced from the ion generation chamber, and an ionized gas containing temperature-adjusted ions. 11. The microbial growth prevention apparatus according to claim 10, wherein the microbial growth prevention apparatus comprises a carrying device for carrying an object in which microorganisms propagate to the designated position.
【請求項12】 前記イオン供給部が微生物が繁殖する
物体を格納する空間を有するイオン供給室と、前記イオ
ン発生室の下流側に、前記温度調節手段により温度を調
節されたイオンを含むイオン化気体の吹き出し方向を、
変化させて放出するイオン放出部とから構成されている
ことを特徴とする請求項10記載の微生物繁殖防止装
置。
12. An ion supply chamber in which the ion supply unit has a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing ions whose temperature is adjusted by the temperature adjusting means, on the downstream side of the ion generation chamber. The direction of the balloon
11. The microbial growth prevention apparatus according to claim 10, comprising an ion emitting portion that changes and emits.
【請求項13】 気体を取り込む送風機と、前記送風機
により取り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気
路内に設置され、その気体の温度を調節する温度調節手
段と、前記温度調節手段により温度調節された気体に対
して電子を電離することによりその気体をイオン化する
イオン発生室と、微生物が繁殖する物体を格納する空間
を有するイオン供給室と、温度を調節されたイオンを含
むイオン化気体をその物体に吹き付けることができる位
置まで、前記微生物繁殖防止装置を移動させる移動装置
とを備えたことを特徴とする微生物繁殖防止装置。
13. A blower for taking in gas, a vent passage through which the gas taken in by the blower passes, temperature adjusting means installed in the vent passage for adjusting the temperature of the gas, and the temperature adjusting means. An ion generation chamber that ionizes electrons into a temperature-controlled gas by ionizing the gas, an ion supply chamber having a space for storing an object in which microorganisms propagate, and an ionized gas containing temperature-controlled ions And a moving device for moving the microbial growth preventing device to a position where the object can be sprayed onto the object.
【請求項14】 前記イオン供給室内に、微生物が繁殖
する物体の位置を認識する位置検出装置と、位置検出装
置の指示を受けて、イオンを含んだ気体の吹き出し方向
を物体が存在する方向に変更するように指示する制御装
置とを設けたことを特徴とする請求項12または請求項
13記載の微生物繁殖防止装置。
14. A position detecting device for recognizing the position of an object in which microorganisms propagate in the ion supply chamber, and, in response to an instruction from the position detecting device, blows out a gas containing ions to a direction in which the object exists. 14. The microbial growth prevention apparatus according to claim 12 or 13, further comprising a control device for instructing a change.
【請求項15】 前記イオン供給室の内面にたまった静
電気を除去するアース線と、そのアース線と接地先の接
点を開閉するスイッチとを設けたことを特徴とする請求
項6から請求項9、または請求項12から請求項14の
うち何れか1項記載の微生物繁殖防止装置。
15. A ground wire for removing static electricity accumulated on the inner surface of the ion supply chamber, and a switch for opening and closing a contact between the ground wire and a ground destination are provided. Or the microbial growth prevention apparatus according to any one of claims 12 to 14.
【請求項16】 気体を取り込む送風機と、前記送風機
により取り込まれた気体が通過する通気路と、前記通気
路内に設置され、その気体に対して電子を電離すること
によりその気体をイオン化するイオン発生室と、前記イ
オン発生室によりイオン化される気体を微生物が繁殖す
る物体に直接的に吹き付けるように供給するイオン供給
部と、前記イオン供給部内の天井面並び床面に金属平板
とを設けるとともに、天井面に配置された金属平板に交
流電圧を印加する交流電源を設け、床面に配置された金
属平板を接地するようにしたことを特徴とする微生物繁
殖防止装置。
16. An air blower for taking in gas, a vent passage through which the gas taken in by the blower passes, and an ion installed in the vent passage to ionize the gas by ionizing electrons to the gas. With the generation chamber, an ion supply unit that supplies the gas ionized by the ion generation chamber so as to directly spray the object on which the microorganisms propagate, and a metal flat plate on the ceiling surface and the floor surface in the ion supply unit. An apparatus for preventing microbial growth, characterized in that an AC power supply for applying an AC voltage is provided on a metal flat plate arranged on the ceiling surface, and the metal flat plate arranged on the floor surface is grounded.
【請求項17】 微生物が繁殖する液体を貯水する貯水
器と、貯水器中の液体の温度を調節する温度調節手段
と、前記イオン発生室により発生されたイオンを含むイ
オン化気体を気泡化して前記貯水器中の温度調節された
液体中に供給する気液混合器とを備えたことを特徴とす
る微生物繁殖防止装置。
17. A water reservoir for storing a liquid in which microorganisms propagate, temperature control means for controlling the temperature of the liquid in the water reservoir, and an ionized gas containing ions generated by the ion generating chamber, which is bubbled into the water. A device for preventing microbial growth, comprising: a gas-liquid mixer for supplying the temperature-controlled liquid in a water reservoir.
【請求項18】 微生物が繁殖する液体を貯水する貯水
器と、貯水器中の液体の温度を調節する温度調節手段
と、前記イオン発生室により発生されたイオンを含むイ
オン化気体を気泡化して前記貯水器中の温度調節された
液体中に供給する気液混合器と、貯水器内の上部および
下部に金属網を設けるとともに、上部に配置された金属
網に直流電圧を印加する直流電源を設け、床面に配置さ
れた金属網を接地するようにしたことを特徴とする微生
物繁殖防止装置。
18. A water reservoir for storing a liquid in which microorganisms propagate, temperature control means for controlling the temperature of the liquid in the water reservoir, and an ionized gas containing ions generated by the ion generating chamber, which is bubbled into the water. A gas-liquid mixer for supplying the temperature-controlled liquid in the water reservoir, a metal net at the top and bottom of the water reservoir, and a DC power source for applying a DC voltage to the metal net at the top. A microbial growth prevention device characterized in that a metal net arranged on the floor is grounded.
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